JP2000297095A - チオリン酸クロリド類の精製方法 - Google Patents
チオリン酸クロリド類の精製方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】一般式（２）
（式中、Ｒ1は低級アルキル基を、Ｒ2は低級アルコキシ
基もしくは塩素原子を表わす。）で示されるＳ−異性体
を含む一般式（１） （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ上記と同一の意味を表
わす。）で示されるチオリン酸クロリド類からＳ−異性
体を容易に除去し得る精製方法を提供すること。 【解決手段】一般式（１）で示されるチオリン酸クロリ
ド類を水、アルカリ金属炭酸水素塩水溶液またはアルカ
リ金属亜硫酸塩水溶液で洗浄処理することを特徴とする
チオリン酸クロリド類の精製方法。
基もしくは塩素原子を表わす。）で示されるＳ−異性体
を含む一般式（１） （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ上記と同一の意味を表
わす。）で示されるチオリン酸クロリド類からＳ−異性
体を容易に除去し得る精製方法を提供すること。 【解決手段】一般式（１）で示されるチオリン酸クロリ
ド類を水、アルカリ金属炭酸水素塩水溶液またはアルカ
リ金属亜硫酸塩水溶液で洗浄処理することを特徴とする
チオリン酸クロリド類の精製方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はチオリン酸クロリド
類の精製方法に関する。
類の精製方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】下記式（３） で示されるＯ，Ｏ−ジメチルクロロチオホスフェートに
代表される一般式（１） （式中、Ｒ1は低級アルキル基を、Ｒ2は低級アルコキシ
基もしくは塩素原子を表わす。）で示されるチオリン酸
クロリド類は、リン系殺虫剤、除草剤等の農薬等の原料
として、極めて有用である。
代表される一般式（１） （式中、Ｒ1は低級アルキル基を、Ｒ2は低級アルコキシ
基もしくは塩素原子を表わす。）で示されるチオリン酸
クロリド類は、リン系殺虫剤、除草剤等の農薬等の原料
として、極めて有用である。
【０００３】かかるチオリン酸クロリド類は、通常硫化
リン、硫塩化リン等のリン硫化物と低級アルコール類
を、塩基の存在下または非存在下に反応させることによ
り製造されるが、かかる製造過程において、例えば下記
一般式（２） （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ上記と同一の意味を表
わす。）で示されるＳ−異性体が副生し、かかるＳ−異
性体を含んだチオリン酸クロリド類を、例えば農薬等の
合成反応に用いた場合、目的物の収率、純度が低下する
という問題があった。
リン、硫塩化リン等のリン硫化物と低級アルコール類
を、塩基の存在下または非存在下に反応させることによ
り製造されるが、かかる製造過程において、例えば下記
一般式（２） （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ上記と同一の意味を表
わす。）で示されるＳ−異性体が副生し、かかるＳ−異
性体を含んだチオリン酸クロリド類を、例えば農薬等の
合成反応に用いた場合、目的物の収率、純度が低下する
という問題があった。
【０００４】また、一般式（１）で示されるチオリン酸
クロリド類は、上記一般式（２）で示されるＳ−異性体
への熱的な異性化が比較的起こりやすいため、一般式
（１）で示されるチオリン酸クロリド類は、製造後でき
る限り早く使用するか、あるいは低温で貯蔵、移送する
必要があった。しかしながら、一般式（１）で示される
チオリン酸クロリド類を製造直後に使用したり、低温で
貯蔵等することは、工業的な観点からは、必ずしも好ま
しいとはいえなかった。
クロリド類は、上記一般式（２）で示されるＳ−異性体
への熱的な異性化が比較的起こりやすいため、一般式
（１）で示されるチオリン酸クロリド類は、製造後でき
る限り早く使用するか、あるいは低温で貯蔵、移送する
必要があった。しかしながら、一般式（１）で示される
チオリン酸クロリド類を製造直後に使用したり、低温で
貯蔵等することは、工業的な観点からは、必ずしも好ま
しいとはいえなかった。
【０００５】このようなことから、一般式（２）で示さ
れるＳ−異性体を含む一般式（１）で示されるチオリン
酸クロリド類からＳ−異性体を除去し得る方法の開発が
望まれていたが、一般的な精製方法の一つである蒸留に
よる精製方法には、該チオリン酸クロリド類が熱的に不
安定であることから、蒸留時のチオリン酸クロリド類の
分解が避けにくい、高真空下での蒸留操作が必要であ
り、蒸留設備が大掛かりになりやすい等の問題があっ
た。
れるＳ−異性体を含む一般式（１）で示されるチオリン
酸クロリド類からＳ−異性体を除去し得る方法の開発が
望まれていたが、一般的な精製方法の一つである蒸留に
よる精製方法には、該チオリン酸クロリド類が熱的に不
安定であることから、蒸留時のチオリン酸クロリド類の
分解が避けにくい、高真空下での蒸留操作が必要であ
り、蒸留設備が大掛かりになりやすい等の問題があっ
た。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】かかる状況の下、本発
明者は、一般式（２）で示されるＳ−異性体を含む一般
式（１）で示されるチオリン酸クロリド類から、容易に
Ｓ−異性体を除去し得る精製方法について検討し、本発
明に至った。
明者は、一般式（２）で示されるＳ−異性体を含む一般
式（１）で示されるチオリン酸クロリド類から、容易に
Ｓ−異性体を除去し得る精製方法について検討し、本発
明に至った。
【０００７】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、一
般式（１） （式中、Ｒ1は低級アルキル基を、Ｒ2は低級アルコキシ
基もしくは塩素原子を表わす。）で示されるチオリン酸
クロリド類を水、アルカリ金属炭酸水素塩水溶液または
アルカリ金属亜硫酸塩水溶液で洗浄処理することを特徴
とするチオリン酸クロリド類の精製方法を提供するもの
である。
般式（１） （式中、Ｒ1は低級アルキル基を、Ｒ2は低級アルコキシ
基もしくは塩素原子を表わす。）で示されるチオリン酸
クロリド類を水、アルカリ金属炭酸水素塩水溶液または
アルカリ金属亜硫酸塩水溶液で洗浄処理することを特徴
とするチオリン酸クロリド類の精製方法を提供するもの
である。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。 一般式（１） で示されるチオリン酸クロリド類の式中、Ｒ1は低級ア
ルキル基を、Ｒ2は低級アルコキシ基もしくは塩素原子
を表わす。
する。 一般式（１） で示されるチオリン酸クロリド類の式中、Ｒ1は低級ア
ルキル基を、Ｒ2は低級アルコキシ基もしくは塩素原子
を表わす。
【０００９】低級アルキル基としては、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチ
ル基、ヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖状もしくは分
枝状のアルキル基が挙げられる。また、低級アルコキシ
基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ
基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ヘキ
ソキシ基等の炭素数１〜６の直鎖状もしくは分枝状のア
ルコキシ基が挙げられる。
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチ
ル基、ヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖状もしくは分
枝状のアルキル基が挙げられる。また、低級アルコキシ
基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ
基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ヘキ
ソキシ基等の炭素数１〜６の直鎖状もしくは分枝状のア
ルコキシ基が挙げられる。
【００１０】かかるチオリン酸クロリド類としては、例
えばＯ，Ｏ−ジメチルクロロチオホスフェート、Ｏ−エ
チル−Ｏ−メチルクロロチオホスフェート、Ｏ，Ｏ−ジ
エチルクロロチオホスフェート、Ｏ−メチル−Ｏ−プロ
ピルクロロチオホスフェート、Ｏ−メチル−Ｏ−ブチル
クロロチオホスフェート、Ｏ−メチル−Ｏ−イソブチル
クロロチオホスフェート、Ｏ−エチル−Ｏ−イソブチル
クロロチオホスフェート、Ｏ−メチルジクロロチオホス
フェート、Ｏ−エチルジクロロチオホスフェート、Ｏ−
イソプロピルジクロロチオホスフェート、Ｏ−ブチルジ
クロロチオホスフェート、Ｏ−イソブチルジクロロチオ
ホスフェート等が挙げられる。
えばＯ，Ｏ−ジメチルクロロチオホスフェート、Ｏ−エ
チル−Ｏ−メチルクロロチオホスフェート、Ｏ，Ｏ−ジ
エチルクロロチオホスフェート、Ｏ−メチル−Ｏ−プロ
ピルクロロチオホスフェート、Ｏ−メチル−Ｏ−ブチル
クロロチオホスフェート、Ｏ−メチル−Ｏ−イソブチル
クロロチオホスフェート、Ｏ−エチル−Ｏ−イソブチル
クロロチオホスフェート、Ｏ−メチルジクロロチオホス
フェート、Ｏ−エチルジクロロチオホスフェート、Ｏ−
イソプロピルジクロロチオホスフェート、Ｏ−ブチルジ
クロロチオホスフェート、Ｏ−イソブチルジクロロチオ
ホスフェート等が挙げられる。
【００１１】かかる一般式（１）で示されるチオリン酸
クロリド類は、通常公知の方法で製造されるが、製造工
程由来の不純物や貯蔵、移送時等に副生する不純物、特
に一般式（２） （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ上記と同一の意味を表
わす。）で示されるＳ−異性体を含むものである。
クロリド類は、通常公知の方法で製造されるが、製造工
程由来の不純物や貯蔵、移送時等に副生する不純物、特
に一般式（２） （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ上記と同一の意味を表
わす。）で示されるＳ−異性体を含むものである。
【００１２】本発明は、一般式（１）で示されるチオリ
ン酸クロリド類を水、アルカリ金属炭酸水素塩水溶液ま
たはアルカリ金属亜硫酸塩水溶液で洗浄処理するもので
あり、精製効果の点で、アルカリ金属炭酸水素塩水溶液
またはアルカリ金属亜硫酸塩水溶液を用いることが好ま
しい。かかるアルカリ金属炭酸水素塩水溶液またはアル
カリ金属亜硫酸塩水溶液は、それぞれ単独で用いてもよ
いし、混合して用いてもよい。
ン酸クロリド類を水、アルカリ金属炭酸水素塩水溶液ま
たはアルカリ金属亜硫酸塩水溶液で洗浄処理するもので
あり、精製効果の点で、アルカリ金属炭酸水素塩水溶液
またはアルカリ金属亜硫酸塩水溶液を用いることが好ま
しい。かかるアルカリ金属炭酸水素塩水溶液またはアル
カリ金属亜硫酸塩水溶液は、それぞれ単独で用いてもよ
いし、混合して用いてもよい。
【００１３】アルカリ金属炭酸水素塩としては、例えば
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等が挙げられ、
実用的には炭酸水素ナトリウムが好ましい。アルカリ金
属亜硫酸塩としては、例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸
カリウム等が挙げられ、実用的な観点から、亜硫酸ナト
リウムが好ましい。
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等が挙げられ、
実用的には炭酸水素ナトリウムが好ましい。アルカリ金
属亜硫酸塩としては、例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸
カリウム等が挙げられ、実用的な観点から、亜硫酸ナト
リウムが好ましい。
【００１４】アルカリ金属炭酸水素塩水溶液もしくはア
ルカリ金属亜硫酸塩水溶液中のアルカリ金属炭酸水素塩
もしくはアルカリ金属亜硫酸塩の濃度は、通常０．１重
量％〜飽和濃度の範囲であるが、一般式（１）で示され
るチオリン酸クロリド類の安定性や処理効率を考慮する
と、０．５〜３０重量％の範囲が好ましい。
ルカリ金属亜硫酸塩水溶液中のアルカリ金属炭酸水素塩
もしくはアルカリ金属亜硫酸塩の濃度は、通常０．１重
量％〜飽和濃度の範囲であるが、一般式（１）で示され
るチオリン酸クロリド類の安定性や処理効率を考慮する
と、０．５〜３０重量％の範囲が好ましい。
【００１５】かかる水、アルカリ金属炭酸水素塩水溶液
もしくはアルカリ金属亜硫酸塩水溶液の使用量は、一般
式（１）で示されるチオリン酸クロリド類に対して、通
常０．１〜１重量倍、好ましくは０．１〜０．５重量倍
である。
もしくはアルカリ金属亜硫酸塩水溶液の使用量は、一般
式（１）で示されるチオリン酸クロリド類に対して、通
常０．１〜１重量倍、好ましくは０．１〜０．５重量倍
である。
【００１６】本発明の洗浄処理は、一般式（１）で示さ
れるチオリン酸クロリド類と水、アルカリ金属炭酸水素
塩水溶液もしくはアルカリ金属亜硫酸塩水溶液を混合す
ればよく、その混合温度は、通常０〜８０℃の範囲であ
るが、該チオリン酸クロリド類の安定性を考慮すると、
０℃〜４０℃の範囲が好ましい。
れるチオリン酸クロリド類と水、アルカリ金属炭酸水素
塩水溶液もしくはアルカリ金属亜硫酸塩水溶液を混合す
ればよく、その混合温度は、通常０〜８０℃の範囲であ
るが、該チオリン酸クロリド類の安定性を考慮すると、
０℃〜４０℃の範囲が好ましい。
【００１７】かかる洗浄処理は、疎水性有機溶媒の存在
下に実施してもよい。疎水性有機溶媒としては、例えば
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサ
ン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチル エ
ーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチル エーテル等のエーテ
ル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、クロロベン
ゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、メチル イソブチ
ル ケトン等のケトン系溶媒等が挙げられ、その使用量
は、特に制限はないが、あまり多いと容積効率が悪くな
るため、実用的には、一般式（１）で示されるチオリン
酸クロリド類に対して、５０重量倍以下である。かかる
疎水性有機溶媒は、予め該チオリン酸クロリド類に加え
ておいてもよい。
下に実施してもよい。疎水性有機溶媒としては、例えば
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサ
ン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチル エ
ーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチル エーテル等のエーテ
ル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、クロロベン
ゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、メチル イソブチ
ル ケトン等のケトン系溶媒等が挙げられ、その使用量
は、特に制限はないが、あまり多いと容積効率が悪くな
るため、実用的には、一般式（１）で示されるチオリン
酸クロリド類に対して、５０重量倍以下である。かかる
疎水性有機溶媒は、予め該チオリン酸クロリド類に加え
ておいてもよい。
【００１８】洗浄処理後、一般式（１）で示されるチオ
リン酸クロリド類は、水層を分液、除去することによ
り、取り出すことができる。チオリン酸クロリド類の安
定性を考慮すると、取り出した該チオリン酸クロリド類
を、例えば塩化カルシウム、硫酸ナトリウム、硫酸マグ
ネシウム、モレキュラーシーブズ等の脱水剤で脱水処理
することが好ましい。
リン酸クロリド類は、水層を分液、除去することによ
り、取り出すことができる。チオリン酸クロリド類の安
定性を考慮すると、取り出した該チオリン酸クロリド類
を、例えば塩化カルシウム、硫酸ナトリウム、硫酸マグ
ネシウム、モレキュラーシーブズ等の脱水剤で脱水処理
することが好ましい。
【００１９】
【発明の効果】本発明の方法によれば、一般式（２）で
示されるＳ−異性体を含む一般式（１）で示されるチオ
リン酸クロリド類を容易に精製することができる。
示されるＳ−異性体を含む一般式（１）で示されるチオ
リン酸クロリド類を容易に精製することができる。
【００２０】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明がこれらにより限定されるものではな
い。なお、文中、％は重量％を意味する。
明するが、本発明がこれらにより限定されるものではな
い。なお、文中、％は重量％を意味する。
【００２１】実施例１ 攪拌装置、温度計および冷却管を備えた四つ口フラスコ
に、Ｏ，Ｏ−ジメチルホスホロクロリドチオエート（含
量９８．８６％；Ｓ−異性体含量０．０８％）８０ｇを
仕込み、１０％亜硫曹水２０．０ｇを加え、内温１５〜
２０℃で１時間攪拌、保持した。その後、静置、分液
し、Ｏ，Ｏ−ジメチルホスホロクロリドチオエート層７
９．４０ｇおよび水層２０．４９ｇを得た。Ｏ，Ｏ−ジ
メチルホスホロクロリドチオエート層を無水塩化カルシ
ウムで脱水後、ガスクロマトグラフィ分析したところ、
Ｏ，Ｏ−ジメチルホスホロクロリドチオエート含量９
９．１８％およびＳ−異性体含量０．０１％であった。
に、Ｏ，Ｏ−ジメチルホスホロクロリドチオエート（含
量９８．８６％；Ｓ−異性体含量０．０８％）８０ｇを
仕込み、１０％亜硫曹水２０．０ｇを加え、内温１５〜
２０℃で１時間攪拌、保持した。その後、静置、分液
し、Ｏ，Ｏ−ジメチルホスホロクロリドチオエート層７
９．４０ｇおよび水層２０．４９ｇを得た。Ｏ，Ｏ−ジ
メチルホスホロクロリドチオエート層を無水塩化カルシ
ウムで脱水後、ガスクロマトグラフィ分析したところ、
Ｏ，Ｏ−ジメチルホスホロクロリドチオエート含量９
９．１８％およびＳ−異性体含量０．０１％であった。
【００２２】実施例２ 実施例１において、Ｏ，Ｏ−ジメチルホスホロクロリド
チオエートの使用量を４０ｇとし、１０％亜硫曹水１
０．０ｇに代えて１％重曹水１０．１ｇを用いた以外
は、実施例１と同様に実施し、Ｏ，Ｏ−ジメチルホスホ
ロクロリドチオエート層３９．５ｇおよび水層１０．３
ｇを得た。 Ｏ，Ｏ−ジメチルホスホロクロリドチオエ
ート層を無水塩化カルシウムで脱水後、ガスクロマトグ
ラフィ分析したところ、Ｏ，Ｏ−ジメチルホスホロクロ
リドチオエート含量９９．０４％およびＳ−異性体含量
０．０２％であった。
チオエートの使用量を４０ｇとし、１０％亜硫曹水１
０．０ｇに代えて１％重曹水１０．１ｇを用いた以外
は、実施例１と同様に実施し、Ｏ，Ｏ−ジメチルホスホ
ロクロリドチオエート層３９．５ｇおよび水層１０．３
ｇを得た。 Ｏ，Ｏ−ジメチルホスホロクロリドチオエ
ート層を無水塩化カルシウムで脱水後、ガスクロマトグ
ラフィ分析したところ、Ｏ，Ｏ−ジメチルホスホロクロ
リドチオエート含量９９．０４％およびＳ−異性体含量
０．０２％であった。
【００２３】実施例３ 実施例２において、１％重曹水１０．１ｇに代えて水１
０．０ｇを用いた以外は、実施例２と同様に実施し、得
られたＯ，Ｏ−ジメチルホスホロクロリドチオエート層
を無水塩化カルシウムで脱水後、ガスクロマトグラフィ
分析したところ、Ｏ，Ｏ−ジメチルホスホロクロリドチ
オエート含量９９．０４％およびＳ−異性体含量０．０
３％であった。
０．０ｇを用いた以外は、実施例２と同様に実施し、得
られたＯ，Ｏ−ジメチルホスホロクロリドチオエート層
を無水塩化カルシウムで脱水後、ガスクロマトグラフィ
分析したところ、Ｏ，Ｏ−ジメチルホスホロクロリドチ
オエート含量９９．０４％およびＳ−異性体含量０．０
３％であった。
【００２４】参考例１ 攪拌装置、温度計、冷却管を備えた四つ口フラスコに、
４−シアノフェノール４０ｇ、水９０ｇ、および２７%
苛性ソーダ水３８．８ｇを仕込み、内温３０±２℃で３
０分攪拌した後、トルエン１８．２ｇおよび塩化第一銅
０．４ｇを加え、実施例１で得られたＯ，Ｏ−ジメチル
ホスホロクロリドチオエート５５．０ｇおよび２７％水
酸化ナトリウム水溶液を２時間かけて滴下した。滴下終
了後、内温３０〜４５℃で、４時間攪拌、保持した。反
応マスをガスクロマトグラフィ分析したところ、Ｏ，Ｏ
−ジメチルホスホロクロリドチオエートおよび４−シア
ノフェノールの残存量は、それぞれ０．０７％および
０．１１％であった。
４−シアノフェノール４０ｇ、水９０ｇ、および２７%
苛性ソーダ水３８．８ｇを仕込み、内温３０±２℃で３
０分攪拌した後、トルエン１８．２ｇおよび塩化第一銅
０．４ｇを加え、実施例１で得られたＯ，Ｏ−ジメチル
ホスホロクロリドチオエート５５．０ｇおよび２７％水
酸化ナトリウム水溶液を２時間かけて滴下した。滴下終
了後、内温３０〜４５℃で、４時間攪拌、保持した。反
応マスをガスクロマトグラフィ分析したところ、Ｏ，Ｏ
−ジメチルホスホロクロリドチオエートおよび４−シア
ノフェノールの残存量は、それぞれ０．０７％および
０．１１％であった。
【００２５】比較例１ 参考例１において、実施例１で得られたＯ，Ｏ−ジメチ
ルホスホロクロリドチオエートに代えて、実施例１で用
いた精製前のＯ，Ｏ−ジメチルホスホロクロリドチオエ
ートを用いた以外は、参考例１と同様に実施し、６時間
保温後の反応マスをガスクロマトグラフィ分析したとこ
ろ、Ｏ，Ｏ−ジメチルホスホロクロリドチオエートおよ
び４−シアノフェノールの残存量は、それぞれ０．５３
％および０．５８％であった。
ルホスホロクロリドチオエートに代えて、実施例１で用
いた精製前のＯ，Ｏ−ジメチルホスホロクロリドチオエ
ートを用いた以外は、参考例１と同様に実施し、６時間
保温後の反応マスをガスクロマトグラフィ分析したとこ
ろ、Ｏ，Ｏ−ジメチルホスホロクロリドチオエートおよ
び４−シアノフェノールの残存量は、それぞれ０．５３
％および０．５８％であった。
【００２６】比較例２ 実施例２において、１％重曹水１０．１ｇに代えて、
０．２％ソーダ灰水１０．０ｇを用いた以外は実施例２
と同様に実施し、得られたＯ，Ｏ−ジメチルホスホロク
ロリドチオエート層を無水塩化カルシウムで脱水後、ガ
スクロマトグラフィ分析したところ、Ｏ，Ｏ−ジメチル
ホスホロクロリドチオエート含量９８．８４％およびＳ
−異性体含量０．０１％であった。
０．２％ソーダ灰水１０．０ｇを用いた以外は実施例２
と同様に実施し、得られたＯ，Ｏ−ジメチルホスホロク
ロリドチオエート層を無水塩化カルシウムで脱水後、ガ
スクロマトグラフィ分析したところ、Ｏ，Ｏ−ジメチル
ホスホロクロリドチオエート含量９８．８４％およびＳ
−異性体含量０．０１％であった。
【００２７】参考例２ 実施例１〜３で得られたＯ，Ｏ−ジメチルホスホロクロ
リドチオエートを、室温で１ヶ月間保存した後、ガスク
ロマトグラフィ分析したところ、Ｏ，Ｏ−ジメチルホス
ホロクロリドチオエートおよびＳ−異性体の含量の変化
は見られず、また液色も無色透明であった。
リドチオエートを、室温で１ヶ月間保存した後、ガスク
ロマトグラフィ分析したところ、Ｏ，Ｏ−ジメチルホス
ホロクロリドチオエートおよびＳ−異性体の含量の変化
は見られず、また液色も無色透明であった。
【００２８】比較例３ 参考例２において、実施例１〜３で得られたＯ，Ｏ−ジ
メチルホスホロクロリドチオエートに代えて、比較例２
で得られたＯ，Ｏ−ジメチルホスホロクロリドチオエー
トを用いた以外は、参考例２と同様に実施したところ、
Ｏ，Ｏ−ジメチルホスホロクロリドチオエート含量が９
８．２６％へ低下し、Ｓ−異性体含量が０．１２％へ増
加していた。また、液色も黄色へ変化していた。
メチルホスホロクロリドチオエートに代えて、比較例２
で得られたＯ，Ｏ−ジメチルホスホロクロリドチオエー
トを用いた以外は、参考例２と同様に実施したところ、
Ｏ，Ｏ−ジメチルホスホロクロリドチオエート含量が９
８．２６％へ低下し、Ｓ−異性体含量が０．１２％へ増
加していた。また、液色も黄色へ変化していた。
Claims (6)
- 【請求項１】一般式（１） （式中、Ｒ1は低級アルキル基を、Ｒ2は低級アルコキシ
基もしくは塩素原子を表わす。）で示されるチオリン酸
クロリド類を水、アルカリ金属炭酸水素塩水溶液または
アルカリ金属亜硫酸塩水溶液で洗浄処理することを特徴
とするチオリン酸クロリド類の精製方法。 - 【請求項２】一般式（１）で示されるチオリン酸クロリ
ド類をアルカリ金属炭酸水素塩水溶液またはアルカリ金
属亜硫酸塩水溶液で洗浄処理することを特徴とするチオ
リン酸クロリド類の精製方法。 - 【請求項３】アルカリ金属炭酸水素塩が、炭酸水素ナト
リウムである請求項１または２に記載のチオリン酸クロ
リド類の精製方法。 - 【請求項４】アルカリ金属亜硫酸塩が、亜硫酸ナトリウ
ムである請求項１または２に記載のチオリン酸クロリド
類の精製方法。 - 【請求項５】洗浄処理後、得られるチオリン酸クロリド
層を脱水処理する請求項１または２に記載のチオリン酸
クロリド類の精製方法。 - 【請求項６】一般式（１）で示されるチオリン酸クロリ
ド類が、一般式（２） （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ上記と同一の意味を表
わす。）で示されるＳ−異性体を含むチオリン酸クロリ
ド類である請求項１または２に記載のチオリン酸クロリ
ド類の精製方法。
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| JP10777599A JP3758413B2 (ja) | 1999-04-15 | 1999-04-15 | チオリン酸クロリド類の精製方法 |
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| JP (1) | JP3758413B2 (ja) |
-
1999
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