JP2000273214A - ポリベンザゾールフィルム及びそれを用いた磁気記録媒体 - Google Patents
ポリベンザゾールフィルム及びそれを用いた磁気記録媒体Info
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- JP2000273214A JP2000273214A JP11085673A JP8567399A JP2000273214A JP 2000273214 A JP2000273214 A JP 2000273214A JP 11085673 A JP11085673 A JP 11085673A JP 8567399 A JP8567399 A JP 8567399A JP 2000273214 A JP2000273214 A JP 2000273214A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】透明で機械的物性が等方的であり、高ヤング率
かつ適度な伸度を持つポリベンザゾールフィルムを提供
する。 【解決手段】ポリベンザゾールを主成分とするフィルム
であって、該フィルムの長手方向及び幅方向において、
伸度が5%以上かつヤング率が19.6GPa以上であ
り、波長550nmの光線透過率が50%以上であるポ
リベンザゾールフィルム。
かつ適度な伸度を持つポリベンザゾールフィルムを提供
する。 【解決手段】ポリベンザゾールを主成分とするフィルム
であって、該フィルムの長手方向及び幅方向において、
伸度が5%以上かつヤング率が19.6GPa以上であ
り、波長550nmの光線透過率が50%以上であるポ
リベンザゾールフィルム。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体とし
て好適に用いることができるポリベンザゾールフィルム
に関するものである。
て好適に用いることができるポリベンザゾールフィルム
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年のデジタル記録技術の進歩、コンピ
ュ−タ−の外部メモリへの展開等により、薄膜化・高密
度記録化・高耐久性の磁気記録媒体に適したフィルムの
要求がより強くなってきている。この様な磁気記録媒体
のベ−スフィルムとして一般にポリエチレンテレフタレ
−トやポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステルフィ
ルムが用いられてきた。また、最近、ポリエステルフィ
ルムに比べ剛性が高く、薄膜化が可能であり、大容量の
磁気記録媒体に適した素材である芳香族ポリアミドがベ
ースフィルムとして使用されている。
ュ−タ−の外部メモリへの展開等により、薄膜化・高密
度記録化・高耐久性の磁気記録媒体に適したフィルムの
要求がより強くなってきている。この様な磁気記録媒体
のベ−スフィルムとして一般にポリエチレンテレフタレ
−トやポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステルフィ
ルムが用いられてきた。また、最近、ポリエステルフィ
ルムに比べ剛性が高く、薄膜化が可能であり、大容量の
磁気記録媒体に適した素材である芳香族ポリアミドがベ
ースフィルムとして使用されている。
【0003】しかし、コンピュ−タ−のメモリ用途等で
は、ハードディスクの記録密度の飛躍的な進歩に対応す
るためにバックアップテープの更なる大容量化が求めら
れており、このためにはベースフィルムの更なる薄膜化
が必要となっている。フィルムの厚みを薄くする場合、
単にこれまでと同じ材料のベースフィルムの厚みを薄く
しただけでは、テープ走行系で張り付きを起こしたり、
テープのエッジダメージが生じたり、当たり特性が劣化
するといった問題が生ずる。この様な問題を解決するた
めにはベースフィルムのヤング率を高くすることが必要
であり、芳香族ポリアミドよりも剛性の高いポリベンザ
ゾールよりなるフィルムが有望視されている。
は、ハードディスクの記録密度の飛躍的な進歩に対応す
るためにバックアップテープの更なる大容量化が求めら
れており、このためにはベースフィルムの更なる薄膜化
が必要となっている。フィルムの厚みを薄くする場合、
単にこれまでと同じ材料のベースフィルムの厚みを薄く
しただけでは、テープ走行系で張り付きを起こしたり、
テープのエッジダメージが生じたり、当たり特性が劣化
するといった問題が生ずる。この様な問題を解決するた
めにはベースフィルムのヤング率を高くすることが必要
であり、芳香族ポリアミドよりも剛性の高いポリベンザ
ゾールよりなるフィルムが有望視されている。
【0004】この様な例として、例えば、特開平6−8
4161号公報には、ポリベンゾオキサゾールを主成分
とする材料からなる磁気記録媒体が開示されている。し
かし、同公報にはフィルムの製造方法に関する記載がな
く、フィルムの物性についてもヤング率が記載されてい
るのみである。一般に、ポリベンゾオキサゾールを含む
ポリベンザゾールの溶液は、液晶性を示し、一方向に分
子が並んでいる。ポリベンザゾールを繊維とする場合
は、この様な性質を利用してヤング率が非常に高い繊維
を作ることができる(例えば、特開平7−157918
号公報、特開平7−157919号公報、特開平7−1
97307号公報、特開平7−157920号公報等に
ポリベンゾオキサゾールの製糸方法が開示されてい
る)。この様な製造方法は一方向の剛性のみが必要な繊
維には適しているが、フィルムの場合は液晶性を示す溶
液をそのまま製膜に用いると、一方向のみに配向した不
透明なフィルムとなり、同方向の機械的強度のみが高
く、その直角方向の機械強度は極端に弱く、裂けやすい
フィルムとなる。この様なフィルムは、テープ加工時に
裂けたり、伸度がほとんどないことからテープにした際
にスタート・ストップ時のテンションに耐えられなかっ
たり、高速走行時にエッジが大きなダメージを受けると
いった問題が生じる。
4161号公報には、ポリベンゾオキサゾールを主成分
とする材料からなる磁気記録媒体が開示されている。し
かし、同公報にはフィルムの製造方法に関する記載がな
く、フィルムの物性についてもヤング率が記載されてい
るのみである。一般に、ポリベンゾオキサゾールを含む
ポリベンザゾールの溶液は、液晶性を示し、一方向に分
子が並んでいる。ポリベンザゾールを繊維とする場合
は、この様な性質を利用してヤング率が非常に高い繊維
を作ることができる(例えば、特開平7−157918
号公報、特開平7−157919号公報、特開平7−1
97307号公報、特開平7−157920号公報等に
ポリベンゾオキサゾールの製糸方法が開示されてい
る)。この様な製造方法は一方向の剛性のみが必要な繊
維には適しているが、フィルムの場合は液晶性を示す溶
液をそのまま製膜に用いると、一方向のみに配向した不
透明なフィルムとなり、同方向の機械的強度のみが高
く、その直角方向の機械強度は極端に弱く、裂けやすい
フィルムとなる。この様なフィルムは、テープ加工時に
裂けたり、伸度がほとんどないことからテープにした際
にスタート・ストップ時のテンションに耐えられなかっ
たり、高速走行時にエッジが大きなダメージを受けると
いった問題が生じる。
【0005】この様に単にポリベンザゾールの光学異方
性ドープを押しだしそのまま凝固させただけでは、吐出
方向に過度に配向するために、フィブリル化し易くその
直角方向に弱くなってしまう。これを改良しようとする
製膜方法として、例えば特開平1−287141号公報
には、凝固浴組成条件を工夫して、光学異方性溶液が凝
固過程で見かけ上等方性状態を経由した後、実質的凝固
を生じるような条件で製膜する方法が開示されている。
しかしこの方法では、直行する2軸に沿ってバランスの
とれた物性を有するフィルムは得られるが、フィルムの
ヤング率は実施例に示されているように長手方向及び幅
方向を合わせて30GPa程度とパラ系芳香族ポリアミ
ドフィルムと差がなく、ポリベンザゾールの特徴である
高い剛性が損なわれている。また、ドープのポリマー濃
度を低くしなければならず、生産性が低下するといった
問題があった。
性ドープを押しだしそのまま凝固させただけでは、吐出
方向に過度に配向するために、フィブリル化し易くその
直角方向に弱くなってしまう。これを改良しようとする
製膜方法として、例えば特開平1−287141号公報
には、凝固浴組成条件を工夫して、光学異方性溶液が凝
固過程で見かけ上等方性状態を経由した後、実質的凝固
を生じるような条件で製膜する方法が開示されている。
しかしこの方法では、直行する2軸に沿ってバランスの
とれた物性を有するフィルムは得られるが、フィルムの
ヤング率は実施例に示されているように長手方向及び幅
方向を合わせて30GPa程度とパラ系芳香族ポリアミ
ドフィルムと差がなく、ポリベンザゾールの特徴である
高い剛性が損なわれている。また、ドープのポリマー濃
度を低くしなければならず、生産性が低下するといった
問題があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる問題を
解決し、透明で機械的物性が等方的であり、高ヤング率
かつ適度な伸度を持つポリベンザゾールフィルムを提供
するものである。
解決し、透明で機械的物性が等方的であり、高ヤング率
かつ適度な伸度を持つポリベンザゾールフィルムを提供
するものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】かかる課題は、ポリベン
ザゾールを主成分とするフィルムであって、該フィルム
の長手方向及び幅方向において、伸度が5%以上かつヤ
ング率が19.6GPa以上であり、波長550nmの
光線透過率が50%以上であるポリベンザゾールフィル
ムによって達成される。
ザゾールを主成分とするフィルムであって、該フィルム
の長手方向及び幅方向において、伸度が5%以上かつヤ
ング率が19.6GPa以上であり、波長550nmの
光線透過率が50%以上であるポリベンザゾールフィル
ムによって達成される。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明におけるポリベンザゾール
とは、ポリベンゾオキサゾールホモポリマー、ポリベン
ゾチアゾールホモポリマー、ポリベンズイミダゾールホ
モポリマー及びこれらポリマーのランダム、シーケンシ
ャルあるいはブロック共重合ポリマーをいう。ここでポ
リベンゾオキサゾール、ポリベンゾチアゾール、ポリベ
ンズイミダゾール及びこれらのランダム、シーケンシャ
ルあるいはブロック共重合ポリマーは、例えば Wolfe等
の「Liquid Crystalline Polymer Compositions, Proce
ss and Products 」米国特許第4703103号(19
87年10月27日)、「Liquid Crystalline Polymer
Compositions , Process and Products」米国特許45
33692号(1985年8月6日)、「Liquid Cryst
alline Poly(2,6-Benzothiazole) Composition, Proces
s and Products」米国特許第4533724号(198
5年8月6日)、「 Liquid Crystalline Polymer Compo
sitions ,Process and Products」米国特許第4533
693号(1985年8月6日)、Evers の「Thermoox
idatively Stable Articulated p-Benzobisoxazole an
d p-Benzobisthiazole Polymres」米国特許第4539
567号(1982年11月16日)、Tasi等の「Meth
od for making Heterocyclic Block Copolymer」米国特
許第4578432号(1986年3月25日)等に記
載されている。ポリベンザゾールポリマーに含まれる構
造単位としては、好ましくはライオトロピック液晶ポリ
マーから選択される。モノマー単位は構造式(a)〜
(n)に記載されているモノマー単位からなることが好
ましく、さらに好ましくは、本質的に構造式(a)〜
(h)
とは、ポリベンゾオキサゾールホモポリマー、ポリベン
ゾチアゾールホモポリマー、ポリベンズイミダゾールホ
モポリマー及びこれらポリマーのランダム、シーケンシ
ャルあるいはブロック共重合ポリマーをいう。ここでポ
リベンゾオキサゾール、ポリベンゾチアゾール、ポリベ
ンズイミダゾール及びこれらのランダム、シーケンシャ
ルあるいはブロック共重合ポリマーは、例えば Wolfe等
の「Liquid Crystalline Polymer Compositions, Proce
ss and Products 」米国特許第4703103号(19
87年10月27日)、「Liquid Crystalline Polymer
Compositions , Process and Products」米国特許45
33692号(1985年8月6日)、「Liquid Cryst
alline Poly(2,6-Benzothiazole) Composition, Proces
s and Products」米国特許第4533724号(198
5年8月6日)、「 Liquid Crystalline Polymer Compo
sitions ,Process and Products」米国特許第4533
693号(1985年8月6日)、Evers の「Thermoox
idatively Stable Articulated p-Benzobisoxazole an
d p-Benzobisthiazole Polymres」米国特許第4539
567号(1982年11月16日)、Tasi等の「Meth
od for making Heterocyclic Block Copolymer」米国特
許第4578432号(1986年3月25日)等に記
載されている。ポリベンザゾールポリマーに含まれる構
造単位としては、好ましくはライオトロピック液晶ポリ
マーから選択される。モノマー単位は構造式(a)〜
(n)に記載されているモノマー単位からなることが好
ましく、さらに好ましくは、本質的に構造式(a)〜
(h)
【0009】
【化1】
【0010】
【化2】 から選択されたモノマー単位からなる。
【0011】また、本発明のポリベンザゾールポリマー
は重合度が20〜200であることが好ましい。重合度
が20未満であるとフィルムの自己支持性が充分でな
く、重合度が200を越える場合は、ドープの粘度が極
端に高くなり製膜に用いることが困難になることがあ
り、好ましくない。
は重合度が20〜200であることが好ましい。重合度
が20未満であるとフィルムの自己支持性が充分でな
く、重合度が200を越える場合は、ドープの粘度が極
端に高くなり製膜に用いることが困難になることがあ
り、好ましくない。
【0012】本発明のフィルムは、ポリベンザゾールを
主成分とするフィルムであって、上記ポリベンザゾール
のモノマー単位を70重量%以上含有する。30重量%
未満は他のポリマー単位、例えば、芳香族ポリアミドや
芳香族ポリイミド等が含有されていても構わない。ポリ
ベンザゾールの含有量は、剛性が高くなることから80
重量%以上がより好ましい。
主成分とするフィルムであって、上記ポリベンザゾール
のモノマー単位を70重量%以上含有する。30重量%
未満は他のポリマー単位、例えば、芳香族ポリアミドや
芳香族ポリイミド等が含有されていても構わない。ポリ
ベンザゾールの含有量は、剛性が高くなることから80
重量%以上がより好ましい。
【0013】本発明のフィルムは長手方向及び幅方向に
おいて、伸度が5%以上かつヤング率が19.6GPa
以上であり、波長550nmの光線透過率が50%以上
であるポリベンザゾールフィルムである。伸度が少なく
とも一方向において5%未満となる場合、同方向にフィ
ルムが脆く切れやすくなることがあるので好ましくな
い。本発明のポリベンザゾールフィルムの伸度は、より
好ましくは10%以上、更に好ましくは20%以上であ
ると、テ−プに加工した際に適度な柔軟性を持ち、ハン
ドリングが容易となるために好ましい。伸度に特に上限
はないが、通常は50%程度とするのが、ヤング率と伸
度のバランスが良いことから好ましい。また、ヤング率
が少なくとも一方向において19.6GPa未満の場
合、加工時やテープに成形され使用される際の巻き取り
時の高張力、張力変動に対抗することができなかった
り、薄膜化した場合のエッジダメージや磁気記録媒体と
した時の磁気ヘッドとの当たり特性が悪化する場合があ
る。本発明のポリベンザゾールフィルムのヤング率はよ
り好ましくは29.4GPa以上、更に好ましくは3
9.2GPa以上であるとフィルムの薄膜化に好適であ
るので好ましい。ヤング率は特に上限はないが、通常は
50GPa程度とするのが、ヤング率と伸度のバランス
が良いことから好ましい。更に、波長550nmの光線
透過率が50%未満の場合、フィルムの物性が等方的で
なかったり、フィルム内部にボイドが多数存在して脆く
なったりすることがあるので好ましくない。波長550
nmの光線透過率はフィルム物性がより等方的になるこ
とから60%以上がより好ましく、70%以上が更に好
ましい。波長550nmの光線透過率に特に上限はない
が、通常95%程度である。
おいて、伸度が5%以上かつヤング率が19.6GPa
以上であり、波長550nmの光線透過率が50%以上
であるポリベンザゾールフィルムである。伸度が少なく
とも一方向において5%未満となる場合、同方向にフィ
ルムが脆く切れやすくなることがあるので好ましくな
い。本発明のポリベンザゾールフィルムの伸度は、より
好ましくは10%以上、更に好ましくは20%以上であ
ると、テ−プに加工した際に適度な柔軟性を持ち、ハン
ドリングが容易となるために好ましい。伸度に特に上限
はないが、通常は50%程度とするのが、ヤング率と伸
度のバランスが良いことから好ましい。また、ヤング率
が少なくとも一方向において19.6GPa未満の場
合、加工時やテープに成形され使用される際の巻き取り
時の高張力、張力変動に対抗することができなかった
り、薄膜化した場合のエッジダメージや磁気記録媒体と
した時の磁気ヘッドとの当たり特性が悪化する場合があ
る。本発明のポリベンザゾールフィルムのヤング率はよ
り好ましくは29.4GPa以上、更に好ましくは3
9.2GPa以上であるとフィルムの薄膜化に好適であ
るので好ましい。ヤング率は特に上限はないが、通常は
50GPa程度とするのが、ヤング率と伸度のバランス
が良いことから好ましい。更に、波長550nmの光線
透過率が50%未満の場合、フィルムの物性が等方的で
なかったり、フィルム内部にボイドが多数存在して脆く
なったりすることがあるので好ましくない。波長550
nmの光線透過率はフィルム物性がより等方的になるこ
とから60%以上がより好ましく、70%以上が更に好
ましい。波長550nmの光線透過率に特に上限はない
が、通常95%程度である。
【0014】本発明のポリベンザゾールフィルムの吸湿
率は、0〜5%、より好ましくは0〜3%、更に好まし
くは0〜2%であると、湿度変化による寸法変化を抑制
することができるので好ましい。
率は、0〜5%、より好ましくは0〜3%、更に好まし
くは0〜2%であると、湿度変化による寸法変化を抑制
することができるので好ましい。
【0015】本発明のポリベンザゾールフィルムの25
0℃、10分間での熱収縮率は0〜2%が好ましく、よ
り好ましくは0〜1%であると温度変化によるテ−プの
寸法変化が小さく良好な電磁変換特性を保てるので好ま
しい。
0℃、10分間での熱収縮率は0〜2%が好ましく、よ
り好ましくは0〜1%であると温度変化によるテ−プの
寸法変化が小さく良好な電磁変換特性を保てるので好ま
しい。
【0016】本発明のポリベンザゾールフィルムは、少
なくとも一方の表面において表面粗さRaが0.1〜1
0nmであると、磁気記録媒体とした時の電磁変換特性
が良好となるので好ましい。Raが10nmを越えると
磁気記録媒体とした時の電磁変換特性が悪化する場合が
あり、Raが0.1nm未満の場合は表面が平滑すぎて
摩擦が大きくなり、テープ加工時等のハンドリング性が
悪化することがある。
なくとも一方の表面において表面粗さRaが0.1〜1
0nmであると、磁気記録媒体とした時の電磁変換特性
が良好となるので好ましい。Raが10nmを越えると
磁気記録媒体とした時の電磁変換特性が悪化する場合が
あり、Raが0.1nm未満の場合は表面が平滑すぎて
摩擦が大きくなり、テープ加工時等のハンドリング性が
悪化することがある。
【0017】本発明のポリベンザゾールフィルムは、2
0cm四方の範囲内の厚み変動がフィルム平均厚みの0
〜20%であることが好ましい。上記厚み変動が20%
を越える場合、磁気記録媒体とした時の磁気ヘッドとの
当たり特性が悪化することがあるので好ましくない。
0cm四方の範囲内の厚み変動がフィルム平均厚みの0
〜20%であることが好ましい。上記厚み変動が20%
を越える場合、磁気記録媒体とした時の磁気ヘッドとの
当たり特性が悪化することがあるので好ましくない。
【0018】更に、本発明のポリベンザゾールフィルム
は、フィルムの機械特性を発揮し、加工または使用に当
たって加わる加熱による機械特性の変化が発生しないよ
うに、フィルム製造時に熱処理して結晶化が進められて
おり、加工または使用時に加熱されてもフィルムの平均
密度の増加は、0.020g/cm3以下、好ましくは
0.015g/cm3以下、さらに好ましくは0.01
0g/cm3以下である。また、本発明のフィルムは、
フィルム表裏の結晶化度を表す密度の差が0.015g
/cm3以下、好ましくは0.012g/cm3以下,さ
らに好ましくは0.008g/cm3以下であることで
ある。フィルムの表裏の密度差が0.015g/cm3
を超える場合には、例えばフィルムを実用に供し、加熱
下に使用された場合、フィルム面内に部分的な熱収縮の
斑が発生し、フィルムにうねりやしぼ立ち等の問題が発
生する。これらの密度差に下限は特にないが、0に近い
ほど好ましい。
は、フィルムの機械特性を発揮し、加工または使用に当
たって加わる加熱による機械特性の変化が発生しないよ
うに、フィルム製造時に熱処理して結晶化が進められて
おり、加工または使用時に加熱されてもフィルムの平均
密度の増加は、0.020g/cm3以下、好ましくは
0.015g/cm3以下、さらに好ましくは0.01
0g/cm3以下である。また、本発明のフィルムは、
フィルム表裏の結晶化度を表す密度の差が0.015g
/cm3以下、好ましくは0.012g/cm3以下,さ
らに好ましくは0.008g/cm3以下であることで
ある。フィルムの表裏の密度差が0.015g/cm3
を超える場合には、例えばフィルムを実用に供し、加熱
下に使用された場合、フィルム面内に部分的な熱収縮の
斑が発生し、フィルムにうねりやしぼ立ち等の問題が発
生する。これらの密度差に下限は特にないが、0に近い
ほど好ましい。
【0019】本発明のポリベンザゾールフィルムは、テ
ープに加工した際の走行性を改善する目的で無機粒子や
有機粒子を含有することが好ましい。好ましい無機粒子
としては、例えば、SiO2、TiO2、Al2O3、Ca
SO4、BaSO4、CaCO 3、カ−ボンブラック、ゼ
オライト、その他の金属微粉末等が挙げられる。また、
好ましい有機粒子としては、例えば、架橋ポリビニルベ
ンゼン、架橋アクリル、架橋ポリスチレン、ポリエステ
ル粒子、ポリイミド粒子、ポリアミド粒子、フッ素樹脂
粒子等の有機高分子からなる粒子、あるいは、表面に上
記有機高分子で被覆等の処理を施した無機粒子が挙げら
れる。
ープに加工した際の走行性を改善する目的で無機粒子や
有機粒子を含有することが好ましい。好ましい無機粒子
としては、例えば、SiO2、TiO2、Al2O3、Ca
SO4、BaSO4、CaCO 3、カ−ボンブラック、ゼ
オライト、その他の金属微粉末等が挙げられる。また、
好ましい有機粒子としては、例えば、架橋ポリビニルベ
ンゼン、架橋アクリル、架橋ポリスチレン、ポリエステ
ル粒子、ポリイミド粒子、ポリアミド粒子、フッ素樹脂
粒子等の有機高分子からなる粒子、あるいは、表面に上
記有機高分子で被覆等の処理を施した無機粒子が挙げら
れる。
【0020】本発明のポリベンザゾールフィルムは、フ
レキシブルプリント基板、コンデンサー、プリンターリ
ボン、音響振動板、太陽電池のベースフィルム等種々の
用途に好ましく用いられるが、少なくとも片面に磁性層
を設けた磁気記録媒体として用いられると、高ヤング率
と平滑な表面を兼ね備えた本発明のポリベンザゾールフ
ィルムの効果が充分に発揮されるため、特に好ましい。
レキシブルプリント基板、コンデンサー、プリンターリ
ボン、音響振動板、太陽電池のベースフィルム等種々の
用途に好ましく用いられるが、少なくとも片面に磁性層
を設けた磁気記録媒体として用いられると、高ヤング率
と平滑な表面を兼ね備えた本発明のポリベンザゾールフ
ィルムの効果が充分に発揮されるため、特に好ましい。
【0021】磁気記録媒体の形態は、ディスク状、カー
ド状、テープ状など特に限定されないが、本発明のポリ
ベンザゾールフィルムの優れた高ヤング率・表面性を活
かした薄膜化に対応するため、ベ−スフィルムの厚みが
6.5μm以下、幅が2.3〜13.0mm、長さが1
00m/巻以上、磁気記録媒体としての記録密度(非圧
縮時)が8キロバイト/mm2以上の長尺、高密度の磁
気テ−プとしたときに、本発明の効果をより一層奏する
ことができるので特に好ましい。なお、ここでいう記録
密度は下式 記録密度 = 記録容量/(テ−プ幅×テ−プ長さ) により算出される。
ド状、テープ状など特に限定されないが、本発明のポリ
ベンザゾールフィルムの優れた高ヤング率・表面性を活
かした薄膜化に対応するため、ベ−スフィルムの厚みが
6.5μm以下、幅が2.3〜13.0mm、長さが1
00m/巻以上、磁気記録媒体としての記録密度(非圧
縮時)が8キロバイト/mm2以上の長尺、高密度の磁
気テ−プとしたときに、本発明の効果をより一層奏する
ことができるので特に好ましい。なお、ここでいう記録
密度は下式 記録密度 = 記録容量/(テ−プ幅×テ−プ長さ) により算出される。
【0022】ベ−スフィルムの厚みは、5.0μm以下
であることがより好ましく、4.0μm以下であること
が更に好ましい。厚みは特に下限はないが、通常は1μ
m程度とするのがフィルムの取り扱いが良いことから好
ましい。また、磁気記録媒体としての記録密度は、より
好ましくは25キロバイト/mm2以上、更に好ましく
は34キロバイト/mm2以上である。記録密度は特に
上限はないが、通常は100キロバイト/mm2程度と
するのが、粗大突起等によるドロップアウトの影響を受
けにくいことから好ましい。
であることがより好ましく、4.0μm以下であること
が更に好ましい。厚みは特に下限はないが、通常は1μ
m程度とするのがフィルムの取り扱いが良いことから好
ましい。また、磁気記録媒体としての記録密度は、より
好ましくは25キロバイト/mm2以上、更に好ましく
は34キロバイト/mm2以上である。記録密度は特に
上限はないが、通常は100キロバイト/mm2程度と
するのが、粗大突起等によるドロップアウトの影響を受
けにくいことから好ましい。
【0023】また、本発明は磁気記録媒体として、民生
用、プロ用、D−1,D−2,D−3等の放送局用デジ
タルビデオカセット用途、DDS−2,3,4、データ
8mm、QIC等のデータストレージ用途に好適に用い
ることができるが、データ欠落等の信頼性が最も重視さ
れるデータストレージ用途が最適である。
用、プロ用、D−1,D−2,D−3等の放送局用デジ
タルビデオカセット用途、DDS−2,3,4、データ
8mm、QIC等のデータストレージ用途に好適に用い
ることができるが、データ欠落等の信頼性が最も重視さ
れるデータストレージ用途が最適である。
【0024】本発明のポリベンザゾールフィルムが適用
される高密度記録媒体の磁性層は、特に限定されない
が、公知の強磁性金属薄膜層が例示される。強磁性金属
薄膜層の形成手段としては、従来公知の方法が用いら
れ、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプ
レ−ティング法や塗布法等が挙げられる。強磁性金属材
料としては、Co、Ni、Cr、Fe等の金属やこれら
を主成分とする合金等を用いることができる。
される高密度記録媒体の磁性層は、特に限定されない
が、公知の強磁性金属薄膜層が例示される。強磁性金属
薄膜層の形成手段としては、従来公知の方法が用いら
れ、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプ
レ−ティング法や塗布法等が挙げられる。強磁性金属材
料としては、Co、Ni、Cr、Fe等の金属やこれら
を主成分とする合金等を用いることができる。
【0025】磁性層を形成後、ダイヤモンドライクコ−
ティングの付与あるいは潤滑保護層の付与を施したり、
または両者を併用することは磁気記録媒体の耐久性向上
の点で好ましい。更に、磁性層と反対側の面により走行
性を向上させるために、公知の方法によりバックコ−ト
層を設けてもよい。
ティングの付与あるいは潤滑保護層の付与を施したり、
または両者を併用することは磁気記録媒体の耐久性向上
の点で好ましい。更に、磁性層と反対側の面により走行
性を向上させるために、公知の方法によりバックコ−ト
層を設けてもよい。
【0026】本発明のポリベンザゾールフィルムは、コ
ア等に巻き上げていきフィルムロールとすることができ
る。コアの材質は特に限定されず、紙、プラステック等
公知のものを使用できる。また、外径が1〜10イン
チ、特に2〜8インチのものが好ましく用いられる。コ
ア長は150〜2000mm、特に500〜1500m
mのものが好ましく用いられる。
ア等に巻き上げていきフィルムロールとすることができ
る。コアの材質は特に限定されず、紙、プラステック等
公知のものを使用できる。また、外径が1〜10イン
チ、特に2〜8インチのものが好ましく用いられる。コ
ア長は150〜2000mm、特に500〜1500m
mのものが好ましく用いられる。
【0027】本発明のポリベンザゾールフィルムは、例
えば、次のような方法で製造できるが、本発明はこれら
に限定されるものではない。
えば、次のような方法で製造できるが、本発明はこれら
に限定されるものではない。
【0028】まず、ポリベンザゾールポリマーのドープ
を形成するための好適な溶媒としては、クレゾールやそ
のポリマーを溶解し得る非酸化性の酸が含まれる。好適
な酸溶媒の例としては、ポリリン酸、メタンスルホン酸
および高濃度の硫酸あるいはそれらの混合物が挙げられ
る。なかでも、さらに適する溶媒はポリリン酸及びメタ
ンスルホン酸である。また最も適する溶媒は、ポリリン
酸である。溶媒中のポリマー濃度は好ましくは5重量%
以上であり、より好ましくは7重量%以上、更に好まし
くは10重量%以上である。ポリマー濃度が5重量%未
満の場合、湿式工程に導入した際に浴槽の溶媒との置換
が急激に起こり表面があれたり、特に常温で光学異方性
を示さないような場合は、成形後のフィルムの機械特性
が不十分になることがあり好ましくない。最大濃度は、
例えばポリマーの溶解性やドープ粘度といった実際上の
取扱い性により限定される。それらの限界要因のため
に、ポリマー濃度は通常では20重量%を超えることは
ない。
を形成するための好適な溶媒としては、クレゾールやそ
のポリマーを溶解し得る非酸化性の酸が含まれる。好適
な酸溶媒の例としては、ポリリン酸、メタンスルホン酸
および高濃度の硫酸あるいはそれらの混合物が挙げられ
る。なかでも、さらに適する溶媒はポリリン酸及びメタ
ンスルホン酸である。また最も適する溶媒は、ポリリン
酸である。溶媒中のポリマー濃度は好ましくは5重量%
以上であり、より好ましくは7重量%以上、更に好まし
くは10重量%以上である。ポリマー濃度が5重量%未
満の場合、湿式工程に導入した際に浴槽の溶媒との置換
が急激に起こり表面があれたり、特に常温で光学異方性
を示さないような場合は、成形後のフィルムの機械特性
が不十分になることがあり好ましくない。最大濃度は、
例えばポリマーの溶解性やドープ粘度といった実際上の
取扱い性により限定される。それらの限界要因のため
に、ポリマー濃度は通常では20重量%を超えることは
ない。
【0029】好適なポリマーやコポリマーあるいはドー
プは公知の手法により合成される。例えばWolfe 等の米
国特許第4533693号公報、Sybert等の米国特許4
772678号公報、Harrisの米国特許第484735
0号公報に記載される方法で合成される。また、ポリベ
ンザゾールポリマーは、Gregory等の米国特許第508
9591号公報によると、脱水性の酸溶媒中での比較的
高温、高剪断条件下において高い反応速度での高分子量
化が可能である。
プは公知の手法により合成される。例えばWolfe 等の米
国特許第4533693号公報、Sybert等の米国特許4
772678号公報、Harrisの米国特許第484735
0号公報に記載される方法で合成される。また、ポリベ
ンザゾールポリマーは、Gregory等の米国特許第508
9591号公報によると、脱水性の酸溶媒中での比較的
高温、高剪断条件下において高い反応速度での高分子量
化が可能である。
【0030】本発明のフィルムを得るためにポリベンザ
ゾールポリマーの固有粘度ηinhは、100%硫酸、メ
タンスルホン酸もしくはクロルスルホン酸にポリマー濃
度が0.2g/100ccになるように溶解後、常法に
より求めた値が2.0以上であることが好ましい。
ゾールポリマーの固有粘度ηinhは、100%硫酸、メ
タンスルホン酸もしくはクロルスルホン酸にポリマー濃
度が0.2g/100ccになるように溶解後、常法に
より求めた値が2.0以上であることが好ましい。
【0031】また、粒子を添加する場合は、フィルム中
で均一な分散とするため、添加前に好ましくは10ポイ
ズ、より好ましくは1ポイズ以下の溶媒に分散させてお
くことが好ましい。粒子を予め溶媒に分散させずにその
まま製膜用のポリマ−溶液に添加した場合、平均粒径が
大きくなり、また、粒径分布も大きくなることがあり、
その結果フィルムの表面が粗れることがある。用いる溶
媒としては製膜原液と同じものが好ましいが、製膜性に
特に悪影響を与えなければ他の溶媒を使用してもかまわ
ない。分散方法としては、上記溶媒に粒子を入れ、撹拌
式分散器、ボ−ルミル、サンドミル、超音波分散器等で
分散する。この様に分散された粒子はポリマ−溶液中へ
添加混合されるが、重合前の溶媒中へ添加、あるいはポ
リマ−溶液の調製工程で添加してもよい。また、キャス
ト直前に添加してもよい。
で均一な分散とするため、添加前に好ましくは10ポイ
ズ、より好ましくは1ポイズ以下の溶媒に分散させてお
くことが好ましい。粒子を予め溶媒に分散させずにその
まま製膜用のポリマ−溶液に添加した場合、平均粒径が
大きくなり、また、粒径分布も大きくなることがあり、
その結果フィルムの表面が粗れることがある。用いる溶
媒としては製膜原液と同じものが好ましいが、製膜性に
特に悪影響を与えなければ他の溶媒を使用してもかまわ
ない。分散方法としては、上記溶媒に粒子を入れ、撹拌
式分散器、ボ−ルミル、サンドミル、超音波分散器等で
分散する。この様に分散された粒子はポリマ−溶液中へ
添加混合されるが、重合前の溶媒中へ添加、あるいはポ
リマ−溶液の調製工程で添加してもよい。また、キャス
ト直前に添加してもよい。
【0032】この様にして調製されたドープは、光学異
方性を保ったまま、ダイ例えばスリットダイから支持面
上に流延される。本発明において、流延及びそれに続く
光学等方性への転化・凝固・洗浄・延伸・乾燥等の工程
を連続的に行っても、これらの全部又は一部を断続的
に、つまり回分式に行っても構わない。
方性を保ったまま、ダイ例えばスリットダイから支持面
上に流延される。本発明において、流延及びそれに続く
光学等方性への転化・凝固・洗浄・延伸・乾燥等の工程
を連続的に行っても、これらの全部又は一部を断続的
に、つまり回分式に行っても構わない。
【0033】本発明を実施する上で、支持面としては、
エンドレスベルトまたはドラムを用いる。ガラス版など
の板状物では、長尺の均一なフィルムが得られず好まし
くない。金属としては、ステンレス鋼、ハステロイ系合
金、タンタル等が好ましい。
エンドレスベルトまたはドラムを用いる。ガラス版など
の板状物では、長尺の均一なフィルムが得られず好まし
くない。金属としては、ステンレス鋼、ハステロイ系合
金、タンタル等が好ましい。
【0034】本発明において、機械特性に優れ、表面精
度の良い透明フィルムを得る方法は、ドープを支持面上
に流延した後、凝固に先立ってドープを光学異方性から
光学等方性に転化するものである。
度の良い透明フィルムを得る方法は、ドープを支持面上
に流延した後、凝固に先立ってドープを光学異方性から
光学等方性に転化するものである。
【0035】光学異方性から光学等方性に転化するに
は、具体的には、支持面上に流延したドープを凝固に先
立ち、吸湿させてドープを形成する溶剤の濃度を下げ、
溶剤の溶解能力及びポリマー濃度の変化により光学等方
性域に転移させる方法、または加熱することによりドー
プを昇温し、ドープの層を光学等方性に転移する方法、
あるいは吸湿と加熱を同時または逐次的に併用する方法
により達成できる。特に、吸湿を利用する方法は、加熱
を併用する方法も含めて、光学等方化が効率よくかつポ
リマーの分解を引き起こすこともなくできるので有用で
ある。
は、具体的には、支持面上に流延したドープを凝固に先
立ち、吸湿させてドープを形成する溶剤の濃度を下げ、
溶剤の溶解能力及びポリマー濃度の変化により光学等方
性域に転移させる方法、または加熱することによりドー
プを昇温し、ドープの層を光学等方性に転移する方法、
あるいは吸湿と加熱を同時または逐次的に併用する方法
により達成できる。特に、吸湿を利用する方法は、加熱
を併用する方法も含めて、光学等方化が効率よくかつポ
リマーの分解を引き起こすこともなくできるので有用で
ある。
【0036】ドープを吸湿させるには、通常の温度・湿
度の空気でも良いが、好ましくは、加湿または加温加湿
された空気を用いる。加湿空気は、飽和蒸気圧を超えて
霧状の水分を含んでいても良く、いわゆる水蒸気であっ
ても良い。ただし、45℃以下の過飽和水蒸気は、大き
な粒状の凝集水を含むことが多いので好ましくない。吸
湿は通常、室温〜180℃、好ましくは50〜150℃
の加湿空気によって行われる。
度の空気でも良いが、好ましくは、加湿または加温加湿
された空気を用いる。加湿空気は、飽和蒸気圧を超えて
霧状の水分を含んでいても良く、いわゆる水蒸気であっ
ても良い。ただし、45℃以下の過飽和水蒸気は、大き
な粒状の凝集水を含むことが多いので好ましくない。吸
湿は通常、室温〜180℃、好ましくは50〜150℃
の加湿空気によって行われる。
【0037】加温による方法の場合、加温の手段は特に
限定されず、上記のごとき加湿された空気を流延ドープ
に当てる方法、赤外線ランプを照射する方法、誘電加熱
による方法等が挙げられる。
限定されず、上記のごとき加湿された空気を流延ドープ
に当てる方法、赤外線ランプを照射する方法、誘電加熱
による方法等が挙げられる。
【0038】支持面上で光学等方化された流延ドープ
は、次に凝固を受ける。本発明において、ドープの凝固
液として使用できるものは、水、リン酸水溶液、硫酸水
溶液、水酸化ナトリウム水溶液等が挙げられる。凝固液
とドープの溶媒の交換が穏やかで、フィルム表面のあれ
を抑制できることから、10〜70重量%のリン酸水溶
液を使用することが特に好ましい。
は、次に凝固を受ける。本発明において、ドープの凝固
液として使用できるものは、水、リン酸水溶液、硫酸水
溶液、水酸化ナトリウム水溶液等が挙げられる。凝固液
とドープの溶媒の交換が穏やかで、フィルム表面のあれ
を抑制できることから、10〜70重量%のリン酸水溶
液を使用することが特に好ましい。
【0039】本発明において、凝固液の温度は−60〜
60℃にすることが好ましく、更に好ましくは−30〜
30℃である。凝固液の温度が60℃を越える場合はフ
ィルムの表面があれたり、フィルムの表裏で密度に差が
できたりすることがあり、−60℃未満ではドープの凝
固速度が遅く、生産性が低下することがある。
60℃にすることが好ましく、更に好ましくは−30〜
30℃である。凝固液の温度が60℃を越える場合はフ
ィルムの表面があれたり、フィルムの表裏で密度に差が
できたりすることがあり、−60℃未満ではドープの凝
固速度が遅く、生産性が低下することがある。
【0040】凝固されたフィルムはそのままでは酸が含
まれているために、加熱による機械的物性の低下の少な
いフィルムを製造するためには、酸分の洗浄・除去をで
きるだけ行う必要がある。酸分の除去は具体的には50
0ppm以下まで行うことが望ましい。洗浄液としては
水が通常用いられるが、必要に応じて温水で行ったり、
水酸化ナトリウム、水酸化リチウム等のアルカリ水溶液
で中和洗浄した後、水などで洗浄しても良い。洗浄は、
例えば、洗浄液中でフィルムを走行させたり、洗浄液を
噴霧する等の方法により行われる。
まれているために、加熱による機械的物性の低下の少な
いフィルムを製造するためには、酸分の洗浄・除去をで
きるだけ行う必要がある。酸分の除去は具体的には50
0ppm以下まで行うことが望ましい。洗浄液としては
水が通常用いられるが、必要に応じて温水で行ったり、
水酸化ナトリウム、水酸化リチウム等のアルカリ水溶液
で中和洗浄した後、水などで洗浄しても良い。洗浄は、
例えば、洗浄液中でフィルムを走行させたり、洗浄液を
噴霧する等の方法により行われる。
【0041】洗浄されたフィルムは、次に、もし必要な
らば膨潤状態で延伸しても良い。延伸によって延伸方向
にポリマー分子鎖を配向させることができるため、機械
的性質が向上する。
らば膨潤状態で延伸しても良い。延伸によって延伸方向
にポリマー分子鎖を配向させることができるため、機械
的性質が向上する。
【0042】乾燥は、緊張下、定長下または、わずかに
延伸しつつ、フィルムの収縮を制限して行う必要があ
る。もし洗浄液(例えば水)の除去とともに収縮する傾
向を有するフィルムを、何らかの収縮の制限を行うこと
なく乾燥した場合は、ミクロに不均一な構造形成(結晶
化等)が起こるためか得られるフィルムの光線透過率が
低くなってしまう。また、フィルムの平面性が損なわれ
たり、カールしてしまうこともある。収縮を制限しつつ
乾燥するには、例えば、テンター乾燥機や金属枠に挟ん
での乾燥等を利用することができる。乾燥に係る他の条
件は特に制限されるものではなく、加熱気体(空気、窒
素、アルゴン等)や電気ヒータや赤外線ランプ等の輻射
熱の利用法、誘電加熱法等の手段から選ぶことができ、
乾燥温度も特に制限されるものではないが、100℃以
上であればよい。ただし、機械特性を向上させるため、
及びフィルムの結晶化を進めるために高温のほうが好ま
しく、200℃以上、更に好ましくは300℃以上が用
いられる。乾燥の最高温度は特に限定されるものではな
いが、乾燥エネルギーやポリマーの分解性を考慮すれば
500℃以下が好ましい。また、乾燥中や乾燥後にフィ
ルムを高温で延伸しても構わない。延伸温度は300℃
〜500℃、延伸倍率は面倍率で1.1倍〜3.0倍で
あると伸度とヤング率のバランスが良いので好ましい。
延伸しつつ、フィルムの収縮を制限して行う必要があ
る。もし洗浄液(例えば水)の除去とともに収縮する傾
向を有するフィルムを、何らかの収縮の制限を行うこと
なく乾燥した場合は、ミクロに不均一な構造形成(結晶
化等)が起こるためか得られるフィルムの光線透過率が
低くなってしまう。また、フィルムの平面性が損なわれ
たり、カールしてしまうこともある。収縮を制限しつつ
乾燥するには、例えば、テンター乾燥機や金属枠に挟ん
での乾燥等を利用することができる。乾燥に係る他の条
件は特に制限されるものではなく、加熱気体(空気、窒
素、アルゴン等)や電気ヒータや赤外線ランプ等の輻射
熱の利用法、誘電加熱法等の手段から選ぶことができ、
乾燥温度も特に制限されるものではないが、100℃以
上であればよい。ただし、機械特性を向上させるため、
及びフィルムの結晶化を進めるために高温のほうが好ま
しく、200℃以上、更に好ましくは300℃以上が用
いられる。乾燥の最高温度は特に限定されるものではな
いが、乾燥エネルギーやポリマーの分解性を考慮すれば
500℃以下が好ましい。また、乾燥中や乾燥後にフィ
ルムを高温で延伸しても構わない。延伸温度は300℃
〜500℃、延伸倍率は面倍率で1.1倍〜3.0倍で
あると伸度とヤング率のバランスが良いので好ましい。
【0043】なお本発明のフィルムは、積層フィルムで
あってもよい。例えば2層の場合には、重合したポリベ
ンザゾール溶液を二分し、それぞれ異なる粒子を添加し
た後、積層する。さらに3層以上の場合も同様である。
これら積層の方法としては、周知の方法たとえば、口金
内での積層、複合管での積層や、一旦1層を形成してお
いてその上に他の層を形成する方法などがある。
あってもよい。例えば2層の場合には、重合したポリベ
ンザゾール溶液を二分し、それぞれ異なる粒子を添加し
た後、積層する。さらに3層以上の場合も同様である。
これら積層の方法としては、周知の方法たとえば、口金
内での積層、複合管での積層や、一旦1層を形成してお
いてその上に他の層を形成する方法などがある。
【0044】
【実施例】本発明における物性の測定方法、効果の評価
方法は、次の方法に従って行った。
方法は、次の方法に従って行った。
【0045】(1)ヤング率、伸度 ロボットテンシロンRTA(オリエンテック社製)を用
いて20℃、相対湿度60%において測定した。試験片
は幅10mm、長さ50mmで、引っ張り速度は300
mm/分である。ただし、試験を開始してから加重が
0.1kgfを通過した点を伸びの原点とした。
いて20℃、相対湿度60%において測定した。試験片
は幅10mm、長さ50mmで、引っ張り速度は300
mm/分である。ただし、試験を開始してから加重が
0.1kgfを通過した点を伸びの原点とした。
【0046】(2)光線透過率 日立製作所製可視紫外分光光度計U−1000を用い
て、波長550nmの短波長光の光線透過量を測定し
た。
て、波長550nmの短波長光の光線透過量を測定し
た。
【0047】(3)表面粗さRa Digital Instruments社製原子間力顕微鏡NanoScopeIII
を用いて、以下の条件でガラス板またはベルトに接触し
ない表面について3ヶ所測定し、平均値を求めた。 カンチレバ−:シリコン単結晶 走査モ−ド:タッピングモ−ド 走査範囲:30μm×30μm 走査速度:0.5Hz 測定環境:25℃、相対湿度65%。
を用いて、以下の条件でガラス板またはベルトに接触し
ない表面について3ヶ所測定し、平均値を求めた。 カンチレバ−:シリコン単結晶 走査モ−ド:タッピングモ−ド 走査範囲:30μm×30μm 走査速度:0.5Hz 測定環境:25℃、相対湿度65%。
【0048】(4)密度 サンドペーパーを用いて、フィルムの表または裏からそ
れぞれ1μmになるまで削り出し、残ったフィルムを標
準フロートにより校正された密度勾配管により密度を測
定し、5点の平均値を求めた。加熱による密度変化につ
いては、300℃、10分間の加熱前後でのそれぞれ5
点の平均密度の差を求めた。
れぞれ1μmになるまで削り出し、残ったフィルムを標
準フロートにより校正された密度勾配管により密度を測
定し、5点の平均値を求めた。加熱による密度変化につ
いては、300℃、10分間の加熱前後でのそれぞれ5
点の平均密度の差を求めた。
【0049】(5)電磁変換特性 下記磁性塗料組成をサンドグラインドミルにて8時間混
合後、コロネートL(日本ポリウレタン工業(株)製)
を4重量部添加して、その後、フィルムの製膜時の金属
ベルトと接しない側の表面に1.5μm塗布した。 磁性粉:Fe系メタル磁性粉(比表面積55m2/g)100重量部 バインダー:塩化ビニル系共重合体 8重量部 ポリウレタン 10重量部 研磨剤:アルミナ(AKP-50:住友化学工業(株)製) 8重量部 分散剤:ステアリン酸 1重量部 滑 剤:ペプチルステアレート 2重量部 溶 剤:トルエン 60重量部 メチルエチルケトン 160重量部。
合後、コロネートL(日本ポリウレタン工業(株)製)
を4重量部添加して、その後、フィルムの製膜時の金属
ベルトと接しない側の表面に1.5μm塗布した。 磁性粉:Fe系メタル磁性粉(比表面積55m2/g)100重量部 バインダー:塩化ビニル系共重合体 8重量部 ポリウレタン 10重量部 研磨剤:アルミナ(AKP-50:住友化学工業(株)製) 8重量部 分散剤:ステアリン酸 1重量部 滑 剤:ペプチルステアレート 2重量部 溶 剤:トルエン 60重量部 メチルエチルケトン 160重量部。
【0050】その後、下記バックコート層用塗料組成物
をボールミルにて48時間混合後、コロネートL(日本
ポリウレタン工業(株)製)を5重量部添加し、磁性面
と反対面へ0.4μm塗布した。 カーボンブラック:BP−L(キャボット社製) 95重量部 STERLING NS 5重量部 バインダー:塩化ビニル系共重合体 (エスレックA:積水化学工業(株)製)25重量部 ポリウレタン (N-5033:日本ホ゜リウレタン工業(株)製) 50重量部 溶 剤:トルエン 200重量部 メチルエチルケトン 500重量部。
をボールミルにて48時間混合後、コロネートL(日本
ポリウレタン工業(株)製)を5重量部添加し、磁性面
と反対面へ0.4μm塗布した。 カーボンブラック:BP−L(キャボット社製) 95重量部 STERLING NS 5重量部 バインダー:塩化ビニル系共重合体 (エスレックA:積水化学工業(株)製)25重量部 ポリウレタン (N-5033:日本ホ゜リウレタン工業(株)製) 50重量部 溶 剤:トルエン 200重量部 メチルエチルケトン 500重量部。
【0051】更に、カレンダー処理後、硬化し、8mm
幅にスリット後、カセットに組み込み8mmテ−プカセ
ットとした。このテ−プに8mm方式の家庭用8mmを
用いてテレビ試験波形発生器により100%クロマ信号
からカラ−ビデオノイズ測定器で、100回繰り返し走
行後のクロマS/Nを測定した。雰囲気は25℃、55
%RHの条件で、市販のテ−プを基準とし、以下の基準
で評価した。 ○:標準テ−プとの差が+0.5dB以上 △:標準テ−プとの差が−0.5dB以上+0.5dB
未満 ×:標準テ−プとの差が−0.5dB未満。
幅にスリット後、カセットに組み込み8mmテ−プカセ
ットとした。このテ−プに8mm方式の家庭用8mmを
用いてテレビ試験波形発生器により100%クロマ信号
からカラ−ビデオノイズ測定器で、100回繰り返し走
行後のクロマS/Nを測定した。雰囲気は25℃、55
%RHの条件で、市販のテ−プを基準とし、以下の基準
で評価した。 ○:標準テ−プとの差が+0.5dB以上 △:標準テ−プとの差が−0.5dB以上+0.5dB
未満 ×:標準テ−プとの差が−0.5dB未満。
【0052】(6)テープエッジダメージ 上記フィルムを8mmテ−プカセットに10分長分組み
込み、FF→REWを100回繰り返した後のテープエ
ッジダメージを目視により以下のように評価した。 ○:ダメージほとんどなし △:ダメージわずかであり、実用上問題なし ×:ダメージかなりあり、実用上問題あり。
込み、FF→REWを100回繰り返した後のテープエ
ッジダメージを目視により以下のように評価した。 ○:ダメージほとんどなし △:ダメージわずかであり、実用上問題なし ×:ダメージかなりあり、実用上問題あり。
【0053】以下に実施例に基づいて本発明をより具体
的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでな
いことは言うまでもない。
的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでな
いことは言うまでもない。
【0054】実施例1 米国特許4533693号に示された方法により、ポリ
マー濃度12重量%のポリベンゾチアゾールドープ(溶
媒:五酸化二リン83重量%含有のポリリン酸)を得
た。固有粘度は18.5で、光学異方性を示した。予め
ポリリン酸に超音波ホモジナイザーで分散させた一次粒
径が45nmのコロイダルシリカをポリマーに対し、
0.8重量%添加後、製膜しやすくするために約60℃
に保ったまま真空下にて脱気した。タンクからフィルタ
ーを通し、ギアポンプを経てダイに至る1.5mの曲管
を約60℃に保ち、0.15mm×300mmのスリッ
トを有するダイから鏡面のステンレス鋼製エンドレスベ
ルト上にキャストし、相対湿度約85%、90℃の空気
を吹き付けて流延ドープを光学等方化し、ベルトと共に
−10℃の30重量%ポリリン酸水溶液中に導いて凝固
させた。次いで凝固フィルムをベルトから剥がし、約4
0℃の温水中を走行させて洗浄した。洗浄の終了したフ
ィルムを乾燥させずに、長手方向に1.05倍、幅方向
に1.1倍延伸し、次いで定長下に400℃で熱風乾燥
をし、厚み5μmのフィルムを得た。得られたフィルム
の物性を表1に示した。電磁変換特性、テープエッジダ
メージを上記の方法で測定したところ、いずれも良好で
あった。
マー濃度12重量%のポリベンゾチアゾールドープ(溶
媒:五酸化二リン83重量%含有のポリリン酸)を得
た。固有粘度は18.5で、光学異方性を示した。予め
ポリリン酸に超音波ホモジナイザーで分散させた一次粒
径が45nmのコロイダルシリカをポリマーに対し、
0.8重量%添加後、製膜しやすくするために約60℃
に保ったまま真空下にて脱気した。タンクからフィルタ
ーを通し、ギアポンプを経てダイに至る1.5mの曲管
を約60℃に保ち、0.15mm×300mmのスリッ
トを有するダイから鏡面のステンレス鋼製エンドレスベ
ルト上にキャストし、相対湿度約85%、90℃の空気
を吹き付けて流延ドープを光学等方化し、ベルトと共に
−10℃の30重量%ポリリン酸水溶液中に導いて凝固
させた。次いで凝固フィルムをベルトから剥がし、約4
0℃の温水中を走行させて洗浄した。洗浄の終了したフ
ィルムを乾燥させずに、長手方向に1.05倍、幅方向
に1.1倍延伸し、次いで定長下に400℃で熱風乾燥
をし、厚み5μmのフィルムを得た。得られたフィルム
の物性を表1に示した。電磁変換特性、テープエッジダ
メージを上記の方法で測定したところ、いずれも良好で
あった。
【0055】実施例2 米国特許4533693号に示された方法により、ポリ
マー濃度14重量%のポリベンゾオキサゾールドープ
(溶媒:五酸化二リン83重量%含有のポリリン酸)を
得た。固有粘度は22.0で、光学異方性を示した。予
めポリリン酸に超音波ホモジナイザーで分散させた一次
粒径が45nmのコロイダルシリカをポリマーに対し、
0.8重量%添加後、製膜しやすくするために約70℃
に保ったまま真空下にて脱気した。タンクからフィルタ
ーを通し、ギアポンプを経てダイに至る1.5mの曲管
を約70℃に保ち、0.25mm×300mmのスリッ
トを有するダイから鏡面のハステロイ製エンドレスベル
ト上にキャストし、相対湿度約80%、75℃の空気を
吹き付けて流延ドープを光学等方化し、ベルトと共に−
7℃の40重量%ポリリン酸水溶液中に導いて凝固させ
た。次いで凝固フィルムをベルトから剥がし、常温の
水、2%カセイソーダ水溶液、約40℃の温水の順に洗
浄した。洗浄の終了したフィルムを定長下で150℃で
熱風で乾燥後、400℃の熱風下で長手方向に1.1
倍、幅方向に1.2倍延伸し、厚み4.4μmのフィル
ムを得た。得られたフィルムの物性を表1に示した。電
磁変換特性、テープエッジダメージを上記の方法で測定
したところ、いずれも良好であった。
マー濃度14重量%のポリベンゾオキサゾールドープ
(溶媒:五酸化二リン83重量%含有のポリリン酸)を
得た。固有粘度は22.0で、光学異方性を示した。予
めポリリン酸に超音波ホモジナイザーで分散させた一次
粒径が45nmのコロイダルシリカをポリマーに対し、
0.8重量%添加後、製膜しやすくするために約70℃
に保ったまま真空下にて脱気した。タンクからフィルタ
ーを通し、ギアポンプを経てダイに至る1.5mの曲管
を約70℃に保ち、0.25mm×300mmのスリッ
トを有するダイから鏡面のハステロイ製エンドレスベル
ト上にキャストし、相対湿度約80%、75℃の空気を
吹き付けて流延ドープを光学等方化し、ベルトと共に−
7℃の40重量%ポリリン酸水溶液中に導いて凝固させ
た。次いで凝固フィルムをベルトから剥がし、常温の
水、2%カセイソーダ水溶液、約40℃の温水の順に洗
浄した。洗浄の終了したフィルムを定長下で150℃で
熱風で乾燥後、400℃の熱風下で長手方向に1.1
倍、幅方向に1.2倍延伸し、厚み4.4μmのフィル
ムを得た。得られたフィルムの物性を表1に示した。電
磁変換特性、テープエッジダメージを上記の方法で測定
したところ、いずれも良好であった。
【0056】比較例1 実施例1において、キャスト後の流延ドープに相対湿度
約85%、90℃の空気を吹き付けない以外は、実施例
1と同様の方法で製膜した。幅方向のヤング率が大きく
低下し、テープエッジダメージが悪化した。
約85%、90℃の空気を吹き付けない以外は、実施例
1と同様の方法で製膜した。幅方向のヤング率が大きく
低下し、テープエッジダメージが悪化した。
【0057】比較例2 実施例2において、キャスト後の流延ドープに相対湿度
約80%、75℃の空気を吹き付けない以外は、実施例
2と同様の方法で製膜した。長手方向の配向が強いため
に、幅方向に延伸した段階でフィルムが頻繁に裂け長尺
のフィルムを得ることができなかった。短尺のフィルム
について物性を測定したのでその結果を表1に示した。
約80%、75℃の空気を吹き付けない以外は、実施例
2と同様の方法で製膜した。長手方向の配向が強いため
に、幅方向に延伸した段階でフィルムが頻繁に裂け長尺
のフィルムを得ることができなかった。短尺のフィルム
について物性を測定したのでその結果を表1に示した。
【0058】
【表1】
【0059】
【発明の効果】本発明のポリベンザゾールフィルムは、
透明で機械的物性が等方的であり、高ヤング率かつ適度
な伸度を持ち、薄膜化が可能なことから特に高密度磁気
記録媒体のベースフィルムとして好適に用いられる。
透明で機械的物性が等方的であり、高ヤング率かつ適度
な伸度を持ち、薄膜化が可能なことから特に高密度磁気
記録媒体のベースフィルムとして好適に用いられる。
フロントページの続き Fターム(参考) 4F071 AA58 AE14 AF20Y AF21Y AF27Y AF30Y AG27 AH14 BA02 BB02 BB07 BC01 BC10 BC11 BC12 BC16 4J043 PA02 PA04 PA08 PA09 PA10 QB07 QB08 QB09 QB15 QB34 RA42 RA52 RA57 SA06 SA08 SA47 SA71 SB01 TA57 TA71 TB01 UA121 UA122 UA131 UB011 VA061 YB05 ZA34 ZA55 ZB11 5D006 CB01 CB07 DA00 FA09
Claims (5)
- 【請求項1】ポリベンザゾールを主成分とするフィルム
であって、該フィルムの長手方向及び幅方向において、
伸度が5%以上かつヤング率が19.6GPa以上であ
り、波長550nmの光線透過率が50%以上であるポ
リベンザゾールフィルム。 - 【請求項2】少なくとも一方の表面において表面粗さR
a(nm)が 0.1≦Ra≦10 である請求項1に記載のポリベンザゾールフィルム。 - 【請求項3】フィルム表裏の密度差が0.015g/c
m3以下であり、フィルムの密度が300℃、10分の
加熱によっても0.020g/cm3以上増加しない請
求項1または2に記載のポリベンザゾールフィルム。 - 【請求項4】請求項1〜3のいずれかに記載のポリベン
ザゾールフィルムの少なくとも一面に磁性層を有する磁
気記録媒体。 - 【請求項5】幅が2.3〜13mm、支持体厚みが6.
5μm以下、長さが100m/巻以上、磁気記録媒体と
しての記録密度が8キロバイト/mm2以上である請求
項4に記載の磁気記録媒体からなる磁気テープ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11085673A JP2000273214A (ja) | 1999-03-29 | 1999-03-29 | ポリベンザゾールフィルム及びそれを用いた磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11085673A JP2000273214A (ja) | 1999-03-29 | 1999-03-29 | ポリベンザゾールフィルム及びそれを用いた磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000273214A true JP2000273214A (ja) | 2000-10-03 |
Family
ID=13865357
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11085673A Pending JP2000273214A (ja) | 1999-03-29 | 1999-03-29 | ポリベンザゾールフィルム及びそれを用いた磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000273214A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003024695A1 (en) * | 2001-09-18 | 2003-03-27 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Polymer film and method for preparation thereof |
| WO2003068853A1 (en) | 2002-02-15 | 2003-08-21 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Cluster ion exchange membrane, and electrolyte membrane electrode connection body |
| JP2005206637A (ja) * | 2004-01-20 | 2005-08-04 | Polymatech Co Ltd | ポリベンズアゾール成形体およびその製造方法 |
| JP2005536570A (ja) * | 2001-04-09 | 2005-12-02 | セラニーズ ベンチャーズ ゲー・エム・ベー・ハー | プロトン伝導性ポリマー膜 |
| JP2006035628A (ja) * | 2004-07-27 | 2006-02-09 | Toyobo Co Ltd | ポリベンザゾール系フィルムおよびその製造法 |
| JP2006176679A (ja) * | 2004-12-22 | 2006-07-06 | Polymatech Co Ltd | ポリベンズアゾール成形体およびその製造方法 |
| US7122617B2 (en) | 2002-07-25 | 2006-10-17 | Polymatech Co., Ltd. | Polybenzazole precursor film, polybenzazole film and method of producing the same |
| JP2007059534A (ja) * | 2005-08-23 | 2007-03-08 | Toyobo Co Ltd | フィルム状太陽電池 |
| KR100897728B1 (ko) * | 2001-04-09 | 2009-05-15 | 바스프 푸엘 셀 게엠베하 | 폴리아졸계 양성자 전도성 중합체 막, 및 이를 포함하는 전극 및 연료 전지 |
| KR100905688B1 (ko) | 2001-09-12 | 2009-07-03 | 바스프 푸엘 셀 게엠베하 | 양성자 전도성 막 및 이의 용도 |
| JP2011006690A (ja) * | 2010-08-06 | 2011-01-13 | Basf Fuel Cell Gmbh | プロトン伝導性ポリマー膜 |
-
1999
- 1999-03-29 JP JP11085673A patent/JP2000273214A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| WO2003068853A1 (en) | 2002-02-15 | 2003-08-21 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Cluster ion exchange membrane, and electrolyte membrane electrode connection body |
| EP1829915A1 (en) | 2002-07-25 | 2007-09-05 | Polymatech Co., Ltd. | Polybenzazole precursor film, polybenzazole film and method of producing the same |
| US7122617B2 (en) | 2002-07-25 | 2006-10-17 | Polymatech Co., Ltd. | Polybenzazole precursor film, polybenzazole film and method of producing the same |
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