JP2000284402A - Heat developable photosensitive material - Google Patents

Heat developable photosensitive material

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JP2000284402A
JP2000284402A JP11089709A JP8970999A JP2000284402A JP 2000284402 A JP2000284402 A JP 2000284402A JP 11089709 A JP11089709 A JP 11089709A JP 8970999 A JP8970999 A JP 8970999A JP 2000284402 A JP2000284402 A JP 2000284402A
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JP
Japan
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group
formula
salt
heterocyclic
silver
Prior art date
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Pending
Application number
JP11089709A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshihide Ezoe
利秀 江副
Hiroyuki Suzuki
博幸 鈴木
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Priority to AT00106072T priority patent/ATE308773T1/en
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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To ensure ultrahigh contrast, to prevent the occurrence of black spots and unevenness in processing and to obtain an image having high Dmax (maximum density) and optimum for use in a photomechanical process by incorporating at least two specified compounds on the side with an image forming layer containing photosensitive silver halide. SOLUTION: The heat developable photosensitive material has a nonphotosensitive silver salt, photosensitive silver halide and a binder on the substrate and contains at least one compound of formula I, II or the like and at least one compound of formula III on the side with an image forming layer containing the photosensitive silver halide. In the formulae I and II, R1-R3 are each H or a substituent, Z is an electron withdrawing group or silyl and R4 is a substituent. In the formula III, Z1 and Z2 are each halogen, X1 is H or an electron withdrawing group, Y1 is -CO- or -SO2-, Q is allylene or a divalent heterocyclic group, L is a combining group, W is carboxyl, its slat, sulfo, its salt or the like and (n) is 0 or 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は熱現像感光材料に関
するものであり、特に写真製版用に適したスキャナー、
イメージセッター用熱現像感光材料に関し、さらに詳し
くは、超硬調で、黒ポツおよび処理ムラが発生せず、さ
らにはDmax(最高濃度)が高い写真製版用途に最適
な画像を得ることが可能な写真製版用熱現像感光材料に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photothermographic material, and more particularly to a scanner suitable for photolithography.
More specifically, the photothermographic material for an image setter has a super-high contrast, does not generate black spots and uneven processing, and has a high Dmax (maximum density). The present invention relates to a photothermographic material for plate making.

【0002】[0002]

【従来の技術】支持体上に感光性層を有し、画像露光す
ることで画像形成を行う感光材料は、数多く知られてい
る。それらの中でも、環境保全や画像形成手段が簡易化
できるシステムとして、熱現像により画像を形成する技
術が挙げられる。
2. Description of the Related Art There are many known photosensitive materials having a photosensitive layer on a support and forming an image by exposing the image. Among them, a technique for forming an image by thermal development is a system that can simplify environmental preservation and image forming means.

【0003】近年写真製版分野において環境保全、省ス
ペースの観点から処理廃液の減量が強く望まれている。
そこで、レーザー・スキャナーまたはレーザー・イメー
ジセッターにより効率的に露光させることができ、高解
像度および鮮鋭さを有する鮮明な黒色画像を形成するこ
とができる写真製版用途の熱現像感光材料に関する技術
が必要とされている。これら熱現像感光材料では、溶液
系処理化学薬品の使用をなくし、より簡単で環境を損な
わない熱現像処理システムを顧客に対して供給すること
ができる。
In recent years, in the field of photoengraving, it has been strongly desired to reduce the amount of processing waste liquid from the viewpoint of environmental protection and space saving.
Therefore, there is a need for a technology relating to a photothermographic material for photolithography, which can be efficiently exposed by a laser scanner or a laser imagesetter, and can form a clear black image having high resolution and sharpness. Have been. These photothermographic materials eliminate the use of solution processing chemicals and can provide customers with a simpler and more environmentally friendly photothermographic processing system.

【0004】熱現像により画像を形成する方法は、例え
ば米国特許第3,152,904号、同3,457,075号、およびD.
モーガン(Morgan)とB.シェリー(Shely)による
「熱によって処理される銀システム(Thermally Proces
sed Silver Systems)A」(イメージング・プロセッシ
ーズ・アンド・マテリアルズ(Imaging Processes and M
aterials)Neblette 第8版、スタージ(Sturge)、V.
ウォールワーズ(Walworth)、A.シェップ(Shepp)
編集、第2頁、1969年)に記載されている。このような
感光材料は、還元可能な非感光性の銀源(例えば有機銀
塩)、触媒活性量の光触媒(例えばハロゲン化銀)、お
よび銀の還元剤を通常有機バインダーマトリックス中に
分散した状態で含有している。感光材料は常温で安定で
あるが、露光後高温(例えば、80℃以上)に加熱した場
合に、還元可能な銀源(酸化剤として機能する)と還元
剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸
化還元反応は露光で発生した煎像の触媒作用によって促
進される。露光領域中の還元可能な銀塩の反応によって
生成した銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対
照をなし、画像の形成がなされる。
[0004] Methods of forming an image by thermal development are described in, for example, US Patent Nos. 3,152,904 and 3,457,075, and US Pat.
Morgan and B.A. "Thermal Proces Silver System (Thermally Proces)" by Shely
sed Silver Systems) A "(Imaging Processes and M
aterials) Neblette 8th edition, Sturge, V.E.
Walworth, A .; Shepp
Edited, page 2, 1969). Such photosensitive materials are prepared by dispersing a reducible non-photosensitive silver source (eg, an organic silver salt), a catalytically active amount of a photocatalyst (eg, silver halide), and a silver reducing agent, usually in an organic binder matrix. It is contained in. The photosensitive material is stable at room temperature, but when heated to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher) after exposure, silver is reduced through a redox reaction between a reducible silver source (which functions as an oxidizing agent) and a reducing agent. Generate This oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the image formed by the exposure. The silver formed by the reaction of the reducible silver salt in the exposed areas provides a black image, which contrasts with the unexposed areas, resulting in the formation of an image.

【0005】また、従来から前記熱現像感光材料は知ら
れているが、これらの多くはトルエン、メチルエチルケ
トン(MEK)、メタノールなどの有機溶剤を溶媒とす
る塗布液を塗布することにより感光層を形成している。
有機溶剤を溶媒として用いることは、製造工程での人体
への悪影響だけでなく溶剤の回収その他のためコスト上
も不利である。
Although the photothermographic materials are conventionally known, most of these materials form a photosensitive layer by applying a coating solution using an organic solvent such as toluene, methyl ethyl ketone (MEK) or methanol as a solvent. are doing.
The use of an organic solvent as a solvent is disadvantageous not only in adverse effects on the human body in the manufacturing process but also in cost due to recovery of the solvent and the like.

【0006】そこでこのような心配のない水溶媒の塗布
液を用いて感光性層(以降「水系感光層」ともいう。)
を形成する方法が考えられている。例えば特開昭49-526
26号、特開昭53-116144号などにはゼラチンをバインダ
ーとする例が記載されている。また特開昭50-151138号
にはポリビニルアルコールをバインダーとする例が記載
されている。
Accordingly, a photosensitive layer (hereinafter also referred to as "aqueous photosensitive layer") is prepared by using a coating solution of a water solvent which does not have such a concern.
A method of forming the slab has been considered. For example, JP-A-49-526
No. 26, JP-A-53-116144, etc., describe examples using gelatin as a binder. Japanese Patent Application Laid-Open No. 50-151138 discloses an example using polyvinyl alcohol as a binder.

【0007】さらに特開昭60-61747号にはゼラチンとポ
リビニルアルコールを併用した例が記載されている。こ
れ以外の例として特開昭58-28737号には水溶性ポリビニ
ルアセタールをバインダーとする感光性層の例が記載さ
れている。
Further, JP-A-60-61747 describes an example in which gelatin and polyvinyl alcohol are used in combination. As another example, JP-A-58-28737 describes an example of a photosensitive layer using water-soluble polyvinyl acetal as a binder.

【0008】確かにこのようなバインダーを用いると水
溶媒の塗布液を用いて感光性層を形成することができて
環境面、コスト面のメリットは大きい。
Certainly, when such a binder is used, the photosensitive layer can be formed using a coating solution of an aqueous solvent, and the advantages in terms of environment and cost are great.

【0009】しかしながら、ゼラチン、ポリビニルアル
コール、水溶性ポリアセタールなどのポリマーをバイン
ダーとして用いると、有機銀塩との相溶性が悪く、塗布
面質上実用に耐える塗布物が得られないばかりでなく、
現像部の銀色調が本来好ましいとされる黒色からかけ離
れた茶色や黄色になったり、露光部の黒化濃度が低く未
露光部の濃度が高い等商品価値の著しく損なわれたもの
しか得られなかった。
However, when a polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, or water-soluble polyacetal is used as a binder, the compatibility with the organic silver salt is poor, and not only a coated material which can be practically used due to the coated surface quality cannot be obtained, but also
The silver tone of the developed part becomes brown or yellow, which is far from the black which is originally preferred, and the blackened density of the exposed part is low and the density of the unexposed part is high. Was.

【0010】欧州特許762,196号、特開平9-90550号公報
等に熱現像感光材料に用いる感光性ハロゲン化銀粒子に
周期律表第VII族またはVIII族(7〜10族)の金属イオ
ンまたは金属錯体イオンを含有させること、および感光
材料中にヒドラジン誘導体を含有させて高コントラスト
な写真特性を得ることができることが開示されている。
しかし、前述の水溶媒の塗布液で用いるバインダーとヒ
ドラジン誘導体のような造核剤を併用すると、高コント
ラストな画像を得ることができるが、同時に黒ポツと呼
ばれる未露光部に発生する砂状のカブリが多発すること
が問題であった。また、熱現像機の構造上避けることの
できない同一面状の現像温度の微妙なばらつきにより発
生する、処理ムラと呼ばれる濃度ムラが大きく問題とな
っていた。
In European Patent 762,196, JP-A-9-90550, etc., a photosensitive silver halide grain used in a photothermographic material is added to a metal ion or a metal of Group VII or VIII (Group 7 to 10) of the periodic table. It is disclosed that a complex ion is contained and that a hydrazine derivative is contained in a light-sensitive material to obtain high-contrast photographic characteristics.
However, when a nucleating agent such as a hydrazine derivative is used in combination with the binder used in the above-described aqueous solvent coating solution, a high-contrast image can be obtained. Frequent fog was a problem. Further, density unevenness called processing unevenness, which is caused by minute variations in the developing temperature of the same plane which cannot be avoided due to the structure of the heat developing machine, has been a serious problem.

【0011】そこで、超硬調で、黒ポツおよび処理ムラ
が発生せず、環境面・コスト面で有利な熱現像感光材
料、さらにはDmax(最高濃度)が高い写真製版用途
に最適な熱現像感光材料を提供する技術が望まれてい
た。
Therefore, a photothermographic material which is super-hard and free of black spots and processing unevenness, and which is advantageous in terms of environment and cost, and which has a high Dmax (maximum density), is most suitable for photolithography. Techniques for providing materials have been desired.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の解決
しようとする課題は、特に写真製版用、特にスキャナ
ー、イメージセッター用として、超硬調で、黒ポツおよ
び処理ムラが発生せず、さらにはDmax(最高濃度)
が高い写真製版用途に最適な画像を得ることが可能な熱
現像感光材料を提供することである。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a super-high contrast, especially for photolithography, especially for scanners and imagesetters, without causing black spots and processing unevenness. Dmax (highest concentration)
The object of the present invention is to provide a photothermographic material capable of obtaining an optimum image for photolithography applications having high image quality.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】この課題は下記手段によ
って達成された。すなわち、本発明は下記のとおりであ
る。 (1) 支持体上に非感光性銀塩、感光性ハロゲン化銀
およびバインダーを有する熱現像感光材料において、前
記感光性ハロゲン化銀を含有する画像形成層を有する側
に下記式(1)、式(2)および式(3)で表される化
合物から選ばれる少なくとも1種の化合物、ならびに下
記式(P)で表される化合物を少なくとも1種含有する
ことを特徴とする熱現像感光材料。
This object has been achieved by the following means. That is, the present invention is as follows. (1) In a photothermographic material having a non-photosensitive silver salt, a photosensitive silver halide and a binder on a support, the following formula (1) is provided on the side having the image forming layer containing the photosensitive silver halide. A photothermographic material comprising at least one compound selected from the compounds represented by the formulas (2) and (3) and at least one compound represented by the following formula (P).

【0014】[0014]

【化4】 Embedded image

【0015】[式(1)において、R1、R2およびR
3は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Z
は電子吸引性基またはシリル基を表す。式(1)におい
て、R1とZ、R2とR3、R1とR2、およびR3とZは、
互いに結合して環状構造を形成していてもよい。式(2)
において、R4は置換基を表す。式(3)において、Xお
よびYはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、
AおよびBはそれぞれ独立にアルコキシ基、アルキルチ
オ基、アルキルアミノ基、アリールオキシ基、アリール
チオ基、アニリノ基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ
基またはヘテロ環アミノ基を表す。式(3)において、X
とY、およびAとBは、それぞれ互いに結合して環状構
造を形成していてもよい。式(P)において、Z1およ
びZ2は各々ハロゲン原子を表し、X1は水素原子または
電子吸引性基を表し、Y1は−CO−基または−SO2
基を表し、Qはアリーレン基または二価のヘテロ環基を
表し、Lは連結基を表し、Wはカルボキシル基もしくは
その塩、スルホ基もしくはその塩、リン酸基、水酸基、
4級アンモニウム基またはポリエチレンオキシ基を表
す。nは0または1を表す。] (2) 支持体上に非感光性銀塩、感光性ハロゲン化銀
およびバインダーを有する熱現像感光材料において、前
記感光性ハロゲン化銀を含有する画像形成層を有する側
に下記式(A)および式(B)で表される化合物から選
ばれる少なくとも1種の化合物、ならびに下記式(P)
で表される化合物を少なくとも1種含有することを特徴
とする熱現像感光材料。
[In the formula (1), R 1 , R 2 and R
3 independently represent a hydrogen atom or a substituent;
Represents an electron-withdrawing group or a silyl group. In the formula (1), R 1 and Z, R 2 and R 3 , R 1 and R 2 , and R 3 and Z are
They may combine with each other to form a ring structure. Equation (2)
In the formula, R 4 represents a substituent. In the formula (3), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent,
A and B each independently represent an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group, a heterocyclic oxy group, a heterocyclic thio group or a heterocyclic amino group. In equation (3), X
And Y, and A and B may be bonded to each other to form a cyclic structure. In the formula (P), Z 1 and Z 2 each represent a halogen atom, X 1 represents a hydrogen atom or an electron-withdrawing group, and Y 1 represents a —CO— group or —SO 2 —.
Represents a group, Q represents an arylene group or a divalent heterocyclic group, L represents a linking group, W represents a carboxyl group or a salt thereof, a sulfo group or a salt thereof, a phosphate group, a hydroxyl group,
Represents a quaternary ammonium group or a polyethyleneoxy group. n represents 0 or 1. (2) In a photothermographic material having a non-photosensitive silver salt, a photosensitive silver halide and a binder on a support, the following formula (A) is provided on the side having the image forming layer containing the photosensitive silver halide. And at least one compound selected from compounds represented by the formula (B), and the following formula (P)
A photothermographic material comprising at least one compound represented by the formula:

【0016】[0016]

【化5】 Embedded image

【0017】[式(A)または式(B)において、Z11およ
びZ12は各々これらを含んで5員から7員の環構造を形
成しうる非金属原子団を表し、Y11およびY12は各々−
C(=O)−基または−SO2−基を表し、X11およびX
12は各々ヒドロキシ基(もしくはその塩)、アルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、メルカプト
基(もしくはその塩)、アルキルチオ基、アリールチオ
基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ア
リールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基、
スルホンアミド基またはヘテロ環基を表す。Y13は水素
原子または置換基を表す。式(P)において、Z1およ
びZ2はハロゲン原子を表し、X1は水素原子または電子
吸引性基を表し、Y1は−CO−基または−SO2−基を
表し、Qはアリーレン基または二価のヘテロ環基を表
し、Lは連結基を表し、Wはカルボキシル基もしくはそ
の塩、スルホ基もしくはその塩、リン酸基、水酸基、4
級アンモニウム基またはポリエチレンオキシ基を表わ
す。nは0または1を表す。] (3) さらに下記式(Z)で表される化合物を少なく
とも1種含有する上記(1)または(2)の熱現像感光
材料。
[In the formula (A) or (B), Z 11 and Z 12 each represent a non-metallic atomic group capable of forming a 5- to 7-membered ring structure, including Y 11 and Y 12 Is-
A C ((O) — group or a —SO 2 — group, and X 11 and X
12 is a hydroxy group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, a mercapto group (or a salt thereof), an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group, an alkylamino group, and an aryl group, respectively. Amino group, heterocyclic amino group, acylamino group,
Represents a sulfonamide group or a heterocyclic group. Y 13 represents a hydrogen atom or a substituent. In the formula (P), Z 1 and Z 2 represent a halogen atom, X 1 represents a hydrogen atom or an electron-withdrawing group, Y 1 represents a —CO— group or a —SO 2 — group, and Q represents an arylene group. Or L represents a divalent heterocyclic group, L represents a linking group, W represents a carboxyl group or a salt thereof, a sulfo group or a salt thereof, a phosphate group, a hydroxyl group,
Represents a quaternary ammonium group or a polyethyleneoxy group. n represents 0 or 1. (3) The photothermographic material according to the above (1) or (2), further comprising at least one compound represented by the following formula (Z).

【0018】[0018]

【化6】 Embedded image

【0019】[式(Z)において、Mは水素原子または
k価の陽イオンを表し、Rは置換基を表す。mは1〜4
の整数で、n≧2の時、複数個あるRは同一でも異なっ
ていても良い。kは1以上の整数であり、Mが水素原子
の時k=1である。] (4) 膜pHが6.0以下である上記(1)〜(3)の
いずれかの熱現像感光材料。
[In the formula (Z), M represents a hydrogen atom or a k-valent cation, and R represents a substituent. m is 1 to 4
When n ≧ 2, a plurality of Rs may be the same or different. k is an integer of 1 or more, and when M is a hydrogen atom, k = 1. (4) The photothermographic material according to any one of the above (1) to (3), wherein the film pH is 6.0 or less.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
本発明の熱現像感光材料は、支持体の少なくとも一方の
面上に、非感光性銀塩として有機銀塩、感光性ハロゲン
化銀およびバインダーを含有する画像形成層(即ち感光
性層)を有するものであり、この画像形成層側の層に式
(1)、式(2)または式(3)で表される造核剤およ
び式(P)で表わされる有機ハロゲン化合物を含有する
熱現像感光材料である。これらの化合物を含有させるこ
とによって、硬調で、黒ポツ、処理ムラの発生しにくい
熱現像感光材料が得られる。これに対し、従来のヒドラ
ジン誘導体のみを造核剤として用いたり、式(P)の化合
物を用いないと、黒ポツ、処理ムラが発生してしまう。
また、式(P)以外の水溶性基をもたない有機ハロゲン化
合物のみを式(P)の化合物にかえて用いると、処理ムラ
の点で実用に耐えない造核剤としては、黒ポツ、処理ム
ラの発生を抑える上で式(A)、式(B)で表わされる
化合物を用いることが好ましい。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.
The photothermographic material of the present invention has, on at least one surface of a support, an image forming layer (that is, a photosensitive layer) containing an organic silver salt as a non-photosensitive silver salt, a photosensitive silver halide and a binder. And a photothermographic method containing a nucleating agent represented by Formula (1), Formula (2) or Formula (3) and an organic halogen compound represented by Formula (P) in the layer on the image forming layer side. Material. By containing these compounds, a photothermographic material can be obtained which has a high contrast and hardly causes black spots and processing unevenness. On the other hand, when only the conventional hydrazine derivative is used as a nucleating agent or the compound of the formula (P) is not used, black spots and processing unevenness occur.
When only an organic halogen compound having no water-soluble group other than the formula (P) is used in place of the compound of the formula (P), nucleating agents that are not practical in terms of processing unevenness include black pots, In order to suppress the occurrence of processing unevenness, it is preferable to use the compound represented by the formula (A) or (B).

【0021】また、カブリ防止剤として式(Z)で表さ
れる化合物を用いると、さらに黒ポツ、処理ムラの発生
を抑えることができる。
When the compound represented by the formula (Z) is used as an antifoggant, the occurrence of black spots and processing unevenness can be further suppressed.

【0022】また、より硬調でDmaxの高い画像を得
る上で膜pHを6.0以下に調整することが好ましい。
In order to obtain an image having a higher contrast and a higher Dmax, it is preferable to adjust the film pH to 6.0 or less.

【0023】本発明に用いることのできる有機銀塩は、
光に対して比較的安定であるが、露光された光触媒(感
光性ハロゲン化銀の煎像など)および還元剤の存在下
で、80℃或いはそれ以上に加熱された場合に銀画像を形
成する銀塩である。有機銀塩は銀イオンを還元できる源
を含む任意の有機物質であってよい。有機酸の銀塩、特
に(炭素数が10〜30、好ましくは15〜28の)長鎖脂肪カル
ボン酸の銀塩が好ましい。配位子が4.0〜10.0の範囲の
錯安定度定数を有する有機または無機銀塩の錯体も好ま
しい。銀供給物質は、好ましくは画像形成層の約5〜70
重量%を構成することができる。好ましい有機銀塩はカ
ルボキシル基を有する有機化合物の銀塩を含む。これら
の例は、脂肪族カルボン酸の銀塩および芳香族カルボン
酸の銀塩を含むがこれらに限定されることはない。脂肪
族カルボン酸の銀塩の好ましい例としては、ベヘン酸
銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、
ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミ
チン酸銀、マレイン酸銀、フマル酸銀、酒石酸銀、リノ
ール酸銀、酪酸銀および樟脳酸銀、これらの混合物など
を含む。
The organic silver salt that can be used in the present invention includes:
Relatively stable to light, but forms a silver image when heated to 80 ° C or higher in the presence of an exposed photocatalyst (such as a photosensitive silver halide image) and a reducing agent It is a silver salt. The organic silver salt can be any organic substance including a source capable of reducing silver ions. Silver salts of organic acids, in particular silver salts of long-chain fatty carboxylic acids (with 10 to 30, preferably 15 to 28 carbon atoms) are preferred. Complexes of organic or inorganic silver salts wherein the ligand has a complex stability constant in the range of 4.0 to 10.0 are also preferred. The silver donor is preferably present in about 5-70 of the imaging layer.
% By weight. Preferred organic silver salts include silver salts of organic compounds having a carboxyl group. Examples of these include, but are not limited to, silver salts of aliphatic carboxylic acids and silver salts of aromatic carboxylic acids. Preferred examples of the aliphatic carboxylic acid silver salt include silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate,
Silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, silver maleate, silver fumarate, silver tartrate, silver linoleate, silver butyrate and silver camphorate, and mixtures thereof.

【0024】本発明においては、上記に挙げられる有機
酸銀ないしは有機酸銀の混合物の中でも、ベヘン酸銀含
有率75モル%以上の有機酸銀を用いることが好まし
く、85モル%以上がさらに好ましい。。ここでベヘン
酸銀含有率とは、使用する有機酸銀に対するベヘン酸銀
のモル分率を示す。本発明に用いる有機酸銀中に含まれ
るベヘン酸銀以外の有機酸銀としては上記に挙げた物を
好ましく用いることができる。
In the present invention, it is preferable to use silver organic acid having a silver behenate content of 75 mol% or more, and more preferably 85 mol% or more, of the above-mentioned organic acid silver or a mixture of the organic acid silver. . . Here, the content of silver behenate indicates the molar fraction of silver behenate with respect to the organic acid silver used. As the organic acid silver other than silver behenate contained in the organic acid silver used in the present invention, those mentioned above can be preferably used.

【0025】本発明に好ましく用いられる有機酸銀は、
上記に示した有機酸のアルカリ金属塩(Na塩,K塩,
Li塩等が挙げられる)溶液または懸濁液と硝酸銀を反
応させることで調製される。本発明の有機酸アルカリ金
属塩は、上記有機酸をアルカリ処理することによって得
られる。本発明の有機酸銀は任意の好適な容器中で回分
式でまたは連続式で行うことができる。反応容器中の攪
拌は粒子の要求される特性によって任意の攪拌方法で攪
拌することができる。有機酸銀の調製法としては、有機
酸アルカリ金属塩溶液あるいは懸濁液の入った反応容器
に硝酸銀水溶液を徐々にあるいは急激に添加する方法、
硝酸銀水溶液の入った反応容器に予め調製した有機酸ア
ルカリ金属塩溶液あるいは懸濁液を徐々にあるいは急激
に添加する方法、予め調製した硝酸銀水溶液および有機
酸アルカリ金属塩溶液または懸濁液を反応容器中に同時
に添加する方法のいずれもが好ましく用いることができ
る。
The organic acid silver which is preferably used in the present invention is
Alkali metal salts of organic acids shown above (Na salt, K salt,
It is prepared by reacting silver nitrate with a solution or suspension. The alkali metal salt of an organic acid of the present invention is obtained by treating the above organic acid with an alkali. The silver salt of an organic acid of the present invention can be carried out batchwise or continuously in any suitable vessel. The stirring in the reaction vessel can be performed by any stirring method depending on the required characteristics of the particles. As a method for preparing an organic acid silver salt, a method in which a silver nitrate aqueous solution is gradually or rapidly added to a reaction vessel containing an organic acid alkali metal salt solution or suspension,
A method in which a previously prepared organic acid alkali metal salt solution or suspension is gradually or rapidly added to a reaction vessel containing an aqueous silver nitrate solution, and a previously prepared silver nitrate aqueous solution and an organic acid alkali metal salt solution or suspension are added to the reaction vessel. Any of the methods of simultaneous addition into the inside can be preferably used.

【0026】硝酸銀水溶液および有機酸アルカリ金属塩
溶液または懸濁液は調製する有機酸銀の粒子サイズの制
御のために任意の濃度の物を用いることができ、また任
意の添加速度で添加することができる。硝酸銀水溶液お
よび有機酸アルカリ金属塩溶液または懸濁液の添加方法
としては、添加速度一定で添加する方法、任意の時間関
数による加速添加法あるいは減速添加法にて添加するこ
とができる。また反応液に対し、液面に添加してもよ
く、また液中に添加してもよい。予め調製した硝酸銀水
溶液および有機酸アルカリ金属塩溶液または懸濁液を反
応容器中に同時に添加する方法の場合には、硝酸銀水溶
液あるいは有機酸アルカリ金属塩溶液または懸濁液のい
ずれかを先行させて添加することもできるが、硝酸銀水
溶液を先行させて添加することが好ましい。先行度とし
ては総添加量の0から50vol%が好ましく、0から2
5vol%が特に好ましい。また特開平9-127643号公報等
に記載のように反応中の反応液のpHないしは銀電位を
制御しながら添加する方法も好ましく用いることができ
る。
The silver nitrate aqueous solution and the organic acid alkali metal salt solution or suspension may be of any concentration for controlling the particle size of the prepared organic acid silver, and may be added at any addition rate. Can be. The silver nitrate aqueous solution and the organic acid alkali metal salt solution or suspension can be added by a method of adding at a constant addition rate, an accelerated addition method by an arbitrary time function, or a deceleration addition method. Further, it may be added to the surface of the reaction solution or may be added to the reaction solution. In the case of a method in which a previously prepared aqueous silver nitrate solution and an organic acid alkali metal salt solution or suspension are simultaneously added to the reaction vessel, either the silver nitrate aqueous solution or the organic acid alkali metal salt solution or suspension is preceded. Although it can be added, it is preferable to add the silver nitrate aqueous solution in advance. The degree of precedence is preferably 0 to 50 vol% of the total amount added, and 0 to 2 vol%.
5 vol% is particularly preferred. As described in JP-A-9-127643, a method of adding while controlling the pH or silver potential of the reaction solution during the reaction can also be preferably used.

【0027】添加される硝酸銀水溶液や有機酸アルカリ
金属塩溶液または懸濁液は粒子の要求される特性により
pHを調整することができる。pH調整のために任意の
酸やアルカリを添加することができる。また、粒子の要
求される特性により、例えば調製する有機酸銀の粒子サ
イズの制御のため反応容器中の温度を任意に設定するこ
とができるが、添加される硝酸銀水溶液や有機酸アルカ
リ金属塩溶液または懸濁液も任意の温度に調整すること
ができる。有機酸アルカリ金属塩溶液または懸濁液は液
の流動性を確保するために、50℃以上に加熱保温する
ことが好ましい。
The pH of the silver nitrate aqueous solution or organic acid alkali metal salt solution or suspension to be added can be adjusted according to the required characteristics of the particles. An optional acid or alkali can be added for pH adjustment. In addition, depending on the required characteristics of the particles, for example, the temperature in the reaction vessel can be set arbitrarily for controlling the particle size of the prepared organic acid silver salt. Alternatively, the suspension can also be adjusted to any temperature. The organic acid alkali metal salt solution or suspension is preferably heated and kept at 50 ° C. or higher in order to ensure fluidity of the solution.

【0028】本発明に用いる有機酸銀は第3アルコール
の存在下で調製されることが好ましい。第3アルコール
としては好ましくは総炭素数15以下の物が好ましく、
10以下が特に好ましい。好ましい第3アルコールの例
としては、tert-ブタノール等が挙げられるが、本発明
はこれに限定されない。
The silver salt of an organic acid used in the present invention is preferably prepared in the presence of a tertiary alcohol. Preferably, the tertiary alcohol is one having a total carbon number of 15 or less,
Particularly preferred is 10 or less. Preferred examples of the tertiary alcohol include tert-butanol, but the present invention is not limited thereto.

【0029】本発明に用いられる第3アルコールの添加
時期は有機酸銀調製時のいずれのタイミングでも良い
が、有機酸アルカリ金属塩の調製時に添加して、有機酸
アルカリ金属塩を溶解して用いることが好ましい。ま
た、本発明の第3アルコールの使用量は有機酸銀調製時
の溶媒としてのH2Oに対して重量比で0.01〜10の範囲
で任意に使用することができるが、0.03〜1の範囲が好
ましい。
The tertiary alcohol used in the present invention may be added at any timing during the preparation of the organic acid silver salt. However, the tertiary alcohol may be added during the preparation of the organic acid alkali metal salt to dissolve the organic acid alkali metal salt. Is preferred. The amount of the tertiary alcohol used in the present invention can be arbitrarily used in a weight ratio of 0.01 to 10 with respect to H 2 O as a solvent at the time of preparing the silver salt of an organic acid. Is preferred.

【0030】本発明に用いることができる有機銀塩の形
状としては特に制限はないが、短軸と長軸を有する針状
結晶が好ましい。本発明においては短軸0.01μm以上0.2
0μm以下、長軸0.10μm以上5.0μm以下が好ましく、短
軸0.01μm以上0.15μm以下、長軸0.10μm以上4.0μm以
下がより好ましい。有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散
であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれ
の長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の百
分率が好ましくは80%以下、より好ましくは50%以下、更
に好ましくは30%以下である。有機銀塩の形状の測定方
法としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より求
めることができる。単分散性を測定する別の方法とし
て、有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差を求める方
法があり、体積加重平均直径で割った値の百分率(変動
係数)が好ましくは80%以下、より好ましくは50%以下、
更に好ましくは30%以下である。測定方法としては例え
ば液中に分散した有機銀塩にレーザー光を照射し、その
散乱光のゆらぎの時間変化に対する自己相関関数を求め
ることにより得られた粒子サイズ(体積加重平均直径)か
ら求めることができる。この測定法での平均粒子サイズ
としては0.05μm以上10.0μm以下の固体微粒子分散物
が好ましい。より好ましくは平均粒子サイズ0.1μm以
上5.0μm以下、更に好ましくは平均粒子サイズ0.1μm
以上2.0μm以下である。
The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, but needle crystals having a short axis and a long axis are preferred. In the present invention, the minor axis is 0.01 μm or more and 0.2 μm or more.
0 μm or less, major axis of 0.10 μm or more and 5.0 μm or less, minor axis of 0.01 μm or more and 0.15 μm or less, and major axis of 0.10 μm or more and 4.0 μm or less are more preferred. The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodisperse and the minor axis, the percentage of the value obtained by dividing the standard deviation of the length of each major axis by the minor axis and major axis, respectively, is preferably 80% or less, more preferably 50% or less, and still more preferably 30% or less. is there. The shape of the organic silver salt can be measured from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method of measuring the monodispersity, there is a method of obtaining the standard deviation of the volume-weighted average diameter of the organic silver salt, the percentage of the value divided by the volume-weighted average diameter (coefficient of variation) is preferably 80% or less, more Preferably 50% or less,
It is more preferably at most 30%. As a measuring method, for example, the particle size (volume weighted average diameter) obtained by irradiating a laser beam to an organic silver salt dispersed in a liquid and obtaining an autocorrelation function with respect to a time change of fluctuation of the scattered light is obtained. Can be. A solid fine particle dispersion having an average particle size of 0.05 μm or more and 10.0 μm or less in this measurement method is preferable. More preferably an average particle size of 0.1 μm or more and 5.0 μm or less, more preferably an average particle size of 0.1 μm
Not less than 2.0 μm.

【0031】本発明に用いることのできる有機銀塩は、
好ましくは脱塩をすることができる。脱塩を行う方法と
しては特に制限はなく公知の方法を用いることができる
が、遠心濾過、吸引濾過、限外濾過、凝集法によるフロ
ック形成水洗等の公知の濾過方法を好ましく用いること
ができる。
The organic silver salt which can be used in the present invention is
Preferably, desalting can be performed. The method for desalting is not particularly limited, and a known method can be used. A known filtration method such as centrifugal filtration, suction filtration, ultrafiltration, and floc-forming water washing by a coagulation method can be preferably used.

【0032】本発明では、高S/Nで、粒子サイズが小さ
く、凝集のない有機銀塩固体分散物を得る目的で、画像
形成媒体である有機銀塩を含み、かつ感光性銀塩を実質
的に含まない水分散液を高速流に変換した後、圧力降下
させる分散法を用いることが好ましい。
In the present invention, in order to obtain an organic silver salt solid dispersion having a high S / N, a small particle size and no aggregation, an organic silver salt which is an image forming medium and a photosensitive silver salt are substantially contained. It is preferable to use a dispersion method in which a water dispersion liquid which is not included in the liquid is converted into a high-speed flow and then the pressure is reduced.

【0033】そして、このような工程を経た後に、感光
性銀塩水溶液と混合して感光性画像形成媒体塗布液を製
造する。このような塗布液を用いて熱現像感光材料を作
製するとヘイズが低く、低カブリで高感度の熱現像感光
材料が得られる。これに対し、高圧、高速流に変換して
分散する時に、感光性銀塩を共存させると、カブリが上
昇し、感度が著しく低下する。また、分散媒として水で
はなく、有機溶剤を用いると、ヘイズが高くなり、カブ
リが上昇し、感度が低下しやすくなる。一方、感光性銀
塩水溶液を混合する方法にかえて、分散液中の有機銀塩
の一部を感光性銀塩に変換するコンバージョン法を用い
ると感度が低下する。
After passing through such steps, the mixture is mixed with an aqueous solution of a photosensitive silver salt to prepare a coating solution for a photosensitive image forming medium. When a photothermographic material is prepared using such a coating solution, a haze is low, and a low-fogging, high-sensitivity photothermographic material can be obtained. On the other hand, when the photosensitive silver salt is coexistent when the light is converted into a high-pressure, high-speed flow and dispersed, the fog increases and the sensitivity is remarkably lowered. When an organic solvent is used instead of water as a dispersion medium, haze increases, fog increases, and sensitivity tends to decrease. On the other hand, when a conversion method for converting a part of the organic silver salt in the dispersion to the photosensitive silver salt is used instead of the method of mixing the aqueous solution of the photosensitive silver salt, the sensitivity is reduced.

【0034】上記において、高圧、高速化に変換して分
散される水分散液は、実質的に感光性銀塩を含まないも
のであり、その含水量は非感光性の有機銀塩に対して0.
1モル%以下であり、積極的な感光性銀塩の添加は行わな
いものである。
In the above, the aqueous dispersion converted and dispersed under high pressure and high speed contains substantially no photosensitive silver salt, and its water content is relative to that of the non-photosensitive organic silver salt. 0.
The content is 1 mol% or less, and the photosensitive silver salt is not positively added.

【0035】本発明において、上記のような分散法を実
施するのに用いられる固体分散装置およびその技術につ
いては、例えば『分散系レオロジーと分散化技術』(梶
内俊夫、薄井洋基 著、1991、信山社出版(株)、p357
〜p403)、『化学工学の進歩第24集』(社団法人 化学
工学会東海支部 編、1990、槙書店、p184〜p185)、
等に詳しいが、本発明での分散法は、少なくとも有機銀
塩を含む水分散物を高圧ポンプ等で加圧して配管内に送
入した後、配管内に設けられた細いスリットを通過さ
せ、この後に分散液に急激な圧力低下を生じさせること
により微細な分散を行う方法である。
In the present invention, the solid dispersion apparatus and the technique used for carrying out the dispersion method as described above are described in, for example, "Dispersion Rheology and Dispersion Technology" (Toshio Kajiuchi, Hiroki Usui, 1991, Shinzansha Publishing Co., Ltd., p357
-P403), "The 24th Progress of Chemical Engineering", edited by The Society of Chemical Engineers, Tokai Branch, 1990, Maki Shoten, p184-p185),
Although detailed in the dispersing method of the present invention, the aqueous dispersion containing at least an organic silver salt is pressurized by a high-pressure pump or the like and sent into a pipe, and then passed through a narrow slit provided in the pipe, Thereafter, the dispersion is finely dispersed by causing an abrupt pressure drop in the dispersion.

【0036】本発明が関連する高圧ホモジナイザーにつ
いては、一般には、(a)分散質が狭間隙を高圧、高速で
通過する際に生じる『剪断力』、(b)分散質が高圧下か
ら常圧に解放される際に生じる『キャビテーション
力』、等の分散力によって微細な粒子への分散が行われ
ると考えられている。この種の分散装置としては、古く
はゴーリンホモジナイザーが挙げられるが、この装置で
は高圧で送られた被分散液が円柱面上の狭い間隙で、高
速流に変換され、その勢いで周囲の壁面に衝突し、その
衝撃力で乳化・分散が行われる。使用圧力は一般には10
0〜600kg/cm2、流速は数m〜30m/秒の範囲であり、分散
効率を上げるために高流速部を鋸刃状にして衝突回数を
増やすなどの工夫を施したものも考案されている。これ
に対して、近年更に高圧、高流速での分散が可能となる
装置が開発されてきており、その代表例としてはマイク
ロフルイダイザー(マイクロフルイデックス・インター
ナショナル・コーポレーション社)、ナノマイザー(特
殊機化工業(株))などが挙げられる。
The high-pressure homogenizer to which the present invention relates is generally composed of (a) a "shear force" generated when the dispersoid passes through a narrow gap at a high pressure and a high speed, and (b) a dispersoid is generated under a high pressure and a normal pressure. It is considered that the particles are dispersed into fine particles by a dispersing force such as "cavitation force" generated when the particles are released. As an example of this type of dispersing apparatus, a Gaulin homogenizer is mentioned in the past.In this apparatus, the liquid to be dispersed sent at a high pressure is converted into a high-speed flow through a narrow gap on a cylindrical surface, and the force is applied to the surrounding wall by the force. The particles collide and are emulsified and dispersed by the impact force. Working pressure is generally 10
0~600kg / cm 2, the flow rate is in the range of a few M~30m / sec, be devised that the high flow rate portion was devised such increasing the number collisions in the saw-toothed in order to increase the dispersion efficiency I have. On the other hand, in recent years, apparatuses capable of dispersing at higher pressure and higher flow rate have been developed, and typical examples thereof include a microfluidizer (Microfluidex International Corporation) and a nanomizer (specialized machine). Industrial Co., Ltd.).

【0037】本発明に適した分散装置としては、マイク
ロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーシ
ョン社製マイクロフルイダイザーM−110S−EH
(G10Zインターラクションチャンバー付き)、M−
110Y(H10Zインターラクションチャンバー付
き)、M−140K(G10Zインターラクションチャ
ンバー付き)、HC−5000(L30ZまたはH23
0Zインターラクションチャンバー付き),HC−80
00(E230ZまたはL30Zインターラクションチ
ャンバー付き)等が挙げられる。
As a dispersion apparatus suitable for the present invention, a microfluidizer M-110S-EH manufactured by Microfluidics International Corporation is used.
(With G10Z interaction chamber), M-
110Y (with H10Z interaction chamber), M-140K (with G10Z interaction chamber), HC-5000 (L30Z or H23
With 0Z interaction chamber), HC-80
00 (with an E230Z or L30Z interaction chamber) and the like.

【0038】これらの装置を用い、少なくとも有機銀塩
を含む水分散液を高圧ポンプ等で加圧して配管内に送入
した後、配管内に設けられた細いスリットを通過させる
ことにより所望の圧力を印加し、この後に配管内の圧力
を大気圧に急速に戻す等の方法で分散液に急激な圧力降
下を生じさせることにより本発明に最適な有機銀塩分散
物を得ることが可能である。
Using these devices, an aqueous dispersion containing at least an organic silver salt is pressurized by a high-pressure pump or the like and fed into a pipe, and then passed through a narrow slit provided in the pipe to obtain a desired pressure. Is applied, and thereafter, the pressure in the pipe is rapidly returned to the atmospheric pressure, or the like, and a sudden pressure drop is caused in the dispersion to obtain an organic silver salt dispersion optimal for the present invention. .

【0039】分散操作に先だって、原料液を予備分散す
ることが好ましい。予備分散する手段としては公知の分
散手段(例えば、高速ミキサー、ホモジナイザー、高速
衝撃ミル、バンバリーミキサー、ホモミキサー、ニーダ
ー、ボールミル、振動ボールミル、遊星ボールミル、ア
トライター、サンドミル、ビーズミル、コロイドミル、
ジェットミル、ローラーミル、トロンミル、高速ストー
ンミル)を用いることができる。機械的に分散する以外
にも、pHコントロールすることで溶媒中に粗分散し、そ
の後、分散助剤の存在下でpHを変化させて微粒子化させ
ても良い。このとき、粗分散に用いる溶媒として有機溶
媒を使用しても良く、通常有機溶媒は微粒子化終了後除
去される。
Prior to the dispersion operation, it is preferable to predisperse the raw material liquid. As means for preliminary dispersion, known dispersion means (e.g., high-speed mixer, homogenizer, high-speed impact mill, Banbury mixer, homomixer, kneader, ball mill, vibration ball mill, planetary ball mill, attritor, sand mill, bead mill, colloid mill,
Jet mill, roller mill, tron mill, high-speed stone mill) can be used. In addition to mechanical dispersion, the particles may be coarsely dispersed in a solvent by controlling the pH, and then finely divided by changing the pH in the presence of a dispersing aid. At this time, an organic solvent may be used as a solvent used for the coarse dispersion, and the organic solvent is usually removed after completion of the fine particle formation.

【0040】本発明の有機銀塩分散においては、流速、
圧力降下時の差圧と処理回数の調節によって所望の粒子
サイズに分散することが可能であるが、写真特性と粒子
サイズの点から、流速が200m/秒〜600m/秒、圧力降下時
の差圧が900〜3000kg/cm2の範囲が好ましく、流速が300
m/秒〜600m/秒、圧力降下時の差圧が1500〜3000kg/cm2
の範囲であることが更に好ましい。分散処理回数は必要
に応じて選択でき、通常は1回〜10回の処理回数が選ば
れるが、生産性の点からは1回〜3回程度の処理回数が選
ばれる。高圧下でこのような水分散液を高温にすること
は、分散性、写真特性の点から好ましくなく、90℃を越
えるような高温では粒子サイズが大きくなりやすくなる
と共に、カブリが高くなる傾向がある。従って、本発明
では前記の高圧、高流速に変換する前の工程もしくは、
圧力降下させた後の工程、あるいはこれらの両工程に冷
却工程を含み、このような水分散の温度が冷却工程によ
り5〜90℃の範囲に保たれていることが好ましく、更に
好ましくは5〜80℃の範囲、特に5〜65℃の範囲に保たれ
ていることが好ましい。特に、1500〜3000kg/cm2の範囲
の高圧の分散時には前記の冷却工程を設置することが有
効である。冷却器は、その所要熱交換量に応じて、二重
管や二重管にスタチックミキサーを使用したもの、多管
式熱交換器、蛇管式熱交換器等を適宜選択することがで
きる。また、熱交換の効率を上げるために、使用圧力を
考慮して、管の太さ、肉厚や材質など好適なものを選べ
ばよい。冷却器に使用する冷媒は、熱交換量から、20℃
の井水や冷凍機で処理した5〜10℃の冷水、また必要に
応じて-30℃のエチレングリコール/水等の冷媒を使用す
ることもできる。
In the organic silver salt dispersion of the present invention, the flow rate,
It is possible to disperse to the desired particle size by adjusting the pressure difference during pressure drop and the number of treatments.However, from the viewpoint of photographic characteristics and particle size, the flow rate is 200 m / sec to 600 m / sec, is preferably in the range pressure is 900~3000kg / cm 2, flow rate 300
m / sec ~600M / sec, the pressure difference at the pressure drop 1500~3000kg / cm 2
More preferably, it is within the range. The number of times of the dispersion processing can be selected as needed, and usually 1 to 10 times is selected, but from the viewpoint of productivity, about 1 to 3 times is selected. It is not preferable to raise the temperature of such an aqueous dispersion under high pressure from the viewpoint of dispersibility and photographic characteristics.At a temperature higher than 90 ° C., the particle size tends to increase, and the fog tends to increase. is there. Therefore, in the present invention, the high pressure, the step before converting to a high flow rate, or
The step after the pressure is reduced, or both of these steps include a cooling step, and the temperature of such aqueous dispersion is preferably kept in the range of 5 to 90 ° C. by the cooling step, and more preferably 5 to 90 ° C. It is preferred that the temperature be kept in the range of 80 ° C, particularly in the range of 5 to 65 ° C. In particular, it is effective to provide the above cooling step at the time of high-pressure dispersion in the range of 1500 to 3000 kg / cm 2 . As the cooler, a double tube, a double tube using a static mixer, a multi-tube heat exchanger, a coiled tube heat exchanger, or the like can be appropriately selected according to the required heat exchange amount. Further, in order to increase the efficiency of heat exchange, it is sufficient to select a suitable one such as a pipe thickness, a wall thickness and a material in consideration of a working pressure. The refrigerant used for the cooler is 20 ° C
Well water, cold water of 5 to 10 ° C treated by a refrigerator, or a refrigerant such as ethylene glycol / water at -30 ° C can be used if necessary.

【0041】本発明の分散操作では、水性溶媒可溶な分
散剤(分散助剤)の存在下で有機銀塩を分散することが
好ましい。分散助剤としては、例えば、ポリアクリル
酸、アクリル酸の共重合体、マレイン酸共重合体、マレ
イン酸モノエステル共重合体、アクリロメチルプロパン
スルホン酸共重合体などの合成アニオンポリマー、カル
ボキシメチルデンプン、カルボキシメチルセルロースな
どの半合成アニオンポリマー、アルギン酸、ペクチン酸
などのアニオン性ポリマー、特開平7-350753号に記載の
化合物、あるいは公知のアニオン性、ノニオン性、カチ
オン性界面活性剤やその他のポリビニルアルコール、ポ
リビニルピロリドン、カルボキシメチルセルロース、ヒ
ドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチ
ルセルロース等の公知のポリマー、或いはゼラチン等の
自然界に存在する高分子化合物を適宜選択して用いるこ
とができるが、ポリビニルアルコール類、水溶性のセル
ロース誘導体が特に好ましい。
In the dispersion operation of the present invention, it is preferable to disperse the organic silver salt in the presence of an aqueous solvent-soluble dispersant (dispersion aid). Examples of the dispersing agent include polyacrylic acid, a copolymer of acrylic acid, a maleic acid copolymer, a maleic acid monoester copolymer, a synthetic anionic polymer such as an acrylomethylpropanesulfonic acid copolymer, and carboxymethyl. Starch, semi-synthetic anionic polymers such as carboxymethyl cellulose, alginic acid, anionic polymers such as pectic acid, the compounds described in JP-A-7-350753, or known anionic, nonionic, cationic surfactants and other polyvinyl Known polymers such as alcohol, polyvinylpyrrolidone, carboxymethylcellulose, hydroxypropylcellulose, and hydroxypropylmethylcellulose, and naturally occurring polymer compounds such as gelatin can be appropriately selected and used. Le compounds, particularly preferred water-soluble cellulose derivatives.

【0042】分散助剤は、分散前に有機銀塩の粉末また
はウェットケーキ状態の有機銀塩と混合し、スラリーと
して分散機に送り込むのは一般的な方法であるが、予め
有機銀塩と混ぜ合わせた状態で熱処理や溶媒による処理
を施して有機銀塩粉末またはウェットケーキとしても良
い。分散前後または分散中に適当なpH調整剤によりpHコ
ントロールしても良い。
It is a general method to mix a dispersion aid with an organic silver salt powder or an organic silver salt in a wet cake state before dispersion and to send the mixture to a dispersion machine as a slurry. Heat treatment or treatment with a solvent may be performed in the combined state to obtain an organic silver salt powder or a wet cake. The pH may be controlled by a suitable pH adjuster before, during or after dispersion.

【0043】機械的に分散する以外にも、pHコントロー
ルすることで溶媒中に粗分散し、その後、分散助剤の存
在下でpHを変化させて微粒子化させても良い。このと
き、粗分散に用いる溶媒として有機溶媒を使用しても良
く、通常有機溶媒は微粒子化終了後除去される。
Instead of mechanically dispersing, fine particles may be formed by coarsely dispersing in a solvent by controlling the pH and then changing the pH in the presence of a dispersing agent. At this time, an organic solvent may be used as a solvent used for the coarse dispersion, and the organic solvent is usually removed after completion of the fine particle formation.

【0044】調製された分散物は、保存時の微粒子の沈
降を抑える目的で撹拌しながら保存したり、親水性コロ
イドにより粘性の高い状態(例えば、ゼラチンを使用し
ゼリー状にした状態)で保存したりすることもできる。
また、保存時の雑菌などの繁殖を防止する目的で防腐剤
を添加することもできる。
The prepared dispersion is stored with stirring for the purpose of suppressing sedimentation of the fine particles during storage, or stored in a highly viscous state (for example, in a jelly state using gelatin) with a hydrophilic colloid. You can also do.
Further, a preservative can be added for the purpose of preventing the propagation of various bacteria during storage.

【0045】本発明に用いる有機銀塩固体微粒子分散物
は、少なくとも有機銀塩と水から成るものである。有機
銀塩と水との割合は特に限定されるものではないが、有
機銀塩の全体に占める割合は5〜50重量%であること
が好ましく、特に10〜30重量%の範囲が好ましい。
前述の分散助剤を用いることは好ましいが、粒子サイズ
を最小にするのに適した範囲で最少量使用するのが好ま
しく、有機銀塩に対して0.5〜30重量%、特に1〜
15重量%の範囲が好ましい。
The organic silver salt solid fine particle dispersion used in the present invention comprises at least an organic silver salt and water. The ratio of the organic silver salt to water is not particularly limited, but the ratio of the organic silver salt to the whole is preferably 5 to 50% by weight, and more preferably 10 to 30% by weight.
It is preferable to use the above-mentioned dispersing aid, but it is preferable to use the dispersing aid in a minimum amount within a range suitable for minimizing the particle size.
A range of 15% by weight is preferred.

【0046】本発明では有機銀塩水分散液と感光性銀塩
水分散液を混合して感光材料を製造することが可能であ
るが、有機銀塩と感光性銀塩の混合比率は目的に応じて
選べるが、有機銀塩に対する感光性銀塩の割合は1〜3
0モル%の範囲が好ましく、更に3〜20モル%、特に5
〜15モル%の範囲が好ましい。混合する際に2種以上
の有機銀塩水分散液と2種以上の感光性銀塩水分散液を
混合することは、写真特性の調節のために好ましく用い
られる方法である。
In the present invention, it is possible to produce a photosensitive material by mixing an aqueous dispersion of an organic silver salt and an aqueous dispersion of a photosensitive silver salt, but the mixing ratio of the organic silver salt to the photosensitive silver salt depends on the purpose. The ratio of the photosensitive silver salt to the organic silver salt is 1 to 3
It is preferably in the range of 0 mol%, more preferably 3 to 20 mol%, especially 5
It is preferably in the range of ~ 15 mol%. Mixing two or more aqueous dispersions of organic silver salts with two or more aqueous dispersions of photosensitive silver salts during mixing is a method preferably used for adjusting photographic characteristics.

【0047】本発明の有機銀塩は所望の量で使用できる
が、感材1m2当たりの塗布量で示して、銀量として0.1
〜5g/m2が好ましく、さらに好ましくは1〜3g/m2であ
る。
Although the organic silver salt of the present invention can be used in a desired amount, it is expressed in a coating amount per 1 m 2 of the light-sensitive material, and the silver amount is 0.1%.
55 g / m 2 is preferred, and more preferably 1-3 g / m 2 .

【0048】本発明にはCa、Mg、ZnおよびAgか
ら選ばれる金属イオンを非感光性有機銀塩へ添加するこ
とが好ましい。Ca、Mg、ZnおよびAgから選ばれ
る金属イオンの非感光性有機銀塩への添加については、
ハロゲン化物でない、水溶性の金属塩の形で添加するこ
とが好ましく、具体的には硝酸塩や硫酸塩などの形で添
加することが好ましい。ハロゲン化物での添加は処理後
の感光材料の光(室内光や太陽光など)による画像保存
性、いわゆるプリントアウト性を悪化させるので好まし
くない。このため、本発明では前述のハロゲン化物でな
い、水溶性の金属塩の形で添加することが好ましい。
In the present invention, it is preferable to add a metal ion selected from Ca, Mg, Zn and Ag to the non-photosensitive organic silver salt. Regarding the addition of a metal ion selected from Ca, Mg, Zn and Ag to the non-photosensitive organic silver salt,
It is preferably added in the form of a water-soluble metal salt that is not a halide, and specifically, it is preferably added in the form of a nitrate or a sulfate. The addition of a halide is not preferred because it deteriorates the image storability of the processed photosensitive material due to light (such as room light or sunlight), that is, the so-called printout property. For this reason, in the present invention, it is preferable to add in the form of a water-soluble metal salt which is not the above-mentioned halide.

【0049】本発明に好ましく用いるCa、Mg、Zn
およびAgから選ばれる金属イオンの添加時期として
は、非感光性有機銀塩の粒子形成後の、粒子形成直後、
分散前、分散後および塗布液調製前後など塗布直前まで
であればいずれの時期でもよく、好ましくは分散後、塗
布液調製前後である。
Ca, Mg, Zn preferably used in the present invention
And the addition time of the metal ion selected from Ag is, after the formation of the non-photosensitive organic silver salt particles, immediately after the particle formation,
Any time before the application, such as before the dispersion, after the dispersion, and before and after the preparation of the coating liquid, may be at any time, and preferably after the dispersion and before and after the preparation of the coating liquid.

【0050】本発明におけるCa、Mg、ZnおよびA
gから選ばれる金属イオンの添加量としては、非感光性
有機銀1モル当たり10-3〜10-1モルが好ましく、特に5×
10-3〜5×10-2モルが好ましい。
In the present invention, Ca, Mg, Zn and A
g is preferably from 10 -3 to 10 -1 mol per mol of non-photosensitive organic silver, particularly 5 ×
10 -3 to 5 × 10 -2 mol is preferred.

【0051】本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀
は、ハロゲン組成として特に制限はなく、塩化銀、塩臭
化銀、臭化銀、ヨウ臭化銀、ヨウ塩臭化銀を用いること
ができる。粒子内におけるハロゲン組成の分布は均一で
あってもよく、ハロゲン組成がステップ状に変化したも
のでもよく、或いは連続的に変化したものでもよい。ま
た、コア/シェル構造を有するハロゲン化銀粒子を好ま
しく用いることができる。構造としては好ましくは2〜
5重構造、より好ましくは2〜4重構造のコア/シェル
粒子を用いることができる。また塩化銀または塩臭化銀
粒子の表面に臭化銀を局在させる技術も好ましく用いる
ことができる。
The photosensitive silver halide used in the present invention is not particularly limited as a halogen composition, and silver chloride, silver chlorobromide, silver bromide, silver iodobromide, and silver iodochlorobromide can be used. . The distribution of the halogen composition in the grains may be uniform, the halogen composition may change stepwise, or may change continuously. Further, silver halide grains having a core / shell structure can be preferably used. The structure is preferably 2-
Core / shell particles having a quintuple structure, more preferably a quaternary structure, can be used. A technique for localizing silver bromide on the surface of silver chloride or silver chlorobromide grains can also be preferably used.

【0052】感光性ハロゲン化銀の形成方法は当業界で
はよく知られており、例えばリサーチディスクロージャ
ー1978年6月の第17029号、および米国特許第3,700,458
号に記載されている方法を用いることができるが、具体
的にはゼラチンあるいは他のポリマー溶液中に銀供給化
合物およびハロゲン供給化合物を添加することにより感
光性ハロゲン化銀を調製し、その後で有機銀塩と混合す
る方法を用いる。感光性ハロゲン化銀の粒子サイズは、
画像形成後の白濁を低く抑える目的のために小さいこと
が好ましく具体的には0.20μm以下、より好ましくは0.
01μm以上0.15μm以下、更に好ましくは0.02μm以上0.
12μm以下がよい。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲ
ン化銀粒子が立方体あるいは八面体のいわゆる正常晶で
ある場合にはハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。ま
た、ハロゲン化銀粒子が平板状粒子である場合には主表
面の投影面積と同面積の円像に換算したときの直径をい
う。その他正常晶でない場合、例えば球状粒子、棒状粒
子等の場合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を
考えたときの直径をいう。
Methods for forming photosensitive silver halide are well known in the art, for example, Research Disclosure No. 17029, June 1978, and US Pat. No. 3,700,458.
Can be used.Specifically, a photosensitive silver halide is prepared by adding a silver-supplying compound and a halogen-supplying compound to a gelatin or other polymer solution, and then the organic silver halide is added. A method of mixing with a silver salt is used. The grain size of the photosensitive silver halide is
For the purpose of suppressing white turbidity after image formation, it is preferably small, specifically 0.20 μm or less, more preferably 0.1 μm or less.
01 μm or more and 0.15 μm or less, more preferably 0.02 μm or more and 0.1 μm or more.
It is preferably 12 μm or less. The grain size as used herein refers to the length of the edge of the silver halide grain when the silver halide grain is a cubic or octahedral so-called normal crystal. In the case where the silver halide grains are tabular grains, the diameter refers to the diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of the main surface. In the case of other than normal crystals, for example, in the case of spherical grains, rod-shaped grains, etc., it refers to the diameter of a sphere equivalent to the volume of silver halide grains.

【0053】ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、
八面体、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ
状粒子等を挙げることができるが、本発明においては特
に立方体状粒子、平板状粒子が好ましい。平板状ハロゲ
ン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は好ましく
は100:1〜2:1、より好ましくは50:1〜3:1がよい。更
に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ま
しく用いることができる。感光性ハロゲン化銀粒子の外
表面の面指数(ミラー指数)については特に制限はない
が、分光増感色素が吸着した場合の分光増感効率が高い
[100]面の占める割合が高いことが好ましい。その割合
としては50%以上が好ましく、65%以上がより好ましく、
80%以上が更に好ましい。ミラー指数[100]面の比率は増
感色素の吸着における[111]面と[100]面との吸着依存性
を利用したT.Tani;J.Imaging Sci.,29、165(1985年)に記
載の方法により求めることができる。
The shape of the silver halide grains is cubic,
Octahedral, tabular particles, spherical particles, rod-like particles, potato-like particles and the like can be mentioned. In the present invention, cubic particles and tabular particles are particularly preferable. When tabular silver halide grains are used, the average aspect ratio is preferably 100: 1 to 2: 1, more preferably 50: 1 to 3: 1. Further, grains having rounded corners of silver halide grains can also be preferably used. The surface index (mirror index) of the outer surface of the photosensitive silver halide grains is not particularly limited, but the spectral sensitizing efficiency when a spectral sensitizing dye is adsorbed is high.
The proportion occupied by the [100] plane is preferably high. The ratio is preferably 50% or more, more preferably 65% or more,
80% or more is more preferable. The Miller index [100] plane ratio was determined by T. Tani; J. Imaging Sci., 29, 165 (1985), which utilizes the adsorption dependence of [111] and [100] planes on the adsorption of sensitizing dyes. It can be determined by the method described.

【0054】本発明の感光性ハロゲン化銀粒子は、周期
律表の第VII族あるいは第VIII族(7〜10族)の金属ま
たは金属錯体を含有する。周期律表の第VII族あるいは
第VIII族の金属または金属錯体の中心金属として好まし
くはロジウム、レニウム、ルテニウム、オスミウム、イ
リジウムである。これら金属錯体は1種類でもよいし、
同種金属および異種金属の錯体を2種以上併用してもよ
い。好ましい含有率は銀1モルに対し1×10-9モルか
ら1×10-3モルの範囲が好ましく、1×10-8モルか
ら1×10-4モルの範囲がより好ましい。具体的な金属
錯体の構造としては特開平7-225449号等に記載された構
造の金属錯体を用いることができる。
The photosensitive silver halide grains of the present invention contain a metal or metal complex of Group VII or VIII (Groups 7 to 10) of the periodic table. Rhodium, rhenium, ruthenium, osmium and iridium are preferred as the metal of Group VII or VIII of the periodic table or the central metal of the metal complex. One of these metal complexes may be used,
Two or more complexes of the same metal and different metals may be used in combination. The preferred content is in the range of 1 × 10 −9 mol to 1 × 10 −3 mol per mol of silver, more preferably in the range of 1 × 10 −8 mol to 1 × 10 −4 mol. As a specific structure of the metal complex, a metal complex having a structure described in JP-A-7-225449 or the like can be used.

【0055】本発明に用いられるロジウム化合物として
は、水溶性ロジウム化合物を用いることができる。たと
えば、ハロゲン化ロジウム(III)化合物、またはロジ
ウム錯塩で配位子としてハロゲン、アミン類、オキザラ
ト等を持つもの、例えば、ヘキサクロロロジウム(II
I)錯塩、ペンタクロロアコロジウム(III)錯塩、テト
ラクロロジアコロジウム(III)錯塩、ヘキサブロモロ
ジウム(III)錯塩、ヘキサアンミンロジウム(III)錯
塩、トリオキザラトロジウム(III)錯塩等が挙げられ
る。これらのロジウム化合物は、水あるいは適当な溶媒
に溶解して用いられるが、ロジウム化合物の溶液を安定
化させるために一般によく行われる方法、すなわち、ハ
ロゲン化水素水溶液(例えば塩酸、臭酸、フッ酸等)、
あるいはハロゲン化アルカリ(例えばKCl、NaCl、KBr、
NaBr等)を添加する方法を用いることができる。水溶性
ロジウムを用いる代わりにハロゲン化銀調製時に、あら
かじめロジウムをドープしてある別のハロゲン化銀粒子
を添加して溶解させることも可能である。
As the rhodium compound used in the present invention, a water-soluble rhodium compound can be used. For example, a rhodium (III) halide compound or a rhodium complex salt having a ligand such as halogen, amines, oxalato, etc., for example, hexachlororhodium (II)
I) Complex salts, pentachloroacolodium (III) complex salts, tetrachlorodiachodium (III) complex salts, hexabromorhodium (III) complex salts, hexaamminerhodium (III) complex salts, trioxalathrodium (III) complex salts, and the like. Can be These rhodium compounds are used by dissolving them in water or a suitable solvent. A method generally used to stabilize a solution of the rhodium compound, that is, a hydrogen halide aqueous solution (for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrofluoric acid) etc),
Alternatively, an alkali halide (eg, KCl, NaCl, KBr,
NaBr) can be used. Instead of using water-soluble rhodium, it is also possible to add and dissolve other silver halide grains doped with rhodium during the preparation of silver halide.

【0056】これらのロジウム化合物の添加量はハロゲ
ン化銀1モル当たり1×10-8モル〜5×10-4モルの
範囲が好ましく、特に好ましくは5×10-8モル〜1×
10 -5モルである。
The amount of these rhodium compounds added is
1 × 10 per mole of silver halide-8Mol to 5 × 10-FourMole of
The range is preferably, particularly preferably 5 × 10-8Mol ~ 1x
10 -FiveIs a mole.

【0057】これらの化合物の添加は、ハロゲン化銀乳
剤粒子の製造時および乳剤を塗布する前の各段階におい
て適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加し、
ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。
These compounds can be appropriately added at the time of producing silver halide emulsion grains and at each stage before coating the emulsion.
It is preferably incorporated into silver halide grains.

【0058】本発明に用いられるレニウム、ルテニウ
ム、オスミウムは特開昭63-2042号、特開平1-285941号、
同2-20852号、同2-20855号等に記載された水溶性錯塩の
形で添加される。特に好ましいものとして、以下の式で
示される六配位錯体が挙げられる。 [ML6n- ここでMはRu、Re、またはOsを表し、Lは配位子
を表し、nは0、1、2、3または4を表す。
Rhenium, ruthenium and osmium used in the present invention are described in JP-A-63-2042, JP-A-1-285941,
It is added in the form of a water-soluble complex salt described in JP-A Nos. 2-20852 and 2-20855. Particularly preferred are hexacoordinate complexes represented by the following formula. [ML 6 ] n -where M represents Ru, Re, or Os, L represents a ligand, and n represents 0, 1, 2, 3, or 4.

【0059】この場合、対イオンは重要性を持たず、ア
ンモニウムもしくはアルカリ金属イオンが用いられる。
In this case, the counter ion is not important, and an ammonium or alkali metal ion is used.

【0060】また好ましい配位子としてはハロゲン化物
配位子、シアン化物配位子、シアン酸化物配位子、ニト
ロシル配位子、チオニトロシル配位子等が挙げられる。
以下に本発明に用いられる具体的錯体の例を示すが、本
発明はこれに限定されるものではない。
Preferred ligands include halide ligands, cyanide ligands, cyanide ligands, nitrosyl ligands, thionitrosyl ligands and the like.
Examples of specific complexes used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0061】 [ReCl6]3- [ReBr6]3- [ReCl5(NO)]2- [Re(NS)Br5]2- [Re(NO)(CN)5]2- [Re(O)2(CN)4]3- [RuCl6]3- [RuCl4(H2O)2]- [RuCl5(H2O)]2- [RuCl5(NO)]2- [RuBr5(NS)]2- [Ru(CO)3Cl3]2- [Ru(CO)Cl5]2- [Ru(CO)Br5]2- [OsCl6]3- [OsCl5(NO)]2- [Os(NO)(CN)5]2- [Os(NS)Br5]2- [Os(O)2(CN)4]4- [ReCl 6 ] 3- [ReBr 6 ] 3- [ReCl 5 (NO)] 2- [Re (NS) Br 5 ] 2- [Re (NO) (CN) 5 ] 2- [Re (O ) 2 (CN) 4 ] 3- [RuCl 6 ] 3- [RuCl 4 (H 2 O) 2 ] - [RuCl 5 (H 2 O)] 2- [RuCl 5 (NO)] 2- [RuBr 5 ( NS)] 2- [Ru (CO ) 3 Cl 3] 2- [Ru (CO) Cl 5] 2- [Ru (CO) Br 5] 2- [OsCl 6] 3- [OsCl 5 (NO)] 2 - [Os (NO) (CN) 5 ] 2- [Os (NS) Br 5 ] 2- [Os (O) 2 (CN) 4 ] 4-

【0062】これらの化合物の添加量はハロゲン化銀1
モル当たり1×10-9モル〜1×10-4モルの範囲が好
ましく、特に好ましくは1×10-8モル〜1×10-5
ルである。
The addition amount of these compounds is 1
It is preferably in the range of 1 × 10 −9 mol to 1 × 10 −4 mol per mol, particularly preferably 1 × 10 −8 mol to 1 × 10 −5 mol.

【0063】これらの化合物の添加は、ハロゲン化銀乳
剤粒子の製造時および乳剤を塗布する前の各段階におい
て適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加し、
ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。
These compounds can be appropriately added at the time of production of silver halide emulsion grains and at each stage before coating the emulsion.
It is preferably incorporated into silver halide grains.

【0064】これらの化合物をハロゲン化銀の粒子形成
中に添加してハロゲン化銀粒子中に組み込むには、金属
錯体の粉末もしくはNaCl、KClと一緒に溶解した水溶液
を、粒子形成中の水溶性塩または水溶性ハライド溶液中
に添加しておく方法、あるいは銀塩とハライド溶液が同
時に混合されるとき第3の溶液として添加し、3液同時
混合の方法でハロゲン化銀粒子を調製する方法、あるい
は粒子形成中に必要量の金属錯体の水溶液を反応容器に
投入する方法などがある。特に粉末もしくはNaCl、KCl
と一緒に溶解した水溶液を、水溶性ハライド溶液に添加
する方法が好ましい。
To add these compounds into silver halide grains by adding them during silver halide grain formation, a powder of a metal complex or an aqueous solution dissolved together with NaCl and KCl is added to the aqueous solution during grain formation. A method in which silver halide grains are added to a salt or a water-soluble halide solution, or are added as a third solution when a silver salt and a halide solution are simultaneously mixed, and silver halide grains are prepared by a three-solution simultaneous mixing method; Alternatively, there is a method in which a required amount of an aqueous solution of a metal complex is charged into a reaction vessel during particle formation. Especially powder or NaCl, KCl
Is preferable to add an aqueous solution dissolved together with the above to a water-soluble halide solution.

【0065】粒子表面に添加するには、粒子形成直後ま
たは物理熟成時途中もしくは終了時または化学熟成時に
必要量の金属錯体の水溶液を反応容器に投入することも
できる。
For addition to the particle surface, a required amount of an aqueous solution of a metal complex can be charged into the reaction vessel immediately after the formation of the particles, during or at the end of physical ripening, or at the time of chemical ripening.

【0066】本発明で用いられるイリジウム化合物とし
ては種々のものを使用できるが、例えばヘキサクロロイ
リジウム、ヘキサアンミンイリジウム、トリオキザラト
イリジウム、ヘキサシアノイリジウム、ペンタクロロニ
トロシルイリジウム等が挙げられる。これらのイリジウ
ム化合物は、水あるいは適当な溶媒に溶解して用いられ
るが、イリジウム化合物の溶液を安定化させるために一
般によく行われる方法、すなわち、ハロゲン化水素水溶
液(例えば塩酸、臭酸、フッ酸等)、あるいはハロゲン
化アルカリ(例えばKCl、NaCl、KBr、NaBr等)を添加す
る方法を用いることができる。水溶性イリジウムを用い
る代わりにハロゲン化銀調製時に、あらかじめイリジウ
ムをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶
解させることも可能である。
Various compounds can be used as the iridium compound used in the present invention. Examples thereof include hexachloroiridium, hexaammineiridium, trioxalatoiridium, hexacyanoiridium, and pentachloronitrosyliridium. These iridium compounds are used after being dissolved in water or an appropriate solvent. However, a method generally used to stabilize the solution of the iridium compound, that is, an aqueous solution of hydrogen halide (for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrofluoric acid) is used. Etc.) or a method of adding an alkali halide (eg, KCl, NaCl, KBr, NaBr, etc.). Instead of using water-soluble iridium, it is also possible to add and dissolve another silver halide grain doped with iridium in advance during the preparation of silver halide.

【0067】さらに本発明に用いられるハロゲン化銀粒
子に、コバルト、鉄、ニッケル、クロム、パラジウム、
白金、金、タリウム、銅、鉛、等の金属原子を含有して
もよい。コバルト、鉄、クロム、さらにルテニウムの化
合物については六シアノ金属錯体を好ましく用いること
ができる。具体例としては、フェリシアン酸イオン、フ
ェロシアン酸イオン、ヘキサシアノコバルト酸イオン、
ヘキサシアノクロム酸イオン、ヘキサシアノルテニウム
酸イオンなどが挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。ハロゲン化銀中の金属錯体は均一に含有させ
ても、コア部に高濃度に含有させてもよく、あるいはシ
ェル部に高濃度に含有させてもよく特に制限はない。
The silver halide grains used in the present invention may further include cobalt, iron, nickel, chromium, palladium,
It may contain metal atoms such as platinum, gold, thallium, copper and lead. For compounds of cobalt, iron, chromium and ruthenium, hexacyano metal complexes can be preferably used. Specific examples include ferricyanate ion, ferrocyanate ion, hexacyanocobaltate ion,
Examples include, but are not limited to, hexacyanochromate ions and hexacyanoruthenate ions. The metal complex in the silver halide may be contained uniformly, may be contained in the core portion at a high concentration, or may be contained in the shell portion at a high concentration, and there is no particular limitation.

【0068】上記金属はハロゲン化銀1モル当たり1×
10-9〜1×10-4モルが好ましい。また、上記金属を
含有させるには単塩、複塩、または錯塩の形の金属塩に
して粒子調製時に添加することができる。
The above metal is 1 × per mole of silver halide.
It is preferably from 10 -9 to 1 × 10 -4 mol. Further, in order to contain the above-mentioned metal, a metal salt in the form of a single salt, a double salt or a complex salt can be added at the time of preparing particles.

【0069】感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フ
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができるが、本発明においては脱
塩してもしなくてもよい。
The photosensitive silver halide grains can be desalted by washing with a method known in the art such as a noodle method and a flocculation method, but in the present invention, they may or may not be desalted. Good.

【0070】本発明のハロゲン化銀乳剤に金増感を施す
場合に用いられる金増感剤としては、金の酸化数が+1価
でも+3価でもよく、金増感剤として通常用いられる金化
合物を用いることができる。代表的な例としては塩化金
酸、カリウムクロロオーレート、オーリックトリクロラ
イド、カリウムオーリックチオシアネート、カリウムヨ
ードオーレート、テトラシアノオーリックアシド、アン
モニウムオーロチオシアネート、ピリジルトリクロロゴ
ールドなどが挙げられる。
The gold sensitizer used for sensitizing the silver halide emulsion of the present invention to gold may have a gold oxidation number of +1 or +3, and is usually used as a gold sensitizer. Gold compounds can be used. Representative examples include chloroauric acid, potassium chloroaurate, auric trichloride, potassium auric thiocyanate, potassium iodooleate, tetracyano auric acidide, ammonium aurothiocyanate, pyridyl trichlorogold and the like.

【0071】金増感剤の添加量は種々の条件により異な
るが、目安としてはハロゲン化銀1モル当り10-7モル
以上10-3モル以下、より好ましくは10-6モル以上5
×10-4モル以下である。
The amount of the gold sensitizer to be added varies depending on various conditions. As a guide, the amount is from 10 -7 mol to 10 -3 mol, preferably from 10 -6 mol to 5 mol, per mol of silver halide.
× 10 -4 mol or less.

【0072】本発明のハロゲン化銀乳剤は金増感と他の
化学増感とを併用することが好ましい。他の化学増感の
方法としては、硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感
法、貴金属増感法などの知られている方法を用いること
ができる。金増感法と組み合わせて使用する場合には、
例えば、硫黄増感法と金増感法、セレン増感法と金増感
法、硫黄増感法とセレン増感法と金増感法、硫黄増感法
とテルル増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン増感法
とテルル増感法と金増感法などが好ましい。
The silver halide emulsion of the present invention is preferably used in combination with gold sensitization and another chemical sensitization. As other chemical sensitization methods, known methods such as a sulfur sensitization method, a selenium sensitization method, a tellurium sensitization method, and a noble metal sensitization method can be used. When used in combination with the gold sensitization method,
For example, sulfur sensitization and gold sensitization, selenium sensitization and gold sensitization, sulfur sensitization and selenium sensitization and gold sensitization, sulfur sensitization and tellurium sensitization and gold sensitization Preferred methods include sulfur sensitization, selenium sensitization, tellurium sensitization, and gold sensitization.

【0073】本発明に好ましく用いられる硫黄増感は、
通常、硫黄増感剤を添加して、40℃以上の高温で乳剤
を一定時間攪拌することにより行われる。硫黄増感剤と
しては公知の化合物を使用することができ、例えば、ゼ
ラチン中に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合
物、例えばチオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ロ
ーダニン類等を用いることができる。好ましい硫黄化合
物は、チオ硫酸塩、チオ尿素化合物である。硫黄増感剤
の添加量は、化学熟成時のpH、温度、ハロゲン化銀粒
子の大きさなどの種々の条件の下で変化するが、ハロゲ
ン化銀1モル当たり10-7〜10-2モルであり、より好
ましくは10-5〜10-3モルである。
The sulfur sensitization preferably used in the present invention is
Usually, a sulfur sensitizer is added and the emulsion is stirred at a high temperature of 40 ° C. or higher for a certain period of time. As the sulfur sensitizer, known compounds can be used.For example, in addition to sulfur compounds contained in gelatin, various sulfur compounds such as thiosulfates, thioureas, thiazoles, rhodanines and the like are used. be able to. Preferred sulfur compounds are thiosulfates and thiourea compounds. The amount of the sulfur sensitizer to be added varies under various conditions such as pH during chemical ripening, temperature, and the size of silver halide grains, but is preferably 10 -7 to 10 -2 mol per mol of silver halide. And more preferably 10 -5 to 10 -3 mol.

【0074】本発明に用いられるセレン増感剤として
は、公知のセレン化合物を用いることができる。すなわ
ち、通常、不安定型および/または非不安定型セレン化
合物を添加して40℃以上の高温で乳剤を一定時間攪拌
することにより行われる。不安定型セレン化合物として
は特公昭44-15748号、同43-13489号、特開平4-25832号、同
4-109240号、同4-324855号等に記載の化合物を用いるこ
とができる。特に特開平4-324855号中の一般式(VIII)
および(IX)で示される化合物を用いることが好ましい。
As the selenium sensitizer used in the present invention, known selenium compounds can be used. That is, it is usually carried out by adding an unstable and / or non-unstable selenium compound and stirring the emulsion at a high temperature of 40 ° C. or higher for a certain time. As unstable selenium compounds, JP-B-44-15748, JP-B-43-13489, JP-A-4-25832,
The compounds described in JP-A Nos. 4-109240 and 4-324855 can be used. In particular, the general formula (VIII) in JP-A-4-324855
It is preferable to use the compound represented by (IX).

【0075】本発明に用いられるテルル増感剤は、ハロ
ゲン化銀粒子表面または内部に、増感核になると推定さ
れるテルル化銀を生成させる化合物である。ハロゲン化
銀乳剤中のテルル化銀生成速度については特開平5-3132
84号に記載の方法で試験することができる。テルル増感
剤としては例えばジアシルテルリド類、ビス(オキシカ
ルボニル)テルリド類、ビス(カルバモイル)テルリド
類、ジアシルテルリド類、ビス(オキシカルボニル)ジテ
ルリド類、ビス(カルバモイル)ジテルリド類、P=Te結合
を有する化合物、テルロカルボン酸塩類、Te−オルガ
ニルテルロカルボン酸エステル類、ジ(ポリ)テルリド
類、テルリド類、テルロール類、テルロアセタール類、
テルロスルホナート類、P-Te結合を有する化合物、含T
eヘテロ環類、テルロカルボニル化合物、無機テルル化
合物、コロイド状テルルなどを用いることができる。具
体的には、米国特許第1,623,499号、同第3,320,069号、同
第3,772,031号、英国特許第235,211号、同第1,121,496号、
同第1,295,462号、同第1,396,696号、カナダ特許第800,9
58号、特開平4-204640号、同3-53693号、同3-131598号、同4
-129787号、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアテ
ィー・ケミカル・コミュニケーション(J.Chem.Soc.Che
m.Commun.) 635(1980),ibid 1102(1979),ibid 645(197
9)、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティー・パ
ーキン・トランザクション(J.Chem.Soc.Perkin.Tran
s.) 1,2191(1980)、S.パタイ(S.Patai) 編、ザ・ケミス
トリー・オブ・オーガニック・セレニウム・アンド・テ
ルリウム・カンパウンズ(The Chemistry of Organic S
erenium and Tellunium Compounds),Vol.1(1986)、同 V
ol.2(1987)に記載の化合物を用いることができる。特に
特開平5-313284号中の一般式(II),(III),(IV)で示さ
れる化合物が好ましい。
The tellurium sensitizer used in the present invention is a compound which forms silver telluride which is presumed to be a sensitizing nucleus on the surface or inside of silver halide grains. The formation rate of silver telluride in a silver halide emulsion is described in JP-A-5-3132.
It can be tested by the method described in No. 84. Examples of tellurium sensitizers include diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) tellurides, bis (carbamoyl) tellurides, diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) ditellurides, bis (carbamoyl) ditellurides, P = Te Compounds having a bond, tellurocarboxylates, Te-organyltellurocarboxylates, di (poly) tellurides, tellurides, tellurols, telluroacetals,
Tellurosulfonates, compounds having a P-Te bond, containing T
e Heterocycles, tellurocarbonyl compounds, inorganic tellurium compounds, colloidal tellurium, and the like can be used. Specifically, U.S. Patent Nos. 1,623,499, 3,320,069, 3,772,031, UK Patent 235,211 and 1,121,496,
No. 1,295,462, No. 1,396,696, Canadian Patent 800,9
No. 58, JP-A-4-204640, JP-A-3-53693, JP-A-3-31598, JP-A-4
-129787, Journal of Chemical Society Chemical Communication (J.Chem.Soc.Che)
m.Commun.) 635 (1980), ibid 1102 (1979), ibid 645 (197
9), Journal of Chemical Society Perkin Transaction (J. Chem. Soc. Perkin. Tran)
s.) 1,2191 (1980), edited by S. Patai, The Chemistry of Organic S, edited by The Chemistry of Organic Selenium and Tellurium
erenium and Tellunium Compounds), Vol. 1 (1986), V
ol. 2 (1987). Particularly, compounds represented by formulas (II), (III) and (IV) in JP-A-5-313284 are preferred.

【0076】本発明で用いられるセレンおよびテルル増
感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成
条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀1モル当
たり10-8〜10-2モル、好ましくは10-7〜10-3
ル程度を用いる。本発明における化学増感の条件として
は特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAgとし
ては6〜11、好ましくは7〜10であり、温度として
は40〜95℃、好ましくは45〜85℃である。
The amount of the selenium and tellurium sensitizers used in the present invention varies depending on the silver halide grains to be used, the conditions of chemical ripening, etc., but generally ranges from 10 -8 to 10 -2 mol per mol of silver halide. Preferably, about 10 -7 to 10 -3 mol is used. The conditions of the chemical sensitization in the present invention are not particularly limited, but the pH is 5 to 8, the pAg is 6 to 11, preferably 7 to 10, and the temperature is 40 to 95 ° C, preferably 45 to 45 ° C. 85 ° C.

【0077】本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロ
ゲン化銀粒子の形成または物理熟成の過締においてカド
ミウム塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させ
てもよい。
In the silver halide emulsion used in the present invention, a cadmium salt, a sulfite, a lead salt, a thallium salt and the like may coexist in the formation of silver halide grains or in the overripening of physical ripening.

【0078】本発明においては、還元増感を用いること
ができる。還元増感法の具体的な化合物としてはアスコ
ルビン酸、二酸化チオ尿素の他に例えば、塩化第一ス
ズ、アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導
体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等
を用いることができる。また、乳剤のpHを7以上またはp
Agを8.3以下に保持して熟成することにより還元増感す
ることができる。また、粒子形成中に銀イオンのシング
ルアディション部分を導入することにより還元増感する
ことができる。
In the present invention, reduction sensitization can be used. As specific compounds of the reduction sensitization method, in addition to ascorbic acid and thiourea dioxide, for example, stannous chloride, aminoiminomethanesulfinic acid, hydrazine derivatives, borane compounds, silane compounds, polyamine compounds and the like can be used. . Also, when the pH of the emulsion is 7 or more or p
Reduction sensitization can be achieved by aging while keeping Ag at 8.3 or less. Further, reduction sensitization can be achieved by introducing a single addition portion of silver ions during grain formation.

【0079】本発明のハロゲン化銀乳剤は、欧州特許公
開293,917号に示される方法により、チオスルホン酸化
合物を添加してもよい。
The silver halide emulsion of the present invention may be added with a thiosulfonic acid compound by the method described in European Patent Publication 293,917.

【0080】本発明に用いられる感光材料中のハロゲン
化銀乳剤は、一種だけでもよいし、二種以上(例えば、
平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異なるも
の、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なるもの)
併用してもよい。
The silver halide emulsion in the light-sensitive material used in the present invention may be only one kind or two or more kinds (for example,
Those with different average grain sizes, different halogen compositions, different crystal habits, different chemical sensitization conditions)
You may use together.

【0081】本発明の感光性ハロゲン化銀の使用量とし
ては有機銀塩1モルに対して感光性ハロゲン化銀0.01モ
ル以上0.5モル以下が好ましく、0.02モル以上0.3モル以
下がより好ましく、0.03モル以上0.25モル以下が特に好
ましい。別々に調製した感光性ハロゲン化銀と有機銀塩
の混合方法および混合条件については、それぞれ調製終
了したハロゲン化銀粒子と有機銀塩を高速撹拌機やボー
ルミル、サンドミル、コロイドミル、振動ミル、ホモジ
ナイザー等で混合する方法や、あるいは有機銀塩の調製
中のいずれかのタイミングで調製終了した感光性ハロゲ
ン化銀を混合して有機銀塩を調製する方法等があるが、
本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限は
ない。
The amount of the photosensitive silver halide used in the present invention is preferably 0.01 to 0.5 mol, more preferably 0.02 to 0.3 mol, and more preferably 0.03 to 0.3 mol per 1 mol of the organic silver salt. It is particularly preferably at least 0.25 mol and not more than 0.25 mol. Regarding the mixing method and the mixing conditions of the separately prepared photosensitive silver halide and organic silver salt, the prepared silver halide particles and organic silver salt were mixed with a high-speed stirrer, a ball mill, a sand mill, a colloid mill, a vibration mill, and a homogenizer. Etc., or a method of preparing an organic silver salt by mixing photosensitive silver halide prepared at any timing during the preparation of the organic silver salt, or the like.
There is no particular limitation as long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited.

【0082】本発明に用いられる式(P)の化合物につ
いて、詳細に説明する。式(P)を下記に示す。
The compound of the formula (P) used in the present invention will be described in detail. Formula (P) is shown below.

【0083】[0083]

【化7】 Embedded image

【0084】式(P)において、Z1およびZ2はそれぞ
れ独立にハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素、よう素)
を表わすが、Z1およびZ2は両方とも臭素原子であるこ
とが最も好ましい。
In the formula (P), Z 1 and Z 2 are each independently a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, iodine)
It is most preferred that both Z 1 and Z 2 are bromine atoms.

【0085】式(P)において、X1は水素原子または
電子吸引性基である。ここで言う電子吸引性基とは、ハ
メットの置換基定数σpが正の値を取りうる置換基のこ
とであり、具体的には、シアノ基、アルコキシカルボニ
ル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、
スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールス
ルホニル基、ハロゲン原子、アシル基、ヘテロ環基等を
表わす。式(P)において、X1は水素原子またはハロ
ゲン原子であることが好ましく、最も好ましいのは臭素
原子である。
In the formula (P), X 1 is a hydrogen atom or an electron-withdrawing group. The electron-withdrawing group referred to herein is a substituent whose Hammett's substituent constant σp can take a positive value, specifically, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group,
It represents a sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a halogen atom, an acyl group, a heterocyclic group or the like. In the formula (P), X 1 is preferably a hydrogen atom or a halogen atom, and most preferably a bromine atom.

【0086】式(P)のY1は−CO−または−SO2
であり、好ましくは−SO2−である。式(P)におい
て、Qはアリーレン基または二価のヘテロ環基を表わ
す。
In formula (P), Y 1 is —CO— or —SO 2
, And the preferably -SO 2 - it is. In the formula (P), Q represents an arylene group or a divalent heterocyclic group.

【0087】式(P)のQで表わされるアリーレン基と
は、好ましくは炭素数6〜30の単環または縮環のアリー
レン基であり、より好ましくは6〜20の単環または縮環
のアリーレン基であり、例えば、フェニレン、ナフチレ
ン等が挙げられ、特に好ましくはフェニレン基である。
Qで表わされるアリーレン基は置換基を有していてもよ
く、置換基としては写真性能に悪影響を及ぼさない置換
基であればどのような基でも構わないが、例えばハロゲ
ン原子(フッ素原子、クロル原子、臭素原子、または沃
素原子)、アルキル基(アラルキル基、シクロアルキル
基、活性メチン基等を含む)、アルケニル基、アルキニ
ル基、アリール基、ヘテロ環基(N−置換の含窒素ヘテ
ロ環基を含む)、4級化された窒素原子を含むヘテロ環
基(例えばピリジニオ基)、アシル基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、カルボキシ基またはその塩、イミノ基、N原子で置
換したイミノ基、チオカルボニル基、カルバゾイル基、
シアノ基、チオカルバモイル基、アルコキシ基(エチレ
ンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し
含む基を含む)、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ
基、アシルオキシ基、(アルコキシもしくはアリールオ
キシ)カルバモイルオキシ基、カルバモイルオキシ基、
スルホニルオキシ基、アシルアミノ基、スルホンアミド
基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、(アルコ
キシもしくはアリールオキシ)カルボニルアミノ基、ス
ルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカ
ルバジド基、ヒドラジノ基、4級のアンモニオ基、(ア
ルキルもしくはアリール)スルホニルウレイド基、ニト
ロ基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ
基、アシルチオ基、(アルキルまたはアリール)スルホ
ニル基、(アルキルまたはアリール)スルフィニル基、
スルホ基またはその塩、スルファモイル基、ホスホリル
基、リン酸アミドもしくはリン酸エステル構造を含む
基、シリル基等が挙げられる。これら置換基は、これら
置換基でさらに置換されていてもよい。式(P)のQで
表わされるアリーレン基の置換基として特に好ましく
は、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハ
ロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基またはその塩、
スルホ基の塩、リン酸基である。
The arylene group represented by Q in the formula (P) is preferably a monocyclic or condensed arylene group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably a monocyclic or condensed arylene group having 6 to 20 carbon atoms. And phenylene, naphthylene and the like, and particularly preferably a phenylene group.
The arylene group represented by Q may have a substituent, and any substituent may be used as long as it does not adversely affect photographic performance. Examples of the substituent include a halogen atom (a fluorine atom, Atom, bromine atom or iodine atom), alkyl group (including aralkyl group, cycloalkyl group, active methine group, etc.), alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heterocyclic group (N-substituted nitrogen-containing heterocyclic group) Substituted with a quaternary nitrogen-containing heterocyclic group (eg, a pyridinio group), an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a carboxy group or a salt thereof, an imino group, or an N atom Imino group, thiocarbonyl group, carbazoyl group,
Cyano group, thiocarbamoyl group, alkoxy group (including a group having repeating ethyleneoxy or propyleneoxy group units), aryloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbamoyloxy group, carbamoyloxy Group,
Sulfonyloxy group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, quaternary ammonium Group, (alkyl or aryl) sulfonyluureido group, nitro group, (alkyl, aryl, or heterocycle) thio group, acylthio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfinyl group,
Examples thereof include a sulfo group or a salt thereof, a sulfamoyl group, a phosphoryl group, a group having a phosphate amide or phosphate structure, and a silyl group. These substituents may be further substituted with these substituents. Particularly preferred as the substituent of the arylene group represented by Q in the formula (P) is an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom, a cyano group, a carboxyl group or a salt thereof,
It is a salt of a sulfo group or a phosphate group.

【0088】式(P)において、Qで表わされる二価の
ヘテロ環基中のヘテロ環は、N、OまたはSの原子を少
なくとも1つ含む5ないし7員の飽和または不飽和のヘ
テロ環であり、これらは単環であってもよいし、更に他
の環と縮合環を形成していてもよい。Qで表わされるヘ
テロ環基中のヘテロ環としては例えば、ピリジン、ピラ
ジン、ピリミジン、ベンゾチアゾール、ベンツイミダゾ
ール、チアジアゾール、キノリン、イソキノリン等が挙
げられる。これらは置換基を有していても良く、例え
ば、Qで表わされるアリーレン基の置換基と同様の基が
挙げられる。
In the formula (P), the heterocyclic ring in the divalent heterocyclic group represented by Q is a 5- to 7-membered saturated or unsaturated heterocyclic ring containing at least one N, O or S atom. Yes, these may be a single ring or may form a condensed ring with another ring. Examples of the heterocyclic ring in the heterocyclic group represented by Q include pyridine, pyrazine, pyrimidine, benzothiazole, benzimidazole, thiadiazole, quinoline, isoquinoline and the like. These may have a substituent, and examples thereof include the same groups as the substituents of the arylene group represented by Q.

【0089】式(P)のQは好ましくはアリーレン基で
あり、特に好ましくはフェニレン基である。
In the formula (P), Q is preferably an arylene group, particularly preferably a phenylene group.

【0090】式(P)のLは連結基を表わし、例えばア
ルキレン基(アルキリデン基やシクロ体を含む。好まし
くは炭素数1〜30であり、さらに好ましくは炭素数1
〜20であり、特に好ましくは炭素数1〜10であ
る。)、アリーレン基(好ましくは炭素数6〜30であ
り、さらに好ましくは炭素数6〜20であり、特に好ま
しくは炭素数6〜10である。)、アルケニレン基(好
ましくは炭素数2〜30であり、さらに好ましくは炭素
数2〜20であり、特に好ましくは炭素数2〜10であ
る。)、アルキニレン基(好ましくは炭素数2〜30で
あり、さらに好ましくは炭素数2〜20であり、特に好
ましくは炭素数2〜10である。)、ヘテロ環基(好ま
しくは炭素数1〜30であり、さらに好ましくは炭素数
1〜20であり、特に好ましくは炭素数1〜10であ
る。)、−O−基、−NR−基、−CO−基、−COO
−基、−OCOO−基、−NRCO−基、−NRCON
R−基、−OCONR−基、−S−基、−SO−基、−
SO2−基、−SO2NR−基、リン原子を含む基や、こ
れらを組み合わせることによって形成される基等が挙げ
られる(ここでRで表わされる基は水素原子または置換
基を有しても良いアルキル基または置換基を有しても良
いアリール基である)。
L in the formula (P) represents a linking group, for example, an alkylene group (including an alkylidene group and a cyclo-form. Preferably it has 1 to 30 carbon atoms, and more preferably 1 carbon atom.
-20, and particularly preferably 1-10 carbon atoms. ), An arylene group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably having 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably having 6 to 10 carbon atoms), and an alkenylene group (preferably having 2 to 30 carbon atoms). Yes, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms), alkynylene group (preferably 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, Particularly preferably, it has 2 to 10 carbon atoms.) And a heterocyclic group (preferably 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 10 carbon atoms). , -O- group, -NR- group, -CO- group, -COO
-Group, -OCOO- group, -NRCO- group, -NRCON
R- group, -OCONR- group, -S- group, -SO- group,-
Examples include an SO 2 — group, a —SO 2 NR— group, a group containing a phosphorus atom, and a group formed by combining these (here, the group represented by R has a hydrogen atom or a substituent Is an alkyl group or an aryl group which may have a substituent).

【0091】式(P)のLで表わされる連結基は置換基
を有していても良く、例えば、Qで表わされるアリーレ
ン基の置換基と同様のものが挙げられる。
The linking group represented by L in the formula (P) may have a substituent, and examples thereof include the same substituents as those of the arylene group represented by Q.

【0092】式(P)のLで表わされる連結基は好まし
くはアルキレン基、アリーレン基、−O−基、−NRC
O−基、−SO2NR−基およびこれらを組み合わせる
ことによって形成される基である。可能なときは一部環
化していてもよい。nは0または1である。
The linking group represented by L in the formula (P) is preferably an alkylene group, an arylene group, a -O- group, a -NRC
O- group, a group formed by combining -SO 2 NR- group, and their. When possible, it may be partially cyclized. n is 0 or 1.

【0093】式(P)のWはカルボキシル基またはその
塩(Na、K、アンモニウム塩等)、スルホ基またはそ
の塩(Na、K、アンモニウム塩等)、リン酸基または
その塩(Na、K、アンモニウム塩等)、水酸基、4級
アンモニウム基(例えばテトラブチルアンモニウム、ト
リメチルベンジルアンモニウム等)、ポリエチレンオキ
シ基を表わす。Wは好ましくはカルボキシル基またはそ
の塩、スルホ基の塩、水酸基である。
In the formula (P), W represents a carboxyl group or a salt thereof (Na, K, ammonium salt, etc.), a sulfo group or a salt thereof (Na, K, ammonium salt, etc.), a phosphate group or a salt thereof (Na, K, etc.). , An ammonium salt, etc.), a hydroxyl group, a quaternary ammonium group (eg, tetrabutylammonium, trimethylbenzylammonium, etc.) and a polyethyleneoxy group. W is preferably a carboxyl group or a salt thereof, a salt of a sulfo group, or a hydroxyl group.

【0094】次に本発明の化合物の具体例を示すが、本
発明はこれに限定されるものではない。
Next, specific examples of the compound of the present invention will be shown, but the present invention is not limited thereto.

【0095】[0095]

【化8】 Embedded image

【0096】[0096]

【化9】 Embedded image

【0097】[0097]

【化10】 Embedded image

【0098】[0098]

【化11】 Embedded image

【0099】[0099]

【化12】 Embedded image

【0100】[0100]

【化13】 Embedded image

【0101】[0101]

【化14】 Embedded image

【0102】[0102]

【化15】 Embedded image

【0103】[0103]

【化16】 Embedded image

【0104】[0104]

【化17】 Embedded image

【0105】[0105]

【化18】 Embedded image

【0106】[0106]

【化19】 Embedded image

【0107】[0107]

【化20】 Embedded image

【0108】[0108]

【化21】 Embedded image

【0109】[0109]

【化22】 Embedded image

【0110】[0110]

【化23】 Embedded image

【0111】[0111]

【化24】 Embedded image

【0112】[0112]

【化25】 Embedded image

【0113】[0113]

【化26】 Embedded image

【0114】[0114]

【化27】 Embedded image

【0115】[0115]

【化28】 Embedded image

【0116】[0116]

【化29】 Embedded image

【0117】[0117]

【化30】 Embedded image

【0118】本発明の化合物は通常の有機合成反応によ
って容易に合成することができる。以下に代表的合成例
を示す。
The compound of the present invention can be easily synthesized by a usual organic synthesis reaction. A typical synthesis example is shown below.

【0119】合成例1.例示化合物(P−60)の合成 (1)中間体(B)の合成 市販されている化合物(A)93g、水酸化ナトリウム
43g、クロロ酢酸ナトリウム123gおよびよう化カ
リウム10gを水300mlに溶解させ、80℃で2時
間攪拌した。内温を30℃まで下げた後、濃塩酸50m
lを添加し、しばらく攪拌すると結晶が析出した。結晶
を吸引ろ過し、乾燥した結果、中間体(B)を80g得
た。白色結晶。
Synthesis Example 1 Synthesis of Exemplified Compound (P-60) (1) Synthesis of Intermediate (B) 93 g of a commercially available compound (A), 43 g of sodium hydroxide, 123 g of sodium chloroacetate and 10 g of potassium iodide were dissolved in 300 ml of water. Stirred at 80 ° C. for 2 hours. After lowering the internal temperature to 30 ° C, concentrated hydrochloric acid 50m
l was added and stirred for a while to precipitate crystals. The crystals were subjected to suction filtration and dried, and as a result, 80 g of an intermediate (B) was obtained. White crystals.

【0120】(2)例示化合物(P−60)の合成 NaOH57g、水500mlの溶液に室温で臭素33
mlを滴下し、その後、中間体(B)24g、NaOH
8g、水100mlの水溶液を室温で滴下した。析出し
た結晶を濾過し、得られた結晶を希塩酸に添加し濾過し
た。水で十分に洗浄し乾燥した結果、例示化合物(P−
60)が30g得られた。白色結晶。
(2) Synthesis of exemplified compound (P-60) Bromine 33 was added to a solution of 57 g of NaOH and 500 ml of water at room temperature.
ml, then 24 g of intermediate (B), NaOH
An aqueous solution of 8 g and 100 ml of water was added dropwise at room temperature. The precipitated crystals were filtered, and the obtained crystals were added to dilute hydrochloric acid and filtered. As a result of sufficiently washing with water and drying, the exemplified compound (P-
60) was obtained in an amount of 30 g. White crystals.

【0121】合成例2.例示化合物(P−7)の合成 (1)中間体(C)の合成 例示化合物(P−60)30gおよびDMF(ジメチル
ホルムアミド)1mlを塩化チオニル100mlに溶解
し、70℃で30分間攪拌した。その後過剰の塩化チオ
ニルを減圧留去した結果、中間体(C)が31g得られ
た。白色結晶。
Synthesis Example 2 Synthesis of Exemplified Compound (P-7) (1) Synthesis of Intermediate (C) 30 g of Exemplified Compound (P-60) and 1 ml of DMF (dimethylformamide) were dissolved in 100 ml of thionyl chloride and stirred at 70 ° C for 30 minutes. Thereafter, excess thionyl chloride was distilled off under reduced pressure to obtain 31 g of an intermediate (C). White crystals.

【0122】(2)例示化合物(P−7)の合成 ジエタノールアミン4.7g、メタノール50mlの溶
液を氷冷し、中間体(C)4.1gを添加した。5分攪
拌した後に、水を50ml添加すると、白色結晶が析出
した。これを濾過し、少量のDMAc(ジメチルアセト
アミド)に溶解し、メタノールを少しづつ加えると結晶
が析出した。これを濾過し乾燥した結果、例示化合物
(P−7)が4.0g得られた。白色結晶。
(2) Synthesis of Exemplified Compound (P-7) A solution of 4.7 g of diethanolamine and 50 ml of methanol was cooled on ice, and 4.1 g of the intermediate (C) was added. After stirring for 5 minutes, 50 ml of water was added, and white crystals precipitated. This was filtered, dissolved in a small amount of DMAc (dimethylacetamide), and methanol was added little by little to precipitate crystals. As a result of filtering and drying, 4.0 g of Exemplified Compound (P-7) was obtained. White crystals.

【0123】合成例3.例示化合物(P−6)の合成 グリシン15g、NaHCO317g、水100ml、
THF(テトラヒドロフラン)100mlの溶液に中間体
(C)20gを加え、室温で5分間攪拌した。反応液に
希塩酸を加え中和した後に、水200mlを添加し析出
した結晶を濾過した。得られた粗結晶を少量のDMAc
に溶解し、メタノールを結晶が析出するまで添加した。
結晶を濾過し乾燥した結果、例示化合物(P−6)が2
2g得られた。白色結晶。
Synthesis Example 3 Synthesis of Exemplified Compound (P-6) 15 g of glycine, 17 g of NaHCO 3 , 100 ml of water,
20 g of the intermediate (C) was added to a solution of 100 ml of THF (tetrahydrofuran), and the mixture was stirred at room temperature for 5 minutes. After diluting hydrochloric acid to neutralize the reaction solution, 200 ml of water was added and the precipitated crystals were filtered. The obtained crude crystals are treated with a small amount of DMAc
And methanol was added until crystals precipitated.
The crystals were filtered and dried, and as a result, Exemplified Compound (P-6) was 2
2 g were obtained. White crystals.

【0124】[0124]

【化31】 Embedded image

【0125】本発明の式(P)で表わされる化合物は、
水あるいは適当な有機溶媒、例えばアルコール類(メタ
ノール、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコー
ル)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用いる
ことができる。また、酸性基が結合した化合物は当量の
アルカリで中和し、塩として添加しても良い。
The compound represented by the formula (P) of the present invention is
Dissolve in water or a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve, etc. Can be. Further, the compound to which the acidic group is bonded may be neutralized with an equivalent amount of alkali and added as a salt.

【0126】また、既によく知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンな
どの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作
製して用いることができる。あるいは固体分散法として
知られている方法によって、粉末を水の中にボールミ
ル、コロイドミル、サンドグラインダーミル、マントン
ゴーリン、マイクロフルイダイザーあるいは超音波によ
って分散し用いることができる。
Further, by a well-known emulsification and dispersion method, an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone is used to dissolve and dissolve. An emulsified dispersion can be prepared and used. Alternatively, the powder can be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, a sand grinder mill, a Manton-Gaulin, a microfluidizer, or an ultrasonic wave by a method known as a solid dispersion method.

【0127】本発明の式(P)で表わされる化合物は、
支持体に対して画像形成層側の層、即ち画像形成層ある
いはこの層側の他のどの層に添加してもよいが、画像形
成層あるいはそれに隣接する層に添加することが好まし
い。これらは1種のみを用いても2種以上を併用しても
よく、その使用量は、感度やカブリなどの性能に合わせ
て所望の量でよいが、画像形成層の非感光性銀塩1モル
当たり10-4〜1モルが好ましく、10-3〜5×10-1
モルがさらに好ましい。
The compound represented by the formula (P) of the present invention is
It may be added to the layer on the image forming layer side with respect to the support, that is, to the image forming layer or any other layer on the layer side, but is preferably added to the image forming layer or a layer adjacent thereto. These may be used alone or in combination of two or more, and the amount used may be a desired amount according to the performance such as sensitivity and fog. It is preferably 10 -4 to 1 mol per mol, and 10 -3 to 5 × 10 -1.
Mole is more preferred.

【0128】本発明に用いられる造核剤について説明す
る。本発明では造核剤として、式(1)〜(3)で表わ
される、置換アルケン誘導体、置換イソオキサゾール誘
導体および特定のアセタール化合物が用いられる。
The nucleating agent used in the present invention will be described. In the present invention, a substituted alkene derivative, a substituted isoxazole derivative and a specific acetal compound represented by the formulas (1) to (3) are used as a nucleating agent.

【0129】本発明で用いられる式(1)で表わされる
置換アルケン誘導体、式(2)で表わされる置換イソオ
キサゾール誘導体、および式(3)で表わされる特定の
アセタール化合物について説明する。
The substituted alkene derivative represented by the formula (1), the substituted isoxazole derivative represented by the formula (2), and the specific acetal compound represented by the formula (3) used in the present invention will be described.

【0130】[0130]

【化32】 Embedded image

【0131】式(1)においてR1、R2、R3は、それぞ
れ独立に水素原子または置換基を表し、Zは電子吸引性
基またはシリル基を表す。式(1)においてR1とZ、R2
とR 3、R1とR2、あるいはR3とZは、互いに結合して
環状構造を形成していてもよい。式(2)においてR
4は、置換基を表す。式(3)においてX、Yはそれぞれ
独立に水素原子または置換基を表し、A、Bはそれぞれ
独立に、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミ
ノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ
基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ
環アミノ基を表す。式(3)においてXとY、あるいはA
とBは、互いに結合して環状構造を形成していてもよ
い。
In the formula (1), R1, RTwo, RThreeEach
Each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing property.
Represents a group or a silyl group. In the formula (1), R1And Z, RTwo
And R Three, R1And RTwoOr RThreeAnd Z are joined together
An annular structure may be formed. In the formula (2), R
FourRepresents a substituent. In the formula (3), X and Y are each
A and B each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
Independently, an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamido
Group, aryloxy group, arylthio group, anilino
Group, heterocyclic oxy group, heterocyclic thio group, or hetero
Represents a ring amino group. In equation (3), X and Y or A
And B may combine with each other to form a cyclic structure
No.

【0132】式(1)で表される化合物について詳しく説
明する。式(1)においてR1、R2、R3は、それぞれ独
立に水素原子または置換基を表し、Zは電子吸引性基ま
たはシリル基を表す。式(1)においてR1とZ、R2とR
3、R1とR2、あるいはR3とZは、互いに結合して環状
構造を形成していてもよい。
The compound represented by the formula (1) will be described in detail.
I will tell. In the formula (1), R1, RTwo, RThreeIs German
Represents a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing group.
Or a silyl group. In the formula (1), R1And Z, RTwoAnd R
Three, R1And RTwoOr RThreeAnd Z are linked together to form a ring
A structure may be formed.

【0133】R1、R2、R3が置換基を表す時、置換基
の例としては、例えばハロゲン原子(フッ素原子、クロ
ル原子、臭素原子、または沃素原子)、アルキル基(ア
ラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含
む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテ
ロ環基(N−置換の含窒素ヘテロ環基を含む)、4級化
された窒素原子を含むヘテロ環基(例えばピリジニオ
基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基また
はその塩、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、チオ
カルボニル基、スルホニルカルバモイル基、アシルカル
バモイル基、スルファモイルカルバモイル基、カルバゾ
イル基、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、チ
オカルバモイル基、ヒドロキシ基またはその塩、アルコ
キシ基(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基
単位を繰り返し含む基を含む)、アリールオキシ基、ヘ
テロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アルコキシもしく
はアリールオキシ)カルボニルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、(アルキ
ル、アリール、またはヘテロ環)アミノ基、アシルアミ
ノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド
基、イミド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)
カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカ
ルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、4
級のアンモニオ基、オキサモイルアミノ基、(アルキル
もしくはアリール)スルホニルウレイド基、アシルウレ
イド基、アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メ
ルカプト基、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)
チオ基、アシルチオ基、(アルキルまたはアリール)ス
ルホニル基、(アルキルまたはアリール)スルフィニル
基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、アシル
スルファモイル基、スルホニルスルファモイル基または
その塩、ホスホリル基、リン酸アミドもしくはリン酸エ
ステル構造を含む基、シリル基、スタニル基等が挙げら
れる。これら置換基は、これら置換基でさらに置換され
ていてもよい。
When R 1 , R 2 and R 3 represent a substituent, examples of the substituent include a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom), an alkyl group (an aralkyl group, a cycloalkyl group and a cycloalkyl group). An alkyl group, an active methine group, etc.), an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group (including an N-substituted nitrogen-containing heterocyclic group), and a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom ( For example, a pyridinio group), an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a carboxy group or a salt thereof, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a thiocarbonyl group, a sulfonylcarbamoyl group, an acylcarbamoyl group, Famoylcarbamoyl group, carbazoyl group, oxalyl group, oxamoyl group, cyano group, thiocarbamoyl group, A droxy group or a salt thereof, an alkoxy group (including a group repeatedly containing an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group unit), an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an acyloxy group, an (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, and a carbamoyloxy group , Sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, aryl or heterocycle) amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy)
Carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, 4
Grade ammonio group, oxamoylamino group, (alkyl or aryl) sulfonyluureido group, acylureido group, acylsulfamoylamino group, nitro group, mercapto group, (alkyl, aryl, or heterocycle)
Thio group, acylthio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfinyl group, sulfo group or a salt thereof, sulfamoyl group, acylsulfamoyl group, sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof, phosphoryl group, phosphorus Examples thereof include a group having an acid amide or phosphate structure, a silyl group and a stannyl group. These substituents may be further substituted with these substituents.

【0134】式(1)においてZで表される電子吸引性基
とは、ハメットの置換基定数σpが正の値を取りうる置
換基のことであり、具体的には、シアノ基、アルコキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモ
イル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、チオカ
ルボニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、ニトロ基、ハロゲン原子、
パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルカンアミド
基、スルホンアミド基、アシル基、ホルミル基、ホスホ
リル基、カルボキシ基(またはその塩)、スルホ基(ま
たはその塩)、ヘテロ環基、アルケニル基、アルキニル
基、アシルオキシ基、アシルチオ基、スルホニルオキシ
基、またはこれら電子吸引性基で置換されたアリール基
等である。ここにヘテロ環基としては、飽和もしくは不
飽和のヘテロ環基で、例えばピリジル基、キノリル基、
ピラジニル基、キノキサリニル基、ベンゾトリアゾリル
基、イミダゾリル基、ベンツイミダゾリル基、ヒダント
イン−1−イル基、スクシンイミド基、フタルイミド基
等がその例として挙げられる。
The electron-withdrawing group represented by Z in the formula (1) is a substituent whose Hammett's substituent constant σp can take a positive value, specifically, a cyano group, an alkoxycarbonyl Group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, imino group, imino group substituted with an N atom, thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, halogen atom,
Perfluoroalkyl group, perfluoroalkaneamide group, sulfonamide group, acyl group, formyl group, phosphoryl group, carboxy group (or salt thereof), sulfo group (or salt thereof), heterocyclic group, alkenyl group, alkynyl group, Examples include an acyloxy group, an acylthio group, a sulfonyloxy group, and an aryl group substituted with these electron-withdrawing groups. Here, the heterocyclic group is a saturated or unsaturated heterocyclic group, for example, a pyridyl group, a quinolyl group,
Examples thereof include a pyrazinyl group, a quinoxalinyl group, a benzotriazolyl group, an imidazolyl group, a benzimidazolyl group, a hydantoin-1-yl group, a succinimide group, and a phthalimido group.

【0135】式(1)においてZで表される電子吸引性基
は、さらに置換基を有していてもよく、その置換基とし
ては、式(1)のR1、R2、R3が置換基を表す時に有し
ていてもよい置換基と同じものが挙げられる。
The electron-withdrawing group represented by Z in the formula (1) may further have a substituent, and the substituent may be R 1 , R 2 or R 3 in the formula (1). The same substituents as the substituents that may be present when representing the substituents are exemplified.

【0136】式(1)においてR1とZ、R2とR3、R1
2、あるいはR3とZは、互いに結合して環状構造を形
成していてもよいが、この時形成される環状構造とは、
非芳香族の炭素環もしくは非芳香族のヘテロ環である。
In the formula (1), R 1 and Z, R 2 and R 3 , R 1 and R 2 , or R 3 and Z may be bonded to each other to form a cyclic structure. The cyclic structure is
It is a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring.

【0137】次に式(1)で表される化合物の好ましい範
囲について述べる。式(1)においてZで表されるシリル
基として好ましくは、具体的にトリメチルシリル基、t
−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル
基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、
トリメチルシリルジメチルシリル基等である。
Next, preferred ranges of the compound represented by the formula (1) will be described. The silyl group represented by Z in the formula (1) is preferably a trimethylsilyl group, t
-Butyldimethylsilyl group, phenyldimethylsilyl group, triethylsilyl group, triisopropylsilyl group,
And a trimethylsilyldimethylsilyl group.

【0138】式(1)においてZで表される電子吸引性基
として好ましくは、総炭素数0〜30の以下の基、即
ち、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、カルバモイル基、チオカルボニル基、
イミノ基、N原子で置換したイミノ基、スルファモイル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ニ
トロ基、パーフルオロアルキル基、アシル基、ホルミル
基、ホスホリル基、アシルオキシ基、アシルチオ基、ま
たは任意の電子吸引性基で置換されたフェニル基等であ
り、さらに好ましくは、シアノ基、アルコキシカルボニ
ル基、カルバモイル基、イミノ基、スルファモイル基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル
基、ホルミル基、ホスホリル基、トリフルオロメチル
基、または任意の電子吸引性基で置換されたフェニル基
等であり、特に好ましくはシアノ基、ホルミル基、アシ
ル基、アルコキシカルボニル基、イミノ基またはカルバ
モイル基である。式(1)においてZで表される基は、電
子吸引性基がより好ましい。
In the formula (1), the electron-withdrawing group represented by Z is preferably a group having a total number of carbon atoms of 0 to 30, that is, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, Carbonyl group,
Imino group, imino group substituted with N atom, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, perfluoroalkyl group, acyl group, formyl group, phosphoryl group, acyloxy group, acylthio group, or any electron withdrawing And a phenyl group substituted with a functional group, more preferably a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an imino group, a sulfamoyl group,
An alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an acyl group, a formyl group, a phosphoryl group, a trifluoromethyl group, or a phenyl group substituted with any electron-withdrawing group, and particularly preferably a cyano group, a formyl group, an acyl group. , An alkoxycarbonyl group, an imino group or a carbamoyl group. The group represented by Z in the formula (1) is more preferably an electron-withdrawing group.

【0139】式(1)においてR1、R2、およびR3で表
される置換基として好ましくは、総炭素数0〜30の基
で、具体的には上述の式(1)のZで表される電子吸引性
基と同義の基、およびアルキル基、ヒドロキシ基(また
はその塩)、メルカプト基(またはその塩)、アルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、ア
ルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ
基、ウレイド基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
または置換もしくは無置換のアリール基等が挙げられ
る。
In the formula (1), the substituent represented by R 1 , R 2 and R 3 is preferably a group having a total carbon number of 0 to 30, specifically, Z in the above formula (1). A group having the same meaning as the electron-withdrawing group represented, and an alkyl group, a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, Heterocyclic thio group, amino group, alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group, ureido group, acylamino group, sulfonamide group,
Or a substituted or unsubstituted aryl group.

【0140】さらに式(1)においてR1は、好ましくは
電子吸引性基、アリール基、アルキルチオ基、アルコキ
シ基、アシルアミノ基、水素原子、またはシリル基であ
る。
Further, in the formula (1), R 1 is preferably an electron-withdrawing group, an aryl group, an alkylthio group, an alkoxy group, an acylamino group, a hydrogen atom, or a silyl group.

【0141】R1が電子吸引性基を表す時、好ましくは
総炭素数0〜30の以下の基、即ち、シアノ基、ニトロ
基、アシル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、チオカルボニル基、イミ
ノ基、N原子で置換したイミノ基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、スルファ
モイル基、トリフルオロメチル基、ホスホリル基、カル
ボキシ基(またはその塩)、または飽和もしくは不飽和
のヘテロ環基であり、さらにシアノ基、アシル基、ホル
ミル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イ
ミノ基、N原子で置換したイミノ基、スルファモイル
基、カルボキシ基(またはその塩)、または飽和もしく
は不飽和のヘテロ環基が好ましい。特に好ましくはシア
ノ基、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、または飽和もしくは不飽和のヘテ
ロ環基である。
When R 1 represents an electron-withdrawing group, it is preferably a group having the following total number of carbon atoms, that is, a cyano group, a nitro group, an acyl group, a formyl group, an alkoxycarbonyl group,
An aryloxycarbonyl group, a thiocarbonyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a trifluoromethyl group, a phosphoryl group, a carboxy group (or a salt thereof), Or a saturated or unsaturated heterocyclic group, and a cyano group, an acyl group, a formyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a sulfamoyl group, a carboxy group (or a salt thereof) Or a saturated or unsaturated heterocyclic group. Particularly preferred are a cyano group, a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and a saturated or unsaturated heterocyclic group.

【0142】R1がアリール基を表す時、好ましくは総
炭素数6〜30の、置換もしくは無置換のフェニル基で
あり、置換基としては、任意の置換基が挙げられるが、
中でも電子吸引性の置換基が好ましい。
When R 1 represents an aryl group, it is preferably a substituted or unsubstituted phenyl group having a total of 6 to 30 carbon atoms. Examples of the substituent include any substituent.
Among them, an electron-withdrawing substituent is preferable.

【0143】式(1)においてR1は、より好ましくは、
電子吸引性基またはアリール基を表す時である。
In the formula (1), R 1 is more preferably
It is time to represent an electron withdrawing group or an aryl group.

【0144】式(1)においてR2およびR3で表される置
換基として好ましくは、具体的に、上述の式(1)のZで
表される電子吸引性基と同義の基、アルキル基、ヒドロ
キシ基(またはその塩)、メルカプト基(またはその塩)、
アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、ア
ミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、ヘテロ環アミ
ノ基、アシルアミノ基、置換もしくは無置換のフェニル
基等である。
In the formula (1), the substituents represented by R 2 and R 3 are preferably, specifically, groups having the same meaning as the electron-withdrawing group represented by Z in the above-mentioned formula (1), and alkyl groups. , A hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof),
An alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group,
Examples include an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group, an alkylamino group, an anilino group, a heterocyclic amino group, an acylamino group, and a substituted or unsubstituted phenyl group.

【0145】式(1)においてR2およびR3は、さらに好
ましくは、どちらか一方が水素原子で、他方が置換基を
表す時である。その置換基として好ましくは、アルキル
基、ヒドロキシ基(またはその塩)、メルカプト基(また
はその塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ
環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ
環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、
ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基(特にパーフルオロ
アルカンアミド基)、スルホンアミド基、置換もしくは
無置換のフェニル基、またはヘテロ環基等であり、さら
に好ましくはヒドロキシ基(またはその塩)、メルカプト
基(またはその塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、
ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
ヘテロ環チオ基、またはヘテロ環基であり、特に好まし
くはヒドロキシ基(またはその塩)、アルコキシ基、また
はヘテロ環基である。
In formula (1), R 2 and R 3 are more preferably when one of them is a hydrogen atom and the other is a substituent. The substituent is preferably an alkyl group, a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group. Group, alkylamino group, anilino group,
Heterocyclic amino group, acylamino group (particularly perfluoroalkaneamide group), sulfonamide group, substituted or unsubstituted phenyl group, or a heterocyclic group, more preferably a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group ( Or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group,
Heterocyclic oxy group, alkylthio group, arylthio group,
A heterocyclic thio group or a heterocyclic group, particularly preferably a hydroxy group (or a salt thereof), an alkoxy group, or a heterocyclic group.

【0146】式(1)においてZとR1、或いはまたR2
3とが環状構造を形成する場合もまた好ましい。この
場合に形成される環状構造は、非芳香族の炭素環もしく
は非芳香族のヘテロ環であり、好ましくは5員〜7員の
環状構造で、置換基を含めたその総炭素数は1〜40、
さらには3〜30が好ましい。
In the formula (1), it is also preferred that Z and R 1 , or R 2 and R 3 form a cyclic structure. The cyclic structure formed in this case is a non-aromatic carbocyclic or non-aromatic heterocyclic ring, preferably a 5- to 7-membered cyclic structure having a total carbon number including a substituent of 1 to 7. 40,
Further, 3 to 30 is preferable.

【0147】式(1)で表される化合物の中で、より好ま
しいものの1つは、Zがシアノ基、ホルミル基、アシル
基、アルコキシカルボニル基、イミノ基、またはカルバ
モイル基を表し、R1が電子吸引性基またはアリール基
を表し、R2またはR3のどちらか一方が水素原子で、他
方がヒドロキシ基(またはその塩)、メルカプト基(また
はその塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ
環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ
環チオ基、またはヘテロ環基を表す化合物である。さら
にまた式(1)で表される化合物の中で特に好ましいもの
の1つは、ZとR1とが非芳香族の5員〜7員の環状構
造を形成していて、R2またはR3のどちらか一方が水素
原子で、他方がヒドロキシ基(またはその塩)、メルカプ
ト基(またはその塩)、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ環基を表す化合物で
ある。この時、R1と共に非芳香族の環状構造を形成す
るZとしては、アシル基、カルバモイル基、オキシカル
ボニル基、チオカルボニル基、スルホニル基等が好まし
く、またR1としては、アシル基、カルバモイル基、オ
キシカルボニル基、チオカルボニル基、スルホニル基、
イミノ基、N原子で置換したイミノ基、アシルアミノ
基、カルボニルチオ基等が好ましい。
[0147] Among the compounds represented by formula (1), more One of preferred, Z is a cyano group, a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an imino group or a carbamoyl group,, R 1 is Represents an electron-withdrawing group or an aryl group, and one of R 2 and R 3 is a hydrogen atom, and the other is a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, The compound represents a ring oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, or a heterocyclic group. Furthermore, one of the particularly preferable compounds represented by the formula (1) is that Z and R 1 form a non-aromatic 5- to 7-membered cyclic structure, and R 2 or R 3 Is one of a hydrogen atom, the other is a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, Or a compound representing a heterocyclic group. At this time, Z which forms a non-aromatic cyclic structure together with R 1 is preferably an acyl group, a carbamoyl group, an oxycarbonyl group, a thiocarbonyl group, a sulfonyl group and the like, and R 1 is an acyl group, a carbamoyl group , An oxycarbonyl group, a thiocarbonyl group, a sulfonyl group,
Preferred are an imino group, an imino group substituted with an N atom, an acylamino group, a carbonylthio group and the like.

【0148】次に式(2)で表される化合物について説明
する。式(2)においてR4は置換基を表す。R4で表され
る置換基としては、式(1)のR1〜R3の置換基について
説明したものと同じものが挙げられる。
Next, the compound represented by the formula (2) will be described. In the formula (2), R 4 represents a substituent. Examples of the substituent represented by R 4 include the same as those described for the substituents of R 1 to R 3 in formula (1).

【0149】R4で表される置換基は、好ましくは電子
吸引性基またはアリール基である。R4が電子吸引性基
を表す時、好ましくは、総炭素数0〜30の以下の基、
即ち、シアノ基、ニトロ基、アシル基、ホルミル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバ
モイル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、
ホスホリル基、イミノ基、または飽和もしくは不飽和の
ヘテロ環基であり、さらにシアノ基、アシル基、ホルミ
ル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スル
ファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホ
ニル基、ヘテロ環基が好ましい。特に好ましくはシアノ
基、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、
カルバモイル基、またはヘテロ環基である。
The substituent represented by R 4 is preferably an electron-withdrawing group or an aryl group. When R 4 represents an electron-withdrawing group, preferably the following groups having a total carbon number of 0 to 30,
That is, a cyano group, a nitro group, an acyl group, a formyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group,
Alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, trifluoromethyl group,
A phosphoryl group, an imino group, or a saturated or unsaturated heterocyclic group, and a cyano group, an acyl group, a formyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, and a heterocyclic group. preferable. Particularly preferably, a cyano group, a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group,
It is a carbamoyl group or a heterocyclic group.

【0150】R4がアリール基を表す時、好ましくは総
炭素数0〜30の、置換もしくは無置換のフェニル基で
あり、置換基としては、式(1)のR1,R2,R3が置換
基を表す時にその置換基として説明したものと同じもの
が挙げられる。
When R 4 represents an aryl group, it is preferably a substituted or unsubstituted phenyl group having a total of 0 to 30 carbon atoms, and the substituent is represented by R 1 , R 2 , R 3 of the formula (1). When represents a substituent, the same as those described as the substituent can be mentioned.

【0151】R4は、特に好ましくはシアノ基、アルコ
キシカルボニル基、カルバモイル基、ヘテロ環基、また
は置換もしくは無置換のフェニル基であり、最も好まし
くはシアノ基、ヘテロ環基、またはアルコキシカルボニ
ル基である。
R 4 is particularly preferably a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a heterocyclic group or a substituted or unsubstituted phenyl group, and most preferably a cyano group, a heterocyclic group or an alkoxycarbonyl group. is there.

【0152】次に式(3)で表される化合物について詳し
く説明する。式(3)においてX、Yはそれぞれ独立に水
素原子または置換基を表し、A、Bはそれぞれ独立に、
アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、ア
リールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ基、ヘテロ
環チオ基、ヘテロ環オキシ基、またはヘテロ環アミノ基
を表す。XとY、あるいはAとBは、互いに結合して環
状構造を形成していてもよい。
Next, the compound represented by the formula (3) will be described in detail. In the formula (3), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and A and B each independently represent:
Represents an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group, a heterocyclic thio group, a heterocyclic oxy group, or a heterocyclic amino group. X and Y or A and B may be bonded to each other to form a cyclic structure.

【0153】式(3)においてX、Yで表される置換基と
しては、式(1)のR1〜R3の置換基について説明したも
のと同じものが挙げられる。具体的には、アルキル基
(パーフルオロアルキル基、トリクロロメチル基等を含
む)、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、シアノ
基、ニトロ基、アルケニル基、アルキニル基、アシル
基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ
基、カルバモイル基、チオカルボニル基、アシルオキシ
基、アシルチオ基、アシルアミノ基、アルキルスルホニ
ル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、ホス
ホリル基、カルボキシ基(またはその塩)、スルホ基
(またはその塩)、ヒドロキシ基(またはその塩)、メ
ルカプト基(またはその塩)、アルコキシ基、アリール
オキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ
基、アニリノ基、ヘテロ環アミノ基、シリル基等が挙げ
られる。
As the substituents represented by X and Y in the formula (3), the same substituents as described for the substituents R 1 to R 3 in the formula (1) can be mentioned. Specifically, alkyl groups (including perfluoroalkyl groups, trichloromethyl groups, etc.), aryl groups, heterocyclic groups, halogen atoms, cyano groups, nitro groups, alkenyl groups, alkynyl groups, acyl groups, formyl groups, alkoxy groups Carbonyl group, aryloxycarbonyl group, imino group, imino group substituted with an N atom, carbamoyl group, thiocarbonyl group, acyloxy group, acylthio group, acylamino group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfamoyl group, phosphoryl group, carboxy Group (or its salt), sulfo group (or its salt), hydroxy group (or its salt), mercapto group (or its salt), alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, alkylthio group, arylthio group, hetero group Ring thio group, amino group, alkylami Group, anilino group, heterocyclic amino group, a silyl group, and the like.

【0154】これらの基はさらに置換基を有していても
よい。またXとYは、互いに結合して環状構造を形成し
ていてもよく、この場合に形成される環状構造として
は、非芳香族の炭素環でも、非芳香族のヘテロ環であっ
てもよい。
These groups may further have a substituent. X and Y may be bonded to each other to form a cyclic structure, and the cyclic structure formed in this case may be a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring. .

【0155】式(3)においてX、Yで表される置換基
は、好ましくは総炭素数1〜40の、より好ましくは総
炭素数1〜30の基であり、シアノ基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、チオカルボ
ニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基、ニトロ基、パーフルオロアルキル
基、アシル基、ホルミル基、ホスホリル基、アシルアミ
ノ基、アシルオキシ基、アシルチオ基、ヘテロ環基、ア
ルキルチオ基、アルコキシ基、またはアリール基等が挙
げられる。
In the formula (3), the substituents represented by X and Y are preferably groups having 1 to 40 carbon atoms in total, more preferably 1 to 30 carbon atoms in total, and include a cyano group, an alkoxycarbonyl group, Aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, imino group, imino group substituted with N atom, thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, perfluoroalkyl group, acyl group, formyl group, phosphoryl group , An acylamino group, an acyloxy group, an acylthio group, a heterocyclic group, an alkylthio group, an alkoxy group, or an aryl group.

【0156】式(3)においてX、Yは、より好ましくは
シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、カルバ
モイル基、アシル基、ホルミル基、アシルチオ基、アシ
ルアミノ基、チオカルボニル基、スルファモイル基、ア
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、イミノ
基、N原子で置換したイミノ基、ホスホリル基、トリフ
ルオロメチル基、ヘテロ環基、または置換されたフェニ
ル基等であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、
アリールスルホニル基、アシル基、アシルチオ基、アシ
ルアミノ基、チオカルボニル基、ホルミル基、イミノ
基、N原子で置換したイミノ基、ヘテロ環基、または任
意の電子吸引性基で置換されたフェニル基等である。
In the formula (3), X and Y are more preferably cyano, nitro, alkoxycarbonyl, carbamoyl, acyl, formyl, acylthio, acylamino, thiocarbonyl, sulfamoyl, alkylsulfonyl. Group, an arylsulfonyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a phosphoryl group, a trifluoromethyl group, a heterocyclic group, or a substituted phenyl group, and particularly preferably a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group Group, alkylsulfonyl group,
An arylsulfonyl group, an acyl group, an acylthio group, an acylamino group, a thiocarbonyl group, a formyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a heterocyclic group, or a phenyl group substituted with any electron-withdrawing group; is there.

【0157】XとYが、互いに結合して非芳香族の炭素
環、または非芳香族のヘテロ環を形成している場合もま
た好ましい。この時、形成される環状構造は5員〜7員
環が好ましく、その総炭素数は1〜40、さらには3〜
30が好ましい。環状構造を形成するXおよびYとして
は、アシル基、カルバモイル基、オキシカルボニル基、
チオカルボニル基、スルホニル基、イミノ基、N原子で
置換したイミノ基、アシルアミノ基、カルボニルチオ基
等が好ましい。
It is also preferable that X and Y combine with each other to form a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring. At this time, the cyclic structure to be formed is preferably a 5- to 7-membered ring, and has a total carbon number of 1 to 40, more preferably 3 to 7 members.
30 is preferred. X and Y forming a cyclic structure include an acyl group, a carbamoyl group, an oxycarbonyl group,
Preferred are a thiocarbonyl group, a sulfonyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, an acylamino group, a carbonylthio group and the like.

【0158】式(3)においてA、Bはそれぞれ独立に、
アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、ア
リールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ基、ヘテロ
環チオ基、ヘテロ環オキシ基、またはヘテロ環アミノ基
を表し、これらは互いに結合して環状構造を形成してい
てもよい。式(3)においてA、Bで表される基は、好ま
しくは総炭素数1〜40の、より好ましくは総炭素数1
〜30の基であり、さらに置換基を有していてもよい。
In the formula (3), A and B are each independently:
Represents an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group, a heterocyclic thio group, a heterocyclic oxy group, or a heterocyclic amino group, which are bonded to each other to form a cyclic structure. You may. In the formula (3), the groups represented by A and B preferably have a total carbon number of 1 to 40, more preferably a total carbon number of 1 to 40.
To 30 and may further have a substituent.

【0159】式(3)においてA、Bは、これらが互いに
結合して環状構造を形成している場合がより好ましい。
この時形成される環状構造は5員〜7員環の非芳香族の
ヘテロ環が好ましく、その総炭素数は1〜40、さらに
は3〜30が好ましい。この場合に、A,Bが連結した
例(−A−B−)を挙げれば、例えば-O-(CH2)2-O-、-O-
(CH2)3-O-、-S-(CH2)2-S-、-S-(CH2)3-S-、-S-ph-S-、-
N(CH3)-(CH2)2-O-、-N(CH3)-(CH2)2-S-、-O-(CH2)2-S
-、-O-(CH2)3-S-、-N(CH3)-ph-O-、-N(CH3)-ph-S-、-N
(ph)-(CH2)2-S-等である。
In the formula (3), A and B more preferably combine with each other to form a cyclic structure.
The cyclic structure formed at this time is preferably a 5- to 7-membered non-aromatic hetero ring, and preferably has a total carbon number of 1 to 40, and more preferably 3 to 30. In this case, A, by way of example in which B is linked (-A-B-), for example -O- (CH 2) 2 -O - , - O-
(CH 2 ) 3 -O-, -S- (CH 2 ) 2 -S-, -S- (CH 2 ) 3 -S-, -S-ph-S-,-
N (CH 3 )-(CH 2 ) 2 -O-, -N (CH 3 )-(CH 2 ) 2 -S-, -O- (CH 2 ) 2 -S
-, - O- (CH 2) 3 -S -, - N (CH 3) -ph-O -, - N (CH 3) -ph-S -, - N
(ph)-(CH 2 ) 2 -S- and the like.

【0160】本発明では、造核剤として下記式(A)お
よび式(B)で表される環状化合物が最も好ましく用い
られる。
In the present invention, cyclic compounds represented by the following formulas (A) and (B) are most preferably used as nucleating agents.

【0161】[0161]

【化33】 Embedded image

【0162】式(A)においてZ11は、−Y11−C(=
CH−X11)−C(=O)−と共に5員〜7員の環構造を
形成しうる非金属原子団を表す。Z11は好ましくは、炭
素原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、および水素原
子から選ばれる原子団で、これらの中から選ばれる数個
の原子が、互いに単結合ないしは2重結合によって連結
されて、−Y11−C(=CH−X11)−C(=O)−と共に
5員〜7員の環構造を形成する。Z11は置換基を有して
いてもよく、またZ11自体が、芳香族もしくは非芳香族
の炭素環、或いは芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環の
一部であってもよく、この場合、Z11が−Y11−C(=
CH−X11)−C(=O)−と共に形成する5員〜7員の
環構造は、縮環構造を形成することになる。
In the formula (A), Z 11 is -Y 11 -C (=
CH-X 11) -C (= O) - represents a nonmetallic atomic group capable to form a 5-membered to 7-membered ring structure with. Z 11 is preferably an atomic group selected from a carbon atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, and a hydrogen atom, and several atoms selected from these are connected to each other by a single bond or a double bond. Te, -Y 11 -C (= CH- X 11) -C (= O) - form a 5- to 7-membered ring structure with. Z 11 may have a substituent, and Z 11 itself may be a part of an aromatic or non-aromatic carbon ring or an aromatic or non-aromatic hetero ring. , Z 11 are -Y 11 -C (=
The 5- to 7-membered ring structure formed together with CH—X 11 ) —C (= O) — forms a fused ring structure.

【0163】式(B)においてZ12は、−Y12−C(=
CH−X12)−C(Y13)=N−と共に5員〜7員の環構
造を形成しうる非金属原子団を表す。Z12は好ましく
は、炭素原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、および
水素原子から選ばれる原子団で、これらの中から選ばれ
る数個の原子が、互いに単結合ないしは2重結合によっ
て連結されて、−Y12−C(=CH−X12)−C(Y13)=
N−と共に5員〜7員の環構造を形成する。Z12は置換
基を有していてもよく、またZ12自体が、芳香族もしく
は非芳香族の炭素環、或いは芳香族もしくは非芳香族の
ヘテロ環の一部であってもよく、この場合、Z12が−Y
12−C(=CH−X12)−C(Y13)=N−と共に形成する
5員〜7員の環構造は、縮環構造を形成することにな
る。
In the formula (B), Z 12 is -Y 12 -C (=
Represents a CH-X 12) -C (Y 13) = non-metallic atomic group capable to form a 5-membered to 7-membered ring structure with N-. Z 12 is preferably an atomic group selected from a carbon atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, and a hydrogen atom, and several atoms selected from these are connected to each other by a single bond or a double bond. Te, -Y 12 -C (= CH- X 12) -C (Y 13) =
Together with N-, a 5- to 7-membered ring structure is formed. Z 12 may have a substituent, and Z 12 itself may be a part of an aromatic or non-aromatic carbon ring or an aromatic or non-aromatic hetero ring. , Z 12 is -Y
Ring structures 12 -C (= CH-X 12 ) -C (Y 13) = 5 -membered to 7-membered formed together with N- will form a condensed ring structure.

【0164】Z11およびZ12が置換基を有する場合、そ
の置換基の例としては、以下に挙げたものの中から選ば
れる。
When Z 11 and Z 12 have a substituent, examples of the substituent are selected from the following.

【0165】即ち、代表的な置換基としては、例えばハ
ロゲン原子(フッ素原子、クロル原子、臭素原子、また
は沃素原子)、アルキル基(アラルキル基、シクロアル
キル基、活性メチン基等を含む)、アルケニル基、アル
キニル基、アリール基、複素環基、4級化された窒素原
子を含むヘテロ環基(例えばピリジニオ基)、アシル
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、カルバモイル基、カルボキシ基またはその塩、ス
ルホニルカルバモイル基、アシルカルバモイル基、スル
ファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、オキサリ
ル基、オキサモイル基、シアノ基、チオカルバモイル
基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(エチレンオキシ基も
しくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含
む)、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオ
キシ基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボ
ニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキ
シ基、アミノ基、(アルキル,アリール,またはヘテロ
環)アミノ基、Nー置換の含窒素ヘテロ環基、アシルア
ミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド
基、イミド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)
カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカ
ルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、4
級のアンモニオ基、オキサモイルアミノ基、(アルキル
もしくはアリール)スルホニルウレイド基、アシルウレ
イド基、アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メ
ルカプト基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)
チオ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、
(アルキルまたはアリール)スルフィニル基、スルホ基
またはその塩、スルファモイル基、アシルスルファモイ
ル基、スルホニルスルファモイル基またはその塩、リン
酸アミドもしくはリン酸エステル構造を含む基、シリル
基、スタニル基等が挙げられる。これら置換基は、これ
ら置換基でさらに置換されていてもよい。
That is, typical substituents include, for example, a halogen atom (a fluorine atom, a chloro atom, a bromine atom or an iodine atom), an alkyl group (including an aralkyl group, a cycloalkyl group, an active methine group, etc.), an alkenyl group Group, alkynyl group, aryl group, heterocyclic group, quaternized heterocyclic group containing a nitrogen atom (eg, pyridinio group), acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, carboxy group or a salt thereof , A sulfonylcarbamoyl group, an acylcarbamoyl group, a sulfamoylcarbamoyl group, a carbazoyl group, an oxalyl group, an oxamoyl group, a cyano group, a thiocarbamoyl group, a hydroxy group, an alkoxy group (a group having a repeating ethyleneoxy or propyleneoxy group unit. Including aryloxy groups Heterocyclic oxy group, acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, N-substituted nitrogen-containing heterocyclic group , Acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy)
Carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, 4
Grade ammonio group, oxamoylamino group, (alkyl or aryl) sulfonyluureido group, acylureido group, acylsulfamoylamino group, nitro group, mercapto group, (alkyl, aryl, or heterocycle)
A thio group, an (alkyl or aryl) sulfonyl group,
(Alkyl or aryl) sulfinyl group, sulfo group or salt thereof, sulfamoyl group, acylsulfamoyl group, sulfonylsulfamoyl group or salt thereof, group containing a phosphoric acid amide or phosphate ester structure, silyl group, stannyl group, etc. Is mentioned. These substituents may be further substituted with these substituents.

【0166】次に式(B)のY13について説明する。式
(B)においてY13は水素原子または置換基を表すが、
13が置換基を表すとき、その置換基としては、具体的
に以下の基が挙げられる。即ち、アルキル基、アリール
基、ヘテロ環基、シアノ基、アシル基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、アミノ基、(アルキル、アリール、もしくはヘテロ
環)アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウ
レイド基、チオウレイド基、イミド基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、(アルキル、アリール、もしくはヘ
テロ環)チオ基等である。これら置換基は任意の置換基
で置換されていてもよく、具体的にはZ11またはZ12
有していてもよい置換基の例が挙げられる。
Next, Y 13 in the formula (B) will be described. In the formula (B), Y 13 represents a hydrogen atom or a substituent,
When Y 13 represents a substituent, examples of the substituent include the following groups. That is, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a cyano group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, an amino group, an (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, an acylamino group, and a sulfonamide Group, ureido group, thioureido group, imide group, alkoxy group,
An aryloxy group, an (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group. These substituents may be substituted with any substituents, and specific examples include the substituents that Z 11 or Z 12 may have.

【0167】式(A)または式(B)において、X11
よびX12は、ヒドロキシ基(もしくはその塩)、アルコキ
シ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
イソプロポキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ
基、セチルオキシ基、t−ブトキシ基等)、アリールオ
キシ基(例えばフェノキシ基、p−t−オクチルフェノ
キシ基等)、ヘテロ環オキシ基(例えばベンゾトリアゾ
リルー5−オキシ基、ピリジニルー3−オキシ基等)、
メルカプト基(もしくはその塩)、アルキルチオ基(例え
ばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基、ドデシ
ルチオ基等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ
基、p−ドデシルフェニルチオ基等)、ヘテロ環チオ基
(例えば1−フェニルテトラゾイルー5−チオ基、メル
カプトチアジアゾリルチオ基等)、アミノ基、アルキル
アミノ基(例えばメチルアミノ基、プロピルアミノ基、
オクチルアミノ基、ジメチルアミノ基等)、アリールア
ミノ基(例えばアニリノ基、ナフチルアミノ基等)、ヘ
テロ環アミノ基(例えばピリジルアミノ基、ベンゾトリ
アゾール−5−イルアミノ基等)、アシルアミノ基(例
えばアセトアミド基、オクタノイルアミノ基、ベンゾイ
ルアミノ基、トリフルオロアセチルアミノ基等)、スル
ホンアミド基(例えばメタンスルホンアミド基、ベンゼ
ンスルホンアミド基、ドデシルスルホンアミド基等)、
またはヘテロ環基を表す。
In the formula (A) or (B), X 11 and X 12 represent a hydroxy group (or a salt thereof), an alkoxy group (for example, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group,
Isopropoxy group, octyloxy group, dodecyloxy group, cetyloxy group, t-butoxy group, etc., aryloxy group (eg, phenoxy group, pt-octylphenoxy group, etc.), heterocyclic oxy group (eg, benzotriazolyl group) 5-oxy group, pyridinyl-3-oxy group, etc.),
Mercapto group (or salt thereof), alkylthio group (eg, methylthio group, ethylthio group, butylthio group, dodecylthio group, etc.), arylthio group (eg, phenylthio group, p-dodecylphenylthio group, etc.), heterocyclic thio group (eg, 1- Phenyltetrazoyl-5-thio group, mercaptothiadiazolylthio group, etc.), amino group, alkylamino group (for example, methylamino group, propylamino group,
Octylamino group, dimethylamino group, etc.), arylamino group (eg, anilino group, naphthylamino group, etc.), heterocyclic amino group (eg, pyridylamino group, benzotriazol-5-ylamino group, etc.), acylamino group (eg, acetamido group, Octanoylamino group, benzoylamino group, trifluoroacetylamino group, etc.), sulfonamide group (for example, methanesulfonamide group, benzenesulfonamide group, dodecylsulfonamide group, etc.),
Or a heterocyclic group.

【0168】ここでヘテロ環基とは、窒素原子で連結す
る含窒素ヘテロ環基で、芳香族または非芳香族の、飽和
もしくは不飽和の、単環もしくは縮合環の、置換もしく
は無置換の含窒素ヘテロ環基で、例えばN−メチルヒダ
ントイル基、スクシンイミド基、フタルイミド基、N,
N' −ジメチルウラゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾ
トリアゾリル基、インダゾリル基、モルホリノ基、4,
4−ジメチル−2,5−ジオキソ−オキサゾリル基等が
挙げられる。
Here, the heterocyclic group is a nitrogen-containing heterocyclic group linked by a nitrogen atom, and is a substituted or unsubstituted aromatic or non-aromatic, saturated or unsaturated, monocyclic or condensed ring. A nitrogen heterocyclic group such as N-methylhydantoyl group, succinimide group, phthalimide group, N,
N′-dimethylurazolyl group, imidazolyl group, benzotriazolyl group, indazolyl group, morpholino group, 4,
4-dimethyl-2,5-dioxo-oxazolyl group and the like.

【0169】またここで塩とはアルカリ金属(ナトリウ
ム、カリウム、リチウム)もしくはアルカリ土類金属
(マグネシウム、カルシウム)の塩、銀塩、亜鉛塩ある
いはまた4級アンモニウム塩(テトラエチルアンモニウ
ム塩、ジメチルセチルベンジルアンモニウム塩等)、4
級ホスホニウム塩等を表す。
The salt herein means a salt, a silver salt, a zinc salt or a quaternary ammonium salt (tetraethylammonium salt, dimethylcetylbenzyl) of an alkali metal (sodium, potassium, lithium) or an alkaline earth metal (magnesium, calcium). Ammonium salt), 4
Represents a phosphonium salt or the like.

【0170】式(A)および式(B)においてY11およ
びY12は、−C(=O)−基または−SO2−基を表す。
次に式(A)または式(B)で表される化合物の好まし
い範囲について説明する。式(A)または式(B)にお
いて、Y11およびY12は好ましくは−C(=O)−基であ
る。
In the formulas (A) and (B), Y 11 and Y 12 represent a —C (= O) — group or a —SO 2 — group.
Next, a preferred range of the compound represented by the formula (A) or (B) will be described. In the formula (A) or the formula (B), Y 11 and Y 12 are preferably a —C (= O) — group.

【0171】式(A)または式(B)において、X11
よびX12は、好ましくはヒドロキシ基(もしくはその
塩)、アルコキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルアミノ
基、メルカプト基(もしくはその塩)、アルキルチオ基、
アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、アルキル
アミノ基、スルホンアミド基、またはヘテロ環基であ
り、さらに好ましくはヒドロキシ基(もしくはその塩)、
アルコキシ基、メルカプト基(もしくはその塩)、アルキ
ルチオ基、またはヘテロ環基であり、特に好ましくはヒ
ドロキシ基(もしくはその塩)、メルカプト基(もしくは
その塩)、アルコキシ基、またはヘテロ環基であり、最
も好ましくはヒドロキシ基(もしくはその塩)、またはア
ルコキシ基である。
In the formula (A) or (B), X 11 and X 12 are preferably a hydroxy group (or a salt thereof), an alkoxy group, a heterocyclic oxy group, an acylamino group, a mercapto group (or a salt thereof), Alkylthio group,
An arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group, an alkylamino group, a sulfonamide group, or a heterocyclic group, more preferably a hydroxy group (or a salt thereof),
An alkoxy group, a mercapto group (or a salt thereof), an alkylthio group, or a heterocyclic group, particularly preferably a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, or a heterocyclic group, Most preferably, it is a hydroxy group (or a salt thereof) or an alkoxy group.

【0172】式(A)または式(B)において、X11
よびX12がアルコキシ基を表す時、その総炭素数は1〜
18が好ましく、さらに1〜12が好ましく、特に好ま
しくは1〜5である。式(A)または式(B)におい
て、X11およびX12がヘテロ環基を表す時、その総炭素
数は2〜20が好ましく、さらに2〜16が好ましい。
In the formula (A) or (B), when X 11 and X 12 represent an alkoxy group, the total number of carbon atoms is 1 to
18 is preferable, 1 to 12 is more preferable, and 1 to 5 is particularly preferable. In formula (A) or (B), when X 11 and X 12 represent a heterocyclic group, the total carbon number is preferably 2 to 20, and more preferably 2 to 16.

【0173】式(A)において、Z11は好ましくは、5
員もしくは6員の環状構造を形成しうる原子団であり、
その具体的な例としては、窒素原子、炭素原子、硫黄原
子もしくは酸素原子から選ばれる原子団、例えば、−N
−N−,−N−C−,−O−C−,−C−C−,−C=
C−,−S−C−,−C=C−N−,−C=C−O−,
−N−C−N−,−N=C−N−,−C−C−C−,−
C=C−C−,−O−C−O−等が、さらに水素原子も
しくは置換基を有している場合が挙げられる。
In the formula (A), Z 11 is preferably 5
Group that can form a six- or six-membered cyclic structure,
Specific examples thereof include an atomic group selected from a nitrogen atom, a carbon atom, a sulfur atom and an oxygen atom, for example, -N
-N-, -NC-, -OC-, -CC-, -C =
C-, -S-C-, -C = C-N-, -C = C-O-,
-N-C-N-, -N = C-N-, -C-C-C-,-
C = C—C—, —O—C—O— and the like further have a hydrogen atom or a substituent.

【0174】Z11はより好ましくは、−N−N−,−N
−C−,−O−C−,−C−C−,−C=C−,−S−
C−,−N−C−N−,−C=C−N−等の原子団が、
さらに水素原子もしくは置換基を有している場合であ
り、特に好ましくは、−N−N−,−N−C−,−C=
C−等の原子団が、さらに水素原子もしくは置換基を有
している場合である。
Z 11 is more preferably -NN-, -N
-C-, -OC-, -CC-, -C = C-, -S-
An atomic group such as C-, -NCN-, -C = CN-,
Further, it is a case having a hydrogen atom or a substituent, particularly preferably -NN-, -NC-, -C =
This is the case where the atomic group such as C- further has a hydrogen atom or a substituent.

【0175】Z11がこれ自体、芳香族もしくは非芳香族
の炭素環、或いは芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環の
一部となって、Z11が−Y11−C(=CH−X11)−C
(=O)−と共に形成する5員〜7員の環構造に対して縮
環構造を形成する場合もまた好ましい。この場合の芳香
族もしくは非芳香族の炭素環、或いは芳香族もしくは非
芳香族のヘテロ環の例としては、例えば、ベンゼン環、
ナフタレン環、ピリジン環、シクロヘキサン環、ピペリ
ジン環、ピラゾリジン環、ピロリジン環、1,2−ピペ
ラジン環、1,4−ピペラジン環、オキサン環、オキソ
ラン環、チアン環、チオラン環等が挙げられる。中でも
ベンゼン環、ピペリジン環、1,2−ピペラジン環が好
ましく、ベンゼン環が最も好ましい。
Z 11 itself forms part of an aromatic or non-aromatic carbon ring or an aromatic or non-aromatic hetero ring, and Z 11 is represented by —Y 11 —C (= CH—X 11 ) -C
It is also preferable to form a condensed ring structure with a 5- to 7-membered ring structure formed together with (= O)-. Examples of the aromatic or non-aromatic carbon ring or the aromatic or non-aromatic hetero ring in this case include, for example, a benzene ring,
Examples include a naphthalene ring, a pyridine ring, a cyclohexane ring, a piperidine ring, a pyrazolidine ring, a pyrrolidine ring, a 1,2-piperazine ring, a 1,4-piperazine ring, an oxane ring, an oxolane ring, a thiane ring, and a thiolane ring. Among them, a benzene ring, a piperidine ring and a 1,2-piperazine ring are preferred, and a benzene ring is most preferred.

【0176】式(B)において、Z12は好ましくは、5
員もしくは6員の環状構造を形成しうる原子団であり、
その具体的な例としては、窒素原子、炭素原子、硫黄原
子もしくは酸素原子から選ばれる原子団、例えば、−N
−,−O−,−S−,−C−,−C=C−,−C−C
−,−N−C−,−N=C−,−O−C−,−S−C−
等の原子団が、可能な場合はさらに水素原子もしくは置
換基を有している場合である。
In the formula (B), Z 12 is preferably 5
Group that can form a six- or six-membered cyclic structure,
Specific examples thereof include an atomic group selected from a nitrogen atom, a carbon atom, a sulfur atom and an oxygen atom, for example, -N
-, -O-, -S-, -C-, -C = C-, -CC
-, -NC-, -N = C-, -OC-, -S-C-
And the like have a hydrogen atom or a substituent when possible.

【0177】Z12がこれ自体、芳香族もしくは非芳香族
の炭素環、或いは芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環の
一部となって、−Y12−C(=CH−X12)−C(Y13)=
N−と共に形成する5員〜7員の環構造に対して縮環構
造を形成する場合もまた好ましい。この場合の芳香族も
しくは非芳香族の炭素環、或いは芳香族もしくは非芳香
族のヘテロ環の例としては、例えば、ベンゼン環、ナフ
タレン環、ピリジン環、シクロヘキサン環、ピペリジン
環、ピラゾリジン環、ピロリジン環、1,2−ピペラジ
ン環、1,4−ピペラジン環、オキサン環、オキソラン
環、チアン環、チオラン環等が挙げられる。
Z 12 itself forms part of an aromatic or non-aromatic carbocyclic ring or an aromatic or non-aromatic heterocyclic ring, and forms —Y 12 —C (= CH—X 12 ) —C (Y 13 ) =
It is also preferable to form a condensed ring structure with a 5- to 7-membered ring structure formed together with N-. Examples of the aromatic or non-aromatic carbon ring or the aromatic or non-aromatic hetero ring in this case include, for example, a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a cyclohexane ring, a piperidine ring, a pyrazolidine ring, and a pyrrolidine ring. , 1,2-piperazine ring, 1,4-piperazine ring, oxane ring, oxolane ring, thiane ring, thiolane ring and the like.

【0178】式(B)において、Z12はより好ましくは
−N−,−O−,−S−,−C−,−C=C−等の原子
団が、可能な場合はさらに水素原子もしくは置換基を有
している場合であり、特に好ましくは−N−,−O−等
の原子団が、可能な場合はさらに水素原子もしくは置換
基を有している場合である。
In the formula (B), Z 12 is more preferably an atomic group such as —N—, —O—, —S—, —C—, —C = C—, and if possible, further a hydrogen atom or It is a case where a substituent is present, and particularly preferably a case where an atomic group such as -N- or -O- further has a hydrogen atom or a substituent when possible.

【0179】式(A)および式(B)において、Z11
たはZ12が有する置換基として好ましくは、アルキル
基、アリール基、ハロゲン原子、ヘテロ環基、アシル
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、カルバモイル基、カルボキシ基またはその塩、ス
ルホニルカルバモイル基、シアノ基、ヒドロキシ基、ア
シルオキシ基、アルコキシ基、アミノ基、(アルキル,
アリール,またはヘテロ環)アミノ基、アシルアミノ
基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、
イミド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カル
ボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、ニトロ基、
メルカプト基、(アルキル,アリール,またはヘテロ
環)チオ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル
基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基等が挙げ
られる。
In the formulas (A) and (B), the substituent of Z 11 or Z 12 is preferably an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, a heterocyclic group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group. Group, carbamoyl group, carboxy group or a salt thereof, sulfonylcarbamoyl group, cyano group, hydroxy group, acyloxy group, alkoxy group, amino group, (alkyl,
Aryl, or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group,
Imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino group, nitro group,
Examples include a mercapto group, an (alkyl, aryl, or heterocycle) thio group, an (alkyl or aryl) sulfonyl group, a sulfo group or a salt thereof, and a sulfamoyl group.

【0180】またZ11およびZ12が、これ自体、芳香族
もしくは非芳香族の炭素環、或いは芳香族もしくは非芳
香族のヘテロ環の一部となって、縮環構造を形成する場
合に、その芳香族もしくは非芳香族の炭素環、或いは芳
香族もしくは非芳香族のヘテロ環は置換基を有していて
もよく、その置換基としては、上記と同じ範囲から選ば
れる置換基が好ましい。
When Z 11 and Z 12 themselves are part of an aromatic or non-aromatic carbon ring or an aromatic or non-aromatic hetero ring to form a condensed ring structure, The aromatic or non-aromatic carbon ring or the aromatic or non-aromatic hetero ring may have a substituent, and the substituent is preferably a substituent selected from the same range as described above.

【0181】式(B)においてY13は好ましくは水素原
子または以下の置換基である。即ち、アルキル基、アリ
ール基(特にフェニル基、ナフチル基)、ヘテロ環基、
シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバ
モイル基、(アルキル、アリール、もしくはヘテロ環)
アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイ
ド基、イミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
(アルキル、アリール、もしくはヘテロ環)チオ基等で
ある。
In the formula (B), Y 13 is preferably a hydrogen atom or the following substituent. That is, an alkyl group, an aryl group (particularly, a phenyl group or a naphthyl group), a heterocyclic group,
Cyano group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, (alkyl, aryl or heterocycle)
Amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, imide group, alkoxy group, aryloxy group,
(Alkyl, aryl, or heterocycle) thio group.

【0182】式(B)においてY13はさらに好ましくは
置換基を表す時であり、具体的にはアルキル基、フェニ
ル基、アミノ基、アニリノ基、アシルアミノ基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、カルバモイル基が好まし
い。これら置換基はさらに置換基を有していてもよい
が、総炭素数1〜30が好ましく、さらには1〜21が
好ましい。
In the formula (B), Y 13 is more preferably a substituent. Specifically, an alkyl group, a phenyl group, an amino group, an anilino group, an acylamino group, an alkoxy group, an aryloxy group, a carbamoyl group Is preferred. These substituents may further have a substituent, but preferably have a total carbon number of 1 to 30, more preferably 1 to 21.

【0183】式(A)で表される化合物は、その総炭素数
が6以上であることが好ましく、また式(B)で表され
る化合物は、その総炭素数が12以上であることが好ま
しい。総炭素数の上限には特に制約はないが、式(A)
で表される化合物は40以下が好ましく、32以下がさ
らに好ましい。式(B)で表される化合物は40以下が
好ましく、32以下がさらに好ましい。
The compound represented by the formula (A) preferably has a total carbon number of 6 or more, and the compound represented by the formula (B) preferably has a total carbon number of 12 or more. preferable. Although the upper limit of the total carbon number is not particularly limited, the formula (A)
The compound represented by is preferably 40 or less, more preferably 32 or less. The compound represented by the formula (B) is preferably at most 40, more preferably at most 32.

【0184】式(A)においてZ11は、その置換基を含
めて、総炭素数2以上であることが好ましく、さらに3
以上であることがより好ましい。式(B)においてZ12
は、その置換基を含めて、これとY13との総炭素数の和
が、8以上であることが好ましい。式(A)においてZ
11は、その置換基を含めて、総炭素数3以上で40以下
であることがさらに好ましく、6以上で30以下である
ことが特に好ましい。式(B)においてZ12は、その置
換基を含めて、これとY13との総炭素数の和が、8以上
で40以下であることがさらに好ましく、さらには8以
上で30以下であることが特に好ましい。
In the formula (A), Z 11 preferably has 2 or more carbon atoms, including its substituent, and more preferably 3
More preferably, it is the above. In the formula (B), Z 12
It is preferable that the sum of the total number of carbon atoms of this and Y 13 including its substituents is 8 or more. In the formula (A), Z
11 has a total carbon number of 3 or more and 40 or less including its substituents, and particularly preferably 6 or more and 30 or less. In the formula (B), Z 12 , including its substituents, preferably has a sum of the total number of carbon atoms of Y 13 with Y 13 of from 8 to 40, and more preferably from 8 to 30. Is particularly preferred.

【0185】本発明の式(A)で表される化合物のうち
特に好ましい化合物は、式(A)において、Y11がカルボ
ニル基を表し、Z11が−Y11−C(=CH−X11)−C
(=O)−と共にインダンジオン環、ピロリジンジオン
環、もしくはピラゾリジンジオン環を形成する化合物で
ある。中でもピラゾリジンジオン環を形成する化合物が
最も好ましい。本発明の式(B)で表される化合物のうち
特に好ましい化合物は、式(B)において、Y12がカルボ
ニル基を表し、Z12が−Y12−C(=CH−X12)−C
(Y13)=N−と共に5−ピラゾロン環を形成する化合物
である。
Among the compounds represented by the formula (A) of the present invention, a particularly preferred compound is that, in the formula (A), Y 11 represents a carbonyl group, and Z 11 represents —Y 11 —C (= CH—X 11 ) -C
(= O)-is a compound that forms an indandione ring, a pyrrolidinedione ring, or a pyrazolidinedione ring. Among them, compounds that form a pyrazolidinedione ring are most preferred. Particularly preferred compounds among the compounds represented by the formula (B) of the present invention are those wherein, in the formula (B), Y 12 represents a carbonyl group, and Z 12 represents -Y 12 -C (= CH-X 12 ) -C
(Y 13) = a compound that forms a 5-pyrazolone ring with N-.

【0186】本発明の式(1)〜式(3)、式(A)、式
(B)で表される化合物は、ハロゲン化銀に対して吸着
する吸着性の基が組み込まれていてもよい。こうした吸
着基としては、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオ
尿素基、チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾ
ール基などの米国特許第4,385,108号、同4,
459,347号、特開昭59−195233号、同5
9−200231号、同59−201045号、同59
−201046号、同59−201047号、同59−
201048号、同59−201049号、特開昭61
−170733号、同61−270744号、同62−
948号、同63−234244号、同63−2342
45号、同63−234246号に記載された基が挙げ
られる。またこれらハロゲン化銀への吸着基は、プレカ
ーサー化されていてもよい。その様なプレカーサーとし
ては、特開平2−285344号に記載された基が挙げ
られる。
The compounds represented by the formulas (1) to (3), (A) and (B) of the present invention have a structure in which an adsorptive group that adsorbs to silver halide is incorporated. Good. Examples of such adsorptive groups include U.S. Pat. Nos. 4,385,108 and 4,485, such as alkylthio, arylthio, thiourea, thioamide, mercaptoheterocyclic, and triazole groups.
459,347, JP-A-59-195233, 5
Nos. 9-200231, 59-201045, 59
No.-201046, No.59-201047, No.59-
No. 201048, No. 59-201049, JP-A-61-61
-170733, 61-270744, 62-
No. 948, No. 63-234244, No. 63-2342
45 and 63-234246. These adsorbing groups to silver halide may be precursors. Examples of such a precursor include groups described in JP-A-2-285344.

【0187】本発明の式(1)〜式(3)、式(A)、式
(B)で表される化合物は、その中にカプラー等の不動
性写真用添加剤において常用されているバラスト基また
はポリマーが組み込まれているものでもよい。特にバラ
スト基が組み込まれているものは本発明の好ましい例の
1つである。バラスト基は8以上の炭素数を有する、写
真性に対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル
基、アラルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキ
ルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基な
どの中から選ぶことができる。またポリマーとしては、
例えば特開平1−100530号に記載のものが挙げら
れる。
The compounds represented by the formulas (1) to (3), (A) and (B) of the present invention may be used in ballasts commonly used in immobile photographic additives such as couplers. It may have incorporated groups or polymers. Particularly, those incorporating a ballast group are one of preferred examples of the present invention. The ballast group is a group having a carbon number of 8 or more and relatively inactive to photographic properties, such as an alkyl group, an aralkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group, and an alkylphenoxy group. You can choose from. As a polymer,
For example, those described in JP-A-1-100530 can be mentioned.

【0188】本発明の式(1)〜式(3)、式(A)、式
(B)で表される化合物は、その中にカチオン性基(具
体的には、4級のアンモニオ基を含む基、または4級化
された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基等)、エチレン
オキシ基もしくはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を
含む基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ
基、あるいは塩基により解離しうる解離性基(カルボキ
シ基、スルホ基、アシルスルファモイル基、カルバモイ
ルスルファモイル基等)が含まれていてもよい。特にエ
チレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基の繰り返し
単位を含む基、あるいは(アルキル,アリール,または
ヘテロ環)チオ基が含まれているものは、本発明の好ま
しい例の1つである。これらの基の具体例としては、例
えば特開平7−234471号、特開平5−33346
6号、特開平6−19032号、特開平6−19031
号、特開平5−45761号、米国特許4994365
号、米国特許4988604号、特開平3−25924
0号、特開平7−5610号、特開平7−244348
号、独国特許4006032号等に記載の化合物が挙げ
られる。
The compounds represented by the formulas (1) to (3), (A) and (B) of the present invention contain a cationic group (specifically, a quaternary ammonium group). A nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom), a group containing a repeating unit of an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group, a (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group, or a base. It may contain a dissociable dissociable group (carboxy group, sulfo group, acylsulfamoyl group, carbamoylsulfamoyl group, etc.). Particularly, a group containing a group containing a repeating unit of an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group or a group containing an (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group is one of preferred examples of the present invention. Specific examples of these groups include, for example, JP-A-7-234471 and JP-A-5-33346.
6, JP-A-6-19032, JP-A-6-19031
JP-A-5-45761, U.S. Pat. No. 4,994,365.
No. 4,988,604, JP-A-3-25924.
No. 0, JP-A-7-5610, JP-A-7-244348
And the compounds described in German Patent No. 4006032.

【0189】次に本発明の式(1)〜式(3)、式(A)、
式(B)で表される化合物の具体例を以下に示す。ただ
し、本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
Next, the formulas (1) to (3) of the present invention, the formula (A),
Specific examples of the compound represented by the formula (B) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0190】[0190]

【化34】 Embedded image

【0191】[0191]

【化35】 Embedded image

【0192】[0192]

【化36】 Embedded image

【0193】[0193]

【化37】 Embedded image

【0194】本発明の式(1)〜式(3)、式(A)、式
(B)で表される化合物は、水または適当な有機溶媒、
例えばアルコール類(メタノール、エタノール、プロパ
ノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセトン、
メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用い
ることができる。
The compounds represented by the formulas (1) to (3), (A) and (B) of the present invention can be prepared by using water or a suitable organic solvent,
For example, alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone,
Methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethylsulfoxide, methylcellosolve and the like can be used.

【0195】また、既によく知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンな
どの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作
製して用いることができる。あるいは固体分散法として
知られている方法によって、化合物の粉末を水等の適当
な溶媒中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波
によって分散し用いることができる。
Further, by using a well-known emulsification dispersion method, an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone is used for dissolution, An emulsified dispersion can be prepared and used. Alternatively, the compound powder can be dispersed and used in a suitable solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic wave by a method known as a solid dispersion method.

【0196】本発明の式(1)〜式(3)で、式(A)、式
(B)表される化合物は、支持体に対して画像記録層側
の層、即ち画像形成層あるいは他のどの層に添加しても
よいが、画像形成層あるいはそれに隣接する層に添加す
ることが好ましい。
The compounds represented by the formulas (A) and (B) in the formulas (1) to (3) of the present invention may be used as a layer on the image recording layer side with respect to the support, that is, the image forming layer or other layers. May be added to any of the layers, but is preferably added to the image forming layer or a layer adjacent thereto.

【0197】本発明の式(1)〜式(3)、式(A)、式
(B)で表される化合物の添加量は、銀1モルに対し1
×10-6〜1モルが好ましく、1×10-5〜5×10-1
モルがより好ましく、2×10-5〜2×10-1モルが最
も好ましい。
The amounts of the compounds represented by the formulas (1) to (3), (A) and (B) of the present invention are 1 to 1 mol of silver.
× 10 -6 to 1 mol is preferable, and 1 × 10 -5 to 5 × 10 -1.
Mole is more preferable, and 2 × 10 −5 to 2 × 10 −1 mole is most preferable.

【0198】式(1)〜式(3)、式(A)、式(B)で表
される化合物は公知の方法により容易に合成することが
できるが、例えば、米国特許5545515号、米国特
許5635339号、米国特許5654130号、国際
特許WO−97/34196号、或いは特願平9−30
9813号、特願平9−272002号に記載の方法を
参考に合成することができる。
The compounds represented by the formulas (1) to (3), (A) and (B) can be easily synthesized by known methods. For example, US Pat. No. 5,545,515 and US Pat. No. 5,635,339, U.S. Pat. No. 5,654,130, International Patent WO-97 / 34196, or Japanese Patent Application No. 9-30.
No. 9813 and Japanese Patent Application No. 9-272002 can be synthesized.

【0199】本発明の式(1)〜式(3)、式(A)、式
(B)で表される化合物は、1種のみ用いても、2種以
上を併用しても良い。また上記のものの他に、米国特許
5545515号、米国特許5635339号、米国特
許5654130号、国際特許WO−97/34196
号、米国特許5686228号に記載の化合物、或いは
また特願平8−279962号、特願平9−22888
1号、特願平9−273935号、特願平9−3098
13号、特願平9−296174号、特願平9−282
564号、特願平9−272002号、特願平9−27
2003号、特願平9−332388号に記載された化
合物を併用して用いても良い。
The compounds represented by the formulas (1) to (3), (A) and (B) of the present invention may be used alone or in combination of two or more. In addition to the above, U.S. Pat. No. 5,545,515, U.S. Pat. No. 5,635,339, U.S. Pat. No. 5,654,130, International Patent WO-97 / 34196.
Or the compounds described in U.S. Pat. No. 5,686,228, or Japanese Patent Application Nos. 8-279962 and 9-22888.
No. 1, Japanese Patent Application No. 9-273935, Japanese Patent Application No. 9-3098
No. 13, Japanese Patent Application No. 9-296174, Japanese Patent Application No. 9-282
564, Japanese Patent Application No. 9-272002, Japanese Patent Application No. 9-27
The compounds described in Japanese Patent Application No. 2003 and Japanese Patent Application No. 9-332388 may be used in combination.

【0200】本発明では、造核剤としてヒドラジン誘導
体を併用することができる。好ましくは下記式(H)で
表されるヒドラジン誘導体が用いられる。
In the present invention, a hydrazine derivative can be used in combination as a nucleating agent. Preferably, a hydrazine derivative represented by the following formula (H) is used.

【0201】[0201]

【化38】 Embedded image

【0202】式中、R20は脂肪族基、芳香族基、または
ヘテロ環基を表し、R10は水素原子またはブロック基を
表し、G1は−CO−,−COCO−,−C(=S)−,
−SO2−,−SO−,−PO(R30)−基(R30はR10
に定義した基と同じ範囲内より選ばれ、R10と異なって
いてもよい。),またはイミノメチレン基を表す。
1、A2はともに水素原子、あるいは一方が水素原子で
他方が置換もしくは無置換の、アルキルスルホニル基、
アリールスルホニル基、またはアシル基を表す。m 1
0または1であり、m1が0の時、R10は脂肪族基、芳
香族基、またはヘテロ環基を表す。
Where R20Is an aliphatic group, an aromatic group, or
R represents a heterocyclic group;TenRepresents a hydrogen atom or a blocking group
Represents, G1Is -CO-, -COCO-, -C (= S)-,
-SOTwo-, -SO-, -PO (R30) -Group (R30Is RTen
Selected from the same range as the group defined inTenDifferent from
May be. ) Or iminomethylene group.
A 1, ATwoAre both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom
The other is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group,
Represents an arylsulfonyl group or an acyl group. m 1Is
0 or 1, and m1Is 0, RTenIs an aliphatic group,
Represents an aromatic group or a heterocyclic group.

【0203】式(H)によって表わされるヒドラジン誘
導体について詳細に説明する。式(H)においてR20
表わされる脂肪族基とは、好ましくは炭素数1〜30の
置換もしくは無置換の、直鎖、分岐または環状のアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基である。
The hydrazine derivative represented by the formula (H) will be described in detail. The aliphatic group represented by R 20 in the formula (H) is preferably a substituted or unsubstituted, linear, branched or cyclic alkyl, alkenyl, or alkynyl group having 1 to 30 carbon atoms.

【0204】R20で表わされる芳香族基とは単環もしく
は縮合環のアリール基で、例えばベンゼン環、ナフタレ
ン環から誘導されるフェニル基、ナフチル基が挙げられ
る。R20で表わされるヘテロ環基とは、単環または縮合
環の、飽和もしくは不飽和の、芳香族または非芳香族の
ヘテロ環基で、これらの基中のヘテロ環としては、例え
ば、ピリジン環、ピリミジン環、イミダゾール環、ピラ
ゾール環、キノリン環、イソキノリン環、ベンズイミダ
ゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チオフ
ェン環、トリアジン環、モルホリン環、ピペリジン環、
ピペラジン環、ベンゾ[1,3]ジオキソール環等が挙げ
られる。R20は任意の置換基で置換されていてもよい。
The aromatic group represented by R 20 is a monocyclic or condensed-ring aryl group, such as a phenyl group or a naphthyl group derived from a benzene ring or a naphthalene ring. The heterocyclic group represented by R 20 is a monocyclic or condensed, saturated or unsaturated, aromatic or non-aromatic heterocyclic group. Examples of the heterocyclic ring in these groups include a pyridine ring , Pyrimidine ring, imidazole ring, pyrazole ring, quinoline ring, isoquinoline ring, benzimidazole ring, thiazole ring, benzothiazole ring, thiophene ring, triazine ring, morpholine ring, piperidine ring,
Examples include a piperazine ring and a benzo [1,3] dioxole ring. R 20 may be substituted with any substituent.

【0205】R20として好ましいものはアリール基、ア
ルキル基、または芳香族ヘテロ環基であり、さらに好ま
しくは、置換もしくは無置換のフェニル基、炭素数1〜
3の置換アルキル基、または芳香族ヘテロ環基である。
Preferred as R 20 are an aryl group, an alkyl group and an aromatic heterocyclic group, more preferably a substituted or unsubstituted phenyl group and a C 1 -C 1 group.
3 substituted alkyl groups or aromatic heterocyclic groups.

【0206】R20が炭素数1〜3の置換アルキル基を表
す時、R20はより好ましくは置換メチル基であり、さら
には二置換メチル基もしくは三置換メチル基が好まし
い。R 20が置換メチル基を表す時、好ましい具体例とし
ては、t−ブチル基、ジシアノメチル基、ジシアノフェ
ニルメチル基、トリフェニルメチル基(トリチル基)、ジ
フェニルメチル基、メトキシカルボニルジフェニルメチ
ル基、シアノジフェニルメチル基、メチルチオジフェニ
ルメチル基、シクロプロピルジフェニルメチル基などが
挙げられるが、中でもトリチル基が最も好ましい。
R20Represents a substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
Then R20Is more preferably a substituted methyl group,
Is preferably a disubstituted or trisubstituted methyl group
No. R 20Is a preferred specific example when represents a substituted methyl group.
T-butyl, dicyanomethyl, dicyanophen
Nilmethyl group, triphenylmethyl group (trityl group),
Phenylmethyl group, methoxycarbonyldiphenylmethyl
Group, cyanodiphenylmethyl group, methylthiodiphenyl
Methyl group, cyclopropyldiphenylmethyl group, etc.
Among them, a trityl group is most preferable.

【0207】R20が芳香族ヘテロ環基を表す時、好まし
いヘテロ環としてピリジン環、キノリン環、ピリミジン
環、トリアジン環、ベンゾチアゾ−ル環、ベンズイミダ
ゾ−ル環、チオフェン環等が挙げられる。式(H)にお
いてR20は、最も好ましくは置換もしくは無置換のフェ
ニル基である。
When R 20 represents an aromatic heterocyclic group, preferred hetero rings include a pyridine ring, a quinoline ring, a pyrimidine ring, a triazine ring, a benzothiazole ring, a benzimidazole ring, a thiophene ring and the like. In the formula (H), R 20 is most preferably a substituted or unsubstituted phenyl group.

【0208】式(H)においてR10は水素原子またはブ
ロック基を表すが、ブロック基とは具体的に脂肪族基
(具体的にはアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基)、芳香族基(単環もしくは縮合環のアリール基)、
ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、置換も
しくは無置換のアミノ基またはヒドラジノ基を表す。
In the formula (H), R 10 represents a hydrogen atom or a block group, and the block group is specifically an aliphatic group (specifically, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group) or an aromatic group (a single group). Ring or fused ring aryl group),
Represents a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, a substituted or unsubstituted amino group or a hydrazino group.

【0209】R10として好ましくは、アルキル基(炭素
数1〜10の置換もしくは無置換のアルキル基で、例え
ばメチル基、エチル基、トリフルオロメチル基、ジフル
オロメチル基,2−カルボキシテトラフルオロエチル
基,ピリジニオメチル基、ジフルオロメトキシメチル
基、ジフルオロ(メチルチオ)メチル基、ジフルオロカル
ボキシメチル基、ヒドロキシメチル基、メタンスルホン
アミドメチル基、ベンゼンスルホンアミドメチル基、ト
リフルオロアセチルメチル基、ジメチルアミノメチル
基、フェニルスルホニルメチル基、o−ヒドロキシベン
ジル基、メトキシメチル基、フェノキシメチル基、4−
エチルフェノキシメチル基、フェニルチオメチル基、t
−ブチル基、ジシアノメチル基、ジフェニルメチル基、
トリフェニルメチル基、メトキシカルボニルジフェニル
メチル基、シアノジフェニルメチル基、メチルチオジフ
ェニルメチル基等)、アルケニル基(炭素数1〜10の
アルケニル基で、例えばビニル基、2−エトキシカルボ
ニルビニル基、2−トリフルオロ−2−メトキシカルボ
ニルビニル基、2,2−ジシアノビニル基、2−シアノ
−2−メトキシカルボニルビニル基、2−シアノ−2−
エトキシカルボニルビニル基、2−アセチル−2−エト
キシカルボニルビニル基等)、アリール基(単環もしく
は縮合環のアリール基で、ベンゼン環を含むものが特に
好ましく、例えばフェニル基、パ−フルオロフェニル
基、3,5−ジクロロフェニル基、2−メタンスルホン
アミドフェニル基、2−カルバモイルフェニル基、4,
5−ジシアノフェニル基、2−ヒドロキシメチルフェニ
ル基、2,6−ジクロロ−4−シアノフェニル基、2−
クロロ−5−オクチルスルファモイルフェニル基)、ヘ
テロ環基(少なくとも1つの窒素、酸素、および硫黄原
子を含む5〜6員の、飽和もしくは不飽和の、単環もし
くは縮合環のヘテロ環基で、例えばモルホリノ基、ピペ
リジノ基(N−置換)、イミダゾリル基、インダゾリル
基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、ベンゾイミダゾリ
ル基、テトラゾリル基、ピリジル基、ピリジニオ基、キ
ノリニオ基、キノリル基、ヒダントイル基、イミダゾリ
ジニル基等)、アルコキシ基(炭素数1〜8のアルコキ
シ基が好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基、2−
ヒドロキシエトキシ基、ベンジルオキシ基、t−ブトキ
シ基等)、アミノ基(無置換アミノ基、および炭素数1
〜10のアルキルアミノ基、アリールアミノ基、または
飽和もしくは不飽和のヘテロ環アミノ基(4級化された
窒素原子を含む含窒素ヘテロ環アミノ基を含む)が好ま
しく、例えば2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−4−イルアミノ基、プロピルアミノ基、2−ヒドロキ
シエチルアミノ基、3−ヒドロキシプロピルアミノ基、
アニリノ基,o−ヒドロキシアニリノ基、5−ベンゾト
リアゾリルアミノ基、N−ベンジル−3−ピリジニオア
ミノ基等)である。R10で表される基は任意の置換基で
置換されていてもよい。
R 10 is preferably an alkyl group (a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group and a 2-carboxytetrafluoroethyl group). , Pyridiniomethyl, difluoromethoxymethyl, difluoro (methylthio) methyl, difluorocarboxymethyl, hydroxymethyl, methanesulfonamidomethyl, benzenesulfonamidomethyl, trifluoroacetylmethyl, dimethylaminomethyl, phenylsulfonyl Methyl group, o-hydroxybenzyl group, methoxymethyl group, phenoxymethyl group, 4-
Ethylphenoxymethyl group, phenylthiomethyl group, t
-Butyl group, dicyanomethyl group, diphenylmethyl group,
A triphenylmethyl group, a methoxycarbonyldiphenylmethyl group, a cyanodiphenylmethyl group, a methylthiodiphenylmethyl group, etc., an alkenyl group (an alkenyl group having 1 to 10 carbon atoms, for example, a vinyl group, a 2-ethoxycarbonylvinyl group, Fluoro-2-methoxycarbonylvinyl group, 2,2-dicyanovinyl group, 2-cyano-2-methoxycarbonylvinyl group, 2-cyano-2-
An ethoxycarbonylvinyl group, a 2-acetyl-2-ethoxycarbonylvinyl group or the like), an aryl group (monocyclic or condensed-ring aryl group containing a benzene ring, and particularly preferably a phenyl group, a perfluorophenyl group, 3,5-dichlorophenyl group, 2-methanesulfonamidophenyl group, 2-carbamoylphenyl group, 4,
5-dicyanophenyl group, 2-hydroxymethylphenyl group, 2,6-dichloro-4-cyanophenyl group, 2-
A chloro-5-octylsulfamoylphenyl group), a heterocyclic group (a 5- to 6-membered, saturated or unsaturated, monocyclic or condensed heterocyclic group containing at least one nitrogen, oxygen and sulfur atom) For example, morpholino group, piperidino group (N-substituted), imidazolyl group, indazolyl group, pyrazolyl group, triazolyl group, benzimidazolyl group, tetrazolyl group, pyridyl group, pyridinio group, quinolinio group, quinolyl group, hydantoyl group, imidazolidinyl group and the like) An alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, for example, a methoxy group, an ethoxy group,
Hydroxyethoxy group, benzyloxy group, t-butoxy group, etc.), amino group (unsubstituted amino group,
Preferred are an alkylamino group, an arylamino group, or a saturated or unsaturated heterocyclic amino group (including a nitrogen-containing heterocyclic amino group containing a quaternized nitrogen atom) of, for example, 2, 2, 6, 6-tetramethylpiperidin-4-ylamino group, propylamino group, 2-hydroxyethylamino group, 3-hydroxypropylamino group,
Anilino group, o-hydroxyanilino group, 5-benzotriazolylamino group, N-benzyl-3-pyridinioamino group, etc.). The group represented by R 10 may be substituted with any substituent.

【0210】R10で表わされる基のうち好ましいもの
は、R20がフェニル基ないしは芳香族ヘテロ環基を表
し、かつG1が−CO−基の場合には、水素原子、アル
キル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ま
たはヘテロ環基であり、さらに好ましくは水素原子、ア
ルキル基、アリール基であり、最も好ましくは水素原子
またはアルキル基である。ここでR10がアルキル基を表
す時、その置換基としてはハロゲン原子、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、ヒドロキシ基、スルホンアミド基、アミノ基、アシ
ルアミノ基、カルボキシ基が特に好ましい。
Among the groups represented by R 10 , preferred are a hydrogen atom, an alkyl group and an alkenyl group when R 20 represents a phenyl group or an aromatic heterocyclic group and G 1 is a —CO— group. , An alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and most preferably a hydrogen atom or an alkyl group. When R 10 represents an alkyl group, the substituent is preferably a halogen atom, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a hydroxy group, a sulfonamide group, an amino group, an acylamino group, or a carboxy group. .

【0211】R20が置換メチル基を表し、かつG1が−
CO−基の場合には、R10は好ましくは水素原子、アル
キル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アミ
ノ基(無置換アミノ基、アルキルアミノ基、アリールア
ミノ基、ヘテロ環アミノ基)であり、さらに好ましくは
水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アル
コキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテ
ロ環アミノ基である。G 1が−COCO−基の場合に
は、R20に関わらず、R10はアルコキシ基、アリールオ
キシ基、アミノ基が好ましく、特に置換アミノ基、詳し
くはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、または飽和
もしくは不飽和のヘテロ環アミノ基が好ましい。
R20Represents a substituted methyl group, and G1But-
In the case of a CO- group, RTenIs preferably a hydrogen atom,
Kill group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group,
Group (unsubstituted amino group, alkylamino group, aryl group
Amino group, heterocyclic amino group), more preferably
Hydrogen atom, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, al
Coxy group, alkylamino group, arylamino group, hete
It is a ro-ring amino group. G 1Is a -COCO- group
Is R20Regardless of RTenIs an alkoxy group, arylo
Xyl groups and amino groups are preferred, particularly substituted amino groups.
Or alkylamino, arylamino, or saturated
Alternatively, an unsaturated heterocyclic amino group is preferable.

【0212】またG1が−SO2 −基の場合には、R20
に関わらず、R10はアルキル基、アリール基または置換
アミノ基が好ましい。
When G 1 is a —SO 2 — group, R 20
Regardless, R 10 is preferably an alkyl group, an aryl group or a substituted amino group.

【0213】式(H)においてG1は好ましくは−CO
−基または−COCO−基であり、特に好ましくは−C
O−基である。
In the formula (H), G 1 is preferably -CO
Or a -COCO- group, particularly preferably -C
O- group.

【0214】式(H)においてA1、A2は水素原子、炭
素数20以下のアルキルまたはアリールスルホニル基
(好ましくはフェニルスルホニル基、またはハメットの
置換基定数の和が−0.5以上となるように置換された
フェニルスルホニル基)、炭素数20以下のアシル基
(好ましくはベンゾイル基、またはハメットの置換基定
数の和が−0.5以上となるように置換されたベンゾイ
ル基、あるいは直鎖、分岐、もしくは環状の置換または
無置換の脂肪族アシル基である。A1、A2としては水素
原子が最も好ましい。
In the formula (H), A 1 and A 2 represent a hydrogen atom, an alkyl or arylsulfonyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a phenylsulfonyl group or a sum of substituent constants of Hammett is -0.5 or more) Phenylsulfonyl group), an acyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a benzoyl group, or a benzoyl group substituted so that the sum of Hammett's substituent constants becomes -0.5 or more, or a linear group. , A branched or cyclic, substituted or unsubstituted aliphatic acyl group, and A 1 and A 2 are most preferably hydrogen atoms.

【0215】式(H)においてm1は1または0を表す
が、m1が0の時、R10は脂肪族基、芳香族基、または
ヘテロ環基を表す。m1が0の時、R10は特に好ましく
はフェニル基、炭素数1〜3の置換アルキル基、または
アルケニル基であり、これらのうちフェニル基および炭
素数1〜3の置換アルキル基については、その好ましい
範囲は先に説明したR20の好ましい範囲と同じである。
10がアルケニル基の時、好ましくはR10はビニル基で
あり、以下の置換基、即ち、シアノ基、アシル基、アル
コキシカルボニル基、ニトロ基、トリフルオロメチル
基、カルバモイル基等から選ばれる置換基を、1つない
しは2つ有するビニル基が特に好ましい。具体的には、
2,2−ジシアノビニル基、2−シアノ−2−メトキシ
カルボニルビニル基、2−シアノ−2−エトキシカルボ
ニルビニル基、2−アセチル−2−エトキシカルボニル
ビニル基等が挙げられる。m1は好ましくは1である。
In the formula (H), m 1 represents 1 or 0. When m 1 is 0, R 10 represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group. When m 1 is 0, R 10 is particularly preferably a phenyl group, a substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or an alkenyl group. Of these, for the phenyl group and the substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, its preferred range is the same as the preferable ranges of R 20 as described above.
When R 10 is an alkenyl group, preferably R 10 is a vinyl group, and is a substituent selected from the following substituents: a cyano group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a nitro group, a trifluoromethyl group, a carbamoyl group and the like. Vinyl groups having one or two groups are particularly preferred. In particular,
Examples thereof include a 2,2-dicyanovinyl group, a 2-cyano-2-methoxycarbonylvinyl group, a 2-cyano-2-ethoxycarbonylvinyl group, and a 2-acetyl-2-ethoxycarbonylvinyl group. m 1 is preferably 1.

【0216】式(H)においてR10はG1−R10の部分
を残余分子から分裂させ、−G1−R 10部分の原子を含
む環式構造を生成させる環化反応を生起するようなもの
であってもよく、また式(H)で表されるヒドラジン誘
導体には、ハロゲン化銀に対して吸着する吸着性の基が
組み込まれていてもよい。式(H)のR10またはR20
はその中に、カプラ−等の不動性写真用添加剤において
常用されているバラスト基またはポリマ−が組み込まれ
ているものでもよく、また式(H)のR10またはR
20は、置換基としてヒドラジノ基を複数個含んでいても
よく、この時式(H)で表される化合物は、ヒドラジノ
基に関しての多量体を表す。さらに式(H)のR10また
はR20は、その中にカチオン性基(具体的には、4級の
アンモニオ基を含む基、または4級化された窒素原子を
含む含窒素ヘテロ環基等)、エチレンオキシ基もしくは
プロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む基、(アルキ
ル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、あるいは塩基
により解離しうる解離性基(カルボキシ基、スルホ基、
アシルスルファモイル基、カルバモイルスルファモイル
基等)が含まれていてもよい。これらの例としては、例
えば特開昭63−29751号、米国特許第4,38
5,108号、同4,459,347号、特開昭59−
195233号、同59−200231号、同59−2
01045号、同59−201046号、同59−20
1047号、同59−201048号、同59−201
049号、特開昭61−170733号、同61−27
0744号、同62−948号、同63−234244
号、同63−234245号、同63−234246
号、特開平2−285344号、特開平1−10053
0号、特開昭64−86134号、特開平4−16938号、特開平5
−197091号、WO95−32452号、WO95−32
453号、特開平9-235264号、特開平9-235265号、特開
平9-235266号、特開平9-235267号、特開平9-179229号、
特開平7−234471号、特開平5−333466
号、特開平6−19032号、特開平6−19031
号、特開平5−45761号、米国特許4994365
号、米国特許4988604号、特開平73−2592
40号、特開平7−5610号、特開平7−24434
8号、独国特許4006032号等に記載の化合物が挙
げられる。
In the formula (H), RTenIs G1-RTenPart of
From the residual molecule, and -G1-R TenIncluding partial atoms
That cause a cyclization reaction that produces a cyclic structure
And a hydrazine derivative represented by the formula (H).
The conductor has an adsorptive group that adsorbs to silver halide.
It may be incorporated. R of formula (H)TenOr R20To
Is used in immobile photographic additives such as couplers.
Incorporates commonly used ballast groups or polymers
And R in formula (H)TenOr R
20May have a plurality of hydrazino groups as substituents.
Often, the compound represented by the formula (H) is hydrazino
Represents a multimer for the group. Further, R of the formula (H)TenAlso
Is R20Has a cationic group (specifically, a quaternary
A group containing an ammonium group or a quaternized nitrogen atom
Including nitrogen-containing heterocyclic group), ethyleneoxy group or
Groups containing repeating units of a propyleneoxy group, (alkyl
, Aryl, or heterocycle) thio group or base
Dissociable groups (carboxy group, sulfo group,
Acylsulfamoyl group, carbamoylsulfamoyl
And the like) may be contained. These examples include
For example, JP-A-63-29751, U.S. Pat.
Nos. 5,108 and 4,459,347;
Nos. 195233, 59-200231 and 59-2
No. 01045, No. 59-201046, No. 59-20
No. 1047, No. 59-201048, No. 59-201
No. 049, JP-A-61-170733 and 61-27.
Nos. 0744, 62-948 and 63-234244
No. 63-234245, No. 63-234246
JP-A-2-285344, JP-A-1-005305
No. 0, JP-A-64-86134, JP-A-4-16938, JP-A-5
-199701, WO95-32452, WO95-32
No. 453, JP-A-9-235264, JP-A-9-235265, JP
Hei 9-235266, JP Hei 9-235267, JP Hei 9-179229,
JP-A-7-234471, JP-A-5-333466
JP-A-6-19032, JP-A-6-19031
JP-A-5-45761, U.S. Pat. No. 4,994,365.
No. 4,988,604, JP-A-73-2592.
No. 40, JP-A-7-5610, JP-A-7-24434
No. 8, German Patent 4006032 and the like.
I can do it.

【0217】次に式(H)で示される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は以下の化合物に限定され
るものではない。
Next, specific examples of the compound represented by the formula (H) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0218】[0218]

【表1】 [Table 1]

【0219】[0219]

【表2】 [Table 2]

【0220】[0220]

【表3】 [Table 3]

【0221】[0221]

【表4】 [Table 4]

【0222】本発明に用いられるヒドラジン誘導体は2
種以上を併用しても良い。また上記のものの他に、下記
のヒドラジン誘導体も用いることができる。(場合によ
っては組み合わせて用いることもできる。)本発明に用
いられるヒドラジン誘導体はまた、下記の特許に記載さ
れた種々の方法により、合成することができる。
The hydrazine derivative used in the present invention is 2
More than one species may be used in combination. In addition to the above, the following hydrazine derivatives can also be used. (In some cases, they can be used in combination.) The hydrazine derivative used in the present invention can also be synthesized by various methods described in the following patents.

【0223】即ち、特開平10−10672号、特開平
10−161270号、特開平10−62898号、特
開平9−304870号、特開平9−304872号、
特開平9−304871号、特開平10−31282
号、米国特許5496695号、欧州特許741320
A号に記載のすべてのヒドラジン誘導体。
That is, JP-A-10-10672, JP-A-10-161270, JP-A-10-62898, JP-A-9-304870, JP-A-9-304872,
JP-A-9-304871, JP-A-10-31282
No. 5,496,695, European Patent 714320
All the hydrazine derivatives described in A.

【0224】ヒドラジン誘導体は、水または適当な有機
溶媒、例えばアルコ−ル類(メタノ−ル、エタノ−ル、
プロパノ−ル、フッ素化アルコ−ル)、ケトン類(アセ
トン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解し
て用いることができる。
The hydrazine derivative can be prepared by using water or a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol,
Propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide,
It can be used by dissolving it in dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve or the like.

【0225】また、既によく知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレ−ト、トリクレジルフォスフェ
−ト、グリセリルトリアセテ−トあるいはジエチルフタ
レ−トなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンな
どの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作
製して用いることができる。あるいは固体分散法として
知られている方法によって、ヒドラジン誘導体の粉末を
水等の適当な溶媒中にボ−ルミル、コロイドミル、ある
いは超音波によって分散し用いることができる。
Further, oils such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and co-solvents such as ethyl acetate and cyclohexanone are prepared by the well-known emulsification dispersion method. And then mechanically produce and use an emulsified dispersion. Alternatively, the hydrazine derivative powder can be dispersed in a suitable solvent such as water using a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves by a method known as a solid dispersion method and used.

【0226】ヒドラジン誘導体は、支持体に対して画像
形成層側の層、即ち画像形成層あるいはこの層側の他の
どの層に添加してもよいが、画像形成層あるいはそれに
隣接する層に添加することが好まい。
The hydrazine derivative may be added to the layer on the image forming layer side with respect to the support, that is, to the image forming layer or any other layer on the layer side, but may be added to the image forming layer or a layer adjacent thereto. I prefer to.

【0227】ヒドラジン誘導体の添加量は銀1モルに対
し1×10-6〜1モルが好ましく、1×10-5〜5×1
-1モルがより好ましく、2×10-5〜2×10-1モル
が最も好ましい。
The amount of the hydrazine derivative to be added is preferably 1 × 10 −6 to 1 mol per 1 mol of silver, and 1 × 10 −5 to 5 × 1.
0 -1 mol is more preferred, and 2 × 10 -5 to 2 × 10 -1 mol is most preferred.

【0228】また、本発明は超硬調画像形成のために、
前記の造核剤とともに硬調化促進剤を併用することがで
きる。例えば、米国特許第5,545,505号に記載のアミン
化合物、具体的にはAM-1〜AM-5、同5,545,507号に
記載のヒドロキサム酸類、具体的にはHA-1〜HA-1
1、同5,545,507号に記載のアクリロニトリル類、具体的
にはCN-1〜CN-13、同5,558,983号に記載のヒドラジ
ン化合物、具体的にはCA-1〜CA-6、特願平8-132836
号に記載のオニュ−ム塩類、具体的にはA-1〜A-42、
B-1〜B-27、C-1〜C-14などを用いることができる。
Further, the present invention provides a method for forming a super-high contrast image.
A high contrast accelerator can be used in combination with the nucleating agent. For example, amine compounds described in U.S. Pat. No. 5,545,505, specifically, AM-1 to AM-5, and hydroxamic acids described in 5,545,507, specifically, HA-1 to HA-1
1, acrylonitriles described in 5,545,507, specifically CN-1 to CN-13, hydrazine compounds described in 5,558,983, specifically CA-1 to CA-6, Japanese Patent Application No. 8-132836
Salt, specifically A-1 to A-42,
B-1 to B-27, C-1 to C-14 and the like can be used.

【0229】これらの硬調化促進剤の合成方法、添加方
法、添加量等は、それぞれの前記引用特許に記載されて
いるように行うことができる。
The synthesis method, addition method, addition amount, etc. of these high contrast enhancement agents can be carried out as described in each of the cited patents.

【0230】本発明には五酸化二リンが水和してできる
酸またはその塩を造核剤と併用して用いることが好まし
い。五酸化二リンが水和してできる酸またはその塩とし
ては、メタリン酸(塩)、ピロリン酸(塩)、オルトリ
ン酸(塩)、三リン酸(塩)、四リン酸(塩)、ヘキサ
メタリン酸(塩)などである。特に好ましく用いられる
五酸化二リンが水和してできる酸またはその塩としては
オルトリン酸(塩)、ヘキサメタリン酸(塩)であり、
具体的な塩としてはオルトリン酸ナトリウム、オルトリ
ン酸二水素ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、
ヘキサメタリン酸アンモニウムなどがある。
In the present invention, it is preferable to use an acid formed by hydration of diphosphorus pentoxide or a salt thereof in combination with a nucleating agent. Acids or salts thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide include metaphosphoric acid (salt), pyrophosphoric acid (salt), orthophosphoric acid (salt), triphosphoric acid (salt), tetraphosphoric acid (salt), hexametaline Acids (salts); Particularly preferred acids or salts thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide include orthophosphoric acid (salt) and hexametaphosphoric acid (salt),
Specific salts include sodium orthophosphate, sodium dihydrogen orthophosphate, sodium hexametaphosphate,
Examples include ammonium hexametaphosphate.

【0231】本発明に好ましく用いることができる五酸
化二リンが水和してできる酸またはその塩は、少量で所
望の効果を発現するという点から画像形成層あるいはそ
れに隣接するバインダー層に添加する。
The acid or salt thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide, which can be preferably used in the present invention, is added to the image forming layer or the binder layer adjacent thereto from the viewpoint that the desired effect is exhibited in a small amount. .

【0232】本発明に用いる五酸化二リンが水和してで
きる酸またはその塩の使用量(感光材料1m2当たりの塗
布量)としては感度やカブリなどの性能に合わせて所望
の量でよいが、0.1〜500mg/m2が好ましく、0.5〜100
mg/m2がより好ましい。
The amount of the acid or salt thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide used in the present invention (the amount of coating per m 2 of the light-sensitive material) may be a desired amount in accordance with the performance such as sensitivity and fog. However, 0.1 to 500 mg / m 2 is preferable, and 0.5 to 100
mg / m 2 is more preferred.

【0233】本発明の熱現像感光材料には有機銀塩のた
めの還元剤を含むことが好ましい。有機銀塩のための還
元剤は、銀イオンを金属銀に還元する任意の物質、好ま
しくは有機物質であってよい。フェニドン、ハイドロキ
ノンおよびカテコールなどの従来の写真現像剤は有用で
あるが、ヒンダードフェノール還元剤が好ましい。還元
剤は、画像形成層を有する面の銀1モルに対して5〜50モ
ル%含まれることが好ましく、10〜40モル%で含まれるこ
とがさらに好ましい。還元剤の添加層は画像形成層を有
する面のいかなる層でも良い。画像形成層以外の層に添
加する場合は銀1モルに対して10〜50モル%と多めに使用
することが好ましい。また、還元剤は現像時のみ有効に
機能を持つように誘導化されたいわゆるプレカーサーで
あってもよい。
The photothermographic material of the present invention preferably contains a reducing agent for an organic silver salt. The reducing agent for the organic silver salt may be any substance that reduces silver ions to metallic silver, preferably an organic substance. Conventional photographic developers such as phenidone, hydroquinone and catechol are useful, but hindered phenol reducing agents are preferred. The reducing agent is preferably contained in an amount of 5 to 50 mol%, more preferably 10 to 40 mol%, per 1 mol of silver on the surface having the image forming layer. The layer to which the reducing agent is added may be any layer on the side having the image forming layer. When it is added to a layer other than the image forming layer, it is preferable to use a relatively large amount of 10 to 50 mol% with respect to 1 mol of silver. Further, the reducing agent may be a so-called precursor which is derivatized so as to have a function effectively only during development.

【0234】有機銀塩を利用した熱現像感光材料におい
ては広範囲の還元剤が特開昭46-6074号、同47-1238号、
同47-33621号、同49-46427号、同49-115540号、同50-14
334号、同50-36110号、同50-147711号、同51-32632号、
同51-1023721号、同51-32324号、同51-51933号、同52-8
4727号、同55-108654号、同56-146133号、同57-82828
号、同57-82829号、特開平6-3793号、米国特許3,679,42
6号、同3,751,252号、同3,751,255号、同3,761,270号、
同3,782,949号、同3,839,048号、同3,928,686号、同5,4
64,738号、独国特許2321328号、欧州特許692732号など
に開示されている。例えば、フェニルアミドオキシム、
2-チエニルアミドオキシムおよびp-フェノキシフェニル
アミドオキシムなどのアミドオキシム;例えば4-ヒドロ
キシ-3,5-ジメトキシベンズアルデヒドアジンなどのア
ジン;2,2'-ビス(ヒドロキシメチル)プロピオニル-β-
フェニルヒドラジンとアスコルビン酸との組合せのよう
な脂肪族カルボン酸アリールヒドラジドとアスコルビン
酸との組合せ;ポリヒドロキシベンゼンと、ヒドロキシ
ルアミン、レダクトンおよび/またはヒドラジンの組合
せ(例えばハイドロキノンと、ビス(エトキシエチル)ヒ
ドロキシルアミン、ピペリジノヘキソースレダクトンま
たはホルミル-4-メチルフェニルヒドラジンの組合せな
ど);フェニルヒドロキサム酸、p-ヒドロキシフェニル
ヒドロキサム酸およびβ-アリニンヒドロキサム酸など
のヒドロキサム酸;アジンとスルホンアミドフェノール
との組合せ(例えば、フェノチアジンと2,6-ジクロロ-4-
ベンゼンスルホンアミドフェノールなど);エチル-α-
シアノ-2-メチルフェニルアセテート、エチル-α-シア
ノフェニルアセテートなどのα-シアノフェニル酢酸誘
導体;2,2'-ジヒドロキシ-1,1'-ビナフチル、6,6'-ジブ
ロモ-2,2'-ジヒドロキシ-1,1'-ビナフチルおよびビス(2
-ヒドロキシ-1-ナフチル)メタンに例示されるようなビ
ス-β-ナフトール;ビス-β-ナフトールと1,3-ジヒドロ
キシベンゼン誘導体(例えば、2,4-ジヒドロキシベンゾ
フェノンまたは2',4'-ジヒドロキシアセトフェノンな
ど)の組合せ;3-メチル-1-フェニル-5-ピラゾロンなど
の、5-ピラゾロン;ジメチルアミノヘキソースレダクト
ン、アンヒドロジヒドロアミノヘキソースレダクトンお
よびアンヒドロジヒドロピペリドンヘキソースレダクト
ンに例示されるようなレダクトン;2,6-ジクロロ-4-ベ
ンゼンスルホンアミドフェノールおよびp-ベンゼンスル
ホンアミドフェノールなどのスルホンアミドフェノール
還元剤;2-フェニルインダン-1,3-ジオンなど; 2,2-ジ
メチル-7-t-ブチル-6-ヒドロキシクロマンなどのクロマ
ン;2,6-ジメトキシ-3,5-ジカルボエトキシ-1,4-ジヒド
ロピリジンなどの1,4-ジヒドロピリジン;ビスフェノー
ル(例えば、ビス(2-ヒドロキシ-3-t-ブチル-5-メチルフ
ェニル)メタン、2,2-ビス(4-ヒドロキシ-3-メチルフェ
ニル)プロパン、4,4-エチリデン-ビス(2-t-ブチル-6-メ
チルフェノール) 、1,1,-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメ
チルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサンおよび2,2-ビ
ス(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパンな
ど);アスコルビン酸誘導体(例えば、パルミチン酸1-ア
スコルビル、ステアリン酸アスコルビルなど);ならび
にベンジルおよびビアセチルなどのアルデヒドおよびケ
トン;3-ピラゾリドンおよびある種のインダン-1,3-ジ
オン;クロマノール(トコフェロールなど)などがある。
特に好ましい還元剤としては、ビスフェノール、クロマ
ノールである。
In photothermographic materials using organic silver salts, a wide range of reducing agents are disclosed in JP-A-46-6074 and JP-A-47-1238.
47-33621, 49-46427, 49-115540, 50-14
No. 334, No. 50-36110, No. 50-147711, No. 51-32632,
No. 51-1023721, No. 51-32324, No. 51-51933, No. 52-8
4727, 55-108654, 56-146133, 57-82828
No. 57-82829, JP-A-6-3793, U.S. Pat.
No. 6, 3,751,252, 3,751,255, 3,761,270,
3,782,949, 3,839,048, 3,928,686, 5,4
64,738, German Patent 2321328, European Patent 692732 and the like. For example, phenylamide oxime,
Amidoximes such as 2-thienylamidooxime and p-phenoxyphenylamidooxime; azines such as 4-hydroxy-3,5-dimethoxybenzaldehyde azine; 2,2′-bis (hydroxymethyl) propionyl-β-
A combination of an aliphatic carboxylic acid aryl hydrazide such as a combination of phenylhydrazine and ascorbic acid with ascorbic acid; a combination of polyhydroxybenzene with hydroxylamine, reductone and / or hydrazine (eg, hydroquinone and bis (ethoxyethyl) hydroxyl Amines, piperidinohexose reductone or a combination of formyl-4-methylphenylhydrazine); hydroxamic acids such as phenylhydroxamic acid, p-hydroxyphenylhydroxamic acid and β-alinine hydroxamic acid; azine and sulfonamide phenol (E.g., phenothiazine and 2,6-dichloro-4-
Benzenesulfonamidophenol); ethyl-α-
Α-cyanophenylacetic acid derivatives such as cyano-2-methylphenylacetate and ethyl-α-cyanophenylacetate; 2,2′-dihydroxy-1,1′-binaphthyl, 6,6′-dibromo-2,2′- Dihydroxy-1,1'-binaphthyl and bis (2
Bis-β-naphthol as exemplified by -hydroxy-1-naphthyl) methane; bis-β-naphthol and 1,3-dihydroxybenzene derivatives (eg, 2,4-dihydroxybenzophenone or 2 ′, 4′-dihydroxy Acetophenone); 5-pyrazolone, such as 3-methyl-1-phenyl-5-pyrazolone; dimethylaminohexose reductone, anhydrodihydroaminohexose reductone and anhydrodihydropiperidone hexose reductone. Reductones as exemplified; sulfonamide phenol reducing agents such as 2,6-dichloro-4-benzenesulfonamidophenol and p-benzenesulfonamidophenol; 2-phenylindane-1,3-dione and the like; 2,2- Chromanes such as dimethyl-7-t-butyl-6-hydroxychroman; 2,6-dimethoxy-3,5-dicarboethoxy-1,4-dihydrogen 1,4-dihydropyridines such as lopyridine; bisphenols (eg, bis (2-hydroxy-3-t-butyl-5-methylphenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 4 , 4-Ethylidene-bis (2-t-butyl-6-methylphenol), 1,1, -bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane and 2,2 -Bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) propane, etc.); ascorbic acid derivatives (eg, 1-ascorbyl palmitate, ascorbyl stearate, etc.); and aldehydes and ketones such as benzyl and biacetyl; 3-pyrazolidone and Certain indane-1,3-diones; chromanol (such as tocopherol).
Particularly preferred reducing agents are bisphenol and chromanol.

【0235】本発明の還元剤は、溶液、粉末、固体微粒
子分散物などいかなる方法で添加してもよい。固体微粒
子分散は公知の微細化手段(例えば、ボールミル、振動
ボールミル、サンドミル、コロイドミル、ジェットミ
ル、ローラーミルなど)で行われる。また、固体微粒子
分散する際に分散助剤を用いてもよい。
The reducing agent of the present invention may be added by any method such as a solution, a powder, and a dispersion of solid fine particles. The dispersion of the solid fine particles is carried out by a known means for making fine (for example, a ball mill, a vibration ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill, a roller mill, etc.). When dispersing the solid fine particles, a dispersing aid may be used.

【0236】画像を向上させる「色調剤」として知られ
る添加剤を含むと光学濃度が高くなることがある。ま
た、色調剤は黒色銀画像を形成させる上でも有利になる
ことがある。色調剤は画像形成層を有する面に銀1モル
当たりの0.1〜50%(モル)の量含まれることが好ましく、
0.5〜20%(モル)含まれることがさらに好ましい。また、
色調剤は現像時のみ有効に機能を持つように誘導化され
たいわゆるプレカーサーであってもよい。
When an additive known as a “toning agent” for improving an image is contained, the optical density may be increased. Toning agents may also be advantageous in forming black silver images. The toning agent is preferably contained in an amount of 0.1 to 50% (mol) per mol of silver on the surface having the image forming layer,
More preferably, the content is 0.5 to 20% (mole). Also,
The toning agent may be a so-called precursor that is derivatized so as to have a function effectively only during development.

【0237】有機銀塩を利用した熱現像感光材料におい
ては広範囲の色調剤が特開昭46-6077号、同47-10282
号、同49-5019号、同49-5020号、同49-91215号、同49-9
1215号、同50-2524号、同50-32927号、同50-67132号、
同50-67641号、同50-114217号、同51-3223号、同51-279
23号、同52-14788号、同52-99813号、同53-1020号、同5
3-76020号、同54-156524号、同54-156525号、同61-1836
42号、特開平4-56848号、特公昭49-10727号、同54-2033
3号、米国特許3,080,254号、同3,446,648号、同3,782,9
41号、同4,123,282号、同4,510,236号、英国特許138079
5号、ベルギー特許841910号などに開示されている。色
調剤の例は、フタルイミドおよびN-ヒドロキシフタルイ
ミド;スクシンイミド、ピラゾリン-5-オン、ならびに
キナゾリノン、3-フェニル-2-ピラゾリン-5-オン、1-フ
ェニルウラゾール、キナゾリンおよび2,4-チアゾリジン
ジオンのような環状イミド;ナフタルイミド(例えば、N
-ヒドロキシ-1,8-ナフタルイミド);コバルト錯体(例え
ば、コバルトヘキサミントリフルオロアセテート);3-
メルカプト-1,2,4-トリアゾール、2,4-ジメルカプトピ
リミジン、3-メルカプト-4,5--ジフェニル-1,2,4-トリ
アゾールおよび2,5-ジメルカプト-1,3,4-チアジアゾー
ルに例示されるメルカプタン;N-(アミノメチル)アリー
ルジカルボキシイミド、(例えば、(N,N-ジメチルアミノ
メチル)フタルイミドおよびN,N-(ジメチルアミノメチ
ル)-ナフタレン-2,3-ジカルボキシイミド);ならびにブ
ロック化ピラゾール、イソチウロニウム誘導体およびあ
る種の光退色剤(例えば、N,N'-ヘキサメチレンビス(1-
カルバモイル-3,5-ジメチルピラゾール)、1,8-(3,6-ジ
アザオクタン)ビス(イソチウロニウムトリフルオロアセ
テート)および2-トリブロモメチルスルホニル)-(ベンゾ
チアゾール));ならびに3-エチル-5[(3-エチル-2-ベン
ゾチアゾリニリデン)-1-メチルエチリデン]-2-チオ-2,4
-オキサゾリジンジオン;フタラジノン、フタラジノン
誘導体もしくは金属塩、または4-(1-ナフチル)フタラジ
ノン、6-クロロフタラジノン、5,7-ジメトキシフタラジ
ノンおよび2,3-ジヒドロ-1,4-フタラジンジオンなどの
誘導体;フタラジノンとフタル酸誘導体(例えば、フタ
ル酸、4-メチルフタル酸、4-ニトロフタル酸およびテト
ラクロロ無水フタル酸など)との組合せ;フタラジン、
フタラジン誘導体(例えば、4-(1-ナフチル)フタラジ
ン、6-クロロフタラジン、5,7-ジメトキシフタラジン、
6-iso-プロピルフタラジン、6-iso-ブチルフタラジン、
6-tert-ブチルフタラジン、5,7-ジメチルフタラジン、
および2,3-ジヒドロフタラジンなどの誘導体)もしくは
金属塩、;フタラジンおよびその誘導体とフタル酸誘導
体(例えば、フタル酸、4-メチルフタル酸、4-ニトロフ
タル酸およびテトラクロロ無水フタル酸など)との組合
せ;キナゾリンジオン、ベンズオキサジンまたはナフト
オキサジン誘導体;色調調節剤としてだけでなくその場
でハロゲン化銀生成のためのハライドイオンの源として
も機能するロジウム錯体、例えばヘキサクロロロジウム
(III)酸アンモニウム、臭化ロジウム、硝酸ロジウムお
よびヘキサクロロロジウム(III)酸カリウムなど;無機
過酸化物および過硫酸塩、例えば、過酸化二硫化アンモ
ニウムおよび過酸化水素;1,3-ベンズオキサジン-2,4-
ジオン、8-メチル-1,3-ベンズオキサジン-2,4-ジオン
および6-ニトロ-1,3-ベンズオキサジン-2,4-ジオンなど
のベンズオキサジン-2,4-ジオン;ピリミジンおよび不
斉-トリアジン(例えば、2,4-ジヒドロキシピリミジン、
2-ヒドロキシ-4-アミノピリミジンなど)、アザウラシ
ル、およびテトラアザペンタレン誘導体(例えば、3,6-
ジメルカプト-1,4-ジフェニル-1H,4H-2,3a,5,6a-テトラ
アザペンタレン、および1,4-ジ(o-クロロフェニル)-3,6
-ジメルカプト-1H,4H-2,3a,5,6a-テトラアザペンタレ
ン)などがある。
In a photothermographic material utilizing an organic silver salt, a wide range of color toning agents are disclosed in JP-A-46-6077 and JP-A-47-10282.
Nos. 49-5019, 49-5020, 49-91215, 49-9
No. 1215, No. 50-2524, No. 50-32927, No. 50-67132,
No. 50-67641, No. 50-114217, No. 51-3223, No. 51-279
No. 23, No. 52-14788, No. 52-99813, No. 53-1020, No. 5
3-76020, 54-156524, 54-156525, 61-1836
No. 42, JP-A-4-56848, JP-B-49-10727, 54-2033
No. 3, U.S. Pat.Nos. 3,080,254, 3,446,648, 3,782,9
No. 41, No. 4,123,282, No. 4,510,236, British Patent 138079
No. 5, Belgian Patent No. 841910 and the like. Examples of toning agents are phthalimide and N-hydroxyphthalimide; succinimide, pyrazolin-5-one, and quinazolinone, 3-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-phenylurazole, quinazoline and 2,4-thiazolidinedione Cyclic imides such as; naphthalimides (eg, N
-Hydroxy-1,8-naphthalimide); cobalt complexes (eg, cobalt hexamine trifluoroacetate); 3-
Mercapto-1,2,4-triazole, 2,4-dimercaptopyrimidine, 3-mercapto-4,5-diphenyl-1,2,4-triazole and 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole N- (aminomethyl) aryldicarboximides, such as (N, N-dimethylaminomethyl) phthalimide and N, N- (dimethylaminomethyl) -naphthalene-2,3-dicarboximide ); And blocked pyrazoles, isothiuronium derivatives and certain photobleaching agents (eg, N, N'-hexamethylenebis (1-
Carbamoyl-3,5-dimethylpyrazole), 1,8- (3,6-diazaoctane) bis (isothiuronium trifluoroacetate) and 2-tribromomethylsulfonyl)-(benzothiazole)); and 3-ethyl- 5 [(3-ethyl-2-benzothiazolinylidene) -1-methylethylidene] -2-thio-2,4
-Oxazolidinedione; phthalazinone, phthalazinone derivative or metal salt, or 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethoxyphthalazinone and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione A combination of phthalazinone and a phthalic acid derivative (eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride, etc.); phthalazine,
Phthalazine derivatives (e.g., 4- (1-naphthyl) phthalazine, 6-chlorophthalazine, 5,7-dimethoxyphthalazine,
6-iso-propylphthalazine, 6-iso-butylphthalazine,
6-tert-butylphthalazine, 5,7-dimethylphthalazine,
And metal salts; and phthalazine and its derivatives with phthalic acid derivatives (eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride). Combinations; quinazolinedione, benzoxazine or naphthoxazine derivatives; rhodium complexes, such as hexachlororhodium, which function not only as color-toning agents but also in-situ as sources of halide ions for silver halide formation
(III) ammonium, rhodium bromide, rhodium nitrate and potassium hexachlororhodate (III) and the like; inorganic peroxides and persulfates, such as ammonium disulfide and hydrogen peroxide; 1,3-benzoxazine- 2,4-
Benzoxazine-2,4-diones such as dione, 8-methyl-1,3-benzoxazine-2,4-dione and 6-nitro-1,3-benzoxazine-2,4-dione; pyrimidine and asymmetric -Triazines (e.g., 2,4-dihydroxypyrimidine,
2-hydroxy-4-aminopyrimidine, etc.), azauracil, and tetraazapentalene derivatives (e.g., 3,6-
Dimercapto-1,4-diphenyl-1H, 4H-2,3a, 5,6a-tetraazapentalene, and 1,4-di (o-chlorophenyl) -3,6
-Dimercapto-1H, 4H-2,3a, 5,6a-tetraazapentalene).

【0238】本発明の色調剤は、溶液、粉末、固体微粒
子分散物などいかなる方法で添加してもよい。固体微粒
子分散は公知の微細化手段(例えば、ボールミル、振動
ボールミル、サンドミル、コロイドミル、ジェットミ
ル、ローラーミルなど)で行われる。また、固体微粒子
分散する際に分散助剤を用いてもよい。
The color tone agent of the present invention may be added by any method such as a solution, a powder, and a solid fine particle dispersion. The dispersion of the solid fine particles is carried out by a known means for making fine (for example, a ball mill, a vibration ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill, a roller mill, etc.). When dispersing the solid fine particles, a dispersing aid may be used.

【0239】本発明の熱現像感光材料の熱現像処理前の
膜面pHは6.0以下であることが好ましく、さらに好
ましくは5.5以下である。その下限には特に制限はな
いが、3程度である。
The surface pH of the photothermographic material of the present invention before the heat development processing is preferably 6.0 or less, more preferably 5.5 or less. The lower limit is not particularly limited, but is about 3.

【0240】膜面pHの調節はフタル酸誘導体などの有
機酸や硫酸などの不揮発性の酸、アンモニアなどの揮発
性の塩基を用いることが、膜面pHを低減させるという
観点から好ましい。特にアンモニアは揮発しやすく、塗
布する工程や熱現像される前に除去できることから低膜
面pHを達成する上で好ましい。
For adjusting the film surface pH, it is preferable to use an organic acid such as a phthalic acid derivative, a nonvolatile acid such as sulfuric acid, or a volatile base such as ammonia from the viewpoint of reducing the film surface pH. In particular, ammonia is preferable for achieving a low film surface pH since ammonia is easily volatilized and can be removed before the application step and the heat development.

【0241】なお、本発明の熱現像感光材料の膜面pH
を測定する場合には、熱現像処理前の熱現像感光材料
2.5cm×2.5cmを舟形に折り、その画像形成層
側に300μlの蒸留水を滴下し、30分静置した後
に、その滴下液をpH BOY−P2(新電元工業株式
会社製、半導体方式のpH計)にて1分間測定すること
が好ましい。
The film surface pH of the photothermographic material of the present invention
When measuring the photothermographic material 2.5 mm × 2.5 cm before the heat development processing, the film was folded into a boat shape, 300 μl of distilled water was dropped on the image forming layer side, and the solution was allowed to stand for 30 minutes. It is preferable to measure the dropped solution for 1 minute with a pH BOY-P2 (a semiconductor type pH meter manufactured by Shindengen Kogyo Co., Ltd.).

【0242】本発明のバインダーとしては以下に述べる
ポリマーラテックスを用いることが好ましい。
As the binder of the present invention, the following polymer latex is preferably used.

【0243】本発明の熱現像感光材料の感光性ハロゲン
化銀を含有する画像形成層のうち少なくとも1層は以下
に述べるポリマーラテックスを全バインダーの50重量%
以上として用いた画像形成層であることが好ましい。
(以降この画像形成層を「本発明の画像形成層」、バイ
ンダーに用いるポリマーラテックスを「本発明のポリマ
ーラテックス」と表す。)また、ポリマーラテックスは
画像形成層だけではなく、保護層やバック層に用いても
よく、特に寸法変化が問題となる印刷用途に本発明の熱
現像感光材料を用いる場合には、保護層やバック層にも
ポリマーラテックスを用いることが好ましい。ただしこ
こで言う「ポリマーラテックス」とは水不溶な疎水性ポ
リマーが微細な粒子として水溶性の分散媒中に分散した
ものである。分散状態としてはポリマーが分散媒中に乳
化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル分散さ
れたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親水的な
構造を持ち分子鎖自身が分子状分散したものなどいずれ
でもよい。なお本発明のポリマーラテックスについては
「合成樹脂エマルジョン(奥田平、稲垣寛編集、高分子
刊行会発行(1978))」、「合成ラテックスの応用(杉村孝
明、片岡靖男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会
発行(1993))」、「合成ラテックスの化学(室井宗一著、
高分子刊行会発行(1970))」などに記載されている。分
散粒子の平均粒径は1〜50000nm、より好ましくは5〜100
0nm程度の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分布に関し
ては特に制限は無く、広い粒径分布を持つものでも単分
散の粒径分布を持つものでもよい。
In the photothermographic material of the present invention, at least one of the image forming layers containing the photosensitive silver halide contains the polymer latex described below at 50% by weight of the total binder.
The image forming layer used as described above is preferable.
(Hereinafter, this image forming layer is referred to as "the image forming layer of the present invention", and the polymer latex used for the binder is referred to as "the polymer latex of the present invention.") The polymer latex is not limited to the image forming layer, but may be a protective layer or a back layer. In particular, when the photothermographic material of the invention is used for printing in which dimensional change is a problem, it is preferable to use a polymer latex for the protective layer and the back layer. However, the "polymer latex" referred to here is a water-insoluble hydrophobic polymer dispersed as fine particles in a water-soluble dispersion medium. The dispersion state is such that the polymer is emulsified in a dispersion medium, emulsion-polymerized, micelle-dispersed, or partially dispersed in polymer molecules and molecular chains themselves are molecularly dispersed. Any of them may be used. Regarding the polymer latex of the present invention, `` Synthetic resin emulsion (Hei Okuda, edited by Hiroshi Inagaki, published by Polymer Publishing Association (1978)) '', `` Application of synthetic latex (Takaaki Sugimura, Yasuo Kataoka, Soichi Suzuki, edited by Keiji Kasahara, Published by Kobunshi Kankokai (1993)), `` Chemistry of Synthetic Latex (Souichi Muroi,
Published by Kobunshi Kankokai (1970)). The average particle size of the dispersed particles is 1 to 50,000 nm, more preferably 5 to 100.
A range of about 0 nm is preferable. The particle size distribution of the dispersed particles is not particularly limited, and may have a wide particle size distribution or a monodispersed particle size distribution.

【0244】本発明のポリマーラテックスとしては通常
の均一構造のポリマーラテックス以外、いわゆるコア/
シェル型のラテックスでもよい。この場合コアとシェル
はガラス転移温度を変えると好ましい場合がある。
As the polymer latex of the present invention, other than the polymer latex having a normal uniform structure, a so-called core / polymer latex may be used.
Shell type latex may be used. In this case, it may be preferable to change the glass transition temperature of the core and the shell.

【0245】本発明のバインダーに好ましく用いるポリ
マーラテックスのガラス転移温度(Tg)は保護層、バ
ック層と画像形成層とでは好ましい範囲が異なる。画像
形成層にあっては熱現像時に写真有用素材の拡散を促す
ため、-30〜40℃であることが好ましい。保護層やバッ
ク層に用いる場合には種々の機器と接触するために25〜
70℃のガラス転移温度が好ましい。
The glass transition temperature (Tg) of the polymer latex preferably used for the binder of the present invention differs between the protective layer, the back layer and the image forming layer. In the image forming layer, the temperature is preferably -30 to 40 ° C. in order to promote diffusion of the photographically useful material during thermal development. When used as a protective layer or back layer, 25 to 25
A glass transition temperature of 70 ° C. is preferred.

【0246】本発明のポリマーラテックスの最低造膜温
度(MFT)は-30℃〜90℃、より好ましくは0℃〜70℃程度
が好ましい。最低造膜温度をコントロールするために造
膜助剤を添加してもよい。造膜助剤は可塑剤ともよばれ
ポリマーラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化
合物(通常有機溶剤)で、例えば前述の「合成ラテックス
の化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」に記載
されている。
The minimum film forming temperature (MFT) of the polymer latex of the present invention is preferably from -30 ° C to 90 ° C, more preferably from about 0 ° C to 70 ° C. A film-forming aid may be added to control the minimum film-forming temperature. The film-forming aid is an organic compound (usually an organic solvent) that lowers the minimum film-forming temperature of the polymer latex, also called a plasticizer. )"It is described in.

【0247】本発明のポリマーラテックスに用いられる
ポリマー種としてはアクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポ
リエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹脂、塩化
ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹
脂、またはこれらの共重合体などがある。ポリマーとし
ては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでも、ま
た架橋されたポリマーでも良い。またポリマーとしては
単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーでも良
いし、2種以上のモノマーが重合したコポリマーでも良
い。コポリマーの場合はランダムコポリマーでもブロッ
クコポリマーでも良い。ポリマーの分子量は数平均分子
量で5000〜1000000、好ましくは10000〜100000程度が好
ましい。分子量が小さすぎるものは画像形成層の力学強
度が不十分であり、大きすぎるものは成膜性が悪く好ま
しくない。
Examples of the polymer used in the polymer latex of the present invention include acrylic resins, vinyl acetate resins, polyester resins, polyurethane resins, rubber resins, vinyl chloride resins, vinylidene chloride resins, polyolefin resins, and copolymers thereof. There is. The polymer may be a linear polymer, a branched polymer, or a crosslinked polymer. Further, the polymer may be a so-called homopolymer in which a single monomer is polymerized, or a copolymer in which two or more monomers are polymerized. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. The molecular weight of the polymer is preferably from 5000 to 100000, more preferably from about 10,000 to 100,000 in number average molecular weight. If the molecular weight is too small, the mechanical strength of the image forming layer is insufficient, and if it is too large, the film-forming properties are poor, which is not preferable.

【0248】本発明の熱現像感光材料の画像形成層のバ
インダーとして用いられるポリマーラテックスの具体例
としては以下のようなものがある。メチルメタクリレー
ト/エチルアクリレート/メタクリル酸コポリマーのラ
テックス、メチルメタクリレート/2エチルヘキシルア
クリレート/スチレン/アクリル酸コポリマーのラテッ
クス、スチレン/ブタジエン/アクリル酸コポリマーの
ラテックス、スチレン/ブタジエン/ジビニルベンゼン
/メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチルメタク
リレート/塩化ビニル/アクリル酸コポリマーのラテッ
クス、塩化ビニリデン/エチルアクリレート/アクリロ
ニトリル/メタクリル酸コポリマーのラテックスなど。
また、このようなポリマーは市販もされていて、以下の
ようなポリマーが利用できる。例えばアクリル樹脂の例
として、セビアンA-4635,46583、4601(以上ダイセル化
学工業(株)製)、Nipol Lx811、814、821、820、857
(以上日本ゼオン(株)製)など、ポリエステル樹脂とし
ては、FINETEX ES650、611、675、850(以上大日本イン
キ化学(株)製)、WD-size、WMS(以上イーストマンケミ
カル製)など、ポリウレタン樹脂としてはHYDRAN AP10、
20、30、40(以上大日本インキ化学(株)製)など、ゴム
系樹脂としてはLACSTAR 7310K、3307B、4700H、7132C
(以上大日本インキ化学(株)製)、 Nipol Lx416、41
0、438C、2507、(以上日本ゼオン(株)製)など、塩化
ビニル樹脂としてはG351、G576(以上日本ゼオン(株)
製)など、塩化ビニリデン樹脂としてはL502、L513(以上
旭化成工業(株)製)、アロンD7020、D504、D5071(以上
三井東圧(株)製)など、オレフィン樹脂としてはケミパ
ールS120、SA100(以上三井石油化学(株)製)などを挙
げることができる。これらのポリマーは単独で用いても
よいし、必要に応じて2種以上ブレンドして用いても良
い。
Specific examples of the polymer latex used as a binder for the image forming layer of the photothermographic material of the present invention include the following. Latex of methyl methacrylate / ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer, latex of methyl methacrylate / 2 ethylhexyl acrylate / styrene / acrylic acid copolymer, latex of styrene / butadiene / acrylic acid copolymer, latex of styrene / butadiene / divinylbenzene / methacrylic acid copolymer, Latex of methyl methacrylate / vinyl chloride / acrylic acid copolymer, latex of vinylidene chloride / ethyl acrylate / acrylonitrile / methacrylic acid copolymer and the like.
Such polymers are also commercially available, and the following polymers can be used. For example, as examples of acrylic resin, Sebian A-4635,46583,4601 (all manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol Lx811,814,821,820,857
(Nippon Zeon Co., Ltd.) and other polyester resins, such as FINETEX ES650, 611, 675, 850 (Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd.), WD-size, WMS (Eastman Chemical Co., Ltd.), etc. HYDRAN AP10 as polyurethane resin,
LACSTAR 7310K, 3307B, 4700H, 7132C as rubber resins such as 20, 30, 40 (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)
(Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd.), Nipol Lx416, 41
0, 438C, 2507, (Nippon Zeon Co., Ltd.) and other vinyl chloride resins such as G351 and G576 (Nippon Zeon Co., Ltd.)
L502, L513 (manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.), Aron D7020, D504, D5071 (manufactured by Mitsui Toatsu Co., Ltd.) Mitsui Petrochemical Co., Ltd.). These polymers may be used alone or as a blend of two or more as necessary.

【0249】本発明の画像形成層は全バインダーの50重
量%以上として上記ポリマーラテックスが好ましく用い
られるが、70重量%以上として上記ポリマーラテックス
が用いられることがさらに好ましい。
In the image forming layer of the present invention, the above-mentioned polymer latex is preferably used as 50% by weight or more of the total binder, and more preferably 70% by weight or more of the above-mentioned polymer latex.

【0250】本発明の画像形成層には必要に応じて全バ
インダーの50重量%以下の範囲でゼラチン、ポリビニル
アルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセ
ルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプ
ロピルメチルセルロースなどの親水性ポリマーを添加し
ても良い。これらの親水性ポリマーの添加量は画像形成
層の全バインダーの30重量%以下、さらには15重量%以下
が好ましい。
In the image forming layer of the present invention, if necessary, a hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methylcellulose, hydroxypropylcellulose, carboxymethylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose or the like is added in an amount of 50% by weight or less of the whole binder. May be. The amount of the hydrophilic polymer to be added is preferably 30% by weight or less, more preferably 15% by weight or less of the total binder in the image forming layer.

【0251】本発明の画像形成層は水系の塗布液を塗布
後乾燥して調製することが好ましい。ただし、ここで言
う「水系」とは塗布液の溶媒(分散媒)の60重量%以上が
水であることをいう。塗布液の水以外の成分はメチルア
ルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコー
ル、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ジメチルホ
ルムアミド、酢酸エチルなどの水混和性の有機溶媒を用
いることができる。具体的な溶媒組成の例としては、水
のほか、以下のようなものがある。水/メタノール=90
/10、水/メタノール=70/30、水/エタノール=90/1
0、水/イソプロパノール=90/10、水/ジメチルホルム
アミド=95/5、水/メタノール/ジメチルホルムアミド
=80/15/5、水/メタノール/ジメチルホルムアミド=9
0/5/5。(ただし数字は重量%を表す。)
The image forming layer of the present invention is preferably prepared by applying an aqueous coating solution and then drying it. However, the term “aqueous” as used herein means that 60% by weight or more of the solvent (dispersion medium) of the coating liquid is water. As components other than water of the coating solution, water-miscible organic solvents such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, and ethyl acetate can be used. Specific examples of the solvent composition include the following in addition to water. Water / methanol = 90
/ 10, water / methanol = 70/30, water / ethanol = 90/1
0, water / isopropanol = 90/10, water / dimethylformamide = 95/5, water / methanol / dimethylformamide
= 80/15/5, water / methanol / dimethylformamide = 9
0/5/5. (However, the numbers represent% by weight.)

【0252】本発明の画像形成層の全バインダー量は0.
2〜30g/m2、より好ましくは1〜15g/m2の範囲が好まし
い。本発明の画像形成層には架橋のための架橋剤、塗布
性改良のための界面活性剤などを添加してもよい。
The total amount of the binder in the image forming layer of the present invention is 0.1.
The range is preferably 2 to 30 g / m 2 , more preferably 1 to 15 g / m 2 . A crosslinking agent for crosslinking and a surfactant for improving coating properties may be added to the image forming layer of the invention.

【0253】本発明における増感色素としてはハロゲン
化銀粒子に吸着した際、所望の波長領域でハロゲン化銀
粒子を分光増感できるもので有ればいかなるものでも良
い。増感色素としては、シアニン色素、メロシアニン色
素、コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロ
シアニン色素、ホロポーラーシアニン色素、スチリル色
素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソ
ノール色素等を用いることができる。本発明に使用され
る有用な増感色素は例えばRESEARCH DISCLOSURE Item17
643IV-A項(1978年12月p.23)、同Item1831X項(1979年8月
p.437)に記載もしくは引用された文献に記載されてい
る。特に各種レーザーイメージャー、スキャナー、イメ
ージセッターや製版カメラの光源の分光特性に適した分
光感度を有する増感色素を有利に選択することができ
る。
As the sensitizing dye in the present invention, any dye can be used as long as it can spectrally sensitize silver halide grains in a desired wavelength range when adsorbed on silver halide grains. As the sensitizing dye, a cyanine dye, a merocyanine dye, a complex cyanine dye, a complex merocyanine dye, a holopolar cyanine dye, a styryl dye, a hemicyanine dye, an oxonol dye, a hemioxonol dye, and the like can be used. Useful sensitizing dyes for use in the present invention include, for example, RESEARCH DISCLOSURE Item 17
Item 643IV-A (p.23, December 1978), Item 1831X (August 1979)
p.437) or in the literature cited. In particular, a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of the light source of various laser imagers, scanners, imagesetters and plate making cameras can be advantageously selected.

【0254】赤色光への分光増感の例としては、He-Ne
レーザー、赤色半導体レーザーやLEDなどのいわゆる赤
色光源に対しては、特開昭54-18726号に記載のI-1から
I-38の化合物、特開平6-75322号に記載のI-1からI-3
5の化合物および特開平7-287338号に記載のI-1からI-
34の化合物、特公昭55-39818号に記載の色素1から20、
特開昭62-284343号に記載のI-1からI-37の化合物およ
び特開平7-287338号に記載のI-1からI-34の化合物な
どが有利に選択される。
As an example of spectral sensitization to red light, He-Ne
For a so-called red light source such as a laser, a red semiconductor laser or an LED, a compound of I-1 to I-38 described in JP-A-54-18726, and a compound of I-1 described in JP-A-6-75322. I-3
5 and the compounds I-1 to I- described in JP-A-7-287338.
34 compounds, dyes 1 to 20 described in JP-B-55-39818,
The compounds I-1 to I-37 described in JP-A-62-284343 and the compounds I-1 to I-34 described in JP-A-7-287338 are advantageously selected.

【0255】750〜1400nmの波長領域の半導体レーザー
光源に対しては、シアニン、メロシアニン、スチリル、
ヘミシアニン、オキソノール、ヘミオキソノールおよび
キサンテン色素を含む種々の既知の色素により、スペク
トル的に有利に増感させることができる。有用なシアニ
ン色素は、例えば、チアゾリン核、オキサゾリン核、ピ
ロリン核、ピリジン核、オキサゾール核、チアゾール
核、セレナゾール核およびイミダゾール核などの塩基性
核を有するシアニン色素である。有用なメロシアニン染
料で好ましいものは、上記の塩基性核に加えて、チオヒ
ダントイン核、ローダニン核、オキサゾリジンジオン
核、チアゾリンジオン核、バルビツール酸核、チアゾリ
ノン核、マロノニトリル核およびピラゾロン核などの酸
性核も含む。上記のシアニンおよびメロシアニン色素に
おいて、イミノ基またはカルボキシル基を有するものが
特に効果的である。例えば、米国特許3,761,279号、同
3,719,495号、同3,877,943号、英国特許1,466,201号、
同1,469,117号、同1,422,057号、特功平3-10391号、同6
-52387号、特開平5-341432号、同6-194781号、同6-3011
41号に記載されたような既知の色素から適当に選択して
よい。
For a semiconductor laser light source in the wavelength region of 750 to 1400 nm, cyanine, merocyanine, styryl,
A variety of known dyes, including hemicyanine, oxonol, hemioxonol and xanthene dyes, can be spectrally sensitized favorably. Useful cyanine dyes are, for example, cyanine dyes having a basic nucleus, such as a thiazoline nucleus, an oxazoline nucleus, a pyrroline nucleus, a pyridine nucleus, an oxazole nucleus, a thiazole nucleus, a selenazole nucleus and an imidazole nucleus. Preferred useful merocyanine dyes include, in addition to the above basic nuclei, acidic nuclei such as thiohydantoin nucleus, rhodanine nucleus, oxazolidinedione nucleus, thiazolinedione nucleus, barbituric acid nucleus, thiazolinone nucleus, malononitrile nucleus and pyrazolone nucleus. Including. Among the above-mentioned cyanine and merocyanine dyes, those having an imino group or a carboxyl group are particularly effective. For example, U.S. Pat.
3,719,495, 3,877,943, UK Patent 1,466,201,
No. 1,469,117, No. 1,422,057, No. 3-10391, No. 6
-52387, JP-A-5-341432, JP-A-6-94781, JP-A-6-3011
The dye may be appropriately selected from known dyes as described in No. 41.

【0256】本発明に用いられる色素の構造として特に
好ましいものは、チオエーテル結合含有置換基を有する
シアニン色素(例としては特開昭62-58239号、同3-13863
8号、同3-138642号、同4-255840号、同5-72659号、同5-
72661号、同6-222491号、同2-230506号、同6-258757
号、同6-317868号、同6-324425号、特表平7-500926号、
米国特許5,541,054号に記載された色素) 、カルボン酸
基を有する色素(例としては特開平3-163440号、6-30114
1号、米国特許5,441,899号に記載された色素)、メロシ
アニン色素、多核メロシアニン色素や多核シアニン色素
(特開昭47-6329号、同49-105524号、同51-127719号、同
52-80829号、同54-61517号、同59-214846号、同60-6750
号、同63-159841号、特開平6-35109号、同6-59381号、
同7-146537号、同7-146537号、特表平55-50111号、英国
特許1,467,638号、米国特許5,281,515号に記載された色
素)が挙げられる。
Particularly preferred as the structure of the dye used in the present invention is a cyanine dye having a thioether bond-containing substituent (for example, see JP-A-62-58239 and JP-A-3-13863).
No.8, No.3-138642, No.4-255840, No.5-72659, No.5-
No. 72661, No. 6-222491, No. 2-230506, No. 6-258757
No., 6-317868, 6-324425, Tokuyohei 7-500926,
Dyes described in U.S. Pat.No. 5,541,054), dyes having a carboxylic acid group (for example, JP-A-3-163440, 6-30114
No. 1, U.S. Pat.No. 5,441,899), merocyanine dyes, polynuclear merocyanine dyes and polynuclear cyanine dyes
(JP 47-6329, JP 49-105524, JP 51-127719, JP
52-80829, 54-61517, 59-214846, 60-6750
No., 63-159841, JP-A-6-35109, 6-59381,
And the dyes described in JP-A-7-146537, JP-A-7-146537, JP-T-55-50111, British Patent 1,467,638, and US Patent 5,281,515.

【0257】また、J-bandを形成する色素として、米国
特許5,510,236号、同3,871,887号の実施例5に記載の色
素、特開平2-96131号、特開昭59-48753号に開示されて
いる色素があり、これらの色素を本発明に好ましく用い
ることができる。
As the dyes forming the J-band, the dyes described in Example 5 of US Pat. Nos. 5,510,236 and 3,871,887, JP-A-2-96131 and JP-A-59-48753 are disclosed. There are dyes, and these dyes can be preferably used in the present invention.

【0258】これらの増感色素は単独に用いてもよく、
2種以上組合せて用いてもよい。増感色素の組合せは特
に、強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色素と
ともに、それ自身分光増感作用をもたない色素あるいは
可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感を
示す物質を乳剤中に含んでもよい。有用な増感色素、強
色増感を示す色素の組合せ及び強色増感を示す物質はRe
search Disclosure 176巻17643(1978年12月発行)第23頁
IVのJ項、あるいは特公昭49-25500号、同43-4933号、特
開昭59-19032号、同59-192242号等に記載されている。
These sensitizing dyes may be used alone.
Two or more kinds may be used in combination. In particular, combinations of sensitizing dyes are frequently used for supersensitization. Along with the sensitizing dye, the emulsion may contain a dye which does not itself have a spectral sensitizing effect or a substance which does not substantially absorb visible light and exhibits supersensitization. Useful sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization and substances exhibiting supersensitization are Re.
search Disclosure Volume 176, 17643 (Issued December 1978) p. 23
IV, J, or JP-B-49-25500, JP-B-43-4933, JP-A-59-19032, JP-A-59-192242, and the like.

【0259】増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加させ
るには、それらを直接乳剤中に分散してもよいし、ある
いは水、メタノール、エタノール、プロパノール、アセ
トン、メチルセルソルブ、2,2,3,3-テトラフルオロプロ
パノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、3-メトキシ
-1-プロパノール、3-メトキシ-1-ブタノール、1-メトキ
シ-2-プロパノール、N,N-ジメチルホルムアミド等の溶
媒の単独もしくは混合溶媒に溶解して乳剤に添加しても
よい。
The sensitizing dyes may be added to the silver halide emulsion by dispersing them directly in the emulsion or by adding water, methanol, ethanol, propanol, acetone, methylcellosolve, 2,2, 3,3-tetrafluoropropanol, 2,2,2-trifluoroethanol, 3-methoxy
It may be added to the emulsion by dissolving it in a solvent such as 1-propanol, 3-methoxy-1-butanol, 1-methoxy-2-propanol, N, N-dimethylformamide, alone or in a mixed solvent.

【0260】また、米国特許3,469,987号明細書等に開
示されているように、色素を揮発性の有機溶剤に溶解
し、この溶液を水または親水性コロイド中に分散し、こ
の分散物を乳剤中へ添加する方法、特公昭44-23389号、
同44-27555号、同57-22091号等に開示されているよう
に、色素を酸に溶解し、この溶液を乳剤中に添加した
り、酸または塩基を共存させて水溶液として乳剤中へ添
加する方法、米国特許3,822,135号、同4,006,025号明細
書等に開示されているように界面活性剤を共存させて水
溶液あるいはコロイド分散物としたものを乳剤中に添加
する方法、特開昭53-102733号、同58-105141号に開示さ
れているように親水性コロイド中に色素を直接分散さ
せ、その分散物を乳剤中に添加する方法、特開昭51-746
24号に開示されているように、レッドシフトさせる化合
物を用いて色素を溶解し、この溶液を乳剤中へ添加する
方法を用いることもできる。また、溶解に超音波を用い
ることもできる。
As disclosed in US Pat. No. 3,469,987, a dye is dissolved in a volatile organic solvent, this solution is dispersed in water or a hydrophilic colloid, and this dispersion is dispersed in an emulsion. Method of adding to Japanese Patent Publication No. 44-23389,
As disclosed in JP-A-44-27555 and JP-A-57-22091, the dye is dissolved in an acid and this solution is added to the emulsion, or an acid or base is added to the emulsion as an aqueous solution in the presence of an acid or base. A method of adding an aqueous solution or a colloidal dispersion in the presence of a surfactant to an emulsion as disclosed in U.S. Pat. JP-A-51-746, a method in which a dye is directly dispersed in a hydrophilic colloid and the dispersion is added to an emulsion as disclosed in JP-A-58-105141.
As disclosed in No. 24, a method of dissolving a dye using a compound that causes red shift and adding this solution to an emulsion can also be used. Also, ultrasonic waves can be used for dissolution.

【0261】本発明に用いる増感色素を本発明のハロゲ
ン化銀乳剤中に添加する時期は、これまで有用であるこ
とが認められている乳剤調製のいかなる工程中であって
もよい。例えば米国特許2,735,766号、同3,628,960号、
同4,183,756号、同4,225,666号、特開昭58-184142号、
同60-196749号等の明細書に開示されているように、ハ
ロゲン化銀の粒子形成工程または/および脱塩前の時
期、脱塩工程中および/または脱塩後から化学熟成の開
始前までの時期、特開昭58-113920号等の明細書に開示
されているように、化学熟成の直前または工程中の時
期、化学熟成後、塗布までの時期の乳剤が塗布される前
ならばいかなる時期、工程において添加されてもよい。
また、米国特許4,225,666号、特開昭58-7629号等の明細
書に開示されているように、同一化合物を単独で、また
は異種構造の化合物と組み合わせて、例えば粒子形成工
程中と化学熟成工程中または化学熟成完了後とに分けた
り、化学熟成の前または工程中と完了後とに分けるなど
して分割して添加してもよく、分割して添加する化合物
および化合物の組み合わせの種類を変えて添加してもよ
い。
The sensitizing dye used in the present invention may be added to the silver halide emulsion of the present invention at any time during the preparation of the emulsion which has been found to be useful. For example, U.S. Patents 2,735,766 and 3,628,960,
4,183,756, 4,225,666, JP-A-58-184142,
As disclosed in the specification of JP-A-60-196749 and the like, the timing before silver halide grain forming step and / or desalting, during and / or after desalting and before the start of chemical ripening. As disclosed in the specification such as JP-A-58-113920, any time immediately before chemical ripening or during the process, after chemical ripening, and before coating the emulsion before coating It may be added at the time and in the process.
Also, as disclosed in the specification of U.S. Pat. The compound may be added separately during or after chemical ripening, or before or after chemical ripening, or may be added separately. May be added.

【0262】本発明における増感色素の使用量としては
感度やカブリなどの性能に合わせて所望の量でよいが、
感光性層のハロゲン化銀1モル当たり10-6〜1モルが好ま
しく、10-4〜10-1モルがさらに好ましい。
The amount of the sensitizing dye used in the present invention may be a desired amount in accordance with the performance such as sensitivity and fog.
The amount is preferably from 10 -6 to 1 mol, more preferably from 10 -4 to 10 -1 mol, per mol of silver halide in the photosensitive layer.

【0263】本発明におけるハロゲン化銀乳剤または/
および有機銀塩は、カブリ防止剤、安定剤および安定剤
前駆体によって、付加的なカブリの生成に対して更に保
護され、在庫貯蔵中における感度の低下に対して安定化
することができる。単独または組合せて使用することが
できる適当なカブリ防止剤、安定剤および安定剤前駆体
は、米国特許第2,131,038号および同第2,694,716号に記
載のチアゾニウム塩、米国特許第2,886,437号および同
第2,444,605号に記載のアザインデン、米国特許第2,72
8,663号に記載の水銀塩、米国特許第3,287,135号に記載
のウラゾール、米国特許第3,235,652号に記載のスルホ
カテコール、英国特許第623,448号に記載のオキシム、
ニトロン、ニトロインダゾール、米国特許第2,839,405
号に記載の多価金属塩、米国特許第3,220,839号に記載
のチウロニウム塩、ならびに米国特許第2,566,263号お
よび同第2,597,915号に記載のパラジウム、白金および
金塩、米国特許第4,108,665号および同第4,442,202号に
記載のハロゲン置換有機化合物、米国特許第4,128,557
号および同第4,137,079号、第4,138,365号および同第4,
459,350号に記載のトリアジンならびに米国特許第4,41
1,985号に記載のリン化合物などがある。
The silver halide emulsion according to the invention or /
And the organic silver salts can be further protected against the formation of additional fog by antifoggants, stabilizers and stabilizer precursors, and can be stabilized against reduced sensitivity during storage in inventory. Suitable antifoggants, stabilizers and stabilizer precursors that can be used alone or in combination are the thiazonium salts described in U.S. Pat.Nos. 2,131,038 and 2,694,716, U.S. Pat. Azaindene, U.S. Pat.
8,663 mercury salt, U.S. Pat.No. 3,287,135 urazole, U.S. Pat.No. 3,235,652 sulfocatechol, British Patent 623,448 oxime,
Nitron, nitroindazole, U.S. Patent No. 2,839,405
No. 3,220,839, thiuronium salts, and U.S. Pat.Nos. 2,566,263 and 2,597,915, palladium, platinum and gold salts, U.S. Pat.Nos. 4,108,665 and 4,442,202 No. 4,128,557
Nos. 4,137,079 and 4,138,365 and 4,
No. 4,59,350 and U.S. Pat.
And the phosphorus compounds described in 1,985.

【0264】本発明に好ましく用いられるカブリ防止剤
としては式(P)以外の有機ハロゲン化物であり、例え
ば、特開昭50-119624号、同50-120328号、同51-121332
号、同54-58022号、同56-70543号、同56-99335号、同59
-90842号、同61-129642号、同62-129845号、特開平6-20
8191号、同7-5621号、同7-2781号、同8-15809号、米国
特許第5,340,712号、同5,369,000号、同5,464,737号に
開示されているような化合物が挙げられる。
The antifoggant preferably used in the present invention is an organic halide other than formula (P). For example, JP-A Nos. 50-119624, 50-120328, and 51-121332.
Nos. 54-58022, 56-70543, 56-99335, 59
-90842, 61-129642, 62-129845, JP-A-6-20
Nos. 8,191, 7-5621, 7-2781, 8-15809, and US Pat. Nos. 5,340,712, 5,369,000 and 5,464,737.

【0265】また、本発明では式(Z)で表される化合
物がカブリ防止剤として好ましく用いられる。式(Z)
で表される化合物について、詳細に説明する。
In the present invention, the compound represented by the formula (Z) is preferably used as an antifoggant. Formula (Z)
The compound represented by is described in detail.

【0266】[0266]

【化39】 Embedded image

【0267】式(Z)において、Mは水素原子またはk
価の陽イオン(例えば、ナトリウムイオン、カリウムイ
オン、カルシウムイオン、バリウムイオン、亜鉛イオン
等の金属イオン、テトラメチルアンモニウムイオン、テ
トラブチルアンモニウムイオン等のアンモニウムイオン
等)を表わす。kは例示されるイオンが示すように1以
上の整数であり、通常1または2である。また、Mが水
素原子の時k=1である。
In the formula (Z), M is a hydrogen atom or k
It represents a valent cation (eg, a metal ion such as a sodium ion, a potassium ion, a calcium ion, a barium ion, and a zinc ion, and an ammonium ion such as a tetramethylammonium ion and a tetrabutylammonium ion). k is an integer of 1 or more as shown by the exemplified ion, and is usually 1 or 2. When M is a hydrogen atom, k = 1.

【0268】式(Z)において、Rは置換基を表わし、
例えば直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは
炭素数1〜20、より好ましくは1〜12、特に好ましくは
1〜8であり、例えば、メチル、エチル、iso−プロ
ピル、t−ブチル、n−オクチル、1,1,3,3−テ
トラメチルブチル、t−アミル、シクロヘキシルなどが
挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜
20、より好ましくは2〜12、特に好ましくは2〜8であ
り、例えば、ビニル、アリル、2-ブテニル、3-ペンテニ
ルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭
素数2〜20、より好ましくは2〜12、特に好ましくは2
〜8であり、例えば、プロパルギル、3-ペンチニルなど
が挙げられる。)、アラルキル基(好ましくは炭素数7
〜30、より好ましくは7〜20、特に好ましくは7〜
16であり、例えば、ベンジル、α−メチルベンジル、
α−エチルベンジル、ジフェニルメチル、ナフチルメチ
ル、ナフチルフェニルメチルなどが挙げられる。)、ア
リール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは6
〜20、特に好ましくは6〜12であり、例えば、フェニ
ル、p-メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられ
る。)、アミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好ま
しくは0〜10、更に好ましくは0〜6であり、例えば、
アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
ノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。)、アルコキ
シ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜1
2、特に好ましくは1〜8であり、例えば、メトキシ、
エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。)、アリールオ
キシ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは6〜
16、特に好ましくは6〜12であり、例えば、フェニルオ
キシ、2-ナフチルオキシなどが挙げられる。)、アシル
基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、
特に好ましくは1〜12であり、例えば、アセチル、ベン
ゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。)、
アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、よ
り好ましくは2〜16、特に好ましくは2〜12であり、例
えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが
挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(好まし
くは炭素数7〜20、より好ましくは7〜16、特に好まし
くは7〜10であり、例えば、フェノキシカルボニルなど
が挙げられる。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数
1〜20、より好ましくは2〜16、特に好ましくは2〜10
であり、例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシなどが
挙げられる。)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数1
〜20、より好ましくは2〜16、特に好ましくは2〜10で
あり、例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノなど
が挙げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好
ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、特に好
ましくは2〜12であり、例えば、メトキシカルボニルア
ミノなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル
アミノ基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは7
〜16、特に好ましくは7〜12であり、例えば、フェニル
オキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、スルホ
ニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましく
は1〜16、特に好ましくは1〜12であり、例えば、メタ
ンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが
挙げられる。)、スルファモイル基(好ましくは炭素数
0〜20、より好ましくは0〜16、特に好ましくは0〜12
であり、例えば、スルファモイル、メチルスルファモイ
ル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイル
などが挙げられる。)、カルバモイル基(好ましくは炭
素数0〜20、より好ましくは0〜16、特に好ましくは0
〜12であり、例えば、カルバモイル、ジエチルカルバモ
イル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。)、ウ
レイド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1
〜16、特に好ましくは1〜12であり、例えば、ウレイ
ド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられ
る。)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、よ
り好ましくは1〜16、特に好ましくは1〜12であり、例
えば、メチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。)、
アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20、より好まし
くは6〜16、特に好ましくは6〜12であり、例えば、フ
ェニルチオなどが挙げられる。)、スルホニル基(好ま
しくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、特に好ま
しくは1〜12であり、例えば、メシル、トシルなどが挙
げられる。)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜
20、より好ましくは1〜16、特に好ましくは1〜12であ
り、例えば、メタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニ
ルなどが挙げられる。)、燐酸アミド基(好ましくは炭
素数1〜20、より好ましくは1〜16、特に好ましくは1
〜12であり、例えば、ジエチル燐酸アミド、フェニル燐
酸アミドなどが挙げられる。)、ヒドロキシ基、メルカ
プト基、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カ
ルボキシ基、ニトロ基、ヒドロキサム基、スルフィノ
基、ヒドラジノ基、スルホニルチオ基、チオスルホニル
基、ヘテロ環基(例えば、イミダゾリル、ピリジル、フ
リル、ピペリジル、モリホリルなどが挙げられる。)、
ジスルフィド基などが挙げられる。
In the formula (Z), R represents a substituent,
For example, a linear, branched or cyclic alkyl group (preferably having 1 to 20, more preferably 1 to 12, particularly preferably 1 to 8, for example, methyl, ethyl, iso-propyl, t-butyl, n -Octyl, 1,1,3,3-tetramethylbutyl, t-amyl, cyclohexyl, etc.), alkenyl group (preferably having 2 to 2 carbon atoms)
20, more preferably 2 to 12, particularly preferably 2 to 8, for example, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl and the like. ), Alkynyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms)
To 8, for example, propargyl, 3-pentynyl and the like. ), An aralkyl group (preferably having 7 carbon atoms)
~ 30, more preferably 7 ~ 20, particularly preferably 7 ~
16, for example, benzyl, α-methylbenzyl,
α-ethylbenzyl, diphenylmethyl, naphthylmethyl, naphthylphenylmethyl and the like. ), An aryl group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 carbon atoms)
~ 20, particularly preferably 6 ~ 12, for example, phenyl, p-methylphenyl, naphthyl and the like. ), An amino group (preferably having 0 to 20, more preferably 0 to 10, and still more preferably 0 to 6, for example,
Amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, dibenzylamino and the like can be mentioned. ), An alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 1 carbon atoms)
2, particularly preferably 1 to 8, for example, methoxy,
Ethoxy, butoxy and the like can be mentioned. ), An aryloxy group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably having 6 to 20 carbon atoms)
16, particularly preferably 6 to 12, for example, phenyloxy, 2-naphthyloxy and the like. ), An acyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16,
Particularly preferred is 1 to 12, for example, acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl and the like. ),
An alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, etc.), an aryloxycarbonyl group (preferably carbon The number is 7 to 20, more preferably 7 to 16, particularly preferably 7 to 10, and examples thereof include phenoxycarbonyl and the like, and an acyloxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms). Particularly preferably, 2 to 10
And examples thereof include acetoxy and benzoyloxy. ), An acylamino group (preferably having 1 carbon atom)
-20, more preferably 2-16, particularly preferably 2-10, for example, acetylamino, benzoylamino and the like. ), An alkoxycarbonylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonylamino, etc.), and an aryloxycarbonylamino group (preferably Has 7 to 20 carbon atoms, more preferably 7 carbon atoms
To 16, particularly preferably 7 to 12, and examples include phenyloxycarbonylamino. ), A sulfonylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, methanesulfonylamino, benzenesulfonylamino, etc.), a sulfamoyl group (preferably Has 0 to 20, more preferably 0 to 16, and particularly preferably 0 to 12 carbon atoms.
And include, for example, sulfamoyl, methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl and the like. ), A carbamoyl group (preferably having 0 to 20, more preferably 0 to 16, particularly preferably 0 to 16 carbon atoms)
To 12, for example, carbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl and the like. ), A ureido group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1
To 16, particularly preferably 1 to 12, and examples thereof include ureido, methylureide, and phenylureide. ), An alkylthio group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16, particularly preferably 1 to 12, and examples thereof include methylthio and ethylthio).
An arylthio group (preferably having 6 to 20, more preferably 6 to 16, particularly preferably 6 to 12, and examples thereof include phenylthio, etc.), a sulfonyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably Is 1 to 16, particularly preferably 1 to 12, and examples thereof include mesyl and tosyl.) And a sulfinyl group (preferably having 1 to 1 carbon atoms)
20, more preferably 1 to 16, particularly preferably 1 to 12, for example, methanesulfinyl, benzenesulfinyl and the like. ), A phosphoramide group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 16 carbon atoms).
To 12, for example, diethylphosphoramide, phenylphosphoramide and the like. ), Hydroxy, mercapto, halogen (eg, fluorine, chlorine, bromine, iodine), cyano, sulfo, carboxy, nitro, hydroxam, sulfino, sulfino, hydrazino, sulfonylthio Thiosulfonyl group, heterocyclic group (for example, imidazolyl, pyridyl, furyl, piperidyl, morpholinyl, etc.),
And a disulfide group.

【0269】これらの置換基は、更に、置換されていて
も良く、塩形成が可能な基である場合は塩を形成してい
ても良い。また、mは1〜4の整数であるが、置換基が
2つ以上ある場合、即ちm≧の2場合は、同じでも異な
っていても良い。mは1〜3が好ましく、2が最も好ま
しい。
These substituents may be further substituted and, if the group is capable of forming a salt, may form a salt. In addition, m is an integer of 1 to 4, but when there are two or more substituents, that is, when m ≧ 2, they may be the same or different. m is preferably 1 to 3, and most preferably 2.

【0270】また、これらの置換基は互いに結合して5
員ないし7員環の非芳香族または芳香族の炭素環(例え
ばベンゼン環)を形成しても良い。さらに、この環は他
の置換基(例えばハロゲン原子、カルボキシ基)で置換
されていても良い。
In addition, these substituents are bonded to each other to form 5
It may form a non-aromatic or aromatic carbon ring (for example, a benzene ring) having 7 to 7 members. Further, this ring may be substituted with another substituent (eg, a halogen atom, a carboxy group).

【0271】Rで表わされる置換基として好ましくは、
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル
基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アシル基、
アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミ
ノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミ
ノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド
基、アルキルチオ基、スルホニル基、ヒドロキシ基、メ
ルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カル
ボキシ基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、さらに好まし
くは、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アミ
ノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ基、
メルカプト基、ハロゲン原子、スルホ基、カルボキシ基
である。
The substituent represented by R is preferably
Alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aralkyl group, aryl group, amino group, alkoxy group, acyl group,
Alkoxycarbonyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group, alkylthio group, sulfonyl group, hydroxy group, mercapto group, halogen atom, cyano group, sulfo group, carboxy Group, a nitro group, a heterocyclic group, more preferably an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an amino group, an alkoxy group, an alkylthio group, a hydroxy group,
A mercapto group, a halogen atom, a sulfo group, and a carboxy group.

【0272】さらに、式(Z)において、水酸基のオル
ト位および/またはパラ位にアルキル基(アラルキル基
を含む。)が置換することが特に好ましい。
Further, in the formula (Z), it is particularly preferred that the hydroxyl group is substituted with an alkyl group (including an aralkyl group) at the ortho position and / or the para position.

【0273】また、式(Z)の化合物が一つの炭素を介
して結合したビスフェノール構造もより好ましい。
Further, a bisphenol structure in which the compound of the formula (Z) is bonded through one carbon is more preferable.

【0274】次に式(Z)で表されるカブリ防止剤の具
体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではな
い。
Next, specific examples of the antifoggant represented by the formula (Z) will be shown, but the present invention is not limited thereto.

【0275】[0275]

【化40】 Embedded image

【0276】[0276]

【化41】 Embedded image

【0277】[0277]

【化42】 Embedded image

【0278】[0278]

【化43】 Embedded image

【0279】[0279]

【化44】 Embedded image

【0280】[0280]

【化45】 Embedded image

【0281】本発明の式(Z)のカブリ防止剤は、市販
のものを用いても良く、また、例えば、特開平2-251838
号に開示されている方法やJ.Med.Chem.,34,342(1991)に
記載のサリチル酸とカルボニル化合物との酸触媒縮合反
応等によって容易に合成できる。
As the antifoggant of the formula (Z) of the present invention, a commercially available one may be used.
And the acid-catalyzed condensation reaction of salicylic acid with a carbonyl compound described in J. Med. Chem., 34, 342 (1991).

【0282】本発明の式(Z)のカブリ防止剤は、水あ
るいは適当な有機溶媒、例えばアルコール類(メタノー
ル、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコー
ル)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセル
ソルブなどに溶解して用いることができる。
The antifoggant of the formula (Z) according to the present invention may be water or a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethyl It can be used by dissolving it in sulfoxide, methylcellosolve and the like.

【0283】また、既によく知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンな
どの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作
製して用いることができる。あるいは固体分散法として
知られている方法によって、粉末を水の中にボールミ
ル、コロイドミル、サンドグラインダーミル、マントン
ゴーリン、マイクロフルイダイザーあるいは超音波によ
って分散し用いることができる。
Also, by a well-known emulsification and dispersion method, an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone is used to dissolve the compound. An emulsified dispersion can be prepared and used. Alternatively, the powder can be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, a sand grinder mill, a Manton-Gaulin, a microfluidizer, or an ultrasonic wave by a method known as a solid dispersion method.

【0284】本発明の式(Z)のカブリ防止剤は、支持
体に対して画像形成層側の層、即ち画像形成層あるいは
この層側の他のどの層に添加してもよいが、画像形成層
あるいはそれに隣接する層に添加することが好ましい。
画像形成層は還元可能な銀塩(有機銀塩)を含有する層
であり、前述のように、さらに感光性ハロゲン化銀を含
有する感光性層である。
The antifoggant of the formula (Z) of the present invention may be added to the layer on the image forming layer side with respect to the support, that is, the image forming layer or any other layer on this layer side. It is preferably added to the forming layer or a layer adjacent thereto.
The image forming layer is a layer containing a reducible silver salt (organic silver salt), and as described above, is a photosensitive layer further containing a photosensitive silver halide.

【0285】式(Z)で表されるカブリ防止剤の添加量
は、Ag1molに対するmol量(mol/molAg)で示して、
好ましくは1×10-5〜5×10-1mol/molAg、より好
ましくは、5×10-5〜1×10-1mol/molAg、更に好
ましくは、1×10-4〜5×10-2mol/molAgである。こ
れらは1種のみを用いても2種以上を併用しても良い。
The amount of the antifoggant represented by the formula (Z) is represented by a mol amount per mol of Ag (mol / mol Ag).
Preferably 1 × 10 -5 ~5 × 10 -1 mol / molAg, more preferably, 5 × 10 -5 ~1 × 10 -1 mol / molAg, more preferably, 1 × 10 -4 ~5 × 10 - 2 mol / molAg. These may be used alone or in combination of two or more.

【0286】式(Z)で表されるカブリ防止剤は、溶
液、粉末、固体微粒子分散物などいかなる方法で添加し
てもよい。固体微粒子分散は公知の微細化手段(例え
ば、ボールミル、振動ボールミル、サンドミル、コロイ
ドミル、ジェットミル、ローラーミルなど)で行われ
る。また、固体微粒子分散する際に分散助剤を用いても
よい。
The antifoggant represented by the formula (Z) may be added by any method such as a solution, a powder and a dispersion of solid fine particles. The dispersion of the solid fine particles is carried out by a known means for making fine (for example, a ball mill, a vibration ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill, a roller mill, etc.). When dispersing the solid fine particles, a dispersing aid may be used.

【0287】本発明を実施するために必要ではないが、
乳剤層にカブリ防止剤として水銀(II)塩を加えることが
有利なことがある。この目的に好ましい水銀(II)塩は、
酢酸水銀および臭化水銀である。本発明に使用する水銀
の添加量としては、塗布された銀1モル当たり好ましく
は1×10-9モル〜1×10-3モル、さらに好ましくは1×10
-8モル〜1×10-4モルの範囲である。
Although not required to practice the present invention,
Mercury (II) salt can be added to the emulsion layer as an antifoggant
It may be advantageous. Preferred mercury (II) salts for this purpose are
Mercury acetate and mercury bromide. Mercury used in the present invention
Is preferably added per mol of the applied silver.
Is 1 × 10-9Mol ~ 1 x 10-3Mole, more preferably 1 × 10
-8Mol ~ 1 x 10-FourRange of moles.

【0288】本発明における熱現像感光材料は高感度化
やカブリ防止を目的として安息香酸類を含有しても良
い。本発明の安息香酸類はいかなる安息香酸誘導体でも
よいが、好ましい構造の例としては、米国特許4,784,93
9号、同4,152,160号、特願平8-151242号、同8-151241
号、同8-98051号などに記載の化合物が挙げられる。本
発明の安息香酸類は感光材料のいかなる部位に添加して
も良いが、添加層としては感光性層を有する面の層に添
加することが好ましく、有機銀塩含有層に添加すること
がさらに好ましい。本発明の安息香酸類の添加時期とし
ては塗布液調製のいかなる工程で行っても良く、有機銀
塩含有層に添加する場合は有機銀塩調製時から塗布液調
製時のいかなる工程でも良いが有機銀塩調製後から塗布
直前が好ましい。本発明の安息香酸類の添加法としては
粉末、溶液、微粒子分散物などいかなる方法で行っても
良い。また、増感色素、還元剤、色調剤など他の添加物
と混合した溶液として添加しても良い。本発明の安息香
酸類の添加量としてはいかなる量でも良いが、銀1モル
当たり1×10-6モル以上2モル以下が好ましく、1×10-3
モル以上0.5モル以下がさらに好ましい。
The photothermographic material of the present invention may contain benzoic acids for the purpose of increasing the sensitivity and preventing fog. The benzoic acids of the present invention may be any benzoic acid derivative, but examples of preferred structures include those described in U.S. Pat.
No. 9, No. 4, 152, 160, Japanese Patent Application No. 8-151242, No. 8-151241
And the compounds described in JP-A-8-98051 and the like. The benzoic acids of the present invention may be added to any part of the light-sensitive material. However, the added layer is preferably added to a layer having a light-sensitive layer, more preferably to an organic silver salt-containing layer. . The benzoic acid of the present invention may be added at any time during the preparation of the coating solution, and when it is added to the organic silver salt-containing layer, it may be added at any time from the preparation of the organic silver salt to the preparation of the coating solution. It is preferable after salt preparation and immediately before application. The benzoic acid of the present invention may be added by any method such as powder, solution, and fine particle dispersion. Further, it may be added as a solution mixed with other additives such as a sensitizing dye, a reducing agent and a color tone agent. The addition amount of the benzoic acids of the present invention may be any amount, but is preferably 1 × 10 −6 mol or more and 2 mol or less per mol of silver, and 1 × 10 −3 mol.
More preferably, the molar ratio is from 0.5 mol to 0.5 mol.

【0289】本発明には現像を抑制あるいは促進させ現
像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現
像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合
物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させるこ
とができる。
In the present invention, a mercapto compound, a disulfide compound, and a thione compound are contained to control development by suppressing or accelerating development, to improve spectral sensitization efficiency, and to improve storage stability before and after development. be able to.

【0290】本発明にメルカプト化合物を使用する場
合、いかなる構造のものでも良いが、Ar-SM0、Ar-S-S-A
rで表されるものが好ましい。式中、M0は水素原子また
はアルカリ金属原子であり、Arは1個以上の窒素、イオ
ウ、酸素、セレニウムもしくはテルリウム原子を有する
芳香環基または縮合芳香環基である。好ましくは、これ
らの基中の複素芳香環はベンズイミダゾール、ナフスイ
ミダゾール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、ベ
ンズオキサゾール、ナフスオキサゾール、ベンゾセレナ
ゾール、ベンゾテルラゾール、カルバゾール、イミダゾ
ール、オキサゾール、ピラゾール、トリアゾール、チア
ジアゾール、テトラゾール、トリアジン、ピリミジン、
ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリンま
たはキナゾリノンである。この複素芳香環は、例えば、
ハロゲン(例えば、BrおよびCl)、ヒドロキシ、アミノ、
カルボキシ、アルキル(例えば、1個以上の炭素原子、好
ましくは1〜4個の炭素原子を有するもの)、アルコキシ
(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは1〜4個の炭
素原子を有するもの)およびアリール(置換基を有して
いてもよい)からなる置換基群から選択されるものを有
してもよい。メルカプト置換複素芳香族化合物をとして
は、2-メルカプトベンズイミダゾール、2-メルカプトベ
ンズオキサゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-
メルカプト-5-メチルベンズイミダゾール、6-エトキシ-
2-メルカプトベンゾチアゾール、2,2'-ジチオビス-ベン
ゾチアゾール、3-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、4,5
-ジフェニル-2-イミダゾールチオール、2-メルカプトイ
ミダゾール、1-エチル-2-メルカプトベンズイミダゾー
ル、2-メルカプトキノリン、8-メルカプトプリン、2-メ
ルカプト-4(3H)-キナゾリノン、7-トリフルオロメチル-
4-キノリンチオール、2,3,5,6-テトラクロロ-4-ピリジ
ンチオール、4-アミノ-6-ヒドロキシ-2-メルカプトピリ
ミジンモノヒドレート、2-アミノ-5-メルカプト-1,3,4-
チアジアゾール、3-アミノ-5-メルカプト-1,2,4-トリア
ゾール、4-ヒドキロシ-2-メルカプトピリミジン、2-メ
ルカプトピリミジン、4,6-ジアミノ-2-メルカプトピリ
ミジン、2-メルカプト-4-メチルピリミジンヒドロクロ
リド、3-メルカプト-5-フェニル-1,2,4-トリアゾール、
1-フェニル-5-メルカプトテトラゾール、3-(5-メルカプ
トテトラゾール)-ベンゼンスルフォン酸ナトリウム、N-
メチル-N'-[3-(5-メルカプトテトラゾリル)フェニル]ウ
レア、2-メルカプト-4-フェニルオキサゾール、N-[3-
(メルカプトアセチルアミノ)プロピル]カルバゾールな
どが挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
When a mercapto compound is used in the present invention, it may have any structure, but may be any of Ar-SM 0 , Ar-SSA
Those represented by r are preferred. In the formula, M 0 is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar is an aromatic or fused aromatic ring group having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium or tellurium atoms. Preferably, the heteroaromatic rings in these groups are benzimidazole, naphthimidazole, benzothiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzoselenazole, benzotellurazole, carbazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, thiadiazole, Tetrazole, triazine, pyrimidine,
Pyridazine, pyrazine, pyridine, purine, quinoline or quinazolinone. This heteroaromatic ring is, for example,
Halogen (e.g., Br and Cl), hydroxy, amino,
Carboxy, alkyl (e.g., having one or more carbon atoms, preferably 1-4 carbon atoms), alkoxy
(E.g., those having one or more carbon atoms, preferably those having 1 to 4 carbon atoms) and aryl (which may have a substituent) selected from the group consisting of substituents Is also good. Examples of the mercapto-substituted heteroaromatic compound include 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole,
Mercapto-5-methylbenzimidazole, 6-ethoxy-
2-mercaptobenzothiazole, 2,2'-dithiobis-benzothiazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 4,5
-Diphenyl-2-imidazolethiol, 2-mercaptoimidazole, 1-ethyl-2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptoquinoline, 8-mercaptopurine, 2-mercapto-4 (3H) -quinazolinone, 7-trifluoromethyl-
4-quinolinethiol, 2,3,5,6-tetrachloro-4-pyridinethiol, 4-amino-6-hydroxy-2-mercaptopyrimidine monohydrate, 2-amino-5-mercapto-1,3,4 -
Thiadiazole, 3-amino-5-mercapto-1,2,4-triazole, 4-hydrochiroxy-2-mercaptopyrimidine, 2-mercaptopyrimidine, 4,6-diamino-2-mercaptopyrimidine, 2-mercapto-4-methyl Pyrimidine hydrochloride, 3-mercapto-5-phenyl-1,2,4-triazole,
1-phenyl-5-mercaptotetrazole, 3- (5-mercaptotetrazole) -sodium benzenesulfonate, N-
Methyl-N '-[3- (5-mercaptotetrazolyl) phenyl] urea, 2-mercapto-4-phenyloxazole, N- [3-
(Mercaptoacetylamino) propyl] carbazole and the like, but the present invention is not limited thereto.

【0291】これらのメルカプト化合物の添加量として
は乳剤層中に銀1モル当たり0.0001〜1.0モルの範囲が好
ましく、さらに好ましくは、銀の1モル当たり0.001〜0.
3モルの量である。
The addition amount of these mercapto compounds is preferably in the range of 0.0001 to 1.0 mol per mol of silver in the emulsion layer, and more preferably 0.001 to 0.1 mol per mol of silver.
3 moles.

【0292】本発明における画像形成層(感光性層)に
は、可塑剤および潤滑剤として多価アルコール(例え
ば、米国特許第2,960,404号に記載された種類のグリセ
リンおよびジオール)、米国特許第2,588,765号および同
第3,121,060号に記載の脂肪酸またはエステル、英国特
許第955,061号に記載のシリコーン樹脂などを用いるこ
とができる。
In the image forming layer (photosensitive layer) of the present invention, a polyhydric alcohol (for example, glycerin and diol of the type described in US Pat. No. 2,960,404) as a plasticizer and a lubricant, and US Pat. No. 2,588,765 And fatty acids or esters described in US Pat. No. 3,121,060 and silicone resins described in British Patent No. 955,061.

【0293】本発明においては、画像形成層上に保護層
を設けることが好ましく、保護層のバインダーとして
は、前述のように、ガラス転移温度が25℃以上70℃以下
のポリマーのラテックスを用いることが好ましい。この
場合保護層の全バインダーの50重量%以上、好ましくは
70重量%以上として前述のポリマーラテックスを用いる
ことが好ましい。本発明ではこのような保護層を少なく
とも1層設けることが好ましい。このような保護層のバ
インダー構成や塗設方法等については画像形成層と同様
である。保護層用のポリマーラテックスとしてはアクリ
ル系、スチレン系、アクリル/スチレン系、塩化ビニル
系、塩化ビニリデン系のポリマーラテックスが好ましく
用いられ、具体的にはアクリル樹脂系のVONCORT R337
0、4280、Nipol Lx857、メチル(メタ)アクリレート/
2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート/ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレート/スチレン/(メタ)アク
リル酸コポリマー、塩化ビニル樹脂のNipol G576、塩
化ビニリデン樹脂のアロンD5071が好ましく用いられ
る。
In the present invention, it is preferable to provide a protective layer on the image forming layer. As a binder for the protective layer, as described above, a polymer latex having a glass transition temperature of 25 ° C. or more and 70 ° C. or less is used. Is preferred. In this case, at least 50% by weight of the total binder of the protective layer, preferably
It is preferable to use the above-mentioned polymer latex at 70% by weight or more. In the present invention, it is preferable to provide at least one such protective layer. The binder configuration and coating method of such a protective layer are the same as those of the image forming layer. As the polymer latex for the protective layer, acrylic, styrene, acryl / styrene, vinyl chloride, and vinylidene chloride polymer latexes are preferably used. Specifically, acrylic resin-based VONCORT R337
0, 4280, Nipol Lx857, methyl (meth) acrylate /
2-ethylhexyl (meth) acrylate / hydroxyethyl (meth) acrylate / styrene / (meth) acrylic acid copolymer, Nipol G576 vinyl chloride resin, and Alon D5071 vinylidene chloride resin are preferably used.

【0294】本発明に用いられる保護層用の全バインダ
ー量は0.2〜5.0g/m2、より好ましくは0.5〜4.0g/m2
の範囲である。
The total amount of the binder for the protective layer used in the present invention is 0.2 to 5.0 g / m 2 , more preferably 0.5 to 4.0 g / m 2.
Range.

【0295】本発明の表面保護層としては、いかなる付
着防止材料を使用してもよい。付着防止材料の例として
は、ワックス、シリカ粒子、スチレン含有エラストマー
性ブロックコポリマー(例えば、スチレン-ブタジエン-
スチレン、スチレン-イソプレン-スチレン)、酢酸セル
ロース、セルロースアセテートブチレート、セルロース
プロピオネートやこれらの混合物などがある。また、表
面保護層には架橋のための架橋剤、塗布性改良のための
界面活性剤などを添加してもよい。
As the surface protective layer of the present invention, any anti-adhesion material may be used. Examples of anti-adhesion materials include waxes, silica particles, styrene-containing elastomeric block copolymers (e.g., styrene-butadiene-
Styrene, styrene-isoprene-styrene), cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose propionate, and mixtures thereof. Further, a crosslinking agent for crosslinking and a surfactant for improving coating properties may be added to the surface protective layer.

【0296】本発明における画像形成層もしくは画像形
成層の保護層には、米国特許第3,253,921号、同第2,27
4,782号、同第2,527,583号および同第2,956,879号に記
載されているような光吸収物質およびフィルター染料を
使用することができる。また、例えば米国特許第3,282,
699号に記載のように染料を媒染することができる。フ
ィルター染料の使用量としては露光波長での吸光度が0.
1〜3が好ましく、0.2〜1.5が特に好ましい。
In the image forming layer or the protective layer of the image forming layer in the invention, US Pat. Nos. 3,253,921 and 2,27
Light absorbing substances and filter dyes as described in 4,782, 2,527,583 and 2,956,879 can be used. Also, for example, U.S. Pat.
The dye can be mordanted as described in US Pat. As the amount of filter dye used, the absorbance at the exposure wavelength is 0.
1-3 are preferable, and 0.2-1.5 are particularly preferable.

【0297】本発明の感光性層には色調改良、イラジエ
ーション防止の観点から各種染料や顔料を用いることが
できる。本発明の感光性層に用いる染料および顔料はい
かなるものでもよいが、例えばカラーインデックス記載
の顔料や染料があり、具体的にはピラゾロアゾール染
料、アントラキノン染料、アゾ染料、アゾメチン染料、
オキソノール染料、カルボシアニン染料、スチリル染
料、トリフェニルメタン染料、インドアニリン染料、イ
ンドフェノール染料、フタロシアニンをはじめとする有
機顔料、無機顔料などが挙げられる。本発明に用いられ
る好ましい染料としてはアントラキノン染料(例えば特
開平5-341441号記載の化合物1〜9、特開平5-165147号記
載の化合物3-6〜18および3-23〜38など)、アゾメチン染
料(特開平5-341441号記載の化合物17〜47など)、インド
アニリン染料(例えば特開平5-289227号記載の化合物11
〜19、特開平5-341441号記載の化合物47、特開平5-1651
47号記載の化合物2-10〜11など)およびアゾ染料(特開平
5-341441号記載の化合物10〜16)が挙げられる。これら
の染料の添加法としては、溶液、乳化物、固体微粒子分
散物、高分子媒染剤に媒染された状態などいかなる方法
でも良い。これらの化合物の使用量は目的の吸収量によ
って決められるが、一般的に感材1m2当たり1×10-6g以
上1g以下の範囲で用いることが好ましい。
In the photosensitive layer of the present invention, various dyes and pigments can be used from the viewpoint of improving color tone and preventing irradiation. Dyes and pigments used in the photosensitive layer of the present invention may be any, for example, pigments and dyes described in the color index, specifically, pyrazoloazole dye, anthraquinone dye, azo dye, azomethine dye,
Oxonol dyes, carbocyanine dyes, styryl dyes, triphenylmethane dyes, indoaniline dyes, indophenol dyes, organic pigments such as phthalocyanine, and inorganic pigments. Preferred dyes used in the present invention include anthraquinone dyes (e.g., compounds 1 to 9 described in JP-A-5-341441, compounds 3-6 to 18 and 3-23 to 38 described in JP-A-5-165147), azomethine Dyes (e.g., compounds 17 to 47 described in JP-A-5-341441) and indoaniline dyes (e.g., compound 11 described in JP-A-5-289227).
To 19, compound 47 described in JP-A-5-341441, JP-A-5-1651
No. 47, compounds 2-10 to 11) and azo dyes (JP
Compounds 10 to 16) described in 5-341441 are exemplified. As a method for adding these dyes, any method such as a solution, an emulsion, a solid fine particle dispersion, and a state in which the dye is mordanted with a polymer mordant may be used. The amount of these compounds used is determined depending on the desired absorption amount, but it is generally preferable to use them in a range of 1 × 10 −6 g to 1 g per 1 m 2 of the photographic material.

【0298】本発明における熱現像感光材料は、支持体
の一方の側に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤を含む
感光性層を有し、他方の側にバック層を有する、いわゆ
る片面感光材料であることが好ましい。
The photothermographic material of the present invention is a so-called single-sided light-sensitive material having at least one photosensitive layer containing a silver halide emulsion on one side of a support and a back layer on the other side. Preferably, there is.

【0299】本発明においてバック層は、所望の範囲で
の最大吸収が約0.3以上2.0以下であることが好ましい。
所望の範囲が750〜1400nmである場合には、750〜360nm
においての光学濃度が0.005以上0.5未満であることが好
ましく、さらに好ましくは0.001以上0.3未満の光学濃度
を有するハレーション防止層であることが好ましい。所
望の範囲が750nm以下である場合には、画像形成前の所
望範囲の最大吸収が0.3以上2.0以下であり、さらに画像
形成後の360〜750nmの光学濃度が0.005以上0.3未満にな
るようなハレーション防止層であることが好ましい。画
像形成後の光学濃度を上記の範囲に下げる方法としては
特に制限はないが、例えばベルギー特許第733,706号に
記載されたように染料による濃度を加熱による消色で低
下させる方法、特開昭54-17833号に記載の光照射による
消色で濃度を低下させる方法等が挙げられる。
In the present invention, the back layer preferably has a maximum absorption in a desired range of about 0.3 or more and 2.0 or less.
750-360nm if the desired range is 750-1400nm
Is preferably 0.005 or more and less than 0.5, more preferably an antihalation layer having an optical density of 0.001 or more and less than 0.3. When the desired range is 750 nm or less, the halation is such that the maximum absorption in the desired range before image formation is 0.3 or more and 2.0 or less, and the optical density at 360-750 nm after image formation is 0.005 or more and less than 0.3. Preferably, it is a prevention layer. The method for lowering the optical density after image formation to the above range is not particularly limited. For example, as described in Belgian Patent No. 733,706, a method in which the density of a dye is reduced by decolorization by heating, And a method of decreasing the density by decoloring by light irradiation described in JP-A-17833.

【0300】本発明でハレーション防止染料を使用する
場合、こうした染料は所望の範囲で目的の吸収を有し、
処理後に可視領域での吸収が充分少なく、上記バック層
の好ましい吸光度スペクトルの形状が得られればいかな
る化合物でも良い。例えば以下に挙げるものが開示され
ているが本発明はこれに限定されるものではない。単独
の染料としては特開昭59-56458号、特開平2-216140号、
同7-13295号、同7-11432号、米国特許5,380,635号記
載、特開平2-68539号公報第13頁左下欄1行目から同第14
頁左下欄9行目、同3-24539号公報第14頁左下欄から同第
16頁右下欄記載の化合物があり、処理で消色する染料と
しては特開昭52-139136号、同53-132334号、同56-50148
0号、同57-16060号、同57-68831号、同57-101835号、同
59-182436号、特開平7-36145号、同7-199409号、特公昭
48-33692号、同50-16648号、特功平2-41734号、米国特
許4,088,497号、同4,283,487号、同4,548,896号、同5,1
87,049号がある。
When antihalation dyes are used in the present invention, such dyes have the desired absorption in the desired range,
Any compound may be used as long as it has a sufficiently low absorption in the visible region after the treatment and a desirable absorbance spectrum shape of the back layer is obtained. For example, the following are disclosed, but the present invention is not limited thereto. As a single dye, JP-A-59-56458, JP-A-2-216140,
No. 7-13295, No. 7-11432, U.S. Pat.No.5,380,635, JP-A-2-688539, page 13, lower left column, line 1 to line 14,
The lower left column of the page, line 9, from the lower left column of page 14 of JP-A-3-24539
There are compounds described in the lower right column of page 16, and as dyes which can be decolorized by treatment, JP-A Nos. 52-139136, 53-132334, 56-50148.
No. 0, No. 57-16060, No. 57-68831, No. 57-101835, No.
59-182436, JP-A-7-36145, JP-A-7-199409, Tokubo Akira
Nos. 48-33692, 50-16648, Tokuhei Hei 2-41734, U.S. Pat.Nos. 4,088,497, 4,283,487, 4,548,896, 5,1
There is 87,049.

【0301】本発明においてバック層の好適なバインダ
ーは透明または半透明で、一般に無色であり、天然ポリ
マー、合成樹脂やポリマーおよびコポリマー、その他フ
ィルムを形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴ
ム、ポリ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロ
ース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブ
チレート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デンプ
ン、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル酸)、ポ
リ(塩化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コポリ(スチレ
ン-無水マレイン酸)、コポリ(スチレン-アクリロニトリ
ル)、コポリ(スチレン-ブタジエン)、ポリ(ビニルアセ
タール)類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)およびポリ
(ビニルブチラール))、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタ
ン)類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ
(エポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニル
アセテート)、セルロースエステル類、ポリ(アミド)類
がある。バインダーは水または有機溶媒またはエマルジ
ョンから被覆形成してもよい。
In the present invention, suitable binders for the backing layer are transparent or translucent, generally colorless, and include natural polymers, synthetic resins, polymers and copolymers, and other film-forming media such as: gelatin, gum arabic, poly ( (Vinyl alcohol), hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, poly (vinyl pyrrolidone), casein, starch, poly (acrylic acid), poly (methyl methacrylic acid), poly (vinyl chloride), poly (methacrylic acid), Copoly (styrene-maleic anhydride), copoly (styrene-acrylonitrile), copoly (styrene-butadiene), poly (vinyl acetal) s (e.g., poly (vinyl formal) and poly (vinyl formal)
(Vinyl butyral)), poly (ester) s, poly (urethanes), phenoxy resin, poly (vinylidene chloride), poly (vinylidene chloride)
(Epoxides), poly (carbonates), poly (vinyl acetate), cellulose esters, and poly (amides). The binder may be coated from water or an organic solvent or emulsion.

【0302】本発明における片面感光材料は、搬送性改
良のために感光性乳剤層の表面保護層および/またはバ
ック層またはバック層の表面保護層にマット剤を添加し
ても良い。マット剤は、一般に水に不溶性の有機または
無機化合物の微粒子である。マット剤としては任意のも
のを使用でき、例えば米国特許第1,939,213号、同2,70
1,245号、同2,322,037号、同3,262,782号、同3,539,344
号、同3,767,448号等の各明細書に記載の有機マット
剤、同1,260,772号、同2,192,241号、同3,257,206号、
同3,370,951号、同3,523,022号、同3,769,020号等の各
明細書に記載の無機マット剤など当業界で良く知られた
ものを用いることができる。例えば具体的にはマット剤
として用いることのできる有機化合物の例としては、水
分散性ビニル重合体の例としてポリメチルアクリレー
ト、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニトリ
ル、アクリロニトリル-α-メチルスチレン共重合体、ポ
リスチレン、スチレン-ジビニルベンゼン共重合体、ポ
リビニルアセテート、ポリエチレンカーボネート、ポリ
テトラフルオロエチレンなど、セルロース誘導体の例と
してはメチルセルロース、セルロースアセテート、セル
ロースアセテートプロピオネートなど、澱粉誘導体の例
としてカルボキシ澱粉、カルボキシニトロフェニル澱
粉、尿素-ホルムアルデヒド-澱粉反応物など、公知の硬
化剤で硬化したゼラチンおよびコアセルベート硬化して
微少カプセル中空粒体とした硬化ゼラチンなど好ましく
用いることができる。無機化合物の例としては二酸化珪
素、二酸化チタン、二酸化マグネシウム、酸化アルミニ
ウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、公知の方法で減
感した塩化銀、同じく臭化銀、ガラス、珪藻土などを好
ましく用いることができる。上記のマット剤は必要に応
じて異なる種類の物質を混合して用いることができる。
マット剤の大きさ、形状に特に限定はなく、任意の粒径
のものを用いることができる。本発明の実施に際しては
0.1μm〜30μmの粒径のものを用いるのが好ましい。ま
た、マット剤の粒径分布は狭くても広くても良い。一
方、マット剤は感材のヘイズ、表面光沢に大きく影響す
ることから、マット剤作製時あるいは複数のマット剤の
混合により、粒径、形状および粒径分布を必要に応じた
状態にすることが好ましい。
In the single-sided light-sensitive material of the present invention, a matting agent may be added to the surface protective layer of the photosensitive emulsion layer and / or the back layer or the surface protective layer of the back layer for improving transportability. The matting agent is generally fine particles of an organic or inorganic compound insoluble in water. Any matting agent can be used, for example, U.S. Patent Nos. 1,939,213 and 2,70
1,245, 2,322,037, 3,262,782, 3,539,344
No. 3,767,448 No., organic matting agents described in each specification such as No. 1,260,772, No. 2,192,241, No. 3,257,206,
Inorganic matting agents well-known in the art, such as inorganic matting agents described in the specifications of JP-A Nos. 3,370,951, 3,523,022, and 3,769,020 can be used. For example, specifically, examples of organic compounds that can be used as a matting agent include, as examples of water-dispersible vinyl polymers, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polyacrylonitrile, acrylonitrile-α-methylstyrene copolymer, and polystyrene. , Styrene-divinylbenzene copolymer, polyvinyl acetate, polyethylene carbonate, polytetrafluoroethylene, etc., examples of cellulose derivatives such as methylcellulose, cellulose acetate, cellulose acetate propionate, etc., and starch derivatives such as carboxy starch, carboxynitrophenyl Gelatin hardened with a known hardener such as starch, urea-formaldehyde-starch reactant, and hardened gelatin formed into microcapsule hollow granules by coacervate hardening are preferably used. Can be. As examples of the inorganic compound, silicon dioxide, titanium dioxide, magnesium dioxide, aluminum oxide, barium sulfate, calcium carbonate, silver chloride desensitized by a known method, silver bromide, glass, and diatomaceous earth can be preferably used. The above matting agents can be used by mixing different types of substances as necessary.
The size and shape of the matting agent are not particularly limited, and those having an arbitrary particle size can be used. In carrying out the present invention
It is preferable to use one having a particle size of 0.1 μm to 30 μm. Further, the particle size distribution of the matting agent may be narrow or wide. On the other hand, since the matting agent greatly affects the haze and surface gloss of the light-sensitive material, the particle size, shape, and particle size distribution can be changed as necessary during the preparation of the matting agent or by mixing a plurality of matting agents. preferable.

【0303】本発明においてバック層にマット剤を添加
するのは好ましい態様であり、バック層のマット度とし
てはベック平滑度が1200秒以下50秒以上が好ましく、さ
らに好ましくは700秒以下100秒以上である。
In the present invention, it is a preferred embodiment to add a matting agent to the backing layer. The matting degree of the backing layer is preferably a Beck smoothness of 1200 seconds or less and 50 seconds or more, more preferably 700 seconds or less and 100 seconds or more. It is.

【0304】本発明において、マット剤は感光材料の最
外表面層もしくは最外表面層として機能する層、あるい
は外表面に近い層に含有されるのが好ましく、またいわ
ゆる保護層として作用する層に含有されることが好まし
い。また、乳剤面保護層のマット度は星屑故障が生じな
ければいかようでも良いが、ベック平滑度が300秒以上
5,000秒以下が好ましく、特に500秒以上2,000秒以下が
好ましい。
In the present invention, the matting agent is preferably contained in the outermost surface layer of the light-sensitive material, a layer functioning as the outermost surface layer, or a layer close to the outer surface. It is preferable to be contained. Also, the matte degree of the emulsion surface protective layer may be any value as long as stardust failure does not occur, but the Bekk smoothness is 300 seconds or more.
It is preferably 5,000 seconds or less, particularly preferably 500 seconds or more and 2,000 seconds or less.

【0305】本発明に用いる熱現像写真用乳剤は、支持
体上に一層またはそれ以上の層を構成する。一層の構成
は有機銀塩、ハロゲン化銀、現像剤およびバインダー、
ならびに色調剤、被覆助剤および他の補助剤などの所望
による追加の材料を含まなければならない。二層の構成
は、第1乳剤層(通常は支持体に隣接した層)中に有機銀
塩およびハロゲン化銀を含み、第2層または両層中にい
くつかの他の成分を含まなければならない。しかし、全
ての成分を含む単一乳剤層および保護トップコートを含
んでなる二層の構成も考えられる。多色感光性熱現像写
真材料の構成は、各色についてこれらの二層の組合せを
含んでよく、また、米国特許第4,708,928号に記載され
ているように単一層内に全ての成分を含んでいてもよ
い。多染料多色感光性熱現像写真材料の場合、各乳剤層
は、一般に、米国特許第4,460,681号に記載されている
ように、各乳剤層(感光性層)の間に官能性もしくは非官
能性のバリアー層を使用することにより、互いに区別さ
れて保持される。
The heat-developable photographic emulsion used in the present invention comprises one or more layers on a support. One layer is composed of organic silver salt, silver halide, developer and binder,
As well as optional additional materials such as toning agents, coating aids and other auxiliaries. The two-layer configuration is that the first emulsion layer (usually the layer adjacent to the support) contains an organic silver salt and silver halide, and the second layer or both layers do not contain some other components. No. However, a two-layer construction comprising a single emulsion layer containing all components and a protective topcoat is also contemplated. The construction of a multicolor photothermographic material may include a combination of these two layers for each color, or may include all components in a single layer as described in U.S. Pat.No.4,708,928. Is also good. In the case of a multi-dye, multi-color photosensitive heat-developable photographic material, each emulsion layer is generally functionalized or non-functional between the emulsion layers (photosensitive layers) as described in U.S. Pat.No. 4,460,681. Are kept distinct from each other by using the barrier layer.

【0306】米国特許第4,460,681号および同第4,374,9
21号に示されるような裏面抵抗性加熱層(backside resi
stive heating layer)を感光性熱現像写真画像系に使用
することもできる。
US Pat. Nos. 4,460,681 and 4,374,9
Backside resistive heating layer as shown in No. 21
stive heating layer) can also be used in a photosensitive heat developed photographic image system.

【0307】本発明の画像形成層(感光性層)、保護層、
バック層など各層には硬膜剤を用いても良い。硬膜剤の
例としては、米国特許4,281,060号、特開平6-208193号
などに記載されているポリイソシアネート類、米国特許
4,791,042号などに記載されているエポキシ化合物類、
特開昭62-89048号などに記載されているビニルスルホン
系化合物類などが用いられる。
The image forming layer (photosensitive layer) of the present invention, a protective layer,
A hardener may be used for each layer such as the back layer. Examples of hardeners include polyisocyanates described in U.S. Pat.No. 4,281,060, JP-A-6-208193, and U.S. Pat.
Epoxy compounds described in 4,791,042 and the like,
Vinyl sulfone compounds described in JP-A-62-89048 and the like are used.

【0308】本発明には塗布性、帯電改良などを目的と
して界面活性剤を用いても良い。界面活性剤の例として
は、ノニオン系、アニオン系、カチオン系、フッ素系な
どいかなるものも適宜用いられる。具体的には、特開昭
62-170950号、米国特許5,380,644号などに記載のフッ素
系高分子界面活性剤、特開昭60-244945号、特開昭63-18
8135号などに記載のフッ素系界面活性剤、米国特許3,88
5,965号などに記載のポリシロキサン系界面活性剤、特
開平6-301140号などに記載のポリアルキレンオキサイド
やアニオン系界面活性剤などが挙げられる。
In the present invention, a surfactant may be used for the purpose of improving coating properties and charging. As the surfactant, any surfactant such as nonionic, anionic, cationic, and fluorine can be used as appropriate. Specifically,
No. 62-170950, Fluoropolymer surfactants described in U.S. Pat.No. 5,380,644, JP-A-60-244945, JP-A-63-18
8135 No. fluorinated surfactants described in U.S. Pat.
Examples thereof include polysiloxane surfactants described in JP-A-5,965 and the like, polyalkylene oxides and anionic surfactants described in JP-A-6-301140 and the like.

【0309】本発明における熱現像用写真乳剤は、一般
的には種々の支持体上に被覆させることができる。典型
的な支持体は、ポリエステルフィルム、下塗りポリエス
テルフィルム、ポリ(エチレンテレフタレート)フィル
ム、ポリエチレンナフタレートフィルム、硝酸セルロー
スフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリ(ビニ
ルアセタール)フィルム、ポリカーボネートフィルムお
よび関連するまたは樹脂状の材料、ならびにガラス、
紙、金属などを含む。可撓性基材、特に、バライタおよ
び/または部分的にアセチル化されたα-オレフィンポ
リマー、特にポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン
−ブテンコポリマーなどの炭素数2〜10のα-オレフィン
のポリマーによりコートされた紙支持体が、典型的に用
いられる。こうした支持体は透明であっても不透明であ
ってもよいが、透明であることが好ましい。これらのう
ちでも75〜200μm程度の2軸延伸したポリエチレンテレ
フタレート(PET)が特に好ましい。
The heat-developable photographic emulsion of the present invention can be generally coated on various supports. Typical supports include polyester films, primed polyester films, poly (ethylene terephthalate) films, polyethylene naphthalate films, cellulose nitrate films, cellulose ester films, poly (vinyl acetal) films, polycarbonate films and related or resinous Materials, as well as glass,
Including paper, metal, etc. Flexible substrates, particularly coated with baryta and / or partially acetylated α-olefin polymers, especially polymers of C 2-10 α-olefins such as polyethylene, polypropylene, ethylene-butene copolymers A paper support is typically used. Such a support may be transparent or opaque, but is preferably transparent. Among them, biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) of about 75 to 200 μm is particularly preferred.

【0310】一方、プラスチックフィルムを80℃以上の
処理の熱現像機に通すと一般にフィルムの寸法が伸縮す
る。処理後の材料を印刷製版用途として使用する場合、
この伸縮は精密多色印刷を行う時に重大な問題となる。
よって、本発明では二軸延伸時にフィルム中に残存する
内部歪みを緩和させ、熱現像中に発生する熱収縮歪みを
なくす工夫をした、寸法変化の小さいフィルムを用いる
ことが好ましい。例えば、熱現像用写真乳剤を塗布する
前に100℃〜210℃の範囲で熱処理したポリエチレンテレ
フタレートなどが好ましく用いられる。ガラス転移温度
の高いものも好ましく、ポリエーテルエチルケトン、ポ
リスチレン、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォ
ン、ポリアリレート、ポリカーボネート等が使用でき
る。
On the other hand, when a plastic film is passed through a heat developing machine at a temperature of 80 ° C. or more, the dimensions of the film generally expand and contract. If the processed material is used for printing plate making,
This expansion and contraction is a serious problem when performing precision multicolor printing.
Therefore, in the present invention, it is preferable to use a film having a small dimensional change, which is devised so as to alleviate the internal strain remaining in the film at the time of biaxial stretching and to eliminate the heat shrinkage distortion generated during thermal development. For example, polyethylene terephthalate, which is heat-treated at 100 to 210 ° C. before coating the photographic emulsion for thermal development, is preferably used. Those having a high glass transition temperature are also preferable, and polyether ethyl ketone, polystyrene, polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polycarbonate and the like can be used.

【0311】本発明における熱現像感光材料は、帯電防
止のため、例えば、可溶性塩(例えば塩化物、硝酸塩な
ど)、蒸着金属層、米国特許第2,861,056号および同第3,
206,312号に記載のようなイオン性ポリマーまたは米国
特許第3,428,451号に記載のような不溶性無機塩、特開
昭60-252349号、同57-104931号に記載されている酸化ス
ズ微粒子などを含む層を有してもよい。
The photothermographic material of the present invention may be, for example, a soluble salt (for example, chloride or nitrate), a vapor-deposited metal layer, US Pat. No. 2,861,056 and US Pat.
206, 312 or an insoluble inorganic salt as described in U.S. Pat.No. 3,428,451, JP-A-60-252349, a layer containing tin oxide fine particles and the like described in JP 57-104931 May be provided.

【0312】本発明における熱現像感光材料を用いてカ
ラー画像を得る方法としては特開平7-13295号10頁左欄4
3行目から11左欄40行目に記載の方法がある。また、カ
ラー染料画像の安定剤としては英国特許第1,326,889
号、米国特許第3,432,300号、同第3,698,909号、同第3,
574,627号、同第3,573,050号、同第3,764,337号および
同第4,042,394号に例示されている。
A method for obtaining a color image using the photothermographic material according to the invention is described in JP-A-7-13295, page 10, left column 4
There is a method described from the third line to the 11th left column, 40th line. Also, as a stabilizer for color dye images, UK Patent No. 1,326,889
No. 3,432,300, U.S. Pat.No. 3,698,909, U.S. Pat.
Nos. 574,627, 3,573,050, 3,764,337 and 4,042,394.

【0313】本発明における熱現像写真乳剤は、浸漬コ
ーティング、エアナイフコーティング、フローコーティ
ングまたは、米国特許第2,681,294号に記載の種類のホ
ッパーを用いる押出コーティングを含む種々のコーティ
ング操作により被覆することができる。所望により、米
国特許第2,761,791号および英国特許第837,095号に記載
の方法により2層またはそれ以上の層を同時に被覆する
ことができる。
The photothermographic emulsion of the present invention can be coated by various coating operations including dip coating, air knife coating, flow coating or extrusion coating using a hopper of the type described in US Pat. No. 2,681,294. If desired, two or more layers can be coated simultaneously by the methods described in US Pat. No. 2,761,791 and British Patent No. 837,095.

【0314】本発明における熱現像感光材料の中に追加
の層、例えば移動染料画像を受容するための染料受容
層、反射印刷が望まれる場合の不透明化層、保護トップ
コート層および光熱写真技術において既知のプライマー
層などを含むことができる。本発明の感材はその感材一
枚のみで画像形成できることが好ましく、受像層等の画
像形成に必要な機能性層が別の感材とならないことが好
ましい。
In the photothermographic material of the present invention, additional layers such as a dye-receiving layer for receiving a moving dye image, an opaque layer when reflective printing is desired, a protective topcoat layer and photothermographic techniques It may include a known primer layer and the like. The light-sensitive material of the present invention is preferably capable of forming an image with only one light-sensitive material, and it is preferable that a functional layer required for image formation such as an image receiving layer does not become another light-sensitive material.

【0315】本発明において、像様露光に用いられる露
光装置は露光時間が10-7秒未満の露光が可能な装置で
あればいずれでもよいが、一般的にはLaser Diode(L
D)、Light Emitting Diode(LED)を光源に使用
した露光装置が好ましく用いられる。特に、LDは高出
力、高解像度の点でより好ましい。これらの光源は目的
波長範囲の電磁波スペクトルの光を発生することができ
るものであればいずれでもよい。例えばLDであれば、
色素レーザー、ガスレーザー、固体レーザー、半導体レ
ーザーなどを用いることができる。
In the present invention, the exposure apparatus used for imagewise exposure may be any apparatus capable of performing exposure with an exposure time of less than 10 -7 seconds.
D), an exposure apparatus using a Light Emitting Diode (LED) as a light source is preferably used. In particular, LD is more preferable in terms of high output and high resolution. Any of these light sources may be used as long as it can generate light of an electromagnetic wave spectrum in a target wavelength range. For example, for LD,
Dye lasers, gas lasers, solid-state lasers, semiconductor lasers, and the like can be used.

【0316】本発明の露光は光源の光ビームをオーバー
ラップさせて露光し、オーバーラップとは副走査ピッチ
幅がビーム径より小さいことをいう。オーバーラップと
は例えば、ビーム径をビーム強度の半値幅(FWHM)
で表わしたときFWHM/副走査ピッチ幅 (オーバー
ラップ係数)で定量的に表現することができる。本発明
ではこのオーバラップ係数が0.2以上であることが好
ましい。
The exposure of the present invention is performed by overlapping the light beams of the light source with each other. The term “overlap” means that the sub-scanning pitch is smaller than the beam diameter. The overlap means, for example, that the beam diameter is equal to the full width at half maximum of the beam intensity (FWHM).
Can be quantitatively expressed by FWHM / sub-scanning pitch width (overlap coefficient). In the present invention, the overlap coefficient is preferably 0.2 or more.

【0317】本発明に使用する露光装置の光源の走査方
式は特に限定はなく、円筒外面走査方式、円筒内面走査
方式、平面走査方式などを用いることができる。また、
光源のチャンネルは単チャンネルでもマルチチャンネル
でもよいが、円筒外面方式の場合にはマルチチャンネル
が好ましく用いられる。
The scanning method of the light source of the exposure apparatus used in the present invention is not particularly limited, and a cylinder outer surface scanning method, a cylinder inner surface scanning method, a plane scanning method, or the like can be used. Also,
The channel of the light source may be a single channel or a multi-channel, but in the case of a cylindrical outer surface type, a multi-channel is preferably used.

【0318】本発明の熱現像感光材料は露光時のヘイズ
が低く、干渉縞が発生しやすい傾向にある。この干渉縞
発生防止技術としては、特開平5-113548号などに開示さ
れているレーザー光を感光材料に対して斜めに入光させ
る技術や、国際特許WO95/31754号などに開示されてい
るマルチモードレーザーを利用する方法が知られてお
り、これらの技術を用いることが好ましい。
The photothermographic material of the present invention has a low haze upon exposure and tends to cause interference fringes. Examples of the interference fringe prevention technology include a technology disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI 5-113548 and the like, in which a laser beam is obliquely incident on a photosensitive material, and a technology disclosed in International Patent WO95 / 31754 and the like. Methods using a mode laser are known, and it is preferable to use these techniques.

【0319】本発明の画像形成方法の加熱現像工程はい
かなる方法であっても良いが、通常イメージワイズに露
光した感光材料を昇温して現像される。用いられる熱現
像機の好ましい態様としては、熱現像感光材料をヒート
ローラーやヒートドラムなどの熱源に接触させるタイプ
として特功平5-56499号、特許公報第684453号、特開平9
-292695号、特開平9-297385号および国際特許WO95/30
934号に記載の熱現像機、非接触型のタイプとして特開
平7-13294号、国際特許WO97/28489号、同97/28488号
および同97/28487号に記載の熱現像機がある。特に好ま
しい態様としては非接触型の熱現像機である。好ましい
現像温度としては80〜250℃であり、さらに好ましくは1
00〜140℃である。現像時間としては1〜180秒が好まし
く、10〜90秒がさらに好ましい。
The heating and developing step of the image forming method of the present invention may be any method, but usually, the photosensitive material exposed imagewise is heated and developed. As a preferred embodiment of the heat developing machine used, as a type in which the photothermographic material is brought into contact with a heat source such as a heat roller or a heat drum, Japanese Patent Publication No. Hei 5-56499, Japanese Patent Publication No.
-292695, JP-A-9-297385 and International Patent WO95 / 30
As the non-contact type heat developing machine described in JP-A-934, there is a heat developing machine described in JP-A-7-13294, International Patents WO97 / 28489, 97/28488 and 97/28487. A particularly preferred embodiment is a non-contact type thermal developing machine. The preferred development temperature is 80 to 250 ° C., more preferably 1 to 250 ° C.
00-140 ° C. The development time is preferably from 1 to 180 seconds, more preferably from 10 to 90 seconds.

【0320】本発明の熱現像感光材料の熱現像時の寸法
変化による処理ムラを防止する方法として、80℃以上11
5℃未満(好ましくは113℃以下)の温度で画像が出ないよ
うにして5秒以上加熱した後、110℃以上140℃以下で熱
現像して画像形成させる方法(いわゆる多段階加熱方
法)が有効である。
As a method for preventing processing unevenness due to a dimensional change during thermal development of the photothermographic material of the present invention, a temperature of 80.degree.
A method of forming an image by heating at a temperature of less than 5 ° C. (preferably 113 ° C. or less) for 5 seconds or more so that an image does not appear, and then thermally developing the image at 110 ° C. or more and 140 ° C. or less (so-called multi-step heating method) It is valid.

【0321】本発明の熱現像感光材料の熱現像処理に用
いられる熱現像機の一構成例を図1に示す。図1は熱現
像機の側面図を示したものである。図1の熱現像機は熱
現像感光材料10を平面状に矯正および予備加熱しなが
ら加熱部に搬入する搬入ローラー対11(下部ローラー
がヒートローラー)と熱現像後の熱現像感光材料10を
平面状に矯正しながら加熱部から搬出する搬出ローラー
対12を有する。熱現像感光材料10は搬入ローラー対
11から搬出ローラー対12へと搬送される間に熱現像
される。この熱現像中の熱現像感光材料10を搬送する
搬送手段は画像形成層を有する面が接触する側に複数の
ローラー13が設置され、その反対側のバック面が接触
する側には不織布(例えば芳香族ポリアミドやテフロン
から成る)等が貼り合わされた平滑面14が設置され
る。熱現像感光材料10は画像形成層を有する面に接触
する複数のローラー13の駆動により、バック面は平滑
面14の上を滑って搬送される。加熱手段はローラー1
3の上部及び平滑面14の下部に熱現像感光材料10の
両面から加熱されるように加熱ヒーター15が設置され
る。この場合の加熱手段としては板状ヒーター等が挙げ
られる。ローラー13と平滑面14とのクリアランスは
平滑面の部材により異なるが、熱現像感光材料10が搬
送できるクリアランスに適宜調整される。好ましくは0
〜1mmである。
FIG. 1 shows an example of the configuration of a heat developing machine used in the heat developing process of the photothermographic material of the present invention. FIG. 1 is a side view of the heat developing machine. The heat developing machine of FIG. 1 flattens the photothermographic material 10 after carrying out the heat development by correcting the photothermographic material 10 into a planar shape and carrying it into the heating section while carrying out preheating. It has a carry-out roller pair 12 that carries out the heat from the heating unit while correcting the shape. The photothermographic material 10 is thermally developed while being transported from the carry-in roller pair 11 to the carry-out roller pair 12. In the conveying means for conveying the photothermographic material 10 during the heat development, a plurality of rollers 13 are provided on the side where the surface having the image forming layer contacts, and the non-woven fabric (for example, A smooth surface 14 on which aromatic polyamide or Teflon) is attached is provided. The back surface of the photothermographic material 10 is conveyed by sliding a back surface on a smooth surface 14 by driving a plurality of rollers 13 in contact with the surface having the image forming layer. Heating means roller 1
A heater 15 is provided at the upper part of the photothermographic material 3 and at the lower part of the smooth surface 14 so as to heat the photothermographic material 10 from both sides. As a heating means in this case, a plate heater or the like can be used. Although the clearance between the roller 13 and the smooth surface 14 varies depending on the member of the smooth surface, it is appropriately adjusted to a clearance that can transport the photothermographic material 10. Preferably 0
11 mm.

【0322】ローラー13の表面の材質および平滑面1
4の部材は、高温耐久性があり、熱現像感光材料10の
搬送に支障がなければ何でも良いが、ローラー表面の材
質はシリコンゴム、平滑面の部材は芳香族ポリアミドま
たはテフロン(PTFE)製の不織布が好ましい。加熱
手段としては複数のヒーターを用い、それぞれ加熱温度
を自由に設定することが好ましい。
Material of Roller 13 Surface and Smooth Surface 1
The member 4 is durable at high temperature and may be anything as long as it does not hinder the conveyance of the photothermographic material 10, but the material of the roller surface is made of silicon rubber, and the member of the smooth surface is made of aromatic polyamide or Teflon (PTFE). Non-woven fabrics are preferred. It is preferable that a plurality of heaters be used as the heating means, and that the heating temperature be set freely.

【0323】なお、加熱部は、搬入ローラー対11を有
する予備加熱部Aと、加熱ヒーター15を備えた熱処理
部Bとで構成されるが、熱現像処理部Bの上流の予備加
熱部Aは、熱現像温度よりも低く(例えば10〜30℃
程度低く)、熱現像感光材料中の水分量を蒸発させるの
に十分な温度および時間に設定することが望ましく、熱
現像感光材料10の支持体のガラス転移温度(Tg)よ
りも高い温度で、現像ムラが出ないように設定すること
が好ましい。
The heating section is composed of a preheating section A having a carry-in roller pair 11 and a heat treatment section B having a heater 15. The preheating section A upstream of the heat development processing section B is , Lower than the heat development temperature (for example, 10 to 30 ° C.)
It is desirable to set the temperature and time to be sufficient to evaporate the amount of water in the photothermographic material, and at a temperature higher than the glass transition temperature (Tg) of the support of the photothermographic material 10, It is preferable to set so as not to cause development unevenness.

【0324】また、熱現像処理部Bの下流にはガイド板
16が設置され、搬出ローラー対12とガイド板16と
を有する徐冷部が設置される。ガイド板16は熱伝導率
の低い素材が好ましく、熱現像感光材料10に変形が起
こらないようにするために冷却は徐々に行うのが好まし
い。
A guide plate 16 is provided downstream of the heat development processing section B, and a slow cooling section having the carry-out roller pair 12 and the guide plate 16 is provided. The guide plate 16 is preferably made of a material having a low thermal conductivity, and is preferably cooled gradually to prevent the photothermographic material 10 from being deformed.

【0325】以上、図示例に従って説明したが、これに
限らず、例えば特開平7-13294号に記載のものなど、本
発明に用いられる熱現像機は種々の構成のものであって
もよい。また、本発明において好ましく用いられる多段
加熱方法の場合は、上述のような装置において、加熱温
度の異なる熱源を2個以上設置し、連続的に異なる温度
で加熱するようにすればよい。
Although the above has been described with reference to the illustrated examples, the invention is not limited to this. For example, the thermal developing machine used in the present invention, such as that described in JP-A-7-13294, may have various structures. In the case of the multi-stage heating method preferably used in the present invention, two or more heat sources having different heating temperatures may be provided in the above-described apparatus, and heating may be performed continuously at different temperatures.

【0326】[0326]

【実施例】以下に実施例をもって本発明の効果を説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。
EXAMPLES The effects of the present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0327】<実施例1> 《ハロゲン化銀乳剤の調製》 (乳剤A)水700mlにアルカリ処理ゼラチン(カルシウ
ム含有量として2700ppm以下)11gおよび臭化カリウム30
mg、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム10mgを溶解して
温度40℃にてpHを5.0に合わせた後、硝酸銀18.6gを含む
水溶液159mlと臭化カリウムを1モル/リットル、(N
42RhCl5(H2O)を5×10-6モル/リットルお
よびK3IrCl6を2×10-5モル/リットルで含む水溶
液をpAg7.7に保ちながらコントロールダブルジェット法
で6分30秒間かけて添加した。ついで、硝酸銀55.5gを含
む水溶液476mlと臭化カリウムを1モル/リットルおよび
3IrCl6を2×10-5モル/リットルで含むハロゲン
塩水溶液をpAg7.7に保ちながらコントロールダブルジェ
ット法で28分30秒間かけて添加した。その後pHを下げて
凝集沈降させて脱塩処理をし、化合物Aを0.17g、平均
分子量1万5千の低分子量ゼラチン(カルシウム含有量
として20ppm以下)51.1g加え、pH5.9、pAg8.0に調整し
た。得られた粒子は平均粒子サイズ0.08μm、投影面積
変動係数9%、(100)面比率90%の立方体粒子であった。
Example 1 << Preparation of Silver Halide Emulsion >> (Emulsion A) 11 g of alkali-treated gelatin (2700 ppm or less in terms of calcium content) and potassium bromide 30 in 700 ml of water
and 10 mg of sodium benzenethiosulfonate were dissolved and the pH was adjusted to 5.0 at a temperature of 40 ° C., and 159 ml of an aqueous solution containing 18.6 g of silver nitrate and 1 mol / l of potassium bromide, (N
An aqueous solution containing 5 × 10 −6 mol / L of H 4 ) 2 RhCl 5 (H 2 O) and 2 × 10 −5 mol / L of K 3 IrCl 6 was maintained at a pAg of 7.7 by a control double jet method. Minutes over 30 seconds. Then, while maintaining 476 ml of an aqueous solution containing 55.5 g of silver nitrate and an aqueous solution of a halogen salt containing 1 mol / l of potassium bromide and 2 × 10 -5 mol / l of K 3 IrCl 6 at a pAg of 7.7, a control double jet method was used. Minutes over 30 seconds. Thereafter, the pH was lowered to cause coagulation sedimentation and desalting treatment, and 0.17 g of compound A and 51.1 g of low molecular weight gelatin (average molecular weight: 15,000, low molecular weight gelatin: 20 ppm or less) were added, pH 5.9, pAg 8.0 Was adjusted. The obtained particles were cubic particles having an average particle size of 0.08 μm, a projected area variation coefficient of 9%, and a (100) plane ratio of 90%.

【0328】こうして得たハロゲン化銀粒子を60℃に昇
温して銀1モル当たりベンゼンチオスルホン酸ナトリウ
ム76μモルを添加し、3分後にトリエチルチオ尿素71μ
モルを添加して、100分熟成し、4−ヒドロキシ−6−
メチル−1,3,3a,7−テトラザインデンを5×10
-4モル加えた後、40℃に降温させた。
The silver halide grains thus obtained were heated to 60 ° C., and 76 μmol of sodium benzenethiosulfonate was added per 1 mol of silver, and after 3 minutes, 71 μm of triethylthiourea was added.
Mol, and the mixture was aged for 100 minutes.
Methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene is 5 × 10
After adding -4 mol, the temperature was lowered to 40 ° C.

【0329】その後、40℃に温度を保ち、ハロゲン化銀
1モルに対して12.8×10-4モルの下記増感色素A、6.4×
10-3モルの化合物Bを攪拌しながら添加し、20分後に30
℃に急冷してハロゲン化銀乳剤Aの調製を終了した。
Thereafter, the temperature was maintained at 40 ° C.
12.8 × 10 -4 mole of the following sensitizing dye A per mole, 6.4 ×
10 -3 mol of compound B are added with stirring, and after 20 minutes 30
The mixture was rapidly cooled to ° C. to complete the preparation of silver halide emulsion A.

【0330】[0330]

【化46】 Embedded image

【0331】《有機酸銀分散物の調製》 <有機酸銀A>ヘンケル社製ベヘン酸(製品名Eden
orC22-85R)87.6g、蒸留水423ml、5N−NaOH水溶液49.
2ml、tert−ブチルアルコール120mlを混合し、75℃にて
1時間攪拌し反応させ、ベヘン酸ナトリウム溶液を得
た。別に、硝酸銀40.4gの水溶液206.2mlを用意し、10℃
にて保温した。635mlの譲留水と30mlのtert-ブチルアル
コールを入れた反応容器を30℃に保温し、攪拌しながら
先のベヘン酸ナトリウム溶液の全量と硝酸銀水溶液の全
量を流量一定でそれぞれ62分10秒と60分かけて添加し
た。この時、硝酸銀水溶液添加開始後7分20秒間は硝酸
銀水溶液のみが添加されるようにし、そのあとベヘン酸
ナトリウム溶液を添加開始し、硝酸銀水溶液添加終了後
9分30秒間はベヘン酸ナトリウム溶液のみが添加される
ようにした。このとき、反応容器内の温度は30℃とし、
液温度が上がらないようにコントロールした。また、ベ
ヘン酸ナトリウム溶液の添加系の配管は、スチームトレ
ースにより保温し、添加ノズル先端の出口の液温度が75
℃になるようにスチーム量をコントロールした。また、
硝酸銀水溶液の添加系の配管は、2重管の外側に冷水を
循環させることにより保温した。ベヘン酸ナトリウム溶
液の添加位置と硝酸銀水溶液の添加位置は攪拌軸を中心
として対称的な配置とし、また反応液に接触しないよう
な高さに調節した。
<Preparation of Organic Acid Silver Dispersion><Organic Acid Silver A> Behenic acid manufactured by Henkel (product name Eden)
or C22-85R) 87.6 g, distilled water 423 ml, 5N-NaOH aqueous solution 49.
2 ml, tert-butyl alcohol 120 ml mixed, at 75 ℃
The mixture was stirred and reacted for 1 hour to obtain a sodium behenate solution. Separately, prepare 206.2 ml of an aqueous solution of 40.4 g of silver nitrate,
Was kept warm. The reaction vessel containing 635 ml of deionized water and 30 ml of tert-butyl alcohol was kept at 30 ° C., and the whole amount of the sodium behenate solution and the whole amount of the silver nitrate aqueous solution were stirred at a constant flow rate of 62 minutes and 10 seconds, respectively, while stirring. Added over 60 minutes. At this time, only the aqueous solution of silver nitrate was added for 7 minutes and 20 seconds after the start of the aqueous solution of silver nitrate, and then the addition of the sodium behenate solution was started.
For 9 minutes and 30 seconds, only the sodium behenate solution was added. At this time, the temperature in the reaction vessel was 30 ° C,
The liquid temperature was controlled so as not to rise. In addition, the piping of the addition system for the sodium behenate solution was kept warm by steam tracing, and the liquid temperature at the outlet of the addition nozzle tip was 75%.
The steam amount was controlled so as to reach ℃. Also,
The piping of the silver nitrate aqueous solution addition system was kept warm by circulating cold water outside the double tube. The addition position of the sodium behenate solution and the addition position of the aqueous silver nitrate solution were arranged symmetrically with respect to the stirring axis, and were adjusted to a height such that they did not come into contact with the reaction solution.

【0332】ベヘン酸ナトリウム溶液を添加終了後、そ
のままの温度で20分間攪拌放置し、25℃に降温した。そ
の後、吸引濾過で固形分を濾別し、固形分を濾水の伝導
度が30μS/cmになるまで水洗した。こうして得られた固
形分は、乾燥させないでウエットケーキとして保管し
た。
After the addition of the sodium behenate solution was completed, the mixture was left to stir at the same temperature for 20 minutes, and the temperature was lowered to 25 ° C. Thereafter, the solid content was separated by suction filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of the filtrate became 30 μS / cm. The solid thus obtained was stored as a wet cake without drying.

【0333】得られたベヘン酸銀の粒子の形態を電子顕
微鏡撮影により評価したところ、平均投影面積径0.52μ
m、平均粒子厚み0.14μm、平均球相当径の変動係数15
%の鱗片状の結晶であった。
When the morphology of the obtained silver behenate grains was evaluated by electron microscopic photographing, the average projected area diameter was 0.52 μm.
m, average particle thickness 0.14μm, variation coefficient of average sphere equivalent diameter 15
% Scaly crystals.

【0334】つぎに、以下の方法でベヘン酸銀の分散物
を作成した。乾燥固形分100g相当のウエットケーキに
対し、ポリビニルアルコール(商品名:PVA-217,平均重
合度:約1700)7.4gおよび水を添加し、全体量を385g
としてからホモミキサーにて予備分散した。次に予備分
散済みの原液を分散機(商品名:マイクロフルイダイザ
ーM−110S−EH、マイクロフルイデックス・イン
ターナショナル・コーポレーション製、G10Zインタ
ラクションチャンバー使用)の圧力を1750kg/cm2
調節して、三回処理し、ベヘン酸銀分散物を得た。冷却
操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャンバーの
前後に各々装着し、冷媒の温度を調節することで所望の
分散温度に設定した。
Next, a dispersion of silver behenate was prepared by the following method. To a wet cake having a dry solid content of 100 g, 7.4 g of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217, average degree of polymerization: about 1700) and water are added, and the total amount is 385 g.
And then predispersed with a homomixer. Next, the pressure of the predispersed undiluted solution was adjusted to 1750 kg / cm 2 with a dispersing machine (trade name: Microfluidizer M-110S-EH, manufactured by Microfluidics International Corporation, using a G10Z interaction chamber), and This was repeated to obtain a silver behenate dispersion. In the cooling operation, a coiled heat exchanger was mounted before and after the interaction chamber, and the temperature of the refrigerant was adjusted to a desired dispersion temperature.

【0335】こうして得たベヘン酸銀分散物に含まれる
ベヘン酸銀粒子は体積加重平均直径0.52μm、、変動係
数15%の粒子であった。粒子サイズの測定は、Malvern I
nstruments Ltd.製MasterSizerXにて行った。また電子
顕微鏡撮影により評価すると、長辺と短辺の比が1.5、
粒子厚み0.14μm、平均アスペクト比(粒子の投影面積
の円相当径と粒子厚みの比)が5.1であった。
The silver behenate particles contained in the silver behenate dispersion thus obtained were particles having a volume-weighted average diameter of 0.52 μm and a coefficient of variation of 15%. Particle size measurements are made using the Malvern I
Performed with MasterSizerX manufactured by nstruments Ltd. When evaluated by electron microscopy, the ratio of long side to short side was 1.5,
The grain thickness was 0.14 μm, and the average aspect ratio (ratio of the circle equivalent diameter of the projected area of the grain to the grain thickness) was 5.1.

【0336】《1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフ
ェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン:還元剤固体微粒子
分散物の調製》1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフ
ェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン25gに対してクラレ
(株)製MPポリマーのMP-203の20wt%水溶液を25g、日信
化学(株)製サフィノール104Eを0.1g、メタノール2gと
水48ml添加してよく撹拌して、スラリーとして3時間放
置した。その後、1mmのジルコニアビーズを360g用意し
てスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機(1/4Gサ
ンドグラインダーミル:アイメックス(株)製)にて3時
間分散し還元剤固体微粒子分散物を調製した。粒子径
は、粒子の80wt%が0.3μm以上1.0μm以下であった。
<< Preparation of 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane: Reducing Agent Solid Fine Particle Dispersion >> 1,1-bis (2-hydroxy- 3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane
25 g of a 20 wt% aqueous solution of MP-203 (manufactured by MP Polymer Co., Ltd.), 0.1 g of Safinol 104E manufactured by Nissin Chemical Co., Ltd., 2 g of methanol and 48 ml of water were added, stirred well, and left as a slurry for 3 hours. Thereafter, 360 g of 1 mm zirconia beads were prepared, put into a vessel together with the slurry, and dispersed for 3 hours with a disperser (1 / 4G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) to prepare a dispersion of solid fine particles of a reducing agent. . As for the particle diameter, 80 wt% of the particles were 0.3 μm or more and 1.0 μm or less.

【0337】《ポリハロゲン化合物の固体微粒子分散物
の調製》ポリハロゲン化合物−Aの30gに対してクラレ
(株)製MPポリマーのMP-203を4g、化合物C0.25g
と、水66gを添加し良く撹拌し、その後0.5mmのジルコニ
アシリケートビーズを200g用意してスラリーと一緒にベ
ッセルに入れ、分散機(1/16Gサンドグラインダーミ
ル:アイメックス(株)製)にて5時間分散し、固体微
粒子分散物を調製した。粒子径は、粒子の80wt%が0.3μ
m以上1.0μm以下であった。ポリハロゲン化合物−Bに
ついてもポリハロゲン化合物−Aと同様に固体微粒子分
散物を調製し、同様な粒子径となった。
<< Preparation of solid fine particle dispersion of polyhalogen compound >> For 30 g of polyhalogen compound-A, 4 g of MP-203, an MP polymer manufactured by Kuraray Co., Ltd., and 0.25 g of compound C
Then, 66 g of water was added and stirred well, and then 200 g of 0.5 mm zirconia silicate beads were prepared and put into a vessel together with the slurry, and then dispersed in a dispersing machine (1 / 16G sand grinder mill: manufactured by Imex Co., Ltd.). The mixture was dispersed for a time to prepare a solid fine particle dispersion. Particle size is 80μ% of particles 0.3μ
m or more and 1.0 μm or less. Regarding polyhalogen compound-B, a solid fine particle dispersion was prepared in the same manner as polyhalogen compound-A, and had the same particle diameter.

【0338】《造核剤の固体微粒子分散物の調製》表5
に記載の造核剤10gに対して、ポリビニルアルコール
(クラレ製PVA-217)2.5g、水87.5gを添加し良く攪拌し
てスラリーとして3時間放置した。その後、0.5mmのジル
コニアビーズを240g用意してスラリーと一緒にベッセル
に入れ、分散機(1/16Gサンドグラインダーミル:アイ
メックス(株)製)にて10時間分散し、固体微粒子分散
物を調製した。粒子径は、粒子の80wt%が0.1μm以上1.
0μm以下で、平均粒径0.5μmであった。
<< Preparation of Solid Fine Particle Dispersion of Nucleating Agent >> Table 5
2.5 g of polyvinyl alcohol (PVA-217 manufactured by Kuraray) and 87.5 g of water were added to 10 g of the nucleating agent described in 1 above, and the mixture was stirred well and allowed to stand as a slurry for 3 hours. Thereafter, 240 g of 0.5 mm zirconia beads were prepared, put into a vessel together with the slurry, and dispersed for 10 hours with a dispersing machine (1 / 16G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) to prepare a solid fine particle dispersion. . Particle size, 80 wt% of the particles is 0.1 μm or more 1.
It was 0 μm or less and the average particle size was 0.5 μm.

【0339】《式(Z)のカブリ防止剤の固体微粒子分
散物の調製》式(Z)のカブリ防止剤の30gに対して、
クラレ(株)製MPポリマーのMP-203を3gと水87ml添加
してよく攪拌して、スラリーとして3時間放置した。そ
の後、上記還元剤固体微粒子分散物の調製と同様にし
て、式(Z)のカブリ防止剤の固体微粒子分散物を調製
した。粒子径は、粒子の80wt%が0.3μm以上1.0μm以
下であった。
<< Preparation of Solid Fine Particle Dispersion of Formula (Z) Antifoggant >> With respect to 30 g of the formula (Z) antifoggant,
3 g of MP-203 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) and 87 ml of water were added, and the mixture was stirred well and left as a slurry for 3 hours. Thereafter, a solid fine particle dispersion of the antifoggant of the formula (Z) was prepared in the same manner as in the preparation of the reducing agent solid fine particle dispersion. As for the particle diameter, 80 wt% of the particles were 0.3 μm or more and 1.0 μm or less.

【0340】《乳剤層塗布液の調製》上記で作成した有
機酸銀微結晶分散物の銀1モルに対して、以下のバイン
ダー、素材、およびハロゲン化銀乳剤Aを添加して、水
を加えて、乳剤層塗布液とした。
<< Preparation of Emulsion Layer Coating Solution >> The following binder, material, and silver halide emulsion A were added to 1 mol of silver of the organic acid silver microcrystal dispersion prepared above, and water was added. Thus, an emulsion layer coating solution was obtained.

【0341】 バインダー;ラックスター3307B 固形分として 397g (大日本インキ化学工業(株)製;SBRラテックスでガラス転移温度17℃) 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン 固形分として 100g ポリハロゲン化合物-A 固形分として 0.06モル 造核剤 表5に記載の種類および量 式(P)の有機ハロゲン化合物 表5に記載の種類および量 ポリハロゲン化合物-B 固形分として表5に記載の量 エチルチオスルホン酸ナトリウム 0.30g ベンゾトリアゾール 1.04g ポリビニルアルコール(クラレ(株)製PVA-235) 10.8g 6-iso-プロピルフタラジン 15.0g オルトりん酸二水素ナトリウム・2水和物 0.37g 式(Z)のカブリ防止剤 固形分として表5に記載の量 化合物W(メタノール溶液) 5.0g 染料A 783nmの光学濃度が0.3になる塗布量(目安として0.37g) ハロゲン化銀乳剤A Ag量として0.06モル 膜pH調整剤(硫酸あるいはNaOH) 表5に示す膜
pHになるように適宜添加
Binder; Luckstar 3307B 397 g as solid content (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc .; glass transition temperature of 17 ° C. with SBR latex) 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)- 3,5,5-trimethylhexane 100 g as solid content Polyhalogen compound-A 0.06 mol as solid content Nucleating agent Type and amount shown in Table 5 Organic halogen compound of formula (P) Type and amount shown in Table 5 Poly Halogen compound-B Amount shown in Table 5 as solid content Sodium ethylthiosulfonate 0.30 g Benzotriazole 1.04 g Polyvinyl alcohol (Kuraray PVA-235) 10.8 g 6-iso-propylphthalazine 15.0 g Orthophosphoric acid Sodium dihydrogen dihydrate 0.37 g Antifoggant of formula (Z) Amount shown in Table 5 as solid content Compound W (methanol solution) 5.0 g Dye A Coating amount at which optical density of 783 nm becomes 0.3 (as a guide) 0.37 g) Silver halide emulsion A 0.06 mol as Ag content Film pH adjuster (sulfuric acid or NaOH) Add as appropriate to achieve the film pH shown in Table 5.

【0342】[0342]

【化47】 Embedded image

【0343】《乳剤面下層保護層塗布液の調製》メチル
メタクリレート/スチレン/2-エチルヘキシルアクリレ
ート/2-ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸
=58.9/8.6/25.4/5.1/2(wt%)の粒子径120nmのポ
リマーラテックス溶液(共重合体でガラス転移温度57
℃、固形分濃度として21.5wt%、造膜助剤として化合物
Dをラテックスの固形分に対して15wt%含有)956gにH2O
を加え、化合物E 1.62g、マット剤(ポリスチレン粒
子、平均粒径7μm)1.98gおよびポリビニルアルコール
(クラレ(株)製,PVA-235)23.6gを加え、さらにH2Oを
加えて、塗布液を調製した。
<< Preparation of Emulsion Surface Lower Layer Protective Layer Coating Solution >> Methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid = 58.9 / 8.6 / 25.4 / 5.1 / 2 (wt%) particle size 120 nm Polymer latex solution (copolymer with glass transition temperature 57
° C, solids concentration 21.5wt%, compound D as film-forming aid containing 15wt% based on solids of latex) 956g of H 2 O
Was added, 1.62 g of compound E, 1.98 g of a matting agent (polystyrene particles, average particle size of 7 μm) and 23.6 g of polyvinyl alcohol (PVA-235, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) were added, and H 2 O was further added. Was prepared.

【0344】《乳剤面上層保護層塗布液の調製》メチル
メタクリレート/スチレン/2-エチルヘキシルアクリレ
ート/2-ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸
=58.9/8.6/25.4/5.1/2(wt%)の粒子径70nmのポ
リマーラテックス溶液(共重合体でガラス転移温度54
℃、固形分濃度として21.5wt%、造膜助剤として化合物
Dをラテックスの固形分に対して15wt%含有)630gにH2O
を加え、カルナヴァワックス(中京油脂(株)製、セロ
ゾール524)30wt%溶液6.30g、化合物E 0.72g、化合物
F 7.95g、マット剤(ポリスチレン粒子、平均粒径7μ
m)1.18gおよびポリビニルアルコール(クラレ(株)製,
PVA-235)8.30gを加え、さらに乳剤層の銀1モルに対し
化合物Sを10mmol、さらにH2Oを加えて、塗布液を調製
した。
<< Preparation of Coating Solution for Emulsion Surface Upper Layer Protective Layer >> Methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid = 58.9 / 8.6 / 25.4 / 5.1 / 2 (wt%) particle diameter 70 nm Polymer latex solution (copolymer with a glass transition temperature of 54
C, 21.5 wt% solids concentration, compound D as a film-forming aid containing 15 wt% based on the solids content of the latex) 630 g of H 2 O
6.30 g of a 30 wt% solution of carnava wax (manufactured by Chukyo Yushi Co., Ltd., Cersol 524), compound E 0.72 g, compound F 7.95 g, matting agent (polystyrene particles, average particle diameter 7 μm)
m) 1.18 g and polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd.,
8.30 g of PVA-235), 10 mmol of compound S and 1 mol of H 2 O were added to 1 mol of silver in the emulsion layer to prepare a coating solution.

【0345】[0345]

【化48】 Embedded image

【0346】《バック/下塗り層のついたPET支持体の
作製》 (1)支持体 テレフタル酸とエチレングリコールを用い、常法に従
い、IV(固有粘度)=0.66(フェノール/テトラクロル
エタン=6/4(重量比)中25℃で測定)のPETを得
た。これをペレット化した後、130℃で4時間乾燥し、3
00℃で溶融後T型ダイから押し出して急冷し、熱固定後
の膜厚が120μmになるような厚みの未延伸フイルムを
作製した。
<< Preparation of PET Support with Back / Undercoat Layer >> (1) Support Using terephthalic acid and ethylene glycol, IV (intrinsic viscosity) = 0.66 (phenol / tetrachloroethane = 6 / 4 (measured at 25 ° C. in weight ratio). After pelletizing this, it was dried at 130 ° C for 4 hours,
After being melted at 00 ° C., the film was extruded from a T-die and rapidly cooled to prepare an unstretched film having a thickness of 120 μm after heat setting.

【0347】これを周速の異なるロールを用い、3.3倍
に縦延伸、ついでテンターで4.5倍に横延伸を実施し
た。このときの温度はそれぞれ、110℃、130℃であっ
た。この後、240℃で20秒間熱固定後これと同じ温度で
横方向に4%緩和した。この後、テンターのチャック部を
スリットした後、両端にナール加工を行い、4.8kg/cm2
で巻きとった。このようにして、幅2.4m、長さ3500m、
厚み120μmのロールを得た。
This was longitudinally stretched 3.3 times using rolls having different peripheral speeds, and then horizontally stretched 4.5 times using a tenter. The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. After that, it was heat-set at 240 ° C. for 20 seconds and relaxed 4% in the lateral direction at the same temperature. Then, after slitting the chuck part of the tenter, knurling is performed on both ends, and 4.8 kg / cm 2
Rolled up. In this way, width 2.4m, length 3500m,
A roll having a thickness of 120 μm was obtained.

【0348】 (2)下塗り層(a) ポリマーラテックス-(コア部90wt%、シェル部10wt%のコアシェルタイプのラ テックスで、コア部:塩化ビニリデン/メチルアクリレート/メチルメタクリレ ート/アクリロニトリル/アクリル酸=93/3/3/0.9/0.1(wt%)、シェル部:塩 化ビニリデン/メチルアクリレート/メチルメタクリレート/アクリロニトリル /アクリル酸=88/3/3/3/3(wt%)から成る重量平均分子量38000のポリマーラテ ックス) 固形分量として 3.0g/m2 2,4-ジクロロ-6-ヒドロキシ-s-トリアジン 23mg/m2 マット剤(ポリスチレン、平均粒子径2.4μm) 1.5mg/m2 (2) Undercoat layer (a) Polymer latex (a core-shell type latex having a core portion of 90 wt% and a shell portion of 10 wt%, core portion: vinylidene chloride / methyl acrylate / methyl methacrylate / acrylonitrile / acrylic) Acid = 93/3/3 / 0.9 / 0.1 (wt%), shell: weight consisting of vinylidene chloride / methyl acrylate / methyl methacrylate / acrylonitrile / acrylic acid = 88/3/3/3/3 (wt%) Polymer latex with average molecular weight of 38000) As solid content 3.0 g / m 2 2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine 23 mg / m 2 Matting agent (polystyrene, average particle diameter 2.4 μm) 1.5 mg / m 2

【0349】 (3)下塗り層(b) 脱イオン処理ゼラチン (Ca2+含量0.6ppm、ゼリー強度230g) 50mg/m2 (3) Undercoat layer (b) Deionized gelatin (Ca 2+ content 0.6 ppm, jelly strength 230 g) 50 mg / m 2

【0350】 (4)導電層 ジュリマーET-410(日本純薬(株)製) 96mg/m2 アルカリ処理ゼラチン(分子量約10000、Ca2+含量30ppm ) 42mg/m2 脱イオン処理ゼラチン(Ca2+含量0.6ppm) 8mg/m2 化合物A 0.2mg/m2 ポリオキシエチレンフェニルエーテル 10mg/m2 スミテックスレジンM-3 (水溶性メラミン化合物、住友化学工業(株)製) 18mg/m2 染料A 783nmの光学濃度が1.2になる塗布量 SnO2/Sb(9/1重量比、針状微粒子、長軸/短軸=20〜30、 石原産業(株)製) 160mg/m2 マット剤(ポリメチルメタクリレート、平均粒子径5μm) 7mg/m2 (4) Conductive Layer Jurimar ET-410 (manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.) 96 mg / m 2 alkali-treated gelatin (molecular weight: about 10,000, Ca 2+ content: 30 ppm) 42 mg / m 2 deionized gelatin (Ca 2 + content 0.6 ppm) 8 mg / m 2 compound A 0.2 mg / m 2 polyoxyethylene phenyl ether 10 mg / m 2 Sumitex resin M-3 (water-soluble melamine compound, Sumitomo chemical Co., Ltd.) 18 mg / m 2 dye A Amount of coating at which the optical density of 783 nm becomes 1.2 SnO 2 / Sb (9/1 weight ratio, acicular fine particles, major axis / minor axis = 20 to 30, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) 160 mg / m 2 matting agent ( Polymethyl methacrylate, average particle size 5μm) 7mg / m 2

【0351】 (5)保護層 ポリマーラテックス− (メチルメタクリレート/スチレン/2−エチルヘキシルアクリレート/ 2−ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸 =59/9/26/5/1(重量%の共重合体)) 固形分量として 1000mg/m2 ポリスチレンスルホン酸塩(分子量1000〜5000) 2.6mg/m2 セロゾール524(中京油脂(株)) 25mg/m2 スミテックスレジンM-3 (水溶性メラミン化合物、住友化学工業(株)製) 218mg/m2 (5) Protective layer Polymer latex-(methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid = 59/9/26/5/1 (weight% copolymer)) solid 1000 mg / m 2 polystyrenesulfonate as quantity (molecular weight 1000~5000) 2.6mg / m 2 Cellosol 524 (Chukyo Yushi (Co.)) 25mg / m 2 Sumitex resin M-3 (water-soluble melamine compound, Sumitomo chemical ( 218mg / m 2

【0352】(6)バック/下塗り層のついたPET支
持体の作製 支持体(ベース)の両面に下塗り層(a)と下塗り層(b)を
順次塗布し、それぞれ180℃、4分間乾燥した。つい
で、下塗り層(a)と下塗り層(b)を塗布した上の一方の側
の面に導電層と保護層を順次塗布し、それぞれ180℃、4
分間乾燥して、バック/下塗り層のついたPET支持体を
作製した。下塗り層(a)の乾燥厚みは2.0μmであっ
た。
(6) Preparation of PET support with back / undercoat layer Undercoat layer (a) and undercoat layer (b) were sequentially applied on both sides of the support (base), and dried at 180 ° C. for 4 minutes each. . Then, the undercoat layer (a) and the undercoat layer (b) were applied, and a conductive layer and a protective layer were sequentially applied to one surface on one side.
After drying for minutes, a PET support with a back / subbing layer was prepared. The dry thickness of the undercoat layer (a) was 2.0 μm.

【0353】(7)搬送熱処理 (7-1)熱処理 このようにして作製したバック/下塗り層のついたPET
支持体を160℃設定した全長200m熱処理ゾーンに入れ、
張力3kg/cm2、搬送速度20m/分で搬送した。 (7-2)後熱処理 上記熱処理に引き続き、40℃のゾーンに15秒間通して後
熱処理を行い、巻き取った。この時の巻き取り張力は10
kg/cm2であった。
(7) Heat treatment for transport (7-1) Heat treatment PET with back / undercoat layer produced in this way
Place the support in a heat treatment zone with a total length of 200 m set at 160 ° C,
It was transported at a tension of 3 kg / cm 2 and a transport speed of 20 m / min. (7-2) Post heat treatment After the heat treatment, post heat treatment was carried out by passing through a zone at 40 ° C for 15 seconds, and the film was wound. The winding tension at this time is 10
kg / cm 2 .

【0354】[0354]

【化49】 Embedded image

【0355】《熱現像感光材料の作製》前記下塗り層
(a)と下塗り層(b)を塗布した側のPET支持体の下塗り層
の上に前記の乳剤層塗布液を塗布銀量1.6g/m2になるよ
うに塗布した。さらにその上に、前記乳剤面下層保護層
塗布液をポリマーラテックスの固形分塗布量が1.31g/m2
になるように乳剤塗布液と共に同時重層塗布した。その
後でその上に前記乳剤面上層保護層塗布液をポリマーラ
テックスの固形分塗布量が3.02g/m2になるように塗布
し、熱現像感光材料を作製した。得られた熱現像感光材
料の画像形成層側の膜面pHは表5の通り、ベック平滑
度は660秒であり、反対側の膜面pHは5.9、ベック平滑
度は560秒であった。
<< Preparation of Photothermographic Material >> Undercoat Layer
The emulsion layer coating solution described above was applied onto the undercoat layer of the PET support on the side coated with (a) and the undercoat layer (b) so that the coating amount of silver was 1.6 g / m 2 . Furthermore, the coating liquid for the solid content of the polymer latex was 1.31 g / m 2.
At the same time as the emulsion coating solution. Thereafter, the coating solution for the upper protective layer on the emulsion surface was applied thereon so that the coating amount of the solid content of the polymer latex was 3.02 g / m 2 , to produce a photothermographic material. As shown in Table 5, the film surface pH on the image forming layer side of the obtained photothermographic material was Beck smoothness of 660 seconds, the film surface pH on the opposite side was 5.9, and the Beck smoothness was 560 seconds.

【0356】《写真性能の評価》 (露光処理)得られた熱現像感光材料を、ビーム径(ビー
ム強度の1/2のFWHM)12.56μm、レーザー出力50m
W、出力波長783nmの半導体レーザーを搭載した単チャン
ネル円筒内面方式のレーザー露光装置を使用し、ミラー
の回転数を変化させることにより露光時間を、出力値を
変えることにより露光量を調整し、2×10-8秒で露光し
た。この時のオーバーラップ係数0.449にした。
<< Evaluation of Photographic Performance >> (Exposure Processing) The obtained photothermographic material was subjected to a beam diameter (FWHM of 1/2 of beam intensity) of 12.56 μm and a laser output of 50 m.
W, using a single-channel cylindrical inner surface type laser exposure device equipped with a semiconductor laser with an output wavelength of 783 nm, adjust the exposure time by changing the number of rotations of the mirror, adjust the exposure amount by changing the output value, 2 Exposure was performed in × 10 −8 seconds. The overlap coefficient at this time was set to 0.449.

【0357】(熱現像処理)露光済みの熱現像感光材料を
図1の熱現像機を用いて、熱現像処理部のローラー表面
材質はシリコンゴム、平滑面はテフロン(登録商標)不
織布にして、搬送の線速度20mm/秒で予備加熱部90〜110
℃で15秒(予備加熱部と熱現像処理部の駆動系は独立し
ており、熱現像部との速度差は-0.5%〜-1%に設定)、熱
現像処理部121℃で20秒、徐冷部15秒で熱現像処理を行
った。なお、幅方向の温度精度は±1℃であった。
(Thermal Development Process) The exposed photothermographic material was heated using a thermal developing machine shown in FIG. 1 and the roller surface material of the thermal development processing section was made of silicon rubber and the smooth surface was made of Teflon (registered trademark) nonwoven fabric. Preheating section 90 to 110 at a linear speed of 20 mm / sec
15 seconds at ℃ (the drive system of the pre-heating unit and the heat development unit are independent, and the speed difference with the heat development unit is set to -0.5% to -1%), 20 seconds at 121 ° C. The heat development was performed in the slow cooling section for 15 seconds. The temperature accuracy in the width direction was ± 1 ° C.

【0358】(写真性能の評価)得られた画像の評価をマ
クベスTD904濃度計(可視濃度)により行った。測定の結
果は、Dmax、γ(コントラスト)で評価した。γは露光
量の対数を横軸として、Dmin部分を差し引いた濃度0.3
と3.0の点を結ぶ直線の傾きで表した。Dmaxは実用的に
は3.5以上が必要で、4.0以上が好ましく、γは実用的に
は10以上が必要で、15以上が好ましい。
(Evaluation of photographic performance) The obtained images were evaluated using a Macbeth TD904 densitometer (visible density). The measurement results were evaluated in terms of Dmax and γ (contrast). γ is the density of 0.3 minus the Dmin part, with the logarithm of the exposure amount as the horizontal axis
It was expressed by the slope of a straight line connecting the points 3.0 and 3.0. Dmax is practically required to be 3.5 or more, preferably 4.0 or more, and γ is practically required to be 10 or more, and preferably 15 or more.

【0359】また、熱現像処理部の温度を123℃にする
こと以外は、上記と同様に露光、現像を行い、発生した
黒ポツを目視評価した。「5」が最も良く、「1」が最
も悪い品質を表す。「3」が実用限界である。
The exposure and development were carried out in the same manner as described above except that the temperature of the heat development processing section was set to 123 ° C., and the generated black spots were visually evaluated. “5” represents the best quality and “1” represents the worst quality. "3" is the practical limit.

【0360】また、上記の露光方法で、黒化面積95%の
平網サンプル(A2サイズ)を作成し、上記の標準条件
で熱現像処理を行い、処理ムラを目視評価した。「5」
が最も良く、「1」が最も悪い品質を表す。「3」が実
用限界である。各熱現像感光材料について上記評価を実
施した結果を表5に示す。
Further, a flat screen sample (A2 size) having a blackening area of 95% was prepared by the above-mentioned exposure method, subjected to a heat development process under the above-mentioned standard conditions, and visually evaluated for processing unevenness. "5"
Is the best and "1" represents the worst quality. "3" is the practical limit. Table 5 shows the results of the above evaluations performed on each photothermographic material.

【0361】[0361]

【表5】 [Table 5]

【0362】本発明の熱現像感光材料で、硬調かつ黒ポ
ツ、処理ムラの発生しにくい性能が得られることがわか
る。また、膜pHが低い方がコントラスト、Dmaxの観点
で有利であることがわかる。また、造核剤として式
(A)、式(B)で表される環状化合物を用いた方が、
黒ポツ、処理ムラの観点で有利なことはわかる。また、
式(Z)のカブリ防止剤を用いた方が、黒ポツ、処理ム
ラの観点で有利なことはわかる。以上より、本発明の効
果は明らかである。
It can be seen that the photothermographic material of the present invention provides high contrast, black spots, and performance in which processing unevenness is less likely to occur. Also, it can be seen that a lower film pH is more advantageous in terms of contrast and Dmax. Moreover, when using the cyclic compound represented by the formula (A) or (B) as a nucleating agent,
It can be seen that black spots and processing unevenness are advantageous. Also,
It can be seen that the use of the antifoggant of the formula (Z) is more advantageous in terms of black spots and processing unevenness. From the above, the effect of the present invention is clear.

【0363】[0363]

【本発明の効果】本発明によれば、高Dmaxで硬調で
あり、黒ポツ、処理ムラの発生がない。
According to the present invention, high Dmax and high contrast are obtained, and no black spots and no processing unevenness occur.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】熱現像機の一構成例を示す側面図である。FIG. 1 is a side view illustrating a configuration example of a heat developing machine.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 熱現像感光材料 11 搬入ローラー対 12 搬出ローラー対 13 ローラー 14 平滑面 15 加熱ヒーター 16 ガイド板 A 予備加熱部 B 熱現像処理部 C 徐冷部 REFERENCE SIGNS LIST 10 heat-developable photosensitive material 11 carry-in roller pair 12 carry-out roller pair 13 roller 14 smooth surface 15 heating heater 16 guide plate A preheating section B heat development processing section C slow cooling section

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H123 AB00 AB03 AB23 AB25 AB28 AB29 BA00 BA01 BB00 BB02 BB03 BB09 BB27 BB31 BB33 BB34 CA00 CA05 CB00 CB03 EA07  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H123 AB00 AB03 AB23 AB25 AB28 AB29 BA00 BA01 BB00 BB02 BB03 BB09 BB27 BB31 BB33 BB34 CA00 CA05 CB00 CB03 EA07

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に非感光性銀塩、感光性ハロゲ
ン化銀およびバインダーを有する熱現像感光材料におい
て、前記感光性ハロゲン化銀を含有する画像形成層を有
する側に下記式(1)、式(2)および式(3)で表さ
れる化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物、なら
びに下記式(P)で表される化合物を少なくとも1種含
有することを特徴とする熱現像感光材料。 【化1】 [式(1)において、R1、R2およびR3は、それぞれ独
立に水素原子または置換基を表し、Zは電子吸引性基ま
たはシリル基を表す。式(1)において、R1とZ、R2
3、R1とR2、およびR3とZは、互いに結合して環状
構造を形成していてもよい。式(2)において、R4は置
換基を表す。式(3)において、XおよびYはそれぞれ独
立に水素原子または置換基を表し、AおよびBはそれぞ
れ独立にアルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミ
ノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ
基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基またはヘテロ環
アミノ基を表す。式(3)において、XとY、およびAと
Bは、それぞれ互いに結合して環状構造を形成していて
もよい。式(P)において、Z1およびZ2は各々ハロゲ
ン原子を表し、X1は水素原子または電子吸引性基を表
し、Y1は−CO−基または−SO2−基を表し、Qはア
リーレン基または二価のヘテロ環基を表し、Lは連結基
を表し、Wはカルボキシル基もしくはその塩、スルホ基
もしくはその塩、リン酸基、水酸基、4級アンモニウム
基またはポリエチレンオキシ基を表す。nは0または1
を表す。]
In a photothermographic material having a non-photosensitive silver salt, a photosensitive silver halide and a binder on a support, the following formula (1) is provided on the side having the image forming layer containing the photosensitive silver halide. ), At least one compound selected from the compounds represented by the formulas (2) and (3), and at least one compound represented by the following formula (P). material. Embedded image [In the formula (1), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing group or a silyl group. In the formula (1), R 1 and Z, R 2 and R 3 , R 1 and R 2 , and R 3 and Z may be bonded to each other to form a cyclic structure. In the formula (2), R 4 represents a substituent. In the formula (3), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and A and B each independently represent an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group, a heterocyclic group. Represents an oxy group, a heterocyclic thio group or a heterocyclic amino group. In the formula (3), X and Y, and A and B may be bonded to each other to form a cyclic structure. In the formula (P), Z 1 and Z 2 each represent a halogen atom, X 1 represents a hydrogen atom or an electron-withdrawing group, Y 1 represents a —CO— group or a —SO 2 — group, and Q represents an arylene. L represents a linking group; W represents a carboxyl group or a salt thereof, a sulfo group or a salt thereof, a phosphate group, a hydroxyl group, a quaternary ammonium group or a polyethyleneoxy group. n is 0 or 1
Represents ]
【請求項2】 支持体上に非感光性銀塩、感光性ハロゲ
ン化銀およびバインダーを有する熱現像感光材料におい
て、前記感光性ハロゲン化銀を含有する画像形成層を有
する側に下記式(A)および式(B)で表される化合物
から選ばれる少なくとも1種の化合物、ならびに下記式
(P)で表される化合物を少なくとも1種含有すること
を特徴とする熱現像感光材料。 【化2】 [式(A)または式(B)において、Z11およびZ12は各々
これらを含んで5員から7員の環構造を形成しうる非金
属原子団を表し、Y11およびY12は各々−C(=O)−基
または−SO2−基を表し、X11およびX12は各々ヒド
ロキシ基(もしくはその塩)、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、ヘテロ環オキシ基、メルカプト基(もしくはそ
の塩)、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チ
オ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ
基、ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミ
ド基またはヘテロ環基を表す。Y13は水素原子または置
換基を表す。式(P)において、Z1およびZ2はハロゲ
ン原子を表し、X1は水素原子または電子吸引性基を表
し、Y1は−CO−基または−SO2−基を表し、Qはア
リーレン基または二価のヘテロ環基を表し、Lは連結基
を表し、Wはカルボキシル基もしくはその塩、スルホ基
もしくはその塩、リン酸基、水酸基、4級アンモニウム
基またはポリエチレンオキシ基を表わす。nは0または
1を表す。]
2. In a photothermographic material having a non-photosensitive silver salt, a photosensitive silver halide and a binder on a support, the following formula (A) is provided on the side having the image forming layer containing the photosensitive silver halide. ) And a compound represented by the formula (B), and a photothermographic material comprising at least one compound represented by the following formula (P). Embedded image [In the formula (A) or the formula (B), Z 11 and Z 12 each represent a nonmetallic atomic group capable of forming a 5- to 7-membered ring structure, and Y 11 and Y 12 each represent- X represents a C (= O) — group or —SO 2 — group, and X 11 and X 12 each represent a hydroxy group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, a mercapto group (or a salt thereof) , An alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an acylamino group, a sulfonamide group or a heterocyclic group. Y 13 represents a hydrogen atom or a substituent. In the formula (P), Z 1 and Z 2 represent a halogen atom, X 1 represents a hydrogen atom or an electron-withdrawing group, Y 1 represents a —CO— group or a —SO 2 — group, and Q represents an arylene group. Alternatively, L represents a divalent heterocyclic group, L represents a linking group, and W represents a carboxyl group or a salt thereof, a sulfo group or a salt thereof, a phosphoric acid group, a hydroxyl group, a quaternary ammonium group or a polyethyleneoxy group. n represents 0 or 1. ]
【請求項3】 さらに下記式(Z)で表される化合物を
少なくとも1種含有する請求項1または2の熱現像感光
材料。 【化3】 [式(Z)において、Mは水素原子またはk価の陽イオ
ンを表し、Rは置換基を表す。mは1〜4の整数で、n
≧2の時、複数個あるRは同一でも異なっていても良
い。kは1以上の整数であり、Mが水素原子の時k=1
である。]
3. The photothermographic material according to claim 1, further comprising at least one compound represented by the following formula (Z). Embedded image [In the formula (Z), M represents a hydrogen atom or a k-valent cation, and R represents a substituent. m is an integer of 1 to 4;
When ≧ 2, a plurality of Rs may be the same or different. k is an integer of 1 or more, and when M is a hydrogen atom, k = 1
It is. ]
【請求項4】 膜pHが6.0以下である請求項1〜3の
いずれかの熱現像感光材料。
4. The photothermographic material according to claim 1, wherein the film pH is 6.0 or less.
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