JP2000284500A

JP2000284500A - 感光材料処理装置及び処理液の調液方法

Info

Publication number: JP2000284500A
Application number: JP11086719A
Authority: JP
Inventors: Shinichi Miyamoto; 真一宮本; Takayuki Iwamoto; 隆行岩本
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1999-03-29
Filing date: 1999-03-29
Publication date: 2000-10-13

Abstract

(57)【要約】【課題】給水用のポンプの吐出量の変化にかかわらず
正確な仕込み液の調製を可能とする。【解決手段】現像槽に所定量の原液を投入した後、液
面が所定のレベルに達するまで、給水ポンプを作動さ
せ、このときの作動時間から吐出量を演算し、この吐出
量が原液を所定の比率で希釈するための給水ポンプの運
転時間を設定する（ステップ２００〜２１２）。この
後、設定した時間まで給水ポンプを作動させることによ
り、原液を所定の比率で希釈した仕込み液が調製される
（ステップ２１４〜２２０）。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光材料を処理液
によって処理する感光材料処理装置に係り、詳細には、
貯留槽内で処理液の原液と希釈液によって処理液を調液
する感光材料処理装置及び処理液の調液方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば感光性平版印刷版（以下「ＰＳ
版」とする）等の感光材料は、画像露光された後に、感
光材料処理装置（以下「ＰＳ版プロセッサー」と言う）
によって現像処理される。このＰＳ版プロセッサーで
は、ＰＳ版を搬送しながら現像液によって現像処理した
後、洗浄及び不感脂化処理を施す。ＰＳ版の処理に用い
る処理液である現像液は、貯留槽の一種である現像槽内
に貯留されており、ＰＳ版は、この現像槽内を現像液に
浸漬されながら搬送される。

【０００３】このようなＰＳ版プロセッサーの現像槽に
は、ヒータ等の温調手段が設けられており、現像液がＰ
Ｓ版を最適な状態で仕上げることができる温度となるよ
うにこの温調手段によって温度調整を行うようにしてい
る。このとき、ＰＳ版プロセッサーには、現像槽内の液
面低下を検出する液面センサを設け、現像液の液量が低
下すると、ヒータを停止させるなどして、ヒータによる
空焚きを防止している。

【０００４】一方、現像槽に貯留されている現像液は、
ＰＳ版の現像処理量や時間経過に伴って劣化して、徐々
に処理性能が低下する。このために、ＰＳ版プロセッサ
ーでは、ＰＳ版の処理量及び時間経過に応じて現像補充
液を補充して、現像液の処理性能の低下を抑えるように
している。これと共に、ＰＳ版プロセッサーでは、所定
の期間が経過するごとに、現像槽内の現像液を廃棄して
ＰＳ版の処理を開始するときの新しい現像液を現像槽内
で仕込むことを行うようになっている。

【０００５】この現像液の仕込み液の調液は、現像液の
原液と希釈水を予め設定している一定の比率で現像槽内
で混合させるようになっている。このときには、例え
ば、原液ポンプと給水ポンプによって原液と希釈水を一
定の比率で供給したり、一定量の原液を現像槽に供給し
た後、この原液の量に応じた希釈水を供給する。このよ
うにして、原液と希釈水を現像槽に供給した後、原液と
希釈水が均一に混じるように循環ポンプによって循環さ
せながら電導度センサによって仕込み液の電導度を測定
し、この電導度が所定の範囲となるように原液または希
釈水を追加供給して現像液の仕込み液を調液するように
している。

【０００６】ところで、現像液の電動度を測定する電導
度センサは高価であり、電導度センサを設けることはＰ
Ｓ版プロセッサーのコストアップに繋がってしまう。

【０００７】このために、電導度センサを設けずに、原
液と希釈水の供給量を計測して、原液と希釈水の量の比
率が一定となるように原液ポンプと給水ポンプを所定時
間動作させる方法が考えられる。

【０００８】しかしながら、原液や希釈水の供給に用い
るポンプは、電圧や周波数の変化は勿論、配管の長さや
取り回しの状態などの種々の要因によって変化するため
に、ポンプの動作時間から原液や希釈水の供給量を判断
したのでは、安定した感度となる仕込み液の調液は困難
となっている。

【０００９】また、液面センサによって原液の供給量や
希釈水の供給量を判断する場合、原液の液面レベルと、
原液に希釈水を加えた液面レベルを検出する必要があ
り、液面センサの数が増えてしまう。これと共に、ＰＳ
版プロセッサーの水平出しができていないと、正確な供
給量を判断することはできない。

【００１０】すなわち、液面センサは、現像槽内でのＰ
Ｓ版の搬送路や、ＰＳ版を搬送するためのローラなどの
部材と干渉しないように、現像槽内の周縁部分に配置さ
れているため、ＰＳ版プロセッサーが水平に対して傾い
て設置されていると、現像槽に対する現像液の液面も傾
いてしまうため、液面センサによって液面レベルを正確
に検出することは困難となる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事実を考
慮してなされたものであり、貯留槽内での液面レベルを
正確に検出することができる感光材料処理装置を提案す
ることを目的とする。また、本発明は、電導度センサを
用いることは勿論、液面センサの数を増やすことなく、
処理液の正確な調液が可能な処理液の調液方法を提案す
ることを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の感光材料処理装置は、感光材料を処理液によ
って処理する感光材料処理装置であって、処理液を貯留
する貯留槽内の処理液の液面レベルを検出する液面セン
サの液面検出部を、前記貯留槽の槽壁内の所定の平面部
分の中央となる位置に配置していることを特徴とする。

【００１３】この発明によれば、貯留槽壁内で平面部分
の中央となる位置に液面センサの液面検出部を配置して
いる。液面が傾いた状態でも、槽壁によって区画された
内部では、中央の液面レベルが変化しないため、この位
置に液面センサの液面検出部を配置することにより、貯
留槽に傾きが生じていても、液面センサによって正確な
液面レベルを検出することができる。

【００１４】本発明に係る処理液の調液方法は、貯留槽
内に処理原液と処理原液を所定比率で希釈する希釈液と
を供給して、処理液を調液する処理液の調液方法であっ
て、前記貯留槽内に所定量の処理原液を供給したのち、
給液ポンプを作動させて給液された前記貯留槽内の液面
レベルが所定のレベルに達するまでの時間を計測して、
該計測結果から前記給液ポンプの単位時間あたりの給液
量を演算し、この単位時間あたりの給液量に基づいて設
定した運転時間で前記給液ポンプをさらに作動させて所
定量の希釈液を供給することにより、処理原液を所定比
率で希釈液により希釈した処理液を調液することを特徴
とする。この発明によれば、予め設定している所定量の
処理原液を貯留槽に供給した後に、貯留槽内の液面レベ
ルが所定レベルに達するまで給液ポンプを作動させて処
理原液を希釈するのに必要な希釈液量より少ない所定量
の希釈液を供給し、給液ポンプの作動時間を計測する。

【００１５】給液ポンプの単位時間あたりの給液量は、
この計測結果をもとに給液ポンプの作動時間とこの作動
時間内での給液量から求められる。ここで、給液ポンプ
の単位時間あたりの給液量と、処理原液を希釈するのに
必要な給液量から液面レベルが所定レベルに達するまで
給液した量を差し引いた量から給液ポンプの運転時間を
設定し、大まかな量の希釈液を供給した後、希釈液をさ
らに供給して最終的に所定量の希釈液を供給するため
に、この運転時間で給液ポンプを作動させることによ
り、希釈液をさらに供給して処理原液を所定の比率で希
釈液で希釈した処理液を正確に調液することができる。
給液ポンプの単位時間あたりの供給量は、電源電圧、周
波数、配管の取りまわし等によって変化するが、これら
の環境条件は、急変するものではない。このため、処理
液を調液するときに、給液ポンプの単位時間あたりの供
給量を求めることにより、高価な電導度センサを用いる
ことなく、また、環境条件にかかわらず適正な量の希釈
液の給液を行うことができる。

【００１６】このような本発明の処理液の調液方法とし
ては、給液ポンプを作動させて給液された前記貯留槽内
の液面レベルが所定のレベルに達するまでの時間を計測
して、該計測結果から前記給液ポンプの単位時間あたり
の給液量を演算し、この単位時間あたりの給液量に基づ
いて設定した運転時間でさらに前記給液ポンプを作動さ
せて所定量の希釈液を供給したのち、所定量の処理原液
を供給することにより、処理原液を所定比率で希釈液に
より希釈した処理液を調液してもよい。

【００１７】また、本発明の調液方法としては、給水ポ
ンプを作動させて給液された前記貯留槽内の液面レベル
が所定のレベルに達するまでの時間を計測して、該計測
結果から前記給液ポンプの単位時間あたりの給液量を演
算し、所定量の処理原液を供給したのち、単位時間あた
りの給液量に基づいて設定した運転時間でさらに前記給
液ポンプを作動させて所定量の希釈液を供給することに
より、処理原液を所定比率で希釈液により希釈した処理
液を調液しても良い。

【００１８】さらに、本発明の調液方法としては、給水
ポンプを作動させて給液された前記貯留槽内の液面レベ
ルが所定のレベルに達するまでの時間を計測して、該計
測結果から前記給液ポンプの単位時間あたりの給液量を
演算し、この単位時間あたりの給液量に基づいて設定し
た運転時間でさらに前記給液ポンプを作動させて所定量
の希釈液を供給しながら、所定量の処理原液を供給する
ことにより、処理原液を所定比率で希釈液により希釈し
た処理液を調液しても良い。

【００１９】本発明の処理液の調液方法では、最初に給
液ポンプの単位時間あたりの給液量を演算し、この演算
結果に基づいて希釈液が所定量の処理原液を所定比率で
希釈する量となるように給液ポンプを作動させる。

【００２０】この希釈液によって希釈される処理原液
は、希釈液の供給に先だって貯留槽に供給してもよく、
希釈液を貯留槽に供給した後に貯留槽に供給するように
しても良い。また、処理原液は、給液ポンプの単位時間
あたりの供給量を演算した後、給液ポンプを作動させる
前に貯留槽へ供給するようにしてもよく、給液ポンプに
よって希釈液を供給しながら貯留槽へ供給するようにし
ても良い。

【００２１】このような本発明では、前記液面レベルを
前記貯留槽内の液面の下限レベルを検出する液面センサ
を用いて検出することができる。これによれば、例え
ば、ヒータ等の加熱手段による空焚きを防止するために
処理液の下限レベルを検出する液面センサを用いること
ができる。また、処理液を調液するために、専用の液面
センサを用いる必要がない。また、この液面センサが貯
留槽の傾きにかかわらず正確に液面レベルを検出するよ
うに設けることにより、より正確な処理液の調整が可能
となる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施の形態を説明する。図１には、本実施の形態に感
光材料処理装置として適用したＰＳ版プロセッサー１０
の概略構成を示している。ＰＳ版プロセッサー１０は、
図示しない画像焼付装置によって画像焼付けが行われた
感光性平版印刷版（以下「ＰＳ版１２」と言う）の現像
処理を行う。

【００２３】ＰＳ版プロセッサー１０は、ＰＳ版１２を
現像液によって処理するための現像部２２と、ＰＳ版１
２に付着した現像液を水洗処理する水洗部２４と、水洗
後のＰＳ版１２にガム液を塗布して不感脂化処理するフ
ィニッシャー部２６と、ＰＳ版１２を乾燥させる乾燥部
２８と、によって構成されており、ＰＳ版プロセッサー
１０の内部には、現像液を貯留する貯留槽の一種である
現像部２２の現像槽４０と、水洗水を回収する水洗部２
４の水洗槽４２及びガム液を回収する同じく貯留槽の一
種であるフィニッシャー部２６のフィニッシャー槽４４
が設けられている。

【００２４】一方、ＰＳ版プロセッサー１０の外板パネ
ル１４には、スリット状の挿入口３４及び排出口３６が
それぞれ設けられている。挿入口３４の外部には、挿入
台１６が設けられ、ＰＳ版１２の挿入口３４への挿入を
案内している。

【００２５】現像部２２、水洗部２４及びフィニッシャ
ー部２６の上方を覆うカバー３５には、現像部２２と水
洗部２４との間にＰＳ版１２を挿入するためのリエント
リー用の挿入口（副挿入口）３８が設けられている。そ
の挿入口３８は、ＰＳ版１２の版面の修正のために使用
されてＰＳ版１２の版面に残った現像液を除いた後に、
水洗及び不感脂化処理を行うためのＰＳ版１２の挿入口
となっている。

【００２６】現像部２２のＰＳ版１２の挿入側には、一
対のゴム製搬送ローラ３２が配設されており、画像が焼
付けられたＰＳ版１２は、挿入口３４から、この一対の
搬送ローラ３２の間に挿入されるようになっている。一
対の搬送ローラ３２は、図示しない駆動手段の駆動力に
よって回転して、挿入されたＰＳ版１２を引き入れ、水
平方向に対して約１５°から３１°の範囲の角度で現像
部２２へ送り込むようになっている。

【００２７】現像部２２では、上方が開放され、底部中
央が下方へ向けて突出された略山形状の現像槽４０内に
現像液が貯留されている。この現像部２２には、ＰＳ版
１２の搬送方向に沿った下側にガイド板４６が、現像槽
４０の底部に沿って配設されている。

【００２８】ガイド板４６には、複数の自由回転するコ
ロ（小型のローラ）４８が回転軸をＰＳ版１２の搬送方
向と交わる方向にして取り付けられており、現像部２２
へ送り込まれたＰＳ版１２は、このコロ４８によって案
内されながらガイド板４６の表面に沿って搬送される。
このとき、コロ４８が回転するため、ＰＳ版１２に摺動
による傷付きが発生しない。

【００２９】ガイド板４６は、現像槽４０の底部に沿っ
て逆山形形状とされ、現像部２２には、ガイド板４６の
最低位置から下流側において、ＰＳ版１２の上面に対応
する位置に、ブラシローラ６０が配設されている。ま
た、現像部２２には、ガイド板４６の下流側先端部近傍
に、ＰＳ版１２の下面に対応するようにブラシローラ６
２が配設されている。

【００３０】ブラシローラ６０、６２は、図示しない駆
動手段の駆動力が伝達されて、ＰＳ版１２の搬送方向に
回転するようになっている。

【００３１】ＰＳ版１２は、現像液に浸漬されることに
より、感光層が露光画像に応じて不要な感光層が膨潤す
る。ブラシローラ６０、６２は、現像液によって膨潤し
た感光層をかき落とす役目を有しており、この機能を十
分に発揮させるためには、ブラシローラ６０、６２がＰ
Ｓ版１２の表面を所定の押圧力で押圧する必要がある。
このため、ブラシローラ６０には、ガイド板４６に取り
付けられているコロ４８の一部が対応し、ブラシローラ
６２には、複数の薄形ローラが同軸的に軸支された串ロ
ーラ６４が対応している。これにより、ＰＳ版１２は、
所定の押圧力でブラシローラ６０、６２に接触しながら
搬送され、不要となった感光層が確実に除去される。

【００３２】また、現像部２２には、ブラシローラ６２
と串ローラ６４とが配設された位置よりも下流側に、Ｐ
Ｓ版１２の下面に対向するように串ローラ６６が配設さ
れおり、ＰＳ版１２は、この串ローラ６６に支持されな
がら現像液の液面へ向けて搬送される。

【００３３】さらに、現像部２２には、最終段位置にゴ
ム製搬送ローラ対６８が配設されており、ＰＳ版１２
は、現像液の液中から送り出されて搬送ローラ対６８に
挟持されることにより、現像液中か引き出されながら、
表面に付着した現像液が絞り落とされる。なお、現像液
中には、複数のスプレーパイプ９０が設けられており、
これらのスプレーパイプ９０によって現像液をＰＳ版１
２の表裏面へ向けて吐出することにより、ＰＳ版１２の
現像処理を促進するようになっている。

【００３４】現像部２２の現像液液面には、液面蓋５０
が配置されている。この液面蓋５０は、下面が現像槽４
０に貯留される現像液の液面より下方となるように配置
されている。これにより、現像槽４０内の現像液の液面
が空気と接触する面積を狭め、空気中の炭酸ガスによる
現像液の劣化と現像液中の水分の蒸発を抑えている。な
お、液面蓋５０には、ＰＳ版１２の搬送方向の上流側及
び下流側端部下面に串ローラ５０Ａ、５０Ｂが設けられ
ており、これにより現像部２２内を搬送されるＰＳ版１
２が液面蓋５０の下面と接触して表面（主に感光面）が
損傷するのを防止している。

【００３５】現像槽４０及び液面蓋５０には、ＰＳ版１
２の搬送方向上流側と下流側に、ゴム製で可撓性を有す
るブレード８８Ａ、８８Ｂ、８８Ｃ、８８Ｄが設けられ
ている。

【００３６】ブレード８８Ａは、液面蓋５０の挿入口３
４側に取り付けられており、先端が搬送ローラ対３２の
上側のローラの周面に当接しており、ブレード８８Ｂ
は、現像槽４０の挿入口３４側の槽壁に取り付けられ
て、先端が搬送ローラ対３２の下側のローラの周面に当
接している。また、ブレード８８Ｃは、液面蓋５０の水
洗槽４２側に取り付けられており、先端が現像液の液面
より上方に配置されている搬送ローラ対６８の上側のロ
ーラの周面に接触しており、ブレード８８Ｄは、現像槽
４０と水洗槽４２との間の隔壁に取り付けられて、先端
が搬送ローラ対６８の下側のローラの周面に当接してい
る。

【００３７】これにより、現像槽４０は、上方が液面蓋
５０によって覆われ、挿入口３４側及び水洗部２４側
が、搬送ローラ対３２とブレード８８Ａ、８８Ｂ及び、
搬送ローラ対６８とブレード８８Ｃ、８８Ｄによって空
気の流れが遮断され、ＰＳ版１２の搬送方向と交わる方
向の両側は、現像槽４０の図示しない側板によって遮断
されて、現像液が空気中ん炭酸ガスと接触することによ
る劣化及び現像液中の水分の蒸発が防止されている。

【００３８】搬送ローラ対６８によって現像部２２から
引き出されたＰＳ版１２は、水洗部２４へ送り込まれ
る。この水洗部２４には、水洗槽４２の上方に二対の搬
送ローラ対５２、５４が配設されている。これらの搬送
ローラ対５２、５４は、ＰＳ版１２の搬送路を形成して
おり、図示しない駆動手段の駆動力を受けて回転し、現
像部２２から送り込まれたＰＳ版１２を挟持搬送する。

【００３９】搬送ローラ対５２、５４の間には、ＰＳ版
１２の搬送路を挟んで上下に対で、スプレーパイプ５６
が配設されている。スプレーパイプ５６は、軸線方向が
搬送ローラ対５２、５４の軸線方向に沿って配置され、
ＰＳ版１２の搬送路に対向する位置に、パイプ内部と連
通する複数個の吐出孔が設けられている。

【００４０】このスプレーパイプ５６には、ＰＳ版１２
の搬送に同期して、図示しない水洗水タンクからポンプ
によって水洗水が供給されるようになっており、水洗部
２４内を搬送されるＰＳ版１２は、スプレーパイプ５６
に供給されて吐出孔から吐出される水洗水によって表裏
両面が水洗される。このとき、スプレーパイプ５６から
吐出された水洗水は、ＰＳ版１２の表裏面に速やかに広
がって、ＰＳ版１２の表裏両面を水洗すると、搬送ロー
ラ５４によってＰＳ版１２から絞り落とされる。ここ
で、スプレーパイプ５６から搬送されるＰＳ版１２に水
洗水を吐出する方向は、上側のスプレーパイプ５６では
搬送方向上流側、下側のスプレーパイプ５６では搬送方
向下流側としているが、これに限定するものではなく、
他の方向であっても良い。

【００４１】水洗部２４では、スプレーパイプ５６から
吐出されてＰＳ版１２から落下した水洗水及び搬送ロー
ラ対５２、５４によってＰＳ版１２から絞り落とされた
水洗水を水洗槽４２内に回収するようになっている。

【００４２】水洗部２４の下流側に設けられているフィ
ニッシャー部２６には、フィニッシャー槽４４内にガム
液が貯留されている。また、フィニッシャー槽４４の上
方に一対の搬送ローラ対５８が設けられており、ＰＳ版
１２は、水洗部２４の搬送ローラ対５４によって搬送ロ
ーラ対５８の間へ送り込まれる。

【００４３】この搬送ローラ対５８の上流側には、ＰＳ
版１２の搬送路の上方にスプレーパイプ７０が配設され
ている。スプレーパイプ７０は、軸線方向が搬送ローラ
対５８の軸線方向に沿って配置され、ＰＳ版１２に搬送
路側にパイプ内部と連通する複数個の吐出孔が形成され
ている。また、フィニッシャー部２６には、ＰＳ版１２
の搬送路の下方に吐出ユニット７２が配設されている。
この吐出ユニット７２には、ＰＳ版１２の幅方向（搬送
方向と直交する方向）に亘って連続するスリットが形成
されいる。

【００４４】このスプレーパイプ７０及び吐出ユニット
７２には、ＰＳ版１２の搬送に同期して、フィニッシャ
ー槽４４内のガム液が、図示しないポンプによって供給
される。スプレーパイプ７０は、このガム液をＰＳ版１
２の搬送方向下流側へ向けて吐出し、吐出ユニット７２
は、このガム液をスリット孔からと出する。

【００４５】これにより、フィニッシャー部２６を搬送
されるＰＳ版１２には、表面にスプレーパイプ７０に供
給されたガム液が吐出孔から吐出されて表面に広がり、
保護膜が形成される。また、ＰＳ版１２は、裏面側が吐
出ユニット７２のスリット部分に接触しながら搬送され
ることにより、スリットから吐出されるガム液が裏面側
の全面に付着して保護膜が形成される。なお、スプレー
パイプ７０からのガム液の吐出方向は、ＰＳ版１２の搬
送方向下流側に限らず他の方向であっても良い。また、
ＰＳ版１２の搬送路の下方に吐出ユニット７２を配設し
て、ガム液をＰＳ版１２に供給するようにしているが、
これに限らず、スプレーパイプを配設して、このスプレ
ーパイプの吐出孔からＰＳ版１２へガム液を吐出するよ
うにしても良い。

【００４６】フィニッシャー部２６でガム液が塗布され
たＰＳ版１２は、搬送ローラ対５８に挟持されて、ガム
液が表裏面に若干残った状態で排出口３６から排出さ
れ、フィニッシャー部２６の下流側に配設されている乾
燥部２８へ送られる。なお、搬送ローラ対５８によって
ＰＳ版１２から絞り落とされたガム液は、フィニッシャ
ー槽４４内に回収される。

【００４７】乾燥部２８には、排出口３６の近傍にＰＳ
版１２を支持する支持ローラ７４が配設され、また、乾
燥部２８内でのＰＳ版１２の搬送路の中央部及び排出口
７６の近傍に、搬送ローラ７８及び搬送ローラ８０が配
設されている。支持ローラ７４及び中央部の搬送ローラ
７８は、軸直角方向の断面が花形形状とされ、排出口７
６の近傍の搬送ローラ８０と共に、図示しない駆動手段
の駆動力によって回転駆動されるようになっている。

【００４８】乾燥部２８に送り込まれたＰＳ版１２は、
支持ローラ７４及び搬送ローラ７８、８０によって乾燥
部２８内を搬送される。なお、排出口３６には、ＰＳ版
１２を処理液によって処理するフィニッシャー部２６ま
でのプロセッサ部と乾燥部２８とを分離するシャッタ８
２が設けられている。

【００４９】乾燥部２８には、支持ローラ７４と搬送ロ
ーラ７８との間、及び搬送ローラ７８と搬送ローラ８０
との間に、ＰＳ版１２の搬送路を挟んで対でダクト８４
Ａ、８４Ｂが配設されている。ダクト８４Ａ、８４Ｂの
それぞれは、長手方向がＰＳ版１２の幅方向に沿って配
設されており、ＰＳ版１２の搬送路に対向する面には、
スリット孔８６が設けられている。

【００５０】このダクト８４Ａ、８４Ｂには、図示しな
い乾燥風発生手段によって発生された乾燥風が、長手方
向の一端側から供給されるようになっており、ダクト８
４Ａ、８４Ｂのそれぞれは、供給された乾燥風をスリッ
ト孔８６からＰＳ版１２の搬送路経向けて吐出する。こ
れにより、乾燥部２８内を搬送されるＰＳ版１２には、
ダクト８４Ａ、８４Ｂのスリット孔８６から吐出される
乾燥風が吹き付けられ、表裏面に塗布されているガム液
が乾燥される。

【００５１】ところで、現像部２２に設けられている現
像槽４０は、底部の中央に矩形箱体形状で所定の容積の
補助槽１００が形成されている。現像槽４０の底部は、
補助槽１００へ向けて傾斜されており、この補助槽１０
０内が現像槽４０内で最も低位となっている。

【００５２】この補助槽１００内には、現像槽４０内の
現像液を所定の温度に保つために加熱するヒータ１０２
が配置されている。また、この補助槽１００内には、液
面センサ１０４が配置されている。

【００５３】図２（Ａ）に示されるように、液面センサ
１０４は、現像槽４０の上方から見た平面形状（図示省
略）が矩形形状となっている補助槽１００の底板１０６
から立設されておりシャフト１０８にフロート１１０が
設けられており、このシャフト１０８に沿ってフロート
１１０が上下移動するようになっている。液面センサ１
０４は、このフロート１１０がシャフト１０８の液面検
出部である所定の位置に達することにより接点を切り替
えて現像液の存在を検知するようになっている。

【００５４】ＰＳ版プロセッサー１０では、現像槽４０
内の現像液が減少し、この現像液の液面が補助槽１００
内で所定のレベルに達したときに、この液面レベルを液
面センサ１０４によって検出するようになっている。こ
れにより、現像液が減少することによるヒータ１０２の
空焚きを防止している。

【００５５】なお、以下では、このフロート式の液面セ
ンサ１０４を用いて説明するが、液面センサとしては、
これに限るものではなく、所定の位置で液面レベルを検
知できる機能を備えたものであればよい。例えば、図２
（Ｂ）に示されるように、一対の電極９２を用いた電極
式であってもよい。この電極９２は、絶縁材料によって
被覆された先端に検出部９４が形成されており、この検
出部９４が検出する液面レベルである平面部分１０５の
中央部に位置するように、補助槽１００の底板１０６か
ら立設させればよい。

【００５６】一方、ＰＳ版プロセッサー１０では、現像
液を仕込むときに、空の状態の現像槽４０内に一定量の
原液を投入し、所定の比率でこの原液を希釈するよう
に、希釈水を現像槽４０内に供給するようにしている。

【００５７】このとき、ＰＳ版プロセッサー１０では、
現像槽４０に投入した原液に、原液の量に応じて予め設
定している量の希釈水より少ない量の希釈水を加えたと
きに、液面レベルが液面センサ１０４によって検出さ
れ、その後、予め設定している量までの残りの希釈水を
加えるようにしている。すなわち、ＰＳ版プロセッサー
１０には、液面センサ１０４によって検出する液面での
液量及び調液の液量が予め測定ないし設定されており、
この液量が後述するコントローラに記憶されている。

【００５８】図３には、現像槽４０に接続される配管の
概略系統を示している。現像槽４０には、補助槽１００
の底板１０６に、配管１１２の一端が接続されている。
この配管１１２は、廃液バルブ１１４を介しており、廃
液管１１６が分岐されている。廃液管１１６は、廃液タ
ンク１１８内に開口されており、これにより、廃液バル
ブ１１４を開くと、現像槽４０内の現像液が、補助タン
ク１００を通過して、廃液タンク１１８内に排出され
る。

【００５９】配管１１２には、循環ポンプ１２０が設け
られ、他端側が、現像槽４０内に設けられているスプレ
ーパイプ９０に接続されている。これにより、循環ポン
プ１２０が作動すると、現像槽４０内の現像液がスプレ
ーパイプ９０に供給されて、スプレーパイプ９０から現
像槽４０内に吐出され、現像槽４０内での現像液の循環
が行われる。

【００６０】また、ＰＳ版プロセッサー１０内には、現
像補充液の原液（現像補充原液）を貯留する現像補充原
液タンク１２４と、希釈用の水を貯留する水タンク１２
６が設けられている。水タンク１２６内の水は、ガム液
の希釈や水洗水としても用いられるようになっており、
水タンク１２６内には、例えば機外からフロートバルブ
等を介して水道水等が供給され、常に所定量の水が貯留
された状態が保たれる。

【００６１】ＰＳ版プロセッサー１０には、現像槽４０
に隣接して混合槽１２８が設けられている。この混合槽
１２８は、底部に接続された配管１３０が、現像槽４０
内に開口されている。また、混合槽１２８内には、配管
１３２、１３４の一端が開口されている。

【００６２】配管１３２の他端は、現像補充原液タンク
１２４内に挿入されており、配管１３４の他端は、水タ
ンク１２６内に挿入されている。また、配管１３２の中
間部には、原液補充ポンプ１３６が設けられ、配管１３
４の中間部には、希釈水ポンプ１３８が設けられてい
る。

【００６３】これにより、原液補充ポンプ１３６と希釈
水ポンプ１３８を作動させることにより、現像補充原液
と希釈水が所定の比率で混合槽１２８へ供給され、この
混合槽１２８から互いに混じりながら現像補充液として
現像槽４０へ流れ込み、現像補充液として補充される。

【００６４】なお、現像補充液を補充することにより、
現像槽４０で余剰となった現像液は、オーバーフロー槽
１４０へオーバーフローして、廃液タンク１１８に流れ
込むようになっている。

【００６５】水タンク１２６には、配管１４２の一端が
挿入されている。この配管１４２の他端は、現像槽４０
上方で開口されており、中間部に給水ポンプ１４４が設
けられている。この給水ポンプ１４４は、ＰＳ版１２の
現像処理を開始するときに使用する現像液の仕込み液を
調液するときに、現像液の原液の希釈用として水タンク
１２６内の水を直接現像槽４０へ供給するときに用いら
れる。なお、本実施の形態では、補充液の希釈用と仕込
み液の希釈用の水を別系統で供給するように説明する
が、同一の系統、すなわち、給水ポンプ１４４を省略し
て、希釈水ポンプ１３８を用いるようにしてもよい。

【００６６】一方、ＰＳ版プロセッサー１０では、図示
しないマイコンを備えたコントローラ１５０が設けられ
ている。このコントローラ１５０には、循環ポンプ１２
０、原液補充ポンプ１３６、希釈水ポンプ１３８及び給
水ポンプ１４４と共に、ヒータ１０２、液面センサ１０
４及び現像補充原液タンク１２４内に設けられているレ
ベルセンサ等が接続されている。また、コントローラ１
５０には、ＰＳ版プロセッサー１０の運転操作を行うた
めの操作パネル１５４等が接続されており、現像槽４０
への現像液の補充を含むＰＳ版プロセッサー１０の作動
を制御している。

【００６７】また、コントローラ１５０は、現像槽４０
内で仕込み液を調液するときに、給水ポンプ１４４の作
動を制御するようになっている。

【００６８】ＰＳ版プロセッサー１０では、現像液の仕
込み液を調液するときに、まず、空の状態の現像槽４０
内に一定量の現像液の原液を手作業で投入する。この現
像液の原液の投入量は、補助槽１００内での原液の液面
が液面センサ１０４による検出レベルに達しない量であ
り、コントローラ１５０に設けられている図示しないメ
モリに予め記憶されているが、操作パネル１５４から入
力されるものであってもよい。

【００６９】コントローラ１５０は、現像液の原液が現
像槽４０内に投入されたのち、投入された現像液の原液
の量に対応する希釈水の量は予め設定されており、この
設定希釈水量より少ない量の希釈水を、補助槽１００内
の液面レベルが、液面センサ１０４によって検出される
まで、給水ポンプ１４４を作動させて給水を行う。この
とき、コントローラ１５０には、液面センサ１０４によ
って液面を検出するときの液量が記憶されており、給水
ポンプ１４４の作動時間とから給水ポンプ１４４の単位
時間あたりの給水量を演算する。

【００７０】この後、投入した現像液の原液の量に対応
する設定希釈水量から液面センサ１０４によって検出さ
れるまで供給した量を差し引いた残りの希釈水の量と、
演算した給水ポンプ１４４の単位時間あたりの給水量と
から、残りの希釈水を給水刷り給水ポンプ１４４の作動
時間を算出し、この算出した作動時間に基づいて給水ポ
ンプ１４４を作動させて、希釈水の給水を行うようにな
っている。

【００７１】なお、本実施の形態では、現像槽４０に現
像液の原液を投入した後に、希釈水を給水するものとし
て説明するが、先ず、現像液の原液を投入する前に液面
センサ１０４によって検出されるまで給水ポンプ１４４
を作動させて希釈水を給水して、給水ポンプ１４４の単
位時間あたりの給水量を演算した後、現像液の現役を投
入して、残りの希釈水を給水するようにしてもよく、ま
た、残りの希釈水の給水を行いながら現像液の原液を投
入するようにしてもよく、さらに、設定希釈水量の給水
が終了した後に現像液の原液を現像槽４０へ投入するな
どの任意の順序で現像液の原液の投入と希釈水の給水を
行うことができる。

【００７２】以下に、本実施の形態の作用を説明する。

【００７３】ＰＳ版プロセッサー１０では、図示しない
焼付装置等によって画像が記録されたＰＳ版１２が、挿
入台１６に載置されてから、挿入口３４へ挿入される。

【００７４】ＰＳ版プロセッサー１０では、挿入口３４
からＰＳ版１２が挿入されると、一対の搬送ローラ３２
によってこのＰＳ版１２を引き入れ、現像部２２へ送り
込む。なお、ＰＳ版プロセッサー１０では、挿入口３４
を通過するＰＳ版１２を図示しないセンサによって検出
すると、タイマーをスタートさせる。このタイマーは、
ＰＳ版プロセッサー１０でＰＳ版１２を搬送するための
駆動手段の動作と共に、水洗部２４のスプレーパイプ５
６から水洗水を吐出させるタイミングや、フィニッシャ
ー部２６におけるガム液の吐出タイミングの計測に用い
る。

【００７５】現像部２２では、搬送ローラ３２によって
ＰＳ版１２が水平方向に対して１５°〜３１°の範囲の
挿入角度で送りこまれて現像液に浸漬されながら搬送さ
れる。また、このＰＳ版１２は、１７°〜３１°の範囲
の排出角度で現像液中から送り出される。ＰＳ版１２
は、現像部２２で現像槽４０内に貯留されている現像液
に浸漬されることにより、露光画像に応じて感光層が膨
潤し、膨潤した感光層が支持体から除去される。

【００７６】現像部２２の現像液中から送り出されたＰ
Ｓ版１２は、搬送ローラ対６８によって引き出され、表
裏面に付着している現像液が絞り取られながら水洗部２
４へ送られる。水洗部２４では、このＰＳ版１２を搬送
ローラ５２、５４によって挟持搬送する。

【００７７】一方、水洗部２４では、前記したタイマー
の計測時間に基づいてスプレーパイプ５６から水洗水を
吐出する。これにより、ＰＳ版１２は、搬送ローラ５２
と搬送ローラ５４の間を搬送されるときに、表裏面が水
洗水によって水洗される。また、この水洗水は、搬送ロ
ーラ５２、５４によってＰＳ版１２に付着して現像部２
２から持ち出された現像液と共に、ＰＳ版１２から絞り
落とされる。

【００７８】水洗処理の終了したＰＳ版１２は、搬送ロ
ーラ５４によってフィニッシャー部２６へ送り込まれ
る。フィニッシャー部２６では、このＰＳ版１２の表裏
面にスプレーパイプ７０及び吐出ユニット７２から吐出
するガム液を塗布して、ＰＳ版１２に不感脂化処理を施
す。

【００７９】ガム液が塗布されたＰＳ版１２は、排出口
３６を通過して、乾燥部２８へ送り込まれる。なお、排
出口３６に設けているシャッタ８２は、ＰＳ版１２の処
理開始のタイミングないしＰＳ版１２がフィニッシャー
部２６から送り出されるタイミングで作動して排出口３
６を開き、乾燥部２８内の乾燥風が不必要にフィニッシ
ャー部２６へ入り込んでガム液が搬送ローラ対５８等に
固着してしまうのを防止している。また、排出口３６か
ら空気が入り込み、現像部２２まで及んで空気中の炭酸
ガスにより現像液が劣化するのを防止したり、現像液中
の水分や水洗水が蒸発して排出口３６から出てしまうの
を防止している。

【００８０】乾燥部２８では、支持ローラ７４及び搬送
ローラ７８、８０によってＰＳ版１２を搬送しながら、
ダクト８４Ａ、８４Ｂから乾燥風を吹き付ける。これに
より、ＰＳ版１２は、塗布されているガム液によって保
護膜が形成されて排出口７６から排出される。

【００８１】ＰＳ版プロセッサー１０では、ＰＳ版１２
の現像処理を行いながら、ＰＳ版１２の処理量、時間経
過等に基づいて、所定のタイミングで原液補充ポンプ１
３６及び希釈水ポンプ１３８を、現像補充原液と希釈水
が所定の比率となるように作動させて、現像補充液の補
充を行う。なお、現像補充液の補充は、従来公知の方法
を適用でき本実施の形態では詳細な説明を省略する。

【００８２】ところで、ＰＳ版プロセッサー１０では、
所定のタイミング（例えば１ヶ月から３ヶ月内の所定期
間が経過するごと）で現像槽４０内の現像液の入れ換え
を行う。このとき、現像槽４０内の古い現像液を排出し
た後、新たな現像液を現像槽４０内で仕込み液として調
液する。

【００８３】ここで、図４に示されるフローチャートを
参照しながら、ＰＳ版プロセッサー１０での仕込み液の
調液を説明する。

【００８４】このフローチャートは、ＰＳ版プロセッサ
ー１０での仕込み液の調液の概略を示しており、現像槽
４０から古い現像液を排出した状態で操作パネル１５４
の操作によって仕込み液の調液が設定されると、最初の
ステップ２００では、現像液の原液の投入が完了したか
否かを確認する。

【００８５】ＰＳ版プロセッサー１０では、現像液の原
液を手作業で現像槽４０内に投入するようになってお
り、現像液の原液の投入が完了したことを示すスイッチ
操作がなされることにより、ステップ２００で肯定判定
されて、ステップ２０２へ移行する。なお、現像液の原
液を投入したのみの状態では、補助槽１００内の液面レ
ベルが液面センサ１０４で検出するレベルに満たない状
態となっている。

【００８６】コントローラ１５０は、ステップ２０２へ
移行することにより給水ポンプ１４４を作動させて、現
像槽４０への給水を開始する。これと共に、ステップ２
０４では、図示しないタイマーをリセット／スタートさ
せて、給水ポンプ１４４の運転時間の計測を行う。

【００８７】補助槽１００内では、給水が開始されるこ
とにより、液面が上昇する。コントローラ１５０では、
ステップ２０６で、補助槽１００内の液面レベルが、液
面センサ１０４によって検出されるレベルに達したか否
かを確認する。

【００８８】一般に、現像槽４０内の液面は、現像槽４
０、すなわちＰＳ版プロセッサー１０が正確に水平に調
整されて設置していなければ、現像槽４０に対して傾い
てしまう。このとき、液面センサをＰＳ版１２の搬送と
干渉しないように現像槽４０の周縁部に配置している
と、現像槽４０の傾きによって検出する液面レベルが大
きく変化してしまう。

【００８９】これに対して、ＰＳ版プロセッサー１０で
は、液面センサ１０４を矩形箱体形状に形成した補助槽
１００内に配置している。補助槽１００内では、現像槽
４０が水平に対して傾いた状態で設置されていると、補
助槽１００内でも、液面が補助槽１００に対して傾く。
これにより、補助槽１００の周縁部では、現像槽４０が
水平に設置されている時の液面（図２（Ａ）で一点鎖線
で示す）に対して、実際の壁面が、傾きに応じて上下に
大きく変化している（図２（Ａ）で二点鎖線で示す）。

【００９０】しかし、補助槽１００内の液面センサ１０
４のフロート１１０の有無を検出する液面検出部が位置
する平面部分１０５（図２（Ａ）の斜線部分）の中央部
では、液面の上下芳香の変化が最も少なく、現像槽４０
（補助槽１００）の傾きにかかわらず、液面が変化して
いない。

【００９１】一方、矩形箱体形状の補助槽１００内の処
理液を平面的に考え、図５に示されるように、長方形ａ
・ｂ・ｃ・ｄを辺ａｄの中央の点Ｏを中心として回転さ
せた長方形Ａ・Ｂ・Ｃ・Ｄでは、点Ｄ上の水平線Ｈ₁を
延長した辺ｃ・ｄ上の点Ｄ₁によって形成される四角形
Ｏ・Ｄ・Ｄ₁・ｄと、点ａ上の水平線Ｈ₀が辺Ａ・Ｂと交
差する点ａ₁によって形成される四角形Ｏ・ａ・ａ₁・Ａ
の面積は同じである。また、多角形Ｏ・ａ・ａ₁・Ｂ・
Ｃ・Ｄと多角形Ｏ・ａ・ｂ・ｃ・Ｄ₁・Ｄの面積が同じ
となる。

【００９２】したがって、液面センサ１０４のフロート
１１０、つまり液面検出部が位置する平面部分１０５の
中央部になるように液面センサ１０４を補助槽１００の
底板１０６に設けることにより、補助槽１００の傾きに
かかわらず液面レベルが一定となっており、ＰＳ版プロ
セッサー１０では、装置の傾きがＰＳ版プロセッサー１
０の動作に支障のない範囲内であれば、装置の傾きにか
かわらず液面レベルを正確に検出することができる。

【００９３】図４に示されるフローチャートでは、給水
によって補助槽１００内の液面レベルが所定のレベルに
達したことを検出すると、ステップ２０６で肯定判定さ
れて、ステップ２０８へ移行する。このステップ２０８
では、給水ポンプ１４４を一旦停止させて、タイマーに
よる計測時間から給水ポンプ１４４の単位時間あたりの
給水量を演算する（ステップ２１０）。

【００９４】この給水ポンプ１４４によるここまでの給
水量Ｗ₁は、投入した原液の液量Ｘ及び給水量Ｗ₁とから
液面センサ１０４が検出信号を出す液面レベルとなった
ときに補助槽１００内に貯留される液量Ｙから、Ｗ₁＝Y
−Ｘとなる。

【００９５】したがって、給水ポンプ１４４の単位時間
あたりの給水量Ｑは、給水量Ｗ₁及び給水ポンプ１４４
によって給水量Ｗ₁を給水する給水時間Ｔ₁から、Ｑ＝Ｗ₁／Ｔ₁ となる。

【００９６】次のステップ２１２では、給水ポンプ１４
４の単位時間あたりの給水量Ｑと、液量Ｘの原液を所定
の比率で希釈するのに必要な給水量Ｗから既に給水した
給水量Ｗ₁を差し引いた量とにより、給水ポンプ１４４
の作動時間Ｔ₂を設定する。

【００９７】すなわち、Ｔ₂＝（Ｗ−Ｗ₁）／Ｑとなる。

【００９８】このようにして、給水ポンプ１４４の運転
時間を設定すると、次のステップ２１４で、給水ポンプ
１４４の作動を開始すると共に、タイマーをリセット／
スタートさせる（ステップ２１６）。

【００９９】この後、ステップ２１８では、タイマーに
よる計測時間が給水ポンプ１４４の運転時間Ｔ₂に達し
たか否かを確認し、運転時間Ｔ₂に達してステップ２１
８で肯定判定されたときには、ステップ２２０で給水ポ
ンプ１４４を停止させる。

【０１００】さらに、循環ポンプ１２０を作動させると
共に、ヒータ１０２を作動させて、仕込み液を均一に攪
拌し調液する（ステップ２２２）。

【０１０１】このように、ＰＳ版プロセッサー１０で
は、現像液の低下を検出する液面センサ１０４を用いる
ことにより、専用の液面センサや高価な電導度センサ等
を用いることなく、正確な仕込み液の調液が可能となっ
ている。

【０１０２】また、ＰＳ版プロセッサー１０では、給水
ポンプ１４４の単位時間あたりの給水量Ｑが不安定であ
っても、適正な量の給水が可能となっている。すなわ
ち、給水ポンプ１４４を駆動する電源の周波数や電圧、
給水用の配管１４２の取りまわし状態などによって、給
水ポンプ１４４の吐出量は変化するが、ＰＳ版プロセッ
サー１０では、給水ポンプ１４４の作動を開始するとき
に、その都度、単位時間あたりの給水量Ｑを演算によっ
て求めるので、正確な給水が可能となっている。

【０１０３】なお、以上説明した本実施の形態では、発
明の構成を限定するものではない。本実施の形態では、
液面センサ１０４を設ける補助槽１００を矩形箱体形状
に形成したが、少なくとも液面センサ１０４のフロート
１１０が位置する平面部分１０５の横壁の形状がＰＳ版
プロセッサー１０の上方から見て、中央部を中心に対称
な例えば円形、楕円形などの形状をしていれば良い。

【０１０４】また、本実施の形態では、給水ポンプ１４
４の単位時間あたりの給水量Ｑの演算等を行うときに、
給水ポンプ１４４を停止させたが、給水ポンプ１４４を
停止させずに、その後の動作を行っても良い。

【０１０５】また、本実施の形態では、現像液の仕込み
に現像液の原液と希釈水を用いたが、これに限らず現像
補充原液と希釈水を原液補充ポンプ１３６と給水ポンプ
１４４又は希釈水ポンプ１３８により仕込みを行っても
良い。

【０１０６】また、本実施の形態では、現像液の仕込み
を現像槽４０で行ったが、これに限定されず、同様に、
原液や希釈液を供給する機能を有する現像槽４０以外の
貯留槽で行っても良い。

【０１０７】さらに、本実施の形態では、感光材料とし
て感光性平版印刷版であるＰＳ版１２を処理するＰＳ版
プロセッサー１０を用いて説明したが、ＰＳ版１２に限
らず、印画紙や写真フィルム等の種々の感光材料を処理
する感光材料処理装置に適用することができる。

【０１０８】また、本実施の形態では、処理原液を希釈
する希釈液として水を用いたが、これに限らず希釈液と
して水に処理原液の成分を加えたもの、水に水アカ防止
剤等の添加剤を加えたものなど種々の液を使用すること
ができる。

【０１０９】また、本実施の形態では、現像液を原液と
希釈水で仕込んだが、これに限らず、処理液の原液に対
して所定比率で希釈液を加えて処理液を調液するときに
適用することができる。なお、この処理液の原液には、
粉末又は錠剤状の処理液原料を水に溶解したものも含ま
れる。

【０１１０】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、装
置の水平だしが正確に行われていなくとも、液面センサ
が所定の液面レベルを正確に検出することができる。

【０１１１】また、本発明では、高価な電導度センサ
や、専用の液面センサを別に設けることなく、正確な仕
込み液の調製を行うことができると言う優れた効果を有
する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施の形態に感光材料処理装置として適用し
たＰＳ版プロセッサーを示す概略構成図である。

【図２】（Ａ）は、液面センサの概略を示す補助タンク
の概略構成図、（Ｂ）は液面センサの他の一例を示す図
２（Ａ）と同様の補助タンクの概略構成図である。

【図３】現像槽まわりの配管を示す概略構成図である。

【図４】仕込み液の調製の概略を示すフローチャートで
ある。

【図５】補助槽内での液面の傾きを二次元的に示した概
略図である。

【符号の説明】

１０ＰＳ版プロセッサー（感光材料処理装置）１２ＰＳ版（感光材料）２２現像部４０現像槽（貯留槽）１００補助槽（貯留槽の底部）１０２ヒータ１０４液面センサ１２６水タンク１４４給水ポンプ１５０コントローラ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】感光材料を処理液によって処理する感光
材料処理装置であって、処理液を貯留する貯留槽内の処
理液の液面レベルを検出する液面センサの液面検出部
を、前記貯留槽の槽壁内の所定の平面部分の中央となる
位置に配置していることを特徴とする感光材料処理装
置。
【請求項２】貯留槽内に処理原液と処理原液を所定比
率で希釈する希釈液とを供給して、処理液を調液する処
理液の調液方法であって、前記貯留槽内に所定量の処理原液を供給したのち、給液
ポンプを作動させて給液された前記貯留槽内の液面レベ
ルが所定のレベルに達するまでの時間を計測して、該計
測結果から前記給液ポンプの単位時間あたりの給液量を
演算し、この単位時間あたりの給液量に基づいて設定し
た運転時間で前記給液ポンプをさらに作動させて所定量
の希釈液を供給することにより、処理原液を所定比率で
希釈液により希釈した処理液を調液することを特徴とす
る処理液の調液方法。
【請求項３】貯留槽内に処理原液と処理原液を所定比
率で希釈する希釈液とを供給して、処理液を調液する処
理液の調液方法であって、給液ポンプを作動させて給液された前記貯留槽内の液面
レベルが所定のレベルに達するまでの時間を計測して、
該計測結果から前記給液ポンプの単位時間あたりの給液
量を演算し、この単位時間あたりの給液量に基づいて設
定した運転時間でさらに前記給液ポンプを作動させて所
定量の希釈液を供給したのち、所定量の処理原液を供給
することにより、処理原液を所定比率で希釈液により希
釈した処理液を調液することを特徴とする処理液の調液
方法。
【請求項４】貯留槽内に処理原液と処理原液を所定比
率で希釈する希釈液とを供給して、処理液を調液する処
理液の調液方法であって、給水ポンプを作動させて給液された前記貯留槽内の液面
レベルが所定のレベルに達するまでの時間を計測して、
該計測結果から前記給液ポンプの単位時間あたりの給液
量を演算し、所定量の処理原液を供給したのち、単位時
間あたりの給液量に基づいて設定した運転時間でさらに
前記給液ポンプを作動させて所定量の希釈液を供給する
ことにより、処理原液を所定比率で希釈液により希釈し
た処理液を調液することを特徴とする処理液の調液方
法。
【請求項５】貯留槽内に処理原液と処理原液を所定比
率で希釈する希釈液とを供給して、処理液を調液する処
理液の調液方法であって、給水ポンプを作動させて給液された前記貯留槽内の液面
レベルが所定のレベルに達するまでの時間を計測して、
該計測結果から前記給液ポンプの単位時間あたりの給液
量を演算し、この単位時間あたりの給液量に基づいて設
定した運転時間でさらに前記給液ポンプを作動させて所
定量の希釈液を供給しながら、所定量の処理原液を供給
することにより、処理原液を所定比率で希釈液により希
釈した処理液を調液することを特徴とする処理液の調液
方法。
【請求項６】前記液面レベルを前記貯留槽内の液面の
下限レベルを検出する液面センサを用いて検出すること
を特徴とする請求項２から請求項５の何れかに記載の処
理液の調液方法。