JP2000309836A - 電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 エッチング時に、未エッチング部が生じにく
く、点状光沢の生じにくい電解コンデンサ陽極用アルミ
ニウム箔を提供する。 【解決手段】 この電解コンデンサ陽極用アルミニウム
箔は、アルミニウム純度が９９．９８％以上の圧延アル
ミニウム箔である。そして、アルミニウム箔中における
（１００）面を持つ結晶粒の占有率の平均値が９５％以
上で、占有率の値のバラツキが２．５％未満である。更
に、アルミニウム箔表面に形成されている酸化皮膜の耐
電圧の平均値が１．２〜１．８Ｖで、耐電圧の値のバラ
ツキが８％未満である。このような電解コンデンサ陽極
用アルミニウム箔は、アルミニウム純度が９９．９８％
以上の鋳塊に、均質化処理，熱間圧延，冷間圧延及び中
間焼鈍を施した後、圧下率１５〜２０％で最終冷間圧延
を施し、次いで、有機溶剤を用いて洗浄した後、特定の
条件で最終焼鈍を施すことによって得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、静電容量が高く、
且つ、エッチング時に均一溶解しやすい電解コンデンサ
陽極用アルミニウム箔及びその製造方法に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】従来より、電解コンデンサ用陽極箔は、
電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔に直流エッチング
を施すことにより、作成されている。直流エッチングに
よって、アルミニウム箔表面に多数のエッチングピット
が形成され、アルミニウム箔の表面積が拡大し、静電容
量の高い陽極箔が得られるのである。なお、アルミニウ
ム箔としては、一般に、圧延アルミニウム箔が用いられ
ている。

【０００３】このエッチングピットを高密度に多数形成
させるためには、アルミニウム箔表面に対してなるべく
垂直にエッチングピットを形成させることが望ましい。
そして、エッチングピットを垂直に形成させるために
は、アルミニウム箔中における結晶粒が（１００）面を
持つ方位となっていれば良いことが知られている。従っ
てまた、静電容量の高い陽極箔を得るには、（１００）
面を持つ結晶粒が、高い割合で含まれているアルミニウ
ム箔を使用すれば良いことも知られている。更に、エッ
チングピット形成時において、その開始点の発生数は、
アルミニウム箔の表面酸化皮膜の厚さと相関しているこ
とも知られている。具体的には、表面酸化皮膜の厚さが
薄すぎると、エッチング時に全面溶解を生じ、エッチン
グピットの開始点が生成しにくくなり、一方、表面酸化
皮膜の厚さが厚すぎても、エッチングが施されにくくな
り、エッチングピットの開始点が生成しにくくなること
が知られている。従ってまた、静電容量の高い陽極箔を
得るには、アルミニウム箔の表面酸化皮膜の厚さを一定
の範囲内にすれば良いことも知られている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】以上のような技術的背
景の下、（１００）面を持つ結晶粒を高割合で含有し、
表面酸化皮膜の厚さが一定範囲内となっているアルミニ
ウム箔を用い、これに直流エッチング処理すると、確か
に、高静電容量の陽極箔が得られることを、本発明者等
は確認している。しかしながら、このような高静電容量
の陽極箔であっても、点状光沢が見られ、外観が悪いと
いう欠点があった。ここで、点状光沢とは、アルミニウ
ム箔に直流エッチング処理を施した際、局部的且つ散点
状に未エッチング部が生じ、この未エッチング部におけ
る光の反射率が、エッチング部における光の反射率より
も大きいために生じるものである。点状光沢が存在する
と、必ずしも静電容量が低下するとは限らず、十分満足
のゆく静電容量を示すものも多いが、陽極箔の使用者に
とっては、外観不良として製品化を躊躇する傾向が見ら
れるのである。

【０００５】そこで、本発明者等は、点状光沢の発生を
防止すべく研究を重ねた結果、（１００）面を持つ結晶
粒の割合の変動が少ない方が、且つ、表面酸化皮膜の厚
さの変動が少ない方が、点状光沢が発生しにくいことを
見出した。本発明は、このような知見に基づいてなされ
たものである。なお、本件出願人は、特願平１１−１５
４２４号及び特願平１１−１０３４９４号として、点状
光沢を防止しうる技術を提案している。これらの提案発
明は、主として、アルミニウム箔中の元素組成に着目
し、エッチング時にアルミニウム箔表面で生じるアノー
ド反応（Ａｌ→Ａｌ³⁺＋３ｅ）とカソード反応（２Ｈ⁺
＋２ｅ→Ｈ₂）とのバランスを工夫することによって、
点状光沢を防止しようというものである。従って、本発
明は、これらの提案発明とは、着眼点が相違するもので
ある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、アルミニウム
純度が９９．９８重量％以上の圧延アルミニウム箔であ
って、該アルミニウム箔中における（１００）面を持つ
結晶粒の占有率の平均値が９５％以上で、該占有率の値
のバラツキが２．５％未満であり、且つ、該アルミニウ
ム箔表面に形成されている酸化皮膜の耐電圧の平均値が
１．２〜１．８Ｖで、該耐電圧の値のバラツキが８％未
満であることを特徴とする電解コンデンサ陽極用アルミ
ニウム箔及びその製造方法に関するものである。

【０００７】本発明に係る電解コンデンサ陽極用アルミ
ニウム箔は、アルミニウム純度が９９．９８重量％以上
である。アルミニウム純度が９９．９８重量％未満であ
ると、不純物の量が多くなりすぎて、エッチング時に過
溶解を生じやすくなり、アルミニウム箔表面積の拡大が
図られないため、好ましくない。また、アルミニウム箔
の製造条件にもよるが、（１００）面を持つ結晶粒の割
合を高めにくくなる傾向が生じる。なお、本発明に係る
電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔は、冷間圧延工程
を経て得られた、圧延アルミニウム箔であることは言う
までもない。

【０００８】本発明に係る電解コンデンサ陽極用アルミ
ニウム箔は、その中に（１００）面を持つ結晶粒を高い
割合で含有するものである。即ち、（１００）面を持つ
結晶粒の占有率の平均値が９５％以上となっているもの
であり、好ましくは９８％以上となっているのが良い。
この平均値が９５％未満であると、直流エッチング処理
によって、点状光沢が生じやすくなるので、好ましくな
い。ここで、（１００）面を持つ結晶粒の占有率の平均
値は、以下の方法で測定し算出されるものである。即
ち、図１に示す如きアルミニウム箔から、圧延方向の三
箇所で、幅方向に２５ｍｍ×２５ｍｍの寸法の試料を各
々２０点（合計６０点）採取する。これは、図１中、α
₁，α₂，α₃，・・・α₁₈，α₁₉，α₂₀、β₁，β₂，
β₃，・・・β ₁₈，β₁₉，β₂₀、γ₁，γ₂，γ₃・・・γ
₁₈，γ₁₉，γ₂₀に相当する。そして、これらの各試料
を、５０重量％ＨＣｌ＋４７重量％ＨＮＯ₃＋３重量％
ＨＦ溶液（液温３０℃）に３０秒間浸漬し、（１００）
組織を顕出後、２５ｍｍ×２５ｍｍの視野で画像解析装
置を用いて、（１００）面を持つ結晶粒の占有率を測定
する。６０点の各試料の占有率χ_i（但し、ｉは１〜６
０）として、その平均値（χ_av）を、χ_av＝（Σχ_i）
／６０なる式で算出するのである。なお、（１００）面
を持つ結晶粒の占有率とは、一定視野内における、（１
００）面を持つ結晶粒の占める面積率であることは、言
うまでもない。

【０００９】また、本発明においては、占有率の値のバ
ラツキは、２．５％未満でなければならない。このバラ
ツキが２．５％以上であると、直流エッチング処理によ
って、点状光沢が生じやすくなるので、好ましくない。
ここで、占有率の値のバラツキは、以下の如く定義され
るものである。即ち、上記で測定した６０点の各試料の
うち、占有率の最も高い値をχ_maxとし、最も低い値を
χ_minとしたとき、占有率の値のバラツキ（σ₁）は、σ
₁＝〔（χ_max−χ_min）／χ_max〕×１００で算出される
ものである。

【００１０】本発明に係る電解コンデンサ陽極用アルミ
ニウム箔は、その表面に形成されている酸化皮膜の耐電
圧の平均値が１．２〜１．８Ｖでなければならない。こ
の平均値が１．２Ｖ未満であると、直流エッチング処理
時に、全面溶解が生じやすくなり、多数のエッチングピ
ットが生成しにくくなって、高静電容量の陽極箔が得ら
れにくくなるので、好ましくない。また、この平均値が
１．８Ｖを超えると、直流エッチング処理時に、酸化皮
膜の欠陥部に電流が集中し、高静電容量の陽極箔が得ら
れにくくなるとと共に、点状光沢も発生しやすくなるの
で、好ましくない。ここで、酸化皮膜の耐電圧の平均値
は、以下の方法で測定し算出されるものである。即ち、
図２に示す如きアルミニウム箔から、圧延方向の三箇所
で、幅方向に１０ｍｍ×１３０ｍｍの寸法の試料を、１
５ｍｍの間隔を開けて各々２０点（合計６０点）採取す
る。これは、図１中、δ₁，δ₂，δ₃，・・・δ₁₈，δ
₁₉，δ₂₀、ε₁，ε₂，ε₃，・・・ε₁₈，ε₁₉，ε₂₀、
ζ₁，ζ₂，ζ₃・・・ζ₁₈，ζ₁₉，ζ₂₀に相当する。そ
して、これらの各試料を、１３重量％アジピン酸アンモ
ニウム水溶液（液温２５℃）で、対極を同純度アルミニ
ウム箔としてＤＣ０．４ｍＡの定電流を流し、電圧−時
間曲線の屈曲点の電圧〔耐電圧である。（Ｖ_i）、但し
ｉは１〜６０〕を測定する。酸化皮膜の耐電圧の平均値
（Ｖ）は、Ｖ＝（ΣＶ_i）／６０なる式（式中、ｉは１
〜６０）で算出されるものである。

【００１１】また、本発明においては、耐電圧の値のバ
ラツキは、８％未満でなければならない。このバラツキ
が８％以上であると、直流エッチング処理によって、点
状光沢が生じやすくなるので、好ましくない。ここで、
耐電圧の値のバラツキは、以下の如く定義されるもので
ある。即ち、上記で測定した６０点の各試料のうち、耐
電圧の最も高い値をＶ_maxとし、最も低い値をＶ_minとし
たとき、耐電圧の値のバラツキ（σ₂）は、σ₂＝〔（Ｖ
_max−Ｖ_min）／Ｖ_max〕×１００で算出されるものであ
る。

【００１２】このような電解コンデンサ陽極用アルミニ
ウム箔は、以下の如き製造方法で好適に得ることができ
る。即ち、アルミニウム純度が９９．９８％以上の鋳塊
に、均質化処理，熱間圧延，冷間圧延及び中間焼鈍を施
した後、圧下率１５〜２０％で最終冷間圧延を施し、次
いで、有機溶剤を用いて洗浄した後、特定の条件で最終
焼鈍を施すという方法である。この製造方法を詳細に説
明すると、次のとおりである。

【００１３】まず、アルミニウム純度が９９．９８％以
上の鋳塊を準備する。このアルミニウム純度が９９．９
８％未満であると、不純物の量が多くなり、特定の最終
焼鈍を施しても、（１００）面を持つ結晶粒の占有率を
９５％以上に調整しにくくなるので、好ましくない。そ
して、この鋳塊に、均質化処理，熱間圧延，冷間圧延及
び中間焼鈍を施す。これらの各処理は、周知の方法で周
知の条件で行えば良い。中間焼鈍後に、圧下率１５〜２
０％で最終冷間圧延を施す。この圧下率が、１５％未満
であると、特定の最終焼鈍を施しても、再結晶駆動力が
低すぎて、結晶粒が（１００）面を有する方位に回転し
にくくなるので、好ましくない。また、圧下率が２０％
を超えると、（１００）面を有する結晶粒が破壊される
恐れがあり、更に、他の方位の結晶粒に転換する恐れが
あるので、好ましくない。なお、この圧下率は、最終冷
間圧延前のアルミニウム箔の厚さをｔ₀とし、最終冷間
圧延後のアルミニウム箔の厚さをｔ₁としたとき、
〔（ｔ₀−ｔ₁）／ｔ₀〕×１００で算出されるものであ
る。

【００１４】最終冷間圧延の後、得られたアルミニウム
箔を、有機溶剤で洗浄する。具体的には、有機溶剤が満
たされた槽中にアルミニウム箔を通したり、或いは、ア
ルミニウム箔表面に有機溶剤を注げば良い。また、この
際、ブラシ等でアルミニウム箔表面を擦っても良い。有
機溶剤としては、メタクレン，アセトン，酢酸エチル，
ジクロロメタン又はイソプロピルアルコールが単独で又
は混合して用いられる。特に、本発明では、アセトン，
ジクロロメタン及び酢酸エチルよりなる群から選ばれた
１種以上のものを、有機溶剤として用いるのが好まし
い。この有機溶剤を用いる洗浄に代えて、アルカリ系洗
剤水溶液又は酸系洗剤水溶液を用いて、アルミニウム箔
を洗浄すると、前工程までに生成した酸化皮膜の除去の
程度を調整することが困難になり、最終焼鈍で成長する
酸化皮膜厚さを制御することが困難になる。従って、得
られる電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔表面の酸化
皮膜の厚さのバラツキが大きくなり、好ましくないので
ある。即ち、本発明において、有機溶剤による洗浄を使
用した理由は、酸化皮膜の除去の程度を調整しやすく
し、もって、最終焼鈍で成長する酸化皮膜厚さのバラツ
キを少なくするためなのである。

【００１５】洗浄後、特定の条件下で最終焼鈍を行う。
具体的には、以下の如き条件である。まず、最終焼鈍の
昇温速度を３０〜１００℃／ｈ．、好ましくは５０〜１
００℃／ｈ．とする。昇温温度が３０℃／ｈ．未満であ
ると、（１００）面の方位を持つ結晶粒が成長する前
に、この方位以外の結晶粒が成長しやすくなるので、好
ましくない。また、昇温速度を１００℃／ｈ．より速く
することは、実操業上、コイル形態のアルミニウム箔を
焼鈍することが多いため、現実的ではない。なお、ｈ．
は時間の意味であることは言うまでもない。

【００１６】次に、最終焼鈍時の保持時間は、３〜８
ｈ．である。保持時間が３ｈ．未満であると、アルミニ
ウム箔表面の酸化皮膜中において、エッチング処理時に
エッチングピットの開始点となるγ−Ａｌ₂Ｏ₃の生成が
不充分となるので、好ましくない。一方、保持時間が８
ｈ．を超えると、酸化皮膜が厚くなりすぎたり（酸化皮
膜の耐電圧の平均値が１．８Ｖを超えたり）、或いは酸
化皮膜の厚さのバラツキが大きく（耐電圧の値のバラツ
キが８％以上に）なったりする。また、最終焼鈍時の保
持温度は、５２０〜５７０℃である。保持温度が５２０
℃未満であると、（１００）面を有する結晶粒の占有率
の平均値が９５％未満になる傾向が生じる。更に、アル
ミニウム箔表面の酸化皮膜中において、エッチング処理
時にエッチングピットの開始点となるγ−Ａｌ₂Ｏ₃の生
成が不充分となるので、好ましくない。保持温度が５７
０℃を超えると、酸化皮膜の厚さが厚くなりすぎるの
で、好ましくない。更に、コイル中で積層されているア
ルミニウム箔同士がくっつきやすくなったり、或いは結
晶粒の粗大化が生じてエッチング処理によって微細なエ
ッチングピットが形成されにくくなるので、好ましくな
い。

【００１７】また、最終焼鈍時の保持時間と保持温度
は、上記の範囲内であっても、次の三式を満足する必要
がある。即ち、保持時間をＸ（ｈ．）とし、保持温度を
Ｙ（℃）としたとき、−（２０／６）Ｘ＋５４５≦
Ｙ、−２０Ｘ＋７１０≧Ｙ、−５Ｘ＋６００≧Ｙの
三式を満足する必要がある。この三式は、保持温度の上
限近傍で且つ保持時間の上限近傍での最終焼鈍、及び保
持温度の下限近傍で且つ保持時間の下限近傍での最終焼
鈍の場合、所望の結果が得られなかったため、定立され
たものである。

【００１８】更に、最終焼鈍の開始から終了までの時間
は、３６時間未満とする必要がある。この時間が３６時
間以上になると、酸化皮膜が厚くなり、酸化皮膜の耐電
圧の平均値が１．８Ｖを超える恐れがあるので、好まし
くない。また、酸化皮膜表面に不純物が濃縮して、エッ
チング時の溶解性が不均一になるので、好ましくない。
最終焼鈍の開始から終了までの酸素濃度の平均値も、１
０ｐｐｍ未満とする必要がある。この平均値が１０ｐｐ
ｍ以上になった場合も、酸化皮膜が厚くなりすぎたり、
酸化皮膜表面に不純物が濃縮するので、好ましくない。
これらに加えて、最終焼鈍の開始から終了までの時間と
酸素濃度の平均値との積が、１００ｐｐｍ・ｈ．未満で
あることも必要である。この積が１００ｐｐｍ・ｈ．以
上になっても、酸化皮膜が厚くなりすぎたり、酸化皮膜
表面に不純物が濃縮するので、好ましくない。

【００１９】なお、最終焼鈍工程は、図３に示す如く、
昇温過程，保持過程及び冷却過程よりなるものである。
従って、上記した最終焼鈍の昇温速度は、昇温過程にお
けるものである。また、上記した保持温度及び保持時間
は、保持過程におけるものである。更に、最終焼鈍の開
始から終了までの時間、及び最終焼鈍の開始から終了ま
での酸素濃度は、昇温過程の始めから冷却過程の終わり
までにおけるものである。また、本発明では、冷却過程
における冷却速度等に関しては、特に条件設定する必要
はないが、一般的に、冷却速度は昇温速度と同程度が好
ましい。

【００２０】

【実施例】実施例１ 厚さ５４０ｍｍで、Ｓｉ：８ｐｐｍ，Ｆｅ：８ｐｐｍ，
Ｃｕ：４８ｐｐｍ，Ｐｂ：０．５ｐｐｍを含むアルミニ
ウム純度９９．９９％のアルミニウム鋳塊を準備した。
この鋳塊に、６００℃×７ｈ．で均質化処理を施した
後、熱間圧延を直ちに行い、厚さ２．４ｍｍのアルミニ
ウム板を得た。このアルミニウム板に、冷間圧延及び中
間焼鈍（２１０℃×１５ｈ．）を施した後、圧下率１７
％で最終冷間圧延を施した。この後、アセトンを用いて
洗浄し、次いで、最終焼鈍をアルゴンガス雰囲気下にお
いて、以下の条件で行った。即ち、昇温速度８０℃／
ｈ．で、保持温度５２０℃，保持時間７．５ｈ．，最終
焼鈍の開始から終了までの時間２０ｈ．，最終焼鈍の開
始から終了までの酸素濃度の平均値１．５ｐｐｍとし
た。以上の最終焼鈍を終えて、厚さ０．１ｍｍの電解コ
ンデンサ陽極用アルミニウム箔を得た。

【００２１】実施例２〜９、参考例、比較例１〜１０ 表１に記載の洗浄液を用い、表１に記載の最終焼鈍条件
を採用した他は、実施例１と同様にして、電解コンデン
サ陽極用アルミニウム箔を得た。なお、表１中、焼鈍時
間とは最終焼鈍の開始から終了までの時間を意味し、平
均酸素濃度とは、最終焼鈍の開始から終了までの酸素濃
度の平均値を意味し、合計酸素濃度とは、最終焼鈍の開
始から終了までの時間と酸素濃度の平均値との積を意味
するものである。

【００２２】

【表１】

【００２３】実施例１〜９、参考例及び比較例１〜１０
で得られた各電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔につ
いて、前述した方法で、（１００）面を持つ結晶粒の占
有率の平均値及び占有率の値のバラツキを測定及び算出
し、その結果を表２に示した。また、各電解コンデンサ
陽極用アルミニウム箔について、前述した方法で、その
表面酸化皮膜の耐電圧の平均値及び耐電圧の値のバラツ
キを測定及び算出し、その結果を表２に示した。

【００２４】更に、各電解コンデンサ陽極用アルミニウ
ム箔について、以下の条件でエッチング処理及び化成処
理を施した。 〔エッチング処理〕：４０℃の０．１％ＮａＯＨ水溶液
中に、各電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔を、３０
秒間浸漬して前処理した。その後、８５℃の１モル濃度
ＨＣｌ＋３モル濃度Ｈ₂ＳＯ₄水溶液中に、アルミニウム
箔を浸漬して、ＤＣ０．２Ａ／ｃｍ²の電流密度で４分
間、電解エッチングを行った。次いで、前記１モル濃度
ＨＣｌ＋３モル濃度Ｈ₂ＳＯ₄水溶液中に、電解エッチン
グ後のアルミニウム箔を１０分間浸漬して、エッチング
処理を終えた。なお、水溶液中におけるモル濃度は、ｍ
ｏｌ／ｌのことを意味している。 〔化成処理〕：上記エッチング処理を施した後の各アル
ミニウム箔を、ＥＩＡＪ法に則って、対向電極をＳＵＳ
３０４として、化成処理を３７５Ｖｆ．で行った。

【００２５】エッチング処理及び化成処理を終えた、各
電解コンデンサ陽極箔について、以下の条件で静電容量
（μＦ／ｃｍ²）を測定した。そして、参考例に係る方
法で得られた電解コンデンサ陽極箔の静電容量を基準
（１００％）として、これとの相対比較で、各電解コン
デンサ陽極箔の静電容量を％表示し、これを表２に示し
た。 〔静電容量〕：上記エッチング処理及び化成処理を終え
た各箔から、巾１０ｍｍ×長さ５０ｍｍの大きさの試料
箔を、各々１０枚づづ採取した。そして、この１０枚の
試料箔を１枚づつ、３０℃の１３％五硼酸アンモニウム
水溶液中に浸漬し、対向電極を静電容量が４００００μ
Ｆ以上のエッチドアルミニウム箔として、１２０Ｈｚの
直列等価回路でＬＣＲメーターを用いて、静電容量（μ
Ｆ／ｃｍ²）を１０点測定し、その平均値を参考例のも
のとの相対比較で％表示で、表２に示した。なお、表２
には、１０点測定した静電容量の最大値と最小値とか
ら、｛〔（静電容量の最大値）−（静電容量の最小
値）〕／（静電容量の最大値）｝×１００なる計算式
で、静電容量のバラツキも算出し、それを表２に示し
た。

【００２６】また、エッチング処理した後の各電解コン
デンサ陽極箔について、以下の方法で未エッチング部の
面積率を測定し、表２に示した。未エッチング部の面積
率が小さい方が、表面が均一にエッチングされているこ
とを意味し、点状光沢が起きにくいものである。 〔未エッチング部の面積率〕：エッチング処理を終えた
箔を、光学顕微鏡にて３７．５倍で、１０視野撮影し
た。そして、各写真を画像解析装置を用いて、画像を二
値化し、各々の未エッチング部の面積率を求め、その平
均値を未エッチング部の面積率として表２に示した。

【００２７】

【表２】

【００２８】表２に示した結果から明らかなように、実
施例１〜９に係る方法で得られた電解コンデンサ陽極用
アルミニウム箔は、参考例や比較例１〜１０に係る方法
で得られた電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔に比べ
て、（１００）面を持つ結晶粒の占有率の平均値が高
く、占有率の値のバラツキも少なく、且つ、表面酸化皮
膜の耐電圧の平均値が一定の範囲にあると共に、耐電圧
の値のバラツキも少ないものである。このような実施例
１〜９に係る方法で得られた電解コンデンサ陽極用アル
ミニウム箔をエッチング等して得られた陽極箔は、参考
例や比較例１〜１０に係るものと比べて、静電容量も高
く、また未エッチング部が少ないので、点状光沢の生じ
にくいものであった。

【００２９】

【作用】本発明に係る電解コンデンサ陽極用アルミニウ
ム箔を、エッチング処理して陽極箔を作成した場合、未
エッチング部の面積率が少なくなる確定的な作用は、不
明である。しかしながら、本発明者等は、以下のとおり
推定している。即ち、本発明に係る電解コンデンサ陽極
用アルミニウム箔は、（１００）面を持つ結晶粒の占有
率の値にバラツキが少なく、且つ、酸化皮膜の耐電圧の
値にバラツキの少ないものである。従って、エッチング
時に、電流が特定の箇所に集中せず、全体が均一に溶解
するため、未エッチング部が少なくなるのではないか
と、推定している。

【００３０】

【発明の効果】以上のとおり、本発明に係る電解コンデ
ンサ陽極用アルミニウム箔を用いれば、未エッチング部
の面積率が少なくなり、全体に均一にエッチングされる
ため、静電容量の低下を伴うことく、点状光沢の少ない
陽極箔が得られ、陽極箔の商品価値が高められるという
効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】（１００）面を持つ結晶粒の占有率の平均値及
び占有率の値のバラツキを測定及び算出する際に、電解
コンデンサ陽極用アルミニウム箔から試料を採取する方
法を示す図である。

【図２】酸化皮膜の耐電圧の平均値及び耐電圧の値のバ
ラツキを測定及び算出する際に、電解コンデンサ陽極用
アルミニウム箔から試料を採取する方法を示す図であ
る。

【図３】最終焼鈍における温度変化を示す図の一例であ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ２２Ｆ 1/04 Ｃ２２Ｆ 1/04 Ｌ Ｃ２３Ｇ 5/028 Ｃ２３Ｇ 5/028 5/032 5/032 Ｈ０１Ｇ 9/055 Ｃ２２Ｆ 1/00 ６０６ 9/00 ６２２ // Ｃ２２Ｆ 1/00 ６０６ ６６１Ｚ ６２２ ６８２ ６６１ ６８３ ６８２ ６８５Ｚ ６８３ ６８６Ｂ ６８５ ６９１Ａ ６８６ ６９１Ｃ ６９１ ６９１Ｂ ６９４Ａ Ｈ０１Ｇ 9/04 ３３７ ６９４ 9/24 Ｂ Ｆターム(参考） 4E002 AA08 AD13 BC05 BD09 CB01 CB10 4K053 PA10 PA12 QA05 RA34 RA37 RA42 RA48

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 アルミニウム純度が９９．９８重量％以
   上の圧延アルミニウム箔であって、該アルミニウム箔中
   における（１００）面を持つ結晶粒の占有率の平均値が
   ９５％以上で、該占有率の値のバラツキが２．５％未満
   であり、且つ、該アルミニウム箔表面に形成されている
   酸化皮膜の耐電圧の平均値が１．２〜１．８Ｖで、該耐
   電圧の値のバラツキが８％未満であることを特徴とする
   電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔。
2. 【請求項２】 アルミニウム純度が９９．９８重量％以
   上の鋳塊に、均質化処理，熱間圧延，冷間圧延及び中間
   焼鈍を施した後、圧下率１５〜２０％で最終冷間圧延を
   施し、次いで、有機溶剤を用いて洗浄した後、下記の条
   件で最終焼鈍を施すことを特徴とする電解コンデンサ陽
   極用アルミニウム箔の製造方法。 記 （１）最終焼鈍の昇温速度は３０〜１００℃／ｈ．であ
   ること。 （２）最終焼鈍の保持時間をＸ（単位はｈ．）とし、最
   終焼鈍の保持温度をＹ（単位は℃）としたとき、次の
   （ｉ）〜（ｖ）を満足すること。 （ｉ） ３≦Ｘ≦８ （ii） ５２０≦Ｙ≦５７０ （iii ）−（２０／６）Ｘ＋５４５≦Ｙ （iv） −２０Ｘ＋７１０≧Ｙ （ｖ） −５Ｘ＋６００≧Ｙ （３）最終焼鈍の開始から終了までの時間をＴ（単位は
   ｈ．）とし、最終焼鈍の開始から終了までの酸素濃度の
   平均値をＣ（単位はｐｐｍ）としたとき、次の（vi）〜
   （viii）を満足すること。 （vi） Ｔ＜３６ （vii ）Ｃ＜１０ （viii）ＴＣ＜１００
3. 【請求項３】 有機溶剤が、アセトン，ジクロロメタン
   及び酢酸エチルよりなる群から選ばれた１種以上である
   請求項２記載の電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔の
   製造方法。