JP2000319149A - 口腔用組成物 - Google Patents
口腔用組成物Info
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- JP2000319149A JP2000319149A JP12705499A JP12705499A JP2000319149A JP 2000319149 A JP2000319149 A JP 2000319149A JP 12705499 A JP12705499 A JP 12705499A JP 12705499 A JP12705499 A JP 12705499A JP 2000319149 A JP2000319149 A JP 2000319149A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 歯垢形成抑制効果の高い口腔用組成物を提供
する。 【解決手段】 ビニルピロリドンとスチレンとの共重合
体からなる微粒子を含有することを特徴とする口腔用組
成物。
する。 【解決手段】 ビニルピロリドンとスチレンとの共重合
体からなる微粒子を含有することを特徴とする口腔用組
成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、歯垢形成抑制効果
の高い口腔用組成物に関する。
の高い口腔用組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、デキストラナーゼや、アルキロイ
ルザルコシネート等が歯垢形成抑制効果を有することが
知られており、これらを配合した組成物（特許第７８２
１５４号、特開昭５４−２０１４２、特開昭６２−１９
５３２０）が提案されている。しかしながら、歯垢形成
抑制効果についてはなお検討の余地があり、更に効果を
高めた口腔用組成物の開発が望まれている。
ルザルコシネート等が歯垢形成抑制効果を有することが
知られており、これらを配合した組成物（特許第７８２
１５４号、特開昭５４−２０１４２、特開昭６２−１９
５３２０）が提案されている。しかしながら、歯垢形成
抑制効果についてはなお検討の余地があり、更に効果を
高めた口腔用組成物の開発が望まれている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、歯垢形成抑
制効果の高い口腔用組成物を提供することをその課題と
する。
制効果の高い口腔用組成物を提供することをその課題と
する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、ビニルピロリドン
とスチレンとの共重合体からなる微粒子が、高い歯垢形
成抑制効果を有することを見出し、本発明を完成するに
至った。即ち、本発明によれば、ビニルピロリドンとス
チレンとの共重合体からなる微粒子を含有することを特
徴とする口腔用組成物が提供される。
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、ビニルピロリドン
とスチレンとの共重合体からなる微粒子が、高い歯垢形
成抑制効果を有することを見出し、本発明を完成するに
至った。即ち、本発明によれば、ビニルピロリドンとス
チレンとの共重合体からなる微粒子を含有することを特
徴とする口腔用組成物が提供される。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下、本発明について更に詳述す
る。ここで、ビニルピロリドンとスチレンの共重合体
（以下、ＰＶＰＳＴとも略記する）は、化学式（Ｃ6Ｈ9
ＮＯ）n・（Ｃ8Ｈ8）ｍで表され、工業的にはアイエス
ピー社のＡＮＴＡＲＡ４３０等として入手可能なもので
ある。このもの自体は常温で固体であり水に不溶である
ため、エマルジョン等の状態で入手できるものである。
る。ここで、ビニルピロリドンとスチレンの共重合体
（以下、ＰＶＰＳＴとも略記する）は、化学式（Ｃ6Ｈ9
ＮＯ）n・（Ｃ8Ｈ8）ｍで表され、工業的にはアイエス
ピー社のＡＮＴＡＲＡ４３０等として入手可能なもので
ある。このもの自体は常温で固体であり水に不溶である
ため、エマルジョン等の状態で入手できるものである。
【０００６】本発明で用いるＰＶＰＳＴは、前記のよう
に、ＰＶＰＳＴの微粒子を含むエマルジョンの形態で入
手し得るが、本発明の口腔用組成物の場合、そのＰＶＰ
ＳＴの平均粒径は５μｍ以下、好ましくは０．０５〜１
μｍである。５μｍを超えると、口腔内での違和感が強
くなるとともに、製剤中での沈降や、分離が起こりやす
くなる。ここで各重合度ｎ及びｍは特に限定されるもの
ではないが、その中でもｎとｍの比（ｎ：ｍ）が１０：
１〜１：１０のものが好ましく、さらには８：２〜２：
８のものが最も好ましい。ｎ：ｍ比が１０：１〜１：１
０以外のものを用いると歯垢形成抑制効果が発揮されな
い場合がある。また、４０重量％の水エマルジョンとし
ての粘度は、３００〜１５００ｍＰａ・ｓ（ブルックフ
ィールド粘度計３０ｒｐｍ、２５℃での値）のものが好
ましい。ＰＶＰＳＴの配合量は０．００１〜１０重量
％、特に０．０１〜５重量％とすることが好ましい。
０．００１重量％より少ないと満足のいく効果が発揮で
きない場合があり、１０重量％以上であると、歯垢の使
用感、味が悪くなる場合がある。
に、ＰＶＰＳＴの微粒子を含むエマルジョンの形態で入
手し得るが、本発明の口腔用組成物の場合、そのＰＶＰ
ＳＴの平均粒径は５μｍ以下、好ましくは０．０５〜１
μｍである。５μｍを超えると、口腔内での違和感が強
くなるとともに、製剤中での沈降や、分離が起こりやす
くなる。ここで各重合度ｎ及びｍは特に限定されるもの
ではないが、その中でもｎとｍの比（ｎ：ｍ）が１０：
１〜１：１０のものが好ましく、さらには８：２〜２：
８のものが最も好ましい。ｎ：ｍ比が１０：１〜１：１
０以外のものを用いると歯垢形成抑制効果が発揮されな
い場合がある。また、４０重量％の水エマルジョンとし
ての粘度は、３００〜１５００ｍＰａ・ｓ（ブルックフ
ィールド粘度計３０ｒｐｍ、２５℃での値）のものが好
ましい。ＰＶＰＳＴの配合量は０．００１〜１０重量
％、特に０．０１〜５重量％とすることが好ましい。
０．００１重量％より少ないと満足のいく効果が発揮で
きない場合があり、１０重量％以上であると、歯垢の使
用感、味が悪くなる場合がある。
【０００７】本発明に係る口腔用組成物は、練歯磨、潤
製歯磨、液状歯磨、洗口剤、口中清涼剤としてあるいは
その調製用ベース組成物として適用されるが、その種類
に応じ、その他の成分として各種研磨剤、界面活性剤、
甘味料、香料、着色剤、防腐剤、有効成分などを配合で
きる。これらは、いずれの場合も従来使用されている成
分を常量で用いることができる。
製歯磨、液状歯磨、洗口剤、口中清涼剤としてあるいは
その調製用ベース組成物として適用されるが、その種類
に応じ、その他の成分として各種研磨剤、界面活性剤、
甘味料、香料、着色剤、防腐剤、有効成分などを配合で
きる。これらは、いずれの場合も従来使用されている成
分を常量で用いることができる。
【０００８】研磨剤としては、沈降性シリカ、シリカゲ
ル、アルミノシリケート、ジルコノシリケート等のシリ
カ系研磨剤、第２リン酸カルシウム・２水和物及び無水
物、ピロリン酸カルシウム、炭酸カルシウム、水酸化ア
ルミニウム、アルミナ、炭酸マグネシウム、第３リン酸
マグネシウム、不溶性メタリン酸ナトリウム、不溶性メ
タリン酸カリウム、酸化チタン、ゼオライト、ケイ酸ア
ルミニウム、ケイ酸ジルコニウム、合成樹脂系研磨剤等
が挙げられる。
ル、アルミノシリケート、ジルコノシリケート等のシリ
カ系研磨剤、第２リン酸カルシウム・２水和物及び無水
物、ピロリン酸カルシウム、炭酸カルシウム、水酸化ア
ルミニウム、アルミナ、炭酸マグネシウム、第３リン酸
マグネシウム、不溶性メタリン酸ナトリウム、不溶性メ
タリン酸カリウム、酸化チタン、ゼオライト、ケイ酸ア
ルミニウム、ケイ酸ジルコニウム、合成樹脂系研磨剤等
が挙げられる。
【０００９】粘稠剤としては、グリセリン、ソルビトー
ル、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール等
が挙げられる。
ル、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール等
が挙げられる。
【００１０】粘結剤としては、カラギーナン、ヒドロキ
シエイルセルロースナトリウム、アルギン酸ナトリウ
ム、アルギン酸プロピレングリコールエステル、キサン
タンガム、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸ナトリウ
ム、タラガム、グアガム、ローカストビーンガム、ヒド
ロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、メチルセルロース、ジェランガム、ゼラチン、カー
ドラン、アラビアガム、寒天、ペクチン、ポリビニルア
ルコール、ポリビニルピロリドン、プルラン等が挙げら
れる。
シエイルセルロースナトリウム、アルギン酸ナトリウ
ム、アルギン酸プロピレングリコールエステル、キサン
タンガム、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸ナトリウ
ム、タラガム、グアガム、ローカストビーンガム、ヒド
ロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、メチルセルロース、ジェランガム、ゼラチン、カー
ドラン、アラビアガム、寒天、ペクチン、ポリビニルア
ルコール、ポリビニルピロリドン、プルラン等が挙げら
れる。
【００１１】界面活性剤としては、アニオン性界面活性
剤、カチオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤等を
配合し、具体的にはラウリル硫酸ナトリウム、α−オレ
フィンスルホン酸ナトリウム、Ｎ−アシルグルタメー
ト、２−アルキル−Ｎ−カルボキシメチル−Ｎ−ヒドロ
キシエチルイミダゾリニウムベタイン、Ｎ−アシルタウ
レート、ショ糖脂肪酸エステル、アルキロールアマイ
ド、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリグリセリン
脂肪酸エステル、プルロニック、ポリオキシエチレンソ
ルビタンモノステアレート等が挙げられる。
剤、カチオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤等を
配合し、具体的にはラウリル硫酸ナトリウム、α−オレ
フィンスルホン酸ナトリウム、Ｎ−アシルグルタメー
ト、２−アルキル−Ｎ−カルボキシメチル−Ｎ−ヒドロ
キシエチルイミダゾリニウムベタイン、Ｎ−アシルタウ
レート、ショ糖脂肪酸エステル、アルキロールアマイ
ド、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリグリセリン
脂肪酸エステル、プルロニック、ポリオキシエチレンソ
ルビタンモノステアレート等が挙げられる。
【００１２】甘味剤としては、サッカリンナトリウム、
ステビオサイド、ステビアエキス、パラメトキシシンナ
ミックアルデヒド、ネオヘスペリジルヒドロカルコン、
ペリラルチン等が挙げられる。香料としては１−メント
ール、カルボン、アネトール、リモネン等のテルペン類
又はその誘導体等が挙げられる。着色剤としては、青色
１号、黄色４号、二酸化チタン等が挙げられる。
ステビオサイド、ステビアエキス、パラメトキシシンナ
ミックアルデヒド、ネオヘスペリジルヒドロカルコン、
ペリラルチン等が挙げられる。香料としては１−メント
ール、カルボン、アネトール、リモネン等のテルペン類
又はその誘導体等が挙げられる。着色剤としては、青色
１号、黄色４号、二酸化チタン等が挙げられる。
【００１３】また、有効成分としては、クロルヘキシジ
ン、ベンゼトニウムクロライド、ベンザルコニウムクロ
ライド、セチルピリジニウムクロライド、デカニウムク
ロライドなどの陽イオン性殺菌剤、トリクロサン、ヒノ
キチオール、ビオゾールなどのフェノール性化合物、デ
キストラナーゼ、ムタナーゼ、リゾチームアミラーゼ、
プロテアーゼ、溶菌酵素、スーパーオキシドジスムター
ゼ等の酵素、ビタミンＥ、ビタミンＣ等のビタミン類、
モノフルオロリン酸ナトリウム、モノフルオロリン酸カ
ルムなどのアルカリ金属モノフルオロリン酸塩、フッ化
ナトリウム、フッ化第１スズなどのフッ化物、トラネキ
サム酸、イプシロンアミノカプロン酸、アルミニウムク
ロルヒドロキシアラントイン、ジヒドロコレステロー
ル、グリチルリチン酸、グリチルレチン酸、ビサボロー
ル、グリセロフォスフェート、クロロフィル、塩化ナト
リウム、水溶性無機リン酸化合物などの公知の有効成分
を１種又は２種以上配合しうる。
ン、ベンゼトニウムクロライド、ベンザルコニウムクロ
ライド、セチルピリジニウムクロライド、デカニウムク
ロライドなどの陽イオン性殺菌剤、トリクロサン、ヒノ
キチオール、ビオゾールなどのフェノール性化合物、デ
キストラナーゼ、ムタナーゼ、リゾチームアミラーゼ、
プロテアーゼ、溶菌酵素、スーパーオキシドジスムター
ゼ等の酵素、ビタミンＥ、ビタミンＣ等のビタミン類、
モノフルオロリン酸ナトリウム、モノフルオロリン酸カ
ルムなどのアルカリ金属モノフルオロリン酸塩、フッ化
ナトリウム、フッ化第１スズなどのフッ化物、トラネキ
サム酸、イプシロンアミノカプロン酸、アルミニウムク
ロルヒドロキシアラントイン、ジヒドロコレステロー
ル、グリチルリチン酸、グリチルレチン酸、ビサボロー
ル、グリセロフォスフェート、クロロフィル、塩化ナト
リウム、水溶性無機リン酸化合物などの公知の有効成分
を１種又は２種以上配合しうる。
【００１４】なお、前記成分の配合量は、本発明の効果
を妨げない範囲で通常量とすることができる。
を妨げない範囲で通常量とすることができる。
【００１５】
【発明の効果】本発明の口腔用組成物は、ビニルピロリ
ドンとスチレンの共重合体含有するもので、その歯垢抑
制効果は高く、商品価値の高いものである。
ドンとスチレンの共重合体含有するもので、その歯垢抑
制効果は高く、商品価値の高いものである。
【００１６】
【実施例】以下、実施例を示して本発明を具体的に説明
するが、本発明は以下の実施例に制限されるものではな
い。なお、各例中の％はいずれも重量％を示す。
するが、本発明は以下の実施例に制限されるものではな
い。なお、各例中の％はいずれも重量％を示す。
【００１７】実施例１、比較例１ 表１に示す成分組成（ｗｔ％）の試験歯磨剤を３倍量の
水で分散した液１ｍｌを、１％ショ糖添加ブレーンハー
トインフージョン培地４ｍｌに希釈し、これを試験管に
入れると共に、あらかじめ嫌気培養したストレプトコッ
カス・ミュータンス菌を接種後、傾斜培地で１８時間嫌
気培養し、試験管壁に付着した菌量を測定した。コント
ロールとして歯磨分散液の代わりに水１ｍｌを添加した
培地を用いて同様の実験を行い、そのときの付着菌量
（ＸＯ）Ｔ、試験歯磨を用いたときの付着菌量（ＸＳ）
より、歯垢形成抑制率を次式より求めた。その結果を表
１に示した。
水で分散した液１ｍｌを、１％ショ糖添加ブレーンハー
トインフージョン培地４ｍｌに希釈し、これを試験管に
入れると共に、あらかじめ嫌気培養したストレプトコッ
カス・ミュータンス菌を接種後、傾斜培地で１８時間嫌
気培養し、試験管壁に付着した菌量を測定した。コント
ロールとして歯磨分散液の代わりに水１ｍｌを添加した
培地を用いて同様の実験を行い、そのときの付着菌量
（ＸＯ）Ｔ、試験歯磨を用いたときの付着菌量（ＸＳ）
より、歯垢形成抑制率を次式より求めた。その結果を表
１に示した。
【００１８】
【表１】 これらの結果から、本発明による実施例１が歯垢形成の
抑制に有効であることがわかる。
抑制に有効であることがわかる。
【００１９】実施例２〜９ 表２に示す成分組成（ｗｔ％）の歯磨組成物を調製し
た。歯磨剤の成分組成（ｗｔ％）例を表２及び表３に示
す。
た。歯磨剤の成分組成（ｗｔ％）例を表２及び表３に示
す。
【００２０】
【表２】
【００２１】
【表３】
【００２２】本発明の口腔用組成物の他の実施例につい
て以下に示す。
て以下に示す。
【００２３】 実施例１０ （潤製歯磨） ＡＮＴＡＲＡ ４３０ ０．０５（ｗｔ％） ピロリン酸ナトリウム ３．０ ブチルパラベン ０．０２ 炭酸カルシウム ７０ ソルビトール ２ グリセリン ８ サッカリンナトリウム ０．０８ ラウリル硫酸ナトリウム ２．０ 精製水 残り
【００２４】 実施例１１ （洗口剤） ピロリン酸ナトリウム １．０（ｗｔ％） エタノール ５．０ グリセリン １０．０ サッカリンナトリウム ８．０ ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油 ０．１ 安息香酸ナトリウム ０．３ 香料 ０．５ 精製水 残り
【００２５】 実施例１２ （洗口剤） ＡＮＴＡＲＡ４３０ ２．０（ｗｔ％） 乳酸アルミニウム ０．５ エタノール ５．０ ソルビトール １０．０ サッカリンナトリウム ０．１ プルロニックＦ１２７ ２．０ 安息香酸ナトリウム ０．３ クエン酸ナトリウム ０．５ 香料 ０．４ 精製水 残り
【００２６】 実施例１３ （洗口剤） ＡＮＴＡＲＡ ４３０ １．０（ｗｔ％） アラントイン ０．５ エタノール ８．０ グリセリン １２．０ サッカリンナトリウム ０．１ ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油 １．２ 安息香酸ナトリウム ０．３ 香料 ０．５ 精製水 残り
【００２７】 実施例１４ （口中清涼剤） ＡＮＴＡＲＡ ４３０ ０．８（ｗｔ％） ピロリン酸ナトリウム ２．０ エタノール ３０．０ グリセリン １５．０ サッカリンナトリウム ０．３ ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油 ３．０ 香料 １．０ 精製水 残り
フロントページの続き Ｆターム(参考） 4C083 AB032 AB052 AB172 AB222 AB242 AB292 AB322 AB472 AC102 AC122 AC132 AC302 AC312 AC432 AC482 AC642 AC662 AC682 AC782 AC862 AD021 AD022 AD042 AD052 AD071 AD072 AD272 AD352 AD432 CC41 EE36
Claims (1)
- 【請求項１】 ビニルピロリドンとスチレンとの共重合
体からなる微粒子を含有することを特徴とする口腔用組
成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12705499A JP2000319149A (ja) | 1999-05-07 | 1999-05-07 | 口腔用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12705499A JP2000319149A (ja) | 1999-05-07 | 1999-05-07 | 口腔用組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000319149A true JP2000319149A (ja) | 2000-11-21 |
Family
ID=14950469
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12705499A Pending JP2000319149A (ja) | 1999-05-07 | 1999-05-07 | 口腔用組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000319149A (ja) |
-
1999
- 1999-05-07 JP JP12705499A patent/JP2000319149A/ja active Pending
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