JP2000321759A - ポジ型感光性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ポジ型感光性組成物、特にヒートモード記録
用の平版印刷用材料用の材料を提供する。 【解決手段】 少なくとも、下記一般式（１）で表され
るジアゾ化合物と、水不溶性かつアルカリ水可溶性の高
分子と、を含有するポジ型感光性組成物。 【化１】 〔一般式（１）中、ＺはＰｈ−ＮＨ−Ｚの解離性Ｈのｐ
Ｋａが１４以下となる有機基を示し、Ｑ¹及びＱ²は有機
基を示し、Ｑ¹及びＱ²が連結して脂肪環又は芳香環を形
成してもよい。〕

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、広くは赤外線波長
域に感応性を有するポジ型感光性組成物に関し、特に、
コンピュータ等のデジタル信号から赤外線レーザを用い
て直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能なポジ
型平版印刷用版材やリソグラフィ用フォトレジストに好
適なポジ型感光性組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年におけるレーザの発展は目ざまし
く、特に波長７６０ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を放
射する固体レーザおよび半導体レーザ（以下、「赤外線
レーザ」という場合がある。）は、高出力かつ小型のも
のが容易に入手できるようになった。これらの赤外線レ
ーザは、コンピュータ等のデジタルデータにより直接印
刷版を製版する際の記録光源として非常に有用である。
従って、このような赤外線記録光源に対し、感応性の高
い画像記録材料、特に、ヒートモードレーザ用の画像記
録材料に使用できる材料への要望が近年高まっている。

【０００３】ヒートモードレーザに対応したポジ型画像
記録材料としては、代表的には、特開平７−２８５２７
５号公報に開示されているようなキノンジアジドやジア
ゾニウム塩を用いた記録材料が挙げられる。このポジ型
画像記録材料では、キノンジアジドやジアゾニウム塩、
赤外線吸収剤、及びアルカリ水可溶性高分子の相互作用
による溶解阻止効果を利用し、レーザ露光することによ
りキノンジアジドやジアゾニウム塩を分解し、この相互
作用を破壊し、現像時に露光部をアルカリ水に溶解させ
てポジ型画像を形成している。ここでのキノンジアジド
やジアゾニウム塩の好ましい分解とは、系中の水分と反
応し酸を発生するような分解を意味し、発生した酸が現
像を促進する。しかしながら、ヒートモード露光系で
は、ＵＶ露光系と比べて系中の水分が不足するため、キ
ノンジアジドやジアゾニウム塩から十分な酸を発生させ
ることができない。例えば、露光後数時間放置しておく
と赤外線吸収剤とアルカリ水可溶性高分子との相互作用
が復活し、感度が低下したり、現像ができなくなるとい
う問題を生じていた。

【０００４】以上の通り、従来は、ヒートモードレーザ
に対し高感度で、現像ラチチュードに優れ、保存安定性
が良好なポジ型感光性組成物は得られていなかった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ヒー
トモードレーザに対し高感度で、現像ラチチュードに優
れ、保存安定性が良好であるポジ型感光性組成物を提供
することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、鋭意検討
の結果、上記課題が下記の手段により解決されることを
見出し本発明を完成するに至った。すなわち、本発明の
ポジ型感光性組成物は、少なくとも、下記一般式（１）
で表されるジアゾ化合物と、水不溶性かつアルカリ水可
溶性の高分子と、を含有することを特徴とする。

【０００７】

【化２】

【０００８】〔一般式（１）中、ＺはＰｈ−ＮＨ−Ｚの
解離性ＨのｐＫａが１４以下となる有機基を示し、Ｑ¹
及びＱ²は有機基を示し、Ｑ¹及びＱ²が連結して脂肪環
又は芳香環を形成してもよい。〕

【０００９】ここで、有機基Ｚが−ＳＯ₂Ｒ¹又は−ＣＯ
Ｒ²（Ｒ¹は炭化水素基を表し、Ｒ²は電子吸引性置換基
を有する炭化水素基を表す。）であることが好ましく、
炭化水素基Ｒ²が、ハロゲン原子、置換スルホニル基、
ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基、及びヒドロキシ基
からなる群から選択されるいずれかの電子吸引性置換基
を有することがより好ましい。また、本発明のポジ型感
光性組成物は赤外線吸収剤をさらに含有することが好ま
しい。

【００１０】従来のヒートモードレーザに対応したポジ
型画像記録材料において、露光時に現像性があまり向上
しないのは、材料中に含有されているキノンジアジドや
ジアゾニウム塩が、露光により分解する際に反応性の高
い中間体を生成し、この中間体とバインダーであるアル
カリ水可溶性高分子とが反応し、不溶化するためである
と推測される。

【００１１】例えば、ＵＶ露光によるポジ型画像記録材
料に使用されるナフトキノンジアジドは、露光により分
解する際に反応性の高いケテンを生成する。ＵＶ露光系
では、ケテンは材料中の水分と反応してカルボン酸にな
り不活性化するが、ヒートモード系では高熱になるため
材料中の水分が少なくなり、ケテンは水分子と反応する
ことができず、ケテンとアルカリ水可溶性高分子とが反
応して、アルカリ水可溶性高分子を不溶化してしまうと
考えられている。

【００１２】本発明のポジ型感光性組成物は、酸発生剤
として前記一般式（１）で表されるジアゾ化合物を用い
たことを特徴とするものである。このジアゾ化合物は、
その構造から、露光により分解する際に、アルカリ水可
溶性高分子との反応性の高いケテンを生成することがな
く、水分子と選択的に反応し、露光時に現像を促進する
ものと考えられる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明のポジ型感光性組成
物について詳細に説明する。 ［（Ａ）一般式（１）で表されるジアゾ化合物］本発明
のジアゾ化合物は、下記一般式（１）で表されることを
特徴とする。

【００１４】

【化３】

【００１５】一般式（１）中、Ｚは、Ｐｈ−ＮＨ₂のア
ミノ基を該Ｚで置換した化合物Ｐｈ−ＮＨ−Ｚの解離性
ＨのｐＫａが１４以下となるように選択された有機基を
表す。有機基Ｚは、この条件を満たすものであれば特に
制限はないが、−ＳＯ₂Ｒ¹及び−ＣＯＲ²（Ｒ¹は炭化水
素基を表し、Ｒ²は電子吸引性置換基を有する炭化水素
基を表す。）が特に好ましい。

【００１６】有機基−ＳＯ₂Ｒ¹の炭化水素基Ｒ¹は、置
換基を有していてもよく、不飽和結合を含んでいてもよ
い。このような炭化水素基としては、アルキル基、置換
アルキル基、アリール基、置換アリール基、アルケニル
基、置換アルケニル基、アルキニル基及び置換アルキニ
ル基が挙げられる。

【００１７】アルキル基としては炭素原子数が１から２
０までの直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基をあ
げることができ、その具体例としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、
イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘ
キシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボ
ルニル基をあげることができる。これらの中では、炭素
原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２
までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環
状のアルキル基がより好ましい。

【００１８】置換アルキル基は置換基とアルキレン基と
の結合により構成され、置換基としては、水素を除く一
価の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハ
ロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃ１、−Ｉ）、ヒドロキ
シ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、
アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、
Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、
Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリ
ールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ
基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリール
カルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイ
ルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ
基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ア
シルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミ
ノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、

【００１９】ウレイド基、Ｎ’−アルキルウレイド基、
Ｎ’，Ｎ’−ジアルキルウレイド基、Ｎ’−アリールウ
レイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリールウレイド基、Ｎ’−
アルキル−Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウ
レイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−
Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アリー
ルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アルキル
ウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’
−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−
ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル
−Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−ア
ルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、ア
ルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニル
アミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルア
ミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルア
ミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミ
ノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミ
ノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシ基及びその共
役塩基基（以下、カルボキシラートと称す）、アルコキ
シカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモ
イル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアル
キルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、
Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ
−アリールカルバモイル基、

【００２０】アルキルスルフィニル基、アリールスルフ
ィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）及びその共役塩基基（以
下、スルホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、
アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−
アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスル
フィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、
Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル
−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル
基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキ
ルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、
Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモ
イル基及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルス
ルファモイル基（−ＳＯ₂ＮＨＳＯ₂（ａｌｋｙ１））及
びその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルスルファモ
イル基（−ＳＯ₂ＮＨＳＯ₂（ａｌｌｙ１））及びその共
役塩基基、

【００２１】Ｎ−アルキルスルホニルカルバモイル基、
（−ＣＯＮＨＳＯ₂（ａｌｋｙ１））及びその共役塩基
基、Ｎ−アリールスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮ
ＨＳＯ ₂（ａｌｌｙ１））及びその共役塩基基、アルコ
キシシリル基（−Ｓｉ（Ｏａｌｋｙ１）₃）、アリーロ
キシシリル基（−Ｓｉ（Ｏａｌｌｙ１）₃）、ヒドロキ
シシリル基（−Ｓｉ（ＯＨ）₃）及びその共役塩基基、
ホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（以下、
ホスホナト基と称す）、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ
₃（ａｌｋｙ）₂）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ
₃（ａｒｙ１）₂）、アルキルアリールホスホノ基（−Ｐ
Ｏ₃（ａｌｋｙ１）（ａｒｙ１）、モノアルキルホスホ
ノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙ１））及びその共役塩基基
（以後、アルキルホスホナト基と称す）、モノアリール
ホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｒｙ１））及びその共役塩
基基（以後、アリールホスホナト基と称す）、

【００２２】ホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）及びそ
の共役塩基基（以後、ホスホナトオキシ基と称す）、ジ
アルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｌｋｙ
１）₂）、ジアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａ
ｒｙ１）₂）、アルキルアリールホスホノオキシ基（−
ＯＰＯ₃（ａｌｋｙ１）（ａｒｙ１））、モノアルキル
ホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙ１））及び
その共役塩基基（以後、アルキルホスホナトオキシ基と
称す）、モノアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ
（ａｒｙ１））及びその共役塩基基（以後、アリールホ
スホナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、アリ
ール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。

【００２３】これらの置換基における、アルキル基の具
体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール
基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフ
チル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェ
ノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロ
キシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオ
フェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノ
フェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフ
ェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカ
ルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル
基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェ
ニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、
ホスホナトフェニル基などをあげることができる。ま
た、アルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペ
ニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−
１−エテニル基、等が挙げられ、アルキニル基の例とし
ては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル
基、トリメチルシリルエチニル基、フェニルエチニル基
等が挙げられる。

【００２４】上記置換基の中でも、ハロゲン原子、ニト
ロ基、及び置換カルボニル基等の電子吸引性置換基が好
ましい。

【００２５】アリール基としては１個から３個のベンゼ
ン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和
環が縮合環を形成したものをあげることができ、具体例
としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フ
ェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フ
ルオレニル基、をあげることができ、これらのなかで
は、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。

【００２６】置換アリール基は、置換基がアリール基に
結合したものであり、前述のアリール基の環形成炭素原
子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を
有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては
前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置
換アルキル基における置換基として示したものをあげる
ことができる。これらの、置換アリール基の好ましい具
体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、
メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル
基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル
基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、
メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、フェニ
ルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチル
アミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオ
キシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シ
クロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェ
ニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフ
ェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カ
ルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、
アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシ
カルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−
メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカ
ルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カル
バモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニ
ル）カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スル
ホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エ
チルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルス
ルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフ
ェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スル
ファモイルフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナ
トフェニル基、ジエチルホスホノフェニル基、ジフェニ
ルホスホノフェニル基、メチルホスホノフェニル基、メ
チルホスホナトフェニル基、トリルホスホノフェニル
基、トリルホスホナトフェニル基、アリル基、１−プロ
ペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリルフ
ェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プロ
ピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチ
ニルフェニル基、等をあげることができる。

【００２７】アルケニル基としては、ビニル基、１−プ
ロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロ
ロ−１−エテニル基、等を挙げることができる。置換ア
ルケニル基は、置換基がアルケニル基の水素原子と置き
換わり結合したものであり、この置換基としては、上述
の置換アルキル基における置換基が用いられる。好まし
い置換アルケニル基の例を以下に例示する。

【００２８】

【化４】

【００２９】アルキニル基としては、エチニル基、１−
プロピニル基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチ
ニル基、フェニルエチニル基等を挙げることができる。
置換アルキニル基は、置換基がアルキニル基の水素原子
と置き換わり、結合したものであり、この置換基として
は、上述の置換アルキル基における置換基が用いられ
る。

【００３０】有機基−ＣＯＲ²の電子吸引性置換基を有
する炭化水素基Ｒ²は、置換基を有していてもよく、不
飽和結合を含んでいてもよい。炭化水素基としては、炭
化水素基Ｒ¹と同様のアルキル基、アリール基、アルケ
ニル基、及びアルキニル基が挙げられ、電子吸引性置換
基として、ハロゲン原子、置換スルホニル基、ニトロ
基、シアノ基、アルコキシ基、及びヒドロキシ基を有す
るものが好ましい。

【００３１】一般式（１）中、Ｑ¹及びＱ²は有機基を表
し、Ｑ¹及びＱ²は互いに同一でもよく、異なっていても
よい。また、Ｑ¹及びＱ²が互いに結合して環を形成して
いても良い。有機基Ｑ¹、Ｑ²としては、炭化水素基、ヘ
テロ環基、置換オキシ基、置換チオ基、置換アミノ基、
置換カルボニル基、置換スルフィニル基、置換スルホニ
ル基、置換ホスホノ基、置換ホスホナト基、置換ホスホ
リル基、シアノ基が挙げられる。

【００３２】Ｑ¹及びＱ²を表す炭化水素基は、置換基を
有していてもよく、不飽和結合を含んでいてもよい。Ｑ
¹及びＱ²を表す炭化水素基としては、炭化水素基Ｒ¹と
同様のアルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換
アリール基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキ
ニル基及び置換アルキニル基が挙げられる。

【００３３】ヘテロ環基とは、ヘテロ環上の水素を１つ
除した一価の基及びこの一価の基からさらに水素を１つ
除し、上述の置換アルキル基における置換基が結合して
できた一価の基（置換ヘテロ環基）である。Ｑ¹及びＱ²
を表すヘテロ環としては、下記のヘテロ環基が好まし
い。

【００３４】

【化５】

【００３５】

【化６】

【００３６】Ｑ¹及びＱ²を表す置換オキシ基（Ｒ⁵Ｏ
−）としては、Ｒ⁵が水素を除く一価の非金属原子団で
あるものを用いることができる。好ましい置換オキシ基
としては、アルコシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ
基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイル
オキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ
−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリー
ルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリール
カルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリー
ルスルホキシ基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ
基をあげる事ができる。これらにおけるアルキル基、な
らびにアリール基としては前述のアルキル基、置換アル
キル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示
したものをあげる事ができる。また、アシルオキシ基に
おけるアシル基（Ｒ⁶ＣＯ−）としては、Ｒ⁶が、前述の
アルキル基、置換アルキル基、アリール基ならびに置換
アリール基のものをあげることができる。これらの置換
基の中では、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオ
キシ基、アリールスルホキシ基、がより好ましい。好ま
しい置換オキシ基の具体例としては、メトキシ基、エト
キシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブ
チルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、
ドデシルオキシ基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ
基、フェネチルオキシ基、カルボキシエチルオキシ基、
メトキシカルボニルエチルオキシ基、エトキシカルボニ
ルエチルオキシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシエ
トキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエト
キシエトキシ基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプ
ロピルオキシ基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェ
ノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチ
ルオキシ基、クメニルオキシ基、メトキシフェニルオキ
シ基、エトキシフェニルオキシ基、クロロフェニルオキ
シ基、ブロモフェニルオキシ基、アセチルオキシ基、ベ
ンゾイルオキシ基、ナフチルオキシ基、フェニルスルホ
ニルオキシ基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ等
が挙げられる。

【００３７】Ｑ¹及びＱ²を表す置換チオ基（Ｒ⁷Ｓ−）
としては、Ｒ⁷が水素を除く一価の非金属原子団のもの
を使用できる。好ましい置換チオ基の例としては、アル
キルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリ
ールジチオ基、アシルチオ基をあげることができる。こ
れらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のア
ルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換
アリール基として示したものをあげることができ、アシ
ルチオ基におけるアシル基（Ｒ⁶ＣＯ−）のＲ⁶は前述の
とおりである。これらの中ではアルキルチオ基、ならび
にアリールチオ基がより好ましい。好ましい置換チオ基
の具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、フェ
ニルチオ基、エトキシエチルチオ基、カルボキシエチル
チオ基、メトキシカルボニルチオ基等が挙げられる。

【００３８】Ｑ¹及びＱ²を表す置換アミノ基（Ｒ⁸ＮＨ
−，（Ｒ⁹）（Ｒ¹⁰）Ｎ−）としては、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰
が水素を除く一価の非金属原子団のものを使用できる。
置換アミノ基の好ましい例としては、Ｎ−アルキルアミ
ノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミ
ノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ
−アリールアミノ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルア
シルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド
基、Ｎ’−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキ
ルウレイド基、Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’
−ジアリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリ
ールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリー
ルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド
基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，
Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，
Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−ア
リール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ
−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−
アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−ア
リールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−
Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリ
ール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニル
アミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アル
キル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキ
ル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリー
ル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール
−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基が挙げられる。
これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述の
アルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置
換アリール基として示したものをあげることができ、ア
シルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリ
ールアシルアミノ基におけるアシル基（Ｒ⁶ＣＯ−）の
Ｒ⁶は前述のとおりである。これらの内、より好ましい
ものとしては、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアル
キルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、アシルアミノ
基、が挙げられる。好ましい置換アミノ基の具体例とし
ては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミ
ノ基、モノホリノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、フ
ェニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、アセチルアミノ
基等が挙げられる。

【００３９】Ｑ¹及びＱ²を表す置換カルボニル基（Ｒ¹¹
−ＣＯ−）としては、Ｒ¹¹が一価の非金属原子団のもの
を使用できる。置換カルボニル基の好ましい例として
は、ホルミル基、アシル基、カルボキシ基、アルコキシ
カルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイ
ル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキ
ルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，
Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−ア
リールカルバモイル基が挙げられる。これらにおけるア
ルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換
アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基とし
て示したものをあげることができる。これらの内、より
好ましい置換基としては、ホルミル基、アシル基、カル
ボキシ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカル
ボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、が挙げられ、更により好ましいものと
しては、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル
基ならびにアリーロキシカルボニル基が挙げられる。好
ましい置換基の具体例としては、ホルミル基、アセチル
基、ベンゾイル基、カルボキシ基、メトキシカルボニル
基、アリルオキシカルボニル基、Ｎ−メチルカルバモイ
ル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチル
カルバモイル基、モルホリノカルボニル基等が挙げられ
る。

【００４０】Ｑ¹及びＱ²を表す置換スルフィニル基（Ｒ
¹²−ＳＯ−）としては、Ｒ¹²が一価の非金属原子団のも
のを使用できる。好ましい例としては、アルキニルスル
フィニル基、アリールスルフィニル基、スルフィナモイ
ル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジア
ルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモ
イル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−
アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基が挙げられ
る。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前
述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール
基、置換アリール基として示したものをあげることがで
きる。これらの内、より好ましい例としてはアルキルス
ルフィニル基、アリールスルフィニル基、が挙げられ
る。このような置換スルフィニル基の具体例としては、
ヘキシルスルフィニル基、ベンジルスルフィニル基、ト
リルスルフィニル基等が挙げられる。

【００４１】Ｑ¹及びＱ²を表す置換スルホニル基（Ｒ¹³
−ＳＯ₂−）としては、Ｒ¹³が一価の非金属原子団のも
のを使用できる。より好ましい例としては、アルキルス
ルホニル基、アリールスルホニル基をあげることができ
る。これらにおけるアルキル基、アリール基としては、
前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール
基、置換アリール基として示したものをあげることがで
きる。このような、置換スルホニル基の具体例として
は、ブチルスルホニル基、クロロフェニルスルホニル基
等が挙げられる。

【００４２】置換ホスホノ基とは、ホスホノ基上の水酸
基の一つもしくは二つが他の有機オキソ基によって置換
されたものを意味し、Ｑ¹及びＱ²を表す置換ホスホノ基
の好ましい例としては、前述のジアルキルホスホノ基、
ジアリールホスホノ基、アルキルアリールホスホノ基、
モノアルキルホスホノ基、モノアリールホスホノ基が挙
げられる。これらの中ではジアルキルホスホノ基、なら
びにジアリールホスホノ基がより好ましい。このような
具体例としては、ジエチルホスホノ基、ジブチルホスホ
ノ基、ジフェニルホスホノ基等が挙げられる。

【００４３】置換ホスホナト基とは前述の置換ホスホノ
基の内、水酸基を一つ有機オキソ基に置換したものの共
役塩基陰イオン基であり、具体例としては、前述のモノ
アルキルホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））、モ
ノアリールホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））の共
役塩基をあげることができる。通常は対陽イオンと共に
使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとして
は、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類
（アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、
ヨードニウム類、アジニウム類、等）、ならびに金属イ
オン（Ｎａ⁺、Ｋ⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｎ²⁺等）が挙げられる。

【００４４】Ｑ¹及びＱ²を表す置換ホスホリル基として
は、ジフェニルホスホリル基が挙げられる。

【００４５】以上に例示した置換基の中でも、Ｑ¹及び
Ｑ²を表す有機基としては、炭化水素基、置換カルボニ
ル基、置換ホスホリル基が好ましく、炭化水素基はヘテ
ロ原子を含んでいることが好ましい。

【００４６】また、有機基Ｑ¹及びＱ²が互いに結合して
脂肪族環または芳香族環を形成していることが好まし
く、共役安定化の観点から、ベンゼン環、ナフタレン
環、またはアントラセン環等の芳香環を形成しているこ
とがより好ましい。また、環は更に置換基を有していて
も良く、置換基としては、前述の置換アルキル基上の置
換基として例示したものをあげることができる。また、
環構成炭素の一部が、ヘテロ原子（酸素原子、硫黄原
子、窒素原子等）で置換されていても良い。また更に、
脂肪族環の一部が芳香族環の一部を形成していても良
い。

【００４７】また、有機基Ｑ¹、Ｑ²は、さらに一般式
（１）の残基で置換されていてもよい。

【００４８】一般式（１）で表されるジアゾ化合物の具
体例を以下に示す。

【００４９】

【表１】

【００５０】

【表２】

【００５１】

【表３】

【００５２】

【表４】

【００５３】

【表５】

【００５４】

【表６】

【００５５】

【表７】

【００５６】

【表８】

【００５７】

【表９】

【００５８】

【表１０】

【００５９】

【表１１】

【００６０】

【表１２】

【００６１】

【表１３】

【００６２】

【表１４】

【００６３】

【化７】

【００６４】

【化８】

【００６５】

【化９】

【００６６】

【化１０】

【００６７】

【化１１】

【００６８】これらのジアゾ化合物の一般的な合成を以
下のスキームで示す。

【００６９】

【化１２】 （スキーム１） 対応するアミンのジアゾ化を経由する
方法

【００７０】

【化１３】 （スキーム２） 対応するオキシムのＦｏｒｓｔｅｒ反
応による方法

【００７１】

【化１４】 （スキーム３） 対応するケトンのＢａｍｆｏｒｄ−Ｓ
ｔｅｖｅｎｓ反応による方法

【００７２】この中で最も一般的で汎用性があるのはス
キーム１の方法である。以上の方法は「Ｔｈｅ Ｃｈｅ
ｍｉｓｔｒｙ ｏｆ ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌｇｒｏｕｐ
ｓ−Ｔｈｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ ｄｉａｚｏｎ
ｉｕｍ ａｎｄ ｄｉａｚｏ ｇｒｏｕｐｓ ＰＡＲＴ
１ ａｎｄ ＰＡＲＴ２」ＳＡＵＬＰＡＴＡＩ著、ＪＯ
ＨＮ ＷＩＬＥＹ ＆ ＳＩＮＳ発行１９７８年の専門
書の中の特に１４、１５、１７章に詳細に記載されてい
る。

【００７３】本発明のジアゾ化合物は、特に現像時に平
版中に含有される水分の少ないヒートモード記録用のポ
ジ型平版印刷用材料に適している。

【００７４】［（Ｂ）水不溶性かつアルカリ水可溶性の
高分子］本発明のポジ型感光性組成物では、バインダー
ポリマーとして、（Ｂ）水不溶性かつアルカリ水可溶性
の高分子（アルカリ水可溶性高分子）、即ち、高分子中
の主鎖および／または側鎖に酸性基を含有する単独重合
体、これらの共重合体またはこれらの混合物を用いる。
従って、本発明のポジ型感光性組成物はアルカリ性の現
像液で現像可能なものである。

【００７５】中でも、下記（１）〜（６）に挙げる酸性
基を高分子の主鎖および／または側鎖中に有するもの
が、アルカリ性現像液に対する溶解性の点、溶解抑制能
発現の点で好ましい。 （１）フェノール基（−Ａｒ−ＯＨ） （２）スルホンアミド基（−ＳＯ₂ＮＨ−Ｒ） （３）置換スルホンアミド系酸基（以下、「活性イミド
基」という。）〔−ＳＯ₂ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ₂ＮＨＳＯ
₂Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ₂Ｒ〕 （４）カルボン酸基（−ＣＯ₂Ｈ） （５）スルホン酸基（−ＳＯ₃Ｈ） （６）リン酸基（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）

【００７６】上記（１）〜（６）中、Ａｒは置換基を有
していてもよい２価のアリール連結基を表し、Ｒは、置
換基を有していてもよい炭化水素基を表す。上記（１）
〜（６）より選ばれる酸性基を有するアルカリ水可溶性
高分子の中でも、（１）フェノール基、（２）スルホン
アミド基および（３）活性イミド基を有するアルカリ水
可溶性高分子が好ましく、特に、（１）フェノール基ま
たは（２）スルホンアミド基を有するアルカリ水可溶性
高分子が、アルカリ性現像液に対する溶解性、現像ラチ
チュード、膜強度を十分に確保する点から最も好まし
い。

【００７７】上記（１）〜（６）より選ばれる酸性基を
有するアルカリ水可溶性高分子としては、例えば、以下
のものを挙げることができる。

【００７８】（１）フェノール基を有するアルカリ水可
溶性高分子としては、例えば、フェノールとホルムアル
デヒドとの縮重合体、ｍ−クレゾールとホルムアルデヒ
ドとの縮重合体、ｐ−クレゾールとホルムアルデヒドと
の縮重合体、ｍ−／ｐ−混合クレゾールとホルムアルデ
ヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール（ｍ−、ｐ
−、またはｍ−／ｐ−混合のいずれでもよい）とホルム
アルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹脂、およびピ
ロガロールとアセトンとの縮重合体を挙げることができ
る。さらに、フェノール基を側鎖に有する化合物を共重
合させた共重合体を挙げることもできる。或いは、フェ
ノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重合体
を用いることもできる。フェノール基を有する化合物と
しては、フェノール基を有するアクリルアミド、メタク
リルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ル、またはヒドロキシスチレン等が挙げられる。

【００７９】具体的には、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）
アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アク
リルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）メタクリ
ルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メタクリル
アミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルア
ミド、ｏ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｍ−ヒド
ロキシフェニルアクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニル
アクリレート、ｏ−ヒドロキシフェニルメタクリレー
ト、ｍ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｐ−ヒド
ロキシフェニルメタクリレート、ｏ−ヒドロキシスチレ
ン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレ
ン、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレ
ート、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリ
レート、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルメタク
リレート等が挙げられる。

【００８０】高分子の重量平均分子量は５．０×１０²
〜２．０×１０⁴で、数平均分子量が２．０×１０²〜
１．０×１０⁴のものが、画像形成性の点で好ましい。
また、これらの高分子を単独で用いるのみならず、２種
類以上を組み合わせて使用してもよい。組み合わせる場
合には、米国特許第４１２３２７９号明細書に記載され
ているような、ｔ−ブチルフェノールとホルムアルデヒ
ドとの縮重合体や、オクチルフェノールとホルムアルデ
ヒドとの縮重合体のような、炭素数３〜８のアルキル基
を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドと
の縮重合体を併用してもよい。

【００８１】（２）スルホンアミド基を有するアルカリ
水可溶性高分子としては、例えば、スルホンアミド基を
有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分と
して構成される重合体を挙げることができる。上記のよ
うな化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素
原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和
基と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合物が挙げら
れる。中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニ
ロキシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基
または置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低
分子化合物が好ましく、例えば、下記一般式（２）〜
（６）で示される化合物が挙げられる。

【００８２】

【化１５】

【００８３】〔式中、Ｘ¹、Ｘ²は、それぞれ独立に−Ｏ
−または−ＮＲ²⁷−を表す。Ｒ²¹、Ｒ ²⁴は、それぞれ独
立に水素原子または−ＣＨ₃を表す。Ｒ²²、Ｒ²⁵、
Ｒ²⁹、Ｒ³²及びＲ³⁶は、それぞれ独立に置換基を有して
いてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアル
キレン基、アリーレン基またはアラルキレン基を表す。
Ｒ²³、Ｒ²⁷及びＲ³³は、それぞれ独立に水素原子、置換
基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シ
クロアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表
す。また、Ｒ²⁶、Ｒ³⁷は、それぞれ独立に置換基を有し
ていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアル
キル基、アリール基、アラルキル基を表す。Ｒ²⁸、Ｒ³⁰
及びＲ³⁴は、それぞれ独立に水素原子または−ＣＨ₃を
表す。Ｒ³¹、Ｒ³⁵は、それぞれ独立に単結合、または置
換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレン
基、シクロアルキレン基、アリーレン基またはアラルキ
レン基を表す。Ｙ⁵、Ｙ⁶は、それぞれ独立に単結合、ま
たは−ＣＯ−を表す。〕

【００８４】一般式（２）〜（６）で表される化合物の
うち、本発明のポジ型感光性組成物では、特に、ｍ−ア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、Ｎ−（ｐ−ア
ミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ
−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミド等を好適
に使用することができる。

【００８５】（３）活性イミド基を有するアルカリ水可
溶性高分子としては、例えば、活性イミド基を有する化
合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成
される重合体を挙げることができる。上記のような化合
物としては、下記構造式で表される活性イミド基と、重
合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ１以上有する
化合物を挙げることができる。

【００８６】

【化１６】

【００８７】具体的には、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニ
ル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。

【００８８】（４）カルボン酸基を有するアルカリ水可
溶性高分子としては、例えば、カルボン酸基と、重合可
能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合
物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体
を挙げることができる。

【００８９】（５）スルホン酸基を有するアルカリ可溶
性高分子としては、例えば、スルホン酸基と、重合可能
な不飽和基と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合物
に由来する最小構成単位を主要構成単位とする重合体を
挙げることができる。

【００９０】（６）リン酸基を有するアルカリ水可溶性
高分子としては、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽
和基と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合物に由来
する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げる
ことができる。

【００９１】上記アルカリ水可溶性高分子のうち、特
に、前記フェノール性化合物中の特定の官能基−Ｘ−Ｙ
−Ｚとの間で強い水素結合性の相互作用を得ることがで
きる点から、（１）フェノール性水酸基を有するアルカ
リ水可溶性高分子であることが特に好ましい。

【００９２】本発明のポジ型感光性組成物に用いるアル
カリ水可溶性高分子を構成する、前記（１）〜（６）よ
り選ばれる酸性基を有する最小構成単位は、特に１種類
のみである必要はなく、同一の酸性基を有する最小構成
単位を２種以上、または異なる酸性基を有する最小構成
単位を２種以上共重合させたものを用いることもでき
る。

【００９３】共重合の方法としては、従来知られてい
る、グラフト共重合法、ブロック共重合法、ランダム共
重合法等を用いることができる。前記共重合体は、共重
合させる（１）〜（６）より選ばれる酸性基を有する化
合物が共重合体中に１０モル％以上含まれているものが
好ましく、２０モル％以上含まれているものがより好ま
しい。１０モル％未満であると、十分な現像ラチチュー
ドを向上させることができない傾向がある。

【００９４】本発明では、化合物を共重合して共重合体
を形成する場合、その化合物として、前記（１）〜
（６）の酸性基を含まない他の化合物を用いることもで
きる。（１）〜（６）の酸性基を含まない他の化合物の
例としては、下記（ｍ１）〜（ｍ１２）に挙げる化合物
を挙げることができる。

【００９５】（ｍ１）例えば、２−ヒドロキシエチルア
クリレートまたは２−ヒドロキシエチルメタクリレート
等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、およ
びメタクリル酸エステル類。

【００９６】（ｍ２）アクリル酸メチル、アクリル酸エ
チル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリ
ル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチ
ル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチ
ル、グリシジルアクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチ
ルアクリレート等のアルキルアクリレート。

【００９７】（ｍ３）メタクリル酸メチル、メタクリル
酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチ
ル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタ
クリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタ
クリル酸−２−クロロエチル、グリシジルメタクリレー
ト、Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート等のアル
キルメタクリレート。

【００９８】（ｍ４）アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリ
ルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロ
ヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリ
ルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフ
ェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアク
リルアミド等のアクリルアミドもしくはメタクリルアミ
ド。

【００９９】（ｍ５）エチルビニルエーテル、２−クロ
ロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエー
テル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテ
ル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル
等のビニルエーテル類。

【０１００】（ｍ６）ビニルアセテート、ビニルクロロ
アセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビ
ニルエステル類。

【０１０１】（ｍ７）スチレン、α−メチルスチレン、
メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン
類。

【０１０２】（ｍ８）メチルビニルケトン、エチルビニ
ルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケト
ン等のビニルケトン類。

【０１０３】（ｍ９）エチレン、プロピレン、イソブチ
レン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。

【０１０４】（ｍ１０）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビ
ニルカルバゾール、４−ビニルピリジン、アクリロニト
リル、メタクリロニトリル等。

【０１０５】（ｍ１１）マレイミド、Ｎ−アクリロイル
アクリルアミド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−
プロピオニルメタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベン
ゾイル）メタクリルアミド等の不飽和イミド。

【０１０６】（ｍ１２）アクリル酸、メタクリル酸、無
水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。

【０１０７】本発明のポジ型感光性組成物に用いるアル
カリ水可溶性高分子としては、単独重合体、共重合体に
係わらず、重量平均分子量が１．０×１０³〜２．０×
１０⁵で、数平均分子量が５．０×１０²〜１．０×１０
⁵の範囲にあるものが感度および現像ラチチュードの点
で好ましく。また、多分散度（重量平均分子量／数平均
分子量）が１．１〜１０のものが好ましい。

【０１０８】本発明において共重合体を用いる場合、そ
の主鎖および／または側鎖を構成する、前記（１）〜
（６）より選ばれる酸性基を有する化合物に由来する最
小構成単位と、主鎖の一部および／または側鎖を構成す
る、（１）〜（６）の酸性基を含まない他の最小構成単
位と、の配合重量比は、現像ラチチュードの観点から、
５０：５０〜５：９５の範囲にあるものが好ましく、４
０：６０〜１０：９０の範囲にあるものがより好まし
い。

【０１０９】前記アルカリ水可溶性高分子は、それぞれ
１種類のみを使用してもよいし、２種類以上を組み合わ
せて使用してもよく、ポジ型感光性組成物の全固形分
中、３０〜９９重量％の範囲で用いるのが好ましく、４
０〜９５重量％の範囲で用いるのがより好ましいが、更
には５０〜９０重量％の範囲で用いることが特に好まし
い。

【０１１０】アルカリ水可溶性高分子の上記使用量が３
０重量％未満である場合には、記録層の耐久性が悪化す
る傾向にあり、また、９９重量％を越える場合には、感
度、耐久性が低下する傾向があるため好ましくない。

【０１１１】次に、ノボラック樹脂について説明する。
本発明において、好適に用いられるノボラック樹脂とし
ては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドとの縮重
合体、ｍ−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合
体、ｐ−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、
ｍ−／ｐ−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重
合体、フェノールとクレゾール（ｍ−、ｐ−、またはｍ
−／ｐ−混合のいずれでもよい）とホルムアルデヒドと
の縮重合体等のノボラック樹脂、および、ピロガロール
とアセトンとの縮重合体を挙げることができる。或い
は、フェノール基を側鎖に有するモノマーを共重合させ
た共重合体を用いることもできる。

【０１１２】本発明で使用されるアルカリ水可溶性高分
子の合成の際に用いることができる溶媒としては、例え
ば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロ
ヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノー
ル、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−メト
キシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチル
エーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メト
キシ−２−プロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、トルエン、
酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホ
キシド、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独で又は
２種以上混合して用いることができる。

【０１１３】［（Ｃ）赤外線吸収剤］本発明において、
赤外線吸収剤としては種々の顔料もしくは染料を用いる
ことができる。

【０１１４】顔料としては、市販の顔料及びカラーイン
デックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔
料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」
（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」
（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が
利用できる。顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理
を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワ
ックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる
方法、反応性物質（例えば、シランカップリング剤、エ
ポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を顔料表面に結
合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、
「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技
術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応用
技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されてい
る。顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範囲にある
ことが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲にあるこ
とがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍの範囲に
あることが好ましい。顔料の粒径が０．０１μｍ未満の
ときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点で好まし
くなく、また、１０μｍを越えると感光層の均一性の点
で好ましくない。顔料を分散する方法としては、インク
製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用
できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、
アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミ
ル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミ
ル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が
挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出
版、１９８６年刊）に記載されている。

【０１１５】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、スクワリリウム色素、金属チオレート錯体等
の染料が挙げられる。

【０１１６】本発明において、これらの顔料、もしくは
染料のうち赤外光、もしくは近赤外光を吸収するもの
が、赤外光もしくは近赤外光を発光するレーザでの利用
に適する点で特に好ましい。

【０１１７】そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸
収する顔料としてはカーボンブラックが好適に用いられ
る。また、赤外光、 もしくは近赤外光を吸収する染料と
しては例えば特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９
−８４３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開昭
６０−７８７８７号等に記載されているシアニン染料、
特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９
０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載されている
メチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８
−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭
５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開
昭６０−６３７４４号等に記載されているナフトキノン
染料、特開昭５８−１１２７９２号等に記載されている
スクワリリウム色素、英国特許４３４，８７５号記載の
シアニン染料等を挙げることができる。

【０１１８】また、染料として米国特許第５，１５６，
９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換された
アリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１
４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０
５１号、 同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３
号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同
５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１
４６号記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４
７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平５−１３５１４号、同５−１９７０２号公報に開示さ
れているピリリウム化合物、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１
７８、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１３０、Ｅｐｏｌｉｇｈ
ｔ III−１２５等は特に好ましく用いられる。

【０１１９】また、染料の特に好ましい別の例として、
米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、
（II）として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。

【０１２０】これらの染料又は顔料の感光性組成物全固
形分に対する添加量は、０．０１〜５０重量％が好まし
く、更には０．１〜１０重量％が好ましい。また、染料
の場合、特に好ましくは０．５〜１０重量％であり、顔
料の場合、特に好ましくは１．０〜１０重量％の範囲で
感光性組成物中に添加することができる。顔料又は染料
の添加量が、０．０１重量％未満であると感度が低くな
り、また、５０重量％を越えると印刷時非画像部に汚れ
が発生する。

【０１２１】これらの染料または顔料は、他の成分と同
一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加し
てもよい。また、上記の染料または顔料の中でも、赤外
光、もしくは近赤外光を吸収するものが特に好ましい。
また、染料および顔料は、２種以上併用してもよい。

【０１２２】［その他の成分］本発明のポジ型感光性組
成物には、種々の添加剤を添加することができる。例え
ば、オニウム塩、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホ
ン酸エステル化合物等は熱分解性物質として作用するの
で、このような物質を添加すると、画像部の現像液への
溶解阻止性を向上させることができるので好ましい。

【０１２３】上記オニウム塩としては、ジアゾニウム
塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム
塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩
等を挙げることができる。本発明において用いられるオ
ニウム塩として好適なものとしては、例えば、Ｓ．Ｉ．
Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅ
ｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ
ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８
０）、または、特開平５−１５８２３０号公報に記載の
ジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号、同
４，０６９，０５６号、または特開平３−１４０１４０
号公報に記載のアンモニウム塩、Ｄ．Ｃ．Ｎｅｃｋｅｒ
ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１７，
２４６８（１９８４）、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔ ａｌ，
Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ
ＡＳＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８
８）、米国特許第４，０６９，０５５号、または同４，
０６９，０５６号に記載のホスホニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃ
ｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕ
ｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｃｈｅ
ｍ．＆ Ｅｎｇ．Ｎｅｗｓ，Ｎｏｖ．２８，ｐ３１（１
９８８）、欧州特許第１０４，１４３号、米国特許第３
３９，０４９号、同第４１０，２０１号、特開平２−１
５０８４８号公報、または特開平２−２９６５１４号公
報に記載のヨードニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ
ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｊ．１７，７３（１９
８５）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ．Ｊ．
Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４３，３０５５（１９７８）、
Ｗ．Ｒ．Ｗａｔｔ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，２２，
１７８９（１９８４）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅ
ｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｂｕｌｌ．，１４，２７９
（１９８５）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａ
ｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１４（５），１１
４１（１９８１）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ
ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，２８７７（１９７９）、欧州
特許第３７０，６９３号、同２３３，５６７号、同２９
７，４４３号、同２９７，４４２号、米国特許第４，９
３３，３７７号、同３，９０２，１１４号、同４１０，
２０１号、同３３９，０４９号、同４，７６０，０１３
号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８２７
号、独国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０４，
５８０号、または同３，６０４，５８１号に記載のスル
ホニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，
Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７
（１９７７）、またはＪ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ
ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅ
ｒＣｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記
載のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔ ａｌ，Ｔ
ｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．ＣｕｒｉｎｇＡＳ
ＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記
載のアルソニウム塩等が挙げられる。

【０１２４】上記オニウム塩の対イオンとしては、四フ
ッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタ
レンスルホン酸、５−ニトロ−ｏ−トルエンスルホン
酸、５−スルホサリチル酸、２，５−ジメチルベンゼン
スルホン酸、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホン
酸、２−ニトロベンゼンスルホン酸、３−クロロベンゼ
ンスルホン酸、３−ブロモベンゼンスルホン酸、２−フ
ルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸、１−ナフトール−５−スルホン酸、２−
メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイル−ベンゼン
スルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げるこ
とができる。

【０１２５】これらの中でも、特に、六フッ化リン酸、
トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や２，５−ジメ
チルベンゼンスルホン酸のようなアルキル芳香族スルホ
ン酸が好適である。

【０１２６】オニウム塩の添加量は、好ましくは１〜５
０重量％、更に好ましくは５〜３０重量％、特に好まし
くは１０〜３０重量％である。

【０１２７】また、可視光域に大きな吸収を持つ染料を
画像の着色剤として使用することができる。好適な染料
として、油溶性染料と塩基性染料を挙げることができ
る。具体的には、オイルイエロー＃１０１、オイルイエ
ロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーン
ＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オ
イルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラッ
クＴ−５０５（以上オリエント化学工業（株）製）、ビ
クトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ
４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３
５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５
１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、
メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）、アイゼンスピロン
ブルーＣ−ＲＨ（保土ヶ谷化学（株）製）等、及び特開
昭６２−２９３２４７号に記載されている染料を挙げる
ことができる。これらの染料を添加すると、画像形成後
の画像部と非画像部の区別が明瞭になるため、添加する
方が好ましい。尚、添加量は、感光性組成物全固形分に
対し、０．０１〜１０重量％の範囲が好ましい。

【０１２８】また、更に感度を向上させる目的で、環状
酸無水物類、フェノール類、有機酸類を添加することも
できる。環状酸無水物としては、米国特許第４，１１
５，１２８号明細書に記載されている無水フタル酸、テ
トラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、
３，６−エンドオキシ−Δ⁴−テトラヒドロ無水フタル
酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロ
ル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水
コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。

【０１２９】フェノール類としては、ビスフェノール
Ａ、ｐ−ニトロフェノール、ｐ−エトキシフェノール、
２，４，４′−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，
３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、４−ヒドロキ
シベンゾフェノン、４，４′，４″−トリヒドロキシト
リフェニルメタン、４，４′，３″，４″−テトラヒド
ロキシ−３，５，３′，５′−テトラメチルトリフェニ
ルメタンなどが挙げられる。

【０１３０】有機酸類としては、特開昭６０−８８９４
２号、特開平２−９６７５５号公報などに記載されてい
る、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、
ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカルボン酸類な
どがあり、具体的には、ｐ−トルエンスルホン酸、ドデ
シルベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルフィン酸、
エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン
酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イ
ソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トルイル酸、３，４−ジ
メトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、４−シク
ロヘキセン−１，２−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリ
ン酸、ｎ−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げら
れる。

【０１３１】上記の環状酸無水物、フェノール類および
有機酸類の印刷版材料中に占める割合は、０．０５〜２
０重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１５重量
％、特に好ましくは０．１〜１０重量％である。

【０１３２】また、本発明の感光性組成物には、現像条
件に対する処理の安定性を向上させるため、特開昭６２
−２５１７４０号や特開平３−２０８５１４号に記載さ
れているような非イオン界面活性剤、特開昭５９−１２
１０４４号、特開平４−１３１４９号に記載されている
ような両性界面活性剤を添加することができる。非イオ
ン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステア
レート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリ
オレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエ
チレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。

【０１３３】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエ
チル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、Ｎ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、
商品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等が挙げられ
る。

【０１３４】上記非イオン界面活性剤および両性界面活
性剤の感光性組成物中に占める割合は、０．０５〜１５
重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重量％で
ある。

【０１３５】本発明のポジ型感光性組成物中には、露光
による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、
画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。

【０１３６】焼き出し剤としては、露光による加熱によ
って酸を放出する化合物（光酸放出剤）と塩を形成し得
る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。
具体的には、特開昭５０−３６２０９号、同５３−８１
２８号の各公報に記載されているｏ−ナフトキノンジア
ジド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の
組合せや、特開昭５３−３６２２３号、同５４−７４７
２８号、同６０−３６２６号、同６１−１４３７４８
号、同６１−１５１６４４号および同６３−５８４４０
号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩
形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかる
トリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物
とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に
優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。

【０１３７】また、エポキシ化合物、ビニルエーテル化
合物、特願平７−１８１２０号公報記載のヒドロキシメ
チル基またはアルコキシメチル基を有するフェノール化
合物、および、特願平９−３２８９３７号公報等に記載
のアルカリ溶解抑制作用を有する架橋性化合物等を添加
すると、保存安定性の点で好ましい。

【０１３８】更に、本発明のポジ型感光性組成物中に
は、必要に応じて塗膜に柔軟性等を付与するために可塑
剤を添加することもできる。例えば、ブチルフタリル、
ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル
酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、
フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリ
ブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロ
フルフリル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマ
ーおよびポリマー等を好適に用いることができる。

【０１３９】また、本発明のポジ型感光性組成物中に
は、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば、特開
昭６２−１７０９５０号公報に記載されているようなフ
ッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添
加量は、全感光性組成物の０．０１〜１重量％さらに好
ましくは０．０５〜０．５重量％である。

【０１４０】本発明のポジ型感光性組成物は、以下の感
光性組成物の一般的製造方法により製造することができ
る。

【０１４１】感光性組成物は、通常、上記各成分を溶媒
に溶かして適当な支持体上に塗布することにより製造す
る。ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライ
ド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、
２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プ
ロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳
酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチル
ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−
ブチロラクトン、トルエン、水等を挙げることができる
がこれに限定されるものではない。これらの溶媒は単独
あるいは混合して使用される。溶媒中の上記成分（添加
剤を含む全固形分）の濃度は、好ましくは１〜５０重量
％である。また塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布
量（固形分）は、用途によって異なるが、感光性印刷版
として用いられる場合は、一般的に０．５〜５．０ｇ／
ｍ²が好ましい。

【０１４２】塗布する方法としては種々の方法を用いる
ことができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗
布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げるこ
とができる。塗布量が少なくなるにつれて見かけの感度
は大になるが、感光膜の被膜特性は低下する。この塗布
層は、感光性組成物において感光層となる。

【０１４３】支持体としては、寸度的に安定な板状物で
あり、例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートさ
れた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅
等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロー
ス、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸
セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレ
ン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルア
セタール等）、上記のごとき金属がラミネート、もしく
は蒸着された紙、もしくはプラスチックフィルム等を挙
げることができる。

【０１４４】本発明で使用する支持体としては、ポリエ
ステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中
でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム
板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミ
ニウム板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元
素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネート
もしくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。ア
ルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マ
ンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、
ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量
は高々１０重量％以下である。本発明において特に好適
なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純
粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、
僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発
明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定され
るものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウ
ム板を適宜に利用することができる。

【０１４５】本発明で用いられるアルミニウム板の厚み
はおよそ０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ程度、好ましくは０．
１５ｍｍ〜０．４ｍｍ、特に好ましくは０．２ｍｍ〜
０．３ｍｍである。

【０１４６】アルミニウム板は粗面化して用いるが、粗
面化するに先立ち、所望により表面の圧延油を除去する
ための例えば界面活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水
溶液などによる脱脂処理を行うこともできる。

【０１４７】アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種
々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化す
る方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法および
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いること
ができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸ま
たは硝酸電解液中で交流または直流により行う方法があ
る。また、特開昭５４−６３９０２号公報に開示されて
いるように両者を組み合わせた方法も利用することがで
きる。

【０１４８】このように粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理および中和処
理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高め
るために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽
極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮
膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には
硫酸、リン酸、シュウ酸、クロム酸あるいはそれらの混
酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類
によって適宜決められる。

【０１４９】陽極酸化の処理条件は、用いる電解質によ
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が１〜８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、
電流密度５〜６０Ａ／ｄｍ²、電圧１〜１００Ｖ、電解
時間１０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化
被膜の量は１．０ｇ／ｍ²より少ないと耐刷性が不十分
であったり、感光性組成物の非画像部に傷が付き易くな
って、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる
「傷汚れ」が生じ易くなる。

【０１５０】陽極酸化処理を施された後、アルミニウム
表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用
される親水化処理としては、米国特許第２，７１４，０
６６号、同第３，１８１，４６１号、第３，２８０，７
３４号および第３，９０２，７３４号に開示されている
ようなアルカリ金属シリケート（例えばケイ酸ナトリウ
ム水溶液）法がある。この方法においては、支持体がケ
イ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか、または電解
処理される。他に特公昭３６−２２０６３号公報に開示
されているフッ化ジルコン酸カリウムおよび米国特許第
３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１号、同
第４，６８９，２７２号に開示されているようなポリビ
ニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。

【０１５１】支持体と感光層との間には、必要に応じ
て、下塗層を設けることもできる。下塗層成分としては
種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチ
ルセルロース、デキストリン、アラビアガム、２−アミ
ノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸
類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチ
ルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン
酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジホスホン酸
などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニル
リン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸およびグリセ
ロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェ
ニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホ
スフィン酸およびグリセロホスフィン酸などの有機ホス
フィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、
およびトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ
基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、２種以上
混合して用いてもよい。

【０１５２】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。水またはメタノール、エタノール、メチ
ルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶
剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム
板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水またはメタノー
ル、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤も
しくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させ
た溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸着
させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗層
を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化合
物の０．００５〜１０重量％の濃度の溶液を種々の方法
で塗布できる。また、後者の方法では、溶液の濃度は
０．０１〜２０重量％、好ましくは０．０５〜５重量％
であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましくは２５〜５
０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、好ましくは
２秒〜１分である。これに用いる溶液は、アンモニア、
トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質
や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨ１〜１２の
範囲に調整することもできる。また、感光性組成物の調
子再現性改良のために黄色染料を添加することもでき
る。

【０１５３】有機下塗層の被覆量は、２〜２００ｍｇ／
ｍ²が適当であり、好ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ²であ
る。上記の被覆量が２ｍｇ／ｍ²よりも少ないと十分な
耐刷性能が得られない。また、２００ｍｇ／ｍ²より大
きくても同様である。

【０１５４】製造された感光性組成物は、通常、像露
光、現像処理を施され、画像を形成する。像露光に用い
られる活性光線の光源としては、例えば、水銀灯、メタ
ルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、
カーボンアーク灯等がある。放射線としては、電子線、
Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線などがある。またｇ線、
ｉ線、Ｄｅｅｐ−ＵＶ光、高密度エネルギービーム（レ
ーザービーム）も使用される。レーザービームとしては
ヘリウム・ネオンレーザー、アルゴンレーザー、クリプ
トンレーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、ＫｒＦ
エキシマレーザー、固体レーザー、半導体レーザー等が
挙げられる。本発明においては、近赤外から赤外領域に
発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レ
ーザが特に好ましい。

【０１５５】用いる現像液および補充液としては、従来
より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例え
ば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、第２リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、
同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリ
ウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニ
ウム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ
塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルア
ミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチル
アミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、
ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−
ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールア
ミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールア
ミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エ
チレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用い
られる。これらのアルカリ剤は単独もしくは２種以上を
組み合わせて用いられる。

【０１５６】これらのアルカリ剤の中で特に好ましい現
像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸
塩水溶液である。その理由はケイ酸塩の成分である酸化
珪素ＳｉＯ₂とアルカリ金属酸化物Ｍ₂Ｏ（Ｍはアルカリ
金属を表す。）の比率と濃度によって現像性の調節が可
能となるためであり、例えば、特開昭５４−６２００４
号公報、特公昭５７−７４２７号公報に記載されている
ようなアルカリ金属ケイ酸塩が有効に用いられる。

【０１５７】更に、自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液（補充液）
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量の感光性組成物を処理で
きることが知られている。本発明においてもこの補充方
式が好ましく適用される。現像液および補充液には、現
像性の促進や抑制、現像カスの分散および感光性組成物
の画像部の親インキ性を高める目的で、必要に応じて種
々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面
活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系
および両性界面活性剤が挙げられる。更に現像液および
補充液には必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシ
ン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム
塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡
剤、硬水軟化剤を加えることもできる。

【０１５８】上記現像液および補充液を用いて現像処理
された感光性組成物は水洗水、界面活性剤等を含有する
リンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液
で後処理される。本発明の感光性組成物を印刷版として
使用する場合の後処理としては、これらの処理を種々組
み合わせて用いることができる。

【０１５９】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用
いられている。本発明における感光性組成物も、この自
動現像機にて処理を施すことができるものである。この
自動現像機は一般に現像部と後処理部からなり、印刷版
を搬送する装置と各処理液槽およびスプレー装置からな
り、露光済みの印刷版を水平に搬送しながらポンプで汲
み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像
処理するものである。また、最近は処理液が満たされた
処理液槽中に液中ガイドロールなどによって印刷版を浸
漬搬送させて処理する方法も知られている。このような
自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に
応じて補充液を補充しながら処理することができる。ま
た、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨
て処理方式も適用できる。

【０１６０】画像露光、現像、水洗および／またはリン
スおよび／またはガム引きを施された後、感光性組成物
上に不必要な画像部（例えば、原画フィルムのフィルム
エッジ跡など）がある場合は、その不必要な画像部を消
去する処置をとることもできる。消去方法としては、例
えば、特公平２−１３２９３号公報に記載されているよ
うな消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時
間放置した後に水洗する方法が好ましいが、特開平５９
−１７４８４２号公報に記載されているようなオプティ
カルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照
射したのち現像する方法も利用できる。

【０１６１】以上の処理を施された感光性組成物は、所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができる。耐刷力を向上させる目的で、バーニン
グ処理を施してもよい。感光性組成物をバーニング処理
する場合には、該バーニング処理前に、特公昭６１−２
５１８号、同５５−２８０６２号、特開昭６２−３１８
５９号、同６１−１５９６５５号の各公報に記載されて
いるような整面液で処理することが好ましい。その方法
としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿に
て、感光性組成物上に塗布するか、整面液を満たしたバ
ット中に感光性組成物を浸漬して塗布する方法や、自動
コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した
後にスキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗
布量を均一にするとより好ましい。整面液の塗布量は一
般に０．０３〜０．８ｇ／ｍ²（乾燥重量）が適当であ
る。

【０１６２】整面液が塗布された感光性組成物を乾燥し
た後、バーニングプロセッサー（たとえば富士写真フイ
ルム（株）より販売されているバーニングプロセッサ
ー：「ＢＰ−１３００」）などで高温に加熱してもよ
い。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、１８０〜３００℃の範囲で１
〜２０分の範囲が好ましい。バーニング処理された感光
性組成物は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの
従来より行われている処理を施こすことができるが、水
溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合
には、ガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略する
こともできる。この様な処理によって得られた感光性組
成物はオフセット印刷機等に組込まれ、用紙等の印刷に
用いられる。

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらの実施例には何ら制限されるもの
ではない。

【０１６３】＜合成例１ 化合物Ａ−１の合成＞下記の
合成スキームに従い、化合物Ａ−１を合成した。

【０１６４】

【化１７】

【０１６５】５００ｍｌのナスフラスコに、ｐ−トシル
クロライド（０．１モル）、ピリジン（１００ｍｌ）を
入れ、α−ナフチルアミンＡ−１−ｘ（０．１モル）を
加え撹拌した。α−ナフチルアミンＡ−１−ｘの添加に
より反応混合物は赤色に変化し、添加から３０分後に発
熱が見られた。この反応混合物を放冷すると、結晶が析
出し、反応混合物の色がオレンジ色に変化した。２時間
攪拌した後、反応混合物に水３００ｍｌを加え、攪拌下
でＨＣｌａｑをｐＨ＜５となるまで加えてｐＨ調整を行
い、結晶を十分に析出させた。析出した結晶をろ過によ
り取り出し、ＨＣｌａｑで洗浄後、メタノール５００ｍ
ｌで再結晶して、Ａ−１−ｙが２３ｇ得られた。Ａ−１
−ｙの構造はＮＭＲ等により確認した。

【０１６６】次に、５００ｍｌの三つ口フラスコに、Ａ
−１−ｙ（０．０７モル）、酢酸（１００ｍｌ）を入
れ、７０％ＨＮＯ₃ａｑ（０．０７モル）を滴下する
と、反応混合物が黄色化した。室温で１日放置後、水
（３００ｍｌ）、ＨＣｌ（１０ｍｌ）を加えて撹拌する
と結晶が析出した。析出した結晶を濾取し、得られた粗
結晶を酢酸で再結晶し、さらにメタノールで再結晶化し
て、Ａ−１−ｚが１ｇ得られた。Ａ−１−ｚの構造はＮ
ＭＲ等により確認した。

【０１６７】次に、１００ｍｌの三つ口フラスコに、還
元Ｆｅ（０．０１２モル）、ＮＨ₄Ｃｌ（０．００１モ
ル）、水（０．５ｍｌ）を入れ、９０℃で撹拌した。こ
こへＡ−１−ｚ（０．００２モル）をイソプロピルアル
コール（３０ｍｌ）に溶かしたものを滴下し、２時間撹
拌した後、反応混合物をセライトを使用して濾過した。
得られた濾液にＨＣｌａｑ（２ｍｌ）を加えて減圧下で
濃縮することにより、Ａ−１−αの白色粉末が０．６９
ｇ得られた。Ａ−１−αの構造はＮＭＲ等により確認し
た。

【０１６８】次に、１００ｍｌのビーカーに、Ａ−１−
α（０．００２モル）、メタノール（３０ｍｌ）を入
れ、氷浴下でＮａＮＯ₂（０．００２５モル）を水（３
ｍｌ）に溶解したものを加えると赤色沈殿が生成した
（このときのｐＨは４である）。１時間撹拌後、ＮａＨ
ＣＯ₃ａｑを加えてｐＨを８とすると、黄色沈殿が生成
した。沈殿物をろ過により取り出し、乾燥して、目的物
であるジアゾ化合物Ａ−１が０．６ｇ得られた。ＮＭＲ
等により構造を確認した。ジアゾ化合物Ａ−１の同定デ
ータを以下に記載する。

【０１６９】¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）：
δ２．４０ｐｐｍ（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃）、７．３０ｐｐ
ｍ（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，ＡｒＨ（ｙ））、
７．３３ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ，ＡｒＨ（４））、７．４４
ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ，ＡｒＨ（５））、７．６８ｐｐｍ
（ｍ，３Ｈ，ＡｒＨ（３），ＡｒＨ（６），ＡｒＨ
（７））、７．７８ｐｐｍ（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１１．０Ｈ
ｚ，ＡｒＨ（ｘ）、８．６２ｐｐｍ（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝
８．７Ｈｚ，ＡｒＨ（８））

【０１７０】

【化１８】

【０１７１】ＩＲスペクトル（ＫＢｒ透過法）：ν（Ｃ
＝Ｎ⁺＝Ｎ^-）＝２１２０ｃｍ^-1 ＵＶスペクトル（ＣＨＣl₃溶液）：λｍａｘ＝４２１ｎ
ｍ 融点（分解点）：１５８℃ 化合物Ｐｈ−ＮＨ−Ｚの解離性ＨのｐＫａは、１２〜１
３である。

【０１７２】＜合成例２ 化合物Ａ−１０の合成＞下記
の合成スキームに従い、化合物Ａ−１０を合成した。

【０１７３】

【化１９】

【０１７４】５００ｍｌのナスフラスコに、トリフルオ
ロ酢酸クロライド（０．１モル）、ピリジン（１００ｍ
ｌ）を入れ、α−ナフチルアミンＡ−１−ｘ（０．１モ
ル）を加え撹拌した。２時間攪拌した後、反応混合物に
水３００ｍｌを加え、攪拌下でＨＣｌａｑをｐＨ＜５と
なるまで加えてｐH調整を行い、結晶を十分に析出させ
た。析出した結晶をろ過により取り出し、ＨＣｌａｑで
洗浄後、メタノールで再結晶してＡ−１０−ｘが１７ｇ
得られた。Ａ−１０−ｘの構造はＮＭＲ等により確認し
た。

【０１７５】次に、５００ｍｌの三つ口フラスコに、Ａ
−１０−ｘ（０．０７モル）、酢酸（１００ｍｌ）を入
れ、７０％ＨＮＯ₃ａｑ（０．０７モル）を滴下した。
反応混合物を室温で１日放置後、水（３００ｍｌ）、Ｈ
Ｃｌ（１０ｍｌ）を加えて撹拌すると結晶が析出した。
析出した結晶を濾取し、得られた粗結晶をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２５
／７５）で分離し、減圧下で濃縮することによりＡ−１
０−ｙが５ｇ得られた。Ａ−１０−ｙの構造はＮＭＲ等
により確認した。

【０１７６】次に、３００ｍｌの三つ口フラスコに、還
元Ｆｅ（０．０４モル）、ＮＨ₄Ｃｌ（０．００４モ
ル）、水（２ｍｌ）を入れ、９０℃で撹拌した。ここへ
Ａ−１０−ｙ（０．００８モル）をイソプロピルアルコ
ール（１００ｍｌ）に溶かしたものを滴下し、２時間攪
拌した後、反応混合物をセライトを使用してろ過した。
得られたろ液にＨＣｌａｑ（８ｍｌ）を加えて減圧下で
濃縮することにより、Ａ−１０−ｚの白色粉末が２．１
ｇ得られた。Ａ−１０−ｚの構造はＮＭＲ等により確認
した。

【０１７７】次に、１００ｍｌのビーカーに、Ａ−１０
−ｚ（０．００２モル）、メタノール（３０ｍｌ）を入
れ、氷浴下でＮａＮＯ₂（０．００２５モル）を水（３
ｍｌ）に溶解したものを加えた。１時間撹拌した後、Ｎ
ａＨＣＯ₃ａｑを加えてｐＨを９とすることにより黄色
沈澱が生成した。沈殿物をろ過により取り出し、乾燥し
て、目的物であるジアゾ化合物Ａ−１０が０．５ｇ得ら
れた。化合物Ｐｈ−ＮＨ−Ｚの解離性ＨのｐＫａは、１
３〜１４である。

【０１７８】＜合成例３、化合物Ｂ−１の合成＞下記の
合成スキームに従い、化合物Ｂ−１を合成した。

【０１７９】

【化２０】

【０１８０】５００ｍｌのナスフラスコに、ｐ−トルエ
ンスルホニルクロライド（０．１モル）、ピリジン（１
００ｍｌ）を入れ、β−ナフチルアミンＢ−１−ｘ
（０．１モル）を加え撹拌した。２時間攪拌した後、反
応混合物に水３００ｍｌを加え、攪拌下でＨＣｌａｑを
ｐＨ＜５となるまで加えてｐＨ調整を行い、結晶を十分
に析出させた。析出した結晶をろ過により取り出し、Ｈ
Ｃｌａｑで洗浄した後、メタノールで再結晶して、Ｂ−
１−ｙが１８ｇ得られた。Ｂ−１−ｙの構造はＮＭＲ等
により確認した。

【０１８１】次に、５００ｍｌのビーカーに、Ｂ−１−
ｙ（０．０５モル）、酢酸（１００ｍｌ）を入れ、Ｎａ
ＮＯ₂（０．０６モル）を加えた。３時間撹拌した後、
水３００ｍｌを加えて結晶を析出させた。析出した結晶
をろ過により取り出し、メタノールで再結晶して、Ｂ−
１−ｚが８ｇ得られた。Ｂ−１−ｚの構造はＮＭＲ等に
より確認した。

【０１８２】次に、５００ｍｌのビーカーに、Ｂ−１−
ｚ（０．０２モル）、ＮａＯＨ（０．０４モル）、水
（２００ｍｌ）を入れて撹拌した。反応混合物に、Ｎａ
₂Ｓ₂Ｏ ₄（０．０４モル）を添加し、３時間撹拌した
後、析出した結晶をろ過により取り出した。得られた粗
結晶を水で洗浄後アセトンに溶解し、ＨＣｌａｑ（３ｍ
ｌ）を加えると再び結晶が析出した。さらに酢酸エチル
を加えて、結晶を十分に析出させた。析出した結晶をろ
過により取り出し、酢酸エチルで洗浄して、Ｂ−１−α
が６ｇ得られた。Ｂ−１−αの構造はＮＭＲ等により確
認した。

【０１８３】次に、１００ｍｌのビーカーに、Ｂ−１−
α（０．００２モル）メタノール（３０ｍｌ）を入れ、
氷浴下でＮａＮＯ₂（０．００２５モル）を水（３ｍ
ｌ）に溶解したものを加えた。１時間撹拌した後、Ｎａ
ＨＣＯ₃ａｑを加え、ｐＨを８とすると黄色沈澱が生成
した。沈殿物をろ過により取り出し、乾燥して、目的物
であるＢ−１が０．６ｇ得られた。化合物Ｐｈ−ＮＨ−
Ｚの解離性ＨのｐＫａは、１２〜１３である。

【０１８４】＜合成例４、化合物Ｃ−３の合成＞下記の
合成スキームに従い、化合物Ｃ−３を合成した。

【０１８５】

【化２１】

【０１８６】５００ｍｌのナスフラスコに、ｐ−トルエ
ンスルホニルクロリド（０．１モル）、ピリジン（１０
０ｍｌ）を入れ、Ｃ−３−ｘ（０．１モル）を加え撹拌
した。１日放置後、この反応混合物に水３００ｍｌを加
え、攪拌下でＨＣｌａｑをｐＨ＜５となるまで加えてｐ
Ｈ調整を行い、ＮａＣｌを加えて結晶を十分に析出させ
た。析出した結晶をろ過により取り出し、飽和ＮａＣｌ
水で再結晶化して、Ｃ−３−ｙが２０ｇ得られた。Ｃ−
３−ｙの構造はＮＭＲ等により確認した。

【０１８７】次に、５００ｍｌの三つ口フラスコに、Ｃ
−３−ｙ（０．０５モル）、酢酸（１００ｍｌ）を入
れ、７０％ＨＮＯ₃ａｑ（０．０５モル）を滴下した。
室温で１日放置後、飽和ＮａＣｌ水（３００ｍｌ）を加
えて攪拌すると結晶が析出した。得られた粗結晶を再度
飽和ＮａＣｌ水で再結晶化して、Ｃ−３−ｚが７ｇ得ら
れた。Ｃ−３−ｚの構造はＮＭＲ等により確認した。

【０１８８】次に、３００ｍｌの三つ口フラスコに、還
元Ｆｅ（０．０４モル）、ＮＨ₄Ｃｌ（０．００４モ
ル）、イソプロピルアルコール（１００ｍｌ）を入れ、
９０℃で撹拌した。ここへＣ−３−ｚ（０．００８モ
ル）を水（１０ｍｌ）に溶解したものを少しずつ加え
た。２時間撹拌した後、反応混合物をセライトを使用し
てろ過した。得られたろ液にＨＣｌａｑ（８ｍｌ）を加
えると結晶が析出した。析出した結晶をろ過により取り
出し、Ｃ−３−αが３．５ｇ得られた。Ｃ−３−αの構
造はＮＭＲ等により確認した。

【０１８９】次に、２００ｍｌのビーカーに、Ｃ−３−
α（０．００４モル）、水（３０ｍｌ）を入れ、氷冷下
でＮａＮＯ₂（０．００５モル）を水（６ｍｌ）に溶解
したものを加えた。１時間撹拌した後、ＮａＨＣＯ₃ａ
ｑを加えてｐＨを９とすると、黄色沈澱が生成した。沈
殿物をろ過により取り出し、乾燥して、Ｃ−３−βが
１．０ｇ得られた。Ｃ−３−βの構造はＮＭＲ等により
確認した。

【０１９０】次に、２００ｍｌのナスフラスコに、クロ
ロスルホン酸（０．００５モル）、チオニルクロライド
（０．００２モル）を入れ、氷冷下でＣ−３−β（０．
００２モル）を加えると、ただちに反応し、反応混合物
が溶液化した。１時間撹拌した後、反応混合物を氷水に
投入し、析出した結晶をろ過により取り出し、乾燥して
Ｃ−３−γが０．７ｇ得られた。Ｃ−３−γの構造はＮ
ＭＲ等により確認した。

【０１９１】次に、１００ｍｌのビーカーに、Ｃ−３−
γ（０．００１モル）、アセトン（３０ｍｌ）、ｐ−ク
レゾール（０．００１モル）を入れ、氷冷下でトリエチ
ルアミン（０．００１モル）を加えた。１時間撹拌した
後、反応混合物に水５０ｍｌを加えて、結晶を十分に析
出させた。析出した結晶をろ過により取り出し、乾燥し
て目的物であるＣ−３が０．４ｇ得られた。

【０１９２】明細書中で例示した他の一般式（１）で表
されるジアゾ化合物についても、上記方法と同様の方法
で合成することができる。

【０１９３】＜比較例で使用したジアゾ化合物＞比較例
では、下記のジアゾ化合物を使用した。

【０１９４】

【化２２】

【０１９５】

【化２３】

【０１９６】

【化２４】

【０１９７】

【化２５】

【０１９８】

【化２６】

【０１９９】＜水不溶性かつアルカリ水可溶性の高分子
の合成＞ （共重合体Ｐの合成）攪拌機、冷却管及び滴下ロートを
備えた５００ｍｌ三ツ口フラスコにメタクリル酸３１．
０ｇ（０．３６モル）、クロロギ酸エチル３９．１ｇ
（０．３６モル）及びアセトニトリル２００ｍｌを入
れ、氷水浴で冷却しながら混合物を攪拌した。この混合
物にトリエチルアミン３６．４ｇ（０．３６モル）を約
１時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後、
氷水浴を取り去り、室温下で３０分間混合物を攪拌し
た。

【０２００】この反応混合物に、ｐ−アミノベンゼンス
ルホンアミド５１．７ｇ（０．３０モル）を加え、湯浴
にて７０℃に温めながら混合物を１時間攪拌した。反応
終了後、得られた混合物を水１リットル中にこの水を攪
拌しながら投入し、３０分間得られた混合物を攪拌し
た。この混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水
５００ｍｌを加えてスラリーにした後、このスラリーを
ろ過し、得られた固体を乾燥することによりＮ−（ｐ−
アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミドの白色固
体が得られた（収量４６．９ｇ）。

【０２０１】次に、攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備
えた１００ｍｌ三ツ口フラスコに、Ｎ−（ｐ−アミノス
ルホニルフェニル）メタクリルアミド５．０４ｇ（０．
０２１０モル）、メタクリル酸エチル２．０５ｇ（０．
０１８０モル）、アクリロニトリル１．１１ｇ（０．０
２１モル）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２０ｇを
入れ、湯浴により６５℃に加熱しながら混合物を攪拌し
た。この混合物にラジカル重合開始剤として、２，２’
−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）（商品
名：「Ｖ−６５」、和光純薬（株）製）０．１５ｇを加
え６５℃に保ちながら窒素気流下２時間混合物を攪拌し
た。この反応混合物にさらにＮ−（ｐ−アミノスルホニ
ルフェニル）メタクリルアミド５．０４ｇ、メタクリル
酸エチル２．０５ｇ、アクリロニトリル１．１１ｇ、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２０ｇ及び上記「Ｖ−６
５」０．１５ｇの混合物を２時間かけて滴下ロートによ
り滴下した。滴下終了後、得られた混合物をさらに６５
℃で２時間攪拌した。反応終了後、メタノール４０ｇを
混合物に加え冷却し、得られた混合物を水２リットル中
にこの水を攪拌しながら投入し、３０分間混合物を攪拌
した後、析出物をろ過により取り出して乾燥し、白色固
体の共重合体Ｐ１５ｇを得た。ゲルパーミエーションク
ロマトグラフィーにより、この共重合体Ｐの重量平均分
子量（ポリスチレン標準）を測定したところ、５．３×
１０⁴であった。

【０２０２】（実施例１〜１７及び比較例１〜１５） （１）以下の組成の感光液１を調製した。 ＜感光液１の組成＞ ・下記表１５に示す化合物 ・・・０．２５ｇ ・赤外線吸収剤（ＩＲ−１） ・・・０．２０ｇ ・ｍ，ｐ−クレゾールノボラック ・・・１．０ ｇ （ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量３５００、 未反応クレゾール０．５重量％含有） ・フェノールノボラック（重量平均分子量７０００） ・・・０．３ ｇ ・ビクトリアピュアブルーＢＯＨの対アニオンを ・・・０．０２ｇ １−ナフタレンスルホン酸アニオンにした染料 ・フッ素系界面活性剤 ・・・０．０５ｇ （メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製） ・γ−ブチロラクトン ・・・３．０ ｇ ・メチルエチルケトン ・・・８．０ ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ・・・７．０ ｇ

【０２０３】

【化２７】

【０２０４】

【表１５】

【０２０５】（２）以下の方法により製造された支持体
に、感光液１を塗布量が１．８ｇ／ｍ ²になるよう塗布
し、平版印刷版を得た。これを、実施例１〜１７及び比
較例１〜１５とした。＜支持体の作製＞厚み０．３ｍｍ
のアルミニウム板（材質１０５０）をトリクロロエチレ
ンで洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと４００メッ
シュのパミス−水懸濁液を用いこの表面を砂目立てし、
水でよく洗浄した。このアルミニウム板を４５℃の２５
％水酸化ナトリウム水溶液に９秒間浸漬してエッチング
を行い、水洗後、さらに２０％硝酸に２０秒間浸漬し、
水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約３
ｇ／ｍ²であった。次に、このアルミニウム板を７％硫
酸を電解液として電流密度１５Ａ／ｄｍ²で３ｇ／ｍ²の
直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗、乾燥し、さらに下
記下塗り液を塗布し、塗膜を９０℃で１分間乾燥した。
乾燥後の塗膜の塗布量は１０ｍｇ／ｍ²であった。 ＜下塗り液の組成＞ ・β−アラニン ・・・ ０．５０ｇ ・メタノール ・・・９５ ｇ ・水 ・・・ ５．０ ｇ

【０２０６】（比較例１６）前記感光液１の調製におい
て、ジアゾ化合物を添加しない他は、実施例１と同様に
して平版印刷版を製造し、これを比較例１６とした。

【０２０７】（実施例１８〜２７及び比較例１７〜２
５）下記組成の感光液２を調製した。 ＜感光液２の組成＞ ・下記表１６の化合物 ・・・０．２５ｇ ・赤外線吸収剤（ＩＲ−２） ・・・０．２０ｇ ・上記方法により合成した共重合体Ｐ ・・・０．５ ｇ ・ｍ−クレゾールノボラック（重量平均分子量６０００）・・・０．５ ｇ ・フェノールノボラック（重量平均分子量５０００） ・・・０．１ ｇ ・ビクトリアピュアブルーＢＯＨの対アニオンを ・・・０．０２ｇ １−ナフタレンスルホン酸アニオンにした染料 ・フッ素系界面活性剤 ・・・０．０５ｇ （メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製） ・γ−ブチロラクトン ・・・３．０ ｇ ・メチルエチルケトン ・・・８．０ ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ・・・７．０ ｇ

【０２０８】

【化２８】

【０２０９】

【表１６】

【０２１０】実施例１と同様な方法にて製造された支持
体に、感光液２を塗布量が１．８ｇ／ｍ²になるよう塗
布し、平版印刷版を得た。これを実施例１８〜２７及び
比較例１７〜２５とした。

【０２１１】（比較例２６）前記感光液２の調製におい
て、ジアゾ化合物を添加しない他は、実施例１８と同様
にして平版印刷版を製造し、これを比較例２６とした。

【０２１２】上記のように作製した実施例１〜２７、お
よび比較例１〜２６の各平版印刷版について、下記の基
準に基づき性能評価を行った。

【０２１３】＜感度および現像ラチチュードの評価＞実
施例および比較例の平版印刷版を、波長８４０ｎｍの半
導体レーザ、または波長１０６４ｎｍのＹＡＧレーザを
用いて露光した。どちらのレーザを用いるかについて
は、含まれる赤外線吸収染料の吸収波長に応じて適宜選
択した。露光後、富士写真フイルム（株）製現像液ＤＰ
−４、リンス液ＦＲ−３（１：７）を仕込んだ自動現像
機（「ＰＳプロセッサー９００ＶＲ」，富士写真フイル
ム（株）製）を用いて現像した。現像液ＤＰ−４は、
１：６で希釈したものと１：１２で希釈したものの二水
準を用意した。上記ＤＰ−４の１：６で希釈した現像液
にて得られた非画像部の線幅を測定し、その線幅に相当
するレーザーの照射エネルギーを求め、感度の指標（ｍ
Ｊ／ｃｍ²）とした。この測定値（ｍＪ／ｃｍ²）が小さ
いほど、平版印刷版の感度が高いことを示す。次に、標
準である１：６で希釈した現像液と、より希薄な１：１
２で希釈した現像液にて得られた非画像部の線幅を測定
し、その線幅に相当するレーザーの照射エネルギーを求
め、両者の感度の差を現像ラチチュードの指標とした。
その差が小さいほど現像ラチチュードが良好であり、２
０ｍＪ／ｃｍ²以下であれば、実用可能なレベルであ
る。

【０２１４】＜保存安定性の評価＞実施例の平版印刷版
を温度６０℃、湿度４５％ＲＨの環境下で３日間保存
し、その後、前記と同様の方法でレーザ露光および現像
を行い、同様に感度を求め、前記の結果と比較しその差
を求め、保存安定性の指標とした。感度の変動は、２０
ｍＪ／ｃｍ²以下であれば、保存安定性は良好であり、
実用可能なレベルである。評価結果を、下記表１７、表
１８に示す。

【０２１５】

【表１７】

【０２１６】

【表１８】

【０２１７】上記結果から、実施例１〜２７の平版印刷
版は比較例１〜２６の平版印刷版に比べ、赤外線レーザ
に対する感度が高く、また、前記２水準の現像液を用い
たときのそれぞれの感度の差が格段に小さく、十分に実
用可能な現像ラチチュードを有することが分かる。更
に、実施例１〜２７の平版印刷版は全てにおいて、比較
例１〜２６の平版印刷版に比べ、保存前後における感度
変動が極めて小さく、保存安定性に優れ、十分に実用可
能なレベルを満足している。

【０２１８】（実施例２８〜３２及び比較例２７〜３
２）以下の組成の感光液３を調製した。 ＜感光液３の組成＞ ・下記表１９の化合物 ・・・０．３ ｇ ・ｍ，ｐ−クレゾールノボラック ・・・１．０ ｇ （ｍ／ｐ比＝７／３、重量平均分子量５０００） ・ポリ−ｐ−ヒドロキシスチレン ・・・０．２ ｇ （重量平均分子量２００００） ・ビクトリアピュアブルーＢＯＨの対イオンを ・・・０．０２ｇ １−ナフタレンスルホン酸アニオンにした染料 ・フッ素系界面活性剤 ・・・０．０５ｇ （メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製） ・メタノール ・・・３．０ ｇ ・メチルエチルケトン ・・・８．０ ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ・・・７．０ ｇ

【０２１９】

【表１９】

【０２２０】実施例１と同様な方法にて製造された支持
体に感光液３を塗布量１．８ｇ／ｍ ²になるように塗布
し、実施例２８〜３２及び比較例２７〜３２の平版印刷
版を得た。上記のように作製した実施例２８〜３２及び
比較例２７〜３２の各平版印刷版について、下記の基準
に基づき性能評価を行った。結果を表２０に示す。

【０２２１】＜感度及び乾燥耐性の評価＞各平版印刷版
の感光層上に濃度差０．１５のグレースケールを密着さ
せ、２ｋＷの高圧水銀灯で５０ｃｍの距離から２分間露
光を行った。露光した印刷版を上述のＤＰ−４の１：８
水希釈液に２５℃、３０秒つけて現像した。この時に得
られるグレースケールのクリア段数を読み、感度とし
た。段数が多い程高感度である。また、次に未露光の印
刷版を６０℃で２４時間真空乾燥したものを用意し、上
記と同様に水銀灯で露光し、現像した。この時に得られ
るグレースケールのクリア段数を読み、上記乾燥してい
ないもののクリア段数との差を、乾燥耐性の指標とし
た。この段数の差は１段以下が実用上好ましい。

【０２２２】

【表２０】

【０２２３】表２０の結果より明らかに実施例の平版印
刷版には乾燥状態で特に高感度を維持する能力があるこ
と、換言すれば、水分の乏しいヒートモードによる記録
特性に優れることがわかる。

【０２２４】

【発明の効果】本発明のポジ型感光性組成物は、ヒート
モードレーザに対し高感度で、現像ラチチュードに優
れ、保存安定性が良好である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｌ 101/14 Ｃ０８Ｌ 101/14 Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ 7/032 7/032 Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AA01 AA04 AB03 AD03 BE00 CB14 CB15 CB29 CB52 CC20 2H096 AA07 AA08 BA09 BA16 BA20 EA04 GA08 4J002 BG071 BG121 BN031 BN171 BQ001 CC031 CC041 CC051 DA037 EA067 EE057 EQ006 EQ017 ES006 ES007 ET006 ET007 EV047 EV216 EV246 EV266 FD020 FD137 GH00 GP03 HA05

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも、下記一般式（１）で表され
   るジアゾ化合物と、水不溶性かつアルカリ水可溶性の高
   分子と、を含有するポジ型感光性組成物。 【化１】 〔一般式（１）中、ＺはＰｈ−ＮＨ−Ｚの解離性Ｈのｐ
   Ｋａが１４以下となる有機基を示し、Ｑ¹及びＱ²は有機
   基を示し、Ｑ¹及びＱ²が連結して脂肪環又は芳香環を形
   成してもよい。〕
2. 【請求項２】 前記一般式（１）中の有機基Ｚが、−Ｓ
   Ｏ₂Ｒ¹又は−ＣＯＲ ²（Ｒ¹は炭化水素基を表し、Ｒ²は
   電子吸引性置換基を有する炭化水素基を表す。）である
   請求項１に記載のポジ型感光性組成物。
3. 【請求項３】 前記一般式（１）中の炭化水素基Ｒ
   ²が、ハロゲン原子、置換スルホニル基、ニトロ基、シ
   アノ基、アルコキシ基、及びヒドロキシ基からなる群か
   ら選択されるいずれかの電子吸引性置換基を有する請求
   項２に記載のポジ型感光性組成物。
4. 【請求項４】 赤外線吸収剤をさらに含有する請求項１
   から３までのいずれか１項に記載のポジ型感光性組成
   物。