JP2000281608A - ビスフェノールaの製造方法 - Google Patents

ビスフェノールaの製造方法

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英昭 中村
Masasane Inomata
将実 猪俣
Kenta Takahashi
堅太 高橋
Kazuyo Matsu
和世 松
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】メルカプト基含有炭化水素基を有する固体酸触
媒の存在下、強酸型陽イオン交換樹脂と接触させた後、
さらに蒸留処理をして得られたフェノールとアセトンと
を反応させてビスフェノールAを製造する方法におい
て、原料として使用するフェノールの精製効果を安定に
発揮させることにより触媒劣化を防止し、安定的かつ低
コストのビスフェノールAの製造方法を提供する。 【解決手段】メルカプト基含有炭化水素基を有する固体
酸触媒の存在下、強酸型陽イオン交換樹脂と接触させた
後、さらに蒸留処理をして得られたフェノールとアセト
ンとを反応させてビスフェノールAを製造する方法にお
いて、反応に供給するフェノールとして、蒸留処理をし
た後、酸素と接触させずに反応器へ導入する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ビスフェノールA
の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、スル
ホン酸基含有炭化水素基とメルカプト基含有炭化水素基
を共に有する有機高分子シロキサンの存在下、アセトン
とフェノールを反応させてビスフェノールAを製造する
方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ビスフェノールA[2,2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)プロパン]は通常、フェノールと
アセトンを酸触媒の存在下に脱水縮合反応させることに
より製造されている。
【0003】代表的な酸触媒としてはスルホン酸型陽イ
オン交換樹脂が用いられ、さらには、反応系内にメルカ
プト基を含有する化合物を共存させることにより、触媒
活性および選択率を向上させることができることが知ら
れている。具体的には、スルホン酸型陽イオン交換樹脂
を充填した固定床反応器に原料であるフェノールおよび
アセトンと共にアルキルメルカプタン等の遊離型のメル
カプト基含有化合物を流通させる方法(特公昭45−1
0337号)、スルホン酸型陽イオン交換樹脂のスルホ
ン酸基の一部とメルカプト基含有化合物を共有結合で結
合させる方法、スルホン酸型陽イオン交換樹脂のスルホ
ン酸基の一部とメルカプト基含有化合物をイオン結合で
結合させる方法がある。スルホン酸型陽イオン交換樹脂
のスルホン酸基の一部にメルカプト基含有化合物を結合
させる方法(以下、変性イオン交換樹脂法)は、遊離型
メルカプト基含有化合物を反応系に存在させる方法と比
較して、メルカプト基含有化合物の損失が少ない、メル
カプト基含有化合物を回収する必要がない等の利点があ
る。
【0004】しかしながら、変性イオン交換樹脂法は触
媒活性の劣化があり、使用している間にアセトン転化率
の低下およびビスフェノールA選択率の低下が観察され
る。
【0005】また、スルホン酸型陽イオン交換樹脂以外
の固体酸触媒にメルカプト基含有化合物を結合させたも
のとして、スルホン酸基含有炭化水素基とメルカプト基
含有炭化水素基を共に有する有機高分子シロキサン触媒
が報告されている(特開平8−208545号、特開平
9−110767号、特開平9−110989号、特開
平10−225638号)。この方法は変性イオン交換
樹脂法と比較して、高活性、高選択率であり、ビスフェ
ノールA製造触媒として優れているが、通常のクメン法
やトルエン酸化法で製造されたフェノールを未処理のま
ま使用すると、変性イオン交換樹脂法よりも触媒の劣化
速度が高く、アセトン転化率の低下およびビスフェノー
ルA選択率の低下が観察される。この触媒はスルホン酸
型陽イオン交換樹脂よりも高価なので、触媒寿命をより
長く維持させることが望まれている。
【0006】変性イオン交換樹脂の触媒劣化防止方法と
して、原料として使用するフェノールを予め、スルホン
酸型陽イオン交換樹脂と接触させることを特徴とするビ
スフェノールAの製造方法(特開昭57−72927
号)、酸性反応基とメルカプト基を有する化合物で少な
くとも一部変性した酸性イオン交換樹脂にフェノールを
接触させることを特徴とするフェノールからのカルボニ
ル基および/または不飽和基を含んでなる化合物の除去
方法(特開昭58−79942号)、アセトンとして蒸
留処理されかつ実質的に溶存酸素を含有しないものを用
いるとともに、フェノールとして強酸型イオン交換樹脂
と接触させた後蒸留処理したものを用いることを特徴と
するビスフェノールAの製造方法(特開平6−3405
64号)等がある。これらの方法はいずれも、未処理の
フェノールをそのまま使用する方法と比較して触媒劣化
は少ないが、蒸留後のフェノールの取り扱い方法によっ
ては上記処理の効果が十分に発揮されないことがある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、メルカプト
基含有炭化水素基を有する固体酸触媒の存在下、強酸型
陽イオン交換樹脂と接触させた後、さらに蒸留処理をし
て得られたフェノールとアセトンとを反応させてビスフ
ェノールAを製造する方法において、原料として使用す
るフェノールの精製効果を安定に発揮させることにより
触媒劣化を防止し、安定的かつ低コストのビスフェノー
ルAの製造方法を提供するものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため鋭意検討した結果、メルカプト基含有炭
化水素基を有する固体酸触媒を使用してビスフェノール
Aを製造する際に、原料フェノールとして強酸型陽イオ
ン交換樹脂と接触させ、さらに蒸留処理して得られた精
製フェノールを酸素と接触させないことで触媒の劣化を
防止できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0009】すなわち、本発明は、メルカプト基含有炭
化水素を有する固体酸触媒の存在下、強酸型陽イオン交
換樹脂と接触させた後、さらに蒸留処理をして得られた
フェノールとアセトンとを反応させてビスフェノールA
を製造する方法において、該フェノールとして、蒸留処
理をした後、酸素と接触させずに反応器へ導入すること
を特徴とするビスフェノールAの製造方法である。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明で原料として用いられるフ
ェノールは、予め強酸型陽イオン交換樹脂で処理された
ものである。強酸型陽イオン交換樹脂で処理されるフェ
ノールは、通常入手できる工業用フェノールを用いるこ
とができる。工業用フェノールには、クメン法またはト
ルエン酸化法等で製造されたものがあるが、いずれの方
法で製造されたものでも良い。一般的に、純度98%以
上のフェノールが市販されている。
【0011】強酸型陽イオン交換樹脂についても通常入
手できるもので良く、例えば三菱化学社製のダイヤイオ
ン、ロームアンドハース社製のアンバーライトおよびア
ンバーリスト、バイエル社製のレバチット等が挙げられ
る。この強酸型陽イオン交換樹脂は、ゲル型、マクロポ
ーラス型のいずれも用いることができるが、架橋度2〜
8%のゲル型のものを用いる方が長期間安定的に使用で
きるので好ましい。
【0012】上記のような強酸型陽イオン交換樹脂でフ
ェノールを連続式または回分式に処理するが、強酸型陽
イオン交換樹脂を充填塔に充填し、フェノールを連続的
に流通させる方法が樹脂の破砕が少なく、効率的にフェ
ノールを処理できるので好ましい。処理温度は41〜1
50℃、好ましくは50℃〜120℃である。フェノー
ルを強酸型陽イオン交換樹脂で処理する時間は、5分〜
10時間、好ましくは10分〜2時間である。このよう
にして得られたフェノールをさらに蒸留する。蒸留方法
については特に制限はないが、圧力は常圧〜10mmH
g、温度は70〜200℃で行うことが好ましい。
【0013】このような処理で得られた精製フェノール
を、酸素と接触させずに反応器に導入する。精製フェノ
ールを反応器に導入する前に酸素と接触させた場合、酸
素と接触させない場合と比較して触媒の経時劣化が大き
くなる。この理由は明らかではないが、フェノールが酸
素と接触することで微量の触媒劣化原因物質が生成する
か、または、精製フェノール中にわずかに残存する触媒
劣化に影響しない不純物が酸素と接触することで触媒劣
化原因物質に変化するためであろうと思われる。精製フ
ェノールは直接反応器に送りアセトンと反応させても良
いが、一連のビスフェノールA製造プロセスにおける別
の工程で使用した後、反応器に送りアセトンと反応させ
ても良い。例えば、反応液の冷却により生成するビスフ
ェノールAとフェノールの等モル付加物結晶を母液と分
離した後、付加物結晶を精製フェノールで洗浄し、この
洗浄液をフェノール源として反応器に送りアセトンと反
応させても良い。重要なことは、強酸型陽イオン交換樹
脂と接触させさらに蒸留処理をして精製されたフェノー
ルが、反応器に送られるまでに酸素と接触しないという
ことである。精製フェノールを反応器に送る前に、一
旦、タンク等に貯蔵しても良いが、この場合、タンクの
気相部分を窒素等の不活性ガスで置換し、酸素濃度を1
%以下、好ましくは0.1%以下とする。また、精製フ
ェノールが反応器に送られるまでの配管に関しても、使
用前に十分に窒素等の不活性ガスで置換することが好ま
しい。不活性ガスの代わりに、予め十分に酸素を除去し
たフェノール等の溶剤を使用しても良い。
【0014】本発明で用いるアセトンには特に制限はな
く、通常入手できる市販の工業用アセトンで良い。一般
的には純度99%以上のものが入手可能である。
【0015】上記のようなフェノールとアセトンを、メ
ルカプト基含有炭化水素基を有する固体酸触媒の存在下
に反応させ、ビスフェノールを製造する。本発明で使用
される触媒の例としては、スルホン酸型陽イオン交換樹
脂のスルホン酸基の一部とメルカプト基含有化合物を共
有結合で結合させたもの、スルホン酸型陽イオン交換樹
脂のスルホン酸基の一部とメルカプト基含有化合物をイ
オン結合で結合させたものおよびスルホン酸基含有炭化
水素基とメルカプト基含有炭化水素基を共に有する有機
高分子シロキサンが挙げられる。スルホン酸基含有炭化
水素基とメルカプト基含有炭化水素基を共に有する有機
高分子シロキサン触媒は、変性イオン交換樹脂よりも高
活性、高選択率で優れた触媒であるが、フェノールの精
製を行わずにビスフェノールAの合成反応を行うと変性
イオン交換樹脂よりも触媒の経時劣化が激しく、また、
酸素と接触した精製フェノールを使用した場合の活性劣
化も大きい。従って、本発明の方法を、スルホン酸基含
有炭化水素基とメルカプト基含有炭化水素基を共に有す
る有機高分子シロキサン触媒を使用するビスフェノール
Aの製造方法に適用した場合に、特に効果が大きい。ス
ルホン酸基含有炭化水素基とメルカプト基含有炭化水素
基を共に有する有機高分子シロキサン触媒の例として
は、特開平8−208545号、特開平9−11098
9号および特開平10−225638号に記載されてい
るような、シロキサン結合からなるシリカマトリックス
中に部分的にスルホン酸基を有する炭化水素基とメルカ
プト基を有する炭化水素基が直接シリカマトリックス中
のケイ素原子と炭素−ケイ素結合により結合した構造を
有する有機高分子シロキサンが挙げられる。
【0016】反応は、通常、アセトンに対するフェノー
ルのモル比が2〜30、好ましくは4〜20で行われ
る。アセトンに対するフェノールのモル比が2以上で有
れば、反応終了後のアセトンの残存量が少なく、また、
アセトンから副生するメシチルオキシド等の不純物の生
成が少なくなる。また、このモル比が30以下であれ
ば、未反応のフェノールの循環量が少なくなるので、反
応器および晶析器等の機器が小さくなり、また循環に要
する動力等が節減され経済的である。圧力は本反応が液
相で行われるので、原料であるフェノールおよびアセト
ンがガス化しない程度であれば良いが、通常、常圧〜0.
5MPaの範囲で行われる。反応温度は40〜200
℃、好ましくは50〜120℃である。反応温度が40
℃未満だと、反応時間が極端に長くなり巨大な反応器を
設置する必要が生じる。反応温度が200℃を超える
と、好ましくない副反応が生じ、選択率が低下する。反
応時間は、通常、1分〜15時間、好ましくは10分〜
5時間である。
【0017】このようにして得られた反応液は、必要に
応じ反応生成水、未反応アセトンおよび未反応フェノー
ルの一部が除去された後、冷却され、ビスフェノールA
とフェノールの等モル付加物結晶の形でビスフェノール
Aが分離される。さらに、この等モル付加物からフェノ
ールが除去され、ビスフェノールAが単離される。
【0018】
【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明
する。
【0019】実施例1 市販の工業用フェノールを、50Lステンレス製容器に
入れ50℃に保温し、容器内下部に備えた環状ノズルか
ら窒素を導入しながら20時間放置した。このフェノー
ルを、スルホン酸型イオン交換樹脂(バイエル社製K1
221)500mlを充填した内径50mmの円筒型反
応器に、イオン交換樹脂との接触時間を30分となるよ
うに連続的に供給し、70℃で処理を行った。さらに、
得られたフェノールを、圧力40mmHg、蒸留釜の温
度を160℃で連続的に蒸留し、精製フェノールを得
た。得られた精製フェノールは、内部を窒素で置換し酸
素濃度が10ppm以下となった50Lステンレス容器
へ送られ、50℃で保存した。この精製フェノール3
8.0g/hとアセトン2.3g/hを、スルホン酸基
の15%をシステアミンで均一に変性したバイエル社製
K1221を30ml充填した反応器に連続的に供給
し、75℃でビスフェノールAの合成反応を行った。な
お、各ステンレス製フェノール貯蔵容器からのフェノー
ルの送液にはプランジャーポンプを使用し、各装置間は
ステンレス製の配管で接続されており、使用前に窒素で
装置内を十分に置換し、フェノールと酸素が接触しない
ようにして行った。
【0020】反応開始24時間後におけるアセトン転化
率は83.7%であり、ビスフェノールA選択率は9
4.3%だった。さらに、この状態で反応を継続し、5
00時間後に分析を行ったところ、アセトン転化率は8
3.1%、ビスフェノールA選択率は94.2%だっ
た。
【0021】実施例2 [触媒の調製]以下の手順(a)、(b)にしたがい、
スルホン酸基含有炭化水素基とメルカプト基含有炭化水
素基を有する有機高分子シロキサン触媒を調製した。
【0022】(a)スルホン酸基含有アルコキシシラン
の合成 滴下ロートを取り付けた2口の500mlの丸底フラス
コに塩化メチレンを200ml入れ、これにフェニルト
リクロロシラン124.0g(0.585mol)を加
え、氷冷した。これに無水硫酸46.8g(0.585
mol)を塩化メチレン100mlに溶解させた溶液を
窒素気流下30分かけて滴下した後、氷浴を取り外し室
温で5時間攪拌し、スルホン化を行った。滴下ロートを
取り外し、窒素気流下、油浴を用いて100℃に加熱
し、塩化メチレン、及び未反応の無水硫酸を留去した。
放冷後、室温でエタノール160gを3時間かけて滴下
し、次いで窒素でバブリングしながら2時間還流して発
生する塩化水素を取り除きながらエトキシ化反応を行っ
た。得られた不純物を含むフェニルスルホン酸基含有エ
トキシシランのエタノール溶液237.7gを以下のス
ルホン酸基含有炭化水素基とメルカプト基含有炭化水素
基を有する有機高分子シロキサン触媒のゾルゲル調製に
おけるスルホン酸成分の原料として用いた。
【0023】(b)スルホン酸基含有炭化水素基とメル
カプト基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサン
の調製 攪拌棒を取り付けた2口の500mlの丸底フラスコに
上記したスルホン酸基含有エトキシシランのエタノール
溶液26.0g、テトラエトキシシラン35.5g(1
70.7mmol)、メルカプトプロピルトリメトキシ
シラン6.7g(34.3mmol)、エタノール30
mlを入れて混合した。これに水7.5g(0.42m
ol)を30分かけて滴下した。ついでこれを加熱し、
65℃で4時間攪拌した。放冷後、28%アンモニア水
15mlと水75mlを混合した水溶液を滴下し、室温
で4時間攪拌した。さらに65℃で3日間攪拌し、熟成
させた。これをエバポレーターで減圧留去し、白色の固
体を得た。ついで2Nの塩酸200mlを加え、室温で
30分間攪拌した。濾別後、イオン交換水500mlで
洗浄する操作を10回繰り返して塩酸を取り除いた。最
後に減圧下、100℃で6時間乾燥した。
【0024】以上の操作によりスルホン酸基含有炭化水
素基とメルカプト基含有炭化水素基を有する有機高分子
シロキサン30gを得た。本触媒の固体酸量を測定した
ところ、1.0meq/gであった。
【0025】[ビスフェノールAの合成反応]ビスフェ
ノールAの合成触媒として、上記のようにして調製した
スルホン酸基含有炭化水素基とメルカプト基含有炭化水
素基を有する有機高分子シロキサン触媒を使用した他
は、実施例1と同様にして反応を行った。
【0026】この結果、反応開始24時間後のアセトン
転化率は95.3%、ビスフェノールA選択率は96.
2%だった。500時間後に分析を行ったところ、アセ
トン転化率は94.7%、ビスフェノール選択率は9
6.1%だった。
【0027】比較例1 市販の工業用フェノールをイオン交換樹脂で処理し、蒸
留後にフェノールを貯蔵するタンクを窒素置換せず、空
気雰囲気にした以外は、実施例1と同様にした。
【0028】この結果、反応開始24時間後のアセトン
転化率は83.5%、ビスフェノールA選択率は94.
3%だった。500時間後に分析を行ったところ、アセ
トン転化率は78.3%、ビスフェノールA選択率は8
3.9%であり、窒素置換を行った場合と比較して、ア
セトン転化率およびビスフェノールA選択率とも、低下
が大きかった。
【0029】比較例2 市販の工業用フェノールをイオン交換樹脂で処理し、蒸
留後にフェノールを貯蔵するタンクを窒素置換せず、空
気雰囲気にした以外は、実施例2と同様にした。
【0030】この結果、反応開始24時間後のアセトン
転化率は95.2%、ビスフェノールA選択率は96.
2%であった。500時間後に分析を行ったところ、ア
セトン転化率は93.3%、ビスフェノールA選択率は
96.0%であり、実施例1よりもアセトン転化率の低
下が大きかった。
【0031】
【発明の効果】本発明の方法によれば、強酸型陽イオン
交換樹脂と接触させた後、さらに蒸留処理をして得られ
たフェノールを安定的に保存することができ、メルカプ
ト基含有炭化水素基を有する固体酸触媒の劣化が防止さ
れ、経済的に有利にビスフェノールAを製造することが
できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松 和世 大阪府高石市高砂1丁目6番地 三井化学 株式会社内 Fターム(参考) 4G069 AA02 BA22A BA22B BA24A BA24B BA45A BE21A BE21B BE22A BE22B BE32A BE32B CB01 CB25 CB70 DA05 4H006 AA02 AC25 BA33 BA36 BA68 BD10 DA64 FC52 FE13 FG29 4H039 CA19 CA60 CD10 CD40

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】メルカプト基含有炭化水素基を有する固体
    酸触媒の存在下、強酸型陽イオン交換樹脂と接触させた
    後、さらに蒸留処理をして得られたフェノールとアセト
    ンとを反応させてビスフェノールAを製造する方法にお
    いて、該フェノールとして、蒸留処理をした後、酸素と
    接触させずに反応器へ導入することを特徴とするビスフ
    ェノールAの製造方法。
  2. 【請求項2】該触媒が、スルホン酸基含有炭化水素基と
    メルカプト基含有炭化水素基を共に有する有機高分子シ
    ロキサンである請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】該触媒が、スルホン酸型陽イオン交換樹脂
    のスルホン酸基の一部とメルカプト基含有化合物を結合
    させたものである請求項1記載の方法。
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