JP2000328238A - 電子ビーム蒸発装置 - Google Patents
電子ビーム蒸発装置Info
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- evaporating
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 目的に応じた成膜分布を簡単に得る。
【解決手段】 ビーム断面形状可変用電磁コイル体１４
は、環状鉄心１５のＸ方向部分に１対のコイル１６Ｘ
ａ，１６Ｘｂが互いに異なる巻き方向に、Ｙ方向部分に
１対のコイル１６Ｙａ，１６Ｙｂが互いに異なる巻き方
向に、それぞれ同一ターン数巻かれている。このビーム
断面形状可変用電磁コイル体を、電子銃５から発生され
て坩堝４内の蒸発物質３に到達する間の電子ビーム通路
上に配置する。走査用電磁コイル体１２への走査用信号
と同期してビーム断面形状可変用電磁コイル体１４へビ
ーム断面可変用制御信号を与える。
は、環状鉄心１５のＸ方向部分に１対のコイル１６Ｘ
ａ，１６Ｘｂが互いに異なる巻き方向に、Ｙ方向部分に
１対のコイル１６Ｙａ，１６Ｙｂが互いに異なる巻き方
向に、それぞれ同一ターン数巻かれている。このビーム
断面形状可変用電磁コイル体を、電子銃５から発生され
て坩堝４内の蒸発物質３に到達する間の電子ビーム通路
上に配置する。走査用電磁コイル体１２への走査用信号
と同期してビーム断面形状可変用電磁コイル体１４へビ
ーム断面可変用制御信号を与える。
Description
【０００１】
【発明の属する分野】本発明は、電子銃からの電子ビー
ムを曲線状に曲げて坩堝内の蒸発物質に照射するように
成した電子ビーム蒸発装置に関する。
ムを曲線状に曲げて坩堝内の蒸発物質に照射するように
成した電子ビーム蒸発装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】真空蒸着装置やイオンプレーティング装
置等には、電子ビーム蒸発装置が備えられており、基板
に蒸着すべき材料（蒸発物質）を坩堝内に収容し、坩堝
の横若しくは下側に設けられた電子銃からの電子ビーム
を磁場により曲線状に偏向させて坩堝内の蒸発物質に導
き、蒸発物質を加熱蒸発させるようにしている。
置等には、電子ビーム蒸発装置が備えられており、基板
に蒸着すべき材料（蒸発物質）を坩堝内に収容し、坩堝
の横若しくは下側に設けられた電子銃からの電子ビーム
を磁場により曲線状に偏向させて坩堝内の蒸発物質に導
き、蒸発物質を加熱蒸発させるようにしている。
【０００３】図１はこの様な電子ビーム蒸発装置の概略
を示したもので、図２は図１のＡ−Ａ線断面図である。
を示したもので、図２は図１のＡ−Ａ線断面図である。
【０００４】図中１Ａ，１Ｂは、永久磁石２を挟んで平
行に配置された磁極板で、前記永久磁石２によりＮ極と
Ｓ極に励磁されている。該磁極板間には、蒸発物質３が
収容された坩堝４が設けられている。該坩堝の下には、
電子銃５が設けられている。該電子銃はフィラメント
６，グリッド７及びアノード８から成る。９はフイラメ
ント加熱電源、１０は加速電源である。尚、１１はグリ
ッド支持板である。１２は環状鉄心にＸ方向走査用偏向
コイルとＹ方向走査用偏向コイルが巻かれた走査用電磁
コイル体で、前記電子銃５からの電子ビームの通路上に
配置されている。尚、この走査用電磁コイル体は、例え
ば、磁極１Ａ，１Ｂの間で坩堝４の近くに取り付けられ
た非磁性製のホルダー（図示せず）によって支持されて
いる。１３は該走査用電磁コイル体に走査用の電流を流
すための走査用電源である。
行に配置された磁極板で、前記永久磁石２によりＮ極と
Ｓ極に励磁されている。該磁極板間には、蒸発物質３が
収容された坩堝４が設けられている。該坩堝の下には、
電子銃５が設けられている。該電子銃はフィラメント
６，グリッド７及びアノード８から成る。９はフイラメ
ント加熱電源、１０は加速電源である。尚、１１はグリ
ッド支持板である。１２は環状鉄心にＸ方向走査用偏向
コイルとＹ方向走査用偏向コイルが巻かれた走査用電磁
コイル体で、前記電子銃５からの電子ビームの通路上に
配置されている。尚、この走査用電磁コイル体は、例え
ば、磁極１Ａ，１Ｂの間で坩堝４の近くに取り付けられ
た非磁性製のホルダー（図示せず）によって支持されて
いる。１３は該走査用電磁コイル体に走査用の電流を流
すための走査用電源である。
【０００５】この様な装置において、電子銃５のフイラ
メント６から発生された電子ビームは、アノード８によ
って加速され、磁極１Ａ，１Ｂが作る磁場により２７０
前後曲げられ坩堝４内に収容された蒸発物質３に照射さ
れる。その際、電子銃５からの電子ビームは走査用電磁
コイル体１２が作る二次元方向走査用磁場を通過するの
で、電子ビームは蒸発物質３上を二次元方向に走査する
ことになる。この結果、蒸発物質３は電子ビームにより
加熱されて蒸発し、その蒸発粒子が、例えば、坩堝４上
方に配置された基板（図示せず）上に付着する。
メント６から発生された電子ビームは、アノード８によ
って加速され、磁極１Ａ，１Ｂが作る磁場により２７０
前後曲げられ坩堝４内に収容された蒸発物質３に照射さ
れる。その際、電子銃５からの電子ビームは走査用電磁
コイル体１２が作る二次元方向走査用磁場を通過するの
で、電子ビームは蒸発物質３上を二次元方向に走査する
ことになる。この結果、蒸発物質３は電子ビームにより
加熱されて蒸発し、その蒸発粒子が、例えば、坩堝４上
方に配置された基板（図示せず）上に付着する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】この様な電子ビーム蒸
発装置において、坩堝上方において、蒸発物質表面に垂
直な軸に対して垂直な面における蒸発粒子の分布が所望
の状態に近づけたいという要望がある。
発装置において、坩堝上方において、蒸発物質表面に垂
直な軸に対して垂直な面における蒸発粒子の分布が所望
の状態に近づけたいという要望がある。
【０００７】最近、蒸発物質（実際は坩堝）を回転させ
た状態において、電子ビームを蒸発物質の回転中心から
半径方向に沿って蒸発物質の外周部分までの間を往復移
動させながら蒸発物質を加熱蒸発させる装置において、
電子銃からの電子ビームを蒸発物質に導くための磁場を
形成する磁極に補助磁極片を取り付け、該補助磁極片の
磁場作用に基づいて前記蒸発物質上で移動する電子ビー
ムの断面形状を楕円形から徐々にスポット状に変化させ
ることにより電子ビームの電流密度を変化させて、坩堝
内の蒸発物質を均一に加熱蒸発させるものが提案されて
いる（特開平５−３３９７１４号）。
た状態において、電子ビームを蒸発物質の回転中心から
半径方向に沿って蒸発物質の外周部分までの間を往復移
動させながら蒸発物質を加熱蒸発させる装置において、
電子銃からの電子ビームを蒸発物質に導くための磁場を
形成する磁極に補助磁極片を取り付け、該補助磁極片の
磁場作用に基づいて前記蒸発物質上で移動する電子ビー
ムの断面形状を楕円形から徐々にスポット状に変化させ
ることにより電子ビームの電流密度を変化させて、坩堝
内の蒸発物質を均一に加熱蒸発させるものが提案されて
いる（特開平５−３３９７１４号）。
【０００８】所で、この様な電子ビーム蒸発装置におい
ては、磁極や補助磁極片等に蒸発した粒子が付着するの
で、時々これらの部品を分解してクリーニングしなけれ
ばならない。しかし、クリーニング後に部品を組み立て
て装置を作動させる毎に、前記電子ビームの形状変化の
状態が部品分解前と異なる。即ち、クリーニング作業を
挟む部品分解前と部品組立後での電子ビームの形状変化
の再現性が悪い。その為、その度に、磁極や補助磁極片
の取り付け位置の精密調整を何度も繰り返す必要があ
り、極めて作業効率が悪い。
ては、磁極や補助磁極片等に蒸発した粒子が付着するの
で、時々これらの部品を分解してクリーニングしなけれ
ばならない。しかし、クリーニング後に部品を組み立て
て装置を作動させる毎に、前記電子ビームの形状変化の
状態が部品分解前と異なる。即ち、クリーニング作業を
挟む部品分解前と部品組立後での電子ビームの形状変化
の再現性が悪い。その為、その度に、磁極や補助磁極片
の取り付け位置の精密調整を何度も繰り返す必要があ
り、極めて作業効率が悪い。
【０００９】又、この提案では、坩堝内の蒸発物質を均
一加熱蒸発させるという目的だけについては有効である
と思われるが、基板上の成膜の分布を個々のユーザーの
目的に応じた状態にしようとしても困難である。又、そ
もそも、前記提案の方法で蒸着を行った時に、必ずしも
基板上で均一な成膜分布になるとは限らず、その場合、
そうなるように補助磁極片の形状や磁極への取り付け位
置を調整する事は極めて厄介である。
一加熱蒸発させるという目的だけについては有効である
と思われるが、基板上の成膜の分布を個々のユーザーの
目的に応じた状態にしようとしても困難である。又、そ
もそも、前記提案の方法で蒸着を行った時に、必ずしも
基板上で均一な成膜分布になるとは限らず、その場合、
そうなるように補助磁極片の形状や磁極への取り付け位
置を調整する事は極めて厄介である。
【００１０】本発明は、この様な問題点を解決する為に
なされたもので、新規な電子ビーム蒸発装置を提供する
ことを目的とするものである。
なされたもので、新規な電子ビーム蒸発装置を提供する
ことを目的とするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の電子ビーム蒸発
装置は、少なくとも１対の偏向用磁極間に電子銃と蒸発
物質を収容した坩堝を設け、前記電子銃から発せられた
電子ビームが前記偏向用磁極が形成する磁場により偏向
されて前記坩堝内の蒸発物質に照射されるように成して
おり、この電子ビームの通路上に走査用偏向器を設けて
前記蒸発物質上を電子ビームで走査するように成した電
子ビーム蒸発装置において、電気的形状制御信号の供給
に基づいて前記蒸発物質上での電子ビーム断面形状を変
えることが出来るビーム断面形状可変手段を電子ビーム
通路上に配置したことを特徴とする。
装置は、少なくとも１対の偏向用磁極間に電子銃と蒸発
物質を収容した坩堝を設け、前記電子銃から発せられた
電子ビームが前記偏向用磁極が形成する磁場により偏向
されて前記坩堝内の蒸発物質に照射されるように成して
おり、この電子ビームの通路上に走査用偏向器を設けて
前記蒸発物質上を電子ビームで走査するように成した電
子ビーム蒸発装置において、電気的形状制御信号の供給
に基づいて前記蒸発物質上での電子ビーム断面形状を変
えることが出来るビーム断面形状可変手段を電子ビーム
通路上に配置したことを特徴とする。
【００１２】又、本発明の蒸発装置は、少なくとも１対
の偏向用磁極間に電子銃と蒸発物質を収容した坩堝を設
け、前記電子銃から発せられた電子ビームが前記偏向用
磁極が形成する磁場により偏向されて前記坩堝内の蒸発
物質に照射されるように成しており、この電子ビームの
通路上に走査用偏向器を設けて前記蒸発物質上を電子ビ
ームで走査するように成した電子ビーム蒸発装置におい
て、前記走査用偏向器に電気的走査信号と前記蒸発物質
上での電子ビーム断面形状を変える為の電気的形状制御
信号とを供給するように成したことを特徴とする。又、
本発明の電子ビーム蒸発装置は、坩堝の内、少なくとも
蒸発物質が収容されている部分が回転可能に成っている
ことを特徴とする。
の偏向用磁極間に電子銃と蒸発物質を収容した坩堝を設
け、前記電子銃から発せられた電子ビームが前記偏向用
磁極が形成する磁場により偏向されて前記坩堝内の蒸発
物質に照射されるように成しており、この電子ビームの
通路上に走査用偏向器を設けて前記蒸発物質上を電子ビ
ームで走査するように成した電子ビーム蒸発装置におい
て、前記走査用偏向器に電気的走査信号と前記蒸発物質
上での電子ビーム断面形状を変える為の電気的形状制御
信号とを供給するように成したことを特徴とする。又、
本発明の電子ビーム蒸発装置は、坩堝の内、少なくとも
蒸発物質が収容されている部分が回転可能に成っている
ことを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
施の形態を詳細に説明する。
【００１４】図３は本発明の電子ビーム蒸発装置の１概
略例を示したもので、図４は図３のＡ−Ａ線断面図であ
る。図中前記図１及び図２と同一記号の付されたものは
同一構成要素を示す。
略例を示したもので、図４は図３のＡ−Ａ線断面図であ
る。図中前記図１及び図２と同一記号の付されたものは
同一構成要素を示す。
【００１５】図中１４はビーム断面形状可変用電磁コイ
ル体で、電子銃５から発生されて坩堝４内の蒸発物質３
に到達する間の電子ビーム通路上に配置される。図の例
では、電子銃５のアノード８と走査用電磁コイル体１２
の間の電子ビーム通路上に配置されている。尚、このビ
ーム断面形状可変用電磁コイル体は、例えば、磁極１
Ａ，１Ｂの間で坩堝４の近くに取り付けられた非磁性製
のホルダー（図示せず）によって支持されている。
ル体で、電子銃５から発生されて坩堝４内の蒸発物質３
に到達する間の電子ビーム通路上に配置される。図の例
では、電子銃５のアノード８と走査用電磁コイル体１２
の間の電子ビーム通路上に配置されている。尚、このビ
ーム断面形状可変用電磁コイル体は、例えば、磁極１
Ａ，１Ｂの間で坩堝４の近くに取り付けられた非磁性製
のホルダー（図示せず）によって支持されている。
【００１６】このビーム断面形状可変用電磁コイル体１
４は、図５に示す様に、例えば、環状鉄心１５のＸ方向
部分に１対のコイル１６Ｘａ，１６Ｘｂが互いに異なる
巻き方向に、Ｙ方向部分に１対のコイル１６Ｙａ，１６
Ｙｂが互いに異なる巻き方向に、それぞれ同一ターン数
巻かれている。１７Ｘは前記コイル１６Ｘａ，１６Ｘｂ
にビーム断面形状制御用電流を供給するための電源、１
７Ｙは前記コイル１６Ｙａ，１６Ｙｂにビーム断面形状
制御用電流を供給するための電源である。これらの電源
はコンピュータの如き制御装置１８の指令信号に基づい
て作動すると共に、走査電源１３と同期して作動する。
４は、図５に示す様に、例えば、環状鉄心１５のＸ方向
部分に１対のコイル１６Ｘａ，１６Ｘｂが互いに異なる
巻き方向に、Ｙ方向部分に１対のコイル１６Ｙａ，１６
Ｙｂが互いに異なる巻き方向に、それぞれ同一ターン数
巻かれている。１７Ｘは前記コイル１６Ｘａ，１６Ｘｂ
にビーム断面形状制御用電流を供給するための電源、１
７Ｙは前記コイル１６Ｙａ，１６Ｙｂにビーム断面形状
制御用電流を供給するための電源である。これらの電源
はコンピュータの如き制御装置１８の指令信号に基づい
て作動すると共に、走査電源１３と同期して作動する。
【００１７】図中１９は集束用電磁レンズで、電子銃５
からの電子ビームを蒸発物質上で集束させるもので、集
束用電源（図示せず）からの励磁電流により作動する。
からの電子ビームを蒸発物質上で集束させるもので、集
束用電源（図示せず）からの励磁電流により作動する。
【００１８】尚、この例においては、坩堝４は、蒸発物
質３を収容した部分を含む中央部分と外側の部分とが別
れており、前記中心部分が外側の部分に沿って回転出来
るように成してある。
質３を収容した部分を含む中央部分と外側の部分とが別
れており、前記中心部分が外側の部分に沿って回転出来
るように成してある。
【００１９】この様な構成の装置の動作を次に説明す
る。
る。
【００２０】電子銃５のフイラメント６から発生された
電子ビームは、アノード８によって加速され、磁極１
Ａ，１Ｂが作る磁場により２７０前後曲げられ坩堝４内
に収容された蒸発物質３に照射される。
電子ビームは、アノード８によって加速され、磁極１
Ａ，１Ｂが作る磁場により２７０前後曲げられ坩堝４内
に収容された蒸発物質３に照射される。
【００２１】その際、走査用電磁コイル体１２において
は、Ｘ方向走査用偏向コイルに図６の（ａ）に示す如き
Ｘ方向走査信号が供給され、Ｙ方向走査用偏向コイルに
は一定のレベル（０レベル）のＹ方向走査信号が供給さ
れる。従って、電子ビームは、図７に示す様に、蒸発物
質３上の中心Ｏをスタートして、該中心ＯからＸ方向の
蒸発物質の外周位置との間を往復移動することになる。
は、Ｘ方向走査用偏向コイルに図６の（ａ）に示す如き
Ｘ方向走査信号が供給され、Ｙ方向走査用偏向コイルに
は一定のレベル（０レベル）のＹ方向走査信号が供給さ
れる。従って、電子ビームは、図７に示す様に、蒸発物
質３上の中心Ｏをスタートして、該中心ＯからＸ方向の
蒸発物質の外周位置との間を往復移動することになる。
【００２２】さて、この時、制御装置１８に指令に基づ
き、電源１７Ｘから前記Ｘ方向走査信号と同期して、図
６の（ｂ）に示す如きＸ方向形状制御信号がコイル１６
Ｘａ，１６Ｘｂに送られ、図６の（ｃ）に示す如きＹ方
向形状制御信号がコイル１６Ｙａ，１６Ｙｂに送られ
る。すると、該電子ビームはコイル１６Ｘａによる磁場
に基づいて＋Ｘ方向に引っ張られる力を受け、コイル１
６Ｘｂによる磁場に基づいて−Ｘ方向に引っ張られる力
を受ける。又、コイル１６Ｙａによる磁場に基づいて−
Ｙ方向に押される力を受け、コイル１６Ｙｂによる磁場
に基づいて＋Ｙ方向に押される力を受ける。これらの引
っ張り力及び押圧力は前記形状制御信号の信号強度（レ
ベル）に対応するので、電子銃５からの電子ビームが集
束レンズ１９によって、蒸発物質３上にスポット状に集
束されているとした場合、走査スタート位置のＯ点では
Ｘ方向に長く、Ｙ方向に短い径の長楕円形状断面の電子
ビームＥｓとなり、蒸発物質の外周位置では引っ張り力
と押し圧力が０となるので、スポット状断面の電子ビー
ムＥｅとなり、蒸発物質３の回転中心Ｏから外周部に行
くほど電子ビームの断面形状は楕円形からスポット状に
近づき、電子ビームの電流密度が高くなるので、蒸発物
質の全体を均一に加熱蒸発させることが出来る。この結
果、坩堝内の蒸発物質の真上に配置された基板（図示せ
ず）に対しては、蒸発粒子が均一に付着する。この様な
装置において、磁極板１Ａ，１Ｂ等に蒸発粒子が付着す
るので、時々これらの部品を分解してクリーニングす
る。該クリーニング後、磁極板等の部品を組み立てた後
に装置を作動させるが、電子ビームの形状を変えるため
の補助磁極片を使用していないので、クリーニング作業
を挟んでの部品分解前と組立後で前記電子ビームの形状
はさほど変化しない。例え、多少変わっても、ビーム断
面形状可変用電磁コイル体１４の各方向のコイルへの形
状制御信号を調整するだけで済み、極めて作業効率が良
い。
き、電源１７Ｘから前記Ｘ方向走査信号と同期して、図
６の（ｂ）に示す如きＸ方向形状制御信号がコイル１６
Ｘａ，１６Ｘｂに送られ、図６の（ｃ）に示す如きＹ方
向形状制御信号がコイル１６Ｙａ，１６Ｙｂに送られ
る。すると、該電子ビームはコイル１６Ｘａによる磁場
に基づいて＋Ｘ方向に引っ張られる力を受け、コイル１
６Ｘｂによる磁場に基づいて−Ｘ方向に引っ張られる力
を受ける。又、コイル１６Ｙａによる磁場に基づいて−
Ｙ方向に押される力を受け、コイル１６Ｙｂによる磁場
に基づいて＋Ｙ方向に押される力を受ける。これらの引
っ張り力及び押圧力は前記形状制御信号の信号強度（レ
ベル）に対応するので、電子銃５からの電子ビームが集
束レンズ１９によって、蒸発物質３上にスポット状に集
束されているとした場合、走査スタート位置のＯ点では
Ｘ方向に長く、Ｙ方向に短い径の長楕円形状断面の電子
ビームＥｓとなり、蒸発物質の外周位置では引っ張り力
と押し圧力が０となるので、スポット状断面の電子ビー
ムＥｅとなり、蒸発物質３の回転中心Ｏから外周部に行
くほど電子ビームの断面形状は楕円形からスポット状に
近づき、電子ビームの電流密度が高くなるので、蒸発物
質の全体を均一に加熱蒸発させることが出来る。この結
果、坩堝内の蒸発物質の真上に配置された基板（図示せ
ず）に対しては、蒸発粒子が均一に付着する。この様な
装置において、磁極板１Ａ，１Ｂ等に蒸発粒子が付着す
るので、時々これらの部品を分解してクリーニングす
る。該クリーニング後、磁極板等の部品を組み立てた後
に装置を作動させるが、電子ビームの形状を変えるため
の補助磁極片を使用していないので、クリーニング作業
を挟んでの部品分解前と組立後で前記電子ビームの形状
はさほど変化しない。例え、多少変わっても、ビーム断
面形状可変用電磁コイル体１４の各方向のコイルへの形
状制御信号を調整するだけで済み、極めて作業効率が良
い。
【００２３】前記例では、蒸発物質を回転させた時に、
電子ビームを蒸発物質の回転中心と外周部の間を往復移
動させる場合に、電子ビームが回転中心から外周部に移
動するに従って電流密度が高くなるように電子ビームの
断面形状が連続的に変わる例を示したが、電子ビームの
断面形状を変えることのみに本発明の本質があるわけで
はない。
電子ビームを蒸発物質の回転中心と外周部の間を往復移
動させる場合に、電子ビームが回転中心から外周部に移
動するに従って電流密度が高くなるように電子ビームの
断面形状が連続的に変わる例を示したが、電子ビームの
断面形状を変えることのみに本発明の本質があるわけで
はない。
【００２４】本発明は、電子ビーム蒸発装置により蒸発
物質を蒸発させた時の基板上での成膜分布をユーザーの
目的に応じたものにし、且つ装置の部品をクリーニング
した後でも目的の成膜分布を再現性良く実現するため
に、蒸発物質上での電子ビームの断面形状が簡単に変え
られるように成したことにある。従って、ユーザーは実
験などにより、目的に応じた成膜分布状態になるように
蒸発物質上での電子ビームの断面をビーム断面形状可変
用電磁コイル体１４の各方向のコイルへの形状制御信号
をコントロールすることにより決定したり、実際の蒸着
操作において、該決定した電子ビームの断面になるよう
に、ビーム断面形状可変用電磁コイル体１４の各方向の
コイルへの形状制御信号をコントロールする。
物質を蒸発させた時の基板上での成膜分布をユーザーの
目的に応じたものにし、且つ装置の部品をクリーニング
した後でも目的の成膜分布を再現性良く実現するため
に、蒸発物質上での電子ビームの断面形状が簡単に変え
られるように成したことにある。従って、ユーザーは実
験などにより、目的に応じた成膜分布状態になるように
蒸発物質上での電子ビームの断面をビーム断面形状可変
用電磁コイル体１４の各方向のコイルへの形状制御信号
をコントロールすることにより決定したり、実際の蒸着
操作において、該決定した電子ビームの断面になるよう
に、ビーム断面形状可変用電磁コイル体１４の各方向の
コイルへの形状制御信号をコントロールする。
【００２５】従って、本発明はこの様に、電気的ビーム
断面形状制御信号の供給に基づいて蒸発物質上での電子
ビーム断面形状を変えることが出来るビーム断面形状可
変手段を電子ビーム通路上に備えているので、極めて簡
単に目的に応じた成膜分布を得ることが出来る。
断面形状制御信号の供給に基づいて蒸発物質上での電子
ビーム断面形状を変えることが出来るビーム断面形状可
変手段を電子ビーム通路上に備えているので、極めて簡
単に目的に応じた成膜分布を得ることが出来る。
【００２６】尚、前記例では、ビーム断面形状可変用電
磁コイル体１４を走査用電磁コイル体１２と別に設けた
が、ビーム断面形状可変用電磁コイル体１４を設けず
に、走査用電磁コイル体１２に巻かれている走査用偏向
コイルの上に重畳して形状制御用コイルを巻き、該コイ
ルに形状制御信号を供給するようにしても良い。この様
に成せば、装置全体のコンパクト化が計れる。特に、こ
の様な電子ビーム蒸発装置においては、各部品間の空間
に制限があるので、この様に成すことは有効である。
磁コイル体１４を走査用電磁コイル体１２と別に設けた
が、ビーム断面形状可変用電磁コイル体１４を設けず
に、走査用電磁コイル体１２に巻かれている走査用偏向
コイルの上に重畳して形状制御用コイルを巻き、該コイ
ルに形状制御信号を供給するようにしても良い。この様
に成せば、装置全体のコンパクト化が計れる。特に、こ
の様な電子ビーム蒸発装置においては、各部品間の空間
に制限があるので、この様に成すことは有効である。
【００２７】又、前記例では、ビーム断面可変様手段と
して電磁コイル体を設けて、該コイルに形状制御用の電
流を流すように成したが、多極の静電偏向電極を設けて
該電極に形状制御用の電圧を印加するように成しても良
い。
して電磁コイル体を設けて、該コイルに形状制御用の電
流を流すように成したが、多極の静電偏向電極を設けて
該電極に形状制御用の電圧を印加するように成しても良
い。
【００２８】又、前記例では、電子ビームを２７０°前
後偏向させる電子銃を備えた装置を示したが、この様な
電子銃に限定されないことは言うまでもない。
後偏向させる電子銃を備えた装置を示したが、この様な
電子銃に限定されないことは言うまでもない。
【００２９】又、走査用電磁コイル体やビーム断面形状
可変電磁コイル体の配置場所は前記例に限定されず、電
子銃と坩堝の間における電子ビーム通路上ならどこでも
良い。
可変電磁コイル体の配置場所は前記例に限定されず、電
子銃と坩堝の間における電子ビーム通路上ならどこでも
良い。
【図１】 従来の電子ビーム蒸発装置の１概略例を示し
ている。
ている。
【図２】 図１のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】 本発明の電子ビーム蒸発装置の１概略例を示
している。
している。
【図４】 図３のＡ−Ａ線断面図である。
【図５】 図３の一部詳細を示している。
【図６】 信号波形を示している。
【図７】 図３に示した装置の動作の説明するたるに使
用した図である。
用した図である。
１Ａ，１Ｂ…磁極板 ２…永久磁石 ３…蒸発物質 ４…坩堝 ５…電子銃 ６…フイラメント ７…グリッド ８…アノード ９…フイラメント加熱電源 １０…加速電源 １１…グリッド支持板 １２…走査用電磁コイル体 １３…走査用電源 １４…ビーム断面形状可変電磁コイル体 １５…環状鉄心 １６Ｘａ，１６Ｘｂ，１６Ｙａ，１６Ｙｂ…コイル １７Ｘ，１７Ｙ…電源 １８…制御装置 １９…集束用電磁レンズ
Claims (3)
- 【請求項１】 少なくとも１対の偏向用磁極間に電子銃
と蒸発物質を収容した坩堝を設け、前記電子銃から発せ
られた電子ビームが前記偏向用磁極が形成する磁場によ
り偏向されて前記坩堝内の蒸発物質に照射されるように
成しており、この電子ビームの通路上に走査用偏向器を
設けて前記蒸発物質上を電子ビームで走査するように成
した電子ビーム蒸発装置において、電気的形状制御信号
の供給に基づいて前記蒸発物質上での電子ビーム断面形
状を変えることが出来るビーム断面形状可変手段を電子
ビーム通路上に配置したことを特徴とする電子ビーム蒸
発装置。 - 【請求項２】 少なくとも１対の偏向用磁極間に電子銃
と蒸発物質を収容した坩堝を設け、前記電子銃から発せ
られた電子ビームが前記偏向用磁極が形成する磁場によ
り偏向されて前記坩堝内の蒸発物質に照射されるように
成しており、この電子ビームの通路上に走査用偏向器を
設けて前記蒸発物質上を電子ビームで走査するように成
した電子ビーム蒸発装置において、前記走査用偏向器に
電気的走査信号と前記蒸発物質上での電子ビーム断面形
状を変える為の電気的形状制御信号とを供給するように
成したことを特徴とする電子ビーム蒸発装置。 - 【請求項３】 前記坩堝の内、少なくとも蒸発物質が収
容されている部分が回転可能に成っていることを特徴と
する請求項１または２記載の電子ビーム蒸発装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11129482A JP2000328238A (ja) | 1999-05-11 | 1999-05-11 | 電子ビーム蒸発装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11129482A JP2000328238A (ja) | 1999-05-11 | 1999-05-11 | 電子ビーム蒸発装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000328238A true JP2000328238A (ja) | 2000-11-28 |
Family
ID=15010585
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11129482A Pending JP2000328238A (ja) | 1999-05-11 | 1999-05-11 | 電子ビーム蒸発装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000328238A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006291328A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Hamamatsu Photonics Kk | 電子線補助照射レーザアブレーション成膜装置 |
-
1999
- 1999-05-11 JP JP11129482A patent/JP2000328238A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006291328A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Hamamatsu Photonics Kk | 電子線補助照射レーザアブレーション成膜装置 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040615 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070508 |
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