JP2000334349A - 塗工装置用ロッド - Google Patents

塗工装置用ロッド

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JP2000334349A
JP2000334349A JP15355299A JP15355299A JP2000334349A JP 2000334349 A JP2000334349 A JP 2000334349A JP 15355299 A JP15355299 A JP 15355299A JP 15355299 A JP15355299 A JP 15355299A JP 2000334349 A JP2000334349 A JP 2000334349A
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rod
coating film
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film
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JP15355299A
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Yasuto Naruse
康人 成瀬
Kiyoshi Kamiya
潔 神谷
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】塗工装置用ロッドを摩耗しにくくすることがで
きるので、分散剤を含有した塗布液を使用したり、高速
塗布したりしても塗布精度の低下や塗布不良が発生しな
い。 【解決手段】塗工装置用ロッド24は、ロッド25の表
面に形成された凸部25Bのロッド軸芯方向の断面形状
を、曲率半径(R)が100μm以上の円弧状に形成
し、この曲率半径(R)の凸部25Bを有するロッド2
5の表面にセラミックコーティング又はダイヤモンドコ
ーティングによるコーティング膜26を施したので、ロ
ッド25表面に対するコーティング膜26の密着強度が
大きくなり、クラックや剥離が発生しない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、塗工装置用ロッド
に係り、特に、薄い金属板、紙、フィルム等のシート状
或いはウエブ状の被塗工基材(以下「ウエブ」という)
に各種の液状物質(以下「塗布液」という)を塗布する
のに使用される塗工装置用ロッドに関する。
【0002】
【従来の技術】薄い金属板、紙、プラスチックフィルム
等のウエブに各種の塗布液を塗布する塗布装置として
は、ロールコータ、エアーナイフコータ、ダイを用いた
コータ、及びロッドコータ等の各種の装置が知られてい
る。これらの塗布装置の中で、ロッドコータは簡易な塗
布装置で、しかも各種の塗布液を各種のウエブに塗布で
きるので、広く利用されている。ロッドコータは、ウエ
ブに塗布された塗布液の過剰分を塗工装置用ロッドで掻
き落とすタイプのものと、ウエブへの塗布と塗布液量の
調整の両方を1つの塗工装置用ロッドで行うタイプのも
のとがある。いずれのタイプのロッドコータの場合に
も、塗工装置用ロッドのロッド表面の周方向には多数の
溝が形成されており、この溝の深さ、幅等によりウエブ
に塗布する塗布液量や掻き落とす塗布液量が調整され
る。(実開平1−65671号公報参照)塗工装置用ロ
ッドのロッド周面に溝を形成する方法としては、例え
ば、ロッドにワイヤを巻くことにより、ロッドの表面に
周方向の凹部(溝)と周方向の凸部をロッドの軸方向に
交互に形成する方法や、ロッド自体の表面に、切削加
工、転造加工、レーザー加工等により凹部(溝)と凸部
を交互に形成する方法がある。ワイヤーを巻いた塗工装
置用ロッドは、ホットメルト塗布や、比較的塗布量の多
い塗布に用いられ、ワイヤーの直径は0.08〜1.5
2mmの範囲で、一般には、0.08〜0.64mmの
ものが使用される。
【0003】ところで、生産性の向上や省エネ等の要請
により、ロッドコータによる塗布の場合にも、高濃度の
塗布液をウエブに薄く、しかも高速で塗布することが要
求されてきている。更に、工業製品の多様化、高機能化
等の流れにより、塗布液中に各種の分散剤が含有される
傾向にあり、硬質な分散剤が含有されることもある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
塗工装置用ロッドは、塗布液に分散剤、特に硬質な分散
剤が含有されたり、高速塗布を行ったりすると、ロッド
に巻いたワイヤの摩耗やロッド自体に形成した凸部が短
期間に摩耗してしまうという欠点がある。摩耗が短期間
に発生すると、塗工装置用ロッドに形成した溝の深さが
浅くなり、ウエブに塗布する塗布液量の調整精度が悪く
なるので、塗布精度が低下してしまう。従って、この塗
工装置用ロッドの短期間における摩耗は、生産性向上、
省エネ化等を達成する上での大きなネックになっている
が、有効な対策がないのが実情である。
【0005】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、硬質な分散剤を含有した塗布液を使用した
り、高速塗布したりしても塗工装置用ロッドを摩耗しに
くくすることができるので、塗布精度の低下や塗布不良
が発生しない塗工装置用ロッドを提供することを目的と
する。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は前記目的を達成
するために、連続走行するウエブに接触して該ウエブに
塗布液を転移塗布する円柱状のロッド、又は塗布液が過
剰に塗布されたウエブに接触して塗布液の過剰分を掻き
落とす円柱状のロッドであって、前記ロッド表面に周方
向の凹部と周方向の凸部とが前記ロッドの軸方向に交互
に形成された塗工装置用ロッドにおいて、前記凸部のロ
ッド軸芯方向の断面形状を、曲率半径が100μm以上
の円弧状に形成すると共に、該円弧状の凸部を有する前
記ロッド表面に硬質素材のコーティング膜を形成したこ
とを特徴とする。
【0007】本発明によれば、ロッド表面に形成された
凸部のロッド軸芯方向の断面形状を、曲率半径が100
μm以上の円弧状に形成すると共に、この曲率半径を満
足する円弧状の凸部を有する前記ロッド表面に硬質素材
のコーティング膜を形成したので、ロッド表面に対する
コーティング膜の密着強度が大きくなる。従って、硬質
な分散剤を含有した塗布液を使用したり、高速塗布した
りしてもコーティング膜が剥離しにくくできる。これに
より、塗工装置用ロッドの摩耗防止を効果的に発揮させ
ることができると共に、コーティング膜の剥離等による
塗布不良が発生しない。
【0008】
【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
る塗工装置用ロッドの好ましい実施の形態について詳説
する。図1は、ウエブに塗布された塗布液の過剰分を塗
工装置用ロッドで掻き落とすタイプのロッドコータに本
発明の塗工装置用ロッドを適用した第1の実施の形態で
ある。また、ウエブに塗布液を塗布する塗布装置として
はロールコータを用いた例で示したが、特にロールコー
タに限定するものではなく、任意の塗布装置を使用する
ことができる。
【0009】図1に示すように、矢印方向に走行するウ
エブ10は、ロールコータ12により塗布液が塗布され
る。ロールコータ12は、上側に配置されたバックアッ
プローラ14と、バックアップローラ14の下側に配置
されたコーティングローラ16とを有し、コーティング
ローラ16の回転により塗布液パン18中の塗布液20
をピックアップし、ピックアップした塗布液20をバッ
クアップローラ14に係合支持されて走行しているウエ
ブ10に転移塗布する。塗布液20が塗布されたウエブ
10は、塗布液20が未乾燥、未固化状態にあるうち
に、ロッドコータ22に走行し、ウエブ10の塗布面側
がウエブ10の走行方向と逆方向に回転する塗工装置用
ロッド24に接触させられる。これにより、ウエブ10
に塗布された塗布液20の過剰分が塗工装置用ロッド2
4により掻き落とされて、ウエブ10に塗布される塗布
液量が調整される。掻き落とす塗布液20の量は、塗工
装置用ロッド24に形成される多数の溝(凹部)25A
の深さ(L)、幅(W)や、凹部25Aから凹部25A
若しくは凸部25Bから凸部25Bのピッチ長さ(P)
等により変えることができる(図3及び図4参照)。こ
の場合、塗工装置用ロッド24を、ウエブ走行方法と同
方向に回転させても、或いは静止状態にしてもよいが、
ウエブの走行速度を高速化する場合には逆方向に回転さ
せる方がよい。
【0010】次に、塗工装置用ロッド24について説明
する。図2は、塗工装置用ロッド24の部分斜視図であ
り、図3及び図4は、塗工装置用ロッド24を軸芯方向
で切断した部分断面図であり、図3はロッド表面にコー
ティング膜を形成する前、図4はコーティング膜を形成
した後である。塗工装置用ロッド24は、円柱状に形成
されたロッド25表面の周方向には多数の溝が形成さ
れ、これにより、ロッド25表面に周方向の凹部25A
と周方向の凸部25Bとがロッド25の軸方向に交互に
形成される。ロッド25表面に凹部25Aと凸部25B
を交互に形成する方法としては、ロッド自体を切削加
工、転造加工、レーザー加工等の加工処理する方法、或
いはロッド25の表面にワイヤを巻回する方法がある。
【0011】また、図3に示すように、凸部25Bのロ
ッド軸芯方向の断面形状は、曲率半径(R)が100μ
m以上の円弧状に形成される。そして、本発明の塗工装
置用ロッド24は、図4に示すように、曲率半径(R)
が100μm以上の円弧状に形成された凸部25Bを有
するロッド表面に、硬質素材のコーティング膜26が施
されて構成される。コーティング膜26の形成は、コー
ティング処理でも、薄膜状のコーティング膜を貼り付け
るようにしてもよい。
【0012】硬質素材のコーティング膜26としては、
セラミックコーティング膜又はダイヤモンドコーティン
グ膜のように超硬質なものが好ましいが、これに限定さ
れるものではなく、例えばメッキ処理による金属コーテ
ィング膜や硬質性樹脂のコーティング膜を形成すること
もできる。セラミックコーティング膜26としては、例
えばTiN、TiCN、CrN、TiC、Al2 3
Cr2 3 、SiO3 、Ti2 3 、AlN、ZrN、
SiC等を用いることができるが、特にこれらに限定す
るものではない。セラミックをコーティングする方法も
各種方式で行うことができるが、代表的な方法として
は、PVD法(hysical apor ep
osition)とCVD法(hemical
por eposition)である。更にPVDに
は、熱蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、
ダイナミックミキシング等の方法がある。
【0013】ロッド自体を切削加工、転造加工、レーザ
ー加工等することにより、ロッド表面に凹部と凸部を交
互に形成する方法の中で、転造加工は他の加工方法より
もロッド25の表面を高硬度にすることができるので、
セラミックやダイヤモンドのように超硬質膜なコーティ
ング膜26の密着性を高めることができる。更に、転造
加工は、ロッド母材の繊維の切断もなく、ロッド25表
面の荒れも少ないのでコーティング膜26の密着性を一
層高めることができる。
【0014】また、塗工装置用ロッド24の摩耗防止に
必要なコーティング膜26の膜厚(t)の適正値は、
0.5μm〜10μm程度であるが、凸部25Bの曲率
半径(R)によりコーティング膜26の膜厚(t)の適
正値が異なる。即ち、コーティング膜26の膜厚(t)
を厚くすれば摩耗防止効果が大きくなるが、厚くし過ぎ
るとコーティング膜26にクラックが入ったり、剥離し
やすくなるためにウエブの塗布不良を発生させる。従っ
て、コーティング膜26にクラックや剥離を発生させず
に摩耗防止効果を最大限に発揮させるためには、凸部2
5Bの曲率半径(R)に応じてコーティング膜26の膜
厚(t)を適切に変えることが重要である。
【0015】そこで、本発明の発明者は、図1に示した
ロッドコータを使用して、塗工装置用ロッド24をウエ
ブ10の走行方向に対して逆方向に回転させたり、塗布
液中に硬質な分散剤が含有されている場合でも、コーテ
ィング膜26にクラックや剥離を発生させずに塗工装置
用ロッド24の摩耗防止を最大限に発揮させるための条
件を鋭意検討した。その結果、例えば、凸部25Bの曲
率半径(R)が100μmと小さい場合には、クラック
や剥離が発生しないコーティング膜26の膜厚(t)の
最小値は0.5μmであり、最大値は10μmであっ
た。凸部25Bの曲率半径(R)が500μmと大きい
場合には、クラックや剥離が発生しないコーティング膜
26の膜厚(t)の最小値は2.5μmであり、最大値
は50μmであった。凸部25Bの曲率半径(R)が3
00μmと前記100μmと500μmの中間の大きさ
の場合には、クラックや剥離が発生しないコーティング
膜26の膜厚(t)の最小値は1.5μmであり、最大
値は30μmであった。
【0016】これらの結果から分かるように、コーティ
ング膜26にクラックや剥離を発生させずに摩耗防止効
果を最大限に発揮させるための条件は、凸部25Bの曲
率半径(R)とコーティング膜26の膜厚(t)との比
(t/R)が0.005〜0.1の範囲になるように、
曲率半径(R)とコーティング膜の膜厚(t)の関係を
設定すればよい。
【0017】また、上記の比(t/R)が0.005〜
0.1である凸部25Bの曲率半径(R)とコーティン
グ膜26の膜厚(t)の関係は、曲率半径(R)が50
0μmを越えると関係性が低下することから、曲率半径
(R)の最大値は500μm以下であることが好まし
い。従って、コーティング膜26の密着作用が十分に働
くための平坦面の幅(d)は前記したように100μm
以上で、且つ比(t/R)の0.005〜0.1の関係
性が高いための曲率半径(R)は500μm以下である
ことから、凸部25Bの曲率半径(R)100μm〜5
00μmの範囲に設定することが好ましい。
【0018】このように、本発明の塗工装置用ロッド2
4によれば、ロッド表面に形成された凸部25Bの曲率
半径(R)を100μmにした状態で、ロッド表面に硬
質材料のコーティング膜26を形成したので、ロッド表
面に対するコーティング膜26の密着強度が大きくな
る。従って、硬質な分散剤を含有した塗布液20を使用
したり、高速塗布したりしてもコーティング膜26にク
ラックや剥離が発生しにくくできる。これにより、コー
ティング膜26による塗工装置用ロッド24の摩耗防止
を効果的に達成できると共に、コーティング膜26のク
ラックや剥離による塗布不良が発生しない。この場合、
凸部25Bの曲率半径(R)が100μm以上になるよ
うにしたので、凸部25Bへのコーティング膜26の密
着作用が効果的に発揮され、ロッド25表面に対するコ
ーティング膜26の密着強度を一層大きくできる。ま
た、凸部25Bの曲率半径(R)とコーティング膜26
の膜厚(t)との比(t/R)が0.005〜0.1の
範囲になるように、凸部25Bの曲率半径(R)とコー
ティング膜の膜厚(t)の関係を設定したので、コーテ
ィング膜26にクラックや剥離を発生させずに摩耗防止
効果を最大限に発揮させるための塗工装置用ロッド24
を簡単に製作することができる。
【0019】従って、ロッドコータの塗工装置用ロッド
として、本発明の塗工装置用ロッド24を用いれば、硬
質な分散剤を含有した塗布液20を使用したり、高速塗
布したりしても塗工装置用ロッド24の摩耗を極めて小
さくすることができるので、塗布精度が低下したり塗布
不良が発生しない。図5は、ウエブ10への塗布と塗布
液量の調整の両方を1つの塗工装置用ロッドで行うタイ
プのロッドコータ28に本発明の塗工装置用ロッド24
を適用した第2の実施の形態である。
【0020】図5に示すように、走行するウエブ10に
接触した状態で、ウエブ10の巾方向に本発明の塗工装
置用ロッド24が配設される。塗工装置用ロッド24
は、ウエブ10が走行する方向に回転軸30を中心に回
転可能であると共に、ロッド支持部材32上に回転を阻
害しないように支持される。ロッド支持部材32は、塗
工装置用ロッド24に撓みが発生するのを防止すると共
に、塗工装置用ロッド24に塗布液20を供給する役目
を行う。即ち、ロッド支持部材32と堰部材34とで形
成された塗布液供給路36に供給された塗布液20は、
ウエブ10と塗工装置用ロッド24の接触部に塗布液2
0の液だまり38を形成する。そして、回転する塗工装
置用ロッド24により液だまり38の塗布液20がウエ
ブ10に転移塗布される。この塗工装置用ロッド24の
周面の周方向には、塗工装置用ロッド24の略全長に渡
って溝(凹部25A)が形成され、この溝(凹部25
A)の深さ、幅、ピッチPにより塗布液量を調節する
(図3及び図4参照)。
【0021】上記ロッドコータ28にも、第1の実施の
形態で説明したと同様の塗工装置用ロッド24が適用さ
れる。即ち、第2の実施の形態の場合にも第1の実施の
形態と同様に、ロッド表面に対するコーティング膜の剥
離防止作用を発揮させるために必要な凸部25Bの曲率
半径(R)は100μm以上である。また、コーティン
グ膜26にクラックや剥離を発生させずに摩耗防止効果
を最大限に発揮させるための条件は、凸部25Bの曲率
半径(R)とコーティング膜の膜厚(t)との比(t/
R)が0.005〜0.1の範囲になるように、曲率半
径(R)とコーティング膜の膜厚(t)の関係を設定す
ることが必要である。
【0022】これにより、第2の実施の形態の場合に
も、ロッド25表面に対するコーティング膜26の密着
強度が大きくなる。従って、硬質な分散剤を含有した塗
布液20を使用したり、高速塗布したりしてもコーティ
ング膜26が剥離しにくくなるので、コーティング膜2
6による塗工装置用ロッド24の摩耗防止を効果的に達
成することができると共に、塗布不良が発生しない。
【0023】尚、本発明に使用されるウエブとしては、
帯状のものでもシート状のものでも良く、アルミニウム
等の薄板金属、紙、プラスチックフィルム、レジンコー
ティング紙、合成紙等を使用できる。プラスチックフィ
ルムの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等
のポリオレフィン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、
ポリスチレン等のビニル重合体、6,6─ナイロン、6
─ナイロン等のポリアミド、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン─2,6─ナフタレート等のポリエス
テル、ポリカーボネート、セルトーストリアセテート、
セルロースダイアセテート等のセルロースアセテト等が
使用される。また、レジンコーティング紙に用いるレジ
ンとしては、ポリエチレンをはじめとするポリオレフィ
ンが代表的であるが、これらには限定されない。ウエブ
10の厚みも特に限定されないが、0.01mm〜1.
0mm程度のものが取り扱い、汎用性の点で有利であ
る。
【0024】
【実施例】次に、図1に示したロッドコータを使用して
塗工装置用ロッドをウエブの走行方向に対して逆方向に
回転させて行った本発明の実施例を説明する。〔実施
例〕径が10mm、長さが1000mmのステンレス製
ロッドの凸部の前記した曲率半径(R)を300μmと
し、この曲率半径(R)を有すロッド表面に、スパッタ
リング法によりTiNのコーティング膜を3μmの厚み
にコーティングした。これにより、図4に示す塗工装置
用ロッドを製作した。ロッドの凹部(溝)のピッチ
(p)は300μmであり、深さ(L)は40μmであ
る。 〔比較例1〕実施例の塗工装置用ロッドにおいてコーテ
ィング膜を形成しない他は、実施例の塗工装置用ロッド
と同様である。 〔比較例2〕実施例と同様に、凸部上面に平坦面を形成
してからスパッタリング法によりTiN膜をコーティン
グしたが、凸部の曲率半径(R)を80μmとして本発
明の曲率半径(R)基準(100μm以上)よりも小さ
くすると共に、コーティング膜の膜厚(t)を3μmと
した。それ以外は、実施例と同様である。
【0025】実施例、比較例1〜2ともに、塗布液はア
クリル系の樹脂を18%含有する粘度39cpのものを
使用した。また、ウエブはアルミニウムを表面処理した
0.2mm厚のものを使用して、70m/分で走行させ
た。その結果、実施例の塗工装置用ロッドは、塗布液が
塗布されたウエブ長さが累積で20000mになって
も、ウエブ塗布面の欠陥や塗布量の精度低下が発生せ
ず、良好な塗布を行うことができた。塗布終了後、塗工
装置用ロッドを検査したがコーティング膜のクラック、
剥離などは見られなかった。また、ウエブ長さが累積2
0000m使用後でも、コーティング膜の摩耗は僅かに
0.11μmであった。
【0026】これに対し、比較例1の塗工装置用ロッド
は、塗布液が塗布されたウエブ長さが700mの時点で
ウエブ塗布面に塗布スジが発生し始め、正常な塗布の継
続が困難になった。また、比較例2の塗工装置用ロッド
は、塗布液が塗布されたウエブ長さが累積で2300m
になったときにウエブ塗布面に塗布スジが発生した。こ
の時の塗工装置用ロッドの表面を検査したところ、塗布
スジが発生したウエブ部位に対応するロッド部位に微小
なコーティング膜の剥離が見られた。
【0027】以上の実施例と比較例1〜2の対比から明
らかなように、本発明の塗工装置用ロッドは、コーティ
ング膜にクラックや剥離を発生させずに摩耗防止効果を
最大限に発揮させることができた。また、比較例1〜2
の結果から分かるように、ロッドに単にコーティング膜
を形成しても、コーティング膜のクラックや剥離により
塗布不良を発生させてしまう。従って、コーティング膜
にクラックや剥離を長期間発生させないで塗工装置用ロ
ッドの摩耗防止効果を発揮させるためには、凸部の曲率
半径(R)を100μm以上とすることが好ましく、更
に好ましくは、凸部の曲率半径(R)とコーティング膜
の膜厚(t)との比(t/R)が0.005〜0.1の
範囲になるように、曲率半径(R)とコーティング膜の
膜厚(t)の関係を設定することがよい。
【0028】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の塗工装置
用ロッドによれば、分散剤を含有した塗布液を使用した
り、高速塗布したりしてもコーティング膜にクラックが
生じたり剥離したりすることなく、コーティング膜によ
り塗工装置用ロッドの磨耗を効果的に抑制することがで
きる。従って、塗布精度が低下したり、塗布スジ等の塗
布不良が発生することがないので、生産ロスを著しく低
減することができると共に、塗工装置用ロッドを頻繁に
交換する必要がないので、生産性を向上させることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】ウエブに塗布された塗布液の過剰分を塗工装置
用ロッドで掻き落とすタイプのロッドコータに本発明の
塗工装置用ロッドを適用した第1の実施の形態を説明す
る説明図
【図2】塗工装置用ロッドの部分斜視図
【図3】コーティング膜を形成する前の塗工装置用ロッ
ドの部分断面図
【図4】コーティング膜を形成した後の本発明の塗工装
置用ロッドの部分断面図
【図5】ウエブへの塗布と塗布液量の調整の両方を1つ
の塗工装置用ロッドで行うタイプのロッドコータに本発
明の塗工装置用ロッドを適用した第2の実施の形態を説
明する説明図
【符号の説明】
10…ウエブ、12…ロールコータ、20…塗布液、2
2…ロッドコータ、24…塗工装置用ロッド、25A…
溝(凹部)、25B…凸部、25…ロッド、25C…凸
部上面、26…コーティング膜、28…ロッドコータ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】連続走行するウエブに接触して該ウエブに
    塗布液を転移塗布する円柱状のロッド、又は塗布液が過
    剰に塗布されたウエブに接触して塗布液の過剰分を掻き
    落とす円柱状のロッドであって、前記ロッド表面に周方
    向の凹部と周方向の凸部とが前記ロッドの軸方向に交互
    に形成された塗工装置用ロッドにおいて、 前記凸部のロッド軸芯方向の断面形状を、曲率半径が1
    00μm以上の円弧状に形成すると共に、該円弧状の凸
    部を有する前記ロッド表面に硬質素材のコーティング膜
    を形成したことを特徴とする塗工装置用ロッド。
  2. 【請求項2】前記コーティング膜は、セラミックコーテ
    ィング膜又はダイヤモンドコーティング膜であることを
    特徴とする請求項1の塗工装置用ロッド。
  3. 【請求項3】前記曲率半径(R)と前記コーティング膜
    の膜厚(t)との比(t/R)が0.005〜0.1の
    範囲になるように、前記曲率半径(R)と前記コーティ
    ング膜の膜厚(t)の関係を設定したことを特徴とする
    請求項1又は2の塗工装置用ロッド。
JP15355299A 1999-06-01 1999-06-01 塗工装置用ロッド Pending JP2000334349A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP1334778A2 (en) 2002-02-08 2003-08-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Rod for a coating device, and process for producing the same

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