JP2000340732A - 半導体装置用リードフレーム及びこれを用いた半導体装置 - Google Patents
半導体装置用リードフレーム及びこれを用いた半導体装置Info
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- JP2000340732A JP2000340732A JP11148510A JP14851099A JP2000340732A JP 2000340732 A JP2000340732 A JP 2000340732A JP 11148510 A JP11148510 A JP 11148510A JP 14851099 A JP14851099 A JP 14851099A JP 2000340732 A JP2000340732 A JP 2000340732A
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- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/756—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ダイパッドと各リードピンとの間のショート
や半田によるブリッジを防止するとともに、比較的面積
の広いICチップの搭載が可能な半導体装置用リードフ
レーム及びこれを用いた半導体装置を得ること。 【解決手段】 本発明の実施形態のリードフレーム20
は、ダイパッド21の周辺部211の裏面に中央部21
2の裏面より後退した段差面で裏面後退部213が形成
されており、また、前記ダイパッド21の周辺部211
側の前記各リードピン12の基端部122の裏面も、そ
れらの先端部121の裏面より後退した段差面で裏面後
退部123が形成されていて、大面積のダイパッド21
に大面積のICチップ2を搭載でき、そのICチップ2
を搭載して樹脂4で封止して本発明の半導体装置1Aを
形成した場合、その裏面におけるダイパッド21とリー
ドピン12との間隔幅を広く取れる構造としている。
や半田によるブリッジを防止するとともに、比較的面積
の広いICチップの搭載が可能な半導体装置用リードフ
レーム及びこれを用いた半導体装置を得ること。 【解決手段】 本発明の実施形態のリードフレーム20
は、ダイパッド21の周辺部211の裏面に中央部21
2の裏面より後退した段差面で裏面後退部213が形成
されており、また、前記ダイパッド21の周辺部211
側の前記各リードピン12の基端部122の裏面も、そ
れらの先端部121の裏面より後退した段差面で裏面後
退部123が形成されていて、大面積のダイパッド21
に大面積のICチップ2を搭載でき、そのICチップ2
を搭載して樹脂4で封止して本発明の半導体装置1Aを
形成した場合、その裏面におけるダイパッド21とリー
ドピン12との間隔幅を広く取れる構造としている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置、特に
電力用半導体装置に用いて好適なリードフレーム及びこ
れを用いた半導体装置に関するものである。
電力用半導体装置に用いて好適なリードフレーム及びこ
れを用いた半導体装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】先ず、図4乃至図6を参照しながら、従
来技術の半導体装置の構造を説明する。図4は従来技術
の半導体装置の断面側面図、図5は図4に示した半導体
装置のA−A線上における断面平面図、そして図6は図
4に示した半導体装置の裏面から見た平面図である。
来技術の半導体装置の構造を説明する。図4は従来技術
の半導体装置の断面側面図、図5は図4に示した半導体
装置のA−A線上における断面平面図、そして図6は図
4に示した半導体装置の裏面から見た平面図である。
【0003】携帯電話等の信号電力増幅には1W以上の
電力増幅器が用いられているが、この電力増幅器に組み
込まれている半導体装置の発熱が問題となっている。そ
の放熱の効率を良くする、即ち、半導体パッケージの熱
抵抗を低下させるために、図4に示したように、従来の
半導体装置1では、ダイパッド11を外部(底部)に露
出させることができる構造のリードフレーム10を用い
て構成されている。
電力増幅器が用いられているが、この電力増幅器に組み
込まれている半導体装置の発熱が問題となっている。そ
の放熱の効率を良くする、即ち、半導体パッケージの熱
抵抗を低下させるために、図4に示したように、従来の
半導体装置1では、ダイパッド11を外部(底部)に露
出させることができる構造のリードフレーム10を用い
て構成されている。
【0004】先ず、図5に示した半導体装置1に用いら
れている従来技術のリードフレーム10であるが、この
リードフレーム10は、中央部に幅Weのダイパッド1
1が配設されており、その両側方に所定の間隔で所定の
ピッチで複数本のリードピン(電極)12が配設されて
いる。これらは電気良導体の同一厚みの平面板を用いて
形成されており、ダイパッド11部分は、図4に示した
ように、その全体が同一の厚みの電気良導体を用いて形
成されているが、リードピン12の基端部(ダイパッド
11側の部分)122は、それらの裏面側から先端部1
21のほぼ半分の厚みにエッチングなどの手段によって
削られて段差になっている裏面後退部123が形成され
ている。
れている従来技術のリードフレーム10であるが、この
リードフレーム10は、中央部に幅Weのダイパッド1
1が配設されており、その両側方に所定の間隔で所定の
ピッチで複数本のリードピン(電極)12が配設されて
いる。これらは電気良導体の同一厚みの平面板を用いて
形成されており、ダイパッド11部分は、図4に示した
ように、その全体が同一の厚みの電気良導体を用いて形
成されているが、リードピン12の基端部(ダイパッド
11側の部分)122は、それらの裏面側から先端部1
21のほぼ半分の厚みにエッチングなどの手段によって
削られて段差になっている裏面後退部123が形成され
ている。
【0005】前記半導体装置1は、図4に示したよう
に、前記のリードフレーム10のダイパッド11の表面
上にICチップ2を搭載し、そのICチップ2のそれぞ
れの電極とそれぞれのリードピン12とをワイヤー3で
接続し、そのICチップ2及びワイヤー3を樹脂4で封
止している。この場合、ダイパッド11の裏面及びリー
ドピン12の先端部121の少なくとも裏面を樹脂4で
被覆されないようにして封止し、それらを露出させてい
る。
に、前記のリードフレーム10のダイパッド11の表面
上にICチップ2を搭載し、そのICチップ2のそれぞ
れの電極とそれぞれのリードピン12とをワイヤー3で
接続し、そのICチップ2及びワイヤー3を樹脂4で封
止している。この場合、ダイパッド11の裏面及びリー
ドピン12の先端部121の少なくとも裏面を樹脂4で
被覆されないようにして封止し、それらを露出させてい
る。
【0006】このような構造の半導体装置1は、これを
電子回路基板(不図示)に実装する場合には、半導体装
置1の底部に露出している前記ダイパッド11と接合す
る相手の電子回路基板上に形成されている回路パターン
を半導体装置1の上側から視認することができないとい
う問題点がある。
電子回路基板(不図示)に実装する場合には、半導体装
置1の底部に露出している前記ダイパッド11と接合す
る相手の電子回路基板上に形成されている回路パターン
を半導体装置1の上側から視認することができないとい
う問題点がある。
【0007】このため、ダイパッド11とリードピン1
2との間の樹脂モールド部分の間隔を十分広く取ってお
かないと、ICチップ2を電子回路基板へ実装する時
に、そのICチップ2の実装位置がずれ、ダイパッド1
1とリードピン12とが接触してショートを起こす危険
がある。図4乃至図6に示した従来技術のリードフレー
ム10において、前記のようにリードピン12の基端部
122に段差を設けて裏面後退部123を形成したのは
このショートを回避するためであって、図6に示したよ
うに、半導体装置1の裏面に露出しているリードピン1
2の先端部121とダイパッド11の側縁との間隔幅W
fは、図5に示したようなダイパッド11の表面、即
ち、ICチップ2の搭載面におけるリードピン12の基
端部122とダイパッド11の側縁との間隔幅Wgより
広めてある(Wf>Wg、図5及び図6)。
2との間の樹脂モールド部分の間隔を十分広く取ってお
かないと、ICチップ2を電子回路基板へ実装する時
に、そのICチップ2の実装位置がずれ、ダイパッド1
1とリードピン12とが接触してショートを起こす危険
がある。図4乃至図6に示した従来技術のリードフレー
ム10において、前記のようにリードピン12の基端部
122に段差を設けて裏面後退部123を形成したのは
このショートを回避するためであって、図6に示したよ
うに、半導体装置1の裏面に露出しているリードピン1
2の先端部121とダイパッド11の側縁との間隔幅W
fは、図5に示したようなダイパッド11の表面、即
ち、ICチップ2の搭載面におけるリードピン12の基
端部122とダイパッド11の側縁との間隔幅Wgより
広めてある(Wf>Wg、図5及び図6)。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところが、半導体装置
1を実装する電子回路基板の高集積化に伴い、半導体装
置1を電子回路基板に実装した場合の占有面積の縮小
化、即ち、樹脂封止された半導体装置1そのものの小型
化が求められている。しかしながら、ダイパッド11と
リードピン12との間隔を十分広く取ると、ダイパッド
11に搭載できるICチップ2の面積が、半導体装置1
を電子回路基板へ実装した場合の占有面積に比べて小さ
く限定されてしまう(図4)。或いは、大きなICチッ
プ2を搭載する場合には、一回り大きな外形寸法のパッ
ケージに変更しなければならず、電子回路基板への実装
面積が増大し、その大きな半導体装置1が実装された電
子機器の商品力が低下してしまうという問題点を有して
いる。
1を実装する電子回路基板の高集積化に伴い、半導体装
置1を電子回路基板に実装した場合の占有面積の縮小
化、即ち、樹脂封止された半導体装置1そのものの小型
化が求められている。しかしながら、ダイパッド11と
リードピン12との間隔を十分広く取ると、ダイパッド
11に搭載できるICチップ2の面積が、半導体装置1
を電子回路基板へ実装した場合の占有面積に比べて小さ
く限定されてしまう(図4)。或いは、大きなICチッ
プ2を搭載する場合には、一回り大きな外形寸法のパッ
ケージに変更しなければならず、電子回路基板への実装
面積が増大し、その大きな半導体装置1が実装された電
子機器の商品力が低下してしまうという問題点を有して
いる。
【0009】本発明は、これらの課題を解決しようとす
るものであって、ダイパッドと各リードピンとの間のシ
ョートや半田によるブリッジを防止するとともに、比較
的面積の広いICチップの搭載が可能な半導体装置用リ
ードフレーム及びこれを用いた半導体装置を得ることを
目的とする。
るものであって、ダイパッドと各リードピンとの間のシ
ョートや半田によるブリッジを防止するとともに、比較
的面積の広いICチップの搭載が可能な半導体装置用リ
ードフレーム及びこれを用いた半導体装置を得ることを
目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】従って、請求項1に記載
の本発明の半導体装置用リードフレームでは、表面にI
Cチップを搭載するダイパッドと、そのダイパッドの周
辺部に所定の間隔を開けて配設された複数本のリードピ
ンとから構成されている半導体装置用リードフレームに
おいて、前記ダイパッドの周辺部の裏面が中央部の裏面
より後退した面で形成し、また、前記ダイパッドの周辺
部側の前記各リードピンの基端部の裏面も、それらの先
端部の裏面より後退した面で形成して構成し、前記課題
を解決している。また、請求項2に記載の本発明の半導
体装置では、前記半導体装置用リードフレームの前記ダ
イパッドの表面にICチップを搭載し、そのICチップ
の各電極を前記リードピンに接続し、前記ダイパッドの
中央部の裏面と前記各リードピンの先端部の裏面とを除
き、前記ICチップ、前記ダイパッドの表面及び前記裏
面後退面、前記各リードピンの基端部の表面及び前記裏
面後退面、前記ダイパッドの前記周辺部と前記各リード
ピンの前記基端部との間を樹脂で封止し、前記ダイパッ
ドの前記裏面後退面及び前記各リードピンの基端部の前
記裏面後退面を覆った前記封止樹脂面を前記ダイパッド
の中央部の裏面と前記各リードピンの先端部の裏面とと
もに同一平面に形成して構成し、前記課題を解決してい
る。
の本発明の半導体装置用リードフレームでは、表面にI
Cチップを搭載するダイパッドと、そのダイパッドの周
辺部に所定の間隔を開けて配設された複数本のリードピ
ンとから構成されている半導体装置用リードフレームに
おいて、前記ダイパッドの周辺部の裏面が中央部の裏面
より後退した面で形成し、また、前記ダイパッドの周辺
部側の前記各リードピンの基端部の裏面も、それらの先
端部の裏面より後退した面で形成して構成し、前記課題
を解決している。また、請求項2に記載の本発明の半導
体装置では、前記半導体装置用リードフレームの前記ダ
イパッドの表面にICチップを搭載し、そのICチップ
の各電極を前記リードピンに接続し、前記ダイパッドの
中央部の裏面と前記各リードピンの先端部の裏面とを除
き、前記ICチップ、前記ダイパッドの表面及び前記裏
面後退面、前記各リードピンの基端部の表面及び前記裏
面後退面、前記ダイパッドの前記周辺部と前記各リード
ピンの前記基端部との間を樹脂で封止し、前記ダイパッ
ドの前記裏面後退面及び前記各リードピンの基端部の前
記裏面後退面を覆った前記封止樹脂面を前記ダイパッド
の中央部の裏面と前記各リードピンの先端部の裏面とと
もに同一平面に形成して構成し、前記課題を解決してい
る。
【0011】従って、本発明の半導体装置用リードフレ
ームによれば、ダイパッドの表面の面積が前記裏面の面
積よりも広い面積で形成されるので、比較的大きい面積
のICチップを搭載でき、一方、リードフレームの裏面
側ではダイパッドの周辺部とリードピンとの間の分離距
離を大きく引き離すことができる。また、本発明の半導
体装置によれば、比較的大きい面積のICチップを搭載
しても、半導体装置の面積は従来のものと同一面積に止
められ、しかも電子回路基板への実装時のショートを防
止することができる。
ームによれば、ダイパッドの表面の面積が前記裏面の面
積よりも広い面積で形成されるので、比較的大きい面積
のICチップを搭載でき、一方、リードフレームの裏面
側ではダイパッドの周辺部とリードピンとの間の分離距
離を大きく引き離すことができる。また、本発明の半導
体装置によれば、比較的大きい面積のICチップを搭載
しても、半導体装置の面積は従来のものと同一面積に止
められ、しかも電子回路基板への実装時のショートを防
止することができる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態の半導体
装置用リードフレーム及びこれを用いた半導体装置を図
を参照しながら説明する。図1は本発明の実施形態の半
導体装置の断面側面図、図2は図1に示した半導体装置
のA−A線上における断面平面図、そして図3は図1に
示した半導体装置の裏面から見た平面図である。なお、
本発明の半導体装置用リードフレーム及びこれを用いた
半導体装置の構成において、従来技術のそれらの構成と
同一の構成部分には同一の符号を付し、それらの部分の
説明は省略する。
装置用リードフレーム及びこれを用いた半導体装置を図
を参照しながら説明する。図1は本発明の実施形態の半
導体装置の断面側面図、図2は図1に示した半導体装置
のA−A線上における断面平面図、そして図3は図1に
示した半導体装置の裏面から見た平面図である。なお、
本発明の半導体装置用リードフレーム及びこれを用いた
半導体装置の構成において、従来技術のそれらの構成と
同一の構成部分には同一の符号を付し、それらの部分の
説明は省略する。
【0013】図1乃至図3において、符号1Aは本発明
の半導体装置を指す。また、この半導体装置1Aに用い
られているリードフレームを符号20で表す。先ず、本
発明の実施形態のリードフレーム20であるが、中央部
にダイパッド21が配設されており、その両側方に所定
の間隔で所定のピッチで複数本のリードピン(電極)1
2が配設されている。そしてこのリードフレーム20に
おいても、これらは電気良導体の同一厚みの平面板を用
いて形成されている。しかし、このリードフレーム20
においては、ダイパッド21部分の構造が従来技術のリ
ードフレーム10におけるダイパッド11の構造と異な
り、前記複数本のリードピン12の構造は従来技術のリ
ードフレーム10におけるリードピン12と同一の構造
で形成されているものである。従って、リードピン12
の構造の説明については省略し、以下、ダイパッド21
部分の構造について説明する。
の半導体装置を指す。また、この半導体装置1Aに用い
られているリードフレームを符号20で表す。先ず、本
発明の実施形態のリードフレーム20であるが、中央部
にダイパッド21が配設されており、その両側方に所定
の間隔で所定のピッチで複数本のリードピン(電極)1
2が配設されている。そしてこのリードフレーム20に
おいても、これらは電気良導体の同一厚みの平面板を用
いて形成されている。しかし、このリードフレーム20
においては、ダイパッド21部分の構造が従来技術のリ
ードフレーム10におけるダイパッド11の構造と異な
り、前記複数本のリードピン12の構造は従来技術のリ
ードフレーム10におけるリードピン12と同一の構造
で形成されているものである。従って、リードピン12
の構造の説明については省略し、以下、ダイパッド21
部分の構造について説明する。
【0014】本発明のリードフレーム20も、同一の厚
みの電気良導体を用いて形成されている。このリードフ
レーム20におけるダイパッド21は、図1に示したよ
うに、その周辺部211が裏面側から中央部212のほ
ぼ半分の厚みにエッチングなどの手段によって削られて
段差となる裏面後退部213が形成されている。
みの電気良導体を用いて形成されている。このリードフ
レーム20におけるダイパッド21は、図1に示したよ
うに、その周辺部211が裏面側から中央部212のほ
ぼ半分の厚みにエッチングなどの手段によって削られて
段差となる裏面後退部213が形成されている。
【0015】このような裏面後退部213をダイパッド
21の周辺部211に形成することにより、ダイパッド
21のICチップ2の搭載面側の側縁とリードピン12
の基端部122との間隔幅Wbを極力狭くして、ダイパ
ッド21のICチップ2の搭載面の幅Waをダイパッド
21の裏面露出部分の幅Wcより大幅に広く取れる。し
かも、ダイパッド21の周辺部211に形成されている
前記リードピン12の基端部122における裏面後退部
123とともにダイパッド21の裏面で露出している中
央部212とリードピン12の裏面で露出している先端
部121との間隔Wdを従来技術のリードフレーム10
における前記間隔Wfと少なくとも同等以上(Wd≧W
f)の間隔幅で離間させることができる。
21の周辺部211に形成することにより、ダイパッド
21のICチップ2の搭載面側の側縁とリードピン12
の基端部122との間隔幅Wbを極力狭くして、ダイパ
ッド21のICチップ2の搭載面の幅Waをダイパッド
21の裏面露出部分の幅Wcより大幅に広く取れる。し
かも、ダイパッド21の周辺部211に形成されている
前記リードピン12の基端部122における裏面後退部
123とともにダイパッド21の裏面で露出している中
央部212とリードピン12の裏面で露出している先端
部121との間隔Wdを従来技術のリードフレーム10
における前記間隔Wfと少なくとも同等以上(Wd≧W
f)の間隔幅で離間させることができる。
【0016】次に、本発明の一実施形態の半導体装置1
Aは前記のような構造のリードフレーム20を基に構成
されている。即ち、前記リードフレーム20の前記ダイ
パッド21の表面にICチップ2を搭載し、そのICチ
ップ2の各電極を前記リードピン12に接続し、前記ダ
イパッド21の中央部212の裏面と前記各リードピン
12の先端部121の裏面とを除き、前記ICチップ
2、前記ダイパッド21の表面及び前記裏面後退部21
3、前記各リードピン12の基端部122の表面及び前
記裏面後退部123、前記ダイパッド21の前記周辺部
と前記各リードピン12の前記基端部122との間が樹
脂4で封止し、そして前記ダイパッド21の前記裏面後
退部213及び前記各リードピン12の基端部122の
前記裏面後退部123を覆った前記封止樹脂面が前記ダ
イパッド21の中央部212の裏面と前記各リードピン
12の先端部121の裏面とともに同一平面を形成する
ように樹脂4を充填して構成されている。
Aは前記のような構造のリードフレーム20を基に構成
されている。即ち、前記リードフレーム20の前記ダイ
パッド21の表面にICチップ2を搭載し、そのICチ
ップ2の各電極を前記リードピン12に接続し、前記ダ
イパッド21の中央部212の裏面と前記各リードピン
12の先端部121の裏面とを除き、前記ICチップ
2、前記ダイパッド21の表面及び前記裏面後退部21
3、前記各リードピン12の基端部122の表面及び前
記裏面後退部123、前記ダイパッド21の前記周辺部
と前記各リードピン12の前記基端部122との間が樹
脂4で封止し、そして前記ダイパッド21の前記裏面後
退部213及び前記各リードピン12の基端部122の
前記裏面後退部123を覆った前記封止樹脂面が前記ダ
イパッド21の中央部212の裏面と前記各リードピン
12の先端部121の裏面とともに同一平面を形成する
ように樹脂4を充填して構成されている。
【0017】従って、ダイパッド21の裏面で露出して
いる中央部212とリードピン12の裏面で露出してい
る先端部121との間隔Wdを従来技術のリードフレー
ム10における前記間隔Wfと少なくとも同等以上(W
d≧Wf)の間隔幅で離間させながら、ダイパッド21
の幅Waをかなり広く取れ、しかも半導体装置1Aの全
体の電子回路基板への装着面積を従来通りの同等の占有
面積の範囲に止めることができる。そして、本発明の半
導体装置1Aを電子回路基板に実装する時に、ダイパッ
ド21と各リードピン12との間のショートは無論のこ
と、半田によるブリッジを防止することができる。
いる中央部212とリードピン12の裏面で露出してい
る先端部121との間隔Wdを従来技術のリードフレー
ム10における前記間隔Wfと少なくとも同等以上(W
d≧Wf)の間隔幅で離間させながら、ダイパッド21
の幅Waをかなり広く取れ、しかも半導体装置1Aの全
体の電子回路基板への装着面積を従来通りの同等の占有
面積の範囲に止めることができる。そして、本発明の半
導体装置1Aを電子回路基板に実装する時に、ダイパッ
ド21と各リードピン12との間のショートは無論のこ
と、半田によるブリッジを防止することができる。
【0018】前記本発明のリードフレーム20の一実施
寸法例を挙げておく。ダイパッド21の幅Waが2.4
mmに対し、幅が0.45mm、深さ0.1mmのエッ
チングを施して前記裏面後退部213を形成し、裏面に
露出しているダイパッド21の中央部212の幅Wcを
1.5mmとしている。これにより半導体装置1Aの底
部でのリードピン12の先端部121とダイパッド21
の裏面との間隔幅Wdを1mm確保できる。因みに、ダ
イパッド21に裏面後退部213を形成しなかった場合
には、この間隔幅Wdは0.55mmしか確保できず、
電子回路基板への実装時のショートが懸念される。
寸法例を挙げておく。ダイパッド21の幅Waが2.4
mmに対し、幅が0.45mm、深さ0.1mmのエッ
チングを施して前記裏面後退部213を形成し、裏面に
露出しているダイパッド21の中央部212の幅Wcを
1.5mmとしている。これにより半導体装置1Aの底
部でのリードピン12の先端部121とダイパッド21
の裏面との間隔幅Wdを1mm確保できる。因みに、ダ
イパッド21に裏面後退部213を形成しなかった場合
には、この間隔幅Wdは0.55mmしか確保できず、
電子回路基板への実装時のショートが懸念される。
【0019】前記の説明で、電気良導体の同一厚みの平
面板を基に、前記裏面後退部213をエッチングを用い
て形成すると記したが、この形成はエッチングに限ら
ず、例えば、プレスにより外部を窪ませる方法、ダイパ
ッドの内部に別の金属板を接着させる方法を用いて形成
でき、本発明においては、前記裏面後退部213の形成
方法は問わないことを断っておく。
面板を基に、前記裏面後退部213をエッチングを用い
て形成すると記したが、この形成はエッチングに限ら
ず、例えば、プレスにより外部を窪ませる方法、ダイパ
ッドの内部に別の金属板を接着させる方法を用いて形成
でき、本発明においては、前記裏面後退部213の形成
方法は問わないことを断っておく。
【0020】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の半導体装置用リードフレーム及びこれを用いた半導体
装置によれば、電子回路基板への実装時に、ダイパッド
と各リードピンとの間のショートや半田によるブリッジ
を起こすことなく実装でき、しかも、従来技術の半導体
装置の電子回路基板への実装占有面積よりも広い実装占
有面積を取ることもなく、そして比較的面積の広いIC
チップでもダイパッドに搭載することができるなど、数
々の優れた効果が得られる。
の半導体装置用リードフレーム及びこれを用いた半導体
装置によれば、電子回路基板への実装時に、ダイパッド
と各リードピンとの間のショートや半田によるブリッジ
を起こすことなく実装でき、しかも、従来技術の半導体
装置の電子回路基板への実装占有面積よりも広い実装占
有面積を取ることもなく、そして比較的面積の広いIC
チップでもダイパッドに搭載することができるなど、数
々の優れた効果が得られる。
【図1】 本発明の実施形態の半導体装置の断面側面図
である。
である。
【図2】 図1に示した半導体装置のA−A線上におけ
る断面平面図である。
る断面平面図である。
【図3】 図1に示した半導体装置の裏面から見た平面
図である。
図である。
【図4】 従来技術の半導体装置の断面側面図である。
【図5】 図4に示した半導体装置のA−A線上におけ
る断面平面図である。
る断面平面図である。
【図6】 図4に示した半導体装置の裏面から見た平面
図である。
図である。
1A…本発明の一実施形態の半導体装置、12…リード
ピン、121…リードピン12の先端部、122…リー
ドピン12の基端部、123…リードピン12の裏面後
退部、2…ICチップ、3…ワイヤー、4…樹脂、20
…本発明の一実施形態のリードフレーム、21…ダイパ
ッド、211…ダイパッド21の周辺部、212…ダイ
パッド21の中央部、213…ダイパッド21の裏面後
退部
ピン、121…リードピン12の先端部、122…リー
ドピン12の基端部、123…リードピン12の裏面後
退部、2…ICチップ、3…ワイヤー、4…樹脂、20
…本発明の一実施形態のリードフレーム、21…ダイパ
ッド、211…ダイパッド21の周辺部、212…ダイ
パッド21の中央部、213…ダイパッド21の裏面後
退部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4M109 AA01 BA01 BA02 CA21 DB03 FA04 GA05 5F067 AA01 AA03 AA13 AB04 BE01 CA01 CA03
Claims (2)
- 【請求項1】 表面にICチップを搭載するダイパッド
と、該ダイパッドの周辺部に所定の間隔を開けて配設さ
れた複数本のリードピンとから構成されている半導体装
置用リードフレームにおいて、 前記ダイパッドの周辺部の裏面が中央部の裏面より後退
した面で形成されており、 また、前記ダイパッドの周辺部側の前記各リードピンの
基端部の裏面も、それらの先端部の裏面より後退した面
で形成されていることを特徴とする半導体装置用リード
フレーム。 - 【請求項2】 前記半導体装置用リードフレームの前記
ダイパッドの表面にICチップが搭載され、該ICチッ
プの各電極が前記リードピンに接続され、前記ダイパッ
ドの中央部の裏面と前記各リードピンの先端部の裏面と
を除き、前記ICチップ、前記ダイパッドの表面及び前
記裏面後退面、前記各リードピンの基端部の表面及び前
記裏面後退面、前記ダイパッドの前記周辺部と前記各リ
ードピンの前記基端部との間が樹脂で封止され、前記ダ
イパッドの前記裏面後退面及び前記各リードピンの基端
部の前記裏面後退面を覆った前記封止樹脂面が前記ダイ
パッドの中央部の裏面と前記各リードピンの先端部の裏
面とともに同一平面を形成して構成されていることを特
徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11148510A JP2000340732A (ja) | 1999-05-27 | 1999-05-27 | 半導体装置用リードフレーム及びこれを用いた半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11148510A JP2000340732A (ja) | 1999-05-27 | 1999-05-27 | 半導体装置用リードフレーム及びこれを用いた半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000340732A true JP2000340732A (ja) | 2000-12-08 |
Family
ID=15454388
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11148510A Withdrawn JP2000340732A (ja) | 1999-05-27 | 1999-05-27 | 半導体装置用リードフレーム及びこれを用いた半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000340732A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2006514438A (ja) * | 2003-02-25 | 2006-04-27 | テッセラ,インコーポレイテッド | 接続要素を有する高周波チップパッケージ |
| JP2016040834A (ja) * | 2000-12-28 | 2016-03-24 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 電子装置の製造方法 |
| US9496204B2 (en) | 2000-12-28 | 2016-11-15 | Renesas Electronics Corporation | Semiconductor device |
| WO2025187168A1 (ja) * | 2024-03-06 | 2025-09-12 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 半導体リレー |
-
1999
- 1999-05-27 JP JP11148510A patent/JP2000340732A/ja not_active Withdrawn
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060208 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20070619 |