JP2000323308A - 表面実装型デバイスおよびその実装方法 - Google Patents

表面実装型デバイスおよびその実装方法

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JP2000323308A
JP2000323308A JP11127857A JP12785799A JP2000323308A JP 2000323308 A JP2000323308 A JP 2000323308A JP 11127857 A JP11127857 A JP 11127857A JP 12785799 A JP12785799 A JP 12785799A JP 2000323308 A JP2000323308 A JP 2000323308A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 絶縁ケース内に可溶合金等のデバイス素子を
収容し、裏面に端子部を有する表面実装デバイスを、赤
外線リフロー炉を通して実装しても赤外線照射により内
部のデバイス素子が損傷されない,すなわち実装方法を
限定されない表面実装デバイスを提供する。 【解決手段】 黒系統の色に形成された絶縁基板1の表
面に電極2,3を有し、裏面に前記電極2,3と接続さ
れた端子部4,5を有し、前記電極2,3の内方端間に
またがってデバイス素子として特定温度で溶融する可溶
合金6を接続固着し、この可溶合金6をフラックス7で
被覆し、絶縁基板1の表面側を白系統の色に形成された
絶縁キャップ8で被覆封止した表面実装デバイスおよび
その実装方法。絶縁キャップ8が白系統の色に形成され
ているため、赤外線リフロー炉を通す実装方法を採用し
ても、絶縁キャップの熱吸収が小さく、デバイス素子で
ある可溶合金6が誤溶融しないので、実装方法が限定さ
れない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、表面実装型デバイ
スに関し、より詳細には、絶縁ケース内に加熱により悪
影響を受ける例えば特定温度で溶融する可溶体を含むデ
バイス素子を収容してなる表面実装型デバイスに関す
る。本発明はまた、表面実装型デバイスの実装方法に関
し、より詳細には、絶縁ケース内に加熱により悪影響を
受ける例えば特定温度で溶融する可溶体を含むデバイス
素子を収容してなる表面実装型デバイスをプリント基板
等の取付体へ実装する実装方法に関する。
【0002】
【従来の技術】最近、電子機器の保護および電子機器の
過熱に起因する火災から家財等を保護するために保護素
子が用いられている。この種の保護素子として、特定温
度で溶融する感温材を用いた温度ヒューズがある。この
温度ヒューズには、感温材の種類により大別して、感温
ペレット型のものと、可溶合金型のものとがある。前者
は感温材として、特定温度で溶融する絶縁性化学物質よ
りなる感温ペレットを用い、感温ペレットが所定の形状
を保持していることによって、可動接点が固定接点に押
圧されており、可動接点および固定接点を通して通電
し、感温ペレットの溶融によって、可動接点が固定接点
から離開して、回路を開放するものである。一方、後者
の可溶合金型のものは、感温材として特定温度で溶融す
る可溶合金を用いたもので、可溶合金を通して通電して
おき、可溶合金の溶融によって、回路を開放するもので
ある。また、上記温度ヒューズ以外に、特定温度で溶融
する可溶合金と、この可溶合金を加熱するための抵抗体
とを備え、抵抗体への通電による発熱で可溶合金を強制
的に溶断させることにより回路を開放する複合型の保護
素子がある。これらの保護素子として、リードを備えた
ものが一般的であるが、一方、電子部品の表面実装化が
進んでおり、保護素子としても表面実装型のものが開発
されている。そのような表面実装型保護素子について、
以下、図面を用いて説明する。
【0003】図15は従来の表面実装型保護素子の縦断
面図を示し、図16は表面実装型保護素子の絶縁キャッ
プおよびフラックスを除去して内部構造が見えるように
した平面図である。図15および図16において、71
はアルミナ等のセラミックからなる矩形状の絶縁基板
で、その一方の面の長手方向の両端部に銀ペースト等の
塗布焼付けにより形成した一対の電極72,73を有す
る。前記一対の電極72,73は、絶縁基板71の端面
を通って裏面に形成された一対の端子部74,75に接
続されている。そして、前記表面の電極72,73の内
方端間にまたがって特定温度で溶融する可溶合金76が
接続固着されており、この可溶合金76はフラックス7
7で被覆されている。そして、前記一対の電極72,7
3およびフラックス77は、成型樹脂等よりなる絶縁キ
ャップ78で被覆封止されている。ここで、上記絶縁基
板71は一般に白系統の色であり、一方、絶縁キャップ
8は、一般に黒系統の色に形成されており、表面に白色
インキで型名,定格,製造者標等が捺印表示されてい
る。
【0004】次に、上記保護素子の実装方法例について
説明する。図17には上記の保護素子の実装方法が示さ
れている。すなわち、図17において、79は保護素子
を実装するプリント基板等の取付体で、保護素子の裏面
の端子部74,75を固着するための銅等よりなる端子
部80,81を備えている。なお、図示していないが、
前記保護素子の端子部74,75および/または取付体
79の端子部80,81には、予め半田がめっきその他
の方法で被着されている。そして、保護素子の端子部7
4,75を取付体79の端子部80,81に位置合わせ
して、熱風リフロー炉,N2リフロー炉,VPS(Vapo
r Phase Soldering)炉等に通炉して、端子部74,7
5および/または取付体79の端子部80,81に被着
された半田を、230〜240℃程度で加熱溶融するこ
とにより、保護素子の端子部74,75を取付体79の
端子部80,81に接続固着している。上記各種の実装
方法の内、赤外線リフロー炉は、赤外線による輻射加熱
であるため、温度上昇が速やかで、加熱効率が良い等の
優れた特長があり、電子部品の実装方法として採用され
ることが多い。
【0005】ところが、従来の保護素子は、絶縁キャッ
プ78が、黒系統の色に形成されているため、上記のよ
うな絶縁キャップ78の上方から赤外線82を照射する
赤外線リフロー炉を通して実装すると、絶縁キャップ7
8の赤外線吸収が大きいため、内部の可溶合金76が誤
溶融しやすいという問題点があった。
【0006】そこで、可溶合金76の誤溶融を防止する
ために、可溶合金76の融点を、230〜240℃程度
のリフロー温度に対して300℃以上の高融点にするこ
とが考えられる。しかしながら、そのような方法では、
保護素子としての動作温度そのものが変化するので、所
定の温度で溶断させて電子機器等を保護するという保護
素子本来の機能が損なわれることになり、本末転倒とな
る。また、可溶合金の他に、通電発熱によりこの可溶合
金を強制的に溶断させる抵抗体を設けた複合型の保護素
子において、上記のように可溶合金の融点を高くした場
合は、抵抗体の通電発熱で強制的に可溶合金を溶断させ
るので、可溶合金の融点の変更それ自体は上記温度ヒュ
ーズのような問題は生じないが、抵抗体への通電開始か
ら可溶合金が溶断するまでの時間が長くなり、保護素子
としての機能が低下するという問題点がある。さらに、
可溶合金の溶断までの所要時間を短くするために、抵抗
体の抵抗値を小さくすると、消費電力が増大するという
問題点がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は、内
部に可溶合金等の加熱によって影響を受けるデバイス素
子を有する表面実装デバイスを、赤外線の照射による赤
外線リフロー法によって実装しても内部のデバイス素子
が悪影響を受けない、すなわち実装方法を限定されない
表面実装型デバイスを提供することを目的とする。ま
た、本発明は、内部に可溶合金等の加熱によって影響を
受けるデバイス素子を有する表面実装型デバイスを、赤
外線の照射による赤外線リフロー法によって実装しても
内部のデバイス素子が悪影響を受けない、すなわち実装
方法を限定されない表面実装方法を提供することを目的
とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の表面実装型デバ
イスは、絶縁ケースと、絶縁ケース内に収容されたデバ
イス素子と、絶縁ケースの下面に形成された端子部とを
有する表面実装デバイスにおいて、前記絶縁ケースの上
部の色を白系統にしたことを特徴とする表面実装型デバ
イスである。また、本発明の表面実装型デバイスの実装
方法は、絶縁ケースと、絶縁ケース内に収容されたデバ
イス素子と、絶縁ケースの下面に形成された端子部とを
有する表面実装型デバイスを取付体の端子部に実装する
方法であって、前記表面実装型デバイスにおける下面の
端子部と取付体の端子部との間に半田を介在させて両者
を位置合わせして、赤外線を照射して表面実装すること
を特徴とする表面実装型デバイスの実装方法である。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明の請求項1記載の発明は、
絶縁基板および絶縁キャップよりなる絶縁ケースと、絶
縁ケース内に収容されたデバイス素子と、絶縁ケースの
下面に形成された端子部とを有する表面実装型デバイス
において、前記絶縁キャップの色を白系統にしたことを
特徴とする表面実装型デバイスである。
【0010】本発明の請求項2記載の発明は、前記絶縁
ケース内に収容されたデバイス素子として、特定温度で
溶融する可溶合金を含んでいることを特徴とする請求項
1記載の表面実装型デバイスである。
【0011】本発明の請求項3記載の発明は、前記絶縁
ケース内に収容されたデバイス素子として、特定温度で
溶融する可溶合金および通電による発熱でこの可溶合金
を溶断せしめる抵抗体を含むことを特徴とする請求項1
記載の表面実装型デバイスである。
【0012】本発明の請求項4記載の発明は、前記絶縁
ケース内に収容されたデバイス素子として、特定温度で
溶融する可溶合金および通電による発熱でこの可溶合金
を溶断せしめる複数の抵抗体を含むことを特徴とする請
求項1記載の表面実装型デバイスである。
【0013】本発明の請求項5記載の発明は、前記可溶
合金が、250〜300℃の融点を有するものであるこ
とを特徴とする請求項1ないし4記載の表面実装型デバ
イスである。
【0014】本発明の請求項6記載の発明は、前記絶縁
キャップの色を白系統に、絶縁基板の色を暗色系統にし
たことを特徴とする請求項1ないし5記載の表面実装型
デバイスである。
【0015】本発明の請求項7記載の発明は、前記絶縁
キャップの色が、色立体図における明度が7以上および
/または彩度が0〜2であることを特徴とする請求項1
ないし6記載の表面実装型デバイスである。
【0016】本発明の請求項8記載の発明は、絶縁キャ
ップの色を白系統に形成した絶縁ケースと、絶縁ケース
内に収容されたデバイス素子と、絶縁ケースの下面に形
成された端子部とを有する表面実装型デバイスを取付体
の端子部に実装する方法であって、前記表面実装型デバ
イスにおける下面の端子部と取付体の端子部との間に半
田を介在させて前記両端子部を位置合わせして、赤外線
を照射して表面実装することを特徴とする表面実装型デ
バイスの実装方法である。
【0017】本発明の請求項9記載の発明は、絶縁キャ
ップの色を白系統に形成した絶縁ケースと、絶縁ケース
内に収容されたデバイス素子と、絶縁ケースの下面に形
成された端子部とを有する表面実装型デバイスを取付体
の端子部に実装する方法であって、前記表面実装型デバ
イスにおける下面の端子部および/または取付体の端子
部に半田層を形成し、前記両端子部を位置合わせして、
赤外線を照射して表面実装することを特徴とする表面実
装型デバイスの実装方法である。
【0018】本発明の請求項10記載の発明は、暗色系
統の色に形成された絶縁基板と白系統の色に形成された
絶縁キャップよりなる絶縁ケースと、絶縁ケース内に収
容されたデバイス素子と、絶縁ケースの下面に形成され
た端子部とを有する表面実装型デバイスを取付体の端子
部に実装する方法であって、前記表面実装型デバイスに
おける下面の端子部と取付体の端子部との間に半田を介
在させて前記両端子部を位置合わせして、赤外線リフロ
ー炉で表面実装することを特徴とする表面実装型デバイ
スの実装方法である。
【0019】本発明の請求項11記載の発明は、前記絶
縁キャップの色が、色立体図における明度が7以上およ
び/または彩度が0〜2であることを特徴とする請求項
8ないし10記載の表面実装型デバイスの実装方法であ
る。
【0020】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。図
1は本発明を保護素子において実施した第1実施例の表
面実装型デバイスAの縦断面図を示し、図2は図1の表
面実装型デバイスAにおけるフラックス塗布前,すなわ
ち絶縁キャップおよびフラックスを除去して内部構造が
見えるようにした状態の平面図である。図1および図2
において、1はアルミナ等のセラミックグリーンシート
に黒色の着色フィラーを混入して焼結した黒色のセラミ
ックや黒色の着色フィラー入りポリブチレンテレフタレ
ート(PBT),液晶ポリマー,46ナイロンや66ナ
イロン等の商品名で知られるポリアミド等の成型樹脂よ
りなる矩形状かつ黒色の絶縁基板で、その一方の面の長
手方向の両端部に銀ペーストや銀パラジウムペースト等
の導電材料を塗布焼成して形成した一対の電極2,3を
有する。前記一対の電極2,3は、絶縁基板1の端面を
通って裏面にまで延在して形成されており、裏面に銀ペ
ーストや銀パラジウムペースト等の導電材料を塗布焼成
して形成した一対の端子部4,5に接続されている。こ
の端子部4,5は、導電材料である銀や銀パラジウムの
ままでもよいが、その上に銀層や金層等の半田付け性の
よい導電層を形成してもよい。前記表面の電極2,3の
内方端間にまたがって特定温度,例えば250〜300
℃で溶融する可溶合金6が接続固着されており、この可
溶合金6はフラックス7で被覆されている。そして、前
記一対の電極2,3およびフラックス7は、白色のアル
ミナセラミックまたは白色のポリブチレンテレフタレー
ト(PBT),液晶ポリマー等の成型樹脂よりなる絶縁
キャップ8で被覆封止されている。ここで、絶縁キャッ
プ8は、前述のとおり白色に形成されており、その表面
に黒色系統のインキで型名,定格,製造者標等が捺印表
示されている。
【0021】次に、上記第1実施例の表面実装型デバイ
スAの実装方法例について説明する。図3には上記の表
面実装型デバイスAの実装方法が示されている。すなわ
ち、図3において、9は表面実装型デバイスAを実装す
るプリント基板等の取付体で、表面実装型デバイスAの
裏面の端子部4,5を固着するための銅,ニッケル,
銀,金等の半田付け性のよい導電材料よりなる端子部1
0,11を備えている。そして、表面実装型デバイスA
の端子部4,5を取付体9の端子部10,11に半田を
介在させて位置合わせして、表面実装型デバイスAの上
方から赤外線を照射する設定温度が230〜240℃の
赤外線リフロー炉を通して、端子部4,5および取付体
9の端子部10,11間に介在された半田を加熱溶融す
ることにより、表面実装型デバイスAの端子部4,5を
取付体9の端子部10,11に接続固着する。ここで、
表面実装型デバイスAの端子部4,5と取付体9の端子
部10,11との間に介在させる半田は、表面実装型デ
バイスAおよび取付体9とは別個のものを実装時に介挿
したり、実装の直前に例えば取付体9の端子部10,1
1に半田ペーストを塗布するようにしてもよいが、予め
前記表面実装型デバイスAの端子部4,5および/また
は取付体9の端子部10,11に、半田層をめっきその
他の方法で被着しておくことが望ましい。
【0022】上記本発明の第1実施例の表面実装型デバ
イスAは、絶縁キャップ8を白系統の色に形成したの
で、上記のように絶縁キャップ8の上方から赤外線を照
射する赤外線リフロー炉を通炉する実装方法を採用して
も、絶縁キャップ8の熱吸収が小さいので、内部の可溶
合金6が加熱されて誤溶融することがないという特長が
ある。また、上記実施例のように、絶縁基板1を黒系統
の色に形成しておくと、この絶縁基板1の熱吸収が大き
くなり、表面実装型デバイスAの裏面に形成された端子
部4,5および/または取付体9の端子部10,11に
予備被着された半田層が効果的に加熱されて、短時間で
実装できるので、それだけ絶縁キャップ8を通して可溶
合金6が加熱されることによる誤溶融が小さくなるとい
う特長もある。
【0023】次に、本発明を、可溶合金とこの可溶合金
を通電発熱により強制的に溶断させる抵抗体とを備えた
複合型の保護素子に適用した第2実施例である表面実装
型デバイスBについて説明する。図4は表面実装デバイ
スBの長手方向の中心軸に沿う縦断面図で、図5は短手
方向の中心軸に沿う縦断面図である。図6ないし図11
は、本第2実施例の表面実装型デバイスBの製造工程に
沿った絶縁基板等の平面図または下面図である。図12
は絶縁キャップの下面図である。
【0024】以下、図4ないし図12を参照して、説明
する。まず、21はアルミナセラミック等のグリーンシ
ートに黒系統の着色用フィラーを混入して焼結した黒系
統の色彩の絶縁基板で、図6に示すように、長手方向の
中央両側部に凸部22,23を有するとともに、長手方
向の両端の両側部に凸部24,25,26,27を有
し、前記凸部22,24間に凹部28を、凸部23,2
5間に凹部29を、凸部22,26間に凹部30を、凸
部23,27間に凹部31を有する。
【0025】図7に示すように、この絶縁基板21の表
面の前記各凸部22ないし27およびその近傍部分に
は、銀ペーストや銀−パラジウムペースト等の導電材料
を塗布焼成して形成した電極32ないし37を有する。
また、前記電極34,35間には、両者間を接続する
「T字形」の接続導体38が形成されるとともに、電極
36,37間には、両者間を接続する「T字形」の接続
導体39が形成されている。さらに、前記両「T字形」
の接続導体38,39間には、両接続導体38,39と
離間して、「I字形」の中継導体40が形成されてい
る。前記各接続導体38,39および中継導体40は、
前記各電極32ないし37と同一の導電材料を用いて、
かつ同時に塗布焼成して形成されている。
【0026】図8に示すように、絶縁基板21の裏面の
前記各凸部22ないし27およびその近傍部には、銀ペ
ーストや銀−パラジウムペースト等の導電材料を塗布焼
成して形成された端子部41ないし46を有する。これ
らの端子部41ないし46は、図5からも明らかなよう
に、絶縁基板21の各凸部22ないし27の端面を通っ
て、前記表面の各電極32ないし37と接続されてい
る。すなわち、端子部41は電極32と、端子部42は
電極33と、端子部43は電極34と、端子部44は電
極35と、端子部45は電極36と、端子部46は電極
37と、それぞれ接続されている。前記端子部43,4
4間には、両者間を接続する「I字形」の接続導体47
が形成されるとともに、端子部45,46間には、両者
間を接続する「I字形」の接続導体48が形成されてい
る。さらに、前記両「I字形」の接続導体47,48間
には、両接続導体47,48を接続する「I字形」の接
続導体49が形成されている。前記各接続導体47,4
8,49は、前記各電極41ないし46と同一の導電材
料を用いて、かつ同時に塗布焼成して形成されている。
【0027】図9に示すように、前記絶縁基板21の表
面の接続導体38と40間および接続導体40と接続導
体39間には、それぞれ例えばガラスペースト中に酸化
ルテニウム等の抵抗体微粒子を混入させた抵抗ペースト
を塗布焼成してなる抵抗体50および51が形成されて
いる。なお、この図9には参考的に、図4に示す縦断面
図の切断位置である絶縁基板21の長手方向の中心軸X
およびその断面を見る矢視方向A−Aと、図5に示す縦
断面図の切断位置である絶縁基板21の短手方向の中心
軸Yおよびその断面を見る矢視方向B−Bとが併示され
ている。
【0028】また、図10に示すように、絶縁基板21
の裏面の接続導体47,48および49を被覆するよう
に、ガラスペースト等の塗布焼成による絶縁層52が形
成されている。この絶縁層52は、前記各接続導体4
7,48および49が、取付体9の他の端子部や配線
層、または搭載部品等と短絡や絶縁耐圧不良を生じるの
を防止するためのものである。もし、必要ならば、絶縁
層52の上に黒色のエポキシ樹脂等の絶縁層を積層形成
してもよい。この黒色の絶縁層は、透明な絶縁層52を
介して内部の接続導体47ないし49が見えることによ
る商品価値の低下を防ぐ。
【0029】さらに、図11に示すように、絶縁基板2
1の裏面の前記各端子部41ないし46の上(下面)に
は、後述する取付体の端子部への表面実装のために、半
田層54ないし59が被着されている。この半田層54
ないし59の下面は、図4および図5から明らかなよう
に、接続導体49を被覆する絶縁層52の下面よりも突
出している。なお、前記表面実装のための半田層は、表
面実装型デバイスBの端子部41ないし46に形成する
場合のみならず、取付体の端子部に形成してもよいし、
表面実装型デバイスBの端子部41ないし46および取
付体の端子部の両方に形成してもよい。あるいは実装直
前に、取付体の端子部に半田ペーストを塗布するように
してもよい。
【0030】さらにまた、前記図9に示すように、絶縁
基板21の表面の電極32,33間には、特定温度で溶
融する可溶合金53が接続固着されており、この可溶合
金53は図4および図5から明らかなように、フラック
ス60によって被覆されている。
【0031】また、前記絶縁基板21の表面側は、白系
統の色のアルミナセラミックまたはポリブチルテレフタ
レート(PBT),液晶ポリマ等の白系統の樹脂よりな
る絶縁キャップ61が被せられて、接着剤62により絶
縁基板21に固着封止されている。この絶縁キャップ6
1は、図12に示すように、周囲に垂設された壁部61
aを有するとともに、電極32,33に対応する個所に
凹部61b,61bを有する。これらの凹部61b,6
1bは、前述した可溶合金53およびその上に被着され
たフラックス60を受け入れるためのものである。
【0032】上記の本発明の第2実施例の表面実装型デ
バイスBにおいても、絶縁基板21が暗色系統の色(黒
色)に形成されるとともに、絶縁キャップ61が白系統
の色(白色)に形成されているので、前記同様に、表面
実装時に赤外線リフロー炉を通して実装しても、絶縁キ
ャップ61の熱吸収が小さく、絶縁基板21の熱吸収が
大きいので、内部の可溶合金53が誤溶融することな
く、表面実装を行うことができ、すなわち、実装方法が
限定されなくなるという特長がある。なお、前述したよ
うに、絶縁基板21の裏面に形成した接続導体47ない
し49を被覆する絶縁層52の上に黒色のエポキシ樹脂
等よりなる絶縁層を被覆形成した場合は、この黒色絶縁
層の熱吸収により、さらに短時間で表面実装を行うこと
ができるという特長がある。
【0033】なお、上記第2実施例に示したように、絶
縁基板21に凸部22ないし27を設けて、各凸部22
ないし27に電極32ないし37および端子部41ない
し46を形成すれば、隣接する電極間および/または端
子部間が凹部28ないし31によって区画されるため、
隣接する電極同士および/または端子部同士が短絡する
ことが確実に防止できるという特長もある。
【0034】図13は、上記第2実施例の表面実装デバ
イスBの等価回路図を示す。すなわち、上記第2実施例
の表面実装型デバイスBにおいては、絶縁基板21の長
手方向の中央の表面の電極32,33は、それぞれ裏面
の端子部41,42と接続されており同電位である。そ
のため、図13においては、32(41),33(4
2)のように表記している。また、絶縁基板21の長手
方向の一方端の電極34,35は、それぞれ裏面の端子
部43,44と接続されており、34(43),35
(44)のように表記している。さらに、絶縁基板21
の長手方向の他方端の電極36,37は、それぞれ裏面
の端子部45,46と接続されており、36(45),
37(46)のように表記している。そして、前記絶縁
基板21の長手方向の中央部の電極32,33間には、
図9に示すように、可溶合金53が接続されているが、
この可溶合金53の長手方向の中央部の下には、「I字
形」の中継導体40が横切っているため、図13に示す
ように、電極32(41)と33(42)間には2つの
温度ヒューズTF1,TF2が直列に接続されているこ
とになる。また、図9に示すように、電極34,35と
接続された「T字形」の接続導体38と前記「I字形」
の中継導体40との間に抵抗体50が形成されているた
め、前記電極34(43),35(44)と前記直列接
続された2つの温度ヒューズTF1,TF2の接続点a
との間に、抵抗R50が接続されている。同様に、図9
に示すように、電極36,37と接続された「T字形」
の接続導体39と前記「I字形」の中継導体40との間
に抵抗体51が形成されているため、前記電極36(4
5),37(46)と前記直列接続された2つの温度ヒ
ューズTF1,TF2の接続点aとの間に、抵抗R51
が接続されている。さらに、図8,10,11に示すよ
うに、前記絶縁基板21の長手方向の一方端の電極34
(43),35(44)と他方端の電極36(45),
37(46)とは、接続導体47,48,49によって
接続されているため、図13に示すように、電極34
(43),35(44)と36(45),37(46)
とは短絡線63によって短絡されている。
【0035】図14は、前記の図13の等価回路図をさ
らに簡易化した等価回路図である。すなわち、前述のと
おり、絶縁基板21の長手方向の両端の電極34(4
3),35(44),36(45),37(46)はす
べて接続されているので、簡単化のために裏面の端子部
41ないし46を基準に表記すると、端子部41,42
間には2つの温度ヒューズTF1,TF2が直列接続さ
れており、これら2つの温度ヒューズTF1,TF2の
接続点aと端子部43(45),44(46)との間に
は、前記2つの抵抗R50,R51が並列接続されてい
ることになる。今、これら2つの抵抗R50,R51の
抵抗値をそれぞれR50,R51とすると、並列等価抵
抗Rの抵抗値R0は、次式で表わせる。 R0=(R50・R51)/(R50+R51)
【0036】上記図14の等価回路図から明らかなよう
に、本発明の第二の実施例の表面実装型デバイスBは、
2つの温度ヒューズTF1,TF2と、1つの等価抵抗
Rとを有するものである。そして、絶縁基板21の長手
方向に対して方向性がないばかりか、絶縁基板21の短
手方向に対しても方向性がないものである。このため、
この表面実装型デバイスBの実装に際して、方向性を全
く考慮する必要がなく、任意の方向で組み付けが可能に
なるという特長がある。
【0037】次に、上記第2実施例の表面実装型デバイ
スBの使用方法例について説明する。上記の表面実装型
デバイスBにおいて、可溶合金53(すなわち、2つの
温度ヒューズTF1,TF2)を端子部41,42を利
用して、電子機器(図示省略)等に接続して、通電する
ようにしておく。また、抵抗体50,51(すなわち、
等価抵抗R)を端子部43(45)または44(46)
を利用して、例えば、温度,電圧,電流等の検知素子の
検知動作によって導通状態となるスイッチング素子(図
示省略)を介して電源に接続しておく。すると、検知対
象の温度,電圧,電流等が予め設定された正常範囲内で
あれば、検知素子が検知動作することなく、したがっ
て、スイッチング素子が非導通状態のままであるため、
抵抗体50,51(等価抵抗R)に通電されることがな
く、したがって、可溶合金53は加熱されないので、可
溶合金53(すなわち温度ヒューズTF1,TF2)を
介して電子機器に継続して通電される。しかしながら、
検知対象の温度,電圧,電流等が予め設定された正常範
囲を超える異常状態になると、検知素子がそれを検知し
て、スイッチング素子を導通状態にし、抵抗体50,5
1(等価抵抗R)に通電を開始する。この抵抗体50,
51への通電によって、抵抗体50,51が発熱を開始
し、その発生熱は、絶縁基板21および/または棒状の
接続導体40を伝導して可溶合金53に伝わり、可溶合
金53が溶断するため、電子機器への通電が遮断され
る。ここで、図9に示すように、2つの抵抗体50,5
1の間に可溶合金53を位置させておくと、抵抗体5
0,51に通電開始されることにより、可溶合金53が
両側の抵抗体50,51から加熱されるため、可溶合金
53が短時間で溶断するのみならず、表面実装型デバイ
スBの取付け方向に係わらず、抵抗体50,51のいず
れかによって可溶合金53が確実に溶断するため、異常
時の保護機能が向上するという特長がある。
【0038】なお、上記第1,第2実施例は、特定の構
造の保護素子に本発明を実施した場合について説明した
が、本発明の精神を逸脱しない範囲で各種の変形が可能
であることはいうまでもない。
【0039】例えば、上記各実施例では、いずれも絶縁
キャップ8,61を白系統の色に形成するとともに、絶
縁基板1,21を黒系統の色に形成する場合について説
明したが、絶縁基板1,21は他の系統の色でもよい。
【0040】また、本発明において、白系統の色とは、
白色が最も好ましいものではあるが、厳密な白色のみを
いうのではなく、クリーム色や黄色等の赤外線の吸収の
小さい色も含むものである。このような材質としては、
例えば自然色として黄色を呈する液晶ポリマー等が使用
できる。なお、本発明における白系統の色とは、例えば
色立体図における明度,彩度でいえば、ぞれぞれ明度が
7以上程度および/または彩度が0〜2程度の範囲をい
う。
【0041】さらに、本発明において、暗色系統の色と
は、厳密な黒色のみをいうのではなく、灰色等の黒系統
や、濃緑,濃紺等の赤外線の吸収の大きい濃色をも含む
ものである。なお、本発明における暗色系統の色とは、
例えば色立体図における明度,彩度でいえば、ぞれぞれ
明度が1〜5程度または彩度が0以上の範囲をいう。
【0042】
【発明の効果】本発明は以上のように、絶縁基板および
絶縁キャップよりなる絶縁ケースと、絶縁ケース内に収
容されたデバイス素子と、絶縁ケースの下面に形成され
た端子部とを有する表面実装型デバイスにおいて、前記
絶縁キャップの色を白系統にしたことを特徴とする表面
実装型デバイスであるから、表面実装デバイスの上方か
ら赤外線を照射する赤外線リフロー炉を通す実装方法を
採用しても、絶縁キャップを通して内部に吸収される熱
量が少ないので、内部に収容されたデバイス素子が熱に
より悪影響を受けることがなくなり、実装方法を限定さ
れない表面実装型デバイス提供できる。本発明はまた、
絶縁キャップの色を白系統に形成した絶縁ケースと、絶
縁ケース内に収容されたデバイス素子と、絶縁ケースの
下面に形成された端子部とを有する表面実装型デバイス
における下面の端子部および/または表面実装型デバイ
スを組み付ける取付体の端子部に半田層を形成し、前記
両端子部を位置合わせして、赤外線を照射して表面実装
することを特徴とする表面実装型デバイスの実装方法で
あるから、赤外線を照射しても、絶縁キャップを通して
内部のデバイス素子が受ける熱量が少ないので、デバイ
ス素子が赤外線照射により悪影響を受けることがなくな
り、従来採用できなかった赤外線照射による表面実装を
可能にする表面実装デバイスの実装方法が提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1実施例の表面実装デバイスAの
縦断面図
【図2】 本発明の第1実施例の表面実装デバイスAに
おけるフラックス塗布前,すなわち絶縁キャップおよび
フラックスを除去して内部構造が見えるようにした状態
の平面図
【図3】 本発明の第1一実施例の表面実装デバイスA
の実装方法について説明する正面図
【図4】 本発明の第2実施例の表面実装デバイスBの
長手方向の中心軸に沿う縦断面図
【図5】 本発明の第2実施例の表面実装デバイスBの
短手方向の中心軸に沿う縦断面図
【図6】 本発明の第2実施例の表面実装デバイスBの
絶縁基板の平面図
【図7】 本発明の第2実施例の表面実装デバイスBの
絶縁基板の表面に電極および接続導体を形成した平面図
【図8】 本発明の第2実施例の表面実装デバイスBの
絶縁基板の裏面に端子部および接続導体を形成した下面
図
【図9】 本発明の第2実施例の表面実装デバイスBの
絶縁基板の表面に形成した電極および接続導体上に抵抗
体および可溶合金を形成した平面図
【図10】 本発明の第2実施例の表面実装デバイスB
の絶縁基板の裏面に形成した接続導体の上に絶縁層を形
成した下面図
【図11】 本発明の第2実施例の表面実装デバイスB
の絶縁基板の裏面に形成した端子部の上に半田層を形成
した下面図
【図12】 本発明の第2実施例の表面実装デバイスB
の絶縁キャップの下面図
【図13】 本発明の第2実施例の表面実装デバイスB
の等価回路図
【図14】 本発明の第2実施例の表面実装デバイスB
のさらに簡略化した等価回路図
【図15】 従来の表面実装型保護素子の長手方向の中
心軸に沿う縦断面図
【図16】 従来の表面実装型保護素子の絶縁キャップ
およびフラックスを除去した平面図
【図17】 従来の表面実装型保護素子の実装方法につ
いて説明するための正面図
【符号の説明】
1、21 絶縁基板 2、3、32,33,34,35,36、37 表面の
電極 4、5,41,42,43,44,45,46 裏面の
端子部 6、53 可溶合金 7、60 フラックス 8、61 絶縁キャップ 9 取付体 10、11 取付体の端子部 38、39 表面の接続導体 40 表面の中継導体 47、48,49 裏面の接続導体 50、51 抵抗体 52 絶縁層 54、55,56,57,58,59 半田層 62 接着剤 TF1,TF2 温度ヒューズ R50,R51 等価抵抗(値)

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】絶縁基板および絶縁キャップよりなる絶縁
    ケースと、絶縁ケース内に収容されたデバイス素子と、
    絶縁ケースの下面に形成された端子部とを有する表面実
    装型デバイスにおいて、前記絶縁キャップの色を白系統
    にしたことを特徴とする表面実装型デバイス。
  2. 【請求項2】前記絶縁ケース内に収容されたデバイス素
    子として、特定温度で溶融する可溶合金を含んでいるこ
    とを特徴とする請求項1記載の表面実装型デバイス。
  3. 【請求項3】前記絶縁ケース内に収容されたデバイス素
    子として、特定温度で溶融する可溶合金および通電によ
    る発熱でこの可溶合金を強制的に溶断せしめる抵抗体を
    含むことを特徴とする請求項1記載の表面実装型デバイ
    ス。
  4. 【請求項4】前記絶縁ケース内に収容されたデバイス素
    子として、特定温度で溶融する可溶合金および通電によ
    る発熱でこの可溶合金を強制的に溶断せしめる複数の抵
    抗体を含むことを特徴とする請求項1記載の表面実装型
    デバイス。
  5. 【請求項5】前記可溶合金が、250〜300℃の融点
    を有するものであることを特徴とする請求項1ないし4
    記載の表面実装型デバイス。
  6. 【請求項6】前記絶縁キャップの色を白系統に、絶縁基
    板の色を暗色系統にしたことを特徴とする請求項1ない
    し5記載の表面実装型デバイス。
  7. 【請求項7】前記絶縁キャップの色が、色立体図におけ
    る明度が7以上および/または彩度が0〜2であること
    を特徴とする請求項1ないし6記載の表面実装型デバイ
    ス。
  8. 【請求項8】絶縁キャップの色を白系統に形成した絶縁
    ケースと、絶縁ケース内に収容されたデバイス素子と、
    絶縁ケースの下面に形成された端子部とを有する表面実
    装型デバイスを取付体の端子部に実装する方法であっ
    て、前記表面実装型デバイスにおける下面の端子部と取
    付体の端子部との間に半田を介在させて前記両端子部を
    位置合わせして、赤外線を照射して表面実装することを
    特徴とする表面実装型デバイスの実装方法。
  9. 【請求項9】絶縁キャップの色を白系統に形成した絶縁
    ケースと、絶縁ケース内に収容されたデバイス素子と、
    絶縁ケースの下面に形成された端子部とを有する表面実
    装型デバイスを取付体の端子部に実装する方法であっ
    て、前記表面実装型デバイスにおける下面の端子部およ
    び/または取付体の端子部に半田層を形成し、前記両端
    子部を位置合わせして、赤外線を照射して表面実装する
    ことを特徴とする表面実装型デバイスの実装方法。
  10. 【請求項10】暗色系統の色に形成された絶縁基板と白
    系統の色に形成された絶縁キャップよりなる絶縁ケース
    と、絶縁ケース内に収容されたデバイス素子と、絶縁ケ
    ースの下面に形成された端子部とを有する表面実装型デ
    バイスを取付体の端子部に実装する方法であって、前記
    表面実装型デバイスにおける下面の端子部と取付体の端
    子部との間に半田を介在させて前記両端子部を位置合わ
    せして、赤外線リフロー炉で表面実装することを特徴と
    する表面実装型デバイスの実装方法。
  11. 【請求項11】前記絶縁キャップの色が、色立体図にお
    ける明度が7以上および/または彩度が0〜2であるこ
    とを特徴とする請求項8ないし10記載の表面実装型デ
    バイスの実装方法。
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