JP2000252242A5 - - Google Patents

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【特許請求の範囲】
【請求項1】
保護膜形成剤及び界面活性剤を含有してなり、研磨する際に水又は水溶液を加え希釈される金属研磨濃縮液。
【請求項2】
金属の酸化剤、酸化金属溶解剤及び水からなる群より選ばれる少なくとも一つをさらに含有する、請求項1に記載の金属研磨濃縮液。
【請求項3】
界面活性剤が、エステル、エーテル、多糖類、アミノ酸塩、ポリカルボン酸またはその塩、ビニル系ポリマー、スルホン酸またはその塩及びアミドからなる群より選ばれる少なくとも1つである、請求項1又は2記載の金属研磨濃縮液。
【請求項4】
水溶液が、金属の酸化剤、酸化金属溶解剤、保護膜形成剤及び界面活性剤からなる群より選ばれる少なくとも1つの水溶液である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の金属研磨濃縮液。
【請求項5】
保護膜形成剤、界面活性剤及び水を含有してなる金属研磨濃縮液を研磨する際に水又は水溶液を加え希釈して金属用研磨液を得、該金属用研磨液を使用して金属膜を研磨することを特徴とする金属研磨方法。
【請求項6】
金属研磨濃縮液が、金属の酸化剤、酸化金属溶解剤及び水からなる群より選ばれる少なくとも一つをさらに含有する、請求項5に記載の金属研磨方法。
【請求項7】
水溶液が、金属の酸化剤、酸化金属溶解剤、保護膜形成剤及び界面活性剤からなる群より選ばれる少なくとも1つの水溶液である、請求項5又は6記載の金属研磨方法。
【請求項8】
水溶液が、保護膜形成剤及び界面活性剤を含む水溶液である、請求項7記載の金属研磨方法。
【請求項9】
金属用研磨液が、金属の酸化剤、酸化金属溶解剤、保護膜形成剤、界面活性剤及び水を含有する、請求項5〜8のいずれか1項に記載の金属研磨方法。
【請求項10】
金属の酸化剤、酸化金属溶解剤、保護膜形成剤、界面活性剤及び水を含有する金属研磨濃縮液を少なくとも2つの構成成分に分けて、研磨する際にそれらを水または水溶液で希釈して金属用研磨液を得、該金属用研磨液を使用して金属膜を研磨することを特徴とする金属研磨方法。
【請求項11】
構成成分が(A)成分及び(B)成分の2つであり、該(A)成分が金属の酸化剤を含み、該(B)成分が酸化金属溶解剤、保護膜形成剤、界面活性剤及び水を含む、請求項10記載の金属研磨方法。
【請求項12】
構成成分が(A)成分及び(B)成分の2つであり、該(A)成分が金属の酸化剤、保護膜形成剤及び界面活性剤を含み、該成分(B)が酸化金属溶解剤、保護膜形成剤、界面活性剤及び水を含む、請求項10記載の金属研磨方法。
【請求項13】
構成成分が(A)成分、(B)成分及び(C)成分の3つであり、該(A)成分が金属の酸化剤を含み、該(B)成分が酸化金属溶解剤を含み、該(C)成分が保護膜形成剤及び界面活性剤及び水を含む、請求項10記載の金属研磨方法。
【請求項14】
金属研磨濃縮液を研磨前に保護膜形成剤及び界面活性剤を含む水溶液を加え希釈して金属の酸化剤、酸化金属溶解剤、保護膜形成剤、界面活性剤及び水を含有する金属用研磨液を得て、該金属用研磨液を使用して金属膜を研磨することを特徴とする金属研磨方法。
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