JP2000263043A

JP2000263043A - 精製水製造保管システム

Info

Publication number: JP2000263043A
Application number: JP11075377A
Authority: JP
Inventors: Masayuki Nakajo; 正行中條; Satoru Yomase; 覚世間瀬
Original assignee: Daiichi Pharmaceutical Co Ltd; Nihon Millipore KK
Current assignee: Daiichi Pharmaceutical Co Ltd; Merck Ltd Japan
Priority date: 1999-03-19
Filing date: 1999-03-19
Publication date: 2000-09-26

Abstract

(57)【要約】【課題】精製水製造保管システムの菌汚染を回避する手
段を提供する。【解決手段】少なくとも気体吸着性水処理装置の下流に
濾過膜水処理装置を配列して原水より精製水を製造しフ
ィルター付属のベントを有する保管タンクに貯蔵する精
製水製造保管システムに、原水供給停止時、保管タンク
に設けた加熱手段で殺菌用の加熱精製水を得、発生気泡
をベントから排出し、該加熱精製水が保管タンクから上
記システム入口に帰還しさらにこの気体吸着性水処理装
置に具備したバイパスラインを流れる殺菌用循環ルート
内の気体や被処理水と接触、発生する気泡を濾過膜水処
理装置直前のフラッシング弁から排出し、気泡による濾
過膜水処理装置の閉塞回避手段を付与する共に、気泡が
濾過膜水処理装置に到達しない流路を別途構成して適宜
加熱水で殺菌するか、この気体吸着性水処理装置やその
充填剤を時宜に応じて交換更新する手段を付与する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本願発明は、医療現場で使用
される菌に汚染されていない無菌の水、パイロジェンフ
リー水、溶存イオンフリー水、総有機炭素含量の極めて
少ない水（以下、ＴＯＣフリー水と記載する。）あるい
は超純水などと呼称される各種の精製水を提供するシス
テムに関し、活性炭充填塔、イオン交換樹脂充填塔、精
密濾過膜水処理装置、限外濾過膜水処理装置、紫外線照
射装置などを組み合わせる精製水製造とその保管、細菌
による汚染回避手段の提供、あるいは加熱精製水の循環
保管を可能にした好適な精製水製造保管システムに関す
る。

【０００２】

【従来の技術】一般に言われる精製水にはその精製の度
合いに応じた種々の品質の水の存在が知られている。中
でも注射用水を初めとした医薬、動物薬、遺伝子工学関
係の試験研究に用いられる精製水は、発熱の原因となる
無機イオン、細菌（以下には微生物、生菌とも記載す
る）及びパイロジェンが除去されている必要があり、極
めて高純度に精製され超純水とも呼ばれている。

【０００３】従来、これら精製水の製造には蒸溜法が用
いられてきたが、蒸溜法は原水加熱のために多大なエネ
ルギー消費を伴う難点があり、近年省エネルギーの観点
から、高分子膜を用いた超濾過法が採用されている。こ
の超濾過法による超純水の製造システムとして、例え
ば、本出願人の出願になる特開平７−６０２９１号公報
記載の技術が知られている。上記公報記載の製造システ
ムの一例を図２に示した。市水を原水とするときには、
プレフィルター装置３２、活性炭フィルター装置３３で
処理し、逆浸透膜装置３４に導入し、イオン交換水を原
水とするとき活性炭フィルター装置３３で処理し、逆浸
透膜装置３４に導入する。次いで、Ｑ−Ｐａｋカートリ
ッジ３５、紫外線照射装置３６、イオン交換樹脂混床塔
または活性炭・イオン交換樹脂混床塔のいずれかからな
る処理装置であるポリッシャー（商品名）３７、限外濾
過膜装置３８、最終フィルター装置３９からなる水処理
装置の配列により構成されるプロセスライン４０で処理
することにより、注射用水として用いられる超純水を得
るものである。なお、上記Ｑ−Ｐａｋカートリッジ３５
は、活性炭処理塔３５ａ、イオン交換樹脂塔３５ｂおよ
び３５ｃ、活性炭・イオン交換樹脂混床塔３５ｄが直列
に接続されている。

【０００４】図２に示した製造システムで得られた超純
水は、途中比抵抗計（水質センサーＱ）で品質管理され
ると共に、随時、採水弁Ｓ₃₁乃至Ｓ₃₄で採水され品質を
確認されながらプロセスライン４０の下流に接続された
加熱保管タンク４１に導かれ、加熱保管タンク４１に備
えられたヒーター４２により所定の温度に加熱され、殺
菌状態のもとに保管される。

【０００５】この際、加熱保管タンク４１の圧力調整の
ために設置されるベントフィルター４７や加熱精製水供
給口４５ａ（注射用水として取り出す取出導管口）と４
５ｂ（注射用水以外の用途のために取り出す取出導管
口）あるいは採水口Ｓ₃₅とＳ₃₆から細菌を初めとした各
種塵埃が混入し再汚染をもたらす虞に対しては、加熱精
製水を濾過するため限外濾過膜装置４６を備えると共に
供給口４５ａと４５ｂと採水口Ｓ₃₅とＳ₃₆およびその周
辺をも殺菌するため、この加熱保管タンク４１の出口と
限外濾過膜装置４６の間に配置された循環手段であるポ
ンプ４４を駆動し限外濾過膜装置４６の出口流れを加熱
保管タンク４１に帰還する密閉系の超純水循環ルート
（４１→４４→４６→４３→４１）を構成し、汚染回避
の対応がなされている。

【０００６】図２に示したこの公報記載の製造システム
によれば総有機炭素量（以下、ＴＯＣとも記載する。）
が２０ｐｐｂ以下に低減された高度精製の超純水を得る
ことができしかもこの超純水はパイロジエンを含まない
ので注射用水としても好適に用いることができる。

【０００７】ところが、図２に示した製造システムで
は、逆浸透膜装置３４から最終フィルター装置３９に至
るプロセスライン４０の各所に大なり小なりデッドスペ
ースがあり、かかるデッドスペースで細菌が増殖し汚染
源となり、さらに細菌が産生する各種有機物も生じ、濾
別したり紫外線照射で酸化しても生成したカルボン酸や
二酸化炭素の生成がアニオン交換樹脂を消費するなど各
水処理装置の負荷が増大し、長期間超純水の品質を高度
に維持することが難しくなる。従って、この超純水の品
質を高度に維持するためには、製造システムに備え付け
のセンサーの指示や各所の採水口の水試料分析結果に基
づき、各装置の殺菌及び洗浄を行う必要が生じる。

【０００８】例えば、図２に示した毎時６０リッター前
後の精製水製造システムにおいて１日8 時間の製造シス
テム運転を繰り返した際には、５カ月毎にプロセスライ
ン４０全体を殺菌及び洗浄する保守作業が必要で作業員
２名により２日間を要し、当然ながらこの間精製水製造
システムを使用することができなかった。

【０００９】このような背景から、より効果的に精製水
の製造システムを保守する方法即ち、殺菌や洗浄作業の
回数の低減が強く望まれていた。

【００１０】一方、特開平８−２５２６００号公報に
は、高分子膜を用いて純水を製造する装置における上記
細菌の増殖を防止するために、純水製造部、サブシステ
ム部及び循環ルートで構成された循環ループを流れる水
の加熱手段を設け、殺菌を行う技術が提案されている。

【００１１】そこで、特開平８−２５２６００号公報の
記載に従って、上述の図２のプロセスライン４０に加熱
精製水を循環させて殺菌を行うことを試みた。但し、上
記図２に示した製造システムにおいて、濃縮水としての
排水量の多い逆浸透膜装置３４を循環ルートへ適用する
ことは困難なので逆浸透膜装置３４を限外濾過膜装置に
置き換えた。図２に示した製造システムでは、加熱保管
タンク４１に保管されている超純水がヒーター４２によ
り所定の温度に加熱されており、この超純水を加熱精製
水として使用できるので、好都合であった。

【００１２】しかしながら、４５ｂの下流と上記置換設
置した限外濾過膜装置（設置位置は３４に同じ）の入り
口を接続して図２に示したプロセスライン４０とで構成
される循環ルートに、定圧下加熱精製水を供給し循環さ
せようとしても流れにくく又流量が次第に低下して、円
滑な殺菌操作がなし得ないという不都合が生じた。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】本願発明は配管はもと
より各装置を含めた精製水製造保管システムの全ライ
ン、換言するならプロセスラインのすべての細菌による
汚染を回避し得る手段として上記の不都合を解消した殺
菌手段やこれに附随する手段を組み合わせた迅速簡便な
手段を備えた精製水の製造保管システムの提供を目的と
した。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本願発明者らは、先述し
た循環ルートに殺菌可能な加熱精製水、対象の細菌によ
り種々異なるが例えば８０℃の加熱精製水を循環させよ
うとした際に、流れにくく、又次第に流量低下を来す理
由について種々検討した。この結果、加熱精製水を循環
するとシステム内に気泡が発生し下流の限外濾過膜３
４、３８や精密濾過膜３９の微細な孔を閉塞することに
よると判明した。

【００１５】通常、紫外線照射装置が水中に含有された
有機物を酸化分解するための酸素はわざわざ供給しなく
とも溶存している酸素で賄えることからも判るように外
界と平衡な温度（以下には常温と記載する。）の精製水
製造工程中の水には各種のガスが溶解しており、加熱精
製水と接触することにより気泡が発生することは当然で
はあった。特に、加熱精製水循環ルート中に原水タンク
や中間タンクなどを設置した場合、加熱精製水の流入に
よりそれらタンク内から多量の気泡が発生し下流に運ば
れるのでこれらタンクの設置は避けるべきであった。例
え、これらタンク内の水を排出し加熱精製水で置換して
から、即ち気泡の発生を回避してから加熱精製水を循環
するとしてもこれらタンクを含む精製水製造保管システ
ム全体の昇温には時間を要し、殺菌洗浄に必須の温度に
至るまで長時間を要する欠点がありやはりこれらタンク
の設置は避けるべきであることをも見出した。

【００１６】そこで、中間タンクや原水タンクなどの設
置を避け精製水製造保管システムを可能な限りコンパク
トにし加熱精製水を供給し、この製造保管システム内に
存在する常温の水を適宜設けたフラッシング用弁を介し
て、特に濾過膜を備えた装置の濾過膜直前に設置した被
処理水（以下、本明細書中においてはこれから処理され
る水として定義し、既に処理された水を処理水として定
義する。）のフラッシング用弁を介して製造保管システ
ムのプロセスライン中の気体溶存水を慎重に系外に排
出、置換し、次いで循環ルートに加熱精製水を巡らし上
記発生気泡による限外濾過膜や精密濾過膜の閉塞を回避
しようとした。

【００１７】しかしながら、製造保管システムの温度が
上昇するに連れやはり気泡が発生し濾過膜の閉塞が避け
られなかった。既述の通り逆浸透膜装置３４を限外濾過
膜装置に置き換えた図２において、プロセスライン４０
に加熱精製水が流れ温度が上昇すると、これに伴いパッ
ケージ型カートリッジ３５及びポリッシャー３７から気
泡が発生しこの気泡が主に、下流の限外濾過膜装置３８
に装着されている限外濾過膜を閉塞することが判明し
た。

【００１８】即ち、活性炭に吸着されていた気体或はイ
オン交換樹脂に吸着又は類似の機構に因り取り込まれて
いた気体が昇温と共に気泡となって継続的に発生し続
け、下流の濾過膜装置である限外濾過膜や精密濾過膜の
微細な孔を閉塞すると考えるに至った。

【００１９】もちろんながら常法に従って、対象とすべ
き各装置毎に単独に加熱精製水を供給して殺菌洗浄する
ことも考えられたが、やはり手間がかかりすぎるのでで
きる限り対象装置、配管および計器類をまとめて素早く
一挙に殺菌するため循環ルートの設置は欠かせないもの
と考え検討を続けた。

【００２０】その結果、少なくとも濾過膜水処理装置の
上流に気体吸着性水処理装置を配置した精製水製造部
に、フィルター付属のベントを備えた精製水の保管タン
クを配置した精製水保管部を直列に接続し、該精製水製
造部から該精製水保管部に至るプロセスラインを備える
精製水製造保管システムにおいて、すべての濾過膜水処
理装置に被処理水フラッシング用弁を備え該気体吸着性
水処理装置にバイパスラインを備え該精製水の保管タン
クに加熱手段を備え該精製水の保管タンクの出口に精製
水供給ポンプを備え、該精製水供給ポンプの第１の吐出
先が該精製水製造部の入口へ帰還するライン（以下、第
１の帰還ラインとも記載する。）と該バイパスラインで
迂回する部分を除く該プロセスラインと該バイパスライ
ンとで構成された第１の循環ルートを備えると共に、該
精製水供給ポンプの第２の吐出先が該気体吸着性水処理
装置に接続されるラインを備え、該ラインを介して該気
体吸着性水処理装置に供給された加熱された精製水を排
出する被処理水排水用弁を備えるか、または該気体吸着
性水処理装置自体もしくはその中に収容されている充填
剤が着脱自在とされていることを特徴とする精製水製造
保管システムを想到するに至った。

【００２１】即ち、本願発明は少なくとも濾過膜水処理
装置の上流に気体吸着性水処理装置を配置した精製水製
造部とフィルター付属のベントを備えた精製水の保管タ
ンクを配置した精製水保管部とからなる精製水製造保管
システムに、殺菌や着脱自在とした装置の交換などによ
り菌による汚染を回避する手段を提供するものである。
ここに、濾過膜水処理装置とは限外濾過膜装置や精密濾
過膜装置を指し、微細な孔により水中の挟雑物を濾別す
る機能を有するが、微細な孔のため孔中の気泡により水
の通過阻害がもたらされ易い濾過膜を適用した装置を意
味し、濾過膜水処理装置には濾過すべき水即ち被処理水
を排出するためのフラッシング用弁を備えることが必要
で、濾過膜水処理装置自身に気体の溜りが無い様に且つ
濾過膜水処理装置内の濾過膜の直前にフラッシング用弁
が組み込まれるのが好ましい。なお、この様な気泡は加
熱精製水が常温の被処理水と接触して発生する他に、循
環ルート中の気体を巻き込んでももたらされる。また、
気体吸着性水処理装置とは粒状活性炭、繊維状活性炭を
初めとした各種の吸着剤を充填した装置やイオン交換樹
脂を充填した装置あるいはこれらを混合充填した装置で
水中の気体成分をも吸着ないしは取り込み、加熱により
可逆的に気体成分を放出する性状を有する水処理装置を
意味し、精製水製造部において濾過膜水処理装置の上流
に位置する限り、加熱に伴い気泡を発生するので第１の
循環ルートと縁切りのためのバイパスラインの付設が必
須である。

【００２２】さらに、この精製水製造保管システムで製
造保管された精製水を精製水の保管タンクに備えた加熱
手段、例えば保管タンク内に設置した電熱器や保管タン
ク周囲のジャケットもしくは保管タンク内蛇管に蒸気や
熱媒体を供給する加熱手段で殺菌可能な温度に加熱し、
保管タンク出口に配備された精製水供給ポンプを駆動し
て精製水の保管タンクから精製水製造保管システムに加
熱精製水を巡らすために精製水供給ポンプの吐出先から
精製水製造部の入口へと帰還するラインを精製水製造保
管システムのプロセスラインに接続して第１の循環ルー
トを構成することが欠かせない。

【００２３】その際、上記第１の循環ルートを構成する
プロセスライン即ち、精製水製造保管システムの入口か
ら保管タンクまでのラインは濾過膜水処理装置の上流に
位置する気体吸着性水処理装置を含まない様に構成し直
す必要があり、前述したバイパスラインを含み、気体吸
着性水処理装置を迂回するラインに切り替え得る様に構
成されねばならない。これらラインの切り替えは常法に
従い二方弁もしくは三方弁を組み合わせてなされる。

【００２４】なお、加熱精製水が気体吸着性水処理装置
を迂回する際、気体吸着性水処理装置一個一個を迂回し
ても、気体吸着性水処理装置が連続して直列に配置され
ている際はまとめて迂回しても良い。

【００２５】かくして、加熱手段および加熱精製水の循
環に基づいて精製水及び被処理水から発生する気泡によ
る濾過膜水処理装置の濾過膜閉塞を回避し得る。即ち、
精製水の保管タンクにおいては保管タンクのベントから
気泡が排出される。元来、精製水製造保管システムにお
いては保管タンク中の精製水の増減に応じ保管タンク内
の気体の出入りがなされる様且つ外界からの菌や塵埃の
混入が回避するためにフィルター付属のベントの設置が
なされており先の気泡排出にも好都合である。

【００２６】また、加熱された精製水が精製途中の水と
接触する際の発生気泡あるいは上記帰還するライン中の
気体による気泡を巻き込む循環流は濾過膜水処理装置の
被処理水フラッシング用弁、即ち濾過膜水処理装置の上
流で直前に設置された弁から排出することにより循環ル
ート中での気泡による濾過膜閉塞を回避し得る。

【００２７】さらに、加熱精製水供給による昇温と共に
継続的に気体を発生する気体吸着性水処理装置が濾過膜
水処理装置の上流に存在する場合は加熱された精製水と
の接触自体を回避するように気体吸着性水処理装置にバ
イパスラインを設けて循環ルートから切り離すので気泡
による濾過膜水処理装置の濾過膜閉塞の問題は生じな
い。

【００２８】ここに、第１循環ルートにおいては加熱精
製水が循環し元の保管タンクに帰還するが、必ずしも元
に戻ることが必須ではなく、実質的に元に戻るようにラ
インが構成されれば加熱殺菌の対象とする全ラインをあ
ますことなく殺菌し得るということであり、必ずしも完
全に循環しなくとも、例えば実質的に殺菌を終え保管タ
ンク直前で系外に排出されてもよい。このような排出を
伴う殺菌操作は、同時に並行して保管タンク内の加熱精
製水の有効な使用を可能にする特長がある。

【００２９】また、気体吸着性水処理装置には別途加熱
水を導入するラインを構成して殺菌するなり未使用装置
やその部品、換言するなら菌汚染の進行していない装置
やその部品と入れ替える対応をなす構成となっている。
もちろんながら、精製水製造部においてこのような気体
吸着性水処理装置が濾過膜水処理装置の上流に存在する
位置関係が繰り返されればすべて同様な対応が欠かせな
い。

【００３０】前述したように、この気体吸着性水処理装
置は上記第１の循環ルートとは別に精製水供給手段の第
２の吐出先が接続され加熱殺菌され得るが、これとは別
に全く独立に設けられた加熱水による殺菌や薬液による
常法の殺菌手段や洗浄手段によって菌汚染を回避しても
よい。また、迂回対象となる気体吸着性水処理装置の殺
菌に当たっては常法に従い、一個一個加熱水により殺菌
しても良いがこれら迂回対象となる気体吸着性水処理装
置間を直列に結ぶ別途設置された配管を介して加熱水を
供給して一挙に殺菌してもよい。さらに、第１の循環ル
ートの殺菌終了後、精製水製造保管システムのプロセス
ラインの最上流に配列された気体吸着性水処理装置から
順次バイパスラインを閉じてその上流から加熱精製水を
供給してその気体吸着性水処理装置の出口からもしくは
次に位置する気体吸着性水処理装置の直前からこの精製
水製造保管システムの系外に排出することを繰り返し対
象とすべき気体吸着性水処理装置すべてを殺菌しても良
い。

【００３１】また、この気体吸着性水処理装置またはそ
の中に収容されている部品である充填剤を着脱自在とし
交換するとは別途殺菌して再装着をすることをも包含す
る。

【００３２】さらに、これら気体吸着性水処理装置は別
途殺菌あるいは装置交換を行うために、各種ガスケット
を備えた着脱自在の結合手段を備えることは好ましく、
特にサニタリー配管で製造保管システムを構成する際に
は不可欠である。

【００３３】なお、本願発明の精製水製造部に逆浸透膜
装置を採用する際には、濃縮水として排出される量が甚
大でも原水供給量が十分な場合は精製水製造に関しては
問題が少ない。しかし、殺菌のために第１の循環ルート
を介して加熱精製水を循環するためには濃縮水として排
出される量を確保するだけ保管タンクを大きくすること
が欠かせないが、効率的ではない。従って、精製水製造
部に逆浸透膜装置を採用する際には、濃縮水として排出
される量は回収配管を経て循環ルートに戻すように配管
されることが不可欠ではある。

【００３４】本願発明は、前述のように少なくとも濾過
膜水処理装置の上流に気体吸着性水処理装置を配置した
精製水製造部を備えるものであるが、該精製水製造部に
おいてもはや下流に濾過膜水処理装置が無い場合の気体
吸着性水処理装置の存在について詳述するなら、加熱精
製水が循環しているといずれ気体が上流の濾過膜水処理
装置の濾過膜を閉塞するとも考えられるが、循環ルート
中に上記のフィルター付属のベントを備えた保管タンク
が存在するので気泡は排出され、気泡の循環が断ち切ら
れるので問題は生じない。従って、かかる位置関係の気
体吸着性水処理装置は耐熱性がある限り加熱精製水循環
による殺菌が可能である。

【００３５】また、本願発明の第２の態様による前記精
製水保管部内において、前記精製水供給ポンプの第３の
吐出先が前記精製水の保管タンクへ帰還するライン（以
下、第２の帰還ラインとも記載する。）と前記精製水の
保管タンクおよび前記精製水供給ポンプとを接続して構
成する第２の循環ルートを備えることを特徴とする請求
項１記載の精製水製造保管システムとは保管中の精製水
を加熱して常時菌が存在しない状況を作り、直ちに殺菌
状態の精製水を供給し得る様に、精製水供給ポンプの第
３の吐出先を保管タンクの入口に帰還させる保管タンク
と精製水供給ポンプを含めて構成される第２の循環ルー
トの構成の想到に基づくものである。この第２の循環ル
ートに精製水採取口を設置することにより、必要に応じ
若干のブローの後、殺菌された加熱精製水が直ちに採取
し得るところとなる。

【００３６】また、本願発明の第３の態様による前記第
３の吐出先が前記精製水の保管タンクへ帰還するライン
中に最終限外濾過膜装置を備えたことを特徴とする請求
項１ないし２のいずれかに記載の精製水製造保管システ
ムとは保管中の精製水にフィルター付属のベントあるい
は第２の循環ルートの精製水採取口あるいは更に何らか
の理由で混入する粒子の類を循環中に濾別し、精製水を
保管供給しようとするものである。

【００３７】本願発明の精製水製造保管システムは、例
えば、原水を取り入れてこの原水に含まれる粒子や微生
物の大部分を除去し得る第１の限外濾過膜水処理装置
と、第１の限外濾過膜水処理装置で得られた処理水に残
留する有機物を吸着除去する活性炭充填塔、陰陽イオン
類を交換除去する陰陽イオン交換樹脂充填塔または両作
用を示す活性炭・陰陽イオン交換樹脂混床塔である気体
吸着性水処理装置を備え、これらの気体吸着性水処理装
置を通過した処理水になお含まれるパイロジエン、細菌
となお残留する有機物とに紫外線を照射して酸化分解す
る紫外線照射装置を備え、酸化生成物を除去する活性
炭、イオン交換樹脂または活性炭・イオン交換樹脂混床
塔のいずれかからなる気体吸着性水処理装置を備え、そ
れでもなお残留する挟雑物を除去する第２の限外濾過膜
水処理装置及び精密濾過膜水処理装置の配列からなる精
製水製造部、即ち濾過膜水処理装置の上流に気体吸着性
水処理装置を配置した関係を満たす精製水製造部で精製
水を得ると共に、この精製水製造部に接続されてこの精
製水の流入および流出に応じて精製水の保管タンク内の
気体の出入りがなされる様且つ外界からの菌や塵埃の混
入が回避されるようにフィルター付属のベントを有する
精製水の保管タンクを備えた精製水保管部とからなる精
製水製造保管システムにおいて、この精製水製造保管シ
ステムの殺菌時、上記濾過膜水処理装置で処理されよう
としている溶存気体を含む被処理水に後述する加熱精製
水が循環されてきて接触昇温し気泡を発生することを回
避するためこの被処理水をフラッシングする弁をすべて
の濾過膜水処理装置に備え、同じく加熱精製水が循環さ
れてきて被処理水をフラッシングしても加熱精製水の接
触により昇温しこれに応じて気泡を発生する気体吸着性
水処理装置にこれを迂回するバイパスラインを備え下流
の装置への気泡供給を回避し、この精製水を殺菌適温ま
で加熱するための加熱手段を精製水の保管タンクに備
え、加熱された精製水を殺菌個所に供給するための加熱
精製水供給ポンプをこの精製水の保管タンクの出口に備
え、この加熱精製水供給ポンプの第１の吐出先が上述の
精製水製造部の入口へ帰還するラインと該バイパスライ
ンで迂回する部分を除く該プロセスラインと該バイパス
ラインとで構成された第１の循環ルートを備えて殺菌可
能とすると共に、該精製水供給ポンプの第２の吐出先が
精製水製造保管システムの残りの気体吸着性水処理装置
に接続されるラインを備え、該ラインを介して該気体吸
着性水処理装置に供給された加熱された精製水を排出す
る被処理水排水用弁を備えて殺菌可能とするか、または
該気体吸着性水処理装置自体もしくはその中に収容され
ている充填剤を着脱自在として殺菌の必要のないか殺菌
済みのものと交換できる構成とすることができる。

【００３８】

【発明の実施の形態】次に、添付の図面を参照しながら
本願発明の実施の形態についてさらに詳しく説明する。
図１は本願発明の一実施形態の精製水が超純水である超
純水製造保管システムを示す構成図である。

【００３９】本実施形態の超純水製造保管システムに
は、図１に示すように、被処理水である市水またはイオ
ン交換水を原水として用いることができ、この市水を取
り入れる導管１ａと、イオン交換水を取り入れる導管１
ｂとを備えた前置水処理部を付属している。導管１ａは
プレフィルター２、活性炭充填前処理装置３を介して第
１の限外濾過膜水処理装置４に接続され、導管１ｂは活
性炭充填前処理装置３の下流で第１の限外濾過膜水処理
装置４に接続されている。第１の限外濾過膜水処理装置
４にはフラッシング用弁Ｖ₁が該装置の濾過膜直前に装
置と一体となって取り付けられている。

【００４０】この超純水製造保管システムは、第１の限
外濾過膜水処理装置４、気体吸着性水処理装置としての
パッケージ型カートリッジ５、紫外線照射装置６、活性
炭・イオン交換樹脂混床塔からなる気体吸着性水処理装
置であるポリッシャー７、フラッシング用弁Ｖ₂が濾過
膜直前に、装置と一体となって備えられた第２の限外濾
過膜水処理装置８、フラッシング用弁Ｖ₃が採水弁Ｓ₆
と兼用配備された精密濾過膜水処理装置９の配列が配管
接続され超純水の保管タンクに直結して構成されるプロ
セスライン１０を備える。

【００４１】このパッケージ型カートリッジ５は、活性
炭処理塔５ａ、イオン交換樹脂塔５ｂ、５ｃ、活性炭・
イオン交換樹脂混床塔５ｄが直列に接続され、流路が最
短になるようにコンパクトに連結されている。なお、こ
のパッケージ型カートリッジ５は、先の活性炭処理塔５
ａ、イオン交換樹脂塔５ｂ、５ｃ、活性炭・イオン交換
樹脂混床塔５ｄからなる水処理装置自体または各水処理
塔の気体吸着性充填剤である活性炭若しくはイオン交換
樹脂あるいはこれらの混床塔が着脱容易なカートリッジ
とされている。このようなパッケージ型カートリッジ５
として、例えば、日本ミリポア株式会社製Ｑ−Ｐａｋ
（商品名）を用いることができる。なお、パッケージ型
カートリッジ５は、活性炭処理塔、イオン交換樹脂塔、
活性炭・イオン交換樹脂混床塔の少なくとも一つを備え
ていればよいが、これら３種を備えているものが好まし
い。このイオン交換樹脂塔は、一つでもよく、さらに多
数であってもよい。また、その配列は、活性炭処理塔５
ａ、イオン交換樹脂塔５ｂ、５ｃ、活性炭・イオン交換
樹脂混床塔５ｄの順序に限定されるものではない。

【００４２】紫外線照射装置６には、従来より殺菌効果
が認められている２５４ｎｍの波長の光の他に、有機物
を酸化分解して分子鎖を切断する働きのある１８５ｎｍ
の波長の光を照射する低圧水銀ランプが備えられてい
る。

【００４３】プロセスライン１０には、品質管理のため
に水質センサーＱ₁とＱ₂、採水弁Ｓ₁乃至Ｓ₄が設け
られている。

【００４４】超純水の保管タンク１１は、超純水の増減
に応じた内部の気体の出入りに備えて且つ外部気体流入
による汚染を回避するためにフィルター付属のベント１
７が備えられ、さらに前述のようにして得られた超純水
を殺菌可能な温度、本実施態様における８０℃の温度に
加熱する加熱手段１２と、この温度に加熱された超純水
をその保管タンク１１から取り出して再び超純水の保管
タンク１１に戻すように循環させる超純水の第２の帰還
ライン１３とを備えた第２の循環ルートを構成し、備え
られている。超純水の第２の帰還ライン１３は超純水の
保管タンク１１に直結され、その途中に設けられた超純
水供給ポンプ１４により、８０℃に加熱された超純水が
第２の循環ルートを介して循環、保管される。

【００４５】超純水の第２の循環ルートには、前述のよ
うに循環されている超純水を注射用水として取り出す採
水弁Ｓ₇と、この超純水を注射用水以外の用途のために
取り出す採水弁Ｓ₈とが備えられ、なんらかの原因で混
入する汚染物質による超純水の再汚染を阻止するために
第２の循環ルート中、超純水供給ポンプ１４の吐出先に
最終限外濾過膜水処理装置１６が備えられている。さら
に、超純水の第２の循環ルートには水質管理のための採
水弁Ｓ₅、Ｓ₆が設けられている。

【００４６】また、図１の超純水製造保管システムは、
採水弁Ｓ₈の上流に設けられた三方弁２１と第１の限外
濾過膜水処理装置４の入口に設けられた三方弁２２とを
結ぶ第１の帰還ライン２３と、パッケージ型カートリッ
ジ５の入口及び出口に設けられた三方弁２４、２５を結
んでパッケージ型カートリッジ５を迂回するパッケージ
バイパスライン２６と、ポリッシャー７の入口及び出口
に設けられた三方弁２７、２８を結んでポリッシャー７
を迂回するポリッシャーバイパスライン２９とを備え
る。

【００４７】次に、図１に示す超純水製造保管システム
の作動について、市水を原水とする場合を例として説明
する。導管１ａから供給された市水は、まずプレフィル
ター２により含有する鉄錆、ごみ等の５μｍ以上の粒子
が除去され、次いで活性炭充填前処理装置３により有機
成分の吸着の他含有する塩素を塩素イオンに変換する。
即ち、活性炭充填前処理装置３の設置は前述した市水中
の塩素による下流の膜の劣化を防止することをも目的と
している。

【００４８】次に、第１の限外濾過膜水処理装置４で
は、活性炭充填前処理装置３を通過した水に含まれる粒
子、微生物の大部分が除去された処理水が得られる。こ
の処理水は、所望により採水弁Ｓ₁から取り出すことが
できる。

【００４９】次に、パッケージ型カートリッジ５では、
活性炭処理塔５ａでこの処理水に残留する有機物が除去
され、イオン交換樹脂塔５ｂ、５ｃでこの処理水に残留
するイオン類が除去される。そして、活性炭処理塔５
ａ、イオン交換樹脂塔５ｂ、５ｃで除去されなかった有
機物、溶存イオン類は、さらに活性炭・イオン交換樹脂
混床塔５ｄで除去される。この結果、実質的に溶存イオ
ン類を含まない溶存イオンフリー水が得られ、所望によ
り採水弁Ｓ₂から取り出すことができる。

【００５０】次に、紫外線照射装置６では供給された溶
存イオンフリー水に１８４ｎｍと２５４ｎｍの波長の紫
外線を照射することにより細菌類を死滅せしめパイロジ
ェン及び各種有機物を酸化分解する。そして、ポリッシ
ャー７において、紫外線照射装置６で生成した炭酸イオ
ン、有機酸イオン類その他を除去することにより、ＴＯ
Ｃ含量の低減されたＴＯＣフリー水である超純水が得ら
れる。このＴＯＣフリー水は、所望により採水弁Ｓ₃か
ら取り出すことができる。

【００５１】次に、第２の限外濾過膜水処理装置８で
は、紫外線照射装置６で分解されなかった分子量の大き
な有機物が除去される。この結果、パイロジェンを含ま
ない超純水、即ちパイロジェンフリー水が得られ、濾過
膜水処理装置である精密濾過膜水処理装置９でさらに濾
過されて超純水の保管タンク１１に送られる。

【００５２】このようにして製造された超純水の保管タ
ンク１１内の超純水は、超純水の保管タンク１１内に備
えられた加熱手段１２により殺菌可能な温度、例えば８
０℃に加熱されると共に、超純水供給ポンプ１４により
超純水の第２の帰還ライン１３を介して再び超純水の保
管タンク１１に戻されるように第２の循環ルートを循環
保管される。そして、この超純水は注射用水その他の目
的に応じ、採水弁Ｓ₇或いは採水弁Ｓ₈から取り出され
る。

【００５３】図１の超純水製造保管システムの操業例を
示すと、午前２時から市水の供給を始め、遅くとも午前
８時には容量４０リッターの超純水の保管タンク１１が
加熱超純水で満水状態になる。即ち、超純水が注射用水
として使用される際は超純水の保管タンク１１内で殺菌
可能な温度に加熱され、第２の循環ルートを循環・保管
され、随時採水可能とされる。その後、注射用水として
使用された分だけ導管１ａから市水が供給されプロセス
ライン１０で処理されることにより、超純水が補充され
る。この間、超純水中の溶存気体がフィルター付属のベ
ントを介して放出され、注射用水としての採水と超純水
の補充による超純水の保管タンク１１内の水位変化に基
づく周辺との気体の出入もフィルター付属のベントを介
してなされる。次に、午後５時になり注射用水としての
使用を終えると、三方弁２２が切り替えられて導管１ａ
からの市水の取り入れが停止される。同時に、三方弁２
１が切り替えられ超純水の保管タンク１１内の殺菌可能
な温度の超純水が、加熱超純水供給ポンプ１４の働き
で、第１の帰還ライン２３を経て第１の限外濾過膜水処
理装置４の上流側に供給され一定時間、即ち加熱超純水
により十分に置換がなされるようにフラッシング用弁Ｖ
₁を介して三方弁２２以降、第１の限外濾過膜水処理装
置４の濾過膜直前に存在する被処理水を押し出し排出す
る。次に、バイパスライン２６が第１の限外濾過膜水処
理装置４と流通するように三方弁２４と２５が切り替え
られ、さらにバイパスライン２９が紫外線照射装置６と
流通するように三方弁２７と２８が切り替えられ、フラ
ッシング用弁Ｖ₂を介して第１の限外濾過膜水処理装置
４以降、第２の限外濾過膜水処理装置８の濾過膜直前に
存在する被処理水を押し出し排出するラインを構成し、
フラッシング用弁Ｖ₁を閉じ加熱超純水供給ポンプ１４
の働きで加熱超純水が流れ、次いで、精密濾過膜水処理
装置９の上流のＳ₅を開き、フラッシング用弁Ｖ₂を徐
々に閉じて精密濾過膜水処理装置９の上流の被処理水を
加熱超純水で置換排水しＳ₅を閉じて加熱超純水を保管
タンクに戻し第１の循環ルートを加熱超純水で循環昇温
し、所定温度８０℃で所定時間即ち約３時間殺菌処理を
行った。換言するなら、殺菌可能な温度の超純水の保管
タンク１１の超純水は、濾過膜水処理装置である第１の
限外濾過膜水処理装置４、紫外線照射装置６、濾過膜水
処理装置である第２の限外濾過膜水処理装置８及び精密
濾過膜水処理装置９のみに循環供給されることとなっ
た。もとより、この間気泡による各濾過膜水処理装置の
閉塞は回避された。

【００５４】前述の殺菌可能な温度の超純水は第１の限
外濾過膜水処理装置４、紫外線照射装置６、第２の限外
濾過膜水処理装置８、精密濾過膜水処理装置９を含む第
１の循環ルートを循環する。前記操作は、午後５時から
３時間に亘って続き、午後８時に終了する。この循環に
使用された超純水は、循環終了後に超純水製造保管シス
テムの各所から排出される。そして、翌日の午前２時に
は、また、市水の取り入れが開始され新しい超純水が製
造される。

【００５５】本実施形態の製造保管システムによれば、
前述のように殺菌可能な温度の超純水を循環させること
により、その循環ルートにある第１の限外濾過膜水処理
装置４、紫外線照射装置６、第２の限外濾過膜水処理装
置８、精密濾過膜水処理装置９とその間の配管類が殺菌
され、細菌の増殖を抑制することができるので、図１に
示した製造システムにおける頻繁な定期休止による装置
の殺菌及び洗浄の回数を低減することができる。また、
気体吸着性水処理装置であるパッケージ型カートリジ５
及びポリッシャー７には、先の殺菌可能な温度の超純水
を供給せず、殺菌されないので、これらの水処理装置自
体またはその部品である充填剤即ち、活性炭またはイオ
ン交換樹脂を着脱自在としておき、水処理能力が所定の
基準値以下になったときには交換する。

【００５６】なお、本願発明になる精製水製造保管シス
テムにおける製造、保管及び殺菌について説明した三方
弁や採水弁を含む弁はこれらに限らず通常の目的である
試料用採水弁や漏れ試験用の弁や計測器着脱のために設
置する弁などが適宜、適所に取り付け得ることは言を待
たない。その上これらの弁、加熱手段、時間設定、供給
ポンプ１４などは図示はしていないが自動制御装置によ
り制御するようにしてもよく、手動によりスイッチ等を
切り替えて制御してもよい。本実施形態の超純水製造保
管システムによれば、殺菌可能な温度の超純水を循環さ
せることにより、その循環ルートにある第１の限外濾過
膜水処理装置４、紫外線照射装置６、第２の限外濾過膜
水処理装置８、精密濾過膜水処理装置９が殺菌され、パ
ッケージ型カートリッジ５及びポリッシャー７も交換さ
れ、細菌の増殖を抑制することができるので、超純水製
造保管システムのオーバーホールまでの時間が著しく延
長される。

【００５７】なお、図１に示す超純水製造保管システム
で、導管１ｂから供給されるイオン交換水を原水とする
ときには、このイオン交換水がプレフィルター２で濾過
されることなく活性炭充填前処理装置３を介して第１の
限外濾過膜水処理装置４に導入されることを除いて、先
記した市水の場合と同様に処理される。

【００５８】次に、図１に示す本実施形態の超純水製造
保管システムにおいて、各水処理装置、超純水の保管タ
ンク１１、最終限外濾過膜水処理装置１６の下流で採取
した被処理水及び超純水に含まれる生菌数測定結果を示
す。

【００５９】この生菌数の測定は、一般細菌について行
い、試料水を濾過したセルロース混合エステル精密濾過
膜（直径４７ｍｍ、孔径０．４５μｍ：日本ミリポア株
式会社製）を、常法に従って標準寒天培地（一般細菌測
定用：栄研化学社製）を１０倍に希釈した培地に貼り付
け、３０℃で７日間培養した。生菌数は上記濾過膜上に
発育したコロニー数を計測し、ｃｆｕ／１００ミリリッ
トルで表した。

【００６０】また、比較のために、図２に示した従来の
超純水製造システムにおいて、各水処理装置、超純水の
保管タンク４１、限外濾過膜水処理装置４６の下流で採
取した被処理水及び超純水に含まれる生菌数を、本実施
態様の超純水製造保管システムと同一の方法により測定
した。結果を表１に示す（表中、各項目の後の数字は図
１または図２の符号と同一である）。

【００６１】なお、図２に示した従来の超純水製造シス
テムにおける逆浸透膜装置３４は、図1 に示す本実施形
態の製造システムにおける第１の限外濾過膜水処理装置
４に相当する。

【００６２】

【表１】

【００６３】表１から、本実施形態の製造保管システム
によれば、第１の限外濾過膜水処理装置４、紫外線照射
装置６、第２の限外濾過膜水処理装置８、精密濾過膜水
処理装置９の各水処理装置が、殺菌可能な温度の超純水
の循環により殺菌されているので、従来の製造システム
に比較して、前述した各水処理装置の下流で生菌数が著
しく低下していることが明らかである。また、この結
果、殺菌可能な温度の超純水が循環されないパッケージ
型カートリッジ５及びポリッシャー７も負荷が低減さ
れ、その下流で生菌数が著しく低下していることが明ら
かである。

【００６４】本実施形態の製造保管システムによれば、
前述したように各水処理装置の下流で生菌数が著しく低
下するので、各水処理装置のオーバーホールまでの期間
が延びて消耗品の交換頻度を低減することができる。次
に、図1 に示す本実施形態の製造保管システムと、図２
に示した従来の製造システムとにおける消耗品の年間交
換回数の比較を表２に示す（表中、各項目の後の数字は
図１または図２の符号と同一である）。

【００６５】

【表２】

【００６６】表２から、本実施形態の超純水製造保管シ
ステムによれば、従来の超純水製造システムに比較し
て、各水処理装置の消耗品の交換回数が低減されている
ことが明らかである。

【００６７】次に、図１に示す本実施形態の製造保管シ
ステムにおいて、採水弁Ｓ₂から取り出される溶存イオ
ンフリー水、採水弁Ｓ₃から取り出されるＴＯＣフリー
水、採水弁Ｓ₈から取り出されるパイロジェンフリー水
について、一般細菌数、パイロジェンの指標としてのエ
ンドトキシン量、比抵抗値、ＴＯＣを測定した。ここ
に、一般細菌数は前述の方法により測定した。

【００６８】エンドトキシンの測定は、カイネチックＱ
ＣＬキット（バイオ・ウイッターカー社製）を用いた合
成基質法を用いて、以下の方法により測定した。試料、
検量線用標準エンドトキシン希釈溶液、ブランクを、９
６穴プレートの所定の場所に０．１ミリリットルづつ添
加する。１０分間装置内でインキュベートした後、カブ
トガニの血球抽出物（ＬＡＬ：ＬｉｍｕｌｕｓＡｍｅ
ｂｏｃｙｔｅＬｙｓａｔｅ）を０．１ミリリットル添
加し、測定を行った。

【００６９】比抵抗値は、溶存イオンフリー水及びＴＯ
Ｃフリー水については日本ミリポア株式会社製比抵抗計
を用いたインライン法により、原水及びパイロジェンフ
リー水についてはＵＶ燃焼式アナテルＡー１０００（ア
ナテル社製）を用いたインライン法により測定した。

【００７０】ＴＯＣは、ＵＶ燃焼式アナテルＡー１００
０（アナテル社製）を用いたインライン法により測定し
た。

【００７１】結果を表３に示す。

【００７２】

【表３】

【００７３】表３から、本実施形態の製造保管システム
によれば、装置の殺菌及び洗浄の回数が低減されるにも
係わらず、溶存イオンフリー水、ＴＯＣフリー水、パイ
ロジェンフリー水としてそれぞれ所定の条件を満足する
品質の超純水が得られることが明らかである。

【００７４】また、本実施形態では、パッケージ型カー
トリッジ５及びポリッシャー７には殺菌可能な温度の超
純水を通さずに、水処理能力が所定の基準値以下になっ
たときに装置自体またはその気体吸着性充填剤を着脱自
在にして交換するようにしているが、パッケージ型カー
トリッジ５及びポリッシャー７にも殺菌可能な温度の超
純水を流通させて殺菌するようにしてもよい。

【図面の簡単な説明】

【図１】本願発明に係る精製水製造システムの一実施形
態を示す構成図。

【図２】従来の超純水製造システムの一実施形態を示す
構成図。

【符号の説明】

４…気体吸着性の第１の限外濾過膜水処理装置、５…
気体吸着性水処理装置、５ａ…活性炭充填塔、５
ｂ，５ｃ…イオン交換樹脂充填塔、５ｄ…第１の活性
炭・イオン交換樹脂混床塔、６…紫外線照射装置、
７…第２の活性炭・イオン交換樹脂混床塔、８…第２
の限外濾過膜水処理装置、１０…プロセスライン、
１１…超純水の保管タンク、１２…加熱手段、１３
…第２の帰還ライン、１６…最終限外濾過膜水処理装
置、２３…第１の帰還ライン、２６，２９…バイパス
ライン。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０２Ｆ 1/32 Ｃ０２Ｆ 1/32 ４Ｄ０３７ 1/42 1/42 Ａ４Ｄ０５０ 1/72 1/72 Ｚ 9/00 ５０２ 9/00 ５０２Ａ５０２Ｇ５０２Ｈ５０２Ｊ５０２Ｎ５０３５０３ＢＦターム(参考） 4D006 GA06 GA07 HA95 KA01 KA12 KA72 KB11 KB12 KB14 MB02 MC15X MC17X PA05 PB06 PB54 PB55 PC02 PC41 4D017 AA01 BA11 CA03 DA01 EA01 4D024 AA03 BA02 CA01 CA04 DB05 DB06 DB19 4D025 AA04 BA08 BA13 BB04 DA01 DA03 DA04 DA05 4D034 BA03 CA06 4D037 AA02 AA03 AB01 AB03 AB14 BA18 BB01 BB02 CA01 CA02 CA03 CA12 CA15 4D050 AA04 AA05 AB06 AB07 AB46 BB01 BC09 BD06 BD08 CA01 CA06 CA08 CA09 CA15

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも濾過膜水処理装置の上流に気体
吸着性水処理装置を配置した精製水製造部に、フィルタ
ー付属のベントを備えた精製水の保管タンクを配置した
精製水保管部を直列に接続し、該精製水製造部から該精
製水保管部に至るプロセスラインを備える精製水製造保
管システムにおいて、すべての濾過膜水処理装置に被処理水フラッシング用弁
を備え該気体吸着性水処理装置にバイパスラインを備え
該精製水の保管タンクに加熱手段を備え該精製水の保管
タンクの出口に精製水供給ポンプを備え、該精製水供給
ポンプの第１の吐出先が該精製水製造部の入口へ帰還す
るラインと該バイパスラインで迂回する部分を除く該プ
ロセスラインと該バイパスラインとで構成された第１の
循環ルートを備えると共に、該精製水供給ポンプの第２の吐出先が該気体吸着性水処
理装置に接続されるラインを備え、該ラインを介して該
気体吸着性水処理装置に供給された加熱された精製水を
排出する被処理水排水用弁を備えるか、または該気体吸
着性水処理装置自体もしくはその中に収容されている充
填剤が着脱自在とされていることを特徴とする精製水製
造保管システム。
【請求項２】前記精製水保管部内において、前記精製水
供給ポンプの第３の吐出先が前記精製水の保管タンクへ
帰還するラインと前記精製水の保管タンクおよび該精製
水供給ポンプとを接続して構成する第２の循環ルートを
備えることを特徴とする請求項１記載の精製水製造保管
システム。
【請求項３】前記第３の吐出先が前記精製水の保管タン
クへ帰還するライン中に最終限外濾過膜装置を備えたこ
とを特徴とする請求項１ないし２のいずれかに記載の精
製水製造保管システム。
【請求項４】前記濾過膜水処理装置が限外濾過膜かある
いは精密濾過膜を具備した装置であることを特徴とする
請求項１ないし３のいずれかに記載の精製水製造保管シ
ステム。
【請求項５】前記気体吸着性水処理装置が吸着剤及び／
あるいはイオン交換樹脂を充填した装置であることを特
徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の精製水製
造保管システム。
【請求項６】第１の限外濾過膜水処理装置に活性炭充填
塔、イオン交換樹脂充填塔、活性炭とイオン交換樹脂の
混床塔からなる第１の気体吸着性水処理装置が直列に配
置され、さらに紫外線照射装置とイオン交換樹脂充填塔
もしくは活性炭とイオン交換樹脂の混床塔からなる第２
の気体吸着性水処理装置が直列に配置され、その上さら
に第２の限外濾過膜水処理装置と精密濾過膜水処理装置
が直列に配置されてなる精製水製造部に、フィルター付
属のベントを備えた精製水の保管タンクを配置した精製
水保管部を接続した精製水製造保管システムにおいて、
該第１および第２の限外濾過膜水処理装置、精密濾過膜
水処理装置に被処理水フラッシング用弁を備え該第１お
よび第２の気体吸着性水処理装置にそれぞれバイパスラ
インを備え該精製水の保管タンクに加熱手段を備え該精
製水の保管タンクの出口に精製水供給ポンプを備え該精
製水供給ポンプの第１の吐出先が該精製水製造部の入口
へ帰還するラインと該バイパスラインで迂回する部分を
除く該プロセスラインと該バイパスラインとで構成され
た第１の循環ルートを備えると共に、該精製水供給ポン
プの第２の吐出先が該第１および第２の気体吸着性水処
理装置に接続されるラインを備え、該ラインを介して該
第１および第２の気体吸着性水処理装置に供給された加
熱された精製水を排出する被処理水排水用弁を備える
か、または該気体吸着性水処理装置自体もしくはその中
に収容されている充填剤が着脱自在とされているかし
て、その上に該精製水供給ポンプの第３の吐出先が最終
限外濾過膜装置を経て該精製水の保管タンクへ帰還する
ラインと該精製水の保管タンクおよび該精製水供給ポン
プとで構成された第２の循環ルートを備えることを特徴
とする請求項１ないし５のいずれかに記載の精製水製造
保管システム。
【請求項７】前記精製水として、溶存イオンフリー水、
ＴＯＣフリー水またはパイロジェンフリー水のそれぞれ
を製造し得ることを特徴とする請求項１ないし６のいず
れかに記載の精製水製造保管システム。