JP2000275624A - プラスチックフィルム積層体及び液晶装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 プラスチックフィルムを粘着層によって硬質
支持部材上に粘着させて形成されるプラスチックフィル
ム積層体に関して、液晶装置を製造するための一連の工
程を支障なく実行できるようにする。 【解決手段】 粘着層３によってガラス支持部材２に粘
着されるプラスチックフィルム４を有するプラスチック
フィルム積層体１であって、レジスト塗布処理及びレジ
スト露光処理を含む電極形成処理を受けるものである。
粘着層３は、所定条件の紫外線照射によって粘着力が低
下し、しかしレジスト処理前洗浄のための紫外線照射及
びレジスト露光処理のための紫外線照射によっては粘着
力が低下しない粘着特性を有する。この粘着層３は、レ
ジスト処理時の紫外線照射では粘着力が低下しないが、
所定条件の紫外線照射では粘着力が低下する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶装置を製造す
る際に用いられるプラスチックフィルム積層体に関す
る。また本発明は、そのプラスチックフィルム積層体を
用いて行われる液晶装置の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶装置は、一般に、一対の基板の間に
形成されるセルギャップ内に液晶を封入して成る構成を
有し、その液晶に印加する電圧を画素ごとに制御するこ
とにより、上記一対の基板の少なくとも一方を通して数
字、文字、絵柄等といった像を表示する。

【０００３】この液晶装置において一対の基板は、多く
の場合、硬質部材であるガラスや可撓性部材であるプラ
スチックによって形成される。ここで、プラスチック
は、ガラスに比べて破損し難く、軽量である等といった
利点を有するものの、剛性が低くていわゆる腰が無いの
で、折り曲げられた際に各種成膜形成された電極、配向
膜、絶縁膜等に亀裂が生じて破損したり、また平坦に保
持すること及び強固に保持することが難しく、よって、
プラスチックフィルムを用いて液晶装置の基板を形成す
ることはガラスを用いる場合に比べて困難であった。

【０００４】この製造上の困難性を緩和するため、特開
平７−３２５２９７号公報及び特開平９−１０５８９６
号公報によれば、液晶装置用の基板を形成するために必
要となる各種工程を、紫外線硬化型の粘着層によってガ
ラス支持部材上に粘着させた状態のプラスチックフィル
ムに対して実行し、それらの工程が終了した後に、その
粘着層に紫外線を照射してその粘着力を低下させた上で
ガラス支持部材をプラスチックフィルムから剥離すると
いう方法が開示されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の方法では、プラスチックフィルムをガラス支持部材
上に粘着するための粘着層の特性に関しては詳しくは触
れられていない。実際のところ、粘着層の種類によって
は、ガラス支持部材上に支持されたプラスチックフィル
ムに対して液晶装置を製造するための各種の工程を実行
するときに、プラスチックの粘着状態が不安定になって
希望通りの処理を行えなくなるという問題が発生してい
た。

【０００６】本発明は、上記の問題点に鑑みて成された
ものであって、プラスチックフィルムを粘着層によって
支持部材上に粘着させることによって形成されるプラス
チックフィルム積層体に関して、液晶装置を製造するた
めの一連の工程を支障なく実行できるようにすることを
目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】（１） 上記の目的を達
成するため、本発明に係るプラスチックフィルム積層体
は、硬質の支持部材と、その支持部材の表面に形成され
る粘着層と、その粘着層によって前記支持部材に粘着さ
れるプラスチックフィルムとを有していて、レジスト塗
布処理及びレジスト露光処理を含む電極形成処理を受け
るプラスチックフィルム積層体において、前記粘着層
は、所定条件の紫外線照射によって粘着力が低下し、し
かし前記レジスト塗布処理前の洗浄のための紫外線照射
及び前記レジスト露光処理のための紫外線照射によって
は粘着力が低下しない粘着特性を有することを特徴とす
る。

【０００８】このプラスチックフィルム積層体によれ
ば、液晶装置を製造するための各種処理をプラスチック
フィルムに対して行う場合、それらの処理は硬質の支持
部材に支持された状態のプラスチックフィルムに対して
行われるので、それらの処理は高精度且つ迅速に支障無
く行うことができる。

【０００９】また、プラスチックフィルムを支持部材に
よって支持する必要が無くなったときには、適宜のタイ
ミングで前記所定条件の紫外線照射を行うことによって
粘着層の粘着力を低下させることにより、不要となった
支持部材をプラスチックフィルムから簡単に、しかもそ
のプラスチックフィルムに損傷を与えることなく剥離で
きる。

【００１０】また、本発明で用いる粘着層は、レジスト
塗布処理前洗浄のための紫外線照射及びレジスト露光処
理のための紫外線照射によっては粘着力が低下しない粘
着特性を有するので、支持部材に支持された状態でプラ
スチックフィルムがそれらの紫外線照射を受けるとき、
そのプラスチックフィルムを粘着している粘着層がそれ
らの紫外線照射によって悪影響を受けることが無くな
り、よって、液晶装置の製造のためにプラスチックフィ
ルムに対して行われる一連の工程を支障なく実行でき
る。

【００１１】（２） 上記構成のプラスチックフィルム
積層体において、前記粘着層は、紫外線の露光量を選択
することに応じて前記粘着特性を生じるような物質によ
って形成できる。

【００１２】（３） 上記（２）に記載のプラスチック
積層体に関しては、前記粘着層は、５００ｍｊ／ｃｍ^２
以上の露光量の紫外線照射によって粘着力が低下するよ
うな物質によって形成できる。これは次のような理由に
よるものである。

【００１３】すなわち、一般に、液晶装置の製造方法に
おけるレジスト処理前の紫外線洗浄工程において実行さ
れる紫外線照射の露光量は２５０ｍｊ／ｃｍ^２以上であ
り、また、レジスト露光工程において実行される紫外線
照射の露光量は１１０〜２００ｍｊ／ｃｍ^２である。従
って、これらの露光量下での紫外線照射によって粘着層
の粘着力が低下するようであると、それらの工程におい
てプラスチックフィルムに位置ズレ、撓み、変形等が発
生して、液晶製造のための各種工程が正常に行えなくな
るおそれがある。これに対し、粘着層の粘着力が低下す
る露光量を５００ｍｊ／ｃｍ^２以上に設定しておけば、
液晶装置の製造方法における上記の各種紫外線照射にお
いては粘着層に変化が発生せず、よって、液晶装置の製
造のための処理を支障無く行うことができる。

【００１４】（４） 上記（１）に記載のプラスチック
フィルム積層体において、前記粘着層は、紫外線の波長
を選択することに応じて前記粘着特性を生じるような物
質によって形成できる。

【００１５】（５） 上記（４）に記載のプラスチック
フィルム積層体に関しては、粘着層は、２５４ｎｍ〜３
６５ｎｍの波長域を外れる波長域の紫外線照射によって
粘着力が低下するような物質によって形成できる。これ
は次のような理由によるものである。

【００１６】すなわち、一般に、液晶装置の製造方法に
おけるレジスト処理前の紫外線洗浄工程及びレジスト露
光工程において用いられる紫外線の波長は２５４ｎｍ〜
３６５ｎｍであり、従って、この波長域の紫外線照射に
よって粘着層の粘着力が低下するようであると、それら
の工程においてプラスチックフィルムに位置ズレ、撓
み、変形等が発生して正常な処理が行えなくなるおそれ
がある。これに対し、粘着層の粘着力を低下させる紫外
線の波長をそれらの波長域を外れる領域に設定しておけ
ば、液晶装置の製造方法における上記の各種紫外線照射
においては粘着層に変化が発生せず、よって、液晶装置
を製造するための処理を支障無く行うことができる。

【００１７】（６） 次に、本発明に係る液晶装置の製
造方法は、一対の基板間に液晶を封止して成り、少なく
とも一方の基板がプラスチックフィルム基板である液晶
装置を製造するための液晶装置の製造方法において、上
記（１）から（５）に記載のプラスチックフィルム積層
体に含まれる状態のプラスチックフィルムに対して、前
記プラスチックフィルム基板を形成するために必要とな
る必要工程を実行し、その必要工程の終了後に、前記粘
着層に所定条件の紫外線照射を行って該粘着層の粘着力
を低下させ、その粘着力低下状態において前記支持部材
を前記プラスチックフィルムから剥離することを特徴と
する。

【００１８】上記構成において、「プラスチックフィル
ム基板」とは、液晶装置を構成する一対の基板のうちの
一方又は両方の基板のことであって、具体的にはプラス
チックフィルム上に電極、配向膜、その他必要な要素を
装着した状態の基板のことである。

【００１９】上記構成の製造方法によれば、液晶装置を
製造するための各種処理をプラスチックフィルムに対し
て行う場合、それらの処理は硬質の支持部材に支持され
た状態のプラスチックフィルムに対して行われるので、
それらの処理は高精度且つ迅速に支障無く行うことがで
きる。

【００２０】また、プラスチックフィルムを支持部材に
よって支持する必要が無くなったときには、適宜のタイ
ミングで前記所定条件の紫外線照射を行うことによって
粘着層の粘着力を低下させることにより、不要となった
支持部材をプラスチックフィルムから簡単に剥離でき
る。

【００２１】また、本発明で用いる粘着層は、レジスト
処理前の洗浄のための紫外線照射及びレジスト露光処理
のための紫外線照射によっては粘着力が低下しない粘着
特性を有するので、支持部材に支持された状態でプラス
チックフィルムがそれらの紫外線照射を受けるとき、そ
のプラスチックフィルムを粘着している粘着層がそれら
の紫外線照射によって悪影響を受けることが無くなり、
よって、液晶装置を製造するためにプラスチックフィル
ムに対して行われる一連の工程を支障なく実行できる。

【００２２】

【発明の実施の形態】（プラスチックフィルム積層体）
図１は、本発明に係るプラスチックフィルム積層体の一
実施形態の断面構造を示している。ここに示すプラスチ
ックフィルム積層体１は、硬質の支持部材２と、その上
に層状に形成された粘着層３と、その粘着層３によって
支持部材２の表面に粘着されたプラスチックフィルム４
と、そしてそのプラスチックフィルム４の表面に成膜さ
れたパターニングされていない厚さ一様な電極層、いわ
ゆるベタ電極６とを有する。電極６は、例えば、スパッ
タリング法その他の周知の成膜法を用いてＩＴＯ（Indi
um Tin Oxide：インジウムスズ酸化物）等によって形成
される。

【００２３】支持部材２は例えばガラスによって、適宜
の大きさ例えば３３０ｍｍ×２２０ｍｍ程度の大きさの
長方形状に形成される。プラスチックフィルム４は、例
えば図２に示すように、ベース層７の表裏両面に有機又
は無機のガスバリヤ層８を成膜し、さらにそれらの表面
に表面層９を成膜することによって形成される。

【００２４】ベース層７は、例えばポリカーボネート
（ＰＣ）、ポリアクリレート（ＰＡｒ）又はポリエーテ
ルサルホン（ＰＥＳ）等によって形成される。また、ガ
スバリヤ層８は、例えばエチレンビニルアルコール（Ｅ
ＶＡ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）又はＳｉＯ_Ｘ
等によって形成される。また、表面層（オーバーコート
層）９は、表面硬度を高めたり、耐薬品性を高めたり、
電極の密着性を高めたりするために形成されるものであ
り、例えば、エポキシ樹脂等によって形成される。

【００２５】粘着層３は単層に形成することもできる
し、あるいは、図３に示すように両面粘着テープ１１の
表面粘着層３ａ及び３ｂの少なくとも一方として形成す
ることもできる。この粘着層３は、例えば、紫外線照射
によって粘着力が低下又は０（ゼロ）となる性質を有す
るアクリル系樹脂によって形成される。特に、本実施形
態では、所定条件の紫外線照射によって粘着力が低下
し、しかしレジスト塗布処理前の洗浄のための紫外線照
射及びレジスト露光処理のための紫外線照射によっては
粘着力が低下しない粘着特性を有する物質によって粘着
層３が形成される。

【００２６】ここで、レジスト塗布処理前の洗浄処理及
びレジスト露光処理について説明すれば、次の通りであ
る。すなわち、図１に示すプラスチックフィルム積層体
１を構成するプラスチックフィルム４は、液晶装置にお
いて液晶を挟持するための一対の基板の一方又は両方と
して用いられるものであり、そのプラスチックフィルム
４に対しては電極形成工程、配向膜形成工程、配向膜焼
成工程、ラビング工程、シール材印刷等といった液晶装
置を製造するために必要となる各種の必要工程が実行さ
れる。

【００２７】上記のレジスト塗布前洗浄処理及びレジス
ト露光処理は、上記の電極形成工程に含まれる処理であ
って、具体的には、プラスチックフィルム４の表面に形
成されたベタ電極６を所定模様にパターニングするため
のフォトリソグラフ処理において、ベタ電極６の表面に
レジストを一様に塗布するのに先立ってベタ電極６等を
洗浄するのがレジスト塗布前洗浄処理である。また、フ
ォトリソグラフ処理において、所定パターンを有するフ
ォトマスクを通して電極表面のレジストを露光するのが
レジスト露光処理である。

【００２８】上記のレジスト塗布前洗浄処理は、一般
に、紫外線照射によって行われ、そのときに使用される
紫外線の波長は２５４ｎｍ〜３６５ｎｍで、そのときの
紫外線露光量は２５０ｍｊ／ｃｍ^２ 以上であることが
多い。また、レジスト露光処理も一般に紫外線照射によ
って行われ、そのときに使用される紫外線の波長は２５
４ｎｍ〜３６５ｎｍで、そのときの紫外線露光量は１１
０〜２００ｍｊ／ｃｍ^２であることが多い。

【００２９】以上の点を考慮すれば、本実施形態におけ
る粘着層３を「所定条件の紫外線照射によって粘着力が
低下し、しかしレジスト塗布処理前の洗浄のための紫外
線照射及びレジスト露光処理のための紫外線照射によっ
ては粘着力が低下しない粘着特性を有する」ように設定
するためには、露光量が５００ｍｊ／ｃｍ^２ 以上の紫
外線照射によって粘着力が低下するような物質又は波長
が２５４ｎｍ〜３６５ｎｍの波長域を外れる波長域の紫
外線照射によって粘着力が低下するような物質によって
粘着層３を形成することが望ましい。

【００３０】本実施形態のプラスチックフィルム積層体
１は以上のように構成されているので、プラスチックフ
ィルム４それ自体は剛性が低くても、それをガラス製の
支持部材２によって支持することにより、プラスチック
フィルム４の位置ズレ、撓み、変形等を防止でき、よっ
て、プラスチックフィルム４に電極形成工程その他の必
要工程を実行することによってそれを液晶装置用のプラ
スチックフィルム基板へと形成する処理を高精度且つ迅
速に行うことができる。

【００３１】そして、上記の必要工程が完了した後に
は、例えば図１の矢印Ａのようにガラス支持部材２側か
ら紫外線照射を行う。このときの紫外線照射は粘着層３
の粘着力を低下させるのに十分なものであるので、この
紫外線照射により粘着層３の粘着力は低下し、このた
め、支持部材２はプラスチックフィルム４から極めて簡
単に剥離される。この方法により、剥離の際にプラスチ
ックフィルム４に異常な負荷がかかって、そのプラスチ
ックフィルム４が変形や破損することを確実に防止でき
る。

【００３２】（液晶装置の製造方法）以下、図１のプラ
スチックフィルム積層体１を用いて行われる液晶装置の
製造方法について説明する。なお、今製造しようとして
いる液晶装置は、例えば、図４に示す液晶パネル１２に
バックライト等といった照明装置や液晶駆動用ＩＣ等と
いった各種付帯機器を装着することによって形成される
ものである。この液晶パネル１２は、一対の基板１３ａ
及び１３ｂの周辺をシール材１４によって互いに接合
し、それらの基板の間に形成されるセルギャップ内に液
晶を封入することによって形成される。

【００３３】各基板１３ａ及び１３ｂはそれぞれ次のよ
うに、すなわち、ベースとなる基板素材の表面に所定パ
ターンの電極１６ａ及び１６ｂを形成し、それらの電極
上に配向膜を形成し、さらにそれらの配向膜にラビング
処理を施こす等といった各種の必要工程を経て形成され
る。また、各基板１３ａ及び１３ｂの外側表面には偏光
板１７ａ及び１７ｂが貼着され、さらに場合によって
は、いずれかの基板の内側表面にカラーフィルタが形成
される。

【００３４】なお、電極１６ａ及び１６ｂは実際には狭
い間隔で多数本がそれぞれの基板１３ａ及び１３ｂの表
面全域に形成されるが、図４では構造をわかり易く示す
ために実際の間隔よりも広い間隔でそれらの電極を図示
し、さらに一部分の電極の図示は省略してある。また、
電極１６ａ及び１６ｂは、直線状に形成されることに限
られず、適宜のパターン形状に形成されることもある。

【００３５】図４の液晶パネル１２を構成する一対の基
板１３ａ及び１３ｂは、それらの一方又は両方がプラス
チックフィルムを基板素材として形成される。以下、そ
れらの基板の製造方法について説明するが、本実施形態
では、一方の基板がプラスチックフィルムを用いて形成
され、他方の基板がガラスを用いて形成されるものとす
る。

【００３６】まず、プラスチックフィルムを基板素材と
するプラスチックフィルム基板は、例えば図５のような
工程を経て製造される。すなわち、工程Ｐ１において、
図１のプラスチックフィルム積層体１の全体を洗浄す
る。このプラスチックフィルム積層体１は例えば３３０
ｍｍ×２２０ｍｍの大きさを有し、このプラスチックフ
ィルム積層体１の中には複数個例えば３０〜３５個程度
の液晶パネル１２に相当する電極パターン等が形成され
る。

【００３７】次に工程Ｐ２においてレジスト塗布処理前
の紫外線洗浄を行う。具体的には、波長２５４ｎｍ〜３
６５ｎｍで露光量２５０ｍｊ／ｃｍ^２以上の紫外線をプ
ラスチックフィルム積層体１に照射して該積層体１の洗
浄を行う。このとき、本実施形態の積層体１で用いる粘
着層３は、上記の波長及び露光量の紫外線照射では粘着
力は低下しない。

【００３８】次に、ベタ電極６の表面にレジスト１８を
一様に塗布してさらに焼成し（工程Ｐ３）、さらにマス
クパターン１９を通して紫外線を照射してレジスト１８
に所定パターンの潜像を形成する（工程Ｐ４）。このと
きの紫外線の波長は２５４ｎｍ〜３６５ｎｍで露光量は
１１０〜２００ｍｊ／ｃｍ^２以上である。本実施形態の
積層体１で用いる粘着層３は、この工程Ｐ４で用いる波
長及び露光量の紫外線照射によっても粘着力が低下しな
い。

【００３９】次に、レジスト１８を現像し（工程Ｐ
５）、そしてそのレジスト１８をマスクとして電極６を
エッチングし（工程Ｐ６）、さらにレジストを剥離する
（工程Ｐ７）。これにより、プラスチックフィルム積層
体１のプラスチックフィルム４上に希望パターンの電極
６が形成される。

【００４０】その後、電極６が形成されたプラスチック
フィルム４の表面に、例えばポリイミドを一様に成膜し
て配向膜２１を形成し、さらにそれを焼成し（工程Ｐ
８）、さらにその配向膜２１にラビング処理を施す（工
程Ｐ９）。次に、スクリーン印刷によってシール材１４
を形成し（工程Ｐ１０）、さらに仮焼成することにより
（工程Ｐ１１）、一対の基板１３ａ及び１３ｂのうちの
一方であるプラスチックフィルム基板が形成される。

【００４１】プラスチックフィルム４に対する以上のよ
うな各種の工程は、プラスチックフィルム４を硬質のガ
ラス支持部材２によって支持した状態で行われるので、
プラスチックフィルム４それ自体は変形し易い物質であ
るとしても、それらの工程を通してプラスチックフィル
ム４の位置ズレ、変形等を防止でき、よって、プラスチ
ックフィルム４に対する各種工程は高精度に安定して実
行できる。

【００４２】他方の基板、すなわちガラス基板は、例え
ば図６に示すように、図４の液晶パネル１２の複数個分
の大きさを有するガラス基板素材を用意してそれを洗浄
し（工程Ｐ２１）、そのガラス基板素材の上に所定パタ
ーンの電極を形成し（工程Ｐ２２）、その上に配向膜を
形成し（工程Ｐ２３）、その配向膜に対してラビング処
理を施し（工程Ｐ２４）、そしてさらに、セルギャップ
を維持するためのスペーサを基板素材の表面に分散する
（工程Ｐ２５）。これにより、ガラス基板が形成され
る。

【００４３】その後、図７の工程Ｐ３１において、以上
のようにして形成したプラスチックフィルム基板及びガ
ラス基板を互いに貼り合わせ、さらに１２０℃で加熱及
び加圧して両基板をシール材１４によって接合する。さ
らに所定条件、例えば５００ｍｊ／ｃｍ^２ 以上の露光
量及び２５４ｎｍ〜３６５ｎｍの波長域を外れる波長域
の両方の条件又はそれらのうちのいずれか一方の条件を
満足する紫外線を、プラスチック基板側のガラス支持部
材２（図１参照）の外側から照射する（工程Ｐ３２）。

【００４４】この紫外線照射により、プラスチック基板
内のプラスチックフィルム積層体１（図１参照）に含ま
れる粘着層３はその粘着力が低下し、そしてその状態下
でプラスチックフィルム４からガラス支持部材２を剥離
する。粘着層３の粘着力が低くなっているので、ガラス
支持部材２の剥離の際、プラスチックフィルム４に破損
や変形等が発生することはない。

【００４５】その後、互いに接合された一対の基板を１
次ブレイクして各液晶パネル部分における液晶注入用の
開口を外部へ露出し（工程Ｐ３３）、その開口を通して
各液晶パネル部分の内部へ液晶を注入し、さらに使用済
みの液晶注入用開口を封止する（工程Ｐ３４）。さら
に、２次ブレイクを行うことにより図４に示す個々の液
晶パネルを作製し（工程Ｐ３５）、そしてそれらの液晶
パネルに液晶駆動用ＩＣ等といった各種付帯機器を実装
し（工程Ｐ３６）、これにより液晶装置が完成する。

【００４６】（その他の実施形態）以上、好ましい実施
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形
態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明
の範囲内で種々に改変できる。

【００４７】例えば、図４に示した液晶パネルは本発明
を適用することができる液晶パネルの単なる一例であ
り、本発明はその他の任意の構造の液晶パネルに対して
適用できる。また、図５から図７に示した一連の工程か
ら成る液晶装置の製造方法は、本発明のプラスチックフ
ィルム積層体を適用できる製造方法の単なる一例であ
り、紫外線を用いたレジスト塗布前洗浄処理及びレジス
ト露光処理を含む液晶装置の製造方法でありさえすれ
ば、本発明は他の任意の製造方法に対しても適用でき
る。

【００４８】

【発明の効果】本発明に係るプラスチックフィルム積層
体及び液晶装置の製造方法によれば、液晶装置を製造す
るための各種処理をプラスチックフィルムに対して行う
場合、それらの処理は硬質の支持部材に支持された状態
のプラスチックフィルムに対して行われるので、それら
の処理は高精度且つ迅速に支障無く行うことができる。

【００４９】また、プラスチックフィルムを支持部材に
よって支持する必要が無くなったときには、適宜のタイ
ミングで所定条件の紫外線照射を行うことによって粘着
層の粘着力を低下させることにより、不要となった支持
部材をプラスチックフィルムから簡単に、しかもそのプ
ラスチックフィルムに損傷を与えることなく剥離でき
る。

【００５０】また、本発明で用いる粘着層は、レジスト
塗布処理前の洗浄のための紫外線照射及びレジスト露光
処理のための紫外線照射によっては粘着力が低下しない
粘着特性を有するので、支持部材に支持された状態でプ
ラスチックフィルムがそれらの紫外線照射を受けると
き、そのプラスチックフィルムを粘着している粘着層が
それらの紫外線照射によって悪影響を受けることが無く
なり、よって、液晶装置の製造のためにプラスチックフ
ィルムに対して行われる一連の工程は何等の支障なく実
行できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るプラスチックフィルム積層体の一
実施形態の断面構造を示す断面図である。

【図２】図１の積層体に含まれるプラスチックフィルム
の一実施形態の断面構造を示す断面図である。

【図３】粘着層に関する他の実施形態を示す断面図であ
る。

【図４】本発明に係る液晶装置の主要部である液晶パネ
ルの一実施形態を示す斜視図である。

【図５】本発明に係る液晶装置の製造方法の一実施形態
の主要部を示す工程図である。

【図６】本発明に係る液晶装置の製造方法の他の一部を
示す工程図である。

【図７】本発明に係る液晶装置の製造方法のさらに他の
一部を示す工程図である。

【符号の説明】

１ プラスチックフィルム積層体 ２ 支持部材 ３ 粘着層 ４ プラスチックフィルム ６ 電極 ７ ベース層 ８ ガスバリヤ層 ９ 表面層 １１ 両面粘着テープ １２ 液晶パネル １３ａ，１３ｂ 基板 １８ レジスト １９ マスクパターン ２１ 配向膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大月 芳明 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 2H088 EA02 FA01 FA17 FA19 FA21 FA25 FA29 FA30 HA01 MA20 2H090 JA06 JA07 JA16 JB03 JC01 JC07 JC08 JC11 JC19 JD11 JD13 LA16 4F100 AK01C AR00A AR00B BA03 BA07 BA10A BA10C EK00 GB90 JK12A JL13B

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 硬質の支持部材と、その支持部材の表面
   に形成される粘着層と、その粘着層によって前記支持部
   材に粘着されるプラスチックフィルムとを有し、レジス
   ト塗布処理及びレジスト露光処理を含む電極形成処理を
   受けるプラスチックフィルム積層体において、 前記粘着層は、所定条件の紫外線照射によって粘着力が
   低下し、しかし前記レジスト塗布処理前の洗浄のための
   紫外線照射及び前記レジスト露光処理のための紫外線照
   射によっては粘着力が低下しない粘着特性を有すること
   を特徴とするプラスチックフィルム積層体。
2. 【請求項２】 請求項１において、前記粘着層は、紫外
   線の露光量を選択することに応じて前記粘着特性を生じ
   ることを特徴とするプラスチックフィルム積層体。
3. 【請求項３】 請求項２において、前記粘着層は、５０
   ０ｍｊ／ｃｍ^２以上の露光量の紫外線照射によって粘着
   力が低下することを特徴とするプラスチックフィルム積
   層体。
4. 【請求項４】 請求項１において、前記粘着層は、紫外
   線の波長を選択することに応じて前記粘着特性を生じる
   ことを特徴とするプラスチックフィルム積層体。
5. 【請求項５】 請求項４において、前記粘着層は、２５
   ４ｎｍ〜３６５ｎｍの波長域を外れる波長域の紫外線照
   射によって粘着力が低下することを特徴とするプラスチ
   ックフィルム積層体。
6. 【請求項６】 一対の基板間に液晶を封止して成り、少
   なくとも一方の基板がプラスチックフィルム基板である
   液晶装置を製造するための液晶装置の製造方法におい
   て、 請求項１から請求項５の少なくともいずれか１つに記載
   のプラスチックフィルム積層体に含まれる状態のプラス
   チックフィルムに対して、前記プラスチックフィルム基
   板を形成するために必要となる必要工程を実行し、 その必要工程の終了後に、前記粘着層に所定条件の紫外
   線照射を行って該粘着層の粘着力を低下させ、その粘着
   力低下状態において前記支持部材を前記プラスチックフ
   ィルムから剥離することを特徴とする液晶装置の製造方
   法。