JP2000291728A - 相対移動自動復帰装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 水平方向に速やかに変位して、地震の揺れが
建物に伝わるのを確実に防ぐことができる免震装置を構
成することができる相対移動自動復帰装置を提供する。 【解決手段】 この相対移動自動復帰装置は、上台１と
中間台３と下台２とを備えている。上台１には、安定点
Ｐ１から徐々に立ち下がっている４つの弧状貫通穴８が
形成されている。下台２には、安定点Ｐ２から徐々に立
ち上がっている４つの弧状貫通穴１５が形成されてい
る。また、中間台３の上部には、安定点Ｐ３から徐々に
立ち上がっている４対の弧状貫通穴２５,２６が形成さ
れ、中間台３の下部には、安定点Ｐ４から徐々に立ち下
がっている４対の弧状貫通穴３５,３６が形成されてい
る。円筒転動体５１が、弧状貫通穴８および２５,２６
に嵌合しており、円筒転動体６０が、弧状貫通穴３５,
３６および１５に嵌合している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば、地震の
揺れが構造物等の免震対象に伝わるのを防ぐ免震装置と
して用いるのに好適であって、上台と下台との間の相対
的な横方向の移動を許容すると同時に、上記横動を自動
的に減衰させて上記上台と下台を初期安定位置に復帰さ
せることができる相対移動自動復帰装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、免震装置としては、図３に示すよ
うな積層ゴムアイソレータと呼ばれるものがある。この
積層ゴムアイソレータは、薄いゴムシート２０１と中間
鋼板２０２とが交互に積層されており、この積層体の周
囲が被覆ゴム２０６で被覆されており、上下にフランジ
２０３,２０５を有するものである。この積層ゴムアイ
ソレータは、たとえば、上記フランジ２０５が地盤に固
定され、フランジ２０３が建物に固定される。この積層
ゴムアイソレータは、鉛直方向の大きい剛性と水平方向
の小さい剛性とを有している。

【０００３】この積層ゴムアイソレータは、地震がない
ときには、鉛直方向の大きな剛性で地盤に対して建物を
支持し、地震時には、水平方向に速やかに変位して揺れ
が建物に伝わるのを防ぐ。

【０００４】しかし、上記積層ゴムアイソレータは、大
規模の建築物,構築物には適するが、中,小規模の建築
物,構築物に対しては水平剛性が十分に小さくなく地震
の揺れが建物に伝わるのを十分に防ぐことができないと
いう問題がある。また、風に起因して建物から伝わる引
っ張り力に対しては弱い。

【０００５】また、上記相対移動自動復帰装置のもう１
つの応用例として半導体のラッピング装置等に使用でき
る揺動可能な機械加工装置がある。従来、半導体のラッ
ピング装置を構成する機械加工装置としては、図４に示
すものがある。この機械加工装置は、下台３０１と上台
３０２の間に複数の玉３０３を備えている。そして、上
台３０２の下面３０２Ａは略球面になっており、上記下
台３０１の上面３０１Ａは略球面になっている。これに
より、上記上台３０２は、上記球面の中心を中心として
任意の横方向に揺動でき、また回転できる。上記上台３
０２の上面３０２Ｂに半導体ウェハを搭載して、上記ウ
ェハとラッピング工具を相対回転させながら、ウェハ表
面を研磨する。

【０００６】しかし、このラッピング装置は、上台３０
２の下面３０２Ａや下台３０１の上面３０１Ａを球面仕
上げする必要があるから、製造コストが高いという問題
がある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】そこで、この発明の目
的は、中,小規模の建築物,構築物に適用しても、水平方
向に速やかに変位して、地震の揺れが建物に伝わるのを
確実に防ぐことができる上に引っ張り力に対しても強い
免震装置を構成できる相対移動自動復帰装置を提供する
ことにある。また、この発明の今１つの目的は、製造コ
ストが安いラッピング装置としての揺動可能な機械加工
装置を構成できる相対移動自動復帰装置を提供すること
にある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明の相対移動自動復帰装置は、上台
と、中間台と、下台を備え、上記上台に形成されてお
り、安定点から徐々に立ち下がっている第１立ち下げ軌
道と、上記中間台に形成されており、安定点から徐々に
立ち上がっている第１立ち上げ軌道と、上記第１立ち下
げ軌道と第１立ち上げ軌道に沿って転動自在、かつ、上
記第１立ち下げ軌道と第１立ち上げ軌道に対して上下方
向に係止される第１転動部材と、上記中間台に形成され
ており、安定点から徐々に立ち下がっていて、上記第１
立ち下げ軌道と略直交する方向に延びている第２立ち下
げ軌道と、上記下台に形成されており、安定点から徐々
に立ち上がっていて、上記第１立ち下げ軌道と略直交す
る方向に延びている第２立ち上げ軌道と、上記第２立ち
下げ軌道と第２立ち上げ軌道に沿って転動自在、かつ、
上記第２立ち下げ軌道と第２立ち上げ軌道に対して上下
方向に係止される第２転動部材とを備えたことを特徴と
している。

【０００９】この請求項１の発明では、たとえば、免震
装置に用いる場合、下台は地盤に固定され、上台は構築
物に固定される。そして、地震がないときには、第１転
動部材は第１立ち下げ,立ち上げ軌道の安定点に静止し
ており、第２転動部材は第２立ち下げ,立ち上げ軌道の
安定点に静止している。この状態で、上記構築物の重量
は、上台、第１転動部材、中間台、第２転動部材、下台
の順に鉛直下方に伝わり、鉛直方向の大荷重を支持でき
る。

【００１０】一方、地震時には、この地震で地盤が水平
方向に揺れ、地盤と一緒に下台が水平方向に移動する。
すると、第２転動部材が第２立ち上げ,立ち下げ軌道に
沿って走行し、第１転動部材が第１立ち上げ,立ち下げ
軌道に沿って走行し、これにより、地盤の水平方向の揺
れが構築物に伝わらなくなる。

【００１１】この請求項１の発明によれば、第１転動部
材の第１立ち上げ,立ち下げ軌道に対する走行および第
２転動部材の第２立ち上げ,立ち下げ軌道に対する走行
でもって、下台に対して、上台が、水平方向の任意の方
向に相対移動できる。したがって、地盤の水平方向の揺
れを略完全に吸収して構築物に揺れを伝えない。

【００１２】また、軌道上の転動部材の走行で下台と上
台とを相対的にスライドさせるから、アイソレータとし
ての水平剛性を十分に柔らかくすることができ、絶対免
震に近づけることができる。したがって、中,小規模の
建築物,構築物に適用しても、地震の揺れが建物に伝わ
るのを十分に防ぐことができる。

【００１３】また、地震が止んだ後は、第１転動部材は
第１立ち上げ,立ち下げ軌道の安定点の両側の部分を往
復しながら上記安定点に戻るから、上台は下台に対する
静止時の位置に復帰し、構築物を地盤に対する静止時の
位置に復帰させることができる。

【００１４】また、この発明では、第１転動部材が第１
立ち上げ,立ち下げ軌道に対して上下方向に係止されて
おり、第２転動部材が第２立ち上げ,立ち下げ軌道に対
して上下方向に係止されている。したがって、高層の構
築物に風が当たって、この構築物から上台に引張力が働
いた場合には、上台からの引張力を、第１立ち上げ,立
ち下げ軌道,第１転動部材を介して中間台に伝えること
ができ、さらに、第２立ち上げ,立ち下げ軌道,第２転動
部材を介して下台に伝えることができる。したがって、
この発明では、引張力に対する抵抗力を有し、引張力が
働いても分解することがなく、引っ張り力に強い免震装
置を構成できる。

【００１５】また、この発明の相対移動自動復帰装置で
半導体のラッピング装置としての揺動可能な機械加工装
置を構成すれば、各軌道面が１次元的にカーブしていれ
ばよいことから従来のような軌道面の球面仕上げ加工が
不要になり、製造コストが安くなる。

【００１６】また、この発明の相対移動自動復帰装置で
は、第１転動部材が、第１立ち下げ軌道と第１立ち上げ
軌道の両方に対して転動自在になっているから、第１立
ち下げ,立ち上げ軌道の方向への上台と中間台の相対移
動距離を最大限に確保できる。また、第２転動部材が、
第２立ち下げ軌道と第２立ち上げ軌道の両方に対して転
動自在になっているから、第２立ち下げ,立ち上げ軌道
の方向への中間台と下台の相対移動距離を最大限に確保
できる。したがって、この発明によれば、下台に対する
上台の水平方向へのスライド寸法を最大限に確保でき
る。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、この発明を図示の実施の形
態により詳細に説明する。

【００１８】図１に、この発明の相対移動自動復帰装置
の実施の形態としての免震装置を示す。この免震装置
は、上台１と下台２と中間台３を備えている。上台１は
略四角形状の平板４とこの平板４の水平方向(Ｘ方向)に
対向する２つの縁４Ａ,４Ｂの下面に固定された側壁５,
６からなる。この側壁５,６は、それぞれ、水平方向(Ｙ
方向)に隣接する２つの壁部材７,７で構成されている。
この壁部材７は、上方に凸で略中央の安定点としての極
点Ｐ１から徐々に立ち下がっている弧状貫通穴８を有し
ている。

【００１９】上記上台１の側壁５を構成する２つの壁部
材７,７の２つの弧状貫通穴８,８と側壁６を構成する２
つの壁部材７,７の２つの弧状貫通穴８,８とが第１立ち
下げ軌道を構成している。

【００２０】一方、上記下台２は、略四角形状の平板１
０とこの平板１０の水平方向(Ｙ方向)に対向する２つの
縁１０Ａ,１０Ｂの上面に固定された側壁１１,１２から
なる。この側壁１１,１２は、それぞれ、水平方向(Ｘ方
向)に隣接する２つの壁部材１３,１３で構成されてい
る。この壁部材１３は、上方に凸で略中央の安定点とし
ての極点Ｐ２から徐々に立ち上がっている弧状貫通穴１
５を有している。

【００２１】上記下台２の側壁１１を構成する２つの壁
部材１３,１３の２つの弧状貫通穴１５,１５と、側壁１
２を構成する２つの壁部材１３,１３の２つの弧状貫通
穴１５,１５とが第２立ち上げ軌道を構成している。

【００２２】また、上記中間台３は、略四角形状の平板
１６と、この平板１６の水平方向(Ｘ方向)に対向する２
つの縁１６Ａ,１６Ｂの上面に固定された側壁１７,１８
を有する。この側壁１７,１８は、それぞれ、水平方向
(Ｙ方向)に隣接する２つの壁部材２０,２０で構成され
ている。この壁部材２０は、上方に開口した溝２１を挟
んで対向する２つの板部２２,２３を有し、この２つの
板部２２,２３に、それぞれ、下方に凸で略中央の極点
Ｐ３から徐々に立ち上がっている第１立ち上げ軌道とし
ての弧状貫通穴２５,２６が形成されている。そして、
上記壁部材２０の溝２１に、上台１の側壁５,６を構成
する壁部材７が水平方向(Ｙ方向)にスライド自在に嵌合
するようになっている。

【００２３】さらに、上記中間台３は、上記平板１６の
水平方向(Ｙ方向)に対向する２つの縁１６Ｃ,１６Ｄの
下面に固定された側壁２７,２８を有する。この側壁２
７,２８は、それぞれ、水平方向(Ｘ方向)に隣接する２
つの壁部材３０,３０で構成されている。この壁部材３
０は、下方に開口した溝３１を挟んで対向する２つの板
部３２,３３を有し、この２つの板部３２,３３に、それ
ぞれ、上方に凸で略中央の極点Ｐ４から徐々に立ち下が
っている第２立ち下げ軌道としての弧状貫通穴３５,３
６が形成されている。そして、上記壁部材３０の溝３１
に、下台２の側壁１１,１２を構成する壁部材１３,１３
が水平方向(Ｘ方向)にスライド自在に嵌合するようにな
っている。

【００２４】上記上台１の側壁５,６は、中間台３の側
壁１７,１８の溝２１,２１,２１,２１に嵌合してスライ
ド自在になっている。この側壁５,６を構成する壁部材
７,７,７,７の弧状貫通穴８,８,８,８および側壁１７,
１８を構成する壁部材２０,２０,２０,２０の弧状貫通
穴２５,２６,２５,２６,２５,２６,２５,２６に、４つ
の円筒転動体５１,５１,５１,５１が転動自在に嵌合し
ている。

【００２５】図２に、上記側壁５の壁部材７の弧状貫通
穴８および側壁１７の壁部材２０の弧状貫通穴２５,２
６を１つの円筒転動体５１が貫通している様子を示す。
この円筒転動体５１は、その軸芯孔５１Ａを貫通する軸
５２で回転自在に軸支されており、この軸５２は支持枠
体５３に固定されている。また、上記円筒転動体５１
は、根本鍔部５１Ｂを備え、この根本鍔部５１Ｂと略同
径の２枚のワッシャ５５,５５が回転自在に嵌合されて
いる。上記根本鍔部５１Ｂと１枚のワッシャ５５で、側
壁１７の壁部材２０の板部２２を挟んでおり、２枚のワ
ッシャ５５,５５で、側壁５の壁部材７を挟んでいる。
この円筒転動体５１は、上台１と中間台３を上下方向に
係止すると共に、弧状貫通孔８および２５,２６に沿っ
て転動して上台１と中間台３とをＹ方向に円滑にスライ
ドさせる役割を果たす。

【００２６】図１に示すように、上記４つの円筒転動体
５１は、上記支持枠体５３の略四隅に軸支されており、
各々、上述の図２で説明したのと同様の構造になってい
る。さらにまた、第２転動部材としての４つの円筒転動
体６０,６０,６０,６０が、中間台３の下面に固定され
た側壁２７,２８の板部３２,３３,３２,３３の弧状貫通
穴３５,３６,３５,３６および、下台２の側壁１１,１２
を構成する壁部材１３,１３,１３,１３の弧状貫通穴１
５,１５,１５,１５に転動自在に嵌合している。

【００２７】上記４つの円筒転動体６０は、支持枠体６
１に回転自在に軸支されており、図２に示した円筒転動
体５１と同様の構造になっており、それぞれ、２枚のワ
ッシャ５５が、下台２の側壁１１,１２を構成する壁部
材１３,１３,１３,１３を挟む構造になっている。

【００２８】上記構成の免震装置は、たとえば、下台２
は地盤に固定され、上台１は構築物に固定される。そし
て、構築物の規模によって、上記免震装置を複数台だけ
設置するが、小型建物などの場合には、比較的大型の上
記構造の免震装置を１台だけ使用してもよい。

【００２９】地震がないときには、第１転動部材として
の４つの円筒転動体５１は、上台１の４つの立ち下げ弧
状貫通穴８の極点Ｐ１および中間台３の４対の立ち上げ
弧状貫通穴２５,２６の極点Ｐ３に静止している。ま
た、第２転動部材としての４つの円筒転動体６０は、下
台２の４つの立ち上げ弧状貫通穴１５の極点(安定点)Ｐ
２および中間台３の４対の立ち下げ弧状貫通穴３５,３
６の極点(安定点)Ｐ４に静止している。

【００３０】この状態で、上記構築物の重量は、上台
１、４つの円筒転動体５１、中間台３、４つの円筒転動
体６０、下台２の順に鉛直下方に伝わり、鉛直方向の大
荷重を支持できる。

【００３１】一方、地震時には、この地震で地盤が水平
方向に揺れ、地盤と一緒に下台２が水平方向に移動す
る。すると、４つの円筒転動体６０が下台２の４つの弧
状貫通穴１５,中間台３の４対の弧状貫通穴３５,３６に
沿って走行し、４つの円筒転動体５１が中間台３の４対
の弧状貫通穴２５,２６および上台１の４つの弧状貫通
穴８に沿って走行する。これにより、地盤の水平方向の
揺れが構築物に伝わらなくなる。

【００３２】この実施の形態によれば、４つの円筒転動
体５１が４つの弧状貫通穴８,４対の弧状貫通穴２５,２
６内でＹ方向に走行し、４つの円筒転動体６０が４つの
弧状貫通穴１５,４対の弧状貫通穴３５,３６内でＸ方向
に走行するから、下台２に対して上台１が、水平方向の
任意の方向に相対移動できる。したがって、地盤の水平
方向の揺れを略完全に吸収して構築物に揺れを伝えな
い。

【００３３】また、この実施形態によれば、軌道を構成
する弧状貫通穴８および２５,２６内で円筒転動体５１
を走行させ、軌道を構成する弧状貫通穴１５および３
５,３６内で円筒転動体６０を走行させることで、下台
２と上台１とを相対的にスライドさせるから、アイソレ
ータとしての水平剛性を十分に柔らかくすることがで
き、絶対免震に近づけることができる。したがって、
中,小規模の建築物,構築物に適用しても、地震の揺れが
建物に伝わるのを十分に防ぐことができる。

【００３４】また、地震が止んだ後は、円筒転動体５１
は、弧状貫通穴８と２５,２６内で安定点Ｐ１とＰ３の
両側の部分を往復しながら安定点Ｐ１,Ｐ３の位置に戻
るから、上台１は下台２に対する静止時の位置に自動復
帰し、構築物を地盤に対する静止時の位置に自動復帰さ
せることができる。

【００３５】また、この実施形態では、円筒転動体５１
が弧状貫通穴８と２５,２６に嵌合して上台１と中間台
３を上下方向に係止し、円筒転動体６０が弧状貫通穴１
５と３５,３６に嵌合して下台２と中間台３を上下方向
に係止している。したがって、高層の構築物に風が当た
って、この構築物から上台１に引張力が働いた場合に
は、上台１からの引張力が、弧状貫通穴８,円筒転動体
５１,弧状貫通穴２５,２６を経由して中間台３に伝わ
り、さらに、弧状貫通穴３５,３６,円筒転動体６０,弧
状貫通穴１５を経由して下台２に伝わる。したがって、
この実施形態は、引張力に対する抵抗力を有し、引張力
が働いても分解することがなく、引っ張り力に強い免震
装置を構成できる。

【００３６】また、この実施形態では、円筒転動体５１
が、弧状貫通穴８と弧状貫通穴２５,２６の両方に対し
て転動自在になっているから、弧状貫通穴８,弧状貫通
穴２５,２６の方向(Ｙ方向)への上台１と中間台３の相
対移動距離を最大限に確保できる。また、円筒転動体６
０が弧状貫通穴３５,３６と弧状貫通穴１５の両方に対
して転動自在になっているから、中間台３と下台２のＸ
方向への相対移動距離を最大限に確保できる。したがっ
て、この実施形態によれば、下台２に対する上台１の水
平方向へのスライド寸法を最大限に確保できる。

【００３７】また、この実施形態は、軌道をなす弧状貫
通穴８,２５,２６および１５,３５,３６が、円筒転動体
５１および６０の走行方向に湾曲しているから、この湾
曲の曲率設定でもって、水平剛性を所望値に設定でき
る。

【００３８】また、上記実施の形態の免震装置は、減衰
器としての弱いダンパーを補助的に用いれば、免震性能
を損なわずに減衰力を設定できる。

【００３９】また、上記実施の形態は、列車等の交通機
関の洗面室やトイレの免震にも応用できる。この場合、
上台１は免震対象である室の床に固定され、下台２は列
車のフレームに固定される。これにより、フレームに軸
支された車輪から上記室に振動が伝わらないようにでき
る。また、上台１は、列車の停止時には自動的に緩やか
に安定点に復帰する。

【００４０】また、上記実施の形態では、本発明の相対
移動自動復帰装置を免震装置に応用したが、本発明は、
半導体のラッピング装置等を構成する揺動可能な機械加
工台にも適用できる。たとえば、上記実施の形態と同じ
構成でもって半導体のラッピング装置を構成することが
できる。この場合には、従来のような軌道面の球面仕上
げ加工が不要になり、製造コストを低減できる。

【００４１】尚、上記実施の形態では、弧状貫通穴８,
２５,２６および１５,３５,３６がなす軌道を所定の曲
率半径で湾曲させたが、両端から安定点にかけての所定
寸法分を直線軌道部分とし、この直線軌道部分を安定点
近傍の湾曲軌道部分に滑らかに接続した構成としてもよ
い。この場合には、転動体５１,６０が滑らかに転動で
きることが確かめられている。

【００４２】

【発明の効果】以上より明らかなように、この発明の請
求項１の発明の相対移動自動復帰装置は、上台と中間台
と下台と、上台の第１立ち下げ軌道と中間台の第１立ち
上げ軌道に対して上下に係止されながら水平方向に転動
する第１転動部材と、中間台の第２立ち下げ軌道と下台
の第２立ち上げ軌道に対して上下に係止されながら水平
方向に転動する第２転動部材とを備えている。

【００４３】この請求項１の発明では、たとえば、免震
装置に用いる場合、下台は地盤に固定され、上台は構築
物に固定される。そして、地震がないときには、第１転
動部材は第１立ち下げ,立ち上げ軌道の安定点に静止し
ており、第２転動部材は第２立ち下げ,立ち上げ軌道の
安定点に静止している。この状態で、上記構築物の重量
は、上台、第１転動部材、中間台、第２転動部材、下台
の順に鉛直下方に伝わり、鉛直方向の大荷重を支持でき
る。

【００４４】一方、地震時には、この地震で地盤が水平
方向に揺れ、地盤と一緒に下台が水平方向に移動する。
すると、第２転動部材が第２立ち上げ,立ち下げ軌道に
沿って走行し、第１転動部材が第１立ち上げ,立ち下げ
軌道に沿って走行し、これにより、地盤の水平方向の揺
れが構築物に伝わらなくなる。

【００４５】この請求項１の発明によれば、第１転動部
材の第１立ち上げ,立ち下げ軌道に対する走行および第
２転動部材の第２立ち上げ,立ち下げ軌道に対する走行
でもって、下台に対して、上台が、水平方向の任意の方
向に相対移動できる。したがって、地盤の水平方向の揺
れを略完全に吸収して構築物に揺れを伝えない。

【００４６】また、軌道上の転動部材の走行で下台と上
台とを相対的にスライドさせるから、アイソレータとし
ての水平剛性を十分に柔らかくすることができ、絶対免
震に近づけることができる。したがって、中,小規模の
建築物,構築物に適用しても、地震の揺れが建物に伝わ
るのを十分に防ぐことができる。

【００４７】また、地震が止んだ後は、第１転動部材は
第１立ち上げ,立ち下げ軌道の安定点の両側の部分を往
復しながら上記安定点に戻るから、上台は下台に対する
静止時の位置に復帰し、構築物を地盤に対する静止時の
位置に復帰させることができる。

【００４８】また、この発明では、第１転動部材が第１
立ち上げ,立ち下げ軌道に対して上下方向に係止されて
おり、第２転動部材が第２立ち上げ,立ち下げ軌道に対
して上下方向に係止されている。したがって、高層の構
築物に風が当たって、この構築物から上台に引張力が働
いた場合には、上台からの引張力を、第１立ち上げ,立
ち下げ軌道,第１転動部材を介して中間台に伝えること
ができ、さらに、第２立ち上げ,立ち下げ軌道,第２転動
部材を介して下台に伝えることができる。したがって、
この発明では、引張力に対する抵抗力を有し、引張力が
働いても分解することがなく、引っ張り力に強い免震装
置を構成できる。

【００４９】また、この発明の相対移動自動復帰装置で
半導体のラッピング装置としての揺動可能な機械加工装
置を構成すれば、各軌道面が１次元的にカーブしていれ
ばよいことから従来のような軌道面の球面仕上げ加工が
不要になり、製造コストが安くなる。

【００５０】また、この発明の相対移動自動復帰装置で
は、第１転動部材が、第１立ち下げ軌道と第１立ち上げ
軌道の両方に対して転動自在になっているから、第１立
ち下げ,立ち上げ軌道の方向への上台と中間台の相対移
動距離を最大限に確保できる。また、第２転動部材が、
第２立ち下げ軌道と第２立ち上げ軌道の両方に対して転
動自在になっているから、第２立ち下げ,立ち上げ軌道
の方向への中間台と下台の相対移動距離を最大限に確保
できる。したがって、この発明によれば、下台に対する
上台の水平方向へのスライド寸法を最大限に確保でき
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 この発明の相対移動自動復帰装置の実施の形
態としての免震装置の一部切り欠き斜視図である。

【図２】 上記実施形態の円筒転動体５１と上台１の側
壁５および中間台３の側壁１７との係合構造を示すＹ方
向側面図である。

【図３】 従来の免震装置としての積層ゴムアイソレー
タの断面図である。

【図４】 従来の半導体ラッピング装置の要部断面図で
ある。

【符号の説明】

１…上台、２…下台、３…中間台、４…平板、４Ａ,４
Ｂ…縁、５,６…側壁、７…壁部材、Ｐ１…極点、８…
弧状貫通穴、１０…平板、１１,１２…側壁、１３…壁
部材、Ｐ２…極点、１５…弧状貫通穴、１６…平板、１
７,１８…側壁、２０…壁部材、２１…溝、２２,２３…
板、Ｐ３…極点、２５,２６…弧状貫通穴、２７,２８…
側壁、３０,３０…壁部材、３１…溝、３２,３３…板
部、Ｐ４…極点、３５,３６…弧状貫通穴、５１…円筒
転動体、５１Ａ…軸芯孔、５１Ｂ…根本鍔部、５２…
軸、５３…支持枠体、５５…ワッシャ、６０…円筒転動
体、６１…支持枠体。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 上台と、中間台と、下台を備え、 上記上台に形成されており、安定点から徐々に立ち下が
   っている第１立ち下げ軌道と、 上記中間台に形成されており、安定点から徐々に立ち上
   がっている第１立ち上げ軌道と、 上記第１立ち下げ軌道と第１立ち上げ軌道に沿って転動
   自在、かつ、上記第１立ち下げ軌道と第１立ち上げ軌道
   に対して上下方向に係止される第１転動部材と、 上記中間台に形成されており、安定点から徐々に立ち下
   がっていて、上記第１立ち下げ軌道と略直交する方向に
   延びている第２立ち下げ軌道と、 上記下台に形成されており、安定点から徐々に立ち上が
   っていて、上記第１立ち下げ軌道と略直交する方向に延
   びている第２立ち上げ軌道と、 上記第２立ち下げ軌道と第２立ち上げ軌道に沿って転動
   自在、かつ、上記第２立ち下げ軌道と第２立ち上げ軌道
   に対して上下方向に係止される第２転動部材とを備えた
   ことを特徴とする相対移動自動復帰装置。