JP2000290510A

JP2000290510A - スズ触媒含有ｒｔｖ−１−アルコキシ組成物、およびその安定化方法

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Publication number: JP2000290510A
Application number: JP2000072403A
Authority: JP
Inventors: Wolfgang Ziche; ツィーヒェヴォルフガング; Norman Dorsch; ドルシュノルマン; Susanne Straussberger; シュトラウスベルガーズザンネ; Wolfgang Dr Hechtl; ヘヒトルヴォルフガング
Original assignee: Wacker Chemie AG
Current assignee: Wacker Chemie AG
Priority date: 1999-03-18
Filing date: 2000-03-15
Publication date: 2000-10-17
Anticipated expiration: 2020-03-15
Also published as: EP1036820A1; DE50000105D1; CN1267677A; EP1036820B1; CA2300802A1; US6303678B1; DE19912223A1; CA2300802C; JP3533138B2; CN100376618C; ES2170741T3; ATE212652T1

Abstract

(57)【要約】【課題】界面活性剤を含有するスズ触媒含有ＲＴＶ−
１−アルコキシ組成物を提供する。【解決手段】界面活性剤が、一般式（Ｉ）： −Ｏ−［（ＣＲ^αＲ^β）_u−Ｏ］_v− （Ｉ）［式中、Ｒ^αおよびＲ^βは、水素基を表すか、またはヒ
ドロキシル基、フッ素基、塩素基、臭素基、Ｃ₁〜Ｃ₁₀
−アルコキシアルキル基もしくはシアノ基で置換されて
いてもよいＣ₁〜Ｃ₁₀−炭化水素基を表し、ｕは、１〜
６の整数値を表し、ｖは、３〜１００の値を表す］の二
価のポリエーテル単位を含有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、スズ触媒および界
面活性剤を含有しているＲＴＶ−１−アルコキシ組成物
に関する。

【０００２】オルガノポリシロキサンという概念は本発
明の範囲ではダイマー、オリゴマーおよびポリマーのシ
ロキサンを含むものとする。

【０００３】

【従来の技術】ＲＴＶ−１（自然加硫１成分）−シリコ
ーンゴムおよびＲＴＶ−２（自然加硫２成分）−シリコ
ーンゴム中での縮合触媒としてのジアルキルスズ（Ｉ
Ｖ）化合物の使用は一般に公知である。しかしＲＴＶ−
１−アルコキシ組成物中でこれらのスズ化合物は、アル
コール基によりシロキサン鎖の不所望の分解、つまり同
時に平衡化を触媒し、その際、もはや架橋することがで
きないポリシロキサン鎖のアルコキシ末端基を生じ、ひ
いては該組成物の十分な架橋がもはや可能ではない、つ
まり特定の使用の際に加硫が得られないか、または十分
に安定した加硫物が得られないという欠点を有してい
る。ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物を貯蔵することがで
きる期間として挙げられる貯蔵安定性は、平衡化により
その特性を著しく失うことなく劇的に低下する。

【０００４】貯蔵安定性を延長するための公知の方法は
次のものである。

【０００５】例えばＵＳ−Ａ−３３３４０６７号から公
知であるのは、チタンまたはアルミニウムキレート触媒
によるスズ触媒の代用である。ここでの欠点は、組成物
の黄変であり、これにより半透明ではないくすんだ組成
物が可能であるのみである。

【０００６】例えばＥＰ−Ａ−７４７４４３号から公知
であるのは、一般式Ｔｉ（ＯＲ）₄のチタン触媒による
スズ触媒の代用であるが、これはシラノール基を有して
いないシロキサンを加工することができるのみであると
いう欠点を有する。

【０００７】カップリング剤の使用はそのような触媒の
場合、触媒活性に不利な影響を与えるため制限される。

【０００８】スズ触媒の量の減少は、極めて緩慢な加硫
という欠点を有する。

【０００９】例えばＵＳ−Ａ−４５１７３３７号から公
知であるのは、それほどアグレッシブではないスズ触
媒、例えばスズキレート触媒の使用である。キレート化
合物、例えばアセチルアセトネートが過剰量で必要であ
る。しかしこれは揮発性であり、かつ毒物学的に問題が
あり、かつ健康を損ね、かつ加硫物の黄変につながる場
合がある。

【００１０】例えばＵＳ−Ａ−４４１７０４２号から公
知であるのは、アルコール補足剤、つまりその高い反応
性に基づいてアルコールと反応するスカベンジャーの添
加である。しかしこの添加はコスト高であり、かつ付着
挙動を低下させる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題
は、前記の方法の欠点を有しておらず、高い貯蔵安定性
を有するスズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物を
提供することである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】前記課題は本発明によ
り、界面活性剤（Ｔ）を含有するスズ触媒含有ＲＴＶ−
１−アルコキシ組成物において、界面活性剤は一般式
（Ｉ）： −Ｏ−［（ＣＲ^αＲ^β）_u−Ｏ］_v− （Ｉ）［式中、Ｒ^αおよびＲ^βは、水素基を表すか、または場
合によりヒドロキシル基、フッ素基、塩素基、臭素基、
Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシアルキル基もしくはシアノ基で
置換された一価のＣ₁〜Ｃ₁₀−炭化水素基を表し、ｕ
は、１〜６の整数値を表し、かつｖは、３〜１００の値
を表す］の二価のポリエーテル単位を含有しており、そ
の際、該ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物は、一般式（Ｉ
Ｉ）：（ＨＯ）_aＯＰ（−Ｏ−［（ＣＲ¹ ₂）_b−Ｏ］_c［（ＣＲ² ₂）_d］_e−Ｌ−Ｍ）₍₃ ₋ _a) （ＩＩ）［式中、ａは、１または２の値を表し、Ｒ¹およびＲ
²は、水素基、メチル基またはヒドロキシル基を表し、
ｂおよびｄは、２または３の値を表し、ｃは、２〜１５
の整数値を表し、ｅは、０または１の値を表し、Ｌは、
−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−ＣＯＮＲ³−、Ｎ
Ｒ⁴ＣＯ−および−ＣＯ−の群からの基を表し、Ｒ³およ
びＲ⁴は、水素基またはＣ₁〜Ｃ₁₀−アルキル基を表し、
かつＭは、場合によりヒドロキシル基、フッ素基、塩素
基、臭素基、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシアルキル基もしく
はシアノ基で置換された一価のＣ₁〜Ｃ₂₀−炭化水素基
を表すが、ただしその際、それぞれの炭素原子に接して
いる基Ｒ¹およびＲ²は１個だけがヒドロキシル基であっ
てもよい］の酸性の燐酸エステルを含有していないこと
を特徴とするスズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物により解決される。

【００１３】同様に本発明のもう１つの課題は、スズ触
媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物を安定化するため
の方法において、該組成物に前記の一般式（Ｉ）の二価
のポリエーテル単位を含有している界面活性剤（Ｔ）を
添加することを特徴とする、スズ触媒含有ＲＴＶ−１−
アルコキシ組成物の安定化方法により解決される。

【００１４】スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物への界面活性剤（Ｔ）の添加は、減感またはスズ触媒
の平衡化作用の抑制をもたらし、このことにより貯蔵安
定性が劇的に上昇する。同時に、使用されるスズ化合物
の所望の縮合触媒を活性化する。燐酸エステルにより現
場で末端ブロックされたポリシロキサンも加工可能なま
まである。

【００１５】有利には界面活性剤（Ｔ）は、一般式
（Ｉ）の二価のポリエーテル単位を少なくとも２０質量
％、特に少なくとも５０質量％含有している。

【００１６】有利には一般式（Ｉ）中で相互に無関係
に、Ｒ^αおよびＲ^βは水素基または一価の非置換炭化水
素基を表し、特に水素基またはＣ₁〜Ｃ₃−アルキル基、
例えばメチル基またはエチル基を表し、ｕは、１〜４、
特に２または３の整数値を表し、かつｖは、３〜２５、
特に５〜１０の整数値を表す。

【００１７】界面活性剤（Ｔ）は、非イオン性、アニオ
ン性またはカチオン性界面活性剤、特に乳化剤であって
もよい。

【００１８】界面活性剤（Ｔ）の例は次のものである：
脂肪酸エステル、例えば式Ｒ′−Ｃ（＝Ｏ）−Ｙ−Ｒ″
のもの；脂肪アルキルエーテルカルボキシレート、例え
ば式Ｒ′−Ｙ−ＣＨ₂ＣＯＯＸのもの；脂肪アルコール
ポリグリコールエーテル、例えば式Ｒ′−Ｙ−Ｒ″のも
の；フェノールポリグリコールエーテル、例えば式Ａｒ
−Ｙ−Ｒ′のもの；脂肪アルキルエーテルスルフェー
ト、例えば式Ｒ′−Ｙ−ＳＯ₃Ｘのもの；アルキルエー
テルホスフェート、ポリエーテル基を有するポリジメチ
ルシロキサン、オキシエチレート(oxethylate)およびそ
のエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコール、ポリエチレングリコールジエーテ
ル、ポリプロピレングリコールジエーテルおよびそのコ
ポリマー、脂肪アミノキシエチレート(Fettaminoxethyl
ate)、ポリグリコールスルホネート。

【００１９】前記の界面活性剤（Ｔ）で、Ｒ′、Ｒ″
は、Ｃ₆〜Ｃ₃₀−アルキル基を表し、Ｙは、一般式
（Ｉ）の二価のポリエーテル単位を表し、Ｘは、Ｎａま
たはＫを表し、かつＡｒは、Ｃ₆〜Ｃ₃₀−アリール基ま
たはＣ₇−Ｃ₃₀−アラルキル基を表す。

【００２０】スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物は、界面活性剤（Ｔ）を有利には０．０１質量％以
上、特に０．１質量％以上、および有利には１０質量％
以下、特に５質量％以下含有している。

【００２１】スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物は、（Ａ）アルコキシ基末端のオルガノポリシロキサ
ンおよび（Ｂ）少なくとも３つのアルコキシ基を有する
アルコキシシランおよび／またはその部分水解物を含有
している。

【００２２】アルコキシ基末端オルガノポリシロキサン
（Ａ）は、有利には一般式（ＩＩＩ）：Ｒ⁵ _f（Ｒ⁶Ｏ）_3-fＳｉ−（Ｏ−ＳｉＲ₂）_g−Ｏ−ＳｉＲ⁵ _f（Ｒ⁶Ｏ）_3-f （ＩＩＩ）［式中、Ｒ、Ｒ⁵およびＲ⁶は、それぞれ場合によりフッ
素基、塩素基、臭素基、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルコキシアルキル
基またはシアノ基で置換された一価のＣ₁〜Ｃ₈−炭化水
素基を表し、ｆは、０または１の値を表し、ｇは、０．
０５〜１０００Ｐａｓのオルガノポリシロキサン（Ａ）
の粘度に相応する値を表す］の直鎖状のジオルガノシロ
キサンである。

【００２３】基Ｒ、Ｒ⁵およびＲ⁶として、非置換のＣ₁
〜Ｃ₄−アルキル基が有利であり、その際、メチル基が
特に有利である。

【００２４】オルガノポリシロキサン（Ａ）は、その都
度２３℃で測定して、有利には１００〜７０００００ｍ
Ｐａｓ、特に２００００〜３５００００ｍＰａｓの粘度
を有する。

【００２５】スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物は、オルガノポリシロキサン（Ａ）を有利には３５質
量％以上、特に４５質量％以上、および有利には８０質
量％以下、特に７０質量％以下を含有している。

【００２６】アルコキシシラン（Ｂ）は、有利には一般
式（ＩＶ）：Ｒ⁷ _μＳｉ（ＯＲ⁸）_4- _μ （ＩＶ）［式中、Ｒ⁷およびＲ⁸は、場合によりフッ素基、塩素
基、臭素基、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルコキシアルキル基またはシ
アノ基で置換された一価のＣ₁〜Ｃ₁₃−炭化水素基を表
し、かつμは０または１の値を表す］を有する。

【００２７】アルコキシシラン（Ｂ）の部分水解物は、
特に２〜４つのアルコキシシランの加水分解および縮合
により生じる。部分水解物（Ｂ）は、例えばヘキサメト
キシジシロキサンおよびヘキサエトキシジシロキサンで
ある。

【００２８】有利にはＲ⁷は、非置換のＣ₁〜Ｃ₆−炭化
水素基、特にメチル基、エチル基およびプロピル基を表
す。

【００２９】有利にはＲ⁸は、非置換のＣ₁〜Ｃ₆−炭化
水素基、特にメチル基、エチル基、ビニル基およびプロ
ピル基を表す。

【００３０】スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物は、アルコキシシラン（Ｂ）および／またはその部分
水解物を有利には０．５質量％以上、特に２質量％以
上、および有利には８質量％以下、特に６質量％以下含
有する。

【００３１】スズ触媒は有利には有機スズ化合物、例え
ばジ−ｎ−ブチルスズジアセテート、ジ−ｎ−ブチルス
ズジラウレートおよび酸素を介してケイ素に結合してお
り、場合によりアルコキシ基により置換された１分子あ
たり少なくとも２つの一価の炭化水素基を加水分解可能
な基として有しているシランまたはそのオリゴマーと、
ジオルガノスズジアシレートとの反応生成物であり、そ
の際、これらの反応生成物中でスズ原子のすべての原子
価は基≡ＳｉＯＳｎ≡または≡ＣＯＳｎ≡の酸素原子に
より、もしくはＳｎＣ結合した一価の有機基により飽和
である。

【００３２】スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物は、スズ触媒を有利には０．０１質量％以上、特に
０．１質量％以上、および有利には３質量％以下、特に
１質量％以下含有している。

【００３３】前記の成分に対して付加的にスズ触媒含有
ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物は、その他の自体公知の
成分、例えば架橋剤、充填剤、顔料、可溶性着色剤、香
料、可塑剤、殺真菌剤、（ＣＨ₃）₃ＳｉＯ_1/2単位およ
びＳｉＯ_4/2単位を含む樹脂状のオルガノポリシロキサ
ン、純粋な有機樹脂、例えばアクリロニトリル、スチレ
ン、ビニルクロリドまたはプロピレンのホモポリマーま
たは混合ポリマー（その際、このような純粋な有機樹
脂、特にスチレンおよびｎ−ブチルアクリレートからな
る混合ポリマーは、すでに末端の単位中でそれぞれ１つ
のＳｉ結合したヒドロキシル基を有しているジオルガノ
ポリシロキサンの存在下に、遊離基を用いた上記のモノ
マーの重合により得ることができる）、腐食防止剤、酸
化防止剤、熱安定化剤、溶剤、電気的特性に影響を与え
るための薬剤、例えば導電性のカーボンブラック、難燃
化剤、光保護剤および皮膜形成時間を延長するための薬
剤、例えばＳｉＣ結合したメルカプトアルキル基を有す
るシラン、ならびに気泡を形成する薬剤(zellenerzeuge
nde Mittel)、例えばアゾジカルボンアミドを含有して
いてもよい。同様にカップリング剤も添加することがで
きる。

【００３４】アルコキシシラン（Ｂ）に対して付加的に
スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物中に存在し
ていてもよいその他の添加剤は、ビス（トリアルコキシ
シリル）Ｃ₁〜Ｃ₁₂−アルカンであり、その際、アルコ
キシ基はＯＲ⁸、例えばビス（トリメトキシシリル）エ
タンを表す。

【００３５】有利にはスズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコ
キシ組成物は充填剤を含有する。充填剤の例は、非補強
充填剤、つまり５０ｍ²／ｇまでのＢＥＴ表面積を有す
る充填剤、例えばカルボン酸で被覆したチョーク、石
英、ケイソウ土、珪酸カルシウム、珪酸ジルコニウム、
ゼオライト、金属酸化物粉末、例えば酸化アルミニウ
ム、酸化チタン、酸化鉄または酸化亜鉛もしくはこれら
の混合酸化物、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、石膏、
窒化ケイ素、炭化ケイ素、窒化ホウ素、ガラス粉末およ
びプラスチック粉末、例えばポリアクリロニトリル粉
末；補強充填剤、つまり５０ｍ²／ｇより大のＢＥＴ表
面積を有する充填剤、例えば熱分解法により製造した珪
酸、沈降珪酸、カーボンブラック、例えばファーネスブ
ラック、アセチレンブラックおよびＢＥＴ表面積の大き
いケイ素−アルミニウム−混合酸化物；繊維状の充填
剤、例えばアスベストならびにプラスチック繊維であ
る。

【００３６】前記の充填剤は、例えばオルガノシランも
しくはオルガノシロキサンでの、またはステアリン酸で
の処理により、あるいはヒドロキシル基をエーテル化し
てアルコキシ基にすることにより疎水化されていてもよ
い。これは１種類の充填剤であってもよいが、少なくと
も２種類の充填剤の混合物もまた使用することができ
る。

【００３７】充填剤として補強充填剤を単独で使用する
場合、透明なＲＴＶ−１−アルコキシ組成物を製造する
ことができる。

【００３８】スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物は、充填剤を有利には２質量％以上、特に５質量％以
上、および有利には４０質量％以下、特に１５質量％以
下含有する。

【００３９】可塑剤として例えばアルキル芳香族化合
物、室温で液状の、トリメチルシロキシ基により末端ブ
ロックされたジメチルポリシロキサンまたは燐酸エステ
ルを使用することができる。可塑剤として使用される有
利なジメチルポリシロキサンは、一般式（Ｖ）：Ｒ⁹ ₃Ｓｉ−（Ｏ−ＳｉＲ¹⁰ ₂）_h−Ｏ−ＳｉＲ⁹ ₃ （Ｖ）［式中、Ｒ⁹およびＲ¹⁰は、Ｒを表し、かつｈは、１０
〜５００ｍＰａｓのジメチルポリシロキサンの粘度に相
応する値を有する］を有している。

【００４０】スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物は、可塑剤を有利には１０質量％以上、特に２０質量
％以上、および有利には５０質量％以下、特に３５質量
％以下含有する。

【００４１】カップリング剤として例えばアミノアルキ
ル官能性のシランを使用することができる。一般式（Ｖ
Ｉ）：Ｚ−（ＣＨ₂）₃−Ｓｉ（ＯＲ¹¹）₃ （ＶＩ）［式中、Ｚは、ＮＨ₂、ＮＨ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨ₂、ＮＨＲ
およびグリシドキシを表し、かつＲ¹¹は、Ｒの意味を有
する］のシランは有利である。

【００４２】γ−アミノプロピルトリエトキシシランは
特に有利である。

【００４３】有利にはスズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコ
キシ組成物は、カップリング剤を含有していないか、ま
たは１質量％以上、および有利には４質量％以下、特に
３質量％以下含有している。

【００４４】一般式（Ｉ）〜（ＶＩ）中ですべての基
Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ^α、Ｒ^β、Ｒ、Ｒ¹〜Ｒ¹¹ならびにすべ
ての変項ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｍ、ｕ、ｖ
およびμは、相互に無関係に同じか、または異なってい
る。

【００４５】すべての式中でケイ素原子は四価である。

【００４６】スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物の架橋に関して空気の通例の含水量は十分である。架
橋は、所望の場合、室温よりも高いか、または低い温度
で、例えば−５℃〜１０℃で、または３０℃〜５０℃で
実施することができる。

【００４７】従ってスズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキ
シ組成物は、例えば垂直に走っている継ぎ目を含めた継
ぎ目、および類似の例えば内法の幅１０〜４０ｍｍの間
隙、例えば建物、車両、船舶および航空機のためのパッ
キング組成物として、あるいは例えば窓の建設における
接着剤またはパテとして、ならびに例えば保護被覆また
はゴム弾性成形体の製造のために、ならびに電気もしく
は電子装置の絶縁のために適切である。

【００４８】以下に記載の実施例ですべての部のパーセ
ンテージの記載は、その他の記載が無い限り質量に対す
るものである。さらにすべての粘度は２５℃の温度での
記載である。その他の記載が無い限り、以下の実施例は
大気圧で、つまり約１０００ｈＰａであり、かつ室温、
つまり約２０℃もしくは反応体を室温で添加する際に付
加的な加熱または冷却なしで生じる温度で実施する。

【００４９】

【実施例】ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物（＝コンパウ
ンド）の、弾性ゴムへの加硫に基づいて、貯蔵安定性を
貯蔵時間の機能として測定する。コンパウンドの老化を
５０℃での貯蔵により促進する。

【００５０】例１〜４：真空装置を有する遊星型ミキサ
ー中で、水の遮断下に、−ＯＳｉ（ＯＣＨ₃）₂（Ｃ
Ｈ₃）−末端基を有し、８００００ｍＰａｓの粘度を有
するポリジメチルシロキサン５５．４質量部を、−ＯＳ
ｉ（ＣＨ₃）₃−末端基を有するポリジメチルシロキサン
（粘度１００ｍＰａｓ）３１．２質量部およびメチルト
リメトキシシラン４．０質量部、乳化剤１．０質量部と
混合する。次いで熱分解法珪酸８．０質量部を混合し、
最後にスズ触媒（テトラエトキシシラン４部とジブチル
スズジアセテート２．２質量部とから製造した反応生成
物）０．４質量部を混合する。真空下での均質化の後、
該コンパウンドを湿気遮断性の容器に充填する。使用し
た界面活性剤および結果は第１表に記載されている。

【００５１】比較例５（本発明によらない）：例１〜４
と同様に行うが、ただし乳化剤を添加しない。結果は第
１表に記載されている。

【００５２】第１表コンパウンドは界面活性剤の添加で加硫する一方で、添
加剤を使用しないとゴムは得られない。二倍量の触媒を
用いて比較例５を実施すると、ＲＴで３日の貯蔵後に、
少なくともわずかな部分的加硫が見られる。５０℃での
２週間の貯蔵後に、コンパウンドはもはや加硫しない。
これらの例は、所望の触媒作用の活性化および不所望の
平衡化の抑制を示している。

【００５３】

【表１】

【００５４】例６〜９：真空装置を有する遊星型ミキサ
ー中で、水の遮断下に、−ＯＳｉ（ＯＣＨ₃）₂（Ｃ
Ｈ₃）−末端基を有し、８００００ｍＰａｓの粘度を有
するポリジメチルシロキサン５４．４質量部を、−Ｓｉ
（ＣＨ₃）₃−末端基を有するポリジメチルシロキサン
（粘度１００ｍＰａｓ）３０．５質量部、メチルトリメ
トキシシラン４．０質量部、３−アミノプロピル基含有
ポリジメチルシロキサン１．８質量部および乳化剤１．
０質量部と混合する。次いで熱分解法珪酸７．９質量部
を混合し、最後にスズ触媒（テトラエトキシシラン４部
とジブチルスズジアセテート２．２質量部とから製造し
た反応生成物）０．４質量部を混合する。真空下での均
質化の後、該コンパウンドを湿気遮断性の容器に充填す
る。使用した界面活性剤および被膜形成時間（ＨＢＺ）
は第１表に記載されている。

【００５５】比較例１０（本発明によらない）：例６〜
９に記載したように行うが、ただし乳化剤を添加しな
い。結果は第２表に記載されている。

【００５６】

【表２】

【００５７】比較例１０に関するＨＢＺは安定している
にもかかわらず、加硫は平衡化の開始により阻害される
ことが明らかにされうる。

【００５８】例１１：真空装置を有する遊星型ミキサー
中で、水の遮断下に、ＯＨ−末端基を有し、８００００
ｍＰａｓの粘度を有するポリジメチルシロキサン５４．
０質量部を、ＯＳｉ（ＣＨ₃）₃−末端基を有するポリジ
メチルシロキサン（粘度１００ｍＰａｓ）３０質量部お
よびメチルトリメトキシシランとビニルトリメトキシシ
ランとからなる２：１の混合物４質量部、ポリグリコー
ルホスフェート０．８質量部および酸性の燐酸エステル
０．２質量部と混合する。ついでアミノプロピル基含有
カップリング剤２．２質量部を添加し、熱分解法珪酸
８．５質量部を混合し、かつ最後にスズ触媒（テトラエ
トキシシラン４部とジブチルスズジアセテート２．２質
量部とから製造した反応生成物）０．４質量部を混合す
る。真空下での均質化の後、該コンパウンドを湿気遮断
性の容器に充填する。模範的な組成物の被膜形成時間
は、２０分の出発値を有しており、この値は２８日／５
０℃および５６日／５０℃でも変化しない。該コンパウ
ンドは良好に加硫する。

【００５９】比較例１２（本発明によらない）：例１１
と同様に行うが、ただし乳化剤を添加しない。該組成物
は３−アミノプロピル基含有カップリング剤の添加後
に、完全にコンパウンド化することができない。という
のもこれは不均質でゴム状になるからである。

【００６０】現場で末端ブロックしたシロキサンの加工
性は保持されていることが示される。同時に、ＲＴＶ−
１−アルコキシ組成物の長期間安定性が示される。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者ノルマンドルシュドイツ連邦共和国ブルクハウゼンフクスハウゼン 148 (72)発明者ズザンネシュトラウスベルガードイツ連邦共和国メーリングハイデガッセ４ (72)発明者ヴォルフガングヘヒトルドイツ連邦共和国ブルクハウゼンローベルト−コッホ−シュトラーセ 53

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】界面活性剤Ｔを含有しているスズ触媒含
有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物において、界面活性剤
は一般式Ｉ： −Ｏ−［（ＣＲ^αＲ^β）_u−Ｏ］_v− Ｉ［式中、Ｒ^αおよびＲ^βは、水素基を表すか、またはヒドロキシ
ル基、フッ素基、塩素基、臭素基、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコ
キシアルキル基もしくはシアノ基で置換されていてもよ
い一価のＣ₁〜Ｃ₁₀−炭化水素基を表し、ｕは、１〜６の整数値を表し、かつｖは、３〜１００の
値を表す］の二価のポリエーテル単位を含有しており、
その際、該ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物は、一般式Ｉ
Ｉ： (ＨＯ)_aＯＰ(−Ｏ−［(ＣＲ¹ ₂)_b−Ｏ］_c［(ＣＲ² ₂)_d］_e
−Ｌ−Ｍ)₍₃ ₋ _a) ＩＩ［式中、ａは、１または２の値を表し、Ｒ¹およびＲ²は、水素基、メチル基またはヒドロキシル
基を表し、ｂおよびｄは、２または３の値を表し、ｃは、２〜１５の整数値を表し、ｅは、０または１の値を表し、Ｌは、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−ＣＯＮＲ³
−、ＮＲ⁴ＣＯ−および−ＣＯ−の群からの基を表し、Ｒ³およびＲ⁴は、水素基またはＣ₁〜Ｃ₁₀−アルキル基
を表し、かつＭは、ヒドロキシル基、フッ素基、塩素
基、臭素基、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシアルキル基もしく
はシアノ基で置換されていてもよい一価のＣ₁〜Ｃ₂₀−
炭化水素基を表すが、ただしその際、それぞれの炭素原
子に接している基Ｒ¹およびＲ²は１個だけがヒドロキシ
ル基であってもよい］の酸性の燐酸エステルを含有して
いないことを特徴とする、スズ触媒含有ＲＴＶ−１−ア
ルコキシ組成物。
【請求項２】スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組
成物を安定化するための方法において、請求項１に記載
した一般式Ｉの二価のポリエーテル単位を含有している
界面活性剤Ｔを該組成物に添加することを特徴とする、
スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物の安定化方
法。
【請求項３】界面活性剤Ｔが、一般式Ｉの二価のポリ
エーテル単位を少なくとも２０質量％含有している、請
求項１記載のＲＴＶ−１−アルコキシ組成物。
【請求項４】一般式Ｉ中のＲ^αおよびＲ^βが、相互に
無関係に水素基またはＣ₁〜Ｃ₃−アルキル基を表す、請
求項１または３記載のＲＴＶ−１−アルコキシ組成物。
【請求項５】界面活性剤Ｔが、一般式Ｉの二価のポリ
エーテル単位を少なくとも２０質量％含有している、請
求項２記載の方法。
【請求項６】一般式Ｉ中のＲ^αおよびＲ^βが、相互に
無関係に水素基またはＣ₁〜Ｃ₃−アルキル基を表す、請
求項２または３記載の方法。