JP2000331902A - 露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ファイル管理の負荷軽減、ファイル増加によ
るパフォーマンスの低下防止、および記憶装置の効率的
利用を図る。 【解決手段】 露光装置において露光処理に用いるパラ
メータファイルのうちの消去するものを、各パラメータ
ファイルの最終使用時刻または各パラメータファイルに
対するアクセス回数に基づいて決定する（Ｓ１０）。そ
の際、各パラメータファイルについて消去するか否か
を、接続されたネットワーク上の他の装置において同名
のパラメータファイルが存在するときはそのパラメータ
ファイルについての最終使用時刻またはアクセス回数を
も考慮して判定する（Ｓ８、Ｓ９）。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子や液晶
素子等のデバイスを製造するための露光装置、特に、露
光処理に必要な各種パラメータファイルのファイル管理
技術を改善したものに関する。本発明は、半導体製造装
置、特にウエハ上に回路パターンを焼き付ける半導体露
光装置に好適に適用される。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体製造（露光）工程に用いる
縮小投影型露光装置では、露光する製品の多種多様化に
ともない、露光処理に必要なジョブおよびレチクルファ
イルと呼ばれるパラメータファイルが非常に多く作成さ
れる。しかし、ファイルを作成する際には、装置に搭載
されているハードディスク等の記憶装置の容量を常に意
識する必要がある。また、これらのファイルの増加によ
り、装置のパフォーマンスの低下も懸念される。そのた
め、記憶装置の容量が限界に近づいたら、不要なファイ
ルを手動で消去している。そして、ファイルを消去する
際には、生産が終わったために不要となったファイル
と、現在生産中であるために必要なファイルとの区別
を、そのファイル名もしくはファイルの日時に頼って行
なっている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ファイ
ルの日時としては、ファイルを作成した日時が保持され
ているため、これに基づいて必要なファイルと不要なフ
ァイルとを区別してファイルを消去するのは困難であ
る。また、数千のファイルから、不要なファイルを選択
して消去する作業を操作者が行なうと、ミスも発生しや
すい。したがって、ファイルの管理は大変な負荷となっ
ている。

【０００４】さらに、半導体露光装置を使うユーザにと
っては、特定用途向けの製品等も増え、そのジョブおよ
びレチクルファイルの数も増加する一方となっている。
また近年、半導体素子の微細化が進み、１ファイル当た
りの情報量も増えている。そのため、ファイル数の増加
により、装置のパフォーマンスが低下してしまう場合も
ある。また、ファイル作成時に、常に記憶装置の容量を
意識し、不要なファイルを消すなどのファイル管理にか
かる負荷も大きくなっている。

【０００５】本発明の目的は、このような従来技術の問
題点に鑑み、露光装置において、第１に、ファイル管理
の負荷を軽減することにある。第２に、ファイル増加に
よるパフォーマンスの低下を防止することにある。第３
に、記憶装置を効率的に利用することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
本発明の露光装置は、露光処理に用いるパラメータファ
イルのうちの消去するものを、各パラメータファイルの
最終使用時刻または各パラメータファイルに対するアク
セス回数に基づいて決定する処理を行なうファイル消去
手段を具備することを特徴とし、これによりファイル管
理の負荷軽減を図っている。また、本発明のデバイス製
造方法は、露光処理に用いるパラメータファイルのうち
の消去するものを、各パラメータファイルの最終使用時
刻または各パラメータファイルに対するアクセス回数に
基づいて決定する工程と、この決定に従い、消去するパ
ラメータファイルの消去を行なう工程と、前記パラメー
タファイルのうちの必要なものを用いて露光処理を行な
う工程とを具備し、これらの工程を露光装置により行な
うことにより、ファイル管理の負荷軽減、ファイル増加
によるパフォーマンス低下の防止、および記憶装置の効
率的な利用を図っている。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明の露光装置の好ましい実施
形態においては、前記最終使用時刻またはアクセス回数
を、各パラメータファイルが使用される際に、その属性
情報として記録・更新する属性情報記録手段を有する。
また、パラメータファイルの消去を行なうか否かの判断
基準となる基準値を設定する基準値設定手段を有し、フ
ァイル消去手段は、パラメータファイルの数が前記基準
値を越えている場合に、消去するパラメータファイルの
決定処理を行なう。また、ファイル消去手段は、各パラ
メータファイルについて消去するか否かを、接続された
ネットワーク上の他の装置において同名のパラメータフ
ァイルが存在するときはそのパラメータファイルについ
ての最終使用時刻またはアクセス回数をも考慮して判定
することにより、消去するパラメータファイルの決定処
理を行なう。そして、ファイル消去手段は、消去するパ
ラメータファイルの決定の結果に基づいて、パラメータ
ファイルを消去する。

【０００８】また、消去するパラメータファイルのバッ
クアップをとるか否かを設定する手段を有し、ファイル
消去手段はパラメータファイルの消去処理に際し、前記
設定に応じて、消去するパラメータファイルのバックア
ップファイルを作成する。さらに、ファイル消去手段に
よる処理を行なうための条件を設定するための条件設定
手段と、設定された条件に従ってファイル消去手段によ
る処理を制御する制御手段とを備える。ファイル消去手
段による処理を行なうための条件には、たとえば処理を
行なうタイミングや、最終使用時刻またはアクセス回数
のうちのいずれに基づいて処理を行なうかの条件が含ま
れる。

【０００９】この構成において、ジョブおよびレチクル
ファイルに代表されるパラメータファイルが使用される
際には、その度に、最終使用時刻およびアクセス回数の
属性情報が更新され、保持される。そして制御手段によ
り、ファイル消去手段による処理が起動された場合、フ
ァイル消去手段は、パラメータファイルの数がユーザの
設定した基準値を越えているときには、単独の装置内に
おける各パラメータファイルの属性情報、あるいはさら
にネットワーク上の他の装置における同名ファイルの属
性情報をも考慮し、その属性情報に対して重み付けを付
する等により、消去するファイルを決定する。そしてこ
の結果に従ってファイルを消去することにより、装置内
のファイル数を管理する。これにより、ユーザのファイ
ル管理の負荷が軽減し、ファイル増加によるパフォーマ
ンスの低下が防止され、かつ記憶装置の容量を意識する
ことなく、効率的な利用が行なわれることになる。

【００１０】

【実施例】以下、実施例を通じて本発明の実施形態をよ
り具体的に説明する。 ［実施例１］図１は、本発明の第１の実施例に係る半導
体露光装置の外観を示す斜視図である。同図に示すよう
に、この半導体露光装置は、装置本体の環境温度制御を
行なう温調チャンバ１０１、その内部に配置され、装置
本体の制御を行なうＣＰＵを有するＥＷＳ本体１０６、
ならびに、装置における所定の情報を表示するＥＷＳ用
ディスプレイ装置１０２、装置本体において撮像手段を
介して得られる画像情報を表示するモニタＴＶ１０５、
装置に対し所定の入力を行なうための操作パネル１０
３、ＥＷＳ用キーボード１０４等を含むコンソール部を
備えている。図中、１０７はＯＮ−ＯＦＦスイッチ、１
０８は非常停止スイッチ、１０９は各種スイッチ、マウ
ス等、１１０はＬＡＮ通信ケーブル、１１１はコンソー
ル機能からの発熱の排気ダクト、そして１１２はチャン
バの排気装置である。半導体露光装置本体はチャンバ１
０１の内部に設置される。

【００１１】ＥＷＳ用ディスプレイ１０２は、ＥＬ、プ
ラズマ、液晶等の薄型フラットタイプのものであり、チ
ャンバ１０１前面に納められ、ＬＡＮケーブル１１０に
よりＥＷＳ本体１０６と接続される。操作パネル１０
３、キーボード１０４、モニタＴＶ１０５等もチャンバ
１０１前面に設置し、チャンバ１０１前面から従来と同
様のコンソール操作が行なえるようにしてある。

【００１２】図２は、図１の装置の内部構造を示す図で
ある。同図においては、半導体露光装置としてのステッ
パが示されている。図中、２０２はレチクル、２０３は
ウエハであり、光源装置２０４から出た光束が照明光学
系２０５を通ってレチクル２０２を照明するとき、投影
レンズ２０６によりレチクル２０２上のパターンをウエ
ハ２０３上の感光層に転写することができる。レチクル
２０２はレチクル２０２を保持して移動するためのレチ
クルステージ２０７により支持されている。ウエハ２０
３はウエハチャック２９１により真空吸着された状態で
露光される。ウエハチャック２９１はウエハステージ２
０９により各軸方向に移動可能である。レチクル２０２
の上側にはレチクルの位置ずれ量を検出するためのレチ
クル光学系２８１が配置される。ウエハステージ２０９
の上方に、投影レンズ２０６に隣接してオフアクシス顕
微鏡２８２が配置されている。オフアクシス顕微鏡２８
２は内部の基準マークとウエハ２０３上のアライメント
マークとの相対位置検出を行なうのが主たる役割であ
る。また、このステッパ本体に隣接して周辺装置である
レチクルライブラリ２２０やウエハキャリアエレベータ
２３０が配置され、必要なレチクルやウエハはレチクル
搬送装置２２１およびウエハ搬送装置２３１によってス
テッパ本体に搬送される。

【００１３】チャンバ１０１は、主に空気の温度調節を
行なう空調機室２１０および微小異物をろかし、清浄空
気の均一な流れを形成するフィルタボックス２１３、な
らびに装置環境を外部と遮断するブース２１４で構成さ
れている。チャンバ１０１内では、空調機室２１０内に
ある冷却器２１５および再熱ヒータ２１６により温度調
節された空気が、送風機２１７によりエアフィルタｇを
介してブース２１４内に供給される。このブース２１４
に供給された空気はリターン口ｒａより再度空調機室２
１０に取り込まれ、チャンバ１０１内を循環する。通
常、このチャンバ１０１は、厳密には完全な循環系では
なく、ブース２１４内を常時陽圧に保つために、循環空
気量の約１割のブース２１４外の空気を空調機室２１０
に設けられた外気導入口ｏａより送風機を介して導入し
ている。このようにしてチャンバ１０１は本装置の置か
れる環境温度を一定に保ち、かつ空気を洗浄に保つこと
を可能としている。また光源装置２０４には超高圧水銀
灯の冷却やレーザ異常時の有毒ガス発生に備えて吸気口
ｓａと排気口ｅａが設けられ、ブース２１４内の空気の
一部が光源装置２０４を経由し、空調機室２１０に備え
られた専用の排気ファンを介して工場設備に強制排気さ
れている。また、空気中の化学物質を除去するための化
学吸着フィルタｃｆを、空調機室２１０の外気導入口ｏ
ａおよびリターン口ｒａにそれぞれ接続して備えてい
る。

【００１４】図３は、図１の装置の電気回路構成を示す
ブロック図である。同図において、３２１は装置全体の
制御を司る、前記ＥＷＳ本体１０６に内蔵された本体Ｃ
ＰＵであり、マイクロコンピュータまたはミニコンピュ
ータ等の中央演算装置からなる。３２２はウエハステー
ジ駆動装置、３２３は前記オフアクシス顕微鏡２８２等
のアライメント検出系、３２４はレチクルステージ駆動
装置、３２５は前記光源装置２０４等の照明系、３２６
はシャッタ駆動装置、３２７はフォーカス検出系、３２
８はＺ駆動装置であり、これらは、本体ＣＰＵ３２１に
より制御されている。３２９は前記レチクル搬送装置２
２１、ウエハ搬送装置２３１等の搬送系である。３３０
は前記ディスプレイ１０２、キーボード１０４等を有す
るコンソールユニットであり、本体ＣＰＵ３２１に対し
て装置の動作に関する各種のコマンドやパラメータを与
えるためのものである。すなわち、オペレータとの間で
情報の授受を行なうためのものである。３３２は、例え
ばハードディスクであり、内部にデータベースが構築さ
れており、各種パラメータおよびその管理データ、なら
びにオペレータのグループ等が記録されている。

【００１５】図４は、図１のディスプレイ１０２の表示
画面に表示される、ユーザが各種の設定を決定するため
のユーザセットアップエディタを示す図であり、その一
部分において、ファイル数を監視し、基準を越えた際に
自動でファイル消去を行なうための基準値パラメータで
ある“基準ファイル数”を設定する様子を示している。
“基準ファイル数”は、例えば０〜３０００のような入
力範囲をもっており、入力した設定値が、自動ファイル
消去を行なう際の基準となり、Ｓａｖｅ（セーブ）ボタ
ン４１により保存される。

【００１６】図５は上述のファイル数の監視による自動
ファイル消去処理を実行する図３のコンソールユニット
３３０内のコンソールＣＰＵ３３１における制御手順の
一例を示すフローチャートである。同図に示すように、
この処理を開始すると、コンソールＣＰＵ３３１は、ま
ず、ステップＳ１において、ユーザセットアップエディ
タで設定されたパラメータの中から、自動ファイル消去
の基準値パラメータ（基準ファイル数）の値を取得し、
ステップＳ２において、現在のファイル数を取得する。
そして、ステップＳ３において、ステップＳ１で取得し
た基準値とステップＳ２で取得したファイル数とを比較
する。この結果、基準値がファイル数よりも大きい場合
はファイル数の監視による自動ファイル消去処理を終了
し、基準値よりもファイル数が大きい場合はステップＳ
４へ進む。ステップＳ４では、装置がスタンドアローン
か、またはネットワーク接続されているかを判断する。
スタンドアローンの場合はそのままステップＳ６へ進
み、ネットワーク接続されている場合には、ステップＳ
５においてネットワークフラグをＯＮに設定してからス
テップＳ６へ進む。

【００１７】ステップＳ６は、ループの開始であり、す
べてのファイルが調査対象となるため、ファイルが見つ
かる間は、以下のステップＳ７〜Ｓ１０の処理を繰り返
して行ない、すべてのファイルの調査が終了した場合は
ループの終了であるステップＳ１１へ進む。ループ内の
ステップＳ７では、ファイル名を指定して、装置内のフ
ァイルの属性情報、すなわち最終使用時刻およびアクセ
ス回数を取得する。ステップＳ８では、ステップＳ５で
設定したネットワークフラグにより装置がスタンドアロ
ーンか、またはネットワーク接続されているかを判断
し、スタンドアローンの場合はそのままステップＳ１０
へ進む。ネットワークに接続されている場合には、ステ
ップＳ９において、同一ネットワーク上の他の装置にお
ける同名ファイルの属性情報（最終使用時刻およびアク
セス回数）を問い合わせ、これを取得してからステップ
Ｓ１０へ進む。ただし、他の装置に同名ファイルがない
場合はステップＳ７で取得した装置内のファイルの属性
情報を採用する。ステップＳ１０では、装置内または同
一ネットワーク上の他の装置から取得したファイルの属
性情報に基づき、重み付けをして、その結果をメモリ上
に蓄えておく。

【００１８】重み付けは、最終使用時刻をファイル消去
の判断方法とする場合は、最終使用時刻が最近１ケ月以
内であるか、１ケ月前〜３ケ月前であるか、３ヶ月以上
前であるかといったような３段階で行なう。この重み付
けは、コンフィグレーションファイルにより、任意に設
定することが可能である。同じ段階の中では、最終使用
時刻の古いファイルほど、消去しても問題のないファイ
ルであると判断する。また、同一ネットワーク上の他の
装置から属性情報を取得する場合は、何台かある装置の
中から、最も新しい最終使用時刻を採用し、これに基づ
いて重み付けをする。具体的には、現在を“９８／１２
／１５”とし、このファイル監視による自動ファイル消
去処理が装置Ａで行なわれているとすると、図６に示す
ように、装置Ａのジョブファイル中のファイル“Ａ．ｊ
ｏｂ”の最終使用時刻は“９８／０５／０１”であり、
半年以上前だが、装置Ｂの“Ａ．ｊｏｂ”の最終使用時
刻は“９８／１２／１０”であり、最近まで使っていた
ため、“Ａ．ｊｏｂ”は今後も使用する可能性があるの
で消去することはできないと判断する。そこで、“Ａ．
ｊｏｂ”に関しては、装置Ａ以外の他の装置の中で最終
使用時刻が最も新しい装置Ｂの最終使用時刻“９８／１
２／１０”を採用し、１ケ月以内と判断する。

【００１９】なお、ここでは、最終使用時刻に基づいて
重み付けを行なう方法を説明したが、アクセス回数に基
づいても同様に重み付けが可能である。また、同一ネッ
トワーク上の他の装置として、装置Ｂを参照する場合に
ついて説明したが、同一ネットワーク上の装置であれ
ば、参照する装置の台数に制限はない。

【００２０】ステップＳ６で開始したループの終りであ
るステップＳ１１へ進むと、次に、ステップＳ１２にお
いて、ステップＳ１０における重み付けの結果に基づ
き、消去すべきファイルをリストアップした消去ファイ
ルリストを作成する。次に、ステップＳ１３において、
ステップＳ１０で作成した消去ファイルリストに従い、
設定された“基準ファイル数”以下になるまでファイル
を削除する。

【００２１】なお、ステップ１３において削除されるフ
ァイルのバックアップをとるか否かをユーザが予め設定
できるようにしておき、バックアップをとるように設定
されている場合は、ステップＳ１３においてファイルを
消去するに際し、消去するファイルのバックアップファ
イルを作成するようにしてもよい。また、ここでは、フ
ァイル監視による自動ファイル消去処理を単独で起動す
る例を示したが、この起動を、装置メーカが一定（固
定）の間隔で行なうようにしてもよい。また、次の実施
例２のように、ユーザが監視条件を設定し、任意に起動
することも可能である。

【００２２】［実施例２］図７は、本発明の第２の実施
例に係る露光装置における監視条件エディタを示す。こ
のエディタは、図１の装置において、ユーザが任意にフ
ァイル数の監視条件を設定できるウィンドウとして表示
され、これにより、ユーザが監視条件を任意に設定し、
ファイル監視による自動ファイル消去処理を起動する。
このウィンドウは装置のファイルを監視する条件を設定
する際に、ポップアップにより表示される。図７に示す
ように、このウィンドウは、ウィンドウタイトル領域１
０、監視条件設定領域２０、監視条件パラメータの入力
範囲を示すガイド領域３０、および操作ボタンを配置し
たボタン領域４０により構成される。同図において、２
１はパラメータ名称表示部、２２は監視条件パラメータ
入力部、４１は監視条件を保存するためのＳａｖｅ（セ
ーブ）ボタン、４２は監視条件エディタを終了するため
のＱｕｉｔ（クイット）ボタンである。

【００２３】次に、このウィンドウを用いて、ユーザが
ファイル数の監視条件パラメータを設定する際の操作を
説明する。まず、コンソールユニット３３０の入力手段
（タッチパネル１０３、キーボード１０４、マウス等）
によりユーザセットアップエディタ（図４）を画面に表
示する。次に、ユーザセットアップエディタ中の“基準
ファイル数”というパラメータに対し、自動ファイル消
去の基準となる値を設定する。“基準ファイル数”を設
定した後、図７の監視条件エディタを表示させる。この
ウィンドウ上で、ユーザはパラメータ“自動ファイル消
去機能”、“監視時間間隔”および“ファイル消去判断
方法”について、任意の設定を行なう。

【００２４】“自動ファイル消去機能”は、ファイル数
監視による自動ファイル消去のモードを設定するパラメ
ータであって、“Ｖｏｌｕｍｅ”（容量）、“Ｆｉｌｅ
Ｃｏｕｎｔ”（ファイル数）および“Ｏｆｆ”（オ
フ）の３つの選択肢があり、“Ｖｏｌｕｍｅ”を選択し
た場合は、ハードディスクの使用済み容量を基準として
自動ファイル消去を行なう。“Ｆｉｌｅ Ｃｏｕｎｔ”
を選択した場合は、ファイル数を基準として自動ファイ
ル消去を行なう。“Ｏｆｆ”を選択した場合は、ファイ
ル数監視による自動消去を行なわない。

【００２５】“監視時間間隔”は、ファイル数監視の間
隔を設定するパラメータであり、“Ｅｖｅｒｙ Ｍｏｎ
ｔｈ”（月ごと）、“Ｅｖｅｒｙ Ｗｅｅｋ”（週ご
と）および“Ｅｖｅｒｙ Ｄａｙ”（日ごと）の３つの
選択肢があり、“ＥｖｅｒｙＭｏｎｔｈ”を設定した場
合は、さらに“日”と“時間”を設定する。“Ｅｖｅｒ
ｙ Ｗｅｅｋ”を選択した場合は、図７のように、さら
に“曜日”と“時間”を設定する。“Ｅｖｅｒｙ Ｄａ
ｙ”を選択した場合は、時間を設定する。

【００２６】“ファイル消去判断方法”は、ファイルを
自動で消去する際の判断方法を設定するパラメータであ
り、“Ｕｓｅ Ｔｉｍｅ”（最終使用時刻）または“Ｆ
ｉｌｅ Ａｃｃｅｓｓ”（ファイルのアクセス回数）の
どちらかを選択する。

【００２７】以上のすべての監視条件パラメータを設定
した後、Ｓａｖｅボタン４１を押すと、設定が有効にな
り、ユーザが任意に設定した監視条件に従って、ファイ
ル数監視による自動ファイル消去処理が起動される。自
動ファイル消去処理は、実施例１の場合と同様にして行
なわれる。なお、図５のステップ１３において削除され
るファイルのバックアップをとるか否かをユーザが予め
設定できるようにする場合は、パラメータ名称表示部２
１および監視条件パラメータ入力部２２に項目を追加
し、消去するファイルのバックアップをとるか否かを選
択できるようにしてもよい。

【００２８】＜デバイス製造方法の実施例＞次に上記説
明した露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を
説明する。図８は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導
体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイ
クロマシン等）の製造のフローを示す。ステップ１（回
路設計）ではデバイスのパターン設計を行なう。ステッ
プ２（マスク製作）では設計したパターンを形成したマ
スクを製作する。一方、ステップ３（ウエハ製造）では
シリコンやガラス等の材料を用いてウエハを製造する。
ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記
用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術に
よってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ
５（組立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作
製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であ
り、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、
パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ス
テップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デ
バイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行な
う。こうした工程を経て、半導体デバイスが完成し、こ
れが出荷（ステップ７）される。

【００２９】図９は上記ウエハプロセス（ステップ４）
の詳細なフローを示す。ステップ１１（酸化）ではウエ
ハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウ
エハ表面に絶縁膜を形成する。ステップ１３（電極形
成）ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステ
ップ１４（イオン打込み）ではウエハにイオンを打ち込
む。ステップ１５（レジスト処理）ではウエハにレジス
トを塗布する。ステップ１６（露光）では上記説明した
露光装置または露光方法によってマスクの回路パターン
をウエハの複数のショット領域に並べて焼付露光する。
ステップ１７（現像）では露光したウエハを現像する。
ステップ１８（エッチング）では現像したレジスト像以
外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）で
はエッチングが済んで不要となったレジストを取り除
く。これらのステップを繰り返し行なうことによって、
ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。

【００３０】本実施例の生産方法を用いれば、従来は製
造が難しかった大型のデバイスを低コストに製造するこ
とができる。

【００３１】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、露光処
理に用いるパラメータファイルのうちの消去するもの
を、最終使用時刻またはアクセス回数に基づいて決定す
るようにしたため、ファイル数を容易に管理して、デー
タ増加によるパフォーマンスの低下を防止することがで
きるとともに、記憶装置の容量を意識せずに、記憶装置
の効率的な利用を図ることができる。

【００３２】また、ネットワーク上の他の装置における
同名のパラメータファイルについての属性情報をも考慮
して、消去するパラメータファイルの決定処理を行なう
ようにしたため、消去するパラメータファイルの決定
を、より高い信頼性をもって行なうことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１の実施例に係る半導体露光装置
の概観を示す斜視図である。

【図２】 図１の装置の内部構造を示す図である。

【図３】 図１の装置の電気回路構成を示すブロック図
である。

【図４】 図１の装置において自動ファイル消去の基準
パラメータを含む各種設定を行なうためのユーザセット
アップエディタの表示例を示す図である。

【図５】 図３のコンソールユニット内のコンソールＣ
ＰＵが実行する本発明に従ったファイル数の監視による
自動ファイル消去処理に関わる制御動作の手順を示すフ
ローチャートである。

【図６】 図５の手順において参照される同一ネットワ
ーク上の他の装置におけるファイルの属性情報を示す図
である。

【図７】 図１の装置における、ファイル監視条件を設
定する監視条件エディタの表示例を示す平面図である。

【図８】 本発明の露光装置を利用できるデバイス製造
方法を示すフローチャートである。

【図９】 図８中のウエハプロセスの詳細なフローチャ
ートである。

【符号の説明】 １０：ウィンドウタイトル領域、２０：監視条件設定領
域、２１：パラメータ名称表示部、２２：監視条件パラ
メータ入力部、３０：ガイド領域、４０：ボタン領域、
４１：Ｓａｖｅ（セーブ）ボタン、４２：Ｑｕｉｔ（ク
イット）ボタン、１０６：ＥＷＳ本体、１０２：ＥＷＳ
用ディスプレイ装置１０２、１０３：操作パネル、１０
４：ＥＷＳ用キーボード、２０２：レチクル、２０３：
ウエハ、２０４：光源装置、２０５：照明光学系、２０
６：投影レンズ、２２１：レチクル搬送装置、２３１：
ウエハ搬送装置、３２１：本体ＣＰＵ、３２２：ウエハ
ステージ駆動装置、３２４：レチクルステージ駆動装
置、３２５：照明系、３２９：搬送系、３３０：コンソ
ールユニット、３３２：ハードディスク。

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 露光処理に用いるパラメータファイルの
   うちの消去するものを、各パラメータファイルの最終使
   用時刻または各パラメータファイルに対するアクセス回
   数に基づいて決定する処理を行なうファイル消去手段を
   具備することを特徴とする露光装置。
2. 【請求項２】 前記最終使用時刻またはアクセス回数
   を、各パラメータファイルが使用される際に、その属性
   情報として記録・更新する属性情報記録手段を有するこ
   とを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 【請求項３】 前記パラメータファイルの消去を行なう
   か否かの判断基準となる基準値を設定する基準値設定手
   段を有し、前記ファイル消去手段は、前記パラメータフ
   ァイルの数が前記基準値を越えている場合に、前記消去
   するパラメータファイルの決定処理を行なうものである
   ことを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
4. 【請求項４】 前記ファイル消去手段は、各パラメータ
   ファイルについて消去するか否かを、接続されたネット
   ワーク上の他の装置において同名のパラメータファイル
   が存在するときはそのパラメータファイルについての前
   記最終使用時刻またはアクセス回数をも考慮して判定す
   ることにより、前記消去するパラメータファイルの決定
   処理を行なうものであることを特徴とする請求項１〜３
   のいずれか１項に記載の露光装置。
5. 【請求項５】 前記ファイル消去手段は、前記消去する
   パラメータファイルの決定の結果に基づいてパラメータ
   ファイルを消去する処理を行なうものであることを特徴
   とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の露光装置。
6. 【請求項６】 前記消去するパラメータファイルのバッ
   クアップをとるか否かを設定する手段を有し、前記ファ
   イル消去手段は前記パラメータファイルの消去処理に際
   し、前記設定に応じて、消去するパラメータファイルの
   バックアップファイルを作成するものであることを特徴
   とする請求項５に記載の露光装置。
7. 【請求項７】 前記ファイル消去手段による処理を行な
   うための条件を設定するための条件設定手段と、設定さ
   れた条件に従って前記ファイル消去手段による処理を制
   御する制御手段とを備えることを特徴とする請求項１〜
   ６のいずれか１項に記載の露光装置。
8. 【請求項８】 前記ファイル消去手段による処理を行な
   うための条件には、処理を行なうタイミング、および前
   記最終使用時刻またはアクセス回数のうちのいずれに基
   づいて前記消去するパラメータファイルの決定処理を行
   なうかの条件が含まれることを特徴とする請求項１〜７
   のいずれか１項に記載の露光装置。
9. 【請求項９】 露光処理に用いるパラメータファイルの
   うちの消去するものを、各パラメータファイルの最終使
   用時刻または各パラメータファイルに対するアクセス回
   数に基づいて決定する工程と、この決定に従い、消去す
   るパラメータファイルの消去を行なう工程と、前記パラ
   メータファイルのうちの必要なものを用いて露光処理を
   行なう工程とを具備し、これらの工程を露光装置により
   行なうことを特徴とするデバイス製造方法。
10. 【請求項１０】 各パラメータファイルについて消去す
    るか否かを、前記露光装置が接続されたネットワーク上
    の他の露光装置において同名のパラメータファイルが存
    在するときはそのパラメータファイルについての最終使
    用時刻またはアクセス回数をも考慮して判定することに
    より、前記消去するパラメータファイルの決定を行なう
    ことを特徴とする請求項９に記載のデバイス製造方法。