JP2000292923A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光感度及び解像性を飛躍的に向上でき、しか
も無電解金めっき耐性に優れた硬化皮膜が得られる感光
性樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 感光性樹脂組成物は、（Ａ−１）（ａ）
β−カルボキシエチルアクリレート、（ｂ）酸基含有不
飽和化合物及び（ｃ）（メタ）アクリル酸エステルから
なる共重合体の一部の酸基に、脂環式エポキシ基含有不
飽和化合物のエポキシ基を付加させて得られる変性共重
合体、（Ｂ）アセトアセトキシエチルアクリレート、ア
クリロイルモルフォリン及びテトラヒドロフルフリルア
クリレートよりなる群から選ばれる少なくとも１種のモ
ノマーを含有するか、又は、上記共重合体の各モノマー
成分（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）と上記（Ｂ）成分のモノ
マーからなる共重合体の一部の酸基に、脂環式エポキシ
基含有不飽和化合物のエポキシ基を付加させて得られる
変性共重合体を含有し、さらに（Ｃ）希釈剤及び（Ｄ）
光重合開始剤を含有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は感光性樹脂組成物に
関し、特に、ソルダーレジストなどのプリント配線板材
料、プラスチックレリーフ材料、フラット・パネル・デ
ィスプレー（ＦＰＤ）用部材、コーティング保護膜、並
びにガラスや石の蝕刻、及び金属精密加工などに好適に
用いられる新規な感光性樹脂組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】ソルダーレジストは、通常、プリント配
線板表面に電子部品を実装する際に回路をはんだから保
護するためのレジストであり、回路導体のうちの実装パ
ッド（はんだパッド）を除いた全面に被覆される。この
ように、ソルダーレジストは、回路導体が空気に直接曝
されて酸化したり、あるいは湿分により腐食されるのを
防止する保護膜として機能する他、はんだが不要な部分
に流出したり付着するのを防止するソルダーダムとして
も機能する。そのため、ソルダーレジストには、密着性
や電気絶縁性、はんだ耐熱性、耐溶剤性、耐アルカリ
性、耐酸性、耐めっき性などの諸特性が要求される。

【０００３】このような諸特性が要求されるソルダーレ
ジストを形成する従来技術の一つとして、熱硬化型又は
紫外線硬化型の組成物を基板上にスクリーン印刷法にて
印刷し、その塗膜を紫外線又は熱により硬化する方法が
挙げられる（特公昭５１−１４０４４号、特公昭６１−
４８８００号参照）。しかし、近年の電子機器類の小型
化・高機能化により、配線基板においても回路のパター
ン密度やパターン精度の向上に対する要求が高くなって
おり、従来の熱硬化型又は紫外線硬化型の組成物を用い
たスクリーン印刷法では、印刷精度の限界から満足でき
る結果は得られていない。しかも、スクリーン印刷法で
は、印刷時のブリードや滲み、ダレといった現象が発生
し、所定位置のはんだパッドにはんだが付かないなどの
トラブルの発生が見られた。

【０００４】これに対し、上記問題を解消し、パターン
精度の向上を図り得る他の従来技術として、溶剤現像型
又はアルカリ現像型の感光性樹脂組成物を用い、露光、
現像によりパターンを形成するフォト法が知られてい
る。特に最近では、環境汚染の問題から、このようなフ
ォト法に用いる感光性樹脂組成物としては、溶剤現像型
からアルカリ現像型の組成物を用いる傾向にある。この
ようなアルカリ現像型の感光性樹脂組成物として、例え
ば、ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和モノカルボン酸
との反応生成物に多塩基酸無水物を付加させて得られる
感光性プレポリマーをベースポリマーとして含有する組
成物が挙げられる（特開昭６１−２４３８６９号、特開
平７−５０４７３号、特公平７−１７７３７号参照）。

【０００５】しかしながら、上記アルカリ現像型の感光
性樹脂組成物は、ベンゼン環骨格を有しているために、
（１）紫外線を吸収する結果、組成物の光感度が低くな
る、（２）得られる硬化皮膜の電気特性が悪くなる、と
いった欠点があった。

【０００６】これに対し、上記のような欠点を克服する
ために、脂環式エポキシ基含有不飽和化合物をポリ（メ
タ）アクリル系樹脂に付加した重合体を含有する樹脂組
成物が提案されている。しかしながら、この提案に係る
組成物では、光感度が未だ充分とはいえず、また、金め
っき等の過酷な条件において塗膜が剥がれる等の金めっ
き耐性に劣るといった問題があった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は、前
記従来技術が抱える問題を解決するためになされたもの
であり、その主たる目的は、ソルダーレジストに要求さ
れる諸特性を満足すると共に、光感度及び解像性を飛躍
的に向上でき、しかも無電解金めっき耐性に優れた硬化
皮膜が得られる感光性樹脂組成物を提供することにあ
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の第一の態様によれば、（Ａ−１）（ａ）β
−カルボキシエチルアクリレート（以下、「β−ＣＥ
Ａ」と略記する。）、（ｂ）酸基含有不飽和化合物及び
（ｃ）（メタ）アクリル酸エステルからなる共重合体の
一部の酸基に、脂環式エポキシ基含有不飽和化合物のエ
ポキシ基を付加させて得られる変性共重合体、（Ｂ）ア
セトアセトキシエチルアクリレート、アクリロイルモル
フォリン及びテトラヒドロフルフリルアクリレートより
なる群から選ばれる少なくとも１種のモノマー、（Ｃ）
希釈剤、及び（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴
とする感光性樹脂組成物が提供される。

【０００９】また、本発明の第二の態様によれば、（Ａ
−２）（ａ）β−ＣＥＡ、（ｂ）酸基含有不飽和化合
物、（ｃ）（メタ）アクリル酸エステル、及び（ｄ）ア
セトアセトキシエチルアクリレート、アクリロイルモル
フォリン及びテトラヒドロフルフリルアクリレートより
なる群から選ばれる少なくとも１種のモノマーからなる
共重合体の一部の酸基に、脂環式エポキシ基含有不飽和
化合物のエポキシ基を付加させて得られる変性共重合
体、（Ｃ）希釈剤、及び（Ｄ）光重合開始剤を含有する
ことを特徴とする感光性樹脂組成物が提供される。

【００１０】さらに他の態様として、本発明の感光性樹
脂組成物は、（Ｅ）エポキシ化合物、及び／又は（Ｆ）
潜在性硬化密着付与剤、及び／又は（Ｇ）無機充填剤を
含有することを特徴としている。なお、上記脂環式エポ
キシ基含有不飽和化合物は、３，４−シクロヘキシルメ
チル（メタ）アクリレートであることが好ましい。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明の感光性樹脂組成物は、組
成物を構成するβ−ＣＥＡ（ａ）、酸基含有不飽和化合
物（ｂ）、（メタ）アクリル酸エステル（ｃ）からなる
共重合体の一部の酸基に脂環式エポキシ基含有不飽和化
合物のエポキシ基を付加させて得られる変性共重合体
（Ａ）に対し、アセトアセトキシエチルアクリレート、
アクリロイルモルフォリン及びテトラヒドロフルフリル
アクリレートよりなる群から選ばれる少なくとも１種の
モノマーを組成物成分として添加するか、あるいは前記
共重合体の骨格中に予め導入してなる点に特徴がある。
これにより、ソルダーレジストに要求される諸特性を満
足すると共に、光感度及び解像性を飛躍的に向上でき、
しかも無電解金めっき耐性に優れた硬化皮膜が得られる
感光性樹脂組成物を提供することができる。

【００１２】このような本発明の感光性樹脂組成物にお
いて、前記β−ＣＥＡ（ａ）は下記構造式を有するもの
であり、共重合樹脂の主骨格を形成する不飽和二重結合
がカルボキシル基と離れている構造であるため、そのカ
ルボキシル基と付加反応する脂環式エポキシ基含有不飽
和化合物の不飽和二重結合が主鎖による立体障害の影響
を受けない位置となる。その結果、本発明の感光性樹脂
組成物は、光感度が向上する。

【化１】

【００１３】前記酸基含有不飽和化合物（ｂ）は、分子
中に不飽和基を有し、かつ少なくとも１個の酸基を有す
る化合物であればよく、特定のものに限定されない。そ
の具体例としては、（メタ）アクリル酸、ビニルフェノ
ール類、分子中に２個以上のカルボキシル基を含むマレ
イン酸などが挙げられ、これらを単独で又は２種以上を
組み合わせて用いることができる。本発明では、これら
の中でも（メタ）アクリル酸が好ましい。なお、本明細
書中で（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸とメタアク
リル酸を総称する用語であり、他の類似の表現について
も同様である。

【００１４】前記（メタ）アクリル酸エステル（ｃ）の
具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル
（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレー
ト、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）ア
クリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、アダマン
チル（メタ）アクリレート、ノルボルニル（メタ）アク
リレートなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステル
類；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒド
ロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチ
ル（メタ）アクリレート、カプロカクトン変性２−ヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアダマ
ンチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシノルボルニル
（メタ）アクリレートなどの水酸基を有する（メタ）ア
クリル酸エステル類；メトキシジエチレングリコール
（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール
（メタ）アクリレート、イソオクチルオキシジエチレン
グリコール（メタ）アクリレート、フェノキシトリエチ
レングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエ
チレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリ
エチレングリコール（メタ）アクリレートなどの（メ
タ）アクリレート等が挙げられる。

【００１５】このような本発明における共重合体成分
（Ａ−１）を構成する上記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）成分
のモル比率は、任意に選択することができるが、（ａ）
／（ｂ）／（ｃ）が２〜５０／２０〜６０／３０〜８０
が好ましく、より好ましくは、５〜４０／３０〜６０／
３０〜５０の範囲とする。この理由は、β−ＣＥＡ
（ａ）のモル比率が上記範囲より小さいと光感度が大幅
に低下し、一方、上記範囲を超えると乾燥塗膜の指触乾
燥性が低下するからである。

【００１６】また、本発明の他の態様における共重合体
成分（Ａ−２）において、上記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）
からなる共重合体の樹脂骨格中に導入するアセトアセト
キシエチルアクリレート、アクリロイルモルフォリン及
びテトラヒドロフルフリルアクリレートよりなる群から
選ばれる少なくとも１種のモノマー（ｄ）の量は、任意
に選択することができるが、好ましくは（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）からなる共重合樹脂１００重量部に対し
て１〜２０重量部とする。この（ｄ）成分は、添加成分
（Ｂ）として組成物中に配合する場合には、その使用量
をさらに多くすることが望ましく、好ましくは（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）からなる共重合樹脂１００重量部に対し
て１〜５０重量部の範囲で添加する。これらの理由は、
モノマー成分（ｄ）又は添加成分（Ｂ）の導入量又は添
加量が上記範囲よりも少ないと、得られる硬化皮膜の無
電解金めっき耐性が不充分となり、一方、上記範囲を超
えると硬化皮膜のめっき耐性のさらなる向上が期待でき
ず、また乾燥塗膜の指触乾燥性に悪影響が生じるからで
ある。

【００１７】本発明では、前述した（ａ）、（ｂ）、
（ｃ）からなる共重合体、又は（ａ）、（ｂ）、
（ｃ）、（ｄ）からなる共重合体の一部の酸基に、脂環
式エポキシ基含有不飽和化合物のエポキシ基を触媒存在
下で付加させて、本発明の感光性樹脂組成物において感
光性成分となる変性共重合体（Ａ−１）又は（Ａ−２）
が得られる。この脂環式エポキシ基含有不飽和化合物
は、１分子中に１個のラジカル重合性の不飽和基と脂環
式エポキシ基とを有する化合物であればよく、特定のも
のに限定されない。その具体的な例としては、下記一般
式（１）〜（１３）で示される化合物が挙げられる。

【化２】 各式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基、Ｒ²は炭素数１〜
１０のアルキレン基、Ｒ³は炭素数１〜１０の炭化水素
基、ｋは０又は１〜１０の整数を示す。これらの脂環式
エポキシ基含有不飽和化合物は、単独で又は２種以上を
組み合わせて用いることができる。これらの中でも、
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリ
レートが好ましい。

【００１８】このような脂環式エポキシ基含有不飽和化
合物は、その付加量を変性共重合体に対して５〜５０モ
ル％とすることが望ましい。この理由は、付加量が５モ
ル％未満であると、得られる感光性樹脂組成物の紫外線
硬化性が悪く、硬化皮膜の物性が低下する。一方、付加
量が５０モル％を超えると、樹脂の保存安定性が悪くな
るからである。

【００１９】このようにして得られた変性共重合体（Ａ
−１）又は（Ａ−２）は、その酸価を１０〜１５０ｍｇ
ＫＯＨ／ｇの範囲に調整することが好ましい。この理由
は、酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満の場合には、弱アル
カリ水溶液での未露光部の除去が難しく、一方、酸価が
１５０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると、硬化皮膜の耐水性や
電気特性が劣るなどの問題が生じるからである。また、
変性共重合体（Ａ−１）又は（Ａ−２）は、重量平均分
子量を５，０００〜１００，０００の範囲に調整するこ
とが好ましい。この理由は、重量平均分子量が５，００
０未満であると、乾燥塗膜の指触乾燥性が著しく劣り、
一方、重量平均分子量が１００，０００を超えると、光
硬化皮膜の現像性や組成物の貯蔵安定性が著しく悪くな
るといった問題が生じるからである。

【００２０】なお、上記共重合体（酸基含有樹脂）の一
部の酸基に脂環式エポキシ基含有不飽和化合物を付加さ
せる際に使用する触媒としては、ジメチルベンジルアミ
ン、トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミ
ン、トリ−ｎ−オクチルアミンなどの３級アミン、テト
ラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモ
ニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマイ
ドなどの４級アンモニウム塩、テトラメチル尿素などの
アルキル尿素、テトラメチルグアニジンなどのアルキル
グアジニン、ナフテン酸コバルト等に代表される金属化
合物、有機金属錯体、トリフェニルホスフィン等のホス
フィン系及びこれらの塩などを挙げることができ、とり
わけトリフェニルホスフィンに代表される３級のホスフ
ィンが好適に用いられる。これらの触媒は、単独で又は
２種以上を組み合わせて用いることができ、使用する脂
環式エポキシ基含有不飽和化合物の量の０．０１〜１０
重量％、好ましくは０．５〜３．０重量％用いるのが望
ましい。この理由は、触媒量が０．０１重量％より少な
いとその触媒効果が低く、一方、１０重量％を超えても
触媒効果の増大は望めず、それ以上の量は加える必要が
ないからである。

【００２１】次に、本発明の感光性樹脂組成物を構成す
る希釈剤（Ｃ）としては、光重合性モノマー及び／又は
有機溶剤を用いることができる。光重合性モノマーの代
表的なものとしては、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシブチルアクリレートなどのヒドロキ
シアルキルアクリレート類；エチレングリコール、メト
キシテトラエチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、プロピレングリコールなどのグリコールのモノ又は
ジアクリレート類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、
Ｎ−メチロールアクリルアミドなどのアクリルアミド
類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレートなどの
アミノアルキルアクリレート類；ヘキサンジオール、ト
リメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペン
タエリスリトール、トリス−ヒドロキシエチルイソシア
ヌレートなどの多価アルコール又はこれらのエチレンオ
キサイドもしくはプロピレンオキサイド付加物の多価ア
クリレート類；フェノキシアクリレート、ビスフェノー
ルＡジアクリレート及びこれらのフェノール類のエチレ
ンオキサイドもしくはプロピレンオキサイド付加物など
のアクリレート類；グルセリンジグリシジルエーテル、
トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルなどの
グリシジルエーテルのアクリレート類；メラミンアクリ
レート；及び／又は上記アクリレート類に対応するメタ
クリレート類などが挙げられる。

【００２２】一方、有機溶剤としては、メチルエチルケ
トン、シクロヘキサノンなどのケトン類；トルエン、キ
シレン、テトラメチルベンゼンなどの芳香族炭化水素
類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブ、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノエチルエーテル、ジプロプレングリコール
モノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチ
ルエーテルなどのグリコールエーテル類；酢酸エチル、
酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテルアセテート及び上記グリコール
エーテル類のエステル化物などのエステル類；エタノー
ル、プロパノール、エチレングリコール、プロピレング
リコールなどのアルコール類；オクタン、デカンなどの
脂肪族炭化水素類；石油エーテル、石油ナフサ、水添石
油ナフサ、ソルベントナフサなどの石油系溶剤などが挙
げられる。

【００２３】上記のような希釈剤（Ｃ）は、単独で又は
２種以上を組み合わせて用いることができ、その好適な
使用量は、前記変性共重合体（Ａ−１）又は（Ａ−２）
１００重量部に対して２０〜３００重量部とすることが
好ましい。この希釈剤の使用目的は、光重合性モノマー
の場合は、前記変性共重合体を希釈せしめて塗布しやす
い状態にすると共に、光重合性を増強するものであり、
一方、有機溶剤の場合は、前記変性共重合体を溶解し希
釈せしめ、それによって液状として塗布し、次いで、乾
燥させることにより造膜せしめたるためである。従っ
て、用いる希釈剤に応じて、フォトマスクを塗膜に接触
させる接触方式あるいは非接触方式のいずれかの露光方
式が用いられる。

【００２４】本発明の感光性樹脂組成物を構成する光重
合開始剤（Ｄ）としては、例えば、ベンゾイン、ベンジ
ル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインｎ−プロピルエーテル、ベンゾインイ
ソプロピルエーテル、ベンゾインｎ−ブチルエーテルな
どのベンゾイン類；ベンゾインアルキルエーテル類；ベ
ンゾフェノン、ｐ−メチルベンゾフェノン、ミヒラーズ
ケトン、メチルベンゾフェノン、４，４′−ジクロロベ
ンゾフェノン、４，４′−ビスジエチルアミノベンゾフ
ェノンなどのベンゾフェノン類；アセトフェノン、２，
２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２
−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１，１−
ジクロロアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン、２−メチル−〔４−（メチルチオ）
フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノアセトフェノンなどのアセトフェノ
ン類；２，４−ジメチルチオサントン、２，４−ジエチ
ルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４
−ジイソプロピルチオキサントンなどのチオキサントン
類；アントラキノン、クロロアントラキノン、２−メチ
ルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ
ｅｒｔ−ブチルアントラキノン、１−クロロアントラキ
ノン、２−アミルアントラキノン、２−アミノアントラ
キノンなどのアントラキノン類；アセトフェノンジメチ
ルケタール、ベンジルジメチルケタールなどのケタール
類；エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、２−
（ジメチルアミノ）エチルベンゾエート、ｐ−ジメチル
安息香酸エチルエステルなどの安息香酸エステル類；フ
ェニルジスルフィド２−ニトロフルオレン、ブチロイ
ン、アニソインエチルエーテル、アゾビスイソブチロニ
トリル、テトラメチルチウラムジスルフィド等が挙げら
れる。

【００２５】これらの光重合開始剤（Ｄ）は、単独で又
は２種以上を組み合わせて用いることができ、その使用
量は、前記変性共重合体（Ａ−１）又は（Ａ−２）１０
０重量部に対して０．０５〜３０重量部の範囲が好適で
ある。本発明では、上記光重合開始剤による光重合反応
を促進させる目的で、さらに光促進剤を併用することが
でき、かかる光促進剤の代表的なものとしては、例え
ば、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、２−ジ
メチルアミノエタノール等の第三級アミン類；トリフェ
ニルホスフィンで代表されるアルキルホスフィン類；β
−チオグリコールで代表されるチオール類、のような公
知の光増感剤を挙げることができる。

【００２６】次に、本発明の感光性樹脂組成物におい
て、任意成分として添加するエポキシ化合物（Ｅ）とし
ては、固形又は液状の公知のエポキシ樹脂を含むエポキ
シ化合物を用いることができる。具体的には、日本化薬
（株）製 ＢＰＳ−２００、エー・シー・アール（株）
製 ＥＰＸ−３０、大日本インキ化学工業（株）製 エ
ピクロンＥＸＡ−１５１４などのビスフェノールＳ型エ
ポキシ樹脂；日本油脂（株）製 ブレンマーＤＧＴなど
のジグリシジルフタレート樹脂；日産化学（株）製 Ｔ
ＥＰＩＣ、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製
アラルダイトＰＴ８１０などのヘテロサイクリックエ
ポキシ樹脂；油化シェルエポキシ（株）製ＹＸ−４００
０などのビキシレノール型エポキシ樹脂；油化シェルエ
ポキシ（株）製 ＹＬ−６０５６などのビフェノール型
エポキシ樹脂；東都化成（株）製ＺＸ−１０６３などの
テトラグリシジルキシレノイルエタン樹脂；日本化薬
（株）製 ＥＰＰＮ−２０１、ＥＯＣＮ−１０３、ＥＯ
ＣＮ−１０２０、ＥＯＣＮ−１０２５、旭化成工業
（株）製 ＥＣＮ−２７８、ＥＣＮ−２９２、ＥＣＮ−
２９９、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製
ＥＣＮ−１２７３、ＥＣＮ−１２９９、東都化成（株）
製 ＹＤＣＮ−２２０Ｌ、ＹＤＣＮ−２２０ＨＨ、ＹＤ
ＣＮ−７０２、ＹＤＣＮ−７０４、ＹＤＰＮ−６０１、
ＹＤＰＮ−６０２、大日本インキ化学工業（株）製 エ
ピクロンＮ−６６５、Ｎ−６８０、Ｎ−６９５、Ｎ−７
７０、Ｎ−７７５などのノボラック型エポキシ樹脂：旭
化成工業（株）製 ＥＰＸ−８００１、ＥＰＸ−８００
２、ＥＰＰＸ−８０６０、ＥＰＰＸ−８０６１、大日本
インキ化学工業（株）製 エピクロンＮ−８８０などの
ビスフェノールＡのノボラック型エポキシ樹脂；旭電化
工業（株）製 ＥＰＸ−４９−６９、ＥＰＸ−４９−３
０などのキレート型エポキシ樹脂；東都化成（株）製Ｙ
ＤＧ−４１４などのグリオキザール型エポキシ樹脂；東
都化成（株）製 ＹＨ−１４０２、ＳＴ−１１０、油化
シェルエポキシ（株）製 ＹＬ−９３１、ＹＬ−９３３
などのアミノ基含有エポキシ樹脂；大日本インキ化学工
業（株）製エピクロンＴＳＲ−６０１、旭電化工業
（株）製 ＥＰＸ−８４−２、ＥＰＸ−４０６１などの
ゴム変性エポキシ樹脂；山陽国策パルプ（株）製 ＤＣ
Ｅ−４００などのジシクロペンタジエンフェノリック型
エポキシ樹脂；旭電化工業（株）製 Ｘ−１３５９など
のシリコーン変性エポキシ樹脂；ダイセル化学工業
（株）製 プラクセルＧ−４０２、Ｇ−７１０などのε
ーカプロラクトン変性エポキシ樹脂などを用いることが
できる。なお、本発明では、これらのエポキシ化合物の
（メタ）アクリル酸による部分エステル化物、及び該部
分エステル化物に酸無水物を付加した不飽和基と酸基を
有する化合物もしくは樹脂を併用することができる。

【００２７】このようなエポキシ化合物（Ｅ）の配合比
率は、前記変性共重合体（Ａ−１）又は（Ａ−２）に対
して重量比で（Ａ−１）又は（Ａ−２）：（Ｅ）＝５
０：５０〜９９：１とすることが好ましい。この理由
は、エポキシ化合物（Ｅ）の配合比率が上記範囲を超え
ると、アルカリ現像タイプの場合は、現像液での未露光
部分の溶解性が低下し、現像残りが発生し易くなり、ま
た、溶剤現像タイプの場合は、現像液に侵され、塗膜の
脱落やフクレが発生し易くなり、実用上使用することが
難しくなるからである。

【００２８】なお、前記変性共重合体（Ａ−１）又は
（Ａ−２）のカルボキシル基とエポキシ化合物（Ｅ）の
エポキシ基とは開環重合により反応するが、エポキシ化
合物（Ｅ）として希釈剤（Ｃ）や組成物中の他の物質に
易溶性のエポキシ樹脂を用いた場合、乾燥時の熱により
架橋が進み易い。そのため、それを抑制して乾燥時間を
長くとりたい場合には、難溶性の微粒状エポキシ樹脂を
単独で又は易溶性のエポキシ樹脂と共に用いることが好
ましい。但し、難溶性のエポキシ樹脂は反応性が低いた
め、硬化促進剤を併用することが望ましい。

【００２９】任意成分として添加する潜在性硬化密着付
与剤（Ｆ）としては、メラミン、エチルジアミノ−Ｓ−
トリアジン、２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン、２，
４−ジアミノ−６−トリル−Ｓ−トリアジン、２，４−
ジアミノ−６−キシリル−Ｓ−トリアジン及びそれらの
誘導体などのＳ−トリアジン化合物；グアナミン、アセ
トグアナミン、ベンゾグアナミン、３，９−ビス〔２−
（３，５−ジアミノ−２，４，６−トリアザフェニル）
エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ
〔５．５〕ウンデカンなどのグアナミン類；四国化成工
業（株）製 ２ＭＺ、２Ｅ４ＭＺ、Ｃ１１Ｚ、Ｃ１７
Ｚ、２ＰＺ、１Ｂ２ＨＺ、２ＭＺ−ＣＮ、２Ｅ４ＭＺ−
ＣＮ、Ｃ１１Ｚ−ＣＮ、２ＰＺ−ＣＮ、２Ｐ１１Ｚ−Ｃ
Ｎ、２ＭＺ−ＣＮＳ、２Ｅ４ＭＺ−ＣＮＳ、２ＰＺ−Ｃ
ＮＳ、２ＭＺ−ＡＺＩＮＥ、２Ｅ４ＭＺ−ＡＺＩＮＥ、
Ｃ１１Ｚ−ＡＺＩＮＥ、２ＭＡ−ＯＫ、２Ｐ４ＭＨＺ、
２ＰＨＺ、２Ｐ４ＢＨＺなどのイミダゾール及びその誘
導体；ジアミノジフェニルメタン、ｍ−フェニレンジア
ミン、ジアミノジフェニルスルフォン、シクロヘキシル
アミン、ｍ−キシリレンジアミン、４，４′−ジアミノ
−３，３′ジエチルジフェニルメタン、ジエチレントリ
アミン、テトラエチレンペンタミン、Ｎ−アミノエチル
ピベラジン、イソホロンジアミン、ジシアンジアミド、
尿素、尿素誘導体、多塩基ヒドラジドなどのポリアミン
類、これらの有機酸塩及び／又はエポキシアダクト；三
フッ化ホウ素のアミン錯体；トリメチルアミン、トリエ
タノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルオクチルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−ベンジルジメチルアミ
ン、ピリジン、Ｎ−メチルピリジン、Ｎ−メチルモルホ
リン、ヘキサメトキシメチルメラミン、２，４，６−ト
リス（ジメチルアミノフェノール）、Ｎ−シクロヘキシ
ルジメチルアミン、テトラメチルグアニジン、ｍ−アミ
ノフェノールなどの三級アミン類；トリブチルホスフィ
ン、トリフェニルホスフィン、トリス−２−シアノエチ
ルホスフィンなどの有機ホスフィン類；トリ−ｎ−ブチ
ル（２，５−ジヒドロキシフェニル）ホスホニウムブロ
マイド、ヘキサデシルトリブチルホスホニウムクロライ
ドなどのホスホニウム塩類；ベンジルトリメチルアンモ
ニウムクロライド、フェニルトリブチルアンモニウムク
ロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロマイド
などの４級アンモニウム塩；ジフェニルヨードニウムテ
トラフルオロボロエート、トリフェニルスルホニウムヘ
キサフルオロアンチモネート、２，４，６−トリフェニ
ルチオピリリウムヘキサフルオロホスフェート、チバ・
スペシャルティ・ケミカルズ（株）製 イルガキュア２
６１などの光カチオン重合触媒；スチレン−マレイン酸
樹脂、シランカップリング剤などが挙げられ、特に接着
性、密着性、耐めっき性の向上の点からはＳ−トリアジ
ン化合物が好適に用いられる。このような潜在性硬化密
着付与剤（Ｆ）は、単独で又は２種以上を組み合わせて
用いることができ、その使用量は、前記変性共重合体
（Ａ−１）又は（Ａ−２）１００重量部に対して０．０
５〜１５重量部とすることが好ましい。

【００３０】なお、本発明の感光性樹脂組成物には、密
着性、硬度などの特性を向上させる目的で、必要に応じ
て硫酸バリウムやチタン酸バリウム、酸化ケイ素、無定
形シリカ、タルク、クレー、炭酸マグネシウム、炭酸カ
ルシウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、雲
母などの公知の無機粉体を配合することができる。その
配合比率は、感光性樹脂組成物の０〜６０重量％、好ま
しくは５〜４０重量％とすることが望ましい。

【００３１】また、必要に応じてフタロシアニン・ブル
ー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリー
ン、ジスアゾイエロー、クリスタルバイオレット、酸化
チタン、カーボンブラック、ナフタレンブラックなどの
公知の着色剤、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメ
チルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ピロガロ
ール、フェノチアジンなどの公知の熱重合禁止剤、オル
ベン、ベントン、モンモリロナイトなどの公知の増粘
剤、シリコーン系、フッ素系、流動パラフィンなどの鉱
物油系、アクリル共重合系などの消泡剤、レベリング
剤、酸化防止剤のような公知の添加剤類を配合すること
ができる。

【００３２】さらに、アリル化合物であるジアリルフタ
レートプレポリマー又はジアリルイソフタレートプレポ
リマーを有機フィラーとして添加することができ、これ
らの添加により耐薬品性を向上させることが可能とな
る。この有機フィラーの添加量は、前記変性共重合体
（Ａ−１）又は（Ａ−２）１００重量部に対して３０重
量部以下、好ましくは２０重量部以下とすることが望ま
しい。上記プレポリマーとしては、ダイソー（株）製
ダイソー・ダップ、ダイソー・イソダップなどが挙げら
れ、平均分子量２,０００〜３０,０００のものが好適に
用いられる。中でも平均分子量が５,０００〜２０,００
０のジアリルイソフタレートプレポリマーが好ましい。

【００３３】さらにまた、硬化皮膜の耐衝撃性を増進す
る目的で、アクリル酸エステル類などのエチレン性不飽
和化合物の共重合体類や、多価アルコール類と飽和もし
くは不飽和多塩基酸化合物から合成されるポリエステル
樹脂類などの公知のバインダー樹脂、及び多価アルコー
ル類と飽和もしくは不飽和多塩基酸化合物とグリシジル
（メタ）アクリレートから合成されるポリエステル（メ
タ）アクリレート類や、多価アルコール類とジイソシア
ネート類と水酸基含有（メタ）アクリレート類から合成
されるウレタン（メタ）アクリレート類などの公知の感
光性オリゴマーを、ソルダーレジストマスクとしての諸
特性に影響を及ばさない範囲で配合することができる。

【００３４】但し、上記成分のうちアクリル酸エステル
類などのエチレン性不飽和化合物の共重合体類やポリエ
ステル樹脂類などのバインダー材料に関しては、感光基
を含有しない共重合体類や公知のバインダー樹脂の使用
量が多いと現像性や感度が悪くなる等の問題を生じるた
め、使用量は変性共重合体（Ａ−１）又は（Ａ−２）の
１０重量％以下（組成物全体の５重量％以下）とするこ
とが望ましい。

【００３５】以上説明したような本発明の感光性樹脂組
成物を用いてソルダーレジストを形成する場合、例え
ば、プリント配線板上に当該感光性樹脂組成物を塗布
し、予備乾燥した後、フォトマスクを介して選択的に活
性エネルギー線により露光して光重合させ、未露光部分
を現像液で現像してレジストパターンを形成し、その後
加熱して熱硬化させることによりレジストパターン形成
される。ここで、本発明の感光性樹脂組成物を基板上に
塗布して塗膜を形成する方法としては、既知の方法を採
用することができ、例えば、スクリーン印刷法、カーテ
ン塗装、ロール塗装、スプレー塗装など適宜の塗布方法
を採用することができる。

【００３６】現像液としては、活性エネルギー線硬化性
樹脂（変性共重合体Ａ−１又はＡ−２）の選択により異
なるが、シクロヘキサノン、キシレン、テトラメチルベ
ンゼン、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテル、セロソルブアセ
テート、プロパノール、プロピレングリコール、トリク
ロロエタン、トリクロロエチレン、変性トリクロロエタ
ン（旭化成工業（株）製 エターナＩＲ、東亜合成化学
工業（株）製 スクーワンＥＸ−Ｒ、関東電化工業
（株）製 カンデントリエタンＳＲ−Ａ、旭硝子（株）
製 レジソルブＶ−５等）などの有機溶剤や、水酸化カ
リウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、リン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、アンモニ
ア、アミン類などのアルカリ水溶液、及び界面活性剤水
溶液等が使用できる。

【００３７】特に、本発明の感光性樹脂組成物によれ
ば、希アルカリ水溶液にて現像することができる点で有
利である。即ち、具体的な処方は、まず本発明の感光性
樹脂組成物を基板上に所望の厚さで塗布し、次いで６０
〜８０℃で１５〜６０分の加熱にて有機溶剤を揮散さ
せ、その後、像部分が透明な所望のパターンを描画した
マスクを基板の塗膜上に置き、活性エネルギー線、好ま
しくは紫外線を照射して所望のパターンを選択的に露光
する。これにより塗膜の露光領域の組成物は交差結合を
生じて不溶性になる。次いで、未露光領域を希アルカリ
水溶液で現像除去し、望ましくは耐熱性を向上させるた
めに、このようにして得られたパターンを紫外線、１０
０〜２００℃の熱又は遠赤外線を加えて二次硬化する。
ここで用いられる希アルカリ水溶液としては、既知のア
ルカリ水溶液を用いることができるが、０．５〜５重量
％の炭酸ナトリウム水溶液が一般的である。

【００３８】

【実施例】以下に、実施例及び比較例を示して本発明に
ついて具体的に説明するが、本発明は下記実施例に限定
されるものではない。なお、「部」及び「％」とあるの
は、特に斬りのない限り全て重量基準である。

【００３９】合成例１ 攪拌機、温度計、環流冷却管、滴下ロート及び窒素導入
管を備えた２リットルのセパラブルフラスコに、ジプロ
ピレングリコールモノメチルエーテル（日本乳化剤
（株）製、ＭＦＤＧ）３２５ｇを導入し、１１０℃に昇
温した後、β−ＣＥＡ（βカルボキシエチルアクリレー
ト）３７．６ｇ、メタクリル酸 ２０１．９ｇ、メチル
メタクリレート １８６．４ｇ、ＭＦＤＧ ２２２ｇ、
及びｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート
（日本油脂（株）製、パーブチルＯ）１２．０ｇを３時
間かけて滴下した。滴下後、３時間の熟成によりカルボ
キシル基を有する幹ポリマーを合成した。次に、この幹
ポリマーの溶液に、３，４−エポキシシクロヘキシルメ
チルアクリレート（ダイセル化学工業（株）製、サイク
ロマーＡ２００）２８９．２ｇ、トリフェニルホスフィ
ン ２．９ｇ、メチルハイドロキノン １．３ｇを加え
て、１００℃で１０時間反応させた。この反応は、空気
／窒素の混合雰囲気下で行い、これにより、酸価が１０
０ｍｇＫＯＨ／ｇ、二重結合当量（不飽和基１モル当た
りの樹脂重量）が４５０、重量平均分子量が１５，００
０である（Ａ−１）の光硬化性樹脂溶液を得た。

【００４０】合成例２ 攪拌機、温度計、環流冷却管、滴下ロート及び窒素導入
管を備えた２リットルのセパラブルフラスコに、ジプロ
ピレングリコールモノメチルエーテル（日本乳化剤
（株）製、ＭＦＤＧ）２５０ｇを導入し、１１０℃に昇
温した後、β−ＣＥＡ（β−カルボキシエチルアクリレ
ート）２６．３ｇ、メタクリル酸 １４１．２ｇ、メチ
ルメタクリレート ３４．８ｇ、アセトアセトキシエチ
ルメタクリレート ２６．３ｇ、ＭＦＤＧ ２２３ｇ、
及びｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート
（日本油脂（株）製、パーブチルＯ）１２．０ｇを３時
間かけて滴下した。滴下後、３時間の熟成によりカルボ
キシル基を有する幹ポリマーを合成した。次に、この幹
ポリマーの溶液に、３，４−エポキシシクロヘキシルメ
チルアクリレート（ダイセル化学工業（株）製、サイク
ロマーＡ２００）２０２．２ｇ、トリフェニルホスフィ
ン ２．０ｇ、メチルハイドロキノン １．０ｇを加え
て、１００℃で１０時間反応させた。この反応は、空気
／窒素の混合雰囲気下で行い、これにより、酸価が１０
０ｍｇＫＯＨ／ｇ、二重結合当量が４５０、重量平均分
子量が１５，０００である（Ａ−２）の光硬化性樹脂溶
液を得た。

【００４１】合成例３ 攪拌機、温度計、環流冷却管、滴下ロート及び窒素導入
管を備えた２リットルのセパラブルフラスコに、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル（ダイセル化学工業
（株）製、ＭＭＰＧ）２５０ｇを導入し、１１０℃に昇
温した後、β−ＣＥＡ（β−カルボキシエチルアクリレ
ート）２６．３ｇ、メタクリル酸 １４１．２ｇ、メチ
ルメタクリレート ５９．８ｇ、アクロイルモルフォリ
ン ７０．５ｇ、ＭＦＤＧ ２２３ｇ、及びｔ−ブチル
パーオキシ−２−エチルヘキサノエート（日本油脂
（株）製、パーブチルＯ）１２．０ｇを３時間かけて滴
下した。この滴下後、３時間の熟成によりカルボキシル
基を有する幹ポリマーを合成した。次に、この幹ポリマ
ーの溶液に、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルア
クリレート（ダイセル化学工業（株）製、サイクロマー
Ａ２００）２０２．２ｇ、トリフェニルホスフィン
２．０ｇ、メチルハイドロキノン １．０ｇ加えて、１
００℃で１０時間反応させた。この反応は、空気／窒素
の混合雰囲気下で行い、これにより、酸価が１００ｍｇ
ＫＯＨ／ｇ、二重結合当量が４５０、重量平均分子量が
１４，０００である（Ａ−２）の光硬化性樹脂溶液を得
た。

【００４２】合成例４ 攪拌機、温度計、環流冷却管、滴下ロート及び窒素導入
管を備えた２リットルのセパラブルフラスコに、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル（ダイセル化学工業
（株）製、ＭＭＰＧ）２５０ｇを導入し、１１０℃に昇
温した後、β−ＣＥＡ（β−カルボキシエチルアクリレ
ート）２６．３ｇ、メタクリル酸 １４１．２ｇ、メチ
ルメタクリレート ９１．３ｇ、テトラヒドロフルフリ
ルアクリレート ３９．０ｇ、ＭＦＤＧ ２２３ｇ、及
びｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート
（日本油脂（株）製、パーブチルＯ）１２．０ｇを３時
間かけて滴下した。滴下後、３時間の熟成によりカルボ
キシル基を有する幹ポリマーを合成した。次に、この幹
ポリマーの溶液に、３，４−エポキシシクロヘキシルメ
チルアクリレート（ダイセル化学工業（株）製、サイク
ロマーＡ２００）２０２．２ｇ、トリフェニルホスフィ
ン ２．０ｇ、メチルハイドロキノン １．０ｇ加え
て、１００℃で１０時間反応させた。この反応は、空気
／窒素の混合雰囲気下で行い、これにより、酸価が１０
０ｍｇＫＯＨ／ｇ、二重結合当量が４５０、重量平均分
子量が１３，５００である（Ａ−２）の光硬化性樹脂溶
液を得た。

【００４３】比較合成例 攪拌機、温度計、環流冷却管、滴下ロート及び窒素導入
管を備えた２リットルのセパラブルフラスコに、クレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂（日本化薬（株）製、Ｅ
ＯＣＮ−１０４Ｓ、軟化点９２℃、エポキシ当量２２
０）６６０ｇ、カルビトールアセテート ４２１．３
ｇ、及びソルベントナフサ １８０．６ｇを導入し、９
０℃に加熱・攪拌し、溶解した。次に、一旦６０℃まで
冷却し、アクリル酸 ２１６ｇ、トリフェニルホスフィ
ン ４．０ｇ、メチルハイドロキノン１．３ｇを加え
て、１００℃で１２時間反応させ、酸価が０．２ｍｇＫ
ＯＨ／ｇの反応生成物を得た。これにテトラヒドロ無水
フタル酸 ２４１．７ｇを仕込み、９０℃に加熱し、６
時間反応させ、固形分酸価が８０ｍｇＫＯＨ／ｇ、固形
分濃度が６５％の樹脂溶液を得た。

【００４４】実施例１〜６及び比較例 このようにして得られた合成例１〜４及び比較合成例の
樹脂溶液を用い、下記成分組成以外の成分については表
１に示す組成比にて配合し、攪拌機にて予備混合した
後、３本ロールミルで混練し、感光性樹脂組成物を調製
した。ここで、得られた感光性樹脂組成物の分散度をエ
リクセン社製グラインドメータによる粒度測定にて評価
したところ１５μｍ以下であった。なお、各実施例及び
比較例では、組成物の硬化剤成分は、下記エポキシ化合
物（Ｅ）成分、メラミン、及び表１の希釈剤成分を指
し、主剤成分は、これら以外の成分を指す。

【００４５】表１に示す成分以外に実施例１〜６及び比
較例の各組成物が含有する成分： 光重合開始剤（Ｄ）： ・２−メチル［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モ
ルフォリノ−１−プロパノン（チバ・スペシャルティ・
ケミカルズ（株）製、イルガーキュアー９０７）： ５
部 ・ジエチルチオキサントン（日本化薬（株）製、カヤキ
ュアＤＥＴＸ−Ｓ）：０．５部 エポキシ化合物（Ｅ）： ・ビキシレノール型エポキシ樹脂 （油化シェルエポキシ（株）製、ＹＸ−４０００）：
１０部 ・フェノールノボラック型エポキシ樹脂成分 （日本化薬（株）製、ＲＥ３０６）： ３部 潜在性硬化密着付与剤（Ｆ）： ・ジシアンジアミド（ＤＩＣＹ）： ０．２部 ・メラミン： ３部 その他の成分： ・消泡剤（共栄社化学（株）製、フローレンＡＣ−３０
０）： １部 ・フタロシアニングリーン： ０．３部 ・硫酸バリウム： ６部 ・タルク： ４部 ・シリカ：１０部

【００４６】

【表１】

【００４７】次に、このようにして調製した感光性樹脂
組成物を、スクリーン印刷法により銅スルーホール・プ
リント配線板の全面に塗布し、その塗膜を熱風循環炉内
において８０℃で２０分間乾燥した後、フォトマスクを
介して波長３６５ｎｍの紫外線をオーク製作所（株）製
積算光量計を用いて２００ｍＪ／ｃｍ²の光量で照射
し、光硬化させた後、１重量％炭酸ナトリウムの現像液
にて２ｋｇ／ｃｍ²のスプレー圧で６０秒間現像した
後、１５０℃に設定した熱風循環式硬化炉内で６０分間
熱硬化させることによりソルダーレジストパターンを形
成した。

【００４８】こうして得られたソルダーレジスト用感光
性樹脂組成物及びソルダーレジストパターンの諸特性に
ついて、以下に示す試験を行なった。その評価結果を表
２に示す。

【表２】 上記表２に示す結果から明らかなように、本発明に係る
感光性樹脂組成物は、ソルダーレジストに要求される諸
特性、即ち、乾燥性、乾燥塗膜の指触乾燥性、熱硬化
性、及び硬化皮膜のはんだ耐熱性、耐溶剤性、耐薬品
性、密着性、電気絶縁性、耐電食性などを満足すると共
に、光感度及び解像性を飛躍的に向上でき、しかも無電
解金めっき耐性に優れるものであることが確認できた。
なお、表２に示す試験内容と評価方法は以下のとおりで
ある。

【００４９】（１）乾燥後の指触乾燥性 感光性樹脂組成物を銅スルーエッチング回路基板にスク
リーン印刷で塗布し、熱風循環式乾燥炉を用いて８０℃
で１０分間又は２０分間乾燥したものをテストピースと
し、指で塗布面を強く押し、粘着性を調査し、塗膜の状
態を判定した。 ◎：全くベタツキや指紋跡が認められないもの。 ○：表面に僅かにベタツキと指紋跡がみられるもの。 △：表面に顕著なベタツキと指紋跡がみられるもの。 ×：表面が完全にベタツク状態のもの。

【００５０】（２）ホットタックフリー性 感光性樹脂組成物を銅スルーエッチング回路基板にスク
リーン印刷で塗布し、熱風循環式乾燥炉を用いて８０℃
で１５分間乾燥し、放冷後、さらに印刷面を下にして８
０℃で２０分間水平乾燥したものをテストピースとし、
塗膜の状態を目視判定した。 ◎：全く傷やへこみが認められないもの。 ○：表面に僅かに傷やへこみがみられるもの。 △：表面に顕著な傷やへこみがみられるもの。 ×：表面が完全に傷つく状態のもの。

【００５１】（３）現像性試験 感光性樹脂組成物を銅スルーエッチング回路基板にスク
リーン印刷で塗布し、熱風循環式乾燥炉を用いて８０℃
で所定時間（６０〜９０分）乾燥したものをテストピー
スとし、スプレー圧２ｋｇ／ｃｍ²の現像液にて６０秒
間の現像を行なった後、その塗膜の除去状態を目視判定
した。 ◎：完全に現像ができたもの。 ○：表面に薄く現像されない部分があるもの。 △：全体的に現像残りがあるもの。 ×：ほとんど現像されていないもの。

【００５２】（４）感光性試験 感光性樹脂組成物を銅スルーエッチング回路基板にスク
リーン印刷で塗布し、熱風循環式乾燥炉を用いて８０℃
で２０分間乾燥した後、フォトマスクを介して、波長３
６５ｎｍの紫外線をオーク製作所（株）製の積算光量計
を用いて１００ｍＪ／ｃｍ²又は２００ｍＪ／ｃｍ²の光
量で照射し、それぞれをスプレー圧２ｋｇ／ｃｍ²の現
像液にて６０秒間の現像を行なった後、その塗膜の状態
を目視判定した。 ◎：全く変化が認められないもの。 ○：表面がわずかに変化しているもの。 △：表面が顕著に変化しているもの。 ×：塗膜が脱落するもの。

【００５３】（５）密着性試験 感光性樹脂組成物を銅スルーエッチング回路基板にスク
リーン印刷で塗布し、熱風循環式乾燥炉を用いて８０℃
で２０分間乾燥した後、フォトマスクを介して、波長３
６５ｎｍの紫外線をオーク製作所（株）製の積算光量計
を用いて３５０ｍＪ／ｃｍ²の光量で照射したものをテ
ストピースとし、スプレー圧２ｋｇ／ｃｍ²の現像液に
て６０秒間の現像を行なった後、１５０℃で６０分間ポ
ストキュアしてテストピースとし、ＪＩＳ Ｄ０２０２
の試験方法に従って碁盤目状のクロスカットを入れ、次
いでセロハン粘着テープによるピーリングテストを行
い、塗膜の剥離状態を目視判定した。 ◎：１００／１００で全く剥れのないもの。 ○：１００／１００でクロスカット部が少し剥れたも
の。 △：５０／１００〜９０／１００の範囲で剥がれたも
の。 ×：０／１００〜５０／１００の範囲で剥がれたもの。

【００５４】（６）鉛筆硬度試験 密着性試験（５）と同じテストピースを用い、それぞれ
ＪＩＳ Ｋ５４００の試験方法に従って１ｋｇの荷重で
硬度を測定した。

【００５５】（７）耐酸性試験 密着性試験（５）と同じテストピースを用い、それぞれ
１０容量％硫酸水溶液に２０℃で３０分間浸漬した後取
り出し、塗膜の状態と密着性とを総合的に判定評価し
た。 ◎：全く変化が認められないもの。 ○：ほんの僅か変化しているもの。 △：顕著に変化しているもの。 ×：塗膜にフクレあるいは膨潤脱落があるもの。

【００５６】（８）耐アルカリ性試験 １０容量％硫酸水溶液を１０重量％水酸化ナトリウム水
溶液に代えたこと以外は、上記耐酸性試験（７）と同様
にして試験、評価した。

【００５７】（９）耐溶剤性試験 １０容量％硫酸水溶液をアセトンに代えたこと以外は、
上記耐酸性試験（７）と同様にして試験、評価した。

【００５８】（１０）耐無電解金めっき性試験 密着性試験（５）と同じテストピースをそれぞれ、「オ
ウロレクトロレスＵＰ」（メルテックス（株）製めっき
液）を用い、８５℃の液温で３０分間めっきを行って
０．０５μｍの厚さの金を析出させた後の塗膜の状態を
耐酸性試験（７）と同様に評価した。

【００５９】（１１）はんだ耐熱性試験 密着性試験（５）と同じテストピースを用い、それぞれ
ＪＩＳ Ｃ６４８１の試験方法に従って、２６０℃のは
んだ浴に１０秒間浸漬する操作を１回及び３回行なった
後、その塗膜の状態を耐酸性試験（７）と同様に評価し
た。

【００６０】（１２）絶縁抵抗測定 ＩＰＣ−Ｂ−２５のくし型テストパターンＢを用い、密
着性試験（５）と同様の条件でテストピースを作製し、
初期の絶縁抵抗と、相対温度８５℃、相対湿度８５％、
直流５０Ｖ印加の条件下で５００時間の加湿試験を行な
った後の絶縁抵抗を測定した。

【００６１】（１３）耐電食性試験 ＩＰＣ−Ｂ−２５のくし型テストパターンＢを用い、密
着性試験（５）と同様の条件でテストピースを作製し、
相対温度８５℃、相対湿度８５％、直流５０Ｖ印加の条
件下で５００時間の加湿試験を行い、試験後の銅箔の変
色を調査した。 ◎：全く変化が認められないもの。 ○：ほんの僅か変化しているもの。 △：顕著に変化しているもの。 ×：塗膜にフクレあるいは膨潤脱落があるもの。

【００６２】（１４）解像性測定 感光性樹脂組成物を銅スルーエッチング回路基板にスク
リーン印刷で塗布し、熱風循環式乾燥炉を用いて８０℃
で２０分間乾燥した後、所定のフォトマスク（ライン３
０μｍ〜１００μｍのもの）を介して、波長３６５ｎｍ
の紫外線をオーク製作所（株）製の積算光量計を用いて
２００ｍＪ／ｃｍ²の光量で照射したものをテストピー
スとし、スプレー圧２ｋｇ／ｃｍ²の現像液にて６０秒
間の現像を行なった後、露光部のラインの残存とスペー
スの抜け性の状態を目視判定した。

【００６３】（１５）感度測定 感光性樹脂組成物を銅スルーエッチング回路基板にスク
リーン印刷で塗布し、熱風循環式乾燥炉を用いて８０℃
で２０分間乾燥した後、フォトマスクを介して、波長３
６５ｎｍの紫外線をオーク製作所（株）製の積算光量計
を用いて２００ｍＪ／ｃｍ²の光量で照射したものをテ
ストピースとし、スプレー圧２ｋｇ／ｃｍ²の現像液に
て６０秒間の現像を行なった後、残存塗膜の段数を目視
判定した。フォトマスクはイーストマン・コダック社
製、ステップタブレットＮｏ．２を使用した。

【００６４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の感光性樹
脂組成物によれば、ソルダーレジストに要求される諸特
性を満足すると共に、光感度及び解像性を飛躍的に向上
でき、しかも無電解金めっき耐性に優れたソルダーレジ
ストを形成することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｌ 63/00 Ｃ０８Ｌ 63/00 Ｚ ５Ｅ３３９ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０１ ５Ｅ３４６ 7/027 ５０２ 7/027 ５０２ ５０３ ５０３ 7/028 7/028 7/085 7/085 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ // Ｈ０５Ｋ 3/28 3/28 Ｄ 3/46 3/46 Ｔ Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AA01 AA02 AB15 AB17 AB20 AC01 AD01 BC13 BC32 BC42 BC53 BC84 CC03 CC06 CC08 CC20 EA10 FA01 FA03 FA17 FA29 4J002 BG04W BG07W CD00X CD04X CD05X CD06X DE147 DE187 DE237 DG047 DJ017 DJ037 DJ047 DJ057 DK009 ED058 EE038 EE048 EE058 EH076 EH128 EN029 EN039 EN049 EN069 EN109 EN139 EP016 EQ018 EQ029 ER029 ET019 EU049 EU119 EU139 EU189 EU239 EV048 EV299 EV308 EW019 EW049 EW179 EZ009 FD017 FD090 FD158 FD349 GH00 GJ02 GL00 GP03 4J011 AA05 AC04 QA03 QA06 QA13 QA22 QA23 QA24 QA25 QA33 QA37 QA38 QA39 QB03 QC07 SA01 SA21 SA31 SA41 SA51 SA61 SA63 SA64 SA75 SA79 SA83 TA04 TA06 TA07 TA09 TA10 UA01 UA08 VA01 WA01 4J027 AA01 AA02 AB14 BA07 BA08 BA13 BA19 BA23 BA24 BA25 BA26 BA27 BA28 CA10 CA14 CA25 CA26 CA27 CA29 CA34 CA36 CB10 CC05 CD06 CD10 5E314 AA27 AA32 AA33 AA41 AA42 BB02 BB11 CC07 DD06 DD07 FF01 GG03 GG10 GG11 GG14 5E339 CC01 CD01 CF15 DD02 GG01 5E346 AA12 CC09 HH11 HH13

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ−１）（ａ）β−カルボキシエチル
   アクリレート、（ｂ）酸基含有不飽和化合物及び（ｃ）
   （メタ）アクリル酸エステルからなる共重合体の一部の
   酸基に、脂環式エポキシ基含有不飽和化合物のエポキシ
   基を付加させて得られる変性共重合体、（Ｂ）アセトア
   セトキシエチルアクリレート、アクリロイルモルフォリ
   ン及びテトラヒドロフルフリルアクリレートよりなる群
   から選ばれる少なくとも１種のモノマー、（Ｃ）希釈
   剤、及び（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とす
   る感光性樹脂組成物。
2. 【請求項２】 （Ａ−２）（ａ）β−カルボキシエチル
   アクリレート、（ｂ）酸基含有不飽和化合物、（ｃ）
   （メタ）アクリル酸エステル、及び（ｄ）アセトアセト
   キシエチルアクリレート、アクリロイルモルフォリン及
   びテトラヒドロフルフリルアクリレートよりなる群から
   選ばれる少なくとも１種のモノマーからなる共重合体の
   一部の酸基に、脂環式エポキシ基含有不飽和化合物のエ
   ポキシ基を付加させて得られる変性共重合体、（Ｃ）希
   釈剤、及び（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴と
   する感光性樹脂組成物。
3. 【請求項３】 さらに（Ｅ）エポキシ化合物を含有する
   ことを特徴とする請求項１又は２に記載の感光性樹脂組
   成物。
4. 【請求項４】 さらに（Ｆ）潜在性硬化密着付与剤を含
   有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項
   に記載の感光性樹脂組成物。
5. 【請求項５】 さらに（Ｇ）無機充填剤を含有すること
   を特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の感
   光性樹脂組成物。
6. 【請求項６】 前記脂環式エポキシ基含有不飽和化合物
   が３，４−シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート
   であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項
   に記載の感光性樹脂組成物。
7. 【請求項７】 ソルダーレジスト、エッチングレジス
   ト、層間絶縁材料、めっきレジスト、又はＦＤＰ用部材
   として使用されることを特徴とする請求項１乃至６のい
   ずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。