JP2000301088A - 印刷用マスク洗浄方法及び印刷用マスク洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 枠付き印刷用マスクにおける貼り合わせ部分
の剥がれや、印刷用マスクにおける被覆層の剥がれの発
生を低減することができる印刷用マスク洗浄方法及び印
刷用マスク洗浄装置を提供する。 【解決手段】 発振回路３から発振される矩形波に対し
て、積分回路４の積分処理によりその立ち上がり部及び
立ち下がり部の傾斜を緩やかにするような波形整形を施
した後、この波形整形により得られた非矩形波を振動子
に供給させるように構成した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、印刷用マスク洗浄
方法及び印刷用マスク洗浄装置に係り、詳しくは、印刷
用マスクと超音波発生手段の超音波出力部との間に洗浄
液を介在させた状態で、該超音波出力部から超音波を出
力させて該印刷用マスクを洗浄する印刷用マスク洗浄方
法及び印刷用マスク洗浄装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、電子回路部品を基板上に所定のパ
ターンを形成する方法として、凹版又は孔版である印刷
用マスクを用いて基板上に該パターンを印刷するものが
知られている。

【０００３】例えば、ＳＭＤ（表面実装部品）を基板上
に表面実装するＳＭＴ（表面実装技術）においては、印
刷用マスクを用いて基板上のパッドやランドにクリーム
半田からなる導電性パターンを印刷する。そして、この
導電性パターン上にＳＭＤをマウントした後、リフロー
炉内でクリーム半田を溶融させ、更に、冷却により該ク
リーム半田を硬化させて、これら電子回路部品を基板上
に固定する。

【０００４】また例えば、本発明者により先に提案され
た特開平１０−２５１４３号の印刷方法においては、印
刷用マスクとしての凹版を用いて、バンプ電極や、タッ
チパネル又は液晶表示装置用のスペーサを基板上に印刷
する。具体的には、凹部内にペースト又は溶融金属を充
填した凹版と、基板とを密着させた状態で該ペースト又
は溶融金属を硬化させ、次いで、該凹版と該基板とを離
間させて硬化済みのペースト又は溶融金属を該基板上に
転写する。この転写により、基板上に寸法精度の高いバ
ンプ電極やスペーサを印刷することができる。

【０００５】これらＳＭＴや印刷方法などで用いられる
印刷用マスクは、印刷終了後放置すると、マスクに付着
したペースト等の印刷材が変質したり、硬化・固着した
りし、再度の使用に支障をきたす。そこで使用終了後速
やかに洗浄することが望ましい。

【０００６】印刷用マスクの洗浄方法としては、従来、
フロンからなる洗浄剤により印刷マスクを洗浄するもの
が広く用いられていた。しかし、フロンを用いる洗浄方
法は、フロンによるオゾン層破壊など、環境破壊を引き
起こすおそれがある。そこで、近年、溶剤等からなる洗
浄液をノズル等で印刷用マスクに噴射するシャワー洗浄
法や、印刷用マスクに接触させた洗浄液を超音波振動さ
せる超音波洗浄法が提案されるに至った。

【０００７】但し、シャワー洗浄法は超音波洗浄法より
も洗浄能力が劣るという欠点があり、印刷用マスクの洗
浄方法は、超音波洗浄法や、超音波洗浄法とシャワー洗
浄法とを組み合わせた洗浄方法が主流になりつつある。

【０００８】超音波洗浄法は、洗浄液に対する超音波の
キャビテーションや、洗浄液中の洗浄対象物の振動によ
り、該洗浄対象物の汚れを除去するものである。具体的
には、超音波のキャビテーションにより洗浄液中に衝撃
波を生じせしめ、この衝撃波により洗浄対象物から汚れ
を離脱させ易くするとともに、超音波振動により該汚れ
の洗浄液中への溶解を促進して、該汚れを除去するもの
である。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ところで、印刷時にお
いては、印刷用マスクに所定のテンション力を発揮させ
る必要があり、通常は、印刷用マスクの周縁部をマスク
枠に直接貼り合わせたり、あるいは紗膜などの薄膜を介
してマスク枠に間接的に固定したりして枠付き印刷用マ
スクを形成し、これを印刷に用いる。

【００１０】しかしながら、このような枠付き印刷用マ
スクを超音波洗浄すると、印刷用マスクに付着した不要
な物質を除去するだけでなく、マスク枠と印刷用マス
ク、マスク枠と薄膜、印刷用マスクと薄膜など、異種部
材の貼り合わせ部分の接着剤をも除去してしまう場合が
ある。このため、超音波洗浄法においては、枠付き印刷
用マスクにおける異種部材の貼り合わせ部分を剥がし易
いという問題があった。

【００１１】また、プラスチックを基本素材（マスク
材）とするプラスチックマスクにおいては、通常、静電
気対策としてプラスチック製マスク材の表面にカーボン
や金属の蒸着あるいはメッキにより導電層を被覆してお
り、超音波洗浄すると該導電層がプラスチック製マスク
材から剥がれ易いという問題があった。

【００１２】そこで、本発明者は、これらの問題を生ず
る原因について鋭意研究を行った結果、次のような現象
を見出した。即ち、例えば他励式の超音波発生手段にお
いては、超音波発生部としての振動子の他に、該振動子
を発振させるための発振回路が必要となる。この発振回
路はインバータ回路を備え、振動子の共振周波数と同等
の周波数の交流電圧を出力する。更に、このインバータ
回路は、トランジスタ等のスイッチング素子の組み合わ
せからなるスイッチング回路により、直流電圧を交流電
圧に変換している。このようなインバータ回路から出力
される交流電圧パルスは、図１に示すような矩形波とし
て出力され、洗浄液を矩形波で超音波振動させる。ま
た、自励式の超音波発生手段においても、通常、洗浄液
を矩形波で超音波振動させる。具体的には、自励式の超
音波発生手段では、発振回路を必要とせず、電源の供給
により振動子をその固有周波数で発振させているが、通
常、洗浄液には該振動子の振動により矩形波の超音波が
生ずる。本発明者は、矩形波の超音波振動がキャビテー
ションや超音波振動による洗浄効果を向上させている一
方で、印刷用マスクに付与する衝撃を大きくしている可
能性があると推測した。具体的には、図１に示す高周波
成分の立ち上がり部分Ｐａや立ち下がり部分Ｐｂを有す
る矩形波は、同一周波数の正弦波に比べて、上記貼り合
わせ部分の接着剤や上記導電層とマスク材との接着部分
に対してより急激な振動ショックを付与する結果、これ
らの接着状態を壊し易くしている可能性があると考え
た。そこで、洗浄液を非矩形波で超音波振動させてみた
ところ、超音波の付与によるキャビテーションを排除し
て、矩形波で超音波振動させる場合よりも、上記貼り合
わせ部分の剥がれや、上記導電層の剥がれの発生を低減
することができた。キャビテーションは、汚れを強力に
固着させている洗浄対象物の該汚れを除去する上で有効
であるが、主にクリーム半田等の印刷材の除去を目的と
する印刷用マスク洗浄装置においては、印刷用マスクの
劣化を助長するので除去した方がよいと思われる。

【００１３】本発明は以上の背景に鑑みなされたもので
あり、その目的とするところは、枠付き印刷用マスクに
おける貼り合わせ部分の剥がれや、印刷用マスクにおけ
る被覆層の剥がれの発生を低減することができる印刷用
マスク洗浄方法及び印刷用マスク洗浄装置を提供するこ
とである。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１の発明は、印刷用マスクと超音波発生手段
の超音波出力部との間に洗浄液を介在させた状態で、該
超音波出力部から超音波を出力させて該印刷用マスクを
洗浄する印刷用マスク洗浄方法において、該超音波とし
て矩形波よりも低い高周波成分を有する非矩形波を出力
させることを特徴とするものである。

【００１５】請求項２の発明は、印刷用マスクと超音波
発生手段の超音波出力部との間に洗浄液を介在させる洗
浄液介在手段を備え、該間に洗浄液を介在させた状態で
超音波出力部から超音波を出力させて該印刷用マスクを
洗浄する印刷用マスク洗浄装置において、該超音波とし
て矩形波よりも低い高周波成分を有する非矩形波を出力
させるように構成したことを特徴とするものである。

【００１６】請求項３の発明は、請求項２の印刷用マス
ク洗浄装置であって、上記超音波発生手段は、自励方式
で超音波を発生させるものであり、上記超音波出力部と
しての振動子が上記洗浄液中に非矩形波の超音波振動を
発生させることを特徴とするものである。

【００１７】請求項４の発明は、請求項２の印刷用マス
ク洗浄装置であって、上記超音波発生手段は、他励方式
で超音波を発生させるものであり、矩形波を発生させる
矩形波発生回路と、該矩形波を積分処理する積分回路と
を備え、該積分処理により該矩形波に対してその立ち上
がり部及び立ち下がり部の傾斜を緩やかにするような波
形整形を施し、該波形整形後のパルスを上記超音波出力
部としての振動子に供給することを特徴とするものであ
る。

【００１８】請求項５の発明は、請求項４の印刷用マス
ク洗浄装置において、矩形波の周波数を変化させ得るよ
うに上記矩形波発生回路を構成し、互いに共振周波数の
異なる複数の上記振動子を設け、該周波数に応じて振動
させる該振動子を切り替えさせるようにしたことを特徴
とするものである。

【００１９】請求項６の発明は、請求項５の印刷用マス
ク洗浄装置において、上記洗浄液に接する印刷用マスク
の振動周波数を検知する振動周波数検知手段を設け、該
振動周波数の検知結果に応じて、上記矩形波発生回路か
ら出力される矩形波の周波数を変化させるように構成し
たことを特徴とするものである。

【００２０】請求項７の発明は、請求項４、５又は６の
印刷用マスク洗浄装置において、上記超音波出力部に供
給するパルスの振幅を変化させ得るように構成したこと
を特徴とするものである。

【００２１】請求項８の発明は、請求項２、３、４、
５、６又は７の印刷用マスク洗浄装置において、上記非
矩形波として正弦波を出力させるように構成したことを
特徴とするものである。

【００２２】請求項１、２、３、４、５、６、７又は８
の発明においては、矩形波よりも低い高周波成分を有す
る非矩形波の超音波を超音波出力部から洗浄液に出力し
て、該洗浄液と接触する印刷用マスクの印刷用マスクを
洗浄する。超音波として、このような非矩形波を超音波
出力部から出力させると、矩形波を出力させる場合より
も、枠付き印刷用マスクにおける貼り合わせ部分の接着
剤を除去し難くし、且つ、被覆層を印刷用マスクのマス
ク材から剥離し難くすることができる。

【００２３】特に、請求項５の印刷用マスク洗浄装置に
おいては、洗浄液中に発生させる超音波振動の周波数を
変化させることができる。

【００２４】また特に、請求項６の印刷用マスク洗浄装
置においては、印刷用マスクの振動周波数に応じて、矩
形波発生回路から出力する矩形波の周波数を変化させる
ことで、所望の周波数又はこれに近い周波数で該印刷用
マスクを超音波振動させることができる。

【００２５】また特に、請求項７の印刷用マスク洗浄装
置においては、洗浄液中に発生させる超音波振動の振幅
を変化させて、印刷用マスクの振動強度を増減すること
ができる。そして、振動強度を増加させる場合には、枠
付き印刷用マスクの貼り合わせ部分の接着剤を除去し難
くし、且つ、被覆層を印刷用マスクのマスク材から剥離
し難くしながら、洗浄効率を向上させることができる。
また、振動強度を低下させる場合には、枠付き印刷用マ
スクの貼り合わせ部分の接着剤や、被覆層と印刷用マス
クのマスク材との接着部分に付与する衝撃をより低減す
ることができる。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下、本発明を印刷用マスク洗浄
装置に適用した一実施形態について説明する。まず、本
印刷用マスク洗浄装置の被洗浄体である印刷用マスクに
ついて説明する。なお、本印刷用マスク洗浄装置に用い
る印刷用マスクの種類について特に制限はないが、一例
として、マスク材であるプラスチック材にカーボン層が
被覆されたカーボン層被覆型のプラスチックマスクを備
える枠付き印刷用マスクについて説明する。

【００２７】図２の各図はこの枠付き印刷用マスクの製
造工程を示す模式図である。図２（ａ）において、符号
１２ａはマスク枠を示す。金属製角パイプ等からなるマ
スク枠１２ａの下面には、金属と良好な接着性を発揮し
得る接着剤の塗布により被膜１２ｃが形成されてる。図
２（ｂ）において、ポリエステルやナイロン等により形
成された紗膜１２ｂにおけるマスク枠１２ａとの貼り合
わせ部分には、紗膜１２ｂと良好な接着性を発揮し得る
接着剤の塗布により被膜（図示せず）が形成されてい
る。また、マスク枠１２ａと紗膜１２ｂとにおける一方
又は両方の被膜上には、両被膜に対して良好な接着性を
発揮し得る例えばエポキシ系接着剤などが塗布され、紗
膜１２ｂは図中矢印方向にテンションを印加されなが
ら、マスク枠１２ａに貼り付けられる。このようにして
貼り付けられる紗膜１２ｂは、図２（ｃ）に示されるよ
うなマスク枠１２ａからのはみ出し部分Ａが切除され
る。一方、図３の断面に示されるような、複数の孔１２
ａ１からなる印刷パターンが形成されたプラスチックマ
スク１２ｄは、例えば、ポリイミド、ポリエステル、エ
ポキシ、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレン、ポリア
セタール、テフロン、ポリフェニレンスルファイド（Ｐ
ＰＳ）、等からなるプラスチック製マスク材１２ａ２の
表面に、カーボンや金属の蒸着あるいはメッキにより導
電層１２ａ３が被覆されている。このプラスチックマス
ク１２ｄにおける紗膜１２ｂとの接着面には、図２
（ｄ）に示されるように、プラスチックと良好な接着性
を発揮させ得る接着剤の塗布により被膜１２ｅが形成さ
れている。このような被膜１２ｅが形成されたプラスチ
ックマスク１２ｄは、図２（ｅ）に示されるように、紗
膜１２ｂ上にテープなどで仮止めされた後に、紗膜１２
ｂ及びマスク枠１２ａとともに上下が反転され、紗膜１
２ｂの上側から被膜１２ｅ上に例えばエポキシ系接着剤
などが塗布されて紗膜１２ｂ上に固定される。そして、
図２（ｆ）に示されるように、プラスチックマスク１２
ｄと紗膜１２ｂとの接着しろ１２ｆの内側の紗膜部分が
カットされることにより紗膜１２ｂに開口部１２ｇが形
成されて、枠付き印刷用マスク１２が完成する。

【００２８】このようにして製造された枠付き印刷用マ
スク１２は、紗膜１２ｂがマスク枠１２ａに接着されて
固定され、且つ、印刷用マスク１２ｄが紗膜１２ｂに接
着されて固定されており、接着剤による複数の貼り合わ
せ部分が形成されている。

【００２９】なお、本発明者は先に、印刷用マスクをマ
スク枠に直接固定した直接固定方式の枠付き印刷用マス
クを提案しているが、この枠付き印刷用マスクにおいて
も、マスク枠と印刷用マスクとの間に貼り合わせ部分が
生ずることになる。

【００３０】次に、本印刷用マスク洗浄装置の構成につ
いて説明する。図４は本印刷用マスク洗浄装置の超音波
発生手段の回路ブロックを洗浄槽とともに示す構成図で
ある。なお、この超音波発生手段は他励方式で超音波を
発生させるものである。

【００３１】図４において、例えば１００［Ｖ］の商用
交流電源に接続されるＡＣ／ＤＣコンバータ１は、この
商用交流電源を所定の電圧値の直流電源に変換して変圧
回路２に出力している。変圧回路２は、ＡＣ／ＤＣコン
バータ１からの直流電源を変圧した後、発振回路３に供
給する。この発振回路３は、例えば３５〜４０［ｋＨ
ｚ］程度の周波数の矩形波を発振する回路である。即
ち、この発振回路３は矩形波発生回路である。発振回路
３内の設けられたインバータ回路３ａは、後述の制御部
８の制御により出力する矩形波の周波数を様々な値に変
化させる。

【００３２】発振回路３から出力された矩形波は、例え
ば図５に示すような抵抗ＲとコンデンサＣとで構成され
た積分回路の積分処理により、その立ち上がり部及び立
ち下がり部の傾斜が緩やかにされ、例えば図６に示すよ
うな非矩形波となる。そして、この非矩形波は、増幅回
路５で増幅されてからスイッチング回路６を経由して、
それぞれ共振周波数の異なる振動子７ａ、７ｂ、７ｃ、
７ｄの何れかに出力される。

【００３３】なお、積分回路としては、図５に示した抵
抗ＲとコンデンサＣとの他、コイルとコンデンサ、アク
ティブフィルタ、スイッチド・キャパシタ・フィルタ、
等を使用したものなどが挙げられる。

【００３４】一方、洗浄剤介在手段としての洗浄槽９
は、内部に例えばアルコール、塩化メチレン、グリコー
ルエーテル等の溶剤からなる洗浄液１１を貯留し、この
洗浄液１１中に枠付き印刷用マスク１２を立てた状態で
浸している。この洗浄槽９の側面には、上記振動子７
ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄが配設されており、洗浄槽９は印
刷用マスク１２と各振動子との間に洗浄液１１を介在さ
せることになる。

【００３５】振動子７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄは、上記非
矩形波が出力されると、それぞれ固有の周波数で振動し
て、洗浄槽９内の洗浄液１１を該周波数で超音波振動さ
せる。この超音波振動は、洗浄液１１中を伝わって枠付
き印刷用マスク１２のプラスチックマスクに到達し、こ
れを振動させる。そして、キャビテーションを排除した
やプラスチックマスクの振動により、該プラスチックマ
スクの表面や孔内に付着したクリーム半田等の印刷材を
除去する。

【００３６】洗浄槽９には、プラスチックマスクの振動
周波数を検知する振動周波数検知手段１０が設けられて
いる。この振動周波数検知手段１０は、例えば周知の超
音波センサなどで構成され、洗浄槽９内のプラスチック
マスク表面近傍か、あるいは洗浄槽９の振動子取付側面
とは反対側の側面に配設される。この振動周波数検知手
段１０による振動周波数の検知結果は、制御部８に送信
される。

【００３７】制御部８は、図示しないデータ記憶手段を
備えており、予めの試験により特定された印刷用マスク
の種類と洗浄に適した振動周波数とが関連付けされたデ
ータベースを記憶している。また、作業者から入力部１
３を介して入力されたデータにより、洗浄槽９に投入さ
れた印刷用マスクの種類を認識している。そして、印刷
用マスクの種類の認識と、上記検知結果のデータと、こ
のデータベースとの比較に基づき、印刷用マスクが適正
な周波数で振動しているか否かを判断する。更に、適正
な周波数で振動していないと判断した場合には、発振回
路３のインバータ回路３ａを制御して、発振回路３から
出力される矩形波の周波数を変化させるとともに、スイ
ッチング回路６を制御して、振動させる振動子を変化さ
せた周波数に適したものに切り替える。このような制御
により、洗浄液１１の振動周波数を変化させて、印刷用
マスクの振動周波数を変化させることができる。

【００３８】また、作業者の操作により、振動強度を変
更させるべき旨のデータがタッチパネル等で構成される
入力部１３を介して入力されると、変圧回路２からの出
力電圧を変化させたり、増幅回路５の増幅度を変化させ
たりして、振動子７に出力される非矩形波の振幅を変化
させる。この変化により、印刷用マスクの振動強度を増
減させることができる。

【００３９】以上の構成において、本印刷用マスク洗浄
装置においては、洗浄液１１中に矩形波よりも低い高周
波成分を有する非矩形波の超音波振動を発生させ、矩形
波の超音波振動を発生させる場合よりも、枠付き印刷用
マスク１２における貼り合わせ部分の接着剤を除去し難
くし、且つ、被覆層を印刷用マスクのプラスチック製マ
スク材から剥離し難くすることができる。

【００４０】以上、本印刷用マスク洗浄装置によれば、
矩形波の超音波振動を発生させる場合よりも、枠付き印
刷用マスク１２における貼り合わせ部分の接着剤を除去
し難くし、且つ、被覆層を印刷用マスクのプラスチック
製マスク材から剥離し難くすることができるので、該貼
り合わせ部分の剥がれや、該被覆層の剥がれの発生を低
減することができる。

【００４１】なお、本実施形態において、超音波として
図６に示した非矩形波を出力する超音波発生手段につい
て説明したが、非矩形波の波形はこれに限定されるもの
ではない。例えば、正弦波、図７に示すような台形波、
などの非矩形波であってもよい。

【００４２】また、他励方式で超音波を発生させる超音
波発生手段について説明したが、自励方式で超音波を発
生させる超音波発生手段を備える印刷用マスク洗浄装置
についても、本発明の適用が可能である。自励方式の場
合には、超音波発生手段の回路を、例えば図８の回路図
に示すようなサイリスタを用いたもので構成すればよ
い。図８において、サイリスタＳＣＲのゲートに対して
パルス発生器ＰＳで所要の繰り返し周波数のトリガーパ
ルスを加えると、サイリスタＳＣＲとダイオードＤ１と
を交互に流れる電流によってコンデンサＣの充放電が繰
り返され、出力トランスＴを通して振動子７が正弦波で
励振される。

【００４３】また、積分回路の積分処理により矩形波を
非矩形波とする超音波発生手段について説明したが、イ
ンバータ回路を用いないで周波数変換する周波数変換回
路を発振回路に設ければ、該積分回路を設けることな
く、該発振回路から非矩形波を出力させることができ
る。このような周波数変換回路としては、例えば、特開
平６−２４５５３３号に記載のものがある。

【００４４】また、洗浄液介在手段として洗浄槽６を備
える印刷用マスク洗浄装置について説明したが、本発明
に係る洗浄液介在手段は洗浄槽に限定されるものではな
い。例えば、洗浄液介在手段として、振動子５と印刷用
マスクとの間に洗浄液をシャワーリングするシャワー手
段を備える印刷用マスク洗浄装置にも本発明の適用が可
能である。

【００４５】また、３５〜４０［ｋＨｚ］の周波数の超
音波を出力する超音波発生手段について説明したが、本
発明に係る超音波発生手段の超音波の出力周波数は、こ
の範囲に限定されるものではない。

【００４６】

【発明の効果】請求項１、２、３、４、５、６、７又は
８の発明によれば、超音波として矩形波を出力させる場
合よりも、枠付き印刷用マスクにおける貼り合わせ部分
の接着剤を除去し難くし、且つ、被覆層を印刷用マスク
のマスク材から剥離し難くするので、該貼り合わせ部分
の剥がれや、該被覆層の剥がれの発生を低減することが
できるという優れた効果がある。

【００４７】特に、請求項５の発明によれば、洗浄液中
に発生させる超音波振動の周波数を変化させることがで
きるので、印刷用マスクの種類、印刷用マスクに付着す
る汚れの種類、印刷用マスクの汚れ具合などに応じて、
該汚れの除去に適した周波数の超音波振動を該洗浄液中
に発生させて洗浄効率を向上させることができるという
優れた効果がある。

【００４８】また特に、請求項６の発明によれば、所望
の周波数又はこれに近い周波数で印刷用マスクを超音波
振動させることができるので、洗浄に最適な振動周波数
が予め判明している印刷用マスクを用いる場合には、こ
の印刷用マスクの振動周波数を最適な振動周波数又はこ
れに近い振動周波数に自動的に調整して、洗浄効率を向
上させることができるという優れた効果がある。

【００４９】また特に、請求項７の発明によれば、振動
強度を増加させる場合には、枠付き印刷用マスクの貼り
合わせ部分の接着剤を除去し難くし、且つ、被覆層を印
刷用マスクのマスク材から剥離し難くしながら、洗浄効
率を向上させることができるという優れた効果がある。
また、振動強度を低下させる場合には、枠付き印刷用マ
スクの貼り合わせ部分の接着剤や、被覆層と印刷用マス
クのマスク材との接着部分に付与する衝撃をより低減し
て、該貼り合わせ部分や該被覆層の剥がれの発生をより
低減することができるという優れた効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の印刷用マスク洗浄装置の洗浄液に生ずる
超音波振動の波形を示す模式図。

【図２】枠付き印刷用マスクの製造工程を示す模式図。

【図３】同枠付き印刷用マスクのプラスチックマスクを
示す拡大断面図。

【図４】実施形態の印刷用マスク洗浄装置の超音波発生
手段の回路ブロックを洗浄槽とともに示す構成図。

【図５】同超音波発生手段の積分回路の一例を示す回路
図。

【図６】同積分回路から出力される非矩形波の一例を示
す模式図。

【図７】同矩形波の他の一例を示す模式図。

【図８】実施形態の変形例装置における超音波発生手段
の回路図。

【符号の説明】

１ ＡＣ／ＤＣコンバータ ２ 変圧回路 ３ 発振回路 ３ａ インバータ回路 ４ 積分回路 ５ 増幅回路 ６ スイッチング回路 ７ 振動子 ８ 制御部 ９ 洗浄槽 １０ 振動周波数検知手段 １１ 洗浄液 １２ 枠付き印刷用マスク １３ 入力部

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】印刷用マスクと超音波発生手段の超音波出
   力部との間に洗浄液を介在させた状態で、該超音波出力
   部から超音波を出力させて該印刷用マスクを洗浄する印
   刷用マスク洗浄方法において、該超音波として矩形波よ
   りも低い高周波成分を有する非矩形波を出力させること
   を特徴とする印刷用マスク洗浄方法。
2. 【請求項２】印刷用マスクと超音波発生手段の超音波出
   力部との間に洗浄液を介在させる洗浄液介在手段を備
   え、該間に洗浄液を介在させた状態で超音波出力部から
   超音波を出力させて該印刷用マスクを洗浄する印刷用マ
   スク洗浄装置において、該超音波として矩形波よりも低
   い高周波成分を有する非矩形波を出力させるように構成
   したことを特徴とする印刷用マスク洗浄装置。
3. 【請求項３】請求項２の印刷用マスク洗浄装置であっ
   て、上記超音波発生手段は、自励方式で超音波を発生さ
   せるものであり、上記超音波出力部としての振動子が上
   記洗浄液中に非矩形波の超音波振動を発生させることを
   特徴とする印刷用マスク洗浄装置。
4. 【請求項４】請求項２の印刷用マスク洗浄装置であっ
   て、上記超音波発生手段は、他励方式で超音波を発生さ
   せるものであり、矩形波を発生させる矩形波発生回路
   と、該矩形波を積分処理する積分回路とを備え、該積分
   処理により該矩形波に対してその立ち上がり部及び立ち
   下がり部の傾斜を緩やかにするような波形整形を施し、
   該波形整形後のパルスを上記超音波出力部としての振動
   子に供給することを特徴とする印刷用マスク洗浄装置。
5. 【請求項５】請求項４の印刷用マスク洗浄装置におい
   て、矩形波の周波数を変化させ得るように上記矩形波発
   生回路を構成し、互いに共振周波数の異なる複数の上記
   振動子を設け、該周波数に応じて振動させる該振動子を
   切り替えさせるようにしたことを特徴とする印刷用マス
   ク洗浄装置。
6. 【請求項６】請求項５の印刷用マスク洗浄装置におい
   て、上記洗浄液に接する印刷用マスクの振動周波数を検
   知する振動周波数検知手段を設け、該振動周波数の検知
   結果に応じて、上記矩形波発生回路から出力される矩形
   波の周波数を変化させるように構成したことを特徴とす
   る印刷用マスク洗浄装置。
7. 【請求項７】請求項４、５又は６の印刷用マスク洗浄装
   置において、上記超音波出力部に供給するパルスの振幅
   を変化させ得るように構成したことを特徴とする印刷用
   マスク洗浄装置。
8. 【請求項８】請求項２、３、４、５、６又は７の印刷用
   マスク洗浄装置において、上記非矩形波として正弦波を
   出力させるように構成したことを特徴とする印刷用マス
   ク洗浄装置。