JP2000254512A - 固体酸触媒及びその調製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 活性が高く、腐食性のない固体酸触媒を得
る。 【解決手段】 Ｃ_8-30アルキルトリメチルアンモニウム
をテンプレートとして、結晶性シリケートにガリウムを
導入することにより、メソ孔を有し、かつガリウムを含
有するシリケート（固体酸触媒）を得る。ガリウムは、
シリケートの一部と置換されていてもよく、シリケート
に担持されていてもよい。この固体酸触媒は、ルイス酸
触媒、例えば、フリーデルクラフツ反応によるアシル化
又はアルキル化反応触媒として有用である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、異性化反応、フリ
ーデルフラフツ反応、重合反応などに有用な新規な固体
酸触媒およびその調製方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、工業的に種々の酸触媒が使用され
ている。例えば、ルイス酸触媒として金属ハロゲン化物
（塩化アルミニウムなど）が一般的に使用されている。
しかし、この方法では、多量の金属ハロゲン化物を含有
する廃触媒が生成し、その廃棄又は処理が困難である。
また、金属ハロゲン化物は吸水性が激しいため、工業的
取扱い性が低い。さらに、金属ハロゲン化物は腐食性が
あるため、耐食性の高い反応装置を使用する必要があ
り、コスト高になる。さらに、触媒の分離には煩雑な作
業を必要とする。

【０００３】一方、これらの課題を解決するため、固体
酸触媒、例えば、ＢＦ₃ を担体（アルミナなど）に担持
した触媒や、メソ孔を有する結晶性鉄シリケートなどが
提案されている。しかし、これら固体酸触媒は活性が低
く、工業的に利用するのが困難である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、高活性な固体酸触媒およびその調製方法を提供する
ことにある。

【０００５】本発明の他の目的は、腐食性がなく、分離
回収も容易な固体酸触媒およびその調製方法を提供する
ことにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を達成するため鋭意検討した結果、メソ孔を有する結晶
性シリケート系固体触媒にガリウムを導入すると、腐食
性がなく、しかも高い活性を有する固体酸触媒が得られ
ることを見いだし、本発明を完成した。

【０００７】すなわち、本発明の固体酸触媒は、メソ孔
を有し、かつガリウムを含有する結晶性シリケートで構
成されており、ガリウムは、シリケートの一部との置換
や、シリケートへの担持などにより含有させることがで
きる。このような固体酸触媒は、種々の酸触媒、例え
ば、ルイス酸触媒反応（アシル化やアルキル化のための
フリーデルクラフツ反応など）に利用できる。

【０００８】本発明の前記固体酸触媒は、メソ孔を有
し、かつガリウムが導入された結晶性シリケートを調製
する方法において、メソ孔を形成するためのテンプレー
トとしてＣ_8-30アルキルトリメチルアンモニウム塩を用
いることにより調製できる。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の固体酸触媒は、細孔を有
しているとともに、ガリウムを含有する結晶性シリケー
トで形成されている。前記細孔の平均孔径は、触媒活性
を損なわない範囲、例えば、１．３〜１０ｎｍ程度の範
囲から選択できる。前記細孔の平均孔径は、通常、メソ
孔の範疇に属している。

【００１０】細孔（特にメソ孔）を有する結晶性シリケ
ートは、例えば、細孔（特にメソ孔）が略規則的に配列
した六方細孔構造（ヘキサゴナル構造）を有するメソポ
ーラスモレキュラーシーブで構成できる。メソ孔を有す
る結晶性シリケートは「ＭＣＭ−４１」として知られて
いる。なお、前記平均孔径（２ｒ）は、固体触媒の表面
積（Ｓ）と平均細孔容積（Ｖｐ）とに基づいて算出で
き、前記メソポーラスモレキュラーシーブ構造は、Ｘ線
回折により確認できる。

【００１１】前記固体酸触媒の表面積は、触媒活性を損
なわない広い範囲、例えば、１００〜２０００ｍ² ／ｇ
程度の範囲から選択でき、通常、２００〜１５００ｍ²
／ｇ程度、好ましくは３００〜１２００ｍ² ／ｇ（例え
ば、５００〜１，０００ｍ²／ｇ）程度である。なお、
触媒の表面積は、窒素を用いた吸着法（窒素吸着法）に
より測定できる。固体酸触媒における細孔容積は、例え
ば、０．１〜５ｍｌ／ｇ程度、好ましくは０．２〜２．
５ｍｌ／ｇ（例えば、０．３〜１ｍｌ／ｇ）程度であ
る。

【００１２】本発明の固体酸触媒は、主成分としてのシ
リケート（特に結晶性シリケート）とガリウムとを含有
している。ガリウムの含有形態は特に制限されず、例え
ば、ガリウムが前記結晶性シリケートへ担持した形態
（すなわち、ガリウム担持結晶性シリケート）、シリケ
ートの一部がガリウムで置換された形態（すなわち、結
晶性ガリウムシリケート）であってもよい。なお、シリ
ケートのケイ素がガリウムで置換されているか否かは、
ＥＸＡＦＳ解析により、Ｇａ₂ Ｏ₃ に認められるＧａ−
Ｇａ結合由来のピークが消失し、Ｇａ−Ｏ結合由来のピ
ークが観察されるか否かを基準にして判断できる。

【００１３】固体酸触媒において、ケイ素とガリウムと
の割合は、触媒活性を損なわない範囲、例えば、ガリウ
ム１モルに対して、ケイ素１０〜１２０モル程度の範囲
から選択でき、通常、ガリウム１モルに対して、ケイ素
１２〜１２０モル、好ましくは１３〜５０モル、さらに
好ましくは１５〜４０モル（例えば、１５〜３０モル）
程度である。ケイ素の割合が小さいと、固体酸触媒の熱
安定性が低下し、ケイ素の割合が大きいと、触媒の酸量
及び酸強度の低下に伴って、触媒活性も低下しやすい。

【００１４】本発明の固体酸触媒はルイス酸型触媒を形
成する。すなわち、固体酸にピリジンを吸着させ、赤外
吸収スペクトルを測定したとき、ルイス酸型酸点に対応
する吸収域Ａ_L と、ブレンステッド型酸点に対応する吸
収域Ａ_B との割合が、Ａ_L ／Ａ_B ＝８０／２０〜１００
／０（面積比）程度、好ましくは９０／１０〜１００／
０（面積比）程度、さらに好ましくは９５／５〜９９／
１（面積比）程度である。ルイス酸型酸点に対応する吸
収域Ａ_L は、通常、波数１４４７〜１４６０ｃｍ^-1（例
えば、１４５５〜１４６０ｃｍ^-1）、特に１４５７ｃｍ
^-1に主ピークを有する吸収域であり、ブレンステッド型
酸点に対応する吸収域Ａ_B は、通常、波数１５３０〜１
５６０ｃｍ^-1（例えば、１５４０〜１５５０ｃｍ^-1）、
特に１５４５ｃｍ^-1に主ピークを有する吸収域である。

【００１５】固体酸触媒の酸量は、触媒にアンモニア
（ＮＨ₃ ）ガスを吸着させ、その吸着量を測定する方法
（気体塩基吸着法、ＮＨ₃ −ＴＰＤ）により測定でき、
例えば、０．１ｍｅｑ／ｇ以上、好ましくは０．２ｍｅ
ｑ／ｇ以上（例えば、０．２〜０．８ｍｅｑ／ｇ程度）
である。なお、固体酸触媒の酸強度は、前記気体塩基吸
着法において、吸着したＮＨ₃ の脱離温度を測定するこ
とにより算出できる。

【００１６】（固体酸触媒の調製方法）本発明の固体酸
触媒は、細孔（特にメソ孔）を有し、かつガリウムを結
晶性シリケートに導入することにより調製できる。この
方法において、前記細孔を形成するためのテンプレート
として、アルキルトリメチルアンモニウム塩を用いるこ
とが肝要である。すなわち、前記テンプレートを用いて
細孔を形成し、ガリウムをシリケートに導入する限り、
本発明の固体酸触媒の調製方法は特に限定されない。

【００１７】具体的な固体酸触媒の調製方法としては、
（１）テンプレートの存在下、シリカ成分とガリウム成
分とを加熱処理することにより、ガリウムが導入され、
かつ細孔を有する結晶性シリケート（結晶性ガリウムシ
リケート）を得る方法、（２）前記テンプレートを用い
て調製された細孔を有する結晶性シリケートへ、ガリウ
ム成分を担持させることにより、ガリウムが導入された
結晶性シリケート（ガリウム担持結晶性シリケート）を
得る方法などが例示できる。

【００１８】前記方法（１）において、固体酸触媒は、
通常、前記テンプレートを用い、水性溶媒系でシリカ成
分とガリウム成分とを加熱処理する水熱合成法を利用し
て行うことができ、この反応は常圧又は加圧下で行うこ
とができる。

【００１９】シリカ成分としては、結晶性シリケートを
形成可能な種々のケイ素含有化合物、例えば、シリカア
ルコキシド（テトラメトキシシラン、テトラエトキシシ
ラン、テトラブトキシシラン、トリメトキシメチルシラ
ンなど）、ケイ酸塩（ケイ酸ソーダなど）、シリカゾ
ル、コロイダルシリカなどが挙げられる。好ましいシリ
カ成分は、結晶性シリケート、例えば、コロイダルシリ
カが挙げられる。

【００２０】ガリウム成分としては、通常、水溶性ガリ
ウム化合物が使用され、例えば、ガリウムと無機酸との
塩（硝酸ガリウム（Ｇａ（ＮＯ₃ ）₃ など）が挙げられ
る。ガリウム化合物としては、通常、原子価１〜３（特
に原子価３）のガリウム化合物が使用される。なお、シ
リカ成分に対するガリウム成分の使用量は、固体酸触媒
におけるケイ素とガリウムとの割合に対応させて選択で
きる。

【００２１】本発明で用いるアルキルトリメチルアンモ
ニウム塩は、炭素数８〜３０の高級（又は長鎖）アルキ
ル基と３個のメチル基とを有している。高級アルキル基
の炭素数により、固体酸触媒の平均孔径を調整できる。
高級アルキル基としてのＣ_{8- 30}アルキル基は直鎖又は分
岐鎖アルキル基であってもよく、例えば、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシル基、ド
コシル基などが例示できる。好ましい高級アルキル基に
はＣ_10-25 アルキル基（例えば、Ｃ_10-20アルキル
基）、特にＣ_12-18アルキル基（例えば、Ｃ_12-16アルキ
ル基）が含まれる。

【００２２】アルキルトリメチルアンモニウム塩として
は、例えば、ハロゲンイオンとの塩（塩素イオン、臭素
イオンなどとの塩）などが挙げられる。これらのＣ_8-30
アルキルトリメチルアンモニウム塩は単独で又は二種以
上組み合わせて使用できる。

【００２３】水性溶媒としては、通常、水が使用され、
必要に応じて水と相溶性のある親水性又は水溶性溶媒
（アルコール類、ケトン類、エーテル類、カルボン酸類
など、特にメタノールなどのアルコール類）を併用して
もよい。これら溶媒は、一種又は二種以上組み合わせて
使用できる。

【００２４】シリカ成分とガリウム成分との水熱合成温
度は、例えば、６０〜３００℃程度、好ましくは８０〜
２００℃（例えば、８０〜１２０℃）程度である。圧力
は、前記加熱温度に対応して適宜選択でき、通常、例え
ば、１〜１０気圧程度、好ましくは１〜５気圧程度の範
囲から適当に選択できる。加熱時間は、反応温度に応じ
て、例えば、１時間〜３０日程度、好ましくは５時間〜
１０日程度の範囲から選択できる。反応は、撹拌下又は
非撹拌下で行うことができる。

【００２５】反応過程において、必要に応じて、反応系
のｐＨを、例えば、８〜１２程度（好ましくは１０〜１
２程度）に調整してもよい。ｐＨの調整は、例えば、加
熱過程で、酸又はアルカリ溶液（特に酸溶液、例えば酢
酸溶液）を連続的又は間欠的に添加することにより行う
ことができる。

【００２６】このようにして、テンプレート剤としての
アルキルトリメチルアンモニウム塩（特に、Ｃ_8-30アル
キルトリメチルアンモニウム塩）の存在下、シリカ成分
とガリウム成分とを加熱することにより、ガリウム含有
シリケート（特に結晶性ガリウムシリケート）を得るこ
とができる。生成したガリウム含有シリケートは、慣用
の精製工程（洗浄、乾燥など）に供し、不純物（塩成
分、水など）を除去してもよい。例えば、ガリウム含有
シリケートを水洗することにより、塩成分（ハロゲンイ
オンなど）などの水溶性不純物を除去できる。

【００２７】さらに、空気などの酸素含有雰囲気下、適
当な温度、例えば、３００〜７００℃程度（例えば、４
００〜６００℃程度）で結晶性ガリウムシリケートを焼
成することにより、テンプレート剤などの有機成分を除
去できる。

【００２８】精製したガリウム含有シリケート（結晶性
又は結晶質ガリウムシリケート）は、さらにシリカ成分
由来のアルカリ金属又はアルカリ土類金属を、アンモニ
ウムイオンにイオン交換してもよい。アンモニウムイオ
ンにイオン交換した後、焼成することにより、触媒を高
度に活性化できる。イオン交換は、通常、アンモニア又
はアンモニウム塩含有水溶液（硝酸アンモニウム水溶
液、硫酸アンモニウム水溶液、塩化アンモニウム水溶
液、臭化アンモニウム水溶液など）に、ガリウム含有シ
リケートを浸漬し、撹拌又は静置することにより行うこ
とができる。焼成は、例えば、適当な雰囲気（例えば、
酸素含有雰囲気又は不活性ガス雰囲気）下、３００〜７
００℃程度、好ましくは４００〜６００℃程度で行うこ
とができる。

【００２９】また、前記方法（２）において、ガリウム
成分の担持又は沈着は、慣用の方法、例えば、（２ａ）
ガリウム化合物を含む水性溶媒にシリケート（通常、粉
粒状の形態）を浸漬する方法、（２ｂ）シリケート（通
常、粉粒状の形態）に、水溶性ガリウム化合物を含有す
る水性溶媒を散布する方法、（２ｃ）シリケートとガリ
ウム成分とを含む混合液に酸又はアルカリを添加してガ
リウム成分をシリケートに沈着する方法などが例示でき
る。なお、シリケートとしては、前記テンプレートを用
いて調製された細孔を有する結晶性シリケートが使用で
きる。ガリウム担持結晶性シリケートは、前記ガリウム
成分が担持されたシリケートを、必要により洗浄・乾燥
し、上記と同様にして焼成することにより調製できる。

【００３０】本発明の固体酸触媒の形態は特に制限され
ず、例えば、粉粒状、ペレット状、フレーク状、ロッド
状、フレーク状、錠剤状、ハニカム状などであってもよ
い。また、固体酸触媒は、加圧成形、押し出し成形など
の成形法により所定形状の形成した成形体であってもよ
い。

【００３１】このようにして得られた本発明の固体酸触
媒は、触媒活性が高く、しかも腐食性を大きく低減でき
る。また、触媒の形態が固体であるため、反応混合物か
らの分離回収も容易である。そのため、触媒量を低減し
たり、反応温度を低くしても、高い収率で目的化合物を
工業的に有利に製造できる。

【００３２】本発明の固体酸触媒は、種々の酸触媒反応
（特にルイス酸触媒反応）、例えば、フリーデルクラフ
ツ反応（フリーデルクラフツ反応を利用したアシル化反
応、アルキル化反応など）、エステル化反応（カルボン
酸又はその反応性誘導体とアルコールとのエステル化反
応など）、異性化反応（直鎖炭化水素から分岐鎖炭化水
素への異性化反応など）、アセタール化反応、重合反応
（エチレン、プロピレンなどのビニル化合物、ジエン類
などの重合）などにおける触媒として有用である。ま
た、本発明の固体酸触媒は、液相又は気相系のいずれの
反応系にも利用できる。

【００３３】なお、本発明の固体酸触媒を用いる反応は
慣用の方法で行うことができる。例えば、フリーデルク
ラフツ反応によるアシル化反応は、反応体［例えば、芳
香族性化合物（ベンゼン、トルエン、ナフタレンなどの
炭化水素）］をアシル化剤（代表的には、カルボン酸ハ
ライド、カルボン酸無水物など）によりアシル化するこ
とにより行うことができる。このアシル化反応におい
て、本発明の固体酸触媒を用いると、高い触媒活性を有
しているため、少ない触媒量であっても、比較的穏和な
条件（例えば、反応温度が１０〜８０℃、好ましくは２
０〜６０℃程度）で反応させることができる。また、フ
リーデルクラフツ反応を利用したアルキル化反応におい
ても、前記アシル化剤に代えてアルキル化剤（アルキル
ハライド、アルケン、アルキン、アルコール、エーテ
ル、エステルなど）を用いることにより、効率的に芳香
族性化合物をアルキル化できる。

【００３４】

【発明の効果】本発明では、固体酸触媒が、細孔を有す
るガリウム含有結晶性シリケートで構成されているた
め、固体酸触媒に高い触媒活性を付与できる。また、ハ
ロゲン化物を実質的に含有していないため、腐食性が殆
どなく、反応混合物からの分離回収も容易である。

【００３５】

【実施例】以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定さ
れるものではない。

【００３６】実施例１ （触媒調製）テトラデシルトリメチルアンモニウムブロ
ミド（テンプレート剤）１３．１ｇと、コロイダルシリ
カ（Ｌｕｄｏｘ−４０、デュポン社製、シリカ含有量：
４０重量％、）３３ｇと、硝酸ガリウム３．０ｇとを含
有する水溶液２２０ｇを５００ｍｌのポリプロピレン製
ボトルに加え、オートクレーブ中、１００℃で５日間静
置し、水熱合成反応を行った。反応系には、ｐＨを約１
１に維持するため、５規定の酢酸水溶液を２４時間毎に
添加した。反応終了後、冷却し、オートクレープから反
応混合物を取り出し、残留ブロムイオンが無くなるまで
反応混合物を水洗し、１３０℃で乾燥した。得られた結
晶性生成物を、空気中、５００℃で焼成することによ
り、残留テトラデシルトリメチルアンモニウムブロミド
を除去した。焼成により得られた粉末結晶１ｇを０．５
規定の硝酸アンモニウム水溶液１００ｍｌに浸漬し、室
温（約２０℃）で２４時間浸漬してイオン交換処理し
た。水洗後、粉末結晶を１００℃で乾燥した。さらに、
空気中、４５０℃で５時間焼成することによりメソ孔を
有する結晶性ガリウムシリケートを得た。

【００３７】メソ孔を有する結晶性ガリウムシリケート
の構造を、Ｘ線回析により確認したところ、２．４５
°，４．４９°，４．９４°に解析ピークが見られ、ヘ
キサゴナル構造の規則性を有することが確認できた。ま
た、窒素吸着法による固体酸触媒の表面積は８６４ｍ²
／ｇ、細孔容積０．５７ｍｌ／ｇであり、細孔は、平均
孔径（平均細孔径）２．４ｎｍのメソ孔であった。

【００３８】また、固体酸触媒のＥＸＡＦＳ解析におい
て、Ｇａ−Ｇａ結合由来のピークが存在せず、Ｇａ−Ｏ
結合由来のピークのみが観察され、ガリウムがシリカの
ネットワークに取り込まれていることが確認できた。な
お、各結合ピークの位置は、Ｇａ₂ Ｏ₃ のピーク位置を
基準にして定めた。

【００３９】さらに、酸点の種類を同定するとともに酸
点の割合を調べるため、室温で固体酸触媒にピリジンを
吸着させた後、１００℃で真空脱気して物理吸着したピ
リジンを除去し、赤外吸収スペクトル（ＩＲ）を測定し
た。すなわち、ルイス酸型酸点に吸着したピリジニウム
イオンの吸収ピーク（１５４５ｃｍ^-1）と、ブレンステ
ッド酸型酸点に吸着したピリジニウムイオンの吸収ピー
ク（１４５７ｃｍ^-1）との面積比を算出した。この結
果、ルイス酸型酸点とブレンステッド型酸点との割合
は、９７／３（面積比）であった。また、ＮＨ₃ −ＴＰ
Ｄ法により測定した固体酸触媒の酸量は、０．５１ｍｅ
ｇ／ｇであった。

【００４０】（フリーデルクラフツ反応によるアルキル
化）攪拌器付きの５０ｍｌのフラスコ中、ベンゼン７．
８ｇ（１００ｍｍｏｌ）と、塩化ベンジル６６８ｍｇ
（５ｍｍｏｌ）と、固体酸触媒３０ｍｇとを、窒素気流
下、４０℃で２時間攪拌することにより反応させた。生
成したジフェニルメタンの生成量を、ガスクロマトグラ
フィーにより測定したところ、ジフェニルメタンが４４
モル％で生成していた。

【００４１】比較例１〜３ 硝酸ガリウムを使用しない以外は、実施例１と同様にし
てメソ孔を有する結晶性シリケートを得た（比較例
１）。また、硝酸ガリウムに代えて、硝酸アルミニウム
又は硝酸鉄を用いる以外は、実施例１と同様にして、メ
ソ孔を有する結晶性アルミノシリケート（比較例２）、
メソ孔を有する結晶性鉄シリケートを得た（比較例
３）。

【００４２】得られた結晶性シリケート、結晶性アルミ
ノシリケート、又は結晶性鉄シリケートを、実施例１の
フリーデルクラフツ反応によるアルキル化反応に用いた
ところ、いずれも反応は全く進行しなかった。

【００４３】実施例２〜６ 硝酸ガリウムの使用量を調整する以外は、実施例１と同
様にして、ガリウムの含有量が異なる結晶性ガリウムシ
リケート（Ｓｉ／Ｇａ＝１４〜６３モル％）を調製し
た。得られた固体酸触媒のガリウムの含有量及び触媒活
性（ジフェニルメタンの収率）を表１に示す。

【００４４】

【表１】

【００４５】実施例７及び８ 比較例１で得られたメソ孔を有する結晶性シリケート１
ｇを、０．３重量％の硝酸ガリウムのメタノール溶液に
含浸させた。含浸後、１００℃で乾燥し、５００℃で焼
成することによりガリウムの担持量が異なる固体酸触媒
（ガリウム担持量３．１重量％、５．９重量％）を調製
した。得られた固体酸触媒のガリウムの含有量と触媒活
性（ジフェニルメタンの収率）を表２に示す。

【００４６】

【表２】

【００４７】比較例４ 結晶性シリケートに代えて非晶質シリカを用いる以外は
実施例７と同様にして、ガリウム担持非晶質シリケート
を調製した。フリーデルクラフツ反応によるアルキル化
反応に用いたところ、ジフェニルメタン収率０．１モル
％であった。

【００４８】実施例９〜１１ テンプレート剤として、アルキル基の炭素数が異なるア
ルキルトリメチルアンモニウムブロミドを用いる以外
は、実施例８と同様にして固体酸触媒（結晶性ガリウム
シリケート）を調製した。なお、テンプレート剤とし
て、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド（実
施例９）、テトラデシルトリメチルアンモニウムブロミ
ド（実施例１０）、又はデシルトリメチルアンモニウム
ブロミド（実施例１１）を用いた。

【００４９】上記テンプレート剤のアルキル基の炭素数
と、得られた結晶性ガリウムシリケートの触媒活性（ジ
フェニルメタンの収率）を表３に示す。

【００５０】

【表３】

【００５１】実施例１２及び比較例５ （フリーデルクラフツ反応によるアシル化）実施例１で
得られた結晶性ガリウムシリケートと、比較例３で得た
結晶性鉄シリケート触媒とを用い、２−メトキシナフタ
レンのアセチル化を行った。すなわち、攪拌器付きの５
０ｍｌのフラスコに、反応溶媒のニトロベンゼン７．１
７ｇと２−メトキシナフタレン５ｍｍｏｌ（７９０ｍ
ｇ）、アセチルクロライド１．２ｍｍｏｌ（９４ｍ
ｇ）、固体酸触媒８０ｍｇを仕込み、窒素気流下、反応
温度４０℃で１２時間反応を行ない、アセチル化メトキ
シナフタレン（アセチル化物）の収率と、メトキシナフ
タレンの１−位、６−位、８−位にアセチル基が置換し
たアセチルメトキシナフタレンの選択率をガスクロマト
グラフィにより測定したところ、下記の結果を得た。

【００５２】実施例１２：実施例１の固体酸触媒を使用 アセチル化物の収率５５モル％ アセチル化物の生成比率： １位アセチル化物の生成比率４０％ ６位アセチル化物の生成比率４７％ ８位アセチル化物の生成比率１３％ 比較例５：比較例３の固体酸触媒を使用 アセチル化物の収率３３モル％ アセチル化物の生成比率： １位アセチル化物の生成比率６６％ ６位アセチル化物の生成比率１９％ ８位アセチル化物の生成比率１５％

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｆターム(参考） 4G069 AA08 AA11 BA07A BA07B BA44A BA45A BB10B BC17A BC17B BD06A BD06B BD13B BE17A BE17B BE33B CB59 CB61 CB62 DA05 EC14Y ZA37A ZA37B ZB08 ZC07 4H006 AC24 AC44 BA09 BA33 BA55 BA64 BA67 BA68 4H039 CA41 CA62 CD10 CD20

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 メソ孔を有し、かつガリウムを含有する
   結晶性シリケートで構成されている固体酸触媒。
2. 【請求項２】 シリケートの一部との置換又はシリケー
   トへの担持によりガリウムが含有されている請求項１記
   載の固体酸触媒。
3. 【請求項３】 ルイス酸触媒である請求項１記載の固体
   酸触媒。
4. 【請求項４】 フリーデルクラフツ反応用触媒である請
   求項１記載の固体酸触媒。
5. 【請求項５】 フリーデルクラフツ反応によるアシル化
   又はアルキル化反応用触媒である請求項１記載の固体酸
   触媒。
6. 【請求項６】 メソ孔を有し、かつガリウムを導入した
   結晶性シリケートで構成された固体酸触媒を調製する方
   法であって、メソ孔を形成するためのテンプレートとし
   てＣ_8-30アルキルトリメチルアンモニウム塩を用いる固
   体酸触媒の調製方法。