JP2000343012A - 塗工装置用ロッド - Google Patents
塗工装置用ロッドInfo
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- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
きるので、分散剤を含有した塗布液を使用したり、高速
塗布したりしても塗布精度の低下や塗布不良が発生しな
い。 【解決手段】塗工装置用ロッド24は、ロッド25の表
面に形成された凸部上面25Cを平坦面にして、ロッド
25の表面にセラミックコーティング又はダイヤモンド
コーティングによるコーティング膜26を施したので、
ロッド25表面に対するコーティング膜26の密着強度
が大きくなり、クラックや剥離が発生しない。
Description
に係り、特に、薄い金属板、紙、フィルム等のシート状
或いはウエブ状の被塗工基材(以下「ウエブ」という)
に各種の液状物質(以下「塗布液」という)を塗布する
のに使用される塗工装置用ロッドに関する。
等のウエブに各種の塗布液を塗布する塗布装置として
は、ロールコータ、エアーナイフコータ、ダイを用いた
コータ、及びロッドコータ等の各種の装置が知られてい
る。これらの塗布装置の中で、ロッドコータは簡易な塗
布装置で、しかも各種の塗布液を各種のウエブに塗布で
きるので、広く利用されている。ロッドコータは、ウエ
ブに塗布された塗布液の過剰分を塗工装置用ロッドで掻
き落とすタイプのものと、ウエブへの塗布と塗布液量の
調整の両方を1つの塗工装置用ロッドで行うタイプのも
のとがある。いずれのタイプのロッドコータの場合に
も、塗工装置用ロッドのロッド表面の周方向には多数の
溝が形成されており、この溝の深さ、幅等によりウエブ
に塗布する塗布液量や掻き落とす塗布液量が調整され
る。
する方法としては、例えば、ロッドにワイヤを巻くこと
により、ロッドの表面に周方向の凹部(溝)と周方向の
凸部をロッドの軸方向に交互に形成する方法や、ロッド
自体の表面に、切削加工、転造加工、レーザー加工等に
より凹部(溝)と凸部を交互に形成する方法がある(実
開平1−65671号公報)。ワイヤーを巻いた塗工装
置用ロッドは、ホットメルト塗布や、比較的塗布量の多
い塗布に用いられ、ワイヤーの直径は0.08〜1.5
2mmの範囲で、一般には、0.08〜0.64mmの
ものが使用される。
により、ロッドコータによる塗布の場合にも、高濃度の
塗布液をウエブに薄く、しかも高速で塗布することが要
求されてきている。更に、工業製品の多様化、高機能化
等の流れにより、塗布液中に各種の分散剤が含有される
傾向にあり、硬質な分散剤が含有されることもある。
塗工装置用ロッドは、塗布液に分散剤、特に硬質な分散
剤が含有されたり、高速塗布を行ったりすると、ロッド
に巻いたワイヤの摩耗やロッド自体に形成した凸部が短
期間に摩耗してしまうという欠点がある。摩耗が短期間
に発生すると、塗工装置用ロッドに形成した溝の深さが
浅くなり、ウエブに塗布する塗布液量の調整精度が悪く
なるので、塗布精度が低下してしまう。従って、この塗
工装置用ロッドの短期間における摩耗は、生産性向上、
省エネ化等を達成する上での大きなネックになっている
が、有効な対策がないのが実情である。
たもので、硬質な分散剤を含有した塗布液を使用した
り、高速塗布したりしても塗工装置用ロッドを摩耗しに
くくすることができるので、塗布精度の低下や塗布不良
が発生しない塗工装置用ロッドを提供することを目的と
する。
するために、連続走行するウエブに接触して該ウエブに
塗布液を転移塗布する円柱状のロッド、又は塗布液が過
剰に塗布されたウエブに接触して塗布液の過剰分を掻き
落とす円柱状のロッドであって、前記ロッド表面に周方
向の凹部と周方向の凸部とが前記ロッドの軸方向に交互
に形成された塗工装置用ロッドにおいて、前記凸部上面
を平坦面に形成すると共に、前記平坦面を有するロッド
表面に、硬質素材のコーティング膜を形成したことを特
徴とする。
凸部の上面を平坦面に形成し、この平坦面を有するロッ
ド表面に、硬質素材のコーティング膜を形成したので、
ロッド表面に対するコーティング膜の密着強度が大きく
なる。従って、硬質な分散剤を含有した塗布液を使用し
たり、高速塗布したりしてもコーティング膜が剥離しに
くくできる。これにより、塗工装置用ロッドの摩耗防止
が効果的に達成されると共に、コーティング膜の剥離等
による塗布不良が発生しない。
る塗工装置用ロッドの好ましい実施の形態について詳説
する。図1は、ウエブに塗布された塗布液の過剰分を塗
工装置用ロッドで掻き落とすタイプのロッドコータに本
発明の塗工装置用ロッドを適用した第1の実施の形態で
ある。また、ウエブに塗布液を塗布する塗布装置として
はロールコータを用いた例で示したが、特にロールコー
タに限定するものではなく、任意の塗布装置を使用する
ことができる。
エブ10は、ロールコータ12により塗布液が塗布され
る。ロールコータ12は、上側に配置されたバックアッ
プローラ14と、バックアップローラ14の下側に配置
されたコーティングローラ16とを有し、コーティング
ローラ16の回転により塗布液パン18中の塗布液20
をピックアップする。そして、ピックアップした塗布液
20をバックアップローラ14に係合支持されて走行し
ているウエブ10に転移塗布する。塗布液20が塗布さ
れたウエブ10は、塗布液20が未乾燥、未固化状態に
あるうちに、ロッドコータ22に走行し、ウエブ10の
塗布面側がウエブ10の走行方向と逆方向に回転する塗
工装置用ロッド24に接触させられる。これにより、ウ
エブ10に塗布された塗布液20の過剰分が塗工装置用
ロッド24により掻き落とされて、ウエブ10に塗布さ
れる塗布液量が調整される。掻き落とす塗布液20の量
は、塗工装置用ロッド24に形成される多数の溝(凹
部)25Aの深さ(L)、幅(W)や、凹部25Aから
凹部25A若しくは凸部25Bから凸部25Bのピッチ
長さ(P)等により変えることができる(図3及び図4
参照)。この場合、塗工装置用ロッド24を、ウエブ走
行方法と同方向に回転させても、或いは静止状態にして
もよいが、ウエブの走行速度を高速化する場合には逆方
向に回転させる方がよい。
する。図2は、塗工装置用ロッド24の部分斜視図であ
り、図3及び図4は、塗工装置用ロッド24を軸方向で
切断した部分断面図であり、図3はロッド表面にコーテ
ィング膜を形成する前、図4はコーティング膜を形成し
た後である。塗工装置用ロッド24は、円柱状に形成さ
れたロッド25表面の周方向には多数の溝が形成され、
これにより、ロッド25表面に周方向の凹部25A
(溝)と周方向の凸部25Bとがロッド25の軸方向に
交互に形成される。また、図3に示すように、ロッド2
5表面に形成された凸部上面25Cは平坦面に形成され
る。凸部上面25Cを平坦面に形成する方法としては、
切削加工、転造加工、レーザー加工等により溝(凹部2
5A)を形成する塗工装置用ロッド24の場合には、加
工時において平坦面を形成する。一方、ロッド表面にワ
イヤを巻いて溝(凹部25A)を形成する塗工装置用ロ
ッド24の場合には、巻回されたワイヤ表面を研磨する
ことにより平坦面を形成する。
は、図4に示すように、凸部上面25Cに平坦面を有す
るロッド表面に、硬質素材のコーティング膜26が形成
されて構成される。コーティング膜26の形成は、コー
ティング処理でも、薄膜状のコーティング膜を貼り付け
るようにしてもよい。硬質素材のコーティング膜26と
しては、セラミックコーティング膜又はダイヤモンドコ
ーティング膜のように超硬質なものが好ましいが、これ
に限定されるものではなく、例えばメッキ処理による金
属コーティング膜や硬質性樹脂のコーティング膜を形成
することもできる。
ばTiN、TiCN、CrN、TiC、Al2 O3 、C
r2 O3 、SiO3 、Ti2 O3 、AlN、ZrN、S
iC等を用いることができるが、特にこれらに限定する
ものではない。セラミックをコーティングする方法も各
種方式で行うことができるが、代表的な方法としては、
PVD法(Physical Vapor Depos
ition)とCVD法(Chemical Vapo
r Deposition)である。更にPVDには、
熱蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、ダイ
ナミックミキシング等の方法がある。
ー加工等することにより、凸部上面25Cを平坦面にす
る加工方法の中で、転造加工は他の加工方法よりもロッ
ド25の表面を高硬度にすることができるので、セラミ
ックやダイヤモンドのように超硬質膜なコーティング膜
26の密着性を高めることができる。更に、転造加工
は、ロッド母材の繊維の切断もなく、ロッド25表面の
荒れも少ないのでコーティング膜26の密着性を一層高
めることができる。
ィング膜26にクラックや剥離が発生しないようにする
ためには、ロッド25の表面に形成された凸部上面25
Cの平坦面の幅(d)を、10μm以上にすることが必
要である。これにより、ロッド25の表面に対するコー
ティング膜26の密着強度を十分大きくすることがで
き、同時に塗布時において走行するウエブ10により塗
工装置用ロッド24に加わる剪断力や圧力を減少させる
ことができる。その結果、塗工装置用ロッド24の回転
をウエブ10の走行方向に対して逆回転したり、塗布液
中に硬質な分散剤が添付されている場合のように、塗工
装置用ロッド24に大きな剪断力が加わるような場合に
も、コーティング膜26が長期間剥離しないようにでき
る。一方、凸部上面25Cの平坦面の幅(d)を10μ
m未満にした場合には、凸部上面25Cの平坦面による
コーティング膜26の密着作用が十分に働かないため、
ロッド25の表面に対するコーティング膜26の密着強
度が急激に小さくなる。この結果、ウエブ10の走行方
向に対して塗工装置用ロッド24が逆回転する場合に
は、コーティング膜26にクラックが入ったり一部剥離
したりする。
必要なコーティング膜26の膜厚(t)の適正値は、
0.5μm〜10μm程度であるが、凸部上面25Cの
平坦面の幅(d)によりコーティング膜26の膜厚
(t)の適正値が異なる。即ち、コーティング膜26の
膜厚(t)を厚くすれば摩耗防止効果が大きくなるが、
厚くし過ぎるとコーティング膜26にクラックが入った
り、剥離しやすくなるためにウエブの塗布不良を発生さ
せる。従って、コーティング膜26にクラックや剥離を
発生させずに摩耗防止効果を最大限に発揮させるために
は、凸部上面25Cの平坦面の幅(d)に応じてコーテ
ィング膜26の膜厚(t)を適切に変えることが重要で
ある。
ロッドコータを使用して、塗工装置用ロッド24をウエ
ブ10の走行方向に対して逆方向に回転させたときに、
コーティング膜26にクラックや剥離を発生させずに塗
工装置用ロッド24の摩耗防止を最大限に発揮させるた
めの条件を鋭意検討した。その結果、例えば、凸部上面
25Cの平坦面の幅(d)が50μmと比較的に狭い場
合には、クラックや剥離が発生しないコーティング膜2
6の膜厚(t)の最小値は0.5μmであり、最大値は
5μmであった。凸部上面25Cの平坦面の幅(d)が
200μmと比較的に広い場合には、クラックや剥離が
発生しないコーティング膜26の膜厚(t)の最小値は
2μmであり、最大値は20μmであった。凸部上面2
5Cの平坦面の幅(d)が100μmと前記50μmと
200μmの略中間的な場合には、クラックや剥離が発
生しないコーティング膜26の膜厚(t)の最小値は1
μmであり、最大値は10μmであった。
ング膜26にクラックや剥離を発生させずに摩耗防止効
果を最大限に発揮させるための条件は、凸部上面25C
の平坦面の幅(d)とコーティング膜26の膜厚(t)
との比(t/d)が0.01〜0.1の範囲になるよう
に、平坦面の幅(d)とコーティング膜の膜厚(t)の
関係を設定すればよい。
0.1である凸部上面25Cの平坦面の幅(d)とコー
ティング膜26の膜厚(t)の関係は、平坦面の幅
(d)が500μmを越えると関係性が低下することか
ら、平坦面の幅(d)の最大値は500μm以下である
ことが好ましい。従って、コーティング膜26の密着作
用が十分に働くための平坦面の幅(d)は前記したよう
に10μm以上で、且つ比(t/d)の0.01〜0.
1関係性が高いための平坦面の幅(d)は500μm以
下であることから、平坦面の幅(d)は10μm〜50
0μmの範囲に設定することが好ましい。
4によれば、ロッド表面に形成された凸部25の上面2
5Cを平坦面にした状態で、ロッド表面にコーティング
膜26を形成したので、ロッド表面に対するコーティン
グ膜26の密着強度が大きくなる。従って、硬質な分散
剤を含有した塗布液20を使用したり、高速塗布したり
してもコーティング膜26にクラックや剥離が発生しに
くくできる。これにより、コーティング膜26による塗
工装置用ロッド24の摩耗防止を効果的に達成できると
共に、コーティング膜26のクラックや剥離による塗布
不良が発生しない。
凸部25一つ当たり10μm以上になるようにしたの
で、平坦面によるコーティング膜26の密着作用が効果
的に発揮され、コーティング膜26の密着強度を一層大
きくできる。また、凸部上面25Cの平坦面の幅(d)
とコーティング膜26の膜厚(t)との比(t/d)が
0.01〜0.1の範囲になるように、平坦面の幅
(d)とコーティング膜の膜厚(t)の関係を設定した
ので、コーティング膜26にクラックや剥離を発生させ
ずに摩耗防止効果を最大限に発揮させるための塗工装置
用ロッド24を簡単に製作することができる。
として、本発明の塗工装置用ロッド24を用いれば、硬
質な分散剤を含有した塗布液20を使用したり、高速塗
布したりしても塗工装置用ロッド24の摩耗を極めて小
さくすることができるので、塗布精度が低下したり塗布
不良が発生しない。図5は、ウエブ10への塗布と塗布
液量の調整の両方を1つの塗工装置用ロッドで行うタイ
プのロッドコータ28に本発明の塗工装置用ロッド24
を適用した第2の実施の形態である。
接触した状態で、ウエブ10の巾方向に本発明の塗工装
置用ロッド24が配設される。塗工装置用ロッド24
は、ウエブ10が走行する方向に回転軸30を中心に回
転可能であると共に、ロッド支持部材32上に回転を阻
害しないように支持される。ロッド支持部材32は、塗
工装置用ロッド24に撓みが発生するのを防止すると共
に、塗工装置用ロッド24に塗布液20を供給する役目
を行う。即ち、ロッド支持部材32と堰部材34とで形
成された塗布液供給路36に供給された塗布液20は、
ウエブ10と塗工装置用ロッド24の接触部に塗布液2
0の液だまり38を形成する。そして、回転する塗工装
置用ロッド24により液だまり38の塗布液20がウエ
ブ10に転移塗布される。この塗工装置用ロッド24の
周面の周方向には、塗工装置用ロッド24の略全長に渡
って溝(凹部25A)が形成され、この溝(凹部25
A)の深さ、幅、ピッチPにより塗布液量を調節する
(図3及び図4参照)。
形態で説明したと同様の塗工装置用ロッド24が適用さ
れる。即ち、第2の実施の形態の場合にも第1の実施の
形態と同様に、ロッド表面に対するコーティング膜26
の剥離防止作用を発揮させるために必要な凸部上面25
Cの平坦面の幅(d)は、10μm以上である。また、
コーティング膜26にクラックや剥離を発生させずに摩
耗防止効果を最大限に発揮させるための条件は、凸部2
5上面25Dの平坦面の幅(d)とコーティング膜26
の膜厚(t)との比(t/d)が0.01〜0.1の範
囲になるように、平坦面の幅(d)とコーティング膜2
6の膜厚(t)の関係を設定することが好ましい。
も、ロッド25表面に対するコーティング膜26の密着
強度が大きくなる。従って、分散剤を含有した塗布液2
0を使用したり、高速塗布したりしてもコーティング膜
26が剥離しにくくなるので、コーティング膜26によ
る塗工装置用ロッド24の摩耗防止を効果的に達成する
ことができると共に、塗布不良が発生しない。
帯状のものでもシート状のものでも良く、アルミニウム
等の薄板金属、紙、プラスチックフィルム、レジンコー
ティング紙、合成紙等を使用できる。プラスチックフィ
ルムの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等
のポリオレフィン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、
ポリスチレン等のビニル重合体、6,6─ナイロン、6
─ナイロン等のポリアミド、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン─2,6─ナフタレート等のポリエス
テル、ポリカーボネート、セルトーストリアセテート、
セルロースダイアセテート等のセルロースアセテト等が
使用される。また、レジンコーティング紙に用いるレジ
ンとしては、ポリエチレンをはじめとするポリオレフィ
ンが代表的であるが、これらには限定されない。ウエブ
10の厚みも特に限定されないが、0.01mm〜1.
0mm程度のものが取り扱い、汎用性の点で有利であ
る。
塗工装置用ロッドをウエブの走行方向に対して逆方向に
回転させて行った本発明の実施例を説明する。 〔実施例〕径が10mm、長さが1000mmのステン
レス製ロッドの凸部上面に平坦面を形成すると共に、そ
の平坦面の幅(d)を50μmとし、この平坦面を有す
ロッド表面に、スパッタリング法によりTiNのコーテ
ィング膜を3μmの厚みにコーティングした。これによ
り、図4に示す塗工装置用ロッドを製作した。ロッドの
凹部(溝)のピッチ(p)は300μmであり、深さ
(L)は40μmである。 〔比較例1〕実施例の塗工装置用ロッドにおいてコーテ
ィング膜を形成しない他は、実施例の塗工装置用ロッド
と同様である。 〔比較例2〕実施例と同様に、凸部上面に平坦面を形成
してからスパッタリング法によりTiN膜をコーティン
グしたが、平坦面の幅(d)を7μmとして本発明の平
坦面の幅基準(10μm)よりも小さくすると共に、コ
ーティング膜の膜厚(t)を3μmとして、本発明の比
(t/d)の範囲(0.01〜0.1)から外れるよう
にした。それ以外は、実施例と同様である。 〔比較例3〕コーティング膜の厚みを、実施例と同じよ
うにTiN膜3μmとしたが、凸部上面を平坦面にせず
に円弧状にした。それ以外は、実施例と同様である。
クリル系の樹脂を15%含有する粘度28cpのものを
使用した。また、ウエブはアルミニウムを表面処理した
0.2mm厚のものを使用して、70m/分で走行させ
た。その結果、実施例の塗工装置用ロッドは、塗布液が
塗布されたウエブ長さが累積で20000mになって
も、ウエブ塗布面の欠陥や塗布量の精度低下が発生せ
ず、良好な塗布を行うことができた。塗布終了後、塗工
装置用ロッドを検査したがコーティング膜のクラック、
剥離などは見られなかった。また、ウエブ長さが累積2
0000m使用後でも、コーティング膜の摩耗は僅かに
0.1μmであった。
は、塗布液が塗布されたウエブ長さが800mの時点で
ウエブ塗布面に塗布スジが発生し始め、正常な塗布の継
続が困難になった。また、比較例2の塗工装置用ロッド
は、塗布液が塗布されたウエブ長さが累積で2800m
になったときにウエブ塗布面に塗布スジが発生した。こ
の時の塗工装置用ロッドの表面を検査したところ、塗布
スジが発生したウエブ部位に対応するロッド部位にコー
ティング膜の微小な剥離が見られた。
布液が塗布されたウエブ長さが累積で1500mを越え
るとウエブ塗布面に多くの塗布スジが発生した。この時
の塗工装置用ロッドの表面を検査したところ、コーティ
ング膜の剥離が散見された。このことは、凸部上面が半
円状の場合には、ロッド表面に対するコーティング膜の
密着作用が小さいためと考察される。
らかなように、本発明の塗工装置用ロッドは、コーティ
ング膜にクラックや剥離を発生させずに摩耗防止効果を
最大限に発揮させることができた。また、比較例1〜3
の結果から分かるように、ロッドに単にコーティング膜
を形成しても、コーティング膜のクラックや剥離により
塗布不良を発生させてしまう。従って、コーティング膜
にクラックや剥離を長期間発生させないで塗工装置用ロ
ッドの摩耗防止効果を発揮させるためには、凸部上面の
平坦面の幅(d)を10μm以上とすることが好まし
く、更に好ましくは、凸部の平坦面の幅(d)とコーテ
ィング膜の膜厚(t)との比(t/d)が0.01〜
0.1の範囲になるように、平坦面の幅(d)とコーテ
ィング膜の膜厚(t)の関係を設定することがよい。
用ロッドによれば、塗工装置用ロッドを摩耗しにくくす
ることができるので、硬質な分散剤を含有した塗布液を
使用したり高速塗布したりしても、コーティング膜にク
ラックが生じたり剥離したりしにくくできる。従って、
コーティング膜により塗工装置用ロッドの磨耗を効果的
に抑制することができるので、塗布精度が低下したり、
塗布スジ等の塗布不良が発生することがない。これによ
り、生産ロスを著しく低減することができると共に、塗
工装置用ロッドを頻繁に交換する必要がないので、生産
性を向上させることができる。
用ロッドで掻き落とすタイプのロッドコータに本発明の
塗工装置用ロッドを適用した第1の実施の形態を説明す
る説明図
ドの部分断面図
置用ロッドの部分断面図
の塗工装置用ロッドで行うタイプのロッドコータに本発
明の塗工装置用ロッドを適用した第2の実施の形態を説
明する説明図
2…ロッドコータ、24…塗工装置用ロッド、25A…
溝(凹部)、25B…凸部、25…ロッド、25C…凸
部上面、26…コーティング膜、28…ロッドコータ
Claims (4)
- 【請求項1】連続走行するウエブに接触して該ウエブに
塗布液を転移塗布する円柱状のロッド、又は塗布液が過
剰に塗布されたウエブに接触して塗布液の過剰分を掻き
落とす円柱状のロッドであって、前記ロッド表面に周方
向の凹部と周方向の凸部とが前記ロッドの軸方向に交互
に形成された塗工装置用ロッドにおいて、 前記凸部上面を平坦面に形成すると共に、前記平坦面を
有する前記ロッド表面に硬質素材によるコーティング膜
を形成したことを特徴とする塗工装置用ロッド。 - 【請求項2】前記コーティング膜は、セラミックコーテ
ィング膜又はダイヤモンドコーティング膜であることを
特徴とする請求項1の塗工装置用ロッド。 - 【請求項3】前記凸部上面の平坦面の幅が前記凸部一つ
当たり10μm以上になるようにしたことを特徴とする
請求項1又は2の塗工装置用ロッド。 - 【請求項4】前記凸部の平坦面の幅(d)と前記コーテ
ィング膜の膜厚(t)との比(t/d)が0.01〜
0.1の範囲になるように、前記平坦面の幅(d)と前
記コーティング膜の膜厚(t)の関係を設定したことを
特徴とする請求項1、2又は3の塗工装置用ロッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11161233A JP2000343012A (ja) | 1999-06-08 | 1999-06-08 | 塗工装置用ロッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11161233A JP2000343012A (ja) | 1999-06-08 | 1999-06-08 | 塗工装置用ロッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000343012A true JP2000343012A (ja) | 2000-12-12 |
Family
ID=15731177
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11161233A Pending JP2000343012A (ja) | 1999-06-08 | 1999-06-08 | 塗工装置用ロッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000343012A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1334778A2 (en) | 2002-02-08 | 2003-08-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Rod for a coating device, and process for producing the same |
| JP2013180270A (ja) * | 2012-03-05 | 2013-09-12 | Jfe Steel Corp | 基材へのスラリー塗布方法及び塗布装置 |
-
1999
- 1999-06-08 JP JP11161233A patent/JP2000343012A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1334778A2 (en) | 2002-02-08 | 2003-08-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Rod for a coating device, and process for producing the same |
| JP2013180270A (ja) * | 2012-03-05 | 2013-09-12 | Jfe Steel Corp | 基材へのスラリー塗布方法及び塗布装置 |
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| A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20080523 |