JP2000241597A - 放射線像変換パネル及びその製造方法 - Google Patents
放射線像変換パネル及びその製造方法Info
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Landscapes
- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 下塗り層−蛍光体層の圧縮融着処理適性に優
れ、かつ、下塗り層と蛍光体層との接着力が強く、繰り
返し使用しても亀裂が生じにくく耐久性の良好な放射線
像変換パネル及びその製造方法の提供。 【解決手段】 支持体上に、少なくとも、下塗り層と、
結合剤及び輝尽性蛍光体を含有する蛍光体層とをこの順
に有してなり、前記下塗り層に、分子量900以下の非
架橋性有機化合物を、前記下塗り層の全固形分重量に対
して12〜35重量%含有することを特徴とする放射線
像変換パネルである。前記蛍光体層が、前記下塗り層上
に、加熱圧縮により接着される態様、前記非架橋性有機
化合物が、可塑剤を含有する態様、前記非架橋性有機化
合物が、脂肪酸エステル、フタル酸エステル、及び燐酸
エステルから選択される少なくとも一種を含有する態様
等が好ましい。
れ、かつ、下塗り層と蛍光体層との接着力が強く、繰り
返し使用しても亀裂が生じにくく耐久性の良好な放射線
像変換パネル及びその製造方法の提供。 【解決手段】 支持体上に、少なくとも、下塗り層と、
結合剤及び輝尽性蛍光体を含有する蛍光体層とをこの順
に有してなり、前記下塗り層に、分子量900以下の非
架橋性有機化合物を、前記下塗り層の全固形分重量に対
して12〜35重量%含有することを特徴とする放射線
像変換パネルである。前記蛍光体層が、前記下塗り層上
に、加熱圧縮により接着される態様、前記非架橋性有機
化合物が、可塑剤を含有する態様、前記非架橋性有機化
合物が、脂肪酸エステル、フタル酸エステル、及び燐酸
エステルから選択される少なくとも一種を含有する態様
等が好ましい。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、輝尽性蛍光体を利
用する放射線像変換方法に用いられる放射線像変換パネ
ル及びその製造方法に関する。
用する放射線像変換方法に用いられる放射線像変換パネ
ル及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の放射線写真法に代わる方法とし
て、例えば、特開昭55−12145号公報等に記載さ
れているような輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法
が知られている。この方法は、輝尽性蛍光体を含有する
放射線像変換パネル(蓄積性蛍光体シートと呼ばれるこ
ともある)を利用するもので、被写体を透過したあるい
は被検体から発せられた放射線を該パネルの輝尽性蛍光
体に吸収させ、そののちに輝尽性蛍光体を可視光線、赤
外線等の電磁波(励起光)で時系列的に励起することに
より、該輝尽性蛍光体中に蓄積されている放射線エネル
ギーを蛍光(輝尽発光光)として放出させ、この蛍光を
光電的に読み取って電気信号を得、得られた電気信号に
基づいて被写体あるいは被検体の放射線画像を可視像と
して再生するものである。
て、例えば、特開昭55−12145号公報等に記載さ
れているような輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法
が知られている。この方法は、輝尽性蛍光体を含有する
放射線像変換パネル(蓄積性蛍光体シートと呼ばれるこ
ともある)を利用するもので、被写体を透過したあるい
は被検体から発せられた放射線を該パネルの輝尽性蛍光
体に吸収させ、そののちに輝尽性蛍光体を可視光線、赤
外線等の電磁波(励起光)で時系列的に励起することに
より、該輝尽性蛍光体中に蓄積されている放射線エネル
ギーを蛍光(輝尽発光光)として放出させ、この蛍光を
光電的に読み取って電気信号を得、得られた電気信号に
基づいて被写体あるいは被検体の放射線画像を可視像と
して再生するものである。
【0003】この放射線像変換方法によれば、従来の放
射線写真フィルムと増感紙との組合せを用いる放射線写
真法による場合に比較して、はるかに少ない被曝線量で
情報量の豊富な放射線画像を得ることができるという利
点がある。従って、この方法は、特に医療診断を目的と
するX線撮影時の直接医療用放射線撮影において利用価
値の非常に高いものである。
射線写真フィルムと増感紙との組合せを用いる放射線写
真法による場合に比較して、はるかに少ない被曝線量で
情報量の豊富な放射線画像を得ることができるという利
点がある。従って、この方法は、特に医療診断を目的と
するX線撮影時の直接医療用放射線撮影において利用価
値の非常に高いものである。
【0004】放射線像変換方法に用いられる放射線像変
換パネルは、基本構造として、支持体とその片面に設け
られた下塗り層、輝尽性蛍光体層(以下、単に「蛍光体
層」と称する。)及び保護層からなるものである。前記
下塗り層は、主として蛍光体層と支持体との接着性を高
めるために設けられており、主として軟質の樹脂からな
る。前記下塗り層には輝尽光の反射率を高めるために光
反射性の微粒子を添加したり、パネルの帯電を防止する
ために導電性の粉体やウィスカー等を添加することがあ
る。
換パネルは、基本構造として、支持体とその片面に設け
られた下塗り層、輝尽性蛍光体層(以下、単に「蛍光体
層」と称する。)及び保護層からなるものである。前記
下塗り層は、主として蛍光体層と支持体との接着性を高
めるために設けられており、主として軟質の樹脂からな
る。前記下塗り層には輝尽光の反射率を高めるために光
反射性の微粒子を添加したり、パネルの帯電を防止する
ために導電性の粉体やウィスカー等を添加することがあ
る。
【0005】前記蛍光体層は、一般に、輝尽性蛍光体と
これを分散状態で含有支持する結合剤とからなるもので
あり、輝尽性蛍光体はX線等の放射線を吸収したのち、
励起光の照射を受けると輝尽発光を示す性質を有するも
のである。従って、被写体を透過したあるいは被検体か
ら発せられた放射線は、その放射線量に比例して放射線
像変換パネルの蛍光体層に吸収され、パネルには被写体
あるいは被検体の放射線像が放射線エネルギーの蓄積像
として形成される。この蓄積像は、上記励起光を照射す
ることにより輝尽発光光として放出させることができ、
この輝尽発光光を光電的に読み取って電気信号に変換す
ることにより放射線エネルギーの蓄積像を画像化するこ
とが可能となる。
これを分散状態で含有支持する結合剤とからなるもので
あり、輝尽性蛍光体はX線等の放射線を吸収したのち、
励起光の照射を受けると輝尽発光を示す性質を有するも
のである。従って、被写体を透過したあるいは被検体か
ら発せられた放射線は、その放射線量に比例して放射線
像変換パネルの蛍光体層に吸収され、パネルには被写体
あるいは被検体の放射線像が放射線エネルギーの蓄積像
として形成される。この蓄積像は、上記励起光を照射す
ることにより輝尽発光光として放出させることができ、
この輝尽発光光を光電的に読み取って電気信号に変換す
ることにより放射線エネルギーの蓄積像を画像化するこ
とが可能となる。
【0006】放射線像変換方法は、上記のように非常に
有利な画像形成方法であるが、この方法に用いられる放
射線像変換パネルも従来の放射線写真法に用いられる増
感紙と同様に、高感度であって、かつ画質(鮮鋭度、粒
状性等)の良好な画質を与えるものであることが望まれ
る。放射線像変換パネルの感度は、基本的にはパネルに
含有されている輝尽性蛍光体の総輝尽発光量に依存し、
この総発光量は輝尽性蛍光体自体の発光輝度によるのみ
ならず、蛍光体層における輝尽性蛍光体の含有量によっ
ても異なる。輝尽性蛍光体の含有量が多いことはまた、
X線等の放射線に対する吸収も大であることを意味する
から、一層高い感度が得られ、同時に画質(特に、粒状
性)が向上する。一方、蛍光体層における輝尽性蛍光体
の含有量が一定である場合には、輝尽性蛍光体粒子が密
に充填されているほどその層厚を薄くすることができる
から、散乱による励起光の広がりを少なくすることがで
き、相対的に高い鮮鋭度を得ることができる。
有利な画像形成方法であるが、この方法に用いられる放
射線像変換パネルも従来の放射線写真法に用いられる増
感紙と同様に、高感度であって、かつ画質(鮮鋭度、粒
状性等)の良好な画質を与えるものであることが望まれ
る。放射線像変換パネルの感度は、基本的にはパネルに
含有されている輝尽性蛍光体の総輝尽発光量に依存し、
この総発光量は輝尽性蛍光体自体の発光輝度によるのみ
ならず、蛍光体層における輝尽性蛍光体の含有量によっ
ても異なる。輝尽性蛍光体の含有量が多いことはまた、
X線等の放射線に対する吸収も大であることを意味する
から、一層高い感度が得られ、同時に画質(特に、粒状
性)が向上する。一方、蛍光体層における輝尽性蛍光体
の含有量が一定である場合には、輝尽性蛍光体粒子が密
に充填されているほどその層厚を薄くすることができる
から、散乱による励起光の広がりを少なくすることがで
き、相対的に高い鮮鋭度を得ることができる。
【0007】蛍光体層を支持体上に形成し、そしてこの
蛍光体層を圧縮することにより得られる放射線像変換パ
ネルが、特開昭59−126299号公報、特開昭59
−126300号公報に開示されている。このようにし
て得られる放射線像変換パネルは、蛍光体層を圧縮処理
することで、蛍光体層中の蛍光体の密度をそれまでの放
射線像変換パネルよりも高くしたものであった。その結
果、この放射線像変換パネルは鮮鋭度を向上させること
ができた。
蛍光体層を圧縮することにより得られる放射線像変換パ
ネルが、特開昭59−126299号公報、特開昭59
−126300号公報に開示されている。このようにし
て得られる放射線像変換パネルは、蛍光体層を圧縮処理
することで、蛍光体層中の蛍光体の密度をそれまでの放
射線像変換パネルよりも高くしたものであった。その結
果、この放射線像変換パネルは鮮鋭度を向上させること
ができた。
【0008】ところが、圧縮処理によって下塗り層と蛍
光体層とを接着して製造される放射線像変換パネルは、
何度も繰り返し使用されると下塗り層と蛍光体層との界
面近傍に亀裂が入るという問題を有していた。この亀裂
は、画像上でアーティファクトとなって現れるため、放
射線像変換パネルにこの亀裂が入ると良好な診断画像が
得られなくなってしまう。この亀裂は、下塗り層と蛍光
体層との接着が十分でないことに起因することが分かっ
ているが、これまで十分な解決策が得られていないのが
現状である。
光体層とを接着して製造される放射線像変換パネルは、
何度も繰り返し使用されると下塗り層と蛍光体層との界
面近傍に亀裂が入るという問題を有していた。この亀裂
は、画像上でアーティファクトとなって現れるため、放
射線像変換パネルにこの亀裂が入ると良好な診断画像が
得られなくなってしまう。この亀裂は、下塗り層と蛍光
体層との接着が十分でないことに起因することが分かっ
ているが、これまで十分な解決策が得られていないのが
現状である。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける問題を解決し、以下の目的を達成することを課題
とする。即ち、本発明は、下塗り層−蛍光体層の圧縮融
着処理適性に優れ、かつ、下塗り層と蛍光体層との接着
力が強く、繰り返し使用しても亀裂が生じにくく耐久性
の良好な放射線像変換パネル及びその製造方法を提供す
ることを目的とする。
おける問題を解決し、以下の目的を達成することを課題
とする。即ち、本発明は、下塗り層−蛍光体層の圧縮融
着処理適性に優れ、かつ、下塗り層と蛍光体層との接着
力が強く、繰り返し使用しても亀裂が生じにくく耐久性
の良好な放射線像変換パネル及びその製造方法を提供す
ることを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の手段は、以下の通りである。 <1> 支持体上に、少なくとも、下塗り層と、結合剤
及び輝尽性蛍光体を含有する蛍光体層とをこの順に有し
てなり、前記下塗り層に、分子量900以下の非架橋性
有機化合物を、前記下塗り層の全固形分重量に対して1
2〜35重量%含有することを特徴とする放射線像変換
パネルである。 <2> 前記蛍光体層が、結合剤及び輝尽性蛍光体を含
有する液を用いて成形された蛍光体シートを、前記下塗
り層上に、加熱圧縮しながら接着することにより形成さ
れる前記<1>に記載の放射線像変換パネルである。 <3> 前記非架橋性有機化合物を、前記下塗り層の全
固形分重量に対して15〜30重量%含有する前記<1
>又は<2>に記載の放射線像変換パネルである。 <4> 前記非架橋性有機化合物の分子量が、500以
下である前記<1>から<3>のいずれかに記載の放射
線像変換パネルである。 <5> 前記非架橋性有機化合物が、可塑剤を含有する
前記<1>から<4>のいずれかに記載の放射線像変換
パネルである。 <6> 前記非架橋性有機化合物が、脂肪酸エステル、
フタル酸エステル、及び燐酸エステルから選択される少
なくとも一種を含有する前記<1>から<5>のいずれ
かに記載の放射線像変換パネルである。 <7> 前記下塗り層が、アクリル樹脂を含有する前記
<1>から<6>のいずれかに記載の放射線像変換パネ
ルである。 <8> 前記下塗り層の厚さが、10〜40μmである
前記<1>から<7>のいずれかに記載の放射線像変換
パネルである。 <9> 前記蛍光体層が、熱可塑性エラストマーを含有
する前記<1>から<8>のいずれかに記載の放射線像
変換パネルである。 <10> 支持体上に、下塗り層を形成する工程と、結
合剤及び輝尽性蛍光体を含有する液を用いて、蛍光体シ
ートを成形する工程と、前記蛍光体シートを、前記下塗
り層上に、加熱圧縮しながら接着させ蛍光体層を形成す
る工程と、を含む放射線像変換パネルの製造方法であっ
て、前記下塗り層に、分子量900以下の非架橋性有機
化合物を、前記下塗り層の全固形分重量に対して12〜
35重量%含有させることを特徴とする放射線像変換パ
ネルの製造方法である。
の手段は、以下の通りである。 <1> 支持体上に、少なくとも、下塗り層と、結合剤
及び輝尽性蛍光体を含有する蛍光体層とをこの順に有し
てなり、前記下塗り層に、分子量900以下の非架橋性
有機化合物を、前記下塗り層の全固形分重量に対して1
2〜35重量%含有することを特徴とする放射線像変換
パネルである。 <2> 前記蛍光体層が、結合剤及び輝尽性蛍光体を含
有する液を用いて成形された蛍光体シートを、前記下塗
り層上に、加熱圧縮しながら接着することにより形成さ
れる前記<1>に記載の放射線像変換パネルである。 <3> 前記非架橋性有機化合物を、前記下塗り層の全
固形分重量に対して15〜30重量%含有する前記<1
>又は<2>に記載の放射線像変換パネルである。 <4> 前記非架橋性有機化合物の分子量が、500以
下である前記<1>から<3>のいずれかに記載の放射
線像変換パネルである。 <5> 前記非架橋性有機化合物が、可塑剤を含有する
前記<1>から<4>のいずれかに記載の放射線像変換
パネルである。 <6> 前記非架橋性有機化合物が、脂肪酸エステル、
フタル酸エステル、及び燐酸エステルから選択される少
なくとも一種を含有する前記<1>から<5>のいずれ
かに記載の放射線像変換パネルである。 <7> 前記下塗り層が、アクリル樹脂を含有する前記
<1>から<6>のいずれかに記載の放射線像変換パネ
ルである。 <8> 前記下塗り層の厚さが、10〜40μmである
前記<1>から<7>のいずれかに記載の放射線像変換
パネルである。 <9> 前記蛍光体層が、熱可塑性エラストマーを含有
する前記<1>から<8>のいずれかに記載の放射線像
変換パネルである。 <10> 支持体上に、下塗り層を形成する工程と、結
合剤及び輝尽性蛍光体を含有する液を用いて、蛍光体シ
ートを成形する工程と、前記蛍光体シートを、前記下塗
り層上に、加熱圧縮しながら接着させ蛍光体層を形成す
る工程と、を含む放射線像変換パネルの製造方法であっ
て、前記下塗り層に、分子量900以下の非架橋性有機
化合物を、前記下塗り層の全固形分重量に対して12〜
35重量%含有させることを特徴とする放射線像変換パ
ネルの製造方法である。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の放射線像変換パネ
ルについて詳細に説明する。本発明の放射線像変換パネ
ルは、支持体上に、下塗り層及び蛍光体層を有し、更に
必要に応じて、その他の層を有してなる。
ルについて詳細に説明する。本発明の放射線像変換パネ
ルは、支持体上に、下塗り層及び蛍光体層を有し、更に
必要に応じて、その他の層を有してなる。
【0012】[下塗り層]前記下塗り層は、前記支持体
と前記蛍光体層との結合を強化するため、あるいは放射
線像変換パネルの感度もしくは画質(鮮鋭度、粒状性)
を向上させるために設けられる。前記下塗り層は、分子
量900以下の非架橋性有機化合物(以下、「低分子量
有機成分」と称することがある。)及び結合剤を含有
し、更に必要に応じて、その他の成分を含有してなる。
と前記蛍光体層との結合を強化するため、あるいは放射
線像変換パネルの感度もしくは画質(鮮鋭度、粒状性)
を向上させるために設けられる。前記下塗り層は、分子
量900以下の非架橋性有機化合物(以下、「低分子量
有機成分」と称することがある。)及び結合剤を含有
し、更に必要に応じて、その他の成分を含有してなる。
【0013】(低分子量有機成分)本発明は、前記下塗
り層に、分子量900以下の非架橋性有機化合物を、前
記下塗り層の全固形分重量に対して12〜35重量%含
有することに特徴があり、これにより、下塗り層−蛍光
体層の圧縮融着処理適性に優れ、かつ、前記下塗り層と
前記蛍光体層との接着力を増大させ、繰り返し使用して
も亀裂が生じにくく耐久性の良好な放射線像変換パネル
を得ることができる。
り層に、分子量900以下の非架橋性有機化合物を、前
記下塗り層の全固形分重量に対して12〜35重量%含
有することに特徴があり、これにより、下塗り層−蛍光
体層の圧縮融着処理適性に優れ、かつ、前記下塗り層と
前記蛍光体層との接着力を増大させ、繰り返し使用して
も亀裂が生じにくく耐久性の良好な放射線像変換パネル
を得ることができる。
【0014】前記非架橋性有機化合物の添加量は、前記
下塗り層の全固形分重量に対して12〜35重量%であ
ることが必要であるが、15〜30重量%が好ましい。
該添加量が、前記下塗り層の全固形分重量に対して12
重量%より少ないと、前記下塗り層と前記蛍光体層との
接着力が不十分であり、繰り返しの使用により界面近傍
に亀裂が生じ、優れた耐久性が得られない。一方、35
重量%を超えると、圧縮処理により前記蛍光体層を前記
下塗り層上に融着させる際に、均一に平滑に前記蛍光体
層を接着させることが困難となってしまう。また、該添
加量が、前記下塗り層の全固形分重量に対して15〜3
0重量%であると、耐久性と均一な接着に関してのバラ
ンスがとれる点でより好ましい。ここで、本発明におけ
る前記下塗り層の全固形分重量とは、前記下塗り層に、
前記その他の成分として無機化合物が含まれている場合
には、該無機化合物を除いた全固形分重量、即ち、前記
非架橋性有機化合物と、前記結合剤と、該無機化合物以
外の前記その他の成分とからなる固形分の総重量を表
し、前記下塗り層に、前記その他の成分として無機化合
物が含まれていない場合には、前記非架橋性有機化合物
と、前記結合剤と、前記その他の成分とからなる固形分
の総重量を表すものとする。
下塗り層の全固形分重量に対して12〜35重量%であ
ることが必要であるが、15〜30重量%が好ましい。
該添加量が、前記下塗り層の全固形分重量に対して12
重量%より少ないと、前記下塗り層と前記蛍光体層との
接着力が不十分であり、繰り返しの使用により界面近傍
に亀裂が生じ、優れた耐久性が得られない。一方、35
重量%を超えると、圧縮処理により前記蛍光体層を前記
下塗り層上に融着させる際に、均一に平滑に前記蛍光体
層を接着させることが困難となってしまう。また、該添
加量が、前記下塗り層の全固形分重量に対して15〜3
0重量%であると、耐久性と均一な接着に関してのバラ
ンスがとれる点でより好ましい。ここで、本発明におけ
る前記下塗り層の全固形分重量とは、前記下塗り層に、
前記その他の成分として無機化合物が含まれている場合
には、該無機化合物を除いた全固形分重量、即ち、前記
非架橋性有機化合物と、前記結合剤と、該無機化合物以
外の前記その他の成分とからなる固形分の総重量を表
し、前記下塗り層に、前記その他の成分として無機化合
物が含まれていない場合には、前記非架橋性有機化合物
と、前記結合剤と、前記その他の成分とからなる固形分
の総重量を表すものとする。
【0015】前記非架橋性有機化合物の分子量は、90
0以下であることが必要であるが、500以下が好まし
い。前記非架橋性有機化合物の分子量は、900を超え
ると、耐久性の効果が小さくなってしまう。また、前記
非架橋性有機化合物の分子量が500以下であると、耐
久性の効果の観点でより好ましい。
0以下であることが必要であるが、500以下が好まし
い。前記非架橋性有機化合物の分子量は、900を超え
ると、耐久性の効果が小さくなってしまう。また、前記
非架橋性有機化合物の分子量が500以下であると、耐
久性の効果の観点でより好ましい。
【0016】前記非架橋性有機化合物は、分子量が90
0以下のものであれば、特に制限はなく、従来公知のい
ずれの非架橋性有機化合物を使用してもよい。前記非架
橋性有機化合物は、耐久性の効果の観点から、可塑剤が
好ましい。前記非架橋性有機化合物の具体例としては、
例えば、脂肪酸エステル、フタル酸エステル、燐酸エス
テル等が好ましく挙げられる。前記非架橋性有機化合物
は、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用しても
よい。
0以下のものであれば、特に制限はなく、従来公知のい
ずれの非架橋性有機化合物を使用してもよい。前記非架
橋性有機化合物は、耐久性の効果の観点から、可塑剤が
好ましい。前記非架橋性有機化合物の具体例としては、
例えば、脂肪酸エステル、フタル酸エステル、燐酸エス
テル等が好ましく挙げられる。前記非架橋性有機化合物
は、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用しても
よい。
【0017】(結合剤)前記結合剤は、塗布成形性や耐
久性を向上するために、前記下塗り層中に含有される。
前記結合剤の具体例としては、例えば、軟質アクリル樹
脂、軟質ポリウレタン樹脂、軟質ポリエステル樹脂、軟
質ポリ酢酸ビニル樹脂等が挙げられる。これらのうち、
耐久性、取扱い性の観点から、軟質アクリル樹脂が好ま
しい。
久性を向上するために、前記下塗り層中に含有される。
前記結合剤の具体例としては、例えば、軟質アクリル樹
脂、軟質ポリウレタン樹脂、軟質ポリエステル樹脂、軟
質ポリ酢酸ビニル樹脂等が挙げられる。これらのうち、
耐久性、取扱い性の観点から、軟質アクリル樹脂が好ま
しい。
【0018】(その他の成分) −溶剤− 前記その他の成分として、前記非架橋性有機化合物、結
合剤等を充分に混合し、均一に分散した塗布液を調製す
るために、溶剤を用いることができる。前記溶剤の具体
例としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プ
ロパノール、n−ブタノール等の低級アルコール;メチ
レンクロライド、エチレンクロライド等の塩素原子含有
炭化水素;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン等のケトン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸ブチル等の低級脂肪酸と低級アルコールとのエステ
ル;ジオキサン、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテ
ル;そして、それらの混合物が挙げられる。
合剤等を充分に混合し、均一に分散した塗布液を調製す
るために、溶剤を用いることができる。前記溶剤の具体
例としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プ
ロパノール、n−ブタノール等の低級アルコール;メチ
レンクロライド、エチレンクロライド等の塩素原子含有
炭化水素;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン等のケトン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸ブチル等の低級脂肪酸と低級アルコールとのエステ
ル;ジオキサン、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテ
ル;そして、それらの混合物が挙げられる。
【0019】−無機化合物− 前記その他の成分として、導電剤、着色剤、光反射性物
質、光吸収性物質等の無機化合物を添加することができ
る。これらは、下塗り層の目的に応じて、適宜選択する
ことができ、上記以外の添加物を加えてもよい。前記無
機化合物の具体例としては、特に制限はなく、従来公知
のものであれば、いずれをも用いることができる。
質、光吸収性物質等の無機化合物を添加することができ
る。これらは、下塗り層の目的に応じて、適宜選択する
ことができ、上記以外の添加物を加えてもよい。前記無
機化合物の具体例としては、特に制限はなく、従来公知
のものであれば、いずれをも用いることができる。
【0020】(下塗り層の形成)前記下塗り層は、前記
非架橋性有機化合物及び結合剤を含有する液(以下、
「下塗り層形成用塗布液」と称する。)を、前記支持体
上に塗布し、乾燥することにより形成される。前記下塗
り層形成用塗布液は、前記非架橋性有機化合物、結合
剤、溶剤等のその他の成分を、プロペラミキサー、ホモ
ジェナイザー等の従来公知の分散機により、分散させて
調製する。
非架橋性有機化合物及び結合剤を含有する液(以下、
「下塗り層形成用塗布液」と称する。)を、前記支持体
上に塗布し、乾燥することにより形成される。前記下塗
り層形成用塗布液は、前記非架橋性有機化合物、結合
剤、溶剤等のその他の成分を、プロペラミキサー、ホモ
ジェナイザー等の従来公知の分散機により、分散させて
調製する。
【0021】上記のようにして調製された下塗り層形成
用塗布液を、本発明の放射線像変換パネル用の支持体の
表面に塗布することにより塗布液の塗膜を形成する。こ
の塗布操作は、通常の塗布手段、例えば、ドクターブレ
ード、ロールコーター、ナイフコーター等を用いること
により行うことができる。前記塗布液の乾燥方法は、特
に限定されず、従来公知の乾燥方法を用いることができ
る。得られる下塗り層の厚さは、10〜40μmが好ま
しく、15〜30μmがより好ましい。該下塗り層の厚
さが、10μmより薄いと、耐久性が劣ることがあり、
一方、40μmより厚いと、断面からのはみ出し等がパ
ネル加工時の不具合になることがある。
用塗布液を、本発明の放射線像変換パネル用の支持体の
表面に塗布することにより塗布液の塗膜を形成する。こ
の塗布操作は、通常の塗布手段、例えば、ドクターブレ
ード、ロールコーター、ナイフコーター等を用いること
により行うことができる。前記塗布液の乾燥方法は、特
に限定されず、従来公知の乾燥方法を用いることができ
る。得られる下塗り層の厚さは、10〜40μmが好ま
しく、15〜30μmがより好ましい。該下塗り層の厚
さが、10μmより薄いと、耐久性が劣ることがあり、
一方、40μmより厚いと、断面からのはみ出し等がパ
ネル加工時の不具合になることがある。
【0022】また、特開昭59−200200号公報に
記載されているように、得られる画像の鮮鋭度を向上さ
せる目的で、前記支持体上に形成された下塗り層の表面
には微小の凹凸が形成されていてもよい。
記載されているように、得られる画像の鮮鋭度を向上さ
せる目的で、前記支持体上に形成された下塗り層の表面
には微小の凹凸が形成されていてもよい。
【0023】前記下塗り層としては、例えば、前記支持
体表面にゼラチン等の高分子物質を塗布した接着性付与
層、二酸化チタン等の光反射性物質からなる光反射層、
カーボンブラック等の光吸収性物質からなる光吸収層等
が挙げられる。これらの各層は、所望の放射線像変換パ
ネルの目的、用途等に応じて任意に選択することができ
る。
体表面にゼラチン等の高分子物質を塗布した接着性付与
層、二酸化チタン等の光反射性物質からなる光反射層、
カーボンブラック等の光吸収性物質からなる光吸収層等
が挙げられる。これらの各層は、所望の放射線像変換パ
ネルの目的、用途等に応じて任意に選択することができ
る。
【0024】[蛍光体層]前記蛍光体層は、結合剤及び
輝尽性蛍光体を含有し、更に必用に応じて、その他の成
分を含有してなる。
輝尽性蛍光体を含有し、更に必用に応じて、その他の成
分を含有してなる。
【0025】(結合剤)前記結合剤は、常温で弾力を持
ち、加熱されると流動性を持つようになる熱可塑性エラ
ストマーが好ましい。前記熱可塑性エラストマーの具体
例としては、例えば、ポリスチレン、ポリオレフィン、
ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリブタジ
エン、エチレン酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、天然ゴ
ム、フッ素ゴム、ポリイソプレン、塩素化ポリエチレ
ン、スチレン−ブタジエンゴム、シリコンゴム等が挙げ
られる。これらのうち、ポリウレタン、ポリエステル、
及びポリオレフィンがより好ましく、ポリウレタンが特
に好ましい。
ち、加熱されると流動性を持つようになる熱可塑性エラ
ストマーが好ましい。前記熱可塑性エラストマーの具体
例としては、例えば、ポリスチレン、ポリオレフィン、
ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリブタジ
エン、エチレン酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、天然ゴ
ム、フッ素ゴム、ポリイソプレン、塩素化ポリエチレ
ン、スチレン−ブタジエンゴム、シリコンゴム等が挙げ
られる。これらのうち、ポリウレタン、ポリエステル、
及びポリオレフィンがより好ましく、ポリウレタンが特
に好ましい。
【0026】前記結合剤は、1種単独で用いてもよく、
2種以上を併用してもよい。前記結合剤は、前記熱可塑
性エラストマーと、それ以外のエラストマーとからなる
2種以上の混合物でもよい。また、前記熱可塑性エラス
トマー以外のポリマー(例えば、エポキシ樹脂、アクリ
ル樹脂、ポリイミド樹脂等)を含んでいてもよい。エポ
キシ樹脂は、通常、黄変防止剤として使用される。
2種以上を併用してもよい。前記結合剤は、前記熱可塑
性エラストマーと、それ以外のエラストマーとからなる
2種以上の混合物でもよい。また、前記熱可塑性エラス
トマー以外のポリマー(例えば、エポキシ樹脂、アクリ
ル樹脂、ポリイミド樹脂等)を含んでいてもよい。エポ
キシ樹脂は、通常、黄変防止剤として使用される。
【0027】(輝尽性蛍光体)前記輝尽性蛍光体は、放
射線を照射した後、励起光を照射すると輝尽発光を示す
蛍光体であるが、実用的な面からは波長が400〜90
0nmの範囲にある励起光によって、300〜500n
mの波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体であることが好ま
しい。前記輝尽性蛍光体としては、二価ユーロピウム賦
活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体、セリウム賦
活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体、及びセリウ
ム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体が、高輝度の
輝尽発光を示すため好ましい。但し、本発明に用いられ
る輝尽性蛍光体は、上記の輝尽性蛍光体に限られるもの
ではなく、放射線を照射したのちに励起光を照射した場
合に輝尽発光を示す蛍光体であれば、いかなるものであ
ってもよい。
射線を照射した後、励起光を照射すると輝尽発光を示す
蛍光体であるが、実用的な面からは波長が400〜90
0nmの範囲にある励起光によって、300〜500n
mの波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体であることが好ま
しい。前記輝尽性蛍光体としては、二価ユーロピウム賦
活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体、セリウム賦
活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体、及びセリウ
ム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体が、高輝度の
輝尽発光を示すため好ましい。但し、本発明に用いられ
る輝尽性蛍光体は、上記の輝尽性蛍光体に限られるもの
ではなく、放射線を照射したのちに励起光を照射した場
合に輝尽発光を示す蛍光体であれば、いかなるものであ
ってもよい。
【0028】(その他の成分) −溶剤− 前記その他の成分として、前記結合剤及び輝尽性蛍光体
を充分に混合して、結合剤溶液中に輝尽性蛍光体が均一
に分散した塗布液を調製するために、溶剤を用いること
ができる。前記溶剤の具体例としては、例えば、メタノ
ール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール
等の低級アルコール;メチレンクロライド、エチレンク
ロライド等の塩素原子含有炭化水素;アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン;酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の低級脂肪酸と低
級アルコールとのエステル;ジオキサン、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメ
チルエーテル等のエーテル;そして、それらの混合物が
挙げられる。
を充分に混合して、結合剤溶液中に輝尽性蛍光体が均一
に分散した塗布液を調製するために、溶剤を用いること
ができる。前記溶剤の具体例としては、例えば、メタノ
ール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール
等の低級アルコール;メチレンクロライド、エチレンク
ロライド等の塩素原子含有炭化水素;アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン;酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の低級脂肪酸と低
級アルコールとのエステル;ジオキサン、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメ
チルエーテル等のエーテル;そして、それらの混合物が
挙げられる。
【0029】前記塗布液における前記結合剤と輝尽性蛍
光体との混合比は、目的とする放射線像変換パネルの特
性、輝尽性蛍光体の種類等によって異なるが、一般に
は、前記結合剤と輝尽性蛍光体との混合比は、1:1〜
1:100(重量比)が好ましく、1:8〜1:40
(重量比)がより好ましい。
光体との混合比は、目的とする放射線像変換パネルの特
性、輝尽性蛍光体の種類等によって異なるが、一般に
は、前記結合剤と輝尽性蛍光体との混合比は、1:1〜
1:100(重量比)が好ましく、1:8〜1:40
(重量比)がより好ましい。
【0030】−分散剤・可塑剤− 前記その他の成分として、分散剤及び可塑剤を添加する
ことができる。前記分散剤は、前記塗布液中における輝
尽性蛍光体の分散性を向上させるため、また、前記可塑
剤は、形成後の蛍光体層中における結合剤と輝尽性蛍光
体との間の結合力を向上させるために用いることができ
る。前記分散剤の具体例としては、例えば、フタル酸、
ステアリン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤等が挙げ
られる。また、前記可塑剤の具体例としては、例えば、
燐酸トリフェニル、燐酸トリクレジル、燐酸ジフェニル
等の燐酸エステル;フタル酸ジエチル、フタル酸ジメト
キシエチル等のフタル酸エステル;グリコール酸エチル
フタリルエチル、グリコール酸ブチルフタリルブチル等
のグリコール酸エステル;そして、トリエチレングリコ
ールとアジピン酸とのポリエステル、ジエチレングリコ
ールとコハク酸とのポリエステル等のポリエチレングリ
コールと脂肪族二塩基酸とのポリエステル等が挙げられ
る。
ことができる。前記分散剤は、前記塗布液中における輝
尽性蛍光体の分散性を向上させるため、また、前記可塑
剤は、形成後の蛍光体層中における結合剤と輝尽性蛍光
体との間の結合力を向上させるために用いることができ
る。前記分散剤の具体例としては、例えば、フタル酸、
ステアリン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤等が挙げ
られる。また、前記可塑剤の具体例としては、例えば、
燐酸トリフェニル、燐酸トリクレジル、燐酸ジフェニル
等の燐酸エステル;フタル酸ジエチル、フタル酸ジメト
キシエチル等のフタル酸エステル;グリコール酸エチル
フタリルエチル、グリコール酸ブチルフタリルブチル等
のグリコール酸エステル;そして、トリエチレングリコ
ールとアジピン酸とのポリエステル、ジエチレングリコ
ールとコハク酸とのポリエステル等のポリエチレングリ
コールと脂肪族二塩基酸とのポリエステル等が挙げられ
る。
【0031】(蛍光体層の形成)前記蛍光体層は、前記
結合剤及び輝尽性蛍光体を含有する液(以下、「蛍光体
層形成用塗布液」と称する。)を用いて成形された蛍光
体シートを、前記下塗り層上に、加熱圧縮しながら接着
することにより形成されることが、前記下塗り層と蛍光
体層との接着力を向上させることができる点で好まし
い。
結合剤及び輝尽性蛍光体を含有する液(以下、「蛍光体
層形成用塗布液」と称する。)を用いて成形された蛍光
体シートを、前記下塗り層上に、加熱圧縮しながら接着
することにより形成されることが、前記下塗り層と蛍光
体層との接着力を向上させることができる点で好まし
い。
【0032】前記蛍光体シートは、前記蛍光体層形成用
塗布液を、蛍光体シート成形用の仮支持体の表面に均一
に塗布し、乾燥させることにより成形される。前記蛍光
体層形成用塗布液は、前述した結合剤、輝尽性蛍光体、
溶剤等のその他の成分を、プロペラミキサー、ホモジェ
ナイザー等の従来公知の分散機により、分散させて調製
する。得られた蛍光体層形成用塗布液の25℃における
粘度は、10〜100Pa・sが好ましい。
塗布液を、蛍光体シート成形用の仮支持体の表面に均一
に塗布し、乾燥させることにより成形される。前記蛍光
体層形成用塗布液は、前述した結合剤、輝尽性蛍光体、
溶剤等のその他の成分を、プロペラミキサー、ホモジェ
ナイザー等の従来公知の分散機により、分散させて調製
する。得られた蛍光体層形成用塗布液の25℃における
粘度は、10〜100Pa・sが好ましい。
【0033】上記のようにして調製された蛍光体層形成
用塗布液を、前記仮支持体の表面に均一に塗布するに
は、通常の塗布手段、例えば、ドクターブレード、ロー
ルコーター、ナイフコーター等を用いることにより行う
ことができる。次に、前記塗布液を乾燥させ、前記仮支
持体から剥がして放射線像変換パネルの蛍光体層となる
蛍光体シートを得る。前記仮支持体の表面には、成形さ
れた蛍光体シートを仮支持体から剥がし易くするため
に、予め離型剤を塗布しておくことが好ましい。前記蛍
光体シートの厚さは、目的に応じて適宜選択することが
できるが、100〜400μmが好ましい。
用塗布液を、前記仮支持体の表面に均一に塗布するに
は、通常の塗布手段、例えば、ドクターブレード、ロー
ルコーター、ナイフコーター等を用いることにより行う
ことができる。次に、前記塗布液を乾燥させ、前記仮支
持体から剥がして放射線像変換パネルの蛍光体層となる
蛍光体シートを得る。前記仮支持体の表面には、成形さ
れた蛍光体シートを仮支持体から剥がし易くするため
に、予め離型剤を塗布しておくことが好ましい。前記蛍
光体シートの厚さは、目的に応じて適宜選択することが
できるが、100〜400μmが好ましい。
【0034】前記仮支持体は、例えば、ガラス、金属の
板、あるいは従来の放射線写真法における増感紙(又は
増感用スクリーン)の支持体として用いられている各種
の材料、あるいは放射線像変換パネルの支持体として公
知の材料から任意に選ぶことができる。そのような材料
の具体例としては、例えば、セルロースアセテート、ポ
リエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミ
ド、ポリイミド、トリアセテート、ポリカーボネート等
のプラスチック物質のフィルム、アルミニウム箔、アル
ミニウム合金箔等の金属シート、通常の紙、バライタ
紙、レジンコート紙、二酸化チタン等の顔料を含有する
ピグメント紙、ポリビニルアルコール等をサイジングし
た紙、アルミナ、ジルコニア、マグネシア、チタニア等
のセラミックスの板あるいはシート等が挙げられる。
板、あるいは従来の放射線写真法における増感紙(又は
増感用スクリーン)の支持体として用いられている各種
の材料、あるいは放射線像変換パネルの支持体として公
知の材料から任意に選ぶことができる。そのような材料
の具体例としては、例えば、セルロースアセテート、ポ
リエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミ
ド、ポリイミド、トリアセテート、ポリカーボネート等
のプラスチック物質のフィルム、アルミニウム箔、アル
ミニウム合金箔等の金属シート、通常の紙、バライタ
紙、レジンコート紙、二酸化チタン等の顔料を含有する
ピグメント紙、ポリビニルアルコール等をサイジングし
た紙、アルミナ、ジルコニア、マグネシア、チタニア等
のセラミックスの板あるいはシート等が挙げられる。
【0035】前記蛍光体層は、上記のようにして成形さ
れた蛍光体シートを、前記下塗り層上に、加熱圧縮しな
がら接着することにより形成されることが好ましいが、
この方法に限定されるものではない。前記蛍光体シート
を加熱圧縮しながら接着する方法については、後述する
本発明の放射線像変換パネルの製造方法において、詳し
く説明する。
れた蛍光体シートを、前記下塗り層上に、加熱圧縮しな
がら接着することにより形成されることが好ましいが、
この方法に限定されるものではない。前記蛍光体シート
を加熱圧縮しながら接着する方法については、後述する
本発明の放射線像変換パネルの製造方法において、詳し
く説明する。
【0036】[支持体]前記支持体は、蛍光体シートを
成形する際に用いられる前記仮支持体と同様の材料から
任意に選ぶことができる。即ち、上記のように成形した
蛍光体シートとは別に、放射線像変換パネルの支持体を
用意する。前記支持体としては、中でも、取扱い性の観
点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナ
フタレート、ポリブチレンテレフタレート等が好まし
い。前記支持体の厚さは、特に限定されず、目的に応じ
て適宜選択することができるが、50〜500μmが好
ましい。
成形する際に用いられる前記仮支持体と同様の材料から
任意に選ぶことができる。即ち、上記のように成形した
蛍光体シートとは別に、放射線像変換パネルの支持体を
用意する。前記支持体としては、中でも、取扱い性の観
点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナ
フタレート、ポリブチレンテレフタレート等が好まし
い。前記支持体の厚さは、特に限定されず、目的に応じ
て適宜選択することができるが、50〜500μmが好
ましい。
【0037】[その他の層]前記その他の層(膜)とし
ては、前記蛍光体層上に、前記蛍光体層を物理的及び化
学的に保護するために、透明な保護膜を形成することが
できる。前記透明保護膜は、例えば、酢酸セルロース、
ニトロセルロース等のセルロース誘導体;あるいはポリ
メチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビ
ニルホルマール、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、
塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、弗素系樹脂(例え
ば、フルオロオレフィン・ビニルエーテル共重合体)等
の合成高分子物質のような透明な高分子物質を適当な溶
媒に溶解して調製した溶液を、前記蛍光体層の表面に塗
布することにより形成することができる。また適宜、ポ
リイソシアネート等の架橋剤を使用することができる。
あるいは、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
ナフタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リアミド等からなるプラスチックシート;透明なガラス
板等の保護膜形成用シートを別に成形して、前記蛍光体
層の表面に適当な接着剤を用いて接着する等の方法によ
っても形成することができる。前記保護膜の膜厚は、通
常、約0.1〜20μm程度である。更に、得られる画
像の鮮鋭度を向上させる目的で、上記の少なくともいず
れかの層に、励起光を吸収し、輝尽発光光は吸収しない
ような着色層を加えてもよい(特公昭59−23400
号参照)。
ては、前記蛍光体層上に、前記蛍光体層を物理的及び化
学的に保護するために、透明な保護膜を形成することが
できる。前記透明保護膜は、例えば、酢酸セルロース、
ニトロセルロース等のセルロース誘導体;あるいはポリ
メチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビ
ニルホルマール、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、
塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、弗素系樹脂(例え
ば、フルオロオレフィン・ビニルエーテル共重合体)等
の合成高分子物質のような透明な高分子物質を適当な溶
媒に溶解して調製した溶液を、前記蛍光体層の表面に塗
布することにより形成することができる。また適宜、ポ
リイソシアネート等の架橋剤を使用することができる。
あるいは、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
ナフタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リアミド等からなるプラスチックシート;透明なガラス
板等の保護膜形成用シートを別に成形して、前記蛍光体
層の表面に適当な接着剤を用いて接着する等の方法によ
っても形成することができる。前記保護膜の膜厚は、通
常、約0.1〜20μm程度である。更に、得られる画
像の鮮鋭度を向上させる目的で、上記の少なくともいず
れかの層に、励起光を吸収し、輝尽発光光は吸収しない
ような着色層を加えてもよい(特公昭59−23400
号参照)。
【0038】上記本発明の放射線像変換パネルは、これ
まで問題とされていた繰り返しの使用による界面近傍の
亀裂を生じ難くしたため、この亀裂による画像上のアー
ティファクトを抑え、特に医療診断を目的とするX線撮
影時の直接医療用放射線撮影において利用価値が非常に
高いものである。
まで問題とされていた繰り返しの使用による界面近傍の
亀裂を生じ難くしたため、この亀裂による画像上のアー
ティファクトを抑え、特に医療診断を目的とするX線撮
影時の直接医療用放射線撮影において利用価値が非常に
高いものである。
【0039】以下、本発明の放射線像変換パネルの製造
方法について説明する。本発明の放射線像変換パネルの
製造方法は、支持体上に下塗り層を形成する工程(以
下、「下塗り層形成工程」と称する。)と、蛍光体シー
トを成形する工程(以下、「蛍光体シート成形工程」と
称する。)と、前記蛍光体シートを用いて蛍光体層を形
成する工程(以下、「蛍光体層形成工程」と称する。)
とを含み、更に必要に応じて、その他の層を形成する工
程(以下、「その他の層形成工程」と称する。)を含ん
でなる。以下、各工程について説明する。
方法について説明する。本発明の放射線像変換パネルの
製造方法は、支持体上に下塗り層を形成する工程(以
下、「下塗り層形成工程」と称する。)と、蛍光体シー
トを成形する工程(以下、「蛍光体シート成形工程」と
称する。)と、前記蛍光体シートを用いて蛍光体層を形
成する工程(以下、「蛍光体層形成工程」と称する。)
とを含み、更に必要に応じて、その他の層を形成する工
程(以下、「その他の層形成工程」と称する。)を含ん
でなる。以下、各工程について説明する。
【0040】前記下塗り層形成工程、前記蛍光体シート
成形工程、及び前記その他の層形成工程は、上記本発明
の放射線像変換パネルにおいて既に説明した方法により
行うことができ、該方法に準じて、前記下塗り層、前記
蛍光体シート、及び前記その他の層を形成することがで
きる。
成形工程、及び前記その他の層形成工程は、上記本発明
の放射線像変換パネルにおいて既に説明した方法により
行うことができ、該方法に準じて、前記下塗り層、前記
蛍光体シート、及び前記その他の層を形成することがで
きる。
【0041】[蛍光体層形成工程]前記蛍光体層形成工
程は、前記蛍光体シートを、前記下塗り層上に、加熱圧
縮(以下、「加熱圧縮処理」と呼ぶことがある。)しな
がら接着させ蛍光体層を形成する工程である。
程は、前記蛍光体シートを、前記下塗り層上に、加熱圧
縮(以下、「加熱圧縮処理」と呼ぶことがある。)しな
がら接着させ蛍光体層を形成する工程である。
【0042】前記加熱圧縮処理のために使用される圧縮
装置の例としては、例えば、カレンダーロール、ホット
プレス等、従来公知の圧縮装置が挙げられるが、安定
性、均一性の観点から、カレンダーロールが好ましい。
前記カレンダーロールによる加熱圧縮処理は、前記下塗
り層が形成された支持体上に前記蛍光体シートを載せ、
前記蛍光体シートの軟化温度以上又は融点以上に加熱し
たローラーの間を、一定の速度(送り速度)で通過させ
ることにより行われる。但し、本発明に用いられる圧縮
装置は、前記蛍光体シートを加熱しながら圧縮すること
のできるものであればいかなるものであってもよい。
装置の例としては、例えば、カレンダーロール、ホット
プレス等、従来公知の圧縮装置が挙げられるが、安定
性、均一性の観点から、カレンダーロールが好ましい。
前記カレンダーロールによる加熱圧縮処理は、前記下塗
り層が形成された支持体上に前記蛍光体シートを載せ、
前記蛍光体シートの軟化温度以上又は融点以上に加熱し
たローラーの間を、一定の速度(送り速度)で通過させ
ることにより行われる。但し、本発明に用いられる圧縮
装置は、前記蛍光体シートを加熱しながら圧縮すること
のできるものであればいかなるものであってもよい。
【0043】前記軟化温度とは、ビカット軟化温度をい
う。これは、1kgの荷重がかかった標準圧子(直径1
mm)が試料(ポリマー)表面から1mm侵入した時の
温度を測定することにより求められ、ASTMDI52
5に準じて行われる。
う。これは、1kgの荷重がかかった標準圧子(直径1
mm)が試料(ポリマー)表面から1mm侵入した時の
温度を測定することにより求められ、ASTMDI52
5に準じて行われる。
【0044】前記加熱圧縮処理の際の圧力は、50kg
w/cm2 以上が一般的で、200〜700kgw/c
m2 が好ましい。前記加熱圧縮処理の際の加熱温度(上
下のロール温度)は、上記のように軟化温度以上又は融
点以上が一般的であり、軟化温度より10〜50℃高い
温度で行うことが好ましい。また、一般に、下ロール温
度を上ロール温度よりも高く設定するか、上と下のロー
ル温度を同じ温度で行うことが好ましい。送り速度は
0.1〜5.0m/分が好ましい。
w/cm2 以上が一般的で、200〜700kgw/c
m2 が好ましい。前記加熱圧縮処理の際の加熱温度(上
下のロール温度)は、上記のように軟化温度以上又は融
点以上が一般的であり、軟化温度より10〜50℃高い
温度で行うことが好ましい。また、一般に、下ロール温
度を上ロール温度よりも高く設定するか、上と下のロー
ル温度を同じ温度で行うことが好ましい。送り速度は
0.1〜5.0m/分が好ましい。
【0045】本発明の放射線像変換パネルの製造方法
は、前記下塗り層に、分子量900以下の非架橋性有機
化合物を、前記下塗り層の全固形分重量に対して12〜
35重量%含有させることに特徴があり、これにより、
下塗り層−蛍光体層の圧縮融着処理適性を向上させるこ
とができ、かつ、前記下塗り層と前記蛍光体層との接着
力を増大させ、繰り返し使用しても亀裂が生じにくく耐
久性の良好な放射線像変換パネルを製造することができ
る。
は、前記下塗り層に、分子量900以下の非架橋性有機
化合物を、前記下塗り層の全固形分重量に対して12〜
35重量%含有させることに特徴があり、これにより、
下塗り層−蛍光体層の圧縮融着処理適性を向上させるこ
とができ、かつ、前記下塗り層と前記蛍光体層との接着
力を増大させ、繰り返し使用しても亀裂が生じにくく耐
久性の良好な放射線像変換パネルを製造することができ
る。
【0046】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。 (実施例1) [蛍光体シートの成形]以下の成分1を、メチルエチル
ケトン溶媒に加え、プロペラミキサーで分散させて、粘
度が30Pa・s(25℃)の蛍光体層形成用塗布液
(結合剤/蛍光体比=1/20)を調製した。 −成分1− 輝尽性蛍光体:BaFBr0.85I0.15:Eu2+・・・・・・・・200g 結合剤:ポリウレタンエラストマー・・・・・・・・・・・・・7.4g (T5265H、大日本インキ化学(株)製) 架橋剤:ポリイソシアネート・・・・・・・・・・・・・・・・0.6g (コロネートHX、日本ポリウレタン(株)製) 黄変防止剤:エポキシ樹脂・・・・・・・・・・・・・・・・・2.0g (EP1001、油化シェルエポキシ(株)製) この蛍光体層形成用塗布液を、シリコン離型剤が塗布さ
れているポリエチレンテレフタレート(仮支持体、厚さ
180μm)上に塗布し、乾燥した後、仮支持体から剥
離して蛍光体シート(厚さ320μm)を成形した。
はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。 (実施例1) [蛍光体シートの成形]以下の成分1を、メチルエチル
ケトン溶媒に加え、プロペラミキサーで分散させて、粘
度が30Pa・s(25℃)の蛍光体層形成用塗布液
(結合剤/蛍光体比=1/20)を調製した。 −成分1− 輝尽性蛍光体:BaFBr0.85I0.15:Eu2+・・・・・・・・200g 結合剤:ポリウレタンエラストマー・・・・・・・・・・・・・7.4g (T5265H、大日本インキ化学(株)製) 架橋剤:ポリイソシアネート・・・・・・・・・・・・・・・・0.6g (コロネートHX、日本ポリウレタン(株)製) 黄変防止剤:エポキシ樹脂・・・・・・・・・・・・・・・・・2.0g (EP1001、油化シェルエポキシ(株)製) この蛍光体層形成用塗布液を、シリコン離型剤が塗布さ
れているポリエチレンテレフタレート(仮支持体、厚さ
180μm)上に塗布し、乾燥した後、仮支持体から剥
離して蛍光体シート(厚さ320μm)を成形した。
【0047】[下塗り層の形成]以下の成分2を、メチ
ルエチルケトン220gに加え、プロペラミキサーを用
いて混合し、粘度が5〜10Pa・s(25℃)の下塗
り層形成用塗布液(低分子量有機成分:無機化合物を除
く全固形分重量の19重量%を含有)を調製した。 −成分2− 酸化ガドリニウム(Gd2O3)の微細粒子・・・・・・・・・・・30g (粒子径1〜5μmの範囲の粒子を90重量%含有) 結合剤:軟質アクリル樹脂・・・・・・・・・・・・・・・・・150g (クリスコートP-1018GS、大日本インキ化学(株)製、 固形分20重量%) 低分子量有機成分:ジ−2−エチルヘキシルアゼレート・・・・7.0g (分子量:413) 導電剤:ZnOウィスカー・・・・・・・・・・・・・・・・・・10g 着色剤:群青・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・0.4g 厚さ300μmのポリエチレンテレフタレート(支持
体)をガラス板上に水平に置き、上記の下塗り層形成用
塗布液をドクターブレードを用いて前記支持体上に均一
塗布した後、塗布膜の乾燥を行い、前記支持体上に下塗
り層を形成した(厚さ20μm)。
ルエチルケトン220gに加え、プロペラミキサーを用
いて混合し、粘度が5〜10Pa・s(25℃)の下塗
り層形成用塗布液(低分子量有機成分:無機化合物を除
く全固形分重量の19重量%を含有)を調製した。 −成分2− 酸化ガドリニウム(Gd2O3)の微細粒子・・・・・・・・・・・30g (粒子径1〜5μmの範囲の粒子を90重量%含有) 結合剤:軟質アクリル樹脂・・・・・・・・・・・・・・・・・150g (クリスコートP-1018GS、大日本インキ化学(株)製、 固形分20重量%) 低分子量有機成分:ジ−2−エチルヘキシルアゼレート・・・・7.0g (分子量:413) 導電剤:ZnOウィスカー・・・・・・・・・・・・・・・・・・10g 着色剤:群青・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・0.4g 厚さ300μmのポリエチレンテレフタレート(支持
体)をガラス板上に水平に置き、上記の下塗り層形成用
塗布液をドクターブレードを用いて前記支持体上に均一
塗布した後、塗布膜の乾燥を行い、前記支持体上に下塗
り層を形成した(厚さ20μm)。
【0048】[放射線像変換パネルの製造]前記支持体
上に形成された下塗り層の上に前記蛍光体シートを載
せ、加熱圧縮処理を行い、蛍光体層(厚さ220μm)
を形成した。圧縮は、カレンダーロールを用いて、圧力
500kgw/cm2、加熱温度(上下のロール温度)
45℃、送り速度0.5m/minの条件で連続的に行
った。この圧縮により、前記蛍光体シートと前記支持体
上の下塗り層とは完全に融着した。この加熱圧縮処理の
後、ポリエステル系接着剤が片面に塗布されているポリ
エチレンテレフタレートの透明フィルム(厚さ9μm)
を、接着剤塗布面が前記蛍光体層の面と接合するように
熱圧着することにより透明保護膜を形成した。以上のよ
うにして、支持体、下塗り層、蛍光体層、透明保護膜か
ら構成された放射線像変換パネルを製造した。
上に形成された下塗り層の上に前記蛍光体シートを載
せ、加熱圧縮処理を行い、蛍光体層(厚さ220μm)
を形成した。圧縮は、カレンダーロールを用いて、圧力
500kgw/cm2、加熱温度(上下のロール温度)
45℃、送り速度0.5m/minの条件で連続的に行
った。この圧縮により、前記蛍光体シートと前記支持体
上の下塗り層とは完全に融着した。この加熱圧縮処理の
後、ポリエステル系接着剤が片面に塗布されているポリ
エチレンテレフタレートの透明フィルム(厚さ9μm)
を、接着剤塗布面が前記蛍光体層の面と接合するように
熱圧着することにより透明保護膜を形成した。以上のよ
うにして、支持体、下塗り層、蛍光体層、透明保護膜か
ら構成された放射線像変換パネルを製造した。
【0049】<接着力の評価>得られた放射線像変換パ
ネルの下塗り層と蛍光体層との接着力の評価を、以下の
ように行った。得られた放射線像変換パネルに、剃刀で
透明保護膜から下塗り層まで切り込みを入れ、その切れ
込みのいれた部分を透明保護膜が外側になるように小さ
な曲率から大きな曲率へ徐々に曲げていき、下塗り層と
蛍光体層との界面が剥離しなくなる曲率半径をもって評
価値とした。前記界面の剥離が、小さな曲率半径で起こ
らなくなるほど接着力が強いことを意味する。結果を表
1に示す。
ネルの下塗り層と蛍光体層との接着力の評価を、以下の
ように行った。得られた放射線像変換パネルに、剃刀で
透明保護膜から下塗り層まで切り込みを入れ、その切れ
込みのいれた部分を透明保護膜が外側になるように小さ
な曲率から大きな曲率へ徐々に曲げていき、下塗り層と
蛍光体層との界面が剥離しなくなる曲率半径をもって評
価値とした。前記界面の剥離が、小さな曲率半径で起こ
らなくなるほど接着力が強いことを意味する。結果を表
1に示す。
【0050】<圧縮融着処理適性>加熱圧縮処理による
融着を長さ50cmに渡り行った後の蛍光体層の面状を
目視で観察し、均一に平滑に蛍光体層が接着しているか
どうかを、以下の基準により評価した。結果を表1に示
す。 蛍光体層の表面に凹凸を視認できない・・・・○ 蛍光体層の表面に一部凹凸がある・・・・・・×
融着を長さ50cmに渡り行った後の蛍光体層の面状を
目視で観察し、均一に平滑に蛍光体層が接着しているか
どうかを、以下の基準により評価した。結果を表1に示
す。 蛍光体層の表面に凹凸を視認できない・・・・○ 蛍光体層の表面に一部凹凸がある・・・・・・×
【0051】(実施例2)実施例1において、下塗り層
形成用塗布液に用いられるジ−2−エチルヘキシルアゼ
レートの添加量を11gに代えて、下塗り層形成用塗布
液(低分子量有機成分:無機化合物を除く全固形分重量
の27重量%を含有)を調製した外は、実施例1と同様
に放射線像変換パネルを製造し、実施例1と同様の評価
を行った。結果を表1に示す。
形成用塗布液に用いられるジ−2−エチルヘキシルアゼ
レートの添加量を11gに代えて、下塗り層形成用塗布
液(低分子量有機成分:無機化合物を除く全固形分重量
の27重量%を含有)を調製した外は、実施例1と同様
に放射線像変換パネルを製造し、実施例1と同様の評価
を行った。結果を表1に示す。
【0052】(実施例3)実施例1において、下塗り層
形成用塗布液に用いられるジ−2−エチルヘキシルアゼ
レートを、エチルフタリルエチルグリコレート(分子
量:280)に代えて下塗り層形成用塗布液を調製した
外は、実施例1と同様に放射線像変換パネルを製造し、
実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
形成用塗布液に用いられるジ−2−エチルヘキシルアゼ
レートを、エチルフタリルエチルグリコレート(分子
量:280)に代えて下塗り層形成用塗布液を調製した
外は、実施例1と同様に放射線像変換パネルを製造し、
実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
【0053】(実施例4)実施例3において、下塗り層
形成用塗布液に用いられるエチルフタリルエチルグリコ
レートの添加量を11gに代えて、下塗り層形成用塗布
液(低分子量有機成分:無機化合物を除く全固形分重量
の27重量%を含有)を調製した外は、実施例3と同様
に放射線像変換パネルを製造し、実施例3と同様の評価
を行った。結果を表1に示す。
形成用塗布液に用いられるエチルフタリルエチルグリコ
レートの添加量を11gに代えて、下塗り層形成用塗布
液(低分子量有機成分:無機化合物を除く全固形分重量
の27重量%を含有)を調製した外は、実施例3と同様
に放射線像変換パネルを製造し、実施例3と同様の評価
を行った。結果を表1に示す。
【0054】(実施例5)実施例1において、下塗り層
形成用塗布液に用いられるジ−2−エチルヘキシルアゼ
レートを、トリクレジルホスヘート(分子量:368)
に代えて下塗り層形成用塗布液を調製した外は、実施例
1と同様に放射線像変換パネルを製造し、実施例1と同
様の評価を行った。結果を表1に示す。
形成用塗布液に用いられるジ−2−エチルヘキシルアゼ
レートを、トリクレジルホスヘート(分子量:368)
に代えて下塗り層形成用塗布液を調製した外は、実施例
1と同様に放射線像変換パネルを製造し、実施例1と同
様の評価を行った。結果を表1に示す。
【0055】(比較例1)実施例1において、下塗り層
形成用塗布液に用いられるジ−2−エチルヘキシルアゼ
レートの添加量を3gに代えて、下塗り層形成用塗布液
(低分子量有機成分:無機化合物を除く全固形分重量の
9重量%を含有)を調製した外は、実施例1と同様に放
射線像変換パネルを製造し、実施例1と同様の評価を行
った。結果を表1に示す。
形成用塗布液に用いられるジ−2−エチルヘキシルアゼ
レートの添加量を3gに代えて、下塗り層形成用塗布液
(低分子量有機成分:無機化合物を除く全固形分重量の
9重量%を含有)を調製した外は、実施例1と同様に放
射線像変換パネルを製造し、実施例1と同様の評価を行
った。結果を表1に示す。
【0056】(比較例2)実施例3において、下塗り層
形成用塗布液に用いられるエチルフタリルエチルグリコ
レートの添加量を3gに代えて、下塗り層形成用塗布液
(低分子量有機成分:無機化合物を除く全固形分重量の
9重量%を含有)を調製した外は、実施例3と同様に放
射線像変換パネルを製造し、実施例3と同様の評価を行
った。結果を表1に示す。
形成用塗布液に用いられるエチルフタリルエチルグリコ
レートの添加量を3gに代えて、下塗り層形成用塗布液
(低分子量有機成分:無機化合物を除く全固形分重量の
9重量%を含有)を調製した外は、実施例3と同様に放
射線像変換パネルを製造し、実施例3と同様の評価を行
った。結果を表1に示す。
【0057】(比較例3)実施例3において、下塗り層
形成用塗布液に用いられるエチルフタリルエチルグリコ
レートの添加量を18gに代えて、下塗り層形成用塗布
液(低分子量有機成分:無機化合物を除く全固形分重量
の38重量%を含有)を調製した外は、実施例3と同様
に放射線像変換パネルを製造し、実施例3と同様の評価
を行った。結果を表1に示す。
形成用塗布液に用いられるエチルフタリルエチルグリコ
レートの添加量を18gに代えて、下塗り層形成用塗布
液(低分子量有機成分:無機化合物を除く全固形分重量
の38重量%を含有)を調製した外は、実施例3と同様
に放射線像変換パネルを製造し、実施例3と同様の評価
を行った。結果を表1に示す。
【0058】
【表1】
【0059】表1の結果から、実施例1〜5の本発明の
放射線像変換パネルは、低分子量有機成分の添加量が少
ない比較例1及び2と比較すると、曲率半径が小さく、
下塗り層と蛍光体層との接着力が強いことがわかる。一
方、低分子量有機成分の添加量が多い比較例3では、曲
率半径が小さく、下塗り層と蛍光体層との接着力が強い
ことがわかるが、下塗り層が軟化し過ぎるためか、圧縮
融着処理適性に劣っている。また、本発明の放射線像変
換パネルが、繰り返し使用しても亀裂が生じ難く耐久性
に優れることを確認するために、前記曲率半径が14m
mである実施例1の放射線像変換パネルと、前記曲率半
径が17mmである比較例1の放射線像変換パネルと
を、同時に繰り返し使用し、画像上のアーティファクト
の発生の有無を観察した。その結果、比較例1の放射線
像変換パネルに画像上のアーティファクトが発生したと
きに、実施例1の放射線像変換パネルでは、全く問題が
なかった。よって、曲率半径の小さい実施例1〜5の本
発明の放射線像変換パネルは、繰り返し使用しても亀裂
が生じ難く耐久性に優れることがわかった。
放射線像変換パネルは、低分子量有機成分の添加量が少
ない比較例1及び2と比較すると、曲率半径が小さく、
下塗り層と蛍光体層との接着力が強いことがわかる。一
方、低分子量有機成分の添加量が多い比較例3では、曲
率半径が小さく、下塗り層と蛍光体層との接着力が強い
ことがわかるが、下塗り層が軟化し過ぎるためか、圧縮
融着処理適性に劣っている。また、本発明の放射線像変
換パネルが、繰り返し使用しても亀裂が生じ難く耐久性
に優れることを確認するために、前記曲率半径が14m
mである実施例1の放射線像変換パネルと、前記曲率半
径が17mmである比較例1の放射線像変換パネルと
を、同時に繰り返し使用し、画像上のアーティファクト
の発生の有無を観察した。その結果、比較例1の放射線
像変換パネルに画像上のアーティファクトが発生したと
きに、実施例1の放射線像変換パネルでは、全く問題が
なかった。よって、曲率半径の小さい実施例1〜5の本
発明の放射線像変換パネルは、繰り返し使用しても亀裂
が生じ難く耐久性に優れることがわかった。
【0060】
【発明の効果】本発明によれば、下塗り層−蛍光体層の
圧縮融着処理適性に優れ、かつ、下塗り層と蛍光体層と
の接着力が強く、繰り返し使用しても亀裂が生じ難く耐
久性の良好な放射線像変換パネル及びその製造方法を提
供することができる。
圧縮融着処理適性に優れ、かつ、下塗り層と蛍光体層と
の接着力が強く、繰り返し使用しても亀裂が生じ難く耐
久性の良好な放射線像変換パネル及びその製造方法を提
供することができる。
Claims (10)
- 【請求項1】 支持体上に、少なくとも、下塗り層と、
結合剤及び輝尽性蛍光体を含有する蛍光体層とをこの順
に有してなり、 前記下塗り層に、分子量900以下の非架橋性有機化合
物を、前記下塗り層の全固形分重量に対して12〜35
重量%含有することを特徴とする放射線像変換パネル。 - 【請求項2】 前記蛍光体層が、結合剤及び輝尽性蛍光
体を含有する液を用いて成形された蛍光体シートを、前
記下塗り層上に、加熱圧縮しながら接着することにより
形成される請求項1に記載の放射線像変換パネル。 - 【請求項3】 前記非架橋性有機化合物を、前記下塗り
層の全固形分重量に対して15〜30重量%含有する請
求項1又は2に記載の放射線像変換パネル。 - 【請求項4】 前記非架橋性有機化合物の分子量が、5
00以下である請求項1から3のいずれかに記載の放射
線像変換パネル。 - 【請求項5】 前記非架橋性有機化合物が、可塑剤を含
有する請求項1から4のいずれかに記載の放射線像変換
パネル。 - 【請求項6】 前記非架橋性有機化合物が、脂肪酸エス
テル、フタル酸エステル、及び燐酸エステルから選択さ
れる少なくとも一種を含有する請求項1から5のいずれ
かに記載の放射線像変換パネル。 - 【請求項7】 前記下塗り層が、アクリル樹脂を含有す
る請求項1から6のいずれかに記載の放射線像変換パネ
ル。 - 【請求項8】 前記下塗り層の厚さが、10〜40μm
である請求項1から7のいずれかに記載の放射線像変換
パネル。 - 【請求項9】 前記蛍光体層が、熱可塑性エラストマー
を含有する請求項1から8のいずれかに記載の放射線像
変換パネル。 - 【請求項10】 支持体上に、下塗り層を形成する工程
と、結合剤及び輝尽性蛍光体を含有する液を用いて、蛍
光体シートを成形する工程と、前記蛍光体シートを、前
記下塗り層上に、加熱圧縮しながら接着させ蛍光体層を
形成する工程と、を含む放射線像変換パネルの製造方法
であって、 前記下塗り層に、分子量900以下の非架橋性有機化合
物を、前記下塗り層の全固形分重量に対して12〜35
重量%含有させることを特徴とする放射線像変換パネル
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11046867A JP2000241597A (ja) | 1999-02-24 | 1999-02-24 | 放射線像変換パネル及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11046867A JP2000241597A (ja) | 1999-02-24 | 1999-02-24 | 放射線像変換パネル及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000241597A true JP2000241597A (ja) | 2000-09-08 |
Family
ID=12759302
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11046867A Pending JP2000241597A (ja) | 1999-02-24 | 1999-02-24 | 放射線像変換パネル及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000241597A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008111481A1 (ja) * | 2007-03-12 | 2008-09-18 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 放射線像変換パネル |
-
1999
- 1999-02-24 JP JP11046867A patent/JP2000241597A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008111481A1 (ja) * | 2007-03-12 | 2008-09-18 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 放射線像変換パネル |
| JP5402627B2 (ja) * | 2007-03-12 | 2014-01-29 | コニカミノルタ株式会社 | 放射線像変換パネル |
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