JP2000339618A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高記録密度化に伴ってトラック幅を狭く形成
する場合であっても、このトラック幅を高精度に規制す
る。 【解決手段】 一対の磁気コア半体ブロックを突き合わ
せて磁気ヘッドブロックを作製し、この磁気記録媒体摺
動面に砥石により磁気ギャップのトラック幅を規制する
溝加工を施す磁気ヘッドの製造方法において、磁気ヘッ
ドブロックを磁気記録媒体摺動方向に複数並べ、且つ各
磁気ヘッドブロックの磁気ギャップが当該磁気記録媒体
摺動方向と略直交する方向に対してアジマス角に応じて
斜めとなるように配置し、磁気記録媒体摺動方向に沿っ
て上記溝加工を施す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、高い記録
密度で記録及び／又は再生を行うビデオテープレコーダ
（ＶＴＲ）やデータストレージ装置等に用いられ、蒸着
テープ等の高抗磁力磁気記録媒体に対して記録及び／又
は再生を行う磁気ヘッドの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録の分野においては、記録
信号の高記録密度化が進行しており、高い抗磁力と高い
残留磁束密度を有する磁気記録媒体、例えば強磁性金属
材料を非磁性支持体上に直接被着せしめてなる蒸着テー
プ等が使用されるようになっている。これに伴って、磁
気ヘッドに対しては、コア材料が高飽和磁束密度、高透
磁率を有することが要求されている。

【０００３】このような要求を満たすため、図１６に示
すように、補助コア材にフェライトを用い、そのフェラ
イト上に高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を主コア材
として形成し、この金属磁性膜により磁気ギャップ部を
形成するようにしたメタル・イン・ギャップ（Ｍｅｔａ
ｌ ｉｎ Ｇａｐ）型の磁気ヘッド（以下、ＭＩＧヘッ
ドと称する。）１００が提案されている。

【０００４】このＭＩＧヘッド１００は、磁気記録媒体
対接面の略中央に位置する磁気ギャップｇを境として左
右別々に作製された一対の磁気コア半体１０１，１０２
が突合せ面である磁気ギャップ形成面を、トラック幅部
が略一致するような位置で非磁性体を介して突き合わせ
て接合一体化されてなるものである。

【０００５】ＭＩＧヘッド１００において、一対の磁気
コア半体１０１，１０２は、磁気コア基体１０３，１０
４と、金属磁性膜１０５，１０６とから閉磁路を構成し
ている。このうち、磁気コア基体１０３，１０４は、例
えば、フェライト等の軟磁性酸化物材料により形成さ
れ、閉磁路を構成する補助コア部となっている。一方、
金属磁性膜１０５，１０６は、閉磁路を構成する主コア
部となるもので、高飽和磁束密度を有し、磁気ギャップ
形成面を含む全面に亘って成膜されている。

【０００６】ＭＩＧヘッド１００において、磁気コア基
体１０３，１０４の磁気ギャップ形成面と対向する面に
は、磁気ギャップｇのトラック幅Ｔ_Wを規制するための
トラック幅規制溝１０７，１０８，１０９，１１０が磁
気ギャップｇの両端縁近傍部よりそれぞれデプス方向に
亘って円弧状に形成されている。なお、トラック幅規制
溝１０７，１０８，１０９，１１０内には、それぞれ磁
気記録媒体との当たり特性を確保すると共に摺接による
偏摩耗を防止する目的で、ガラス等の非磁性材１１１が
充填されている。

【０００７】また、ＭＩＧヘッド１００において、磁気
コア基体１０３，１０４の磁気ギャップ形成面と対向す
る面には、磁気ギャップｇのデプスＤ_Pを規制するとと
もに、図示しないコイルを巻装するための巻線溝１１
２，１１３が、断面形状が略矩形状を呈して形成されて
いる。

【０００８】このようなＭＩＧヘッド１００では、磁気
ギャップｇを構成する金属磁性膜１０５，１０６が高飽
和磁束密度とされるために、磁気ギャップｇから発生す
る磁界強度が大きくなる。したがって、ＭＩＧヘッド１
００は、高い記録密度で記録再生を行うビデオテープレ
コーダ（ＶＴＲ）やデータストレージ装置等に用いら
れ、蒸着テープ等の高抗磁力磁気記録媒体に対して記録
再生を行うのに好適なものとなっている。

【０００９】ところで、このような磁気ヘッドの中に
は、磁気ギャップｇが磁気記録媒体摺動方向と略直交す
る方向に対して所定のアジマス角で斜めに形成されたも
のがある。そして、このような磁気ヘッドを備えるもの
として、ヘリカルスキャン方式の記録再生装置を挙げる
ことができる。

【００１０】なお、以下に掲げる図１９乃至図２３に示
される磁気ヘッドおいて、図１６に示した磁気ヘッド１
００と同等な部位については説明を省略するとともに、
図面において同じ符号を付すものとする。

【００１１】この記録再生装置は、図１７に示すよう
に、略円筒状のドラム１１４に対し対向する位置関係で
配置された、アジマス角が異なる一組の磁気ヘッドを有
し、このドラム１１４の周面に磁気ギャップが望むよう
にそれぞれ実装されている。そして、この記録再生装置
は、ドラム１１４に斜めに掛け合わされた磁気テープ１
１５に対して、これら磁気ヘッドのうち、一方の磁気ヘ
ッド（以下、ヘッドＡと称する。）１１６が磁気テープ
１１５上に記録信号を書き残し、もう一方の磁気ヘッド
（以下、ヘッドＢと称する。）１１７が前の記録信号の
片側に隣接する位置関係で新たな磁気記録信号を記録す
る作用を順次繰り返し、磁気テープ１１５上に密に記録
信号を記録するものである。

【００１２】すなわち、この記録再生装置は、ドラム１
１４が回転することにより、磁気テープ１１５に対して
相対的に所定の方向に走行することとなる。そして、こ
の磁気テープ１１５には、図１７中の囲みＢで示した部
分を拡大した図１８に示すように、ヘッドＡ１１６によ
り書き込まれた第１の記録トラック１１８と、ヘッドＢ
１１７により書き込まれた第２の記録トラック１１９と
が交互に形成されることになる。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した記
録再生装置においては、図１８に示すように、各磁気ヘ
ッドで交互に記録トラックを書き込む際に、先に書き込
まれた記録トラックと若干重なるように次の記録トラッ
クを書き込むようにしている。これは、記録トラック間
の未記録領域（いわゆるガードバンド）を無くし、記録
密度を高めるためである。

【００１４】このような記録を行う場合、各磁気ヘッド
のアジマス角を変え、隣接する記録トラック間の干渉を
極力抑えるようにしているが、記録時に隣接トラックの
一部を消去してしまう、いわゆるサイドイレーズが発生
することがある。このサイドイーレズは、磁気ヘッドの
磁気ギャップ近傍におけるトラック幅方向両端部に発生
する漏れ磁界によるもので、かかるサイドイレーズが発
生すると、各記録トラックから十分な信号を取り出すこ
とができず、信号劣化の大きな原因となる。

【００１５】例えば、図１９は、先の図１６に示す磁気
ヘッドを磁気ギャップ近傍を拡大して示すものである。
この磁気ヘッドでは、トラック幅規制溝１０７，１０
８，１０９，１１０を各磁気コア基体１０３，１０４の
突合せ面にデプス方向に形成しているが、この場合、突
き合わせ時の位置ずれや金属磁性膜１０５，１０６の角
部の形状等に起因して、磁気ギャップ端部に形状不確定
部分が存在する。これが原因となって上記サイドイレー
ズが発生しやすい。

【００１６】そこで、このような形状不確定部分を無く
した磁気ヘッドとして、図２０に示すように、磁気コア
基体１０３，１０４を突き合わせた後、磁気記録媒体摺
動面をトラック幅分残して溝加工し、これをアジマス角
度に応じて斜めに配置した磁気ヘッドが知られている。
この磁気ヘッドでは、突き合わせ後の溝加工によりトラ
ック幅が決まるため、突き合わせ時の位置ずれや金属磁
性膜１０５，１０６の角部形状に起因する形状不確定部
分が形成されることがない。

【００１７】ただし、この場合には、金属磁性膜１０
５，１０６のトラック幅からはみ出した部分が隣接トラ
ック上を摺動することとなり、この部分からの漏れ磁界
が上記サイドイレーズの原因となる。

【００１８】なお、図１９及び図２０において、複数の
小さい矢印は、磁気ギャップｇの周辺に発生する漏れ磁
界を模式的に示したものである。また、矢印Ｃは、磁気
テープ１１５に対する磁気ヘッドの摺動方向を示すもの
である。また、以下に掲げる図２１においても、図１９
及び図２０と同様に、複数の小さい矢印により磁気ギャ
ップｇの周辺に発生する漏れ磁界を模式的に示すものと
する。また、矢印Ｃにより磁気テープ１１５に対する磁
気ヘッドの摺動方向を示すものとする。

【００１９】そこで、この対策として、磁気ギャップ部
を収束イオンビーム等で形状を工夫した磁気ヘッドや薄
膜ヘッド等の開発がなされているが、量産性や漏れ磁界
の制御の観点から、図２１に示すように、磁気ギャップ
ｇを摺動方向Ｃと略直交する方向に対してアジマス角に
応じて斜めに形成すると共に、トラック幅規制溝を摺動
方向Ｃに沿って形成した磁気ヘッドを挙げることができ
る。

【００２０】この磁気ヘッドでは、走行方向の連続した
界面から漏れ磁界が発生する位置構成となるため、隣接
した記録トラックへの磁気的な影響を限定された微小な
幅（サブミクロン領域）に留めることができ、この漏れ
磁界による影響を軽減することができる。

【００２１】ところで、磁気ヘッドでは、高記録密度化
に対応してトラック幅を狭くすると、このトラック幅を
高い寸法精度で規制する必要がある。また、この磁気ヘ
ッドでは、挟トラック化による記録フォーマットでのク
ロストークノイズを低減するために、アジマス角をより
傾斜させて磁気ギャップを形成する必要がある。さら
に、この磁気ヘッドを製造する際には、ある規定長のヘ
ッドブロックから切り出してより多くの磁気ヘッドを得
るために、トラック幅を規制するための溝加工に用いら
れる砥石の幅をより薄くする必要がある。

【００２２】しかしながら、上述した磁気ヘッドを製造
する際には、図２２に示すように、上述したヘッドブロ
ック１２０の側面に対して、アジマス角βを考慮して砥
石１２１が斜めに進入することとなる。

【００２３】このため、ヘッドブロック１２１の側面に
砥石が斜めに進入する際、この砥石１２１に発生する幅
方向の反力Ｄにより、砥石１２１に反りが生じてしま
い、砥石１２１の進入方向にずれが発生してしまうこと
があった。結果として、研削加工中に発生する砥石１２
１のたわみ量の蓄積と解放によって、図２３に示すよう
な砥石１２１の加工軌跡、すなわちトラック幅を規制す
る溝１２２に蛇行が生ずることとなり、トラック幅を高
精度に規制することができないことがあった。

【００２４】例えば、砥石幅が２５０μｍ、アジマス角
が２０゜、トラック幅を６μｍ残留させる溝加工を行っ
た場合には、蛇行量が１．５μｍ以上となり、また、ト
ラック幅方向において、３．５μｍから７．５μｍのず
れが発生する。そして、最も狭い記録幅となった際に、
規定のトラック幅に対し２５％近い実質トラック幅の減
少を伴うため、信号再生に必要なＳ／Ｎが得られなくな
り、挟トラック幅フォーマットが成り立たなくなる問題
があった。さらに、トラック幅を、例えば６μｍ以下と
した場合には、砥石１２１の蛇行による誤差の絶対値が
有効トラック幅の２０％以上を占めることとなり、挟ト
ラック化に対応することが困難となる。また、トラック
幅を、例えば０．３μｍの誤差内で選別すると、３０％
程度しか規定値を満たす磁気ヘッドしか得られず、生産
性に問題が生ずることとなる。

【００２５】そこで、本発明はこのような従来の事情に
鑑みて提案されたものであり、高記録密度化に伴ってト
ラック幅を狭く形成する場合であっても、このトラック
幅を高精度に規制することを可能とした磁気ヘッドの製
造方法を提供することを目的とする。

【００２６】

【課題を解決するための手段】この目的を達成する本発
明に係る磁気ヘッドの製造方法は、一対の磁気コア半体
ブロックを突き合わせて磁気ヘッドブロックを作製し、
この磁気記録媒体摺動面に砥石により磁気ギャップのト
ラック幅を規制する溝加工を施す磁気ヘッドの製造方法
において、磁気ヘッドブロックを磁気記録媒体摺動方向
に複数並べ、且つ各磁気ヘッドブロックの磁気ギャップ
が当該磁気記録媒体摺動方向と略直交する方向に対して
アジマス角に応じて斜めとなるように配置し、磁気記録
媒体摺動方向に沿って上記溝加工を施すことを特徴とす
る。

【００２７】以上のように本発明に係る磁気ヘッドの製
造方法では、各磁気ヘッドブロックに砥石が斜めに進入
する際に発生する砥石の反力の影響を、これら磁気ヘッ
ドブロックを複数並べて配置することにより軽減するこ
とができ、トラック幅を規制するための溝を高精度に形
成することができる。

【００２８】また、本手法では、各ヘッドブロックの砥
石進入側最端部にダミー加工部材を並べて配置してもよ
い。

【００２９】これにより、各磁気ヘッドブロックに砥石
が進入する際に発生する砥石の反力の影響をダミー加工
部材が吸収し、各磁気ヘッドブロックにトラック幅を規
制するための溝を高精度に形成することができる。

【００３０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。

【００３１】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法に
より作製された磁気ヘッドは、例えば図１及び図２に示
すように、補助コア材にフェライトを用い、そのフェラ
イト上に高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を主コア材
として形成し、この金属磁性膜により磁気ギャップ部を
形成するようにしたメタル・イン・ギャップ（Ｍｅｔａ
ｌ ｉｎ Ｇａｐ）型の磁気ヘッド（以下、ＭＩＧヘッ
ドと称する。）１である。なお、図１に、このＭＩＧヘ
ッド１の構成を説明するための斜視図を示し、図２に、
このＭＩＧヘッド１の磁気記録媒体摺動面の構成を説明
するための平面図を示す。

【００３２】このＭＩＧヘッド１は、テープ状の磁気記
録媒体（以下、磁気テープと称する。）と摺動するヘッ
ドの摺動面１ａの略中央に位置する磁気ギャップｇを境
として左右別々に作製された一対の磁気コア半体２，３
が突合せ面である磁気ギャップ形成面を、トラック幅部
が略一致するような位置で非磁性体を介して突き合わせ
て接合一体化されてなるものである。また、磁気ギャッ
プｇは、磁気テープに対するヘッドの摺動方向Ａに対し
て所定のアジマス角αで斜めに形成されている。

【００３３】ＭＩＧヘッド１において、一対の磁気コア
半体２，３は、磁気コア基体４，５と、金属磁性膜６，
７とから閉磁路を構成している。このうち、磁気コア基
体４，５は、例えば、Ｍｎ−Ｚｎフェライト、Ｎｉ−Ｚ
ｎ系フェライト等の酸化物軟磁性材料により形成され、
閉磁路を構成する補助コア部となっている。一方、金属
磁性膜６，７は、閉磁路を構成する主コア部となるもの
で、高飽和磁束密度を有し、磁気ギャップ形成面を含む
全面に亘って成膜されている。

【００３４】また、ＭＩＧヘッド１は、磁気テープとの
当たり状態を調節するために、摺動面１ａが摺動方向Ａ
に沿って略円弧状に形成されている。

【００３５】また、ＭＩＧヘッド１の摺動面１ａには、
磁気ギャップｇのトラック幅Ｔ_Wを規制するためのトラ
ック幅規制溝８，９が形成されている。このトラック幅
規制溝８，９は、摺動方向Ａに沿って互いに略平行に形
成されている。なお、トラック幅規制溝８，９内には、
それぞれ磁気テープとの当たり特性を確保すると共に摺
接による偏摩耗を防止する目的で、ガラス等の非磁性材
１０が充填されている。

【００３６】また、ＭＩＧヘッド１の摺動面１ａには、
磁気テープとの当たり幅Ｔ_Cを調節するための当たり幅
規制溝１１，１２が形成されている。この当たり幅規制
溝１１，１２は、摺動方向Ａが沿って互いに略平行に形
成されている。

【００３７】また、ＭＩＧヘッド１において、磁気コア
基体４，５の磁気ギャップ形成面と対向する面には、磁
気ギャップｇのデプスＤ_Pを規制するとともに、図示し
ないコイルを巻装するための巻線溝１３，１４が、断面
形状が略矩形状を呈して形成されている。

【００３８】以上のように構成されたＭＩＧヘッド１で
は、磁気ギャップｇを構成する金属磁性膜６，７が高飽
和磁束密度とされるために、磁気ギャップｇから発生す
る磁界強度が大きくなる。したがって、ＭＩＧヘッド１
は、高い記録密度で記録及び／又は再生を行うビデオテ
ープレコーダ（ＶＴＲ）やデータストレージ装置等に用
いられ、蒸着テープ等の高抗磁力磁気記録媒体に対して
記録及び／又は再生を行うのに好適なものとなってい
る。

【００３９】次に、本発明を適用した磁気ヘッドの製造
方法について詳細に説明する。

【００４０】以下に説明する磁気ヘッドの製造方法は、
複数等間隔に磁気ギャップを形成させたヘッドブロック
を形成し、このヘッドブロックを個々のヘッドチップと
して分割し、これを個々の磁気ヘッドとする手法であ
る。

【００４１】先ず、図３に示すように、Ｍｎ−Ｚｎ系フ
ェライト、Ｎｉ−Ｚｎ系フェライト等の酸化物軟磁性材
料よりなる、例えば長さ３４．５ｍｍ、幅２．５ｍｍ、
厚み１ｍｍ程度の略板状の基体２０を用意する。この基
体２０は、上述した磁気ヘッド１おいて、磁気コア半体
４，５となるものである。

【００４２】次に、図４に示すように、基体２０の一主
面上に、ガラス溝２１を形成する。このガラス溝２１
は、ヘッドブロックのコア間接合強度を保つために、ガ
ラスを加熱溶融させて流し込むための溝である。これに
より、ガラス溝２１では、コア間接合時における接着力
の改善や、後述する金属磁性膜の成膜時の応力緩和を図
ることができる。ここでは、例えば、幅３０μｍ、深さ
１００μｍ程度のガラス溝２１とする。

【００４３】なお、本手法では、ガラスを流さずにコア
ブロック間を金属接合等でコア間接合を行う場合には、
図４に示したガラス溝２１を形成しなくともよい。

【００４４】次に、図５に示すように、基体２０の主面
上に、磁気ギャップのギャップデプスを規制し、巻線を
巻装するための巻線溝２２を形成する。この巻線溝２２
は、上述した磁気ヘッド１の摺動面１ａとなる側の断面
２２ａの形状を、基体２０の主面に対して３０゜〜５０
゜程度の傾き角をもって形成し、深さ３００μｍ程度の
断面略台形状の溝として形成する。また、巻線溝２２の
開口幅は、磁気ヘッドが用いられる磁気装置の電気回路
により決定される。すなわち、この巻線溝２２の開口幅
は、磁気ヘッドの電気抵抗値、若しくはインダクタンス
を満たす巻線数を考慮して断面積から決定される。ここ
では、例えば、断面２１ａの傾き角４５゜、深さ３００
μｍ、開口幅５００μｍ程度の巻線溝２２とする。

【００４５】そして、ギャップ精度を高めるとともに、
詳細を後述する基体２０と金属磁性膜との間の化学反応
を抑制するために、基体２０の主面を鏡面加工等によ
り、表面粗度が、例えば２０〜１００ 程度になるよう
に研磨する。

【００４６】次に、図６に示すように、基体２０の主面
に対して、例えば厚さ４μｍ程度の金属磁性膜２３を成
膜する。ここで、金属磁性膜２３としては、例えば、Ｆ
ｅ−Ｓｉ、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ、Ｆｅ−Ｇａ−Ｓｉ−Ｒｕ
等を基本とする結晶質軟磁性材料を用いることができ
る。また、例えば、ＦｅＴａ合金をターゲットとして窒
素を含むアルゴン中でスパッタしたＦｅＴａＮ、或い
は、このＦｅＴａＮのうち、Ｔａの一部若しくは全てを
Ｎｂ、Ｈｆに置換した組成、或いは、このＦｅＴａＮの
うち、Ｎの一部若しくは全てをＯ、Ｃ、Ｂなどに置換し
た組成、或いはこれらに類似した軟磁性材料を用いるこ
とができる。さらに、アモルファス軟磁性材等を用いる
ことができる。

【００４７】また、この金属磁性膜２３を成膜する前
に、基体２０上に酸化珪素、白金等を成膜してもよい。
これにより、この酸化物軟磁性材料からなる基体２０
と、金属磁性膜２３との間の化学的反応を抑えることが
できる。

【００４８】なお、本手法では、巻線溝２２が形成され
た基体２０に対して金属磁性膜２３を成膜する工程とな
っているが、かかる工程に必ずしも限定されるものでは
ない。例えば、金属磁性膜２３を基体２０に成膜した
後、この金属磁性膜２３が成膜された基体２０に巻線溝
２２を形成する工程としてもよい。

【００４９】次に、図７に示すように、例えばＡｕ、Ｓ
ｉＯ₂等の非磁性材料からなるギャップ膜２４を、基体
２０上のガラス溝２１及び巻線溝２２が形成されていな
い上述した磁気ヘッド１の磁気コア半体４，５となる部
分にそれぞれ成膜する。このギャップ膜２４の膜厚は、
例えば規定のギャップ長約半分の膜厚とし、ここでは約
０．１μｍ程度とする。

【００５０】次に、図８に示すように、上述した基体２
０と同様に加工された基体２５を、ギャップ膜２４を介
して、ガラス溝２１及び巻線溝２２が略一致するよう
に、端面を突き合わせることにより、ヘッドブロック２
６を構成する。

【００５１】次に、図９に示すように、図８に示す状態
で保持されたヘッドブロック２６の巻線溝２２内に、例
えば５００℃程度で溶融可能な融着ガラス２７を挟み込
み、ヘッド摺動面となる側が下面となるように載置し、
この融着ガラス２７を加熱溶融させる。これにより、融
着ガラス２７がガラス溝２１及び巻線溝２２の頂部に亘
って埋まり、ヘッドブロック２６が接合一体化される。
なお、ヘッドブロック２６を金属接合等により接合一体
化してもよい。

【００５２】さらに、後述するトラック幅を所定の幅に
規制するための溝を形成する際、余分なフロントデプス
があると加工負荷を増加させたり、加工精度の低下を引
き起こすことから、摺動面となる側のフロントデプスが
１００μｍ程度になるように加工を行う。

【００５３】次に、図１０に示すように、接合一体化さ
れたヘッドブロック２６を磁気テープと摺動する方向に
複数並べ、且つ各ヘッドブロック２６の磁気ギャップが
この摺動方向と略直交する方向に対してアジマス角に応
じて斜めとなるように配置する。そして、図１１に示す
ように、複数並べて配置されたヘッドブロック２６の上
述した磁気ヘッド１の摺動面１ａとなる加工面に対し
て、磁気テープと摺動する方向に沿って砥石による研削
加工を行うことにより、上述した磁気ヘッド１のトラッ
ク幅規制溝８，９となる溝２８を形成する。

【００５４】このとき、溝２８の深さは、研削加工後に
フロントデプスが消失する位置以下とし、ヘッド初期の
フロントデプスからデプス消失に至るまでヘッド摩耗が
生じた場合であっても、大きなトラック幅変動が生じな
い深さとする。

【００５５】このため、砥石の切り込み深さは、研削加
工に用いられる砥石の側面の垂直性が十分得られるよう
に、砥石端部の丸まり部を避け、砥石の垂直面がヘッド
寿命に対応するとともに、摩耗するデプス領域に対応し
た、例えば１００〜１３０μｍ程度の深さとすることが
好ましい。このうち、デプスの零点以下への切り込み量
が、０〜３０μｍ程度となることが好ましく、さらに好
ましくは、余り砥石の切り込み深さが深いと、磁気ギャ
ップ部への磁束の集中効果が低くなり、ヘッド効率の低
下が起こることから、３０μｍを超えない深さとするこ
とが好ましい。

【００５６】また、並べるヘッドブロック２６の個数に
ついては、多いほど砥石による研削加工を安定して行う
ことができるが、一ブロック当たり、量産性を確保する
上で５０個程度のヘッドチップを得るのが通常である。
さらに、ヘッドチップ一個につき、２本のトラック幅規
制溝を形成する必要がある。このため、砥石による研削
加工は、１００回以上の繰り返し工程となる。

【００５７】このとき、この一工程当たりの加工距離が
余り長いと、砥石の摩耗が制御しきれなくなる。このた
め、複数並べて配置されたヘッドブロック２６における
砥石の進入方向の寸法は、少なくとも砥石の加工安定性
を得る上で５ｍｍ以上とすることが好ましい。

【００５８】ここでは、ヘッドブロック２６は、厚み１
ｍｍの基体２０，２５を接合しているため、約２ｍｍ程
度の厚みとなっている。そして、複数並べて配置された
ヘッドブロック２６における砥石の進入方向の寸法は、
ヘッドブロック２６を１０本並べた合計２０ｍｍとして
いる。

【００５９】また、複数並べて配置されたヘッドブロッ
ク２６の砥石進入側最端部に、加工誤差吸収用のダミー
加工部材２９を並べて配置することが好ましい。

【００６０】このダミー加工部材２９は、ヘッドブロッ
ク２６と同材料からなることが好ましく、砥石の進入方
向の寸法が５００μｍ以上であることが好ましい。これ
は、砥石の進入側の５００μｍ程度の位置では、砥石の
研削加工が定常状態に達せず、砥石の進入によるぶれが
残るためである。

【００６１】これにより、ヘッドブロック２６に砥石が
斜めに進入する際に発生する砥石の反力の影響を、この
ダミー加工部材２９に吸収させることができ、ヘッドブ
ロック２６にトラック幅を規制するための溝２８をより
高精度に形成することができる。

【００６２】また、砥石の進入方向側の最端部に配され
たヘッドブロック２６に対して、砥石の進入方向側の側
面に、予め研削加工により砥石の進入方向に対して略垂
直となるような溝加工を施してもよい。

【００６３】また、ヘッドブロック２６を並べる際に
は、砥石の定常状態を安定にするため、複数並べて配置
されたヘッドブロック２６の間隔を３００μｍ以下とす
ることが好ましい。このヘッドブロックの間隔を３００
μｍ以上とした場合には、各ヘッドブロック２６の隙間
が大きくなりすぎて、磁気ギャップが所定のアジマス角
で傾斜しているために、砥石がヘッドブロックに進入す
る際に発生するぶれが増加してしまうからである。

【００６４】また、複数並べて配置されたヘッドブロッ
ク２６の加工面に対しては、この加工面の高さを略等し
くするための加工を施すことが好ましい。これにより、
砥石の加工抵抗を一様にすることができ、砥石の蛇行の
発生を防止することができる。

【００６５】さらに、この研削加工においては、ヘッド
ブロック２６の加工面上に、前工程における加工残留応
力や加工歪み等が残っていると、図１２に示すように、
研削加工によって加工エッジの欠損２８ａが発生するこ
とがある。このため、この複数並べて配置されたヘッド
ブロック２６の加工面に対しては、さらに鏡面加工等に
よる加工変質層を除去するための歪み取り加工を施すこ
とが好ましい。

【００６６】以上のようにして、ヘッドブロック２６に
砥石が斜め進入する際に発生する砥石の反力の影響を、
これらヘッドブロック２６を複数並べて配置することに
より軽減することができ、トラック幅を規制するための
溝２８を高精度に形成することができる。

【００６７】次に、図１３に示すように、形成された溝
２８内にガラス３０を充填させて被覆し、滑らかな表面
とする。

【００６８】次に、図１４に示すように、磁気テープと
の当たり幅Ｔ_Cを調節するための上述した磁気ヘッド１
の当たり幅規制溝１１，１２となる溝３１を磁気テープ
と摺動する方向に沿って形成する。この溝３１は、加工
により残留した磁気コア部分に、磁気テープと摺動する
摺動面の当たり幅を適当な接触圧が得られるように規制
するものであり、例えば、当たり幅が８０〜１３０μｍ
程度となるように形成することが好ましい。

【００６９】当たり幅がこれよりも広く規制された場合
には、磁気テープに摺動する際の面圧の低下により、磁
気テープと磁気ヘッドとの間に発生するエアーフィルム
の厚みが増加してしまい、スペーシングロスにより磁気
ヘッドの記録再生能力が劣化してしまう。一方、当たり
幅がこれよりも狭く規制された場合には、磁気テープと
摺動する際の面圧の上昇により、ヘッドの摩耗が加速さ
れ、磁気記録装置として保守を必要とする期間が短くな
ってしまう。

【００７０】次に、図１５に示すように、形成された溝
３１内において、アジマスを考慮した図中一点鎖線で示
す切断方向に、個々のヘッドチップとするための切断加
工を行う。そして、分離されたヘッドチップに対して、
磁気テープと摺動する面に対して、略円筒形状を呈する
ような円筒切削加工を施すことにより、上述した図１に
示したようなＭＩＧヘッド１が作製される。

【００７１】以上のように本発明を適用した磁気ヘッド
の製造方法では、複数並べて配置されたヘッドブロック
２６の上述した磁気ヘッド１の摺動面１ａとなる加工面
に対して、砥石によりトラック幅を規制する溝加工を施
すことにより、これらヘッドブロック２６に砥石が斜め
進入する際に発生する砥石の反力の影響を、これらヘッ
ドブロック２６を複数並べて配置することにより軽減す
ることができ、トラック幅を規制するための溝２８を高
精度に形成することができる。

【００７２】具体的には、例えば複数並べて配置された
ヘッドブロック２６の間隔を３００μｍ以下とし、砥石
の定常加工領域を増やすことにより、トラック幅は加工
機の精度と砥石の摩耗により影響により発生するずれ
を、０．４μｍ程度にまで低減することができ、０．３
μｍ以上のずれによるヘッドチップの選別を行った場合
でも、８０％以上の歩留りを得ることができる。

【００７３】したがって、本手法によれば、高記録密度
化に伴ってトラック幅を狭く形成する場合、例えばアジ
マス角が１５゜以上であり、且つトラック幅が６μｍ以
下である磁気ヘッドを製造する場合であっても、このト
ラック幅を高精度に規制することができる。

【００７４】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
る磁気ヘッドの製造方法によれば、各磁気ヘッドブロッ
クに砥石が斜めに進入する際に発生する砥石の反力の影
響を、これら磁気ヘッドブロックを複数並べて配置する
ことにより軽減することができ、トラック幅を規制する
ための溝を高精度に形成することができる。

【００７５】したがって、本手法では、高記録密度化に
伴ってトラック幅を狭く形成する場合であっても、この
トラック幅を高精度に規制することできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用して作製された磁気ヘッドの構成
を示す斜視図である。

【図２】本発明を適用して作製された磁気ヘッドの磁気
記録媒体摺動面の構成を示す平面図である。

【図３】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の製造
工程を順次示す図であり、磁気コア半体となる基体を示
す概略斜視図である。

【図４】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の製造
工程を順次示す図であり、基体の主面上に、ガラス溝を
形成した状態を示す概略斜視図である。

【図５】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の製造
工程を順次示す図であり、ガラス溝が形成された基体上
に、巻線溝を形成した状態を示す概略斜視図である。

【図６】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の製造
工程を順次示す図であり、ガラス溝及び巻線溝が形成さ
れた基体上に、金属磁性膜を成膜した状態を示す概略斜
視図である。

【図７】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の製造
工程を順次示す図であり、金属磁性膜が成膜された基体
上に、ギャップ膜を成膜した状態を示す概略斜視図であ
る。

【図８】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の製造
工程を順次示す図であり、ヘッドブロックとなる基体同
士を突き合わせた状態を示す概略斜視図である。

【図９】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の製造
工程を順次示す図であり、ヘッドブロックを接合一体化
した状態を示す概略斜視図である。

【図１０】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の製
造工程を順次示す図であり、接合一体化されたヘッドブ
ロックを複数並べて配置した状態を示す概略斜視図であ
る。

【図１１】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の製
造工程を順次示す図であり、複数並べて配置されたヘッ
ドブロックに対して、トラック幅を規制するための溝を
形成した状態を示す概略斜視図である。

【図１２】研削加工によって加工エッジの欠損が発生し
た状態を模式的に示した図である。

【図１３】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の製
造工程を順次示す図であり、トラック幅を規制するため
の溝にガラスを充填した状態を示す概略斜視図である。

【図１４】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の製
造工程を順次示す図であり、ヘッドブロックに当たり幅
規制溝となる溝を形成した状態を示す概略斜視図であ
る。

【図１５】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の製
造工程を順次示す図であり、ヘッドブロックを個々のヘ
ッドチップとして分割する状態を示す概略斜視図であ
る。

【図１６】ＭＩＧヘッドの一構成例を示す斜視図であ
る。

【図１７】ヘリカルスキャン方式の記録再生装置の一構
成例を示す概略斜視図である。

【図１８】図１７中、囲みＢで示した部分を拡大した図
である。

【図１９】磁気ギャップの周辺に発生する漏れ磁界がト
ラック幅を超えて発生した状態を示す図である。

【図２０】トラック幅方向に対して略垂直となるように
トラック幅規制溝を形成した磁気ヘッドの構成を示す図
である。

【図２１】磁気ギャップを摺動方向と略直交する方向に
対してアジマス角に応じて斜めに形成すると共に、トラ
ック幅規制溝を摺動方向に沿って形成した磁気ヘッドの
構成を示す図である。

【図２２】ヘッドブロックの側面に対して、アジマス角
を考慮して砥石が斜めに進入した状態を模式的に示した
図である。

【図２３】砥石の加工軌跡に蛇行が生じた状態を模式的
に示した図である。

【符号の説明】

１ ＭＩＧヘッド、２，３ 磁気コア半体、８，９ ト
ラック幅規制溝、２０基体、２６ ヘッドブロック、２
８ トラック幅を規制するための溝、２９ダミー加工部
材

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一対の磁気コア半体ブロックを突き合わ
   せて磁気ヘッドブロックを作製し、この磁気記録媒体摺
   動面に砥石により磁気ギャップのトラック幅を規制する
   溝加工を施す磁気ヘッドの製造方法において、 上記磁気ヘッドブロックを磁気記録媒体摺動方向に複数
   並べ、且つ各磁気ヘッドブロックの磁気ギャップが当該
   磁気記録媒体摺動方向と略直交する方向に対してアジマ
   ス角に応じて斜めとなるように配置し、 上記磁気記録媒体摺動方向に沿って上記溝加工を施すこ
   とを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
2. 【請求項２】 アジマス角が１５゜以上であり、且つト
   ラック幅が６μｍ以下であることを特徴とする請求項１
   記載の磁気ヘッドの製造方法。
3. 【請求項３】 上記各磁気ヘッドブロックの間隔が３０
   ０μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の磁気
   ヘッドの製造方法。
4. 【請求項４】 上記各磁気ヘッドブロックにおける上記
   磁気記録媒体摺動方向の寸法が５ｍｍ以上であることを
   特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法。
5. 【請求項５】 上記各磁気ヘッドブロックの砥石進入側
   最端部にダミー加工部材を並べて配置することを特徴と
   する請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法。
6. 【請求項６】 上記ダミー加工部材の上記砥石の進入方
   向の寸法が５００μｍ以上であることを特徴とする請求
   項５記載の磁気ヘッドの製造方法。