JP2000256862A - 複合酸化物膜の製造方法 - Google Patents

複合酸化物膜の製造方法

Info

Publication number
JP2000256862A
JP2000256862A JP11063295A JP6329599A JP2000256862A JP 2000256862 A JP2000256862 A JP 2000256862A JP 11063295 A JP11063295 A JP 11063295A JP 6329599 A JP6329599 A JP 6329599A JP 2000256862 A JP2000256862 A JP 2000256862A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
film
light
composite oxide
excimer laser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11063295A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshimi Fukui
俊巳 福井
Naoko Asakuma
直子 朝隈
Ko Hayashi
紅 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kansai Research Institute KRI Inc
Original Assignee
Kansai Research Institute KRI Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kansai Research Institute KRI Inc filed Critical Kansai Research Institute KRI Inc
Priority to JP11063295A priority Critical patent/JP2000256862A/ja
Publication of JP2000256862A publication Critical patent/JP2000256862A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Chemically Coating (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高温での加熱処理を行わなくても複合酸化物
の薄膜を得ることができる製造方法を提供する。 【手段】 La、MnおよびCa、SrもしくはBaの
各酸化物の原料成分を含む前駆体塗布液を基板の表面に
塗布して成膜した後、基板上の薄膜に対し波長が360
nm以下である光を照射して薄膜を結晶化させ、組成式
(La1−x)MnO3−δ(M:Ca,Sr,B
a、0.09≦x≦0.50)で表されるペロブスカイ
ト型構造を有する複合酸化物の薄膜を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、複数種類の元素
の複合酸化物、特に、Laの酸化物とCa、Srもしく
はBaの酸化物とMnの酸化物とから構成される複合酸
化物の薄膜を製造する複合酸化物膜の製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】希土類元素の酸化物、アルカリ土類金属
の酸化物、および、遷移金属のうち特定の元素の酸化物
から構成される複合酸化物には、導電性や磁気抵抗特性
などの各種の機能性を有する多くの物質が存在する。そ
の代表的な例の1つとして、(La1−x)MnO
3−δ(M:Ca,Sr,Ba、0.09≦x≦0.5
0)の組成式で表されるペロブスカイト型構造を有する
複合酸化物があり、それが持つ導電性および磁気抵抗特
性を利用して、固体電解質燃料電池の電極や冷陰極管等
の電子放出用電極の材料、磁気センサや磁気抵抗ヘッド
の磁性薄膜の材料などへの応用が試みられている。この
複合酸化物のバルク体や薄膜は、従来、各種の方法によ
り製造されている。
【0003】例えば、バルク体の製造方法として、特開
平7−196367号公報、特開平7−215764号
公報等には、(La1−xSr)MnO(0.05
≦x≦0.5)を主成分とするセラミックス粉末を成形
し焼成して、固相法により導電性セラミック焼結体を製
造する方法が開示されている。特開平8−133895
号公報には、La、SrおよびMnを、特開平9−26
3495号公報には、Nd、SrおよびMnとLaまた
はPrとを、それぞれ、酸化物または加熱により酸化物
に変換可能な化合物の形で所定の原子比となる割合で混
合し、この混合物を焼結した後、得られた焼結体を溶融
状態からフローティングゾーン法で結晶成長させること
により、一般式(La1−xSr)MnO(x=
0.168〜0.178)および一般式(Nd1−x
1−ySrMnO(M:La,Pr、0.25
≦x≦0.6、0.4≦y≦0.6)でそれぞれ表され
る組成のペロブスカイト型構造をもつ無粒界型マンガン
酸化物結晶体を得る方法が開示されている。また、特開
平8−222127号公報には、La、SrおよびMn
の各硝酸塩の水溶液に焼結用(La1−xSr)Mn
粉末を混ぜた原料混合物を作成し、この原料混合
物を予備加熱した後、原料混合物を粉砕、混合し、その
後加圧成形して未焼結電極を形成し、その未焼結電極を
さらに焼結させることにより、酸化物電極焼結体を製造
する方法が開示されている。
【0004】また、薄膜の製造方法として、特開平7−
193298号公報等には、スパッタ法やアブレージョ
ン法により組成がXMnOy(X:La,Ca,Sr,
Ba、2≦y≦3.5)である膜を基板上に形成する方
法が開示されている。特開平8−293426号公報に
は、金属原料として、La、CaおよびSrの各アルコ
キシドとMnのカルボン酸塩、もしくは、La、Caお
よびSrの各カルボン酸塩とMnのアルコキシド、また
は、La、CaおよびSrの各アセチルアセトン塩とM
nのアルコキシドもしくはカルボン酸塩とを使用し、有
機溶媒中で金属(La,Ca,Sr,Mn)−酸素結合
を有する前駆体溶液を調製して、その前駆体溶液を基板
上に塗布した後、600℃〜900℃の温度で熱処理を
行うことにより、プロブスカイト型構造を有する(La
1−x−yCaSr)MnO 3+δ(0≦x≦0.
4、0≦y≦0.4)の酸化物薄膜を製造する方法が開
示されている。また、特開平9−59022号公報に
は、金属A(A:La,Pr,Ca,Sr)のアルコキ
シドとMnのアルコキシドもしくはアセチルアセトン塩
との有機溶媒溶液、または、その溶液に所定の割合の水
を添加して部分加水分解した溶液を基板に塗布した後、
乾燥させ、800℃程度の温度で焼成することにより、
一般式AMnOで示されるMn系ペロブスカイト型酸
化物の薄膜を製造する方法が開示されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
7−196367号公報、特開平7−215764号公
報等に開示された固相法では、セラミックス粉末を成形
した後に1,300℃〜1,600℃といった高温での
加熱処理が必要である。また、特開平8−133895
号、特開平9−263495号公報等に開示されたフロ
ーティングゾーン法でも、固相法で焼結体を作成した後
に、焼結体を単結晶化する必要がある。特開平8−22
2127号公報に開示された方法でも、未焼結体を焼結
させるのに、800℃程度の温度での加熱処理が必要で
ある。
【0006】特開平7−193298号公報等に開示さ
れているように、スパッタ法やアブレージョン法により
基板上に複合酸化物の薄膜を形成する方法では、焼結体
であるターゲットが必要であり、そのターゲットを得る
過程において、上記と同様の問題点がある。また、これ
らの方法では、真空プロセスで処理が行われるため、大
掛かりな装置が必要になる、といった問題点もある。
【0007】また、特開平8−293426号公報、特
開平9−59022号等に開示されたアルコキシド法で
も、前駆体溶液を基板上に塗布して成膜した後に、60
0℃〜900℃の温度で熱処理を行う必要がある。
【0008】上記したように、従来のいずれの方法で
も、高温での加熱処理が必要であり、このため、従来の
方法によっては、プラスチックスなどのような耐熱性の
低い基体上に、(La1−x)MnO3−δ(M:
Ca,Sr,Ba、0.09≦x≦0.50)の組成式
で表されるペロブスカイト型構造を有する複合酸化物の
薄膜を形成することができなかった。
【0009】この発明は、以上のような事情に鑑みてな
されたものであり、高温での加熱処理を行わなくても複
合酸化物の薄膜を得ることができる複合酸化物膜の製造
方法を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明は、
La、MnおよびCa、SrもしくはBaの各酸化物の
原料成分を含む前駆体塗布液を被塗布物の表面に塗布し
て成膜した後、被塗布物表面に形成された薄膜を結晶化
させて、組成式(La1−x)MnO3− δ(M:
Ca,Sr,Ba、0.09≦x≦0.50)で表され
るペロブスカイト型構造を有する複合酸化物の薄膜を形
成する複合酸化物膜の製造方法において、前記前駆体塗
布液を被塗布物の表面に塗布して成膜した後、被塗布物
表面に形成された薄膜に対し波長が360nm以下であ
る光を照射して薄膜を結晶化させることを特徴とする。
【0011】請求項2に係る発明は、請求項1記載の製
造方法において、被塗布物の表面に形成された薄膜に対
して光を照射する光源として、ArFエキシマレーザ、
KrFエキシマレーザ、XeClエキシマレーザ、Xe
Fエキシマレーザ、YAGレーザの3倍波光またはYA
Gレーザの4倍波光を用いることを特徴とする。
【0012】請求項3に係る発明は、請求項1または請
求項2記載の製造方法において、Laのアルカノールア
ミン配位化合物と、Mnのカルボン酸塩と、Mの金属ま
たはアルコキシドとを、炭素数が1〜4である一級アル
コール中で混合させ反応させて、被塗布物の表面に塗布
される前駆体塗布液を調製することを特徴とする。
【0013】請求項1に係る発明の製造方法によると、
La、MnおよびCa、SrもしくはBaの各酸化物の
原料成分を含む前駆体塗布液を被塗布物の表面に塗布し
て成膜した後、被塗布物上の薄膜に対し波長が360n
m以下である光を照射することにより、光を薄膜が吸収
してそのエネルギーで複合酸化物が結晶化される。した
がって、複合酸化物の結晶化のために高温での加熱処理
を行う必要が無いので、プラスチックスのような耐熱性
の低い基体上に、組成式(La1−x)MnO
3−δ(M:Ca,Sr,Ba、0.09≦x≦0.5
0)で表されるペロブスカイト型構造を有する複合酸化
物の薄膜を形成することも可能になる。
【0014】請求項3に係る発明の製造方法によると、
La、MnおよびCa、SrもしくはBaの各酸化物の
原料成分の濃度が高く安定性に優れ純度の高い前駆体塗
布液が調製され、その前駆体塗布液を使用して複合酸化
物の薄膜が形成される。
【0015】ここで、上述した特開平9−59022号
等に開示されたアルコキシド法では、出発原料としてア
ルコキシドを用いているが、MnやLaのアルコキシド
は、溶解度が非常に低く、このため、高濃度でかつ安定
性に優れた前駆体塗布液を得ることは非常に難しい。ま
た、MnやLaのアルコキシドは、アルカリ金属アルコ
キシドとMnやLaの金属塩とのアルコキシ交換反応に
より合成されているので、アルカリ金属の混入を抑える
ことが非常に難しい。このため、高純度のMnやLaの
アルコキシドを合成することは非常に難しく、通常は数
%程度の割合でNa等のアルカリ金属が出発原料中に共
存することになる。この結果、目的とする組成の高純度
の複合酸化物膜を得ることができない、といった問題点
がある。
【0016】これに対し、請求項3に係る発明の製造方
法では、上記したように、各元素の酸化物の原料成分の
濃度が高く安定性に優れ純度の高い前駆体塗布液を使用
して複合酸化物の薄膜が形成されるので、高純度で優れ
た膜質の複合酸化物の薄膜が得られる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
について説明する。
【0018】この発明において目的とする複合酸化物の
薄膜は、Laの酸化物とCa、SrまたはBaの酸化物
とMnの酸化物との複合酸化物の薄膜、すなわち、組成
式(La1−x)MnO3−δ(M:Ca,Sr,
Ba、0.09≦x≦0.50)で表されるペロブスカ
イト型構造を有する複合酸化物の薄膜である。目的の複
合酸化物の薄膜は、La、MnおよびCa、Srもしく
はBaの各酸化物の原料成分を含む前駆体塗布液を調製
し、その前駆体塗布液を基板の表面に塗布して成膜した
後、基板表面に形成された薄膜に対し波長が360nm
以下である光を照射して薄膜を結晶化させることにより
形成される。
【0019】Laの酸化物の原料としては、Laのアル
カノールアミン配位化合物が使用され、Laのアルカノ
ールアミン配位化合物は、La塩とアルカノールアミン
との反応により得られる。La塩としては、塩化物、硝
酸塩等の無機塩や酢酸塩、蟻酸塩等のカルボン酸塩など
が使用される。アルカノールアミンとしては、モノエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミンなどが使用される。Laのアルカノールアミン配位
化合物を得るためのLa塩とアルカノールアミンとの比
率は、1:0.5〜1:3であることが好ましい。
【0020】Mnの酸化物の原料としては、Mnのカル
ボン酸塩、例えば蟻酸マンガン、酢酸マンガン、プロピ
オン酸マンガンなどが使用され、特に好ましくは酢酸マ
ンガンが用いられる。また、カルボン酸塩の水和物とし
て用いることも可能である。
【0021】Ca、SrまたはBaの酸化物の原料とし
ては、金属またはアルコキシドが使用される。すなわ
ち、アルコールを溶剤として用いる場合は、Ca、Sr
またはBaを金属として添加し、反応によりアルコキシ
ドとすることが可能であり、出発原料としてアルコキシ
ドを用いるようにしてもよい。残留有機物を低減するた
めには、使用するアルコールあるいはアルコキシドは、
炭素数が1〜4であることが好ましい。
【0022】溶剤としては、上記した各原料成分が混合
された後に可溶になるものであれば、特に種類は限定さ
れないが、一級アルコールを用いることが好ましく、特
に、メタノール、エタノールまたはプロパノールを用い
ることが好ましい。
【0023】上記した各原料成分の組合せおよび溶剤と
の組合せが、原料成分の溶解度、安定性および純度を満
足させるような複合酸化物膜形成用塗布液を得るために
重要である。なお、Laの酸化物の原料としてLaのア
ルカノールアミン配位化合物を用いる代わりに、La塩
を含む反応溶液中にアルカノールアミンを添加して、塗
布液を調製するようにしてもよい。その際のアルカノー
ルアミンの添加量は、アルカノールアミン配位化合物を
合成するためのLa塩とアルカノールアミンとの上記比
率と同様となるようにする。
【0024】塗布液は、上記した各原料成分を有機溶剤
中に添加し、混合溶液を室温であるいは加熱しながら撹
拌することにより得られる。そして、上記したような出
発原料の組合せであれば、反応により均質な塗布液が得
られる。
【0025】得られた塗布液は、通常の方法により基板
の表面に塗布して基板上に成膜することができる。この
場合、塗布液は安定性に優れているため、スピンコー
ト、ディップコート、スプレーコート、フローコート、
バーコートなどの各種のコーティング方法により成膜が
可能である。
【0026】基板上に薄膜が形成されると、その薄膜に
対して波長が360nm以下である光を照射する。光源
としては、波長が360nm以下である光を照射可能で
あれば、その種類を問わないが、例えば、ArFエキシ
マレーザ、KrFエキシマレーザ、XeClエキシマレ
ーザ、XeFエキシマレーザ、YAGレーザの3倍波光
またはYAGレーザの4倍波光などが使用される。ま
た、これらの光源のうち2つもしくはそれ以上のものを
組み合わせて使用することも可能である。この薄膜に対
する光照射の際に、目的に応じて、基板を加熱したり、
基板を減圧下に置いたり、雰囲気(酸化雰囲気または非
酸化雰囲気)を制御したりすることも可能である。ま
た、薄膜に対する光の照射を2段階で行うようにしても
よい。例えば、低圧水銀ランプ等を使用して、薄膜に対
し光の照射を行った後、KrFエキシマレーザ光等を薄
膜に対してさらに照射するようにしてもよい。薄膜に対
して光が照射されることにより、薄膜が結晶化され、基
板の表面に目的の複合酸化物の薄膜、すなわち組成式
(La1−x)MnO3−δ(M:Ca,Sr,B
a、0.09≦x≦0.50)で表されるペロブスカイ
ト型構造を有する複合酸化物の薄膜となる。
【0027】
【実施例】次に、この発明のより具体的に実施例につい
て、比較例を示しながら説明する。
【0028】(塗布液の調製) 〔実施例1〕メタノール中に酢酸ランタンとLaの3モ
ル倍のモノエタノールアミンとを添加した後、溶液を1
0時間還流させ、Laのエタノールアミン配位化合物を
合成した。得られた溶液に、(La0.73Sr
0.27)MnOの組成となるようにジイソプロポキ
シストロンチウムを添加し、さらに酢酸マンガン4水和
物を添加して、溶液を室温で撹拌した。これにより、均
質な褐色の塗布液(塗布液1)が得られた。塗布液の濃
度は、最終的な酸化物濃度で4重量%となるように調整
した。
【0029】〔実施例2〕ジエトキシストロンチウムの
エタノール溶液中に、(La0.73Sr0.2 )M
nOの組成となるようにトリイソプロポキシランタン
とジエトキシマンガンとを添加した後、エタノールと等
量のエトキシエタノールを加えて、溶液を加熱しながら
撹拌した。これにより、酸化物濃度で1重量%の塗布液
(塗布液2)が得られた。
【0030】(塗布膜の作成および結晶化処理) 〔実施例3〜9〕上記した実施例1、2で得られた塗布
液1、2を使用し、スピンコーターを使用して、単結晶
SrTiO基板上に塗布液を塗布し2,000rpm
の回転数で30秒間処理して成膜した。基板上に形成さ
れた塗布膜を120℃の温度で30分間乾燥させた後、
塗布膜に対して紫外光を照射した。
【0031】得られた薄膜について、回折法により結晶
相の同定を行い、また段差計により膜厚を測定した。光
の照射条件と得られた薄膜の評価結果とを表1にまとめ
て示す。
【0032】
【表1】
【0033】また、実施例4により得られた(La
0.73Sr0.27)MnOの組成を有する薄膜の
X線回折パターンを図1に示す。図1から分かるよう
に、薄膜には明確なペロブスカイト型構造の生成が認め
られた。
【0034】〔比較例〕上記実施例3で作成された塗布
膜を400℃の温度で30分間仮焼した。この操作を2
回繰り返した後、大気中で800℃の温度で2時間焼成
した。これにより、(La0.73Sr0.27)Mn
の単相膜が得られた。
【0035】〔実施例10〕上記実施例3で作成された
塗布膜に対して低圧水銀ランプ(波長:254nm)の
光を1時間照射した後、KrFエキシマレーザ光を薄膜
に対してさらに照射した。
【0036】〔実施例11〕メタノール中に酢酸ランタ
ンとLaの3モル倍のモノエタノールアミンとを添加し
た後、溶液を10時間還流させ、Laのエタノールアミ
ン配位化合物を合成した。得られた溶液に、(La
0.55Sr0.45)MnOの組成となるようにジ
イソプロポキシストロンチウムを添加し、さらに酢酸マ
ンガン4水和物を添加して、溶液を室温で撹拌した。こ
れにより、均質な褐色の塗布液が得られた。塗布液の濃
度は、最終的な酸化物濃度で4重量%となるように調整
した。
【0037】スピンコーターを使用して、単結晶SrT
iO基板上に塗布液を塗布し2,000rpmの回転
数で30秒間処理して成膜した。基板上に形成された塗
布膜を120℃の温度で30分間乾燥させた後、塗布膜
に対して低圧水銀ランプ(波長:254nm)の光を1
時間照射した後、KrFエキシマレーザ光を塗布膜に対
してさらに照射した。得られた薄膜は、X線回折法によ
る結晶相の同定の結果、ペロブスカイト単相膜であるこ
とが確認された。
【0038】〔実施例12〕メタノール中に酢酸ランタ
ンとLaの3モル倍のモノエタノールアミンとを添加し
た後、溶液を10時間還流させ、Laのエタノールアミ
ン配位化合物を合成した。得られた溶液に、(La
0.90Sr0.10)MnOの組成となるようにジ
イソプロポキシストロンチウムを添加し、さらに酢酸マ
ンガン4水和物を添加して、溶液を室温で撹拌した。こ
れにより、均質な褐色の塗布液が得られた。塗布液の濃
度は、最終的な酸化物濃度で4重量%となるように調整
した。
【0039】スピンコーターを使用して、単結晶SrT
iO基板上に塗布液を塗布し2,000rpmの回転
数で30秒間処理して成膜した。基板上に形成された塗
布膜を120℃の温度で30分間乾燥させた後、塗布膜
に対して低圧水銀ランプ(波長:254nm)の光を1
時間照射した後、KrFエキシマレーザ光を塗布膜に対
してさらに照射した。得られた薄膜は、X線回折法によ
る結晶相の同定の結果、ペロブスカイト単相膜であるこ
とが確認された。
【0040】また、上記実施例4、11、12で示した
各組成におけるMをSrからCaまたはBaに置換した
組成の複合酸化物の薄膜についても、上記した実施例と
同様にペロブスカイト相の結晶化が認められた。
【0041】以上の結果から分かるように、この発明の
実施例によれば、目的とする(La 1−x)MnO
3−δ(M:Ca,Sr,Ba、0.09≦x≦0.5
0)の組成の複合酸化物の薄膜を、加熱処理を行わなく
ても製造することが可能となる。
【0042】
【発明の効果】請求項1に係る発明の製造方法による
と、組成式(La1−x)MnO −δ(M:C
a,Sr,Ba、0.09≦x≦0.50)で表される
ペロブスカイト型構造を有する複合酸化物の薄膜を、高
温での加熱処理を行わなくても得ることができる。した
がって、プラスチックス等の耐熱性に劣る基板上にも、
上記組成の複合酸化物の薄膜を形成することが可能とな
る。
【0043】請求項2に係る発明の製造方法では、高温
での加熱処理を行わなくても、光のエネルギーによって
複合酸化物の薄膜を結晶化することができる。
【0044】請求項3に係る発明の製造方法によると、
上記組成を有する高純度で優れた膜質の複合酸化物の薄
膜を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例4で得られた薄膜のX線回折
パターンを示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4D075 BB48Z DB31 DC21 EB01 EC01 EC10 4G042 DA02 DB15 DC03 DD02 DE07 DE09 DE14 4G048 AA05 AB01 AC04 AD02 AE05 AE08 4G075 AA24 AA30 BB02 CA02 CA32 CA33 CA36 CA51 4K022 AA13 BA11 BA15 BA27 BA28 BA33 DA08 DB01 DB04 DB07 DB08

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 La、MnおよびCa、SrもしくはB
    aの各酸化物の原料成分を含む前駆体塗布液を被塗布物
    の表面に塗布して成膜した後、被塗布物表面に形成され
    た薄膜を結晶化させて、組成式(La1−x)Mn
    3−δ(M:Ca,Sr,Ba、0.09≦x≦0.
    50)で表されるペロブスカイト型構造を有する複合酸
    化物の薄膜を形成する複合酸化物膜の製造方法におい
    て、 前記前駆体塗布液を被塗布物の表面に塗布して成膜した
    後、被塗布物表面に形成された薄膜に対し波長が360
    nm以下である光を照射して薄膜を結晶化させることを
    特徴とする複合酸化物膜の製造方法。
  2. 【請求項2】 被塗布物の表面に形成された薄膜に対し
    て光を照射する光源が、ArFエキシマレーザ、KrF
    エキシマレーザ、XeClエキシマレーザ、XeFエキ
    シマレーザ、YAGレーザの3倍波光またはYAGレー
    ザの4倍波光である請求項1記載の複合酸化物膜の製造
    方法。
  3. 【請求項3】 被塗布物の表面に塗布される前駆体塗布
    液が、 Laのアルカノールアミン配位化合物と、Mnのカルボ
    ン酸塩と、Mの金属またはアルコキシドとを、炭素数が
    1〜4である一級アルコール中で混合させ反応させて調
    製される請求項1または請求項2記載の複合酸化物膜の
    製造方法。
JP11063295A 1999-03-10 1999-03-10 複合酸化物膜の製造方法 Pending JP2000256862A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11063295A JP2000256862A (ja) 1999-03-10 1999-03-10 複合酸化物膜の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11063295A JP2000256862A (ja) 1999-03-10 1999-03-10 複合酸化物膜の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000256862A true JP2000256862A (ja) 2000-09-19

Family

ID=13225197

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11063295A Pending JP2000256862A (ja) 1999-03-10 1999-03-10 複合酸化物膜の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000256862A (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002310813A (ja) * 2001-04-10 2002-10-23 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 荷重センサ素子
JP2006096577A (ja) * 2004-09-28 2006-04-13 Tokyo Institute Of Technology 金属酸化物膜、金属酸化物膜の製造方法および成形品
JP2008037726A (ja) * 2006-08-10 2008-02-21 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 超電導酸化物材料の製造方法
CN100374615C (zh) * 2006-01-18 2008-03-12 北京工业大学 镧钙锰氧薄膜的制备方法
JP2008156188A (ja) * 2006-12-26 2008-07-10 National Institute Of Advanced Industrial & Technology Aサイト層状秩序化型ペロブスカイトMn酸化物薄膜の製造方法
JP2009132932A (ja) * 2008-12-24 2009-06-18 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 結晶化金属酸化物薄膜を備えた蛍光体
KR100910145B1 (ko) * 2006-08-11 2009-07-30 도꾸리쯔교세이호진 상교기쥬쯔 소고겡뀨죠 결정화 금속 산화물 박막의 제조 방법 및 그 용도
DE112008000019T5 (de) 2007-02-08 2010-03-11 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Verfahren zum Herstellen von supraleitfähigen Oxidmaterial
CN101775271B (zh) * 2009-12-29 2012-06-06 同济大学 一种常温温致发射率大幅度可逆变化材料
US9187842B2 (en) 2010-04-13 2015-11-17 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Oriented perovskite oxide thin film

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002310813A (ja) * 2001-04-10 2002-10-23 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 荷重センサ素子
JP2006096577A (ja) * 2004-09-28 2006-04-13 Tokyo Institute Of Technology 金属酸化物膜、金属酸化物膜の製造方法および成形品
CN100374615C (zh) * 2006-01-18 2008-03-12 北京工业大学 镧钙锰氧薄膜的制备方法
DE112007000115B4 (de) 2006-08-10 2011-01-05 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Verfahren zum Herstellen von supraleitendem Oxidmaterial
JP2008037726A (ja) * 2006-08-10 2008-02-21 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 超電導酸化物材料の製造方法
US9096440B2 (en) 2006-08-10 2015-08-04 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Method of producing superconductive oxide material
KR100910145B1 (ko) * 2006-08-11 2009-07-30 도꾸리쯔교세이호진 상교기쥬쯔 소고겡뀨죠 결정화 금속 산화물 박막의 제조 방법 및 그 용도
US7771531B2 (en) 2006-08-11 2010-08-10 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Manufacturing method and usage of crystallized metal oxide thin film
JP2008156188A (ja) * 2006-12-26 2008-07-10 National Institute Of Advanced Industrial & Technology Aサイト層状秩序化型ペロブスカイトMn酸化物薄膜の製造方法
DE112008000019T5 (de) 2007-02-08 2010-03-11 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Verfahren zum Herstellen von supraleitfähigen Oxidmaterial
US8716189B2 (en) 2007-02-08 2014-05-06 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Method of producing superconductive oxide material
JP2009132932A (ja) * 2008-12-24 2009-06-18 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 結晶化金属酸化物薄膜を備えた蛍光体
CN101775271B (zh) * 2009-12-29 2012-06-06 同济大学 一种常温温致发射率大幅度可逆变化材料
US9187842B2 (en) 2010-04-13 2015-11-17 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Oriented perovskite oxide thin film

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1217927A (en) Inorganic composite material and process for preparing the same
JP4240423B2 (ja) 金属酸化物薄膜形成用ターゲット材およびその製造方法、並びに該ターゲット材を使用した金属酸化物薄膜の形成法
JP2000256862A (ja) 複合酸化物膜の製造方法
JPS5973431A (ja) スピネル微粉末の製造法
JPS59213602A (ja) 複合材料用複合金属溶液
Kim et al. The synthesis of lead-free ferroelectric Bi1/2Na1/2TiO3 thin film by solution-sol–gel method
JPH03115106A (ja) 複合酸化物の製造法
JP2000159786A (ja) 有機チタンペロキシ化合物、その製造方法、及びチタン含有複合酸化物の作製法
US6086957A (en) Method of producing solution-derived metal oxide thin films
EP2484633B1 (en) Metal-salt-containing composition, substrate, and method for producing substrate
JP2000016812A (ja) 金属酸化物膜の製造方法
JP2012136487A (ja) セラミックス膜形成用組成物の製造方法、圧電セラミックス膜及び2−エチルヘキサン酸ビスマスの製造方法
JP2001233604A (ja) 酸化物薄膜形成用塗布液およびその製造方法ならびに酸化物薄膜の製造方法
US5858451A (en) Process for production of solution-derived (Pb,La)(Nb,Sn,Zr,Ti)O3 thin films and powders
JP2810047B2 (ja) 超伝導体製造用安定溶液及び超導薄膜の製造方法
JP3343377B2 (ja) 酸化物薄膜の作製方法
JPS6153113A (ja) 湿式法による易焼結性ペロブスカイト及びその固溶体の原料粉末の製造方法
JPH0346401B2 (ja)
JP7344503B2 (ja) ペロブスカイト型酸化物粒子生成用の未焼成酸化物粒子、未焼成酸化物粒子及びペロブスカイト型酸化物粒子の製造方法
JP2000256016A (ja) 複合酸化物膜形成用塗布液およびその製造方法ならびに複合酸化物膜の製造方法
JPH11106934A (ja) 金属酸化物薄膜の製造方法及び金属酸化物薄膜
JP3314134B2 (ja) 複合酸化物薄膜の製造方法
JP2000327415A (ja) 強誘電体薄膜形成用組成物
JP3203905B2 (ja) チタン酸ビスマスの製造方法
KR0161814B1 (ko) 비표면적이 큰 단일상 r(감마)-LiAlO2분말의 제조방법