JP2000343363A - バキュームチャックのセラミックマスクとその使用方法 - Google Patents
バキュームチャックのセラミックマスクとその使用方法Info
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- Jigs For Machine Tools (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】サイズの相違するシリコンウエハに研削加工又
は研磨加工をする場合にバキュームチャックの交換をし
なくともセラミックマスクを交換するだけでフリーサイ
ズとするセラミックマスクとその使用方法を提供する。 【解決手段】底面に吸引孔を貫設すると共に凹陥部を備
えたカップ状のバキュームチャックベースと、バキュー
ムチャックベースの凹陥部に嵌入するポーラスセラミッ
クで形成された吸着台と、吸着台にシリコンウエハを吸
着させて研削加工又は研磨加工を施すバキュームチャッ
クにおいて、シリコンウエハの外周とバキュームチャッ
クベースの外周縁辺の上面との間を覆う不通気性のセラ
ミックマスクを形成すると共に、セラミックマスクの肉
厚はシリコンウエハの肉厚より薄肉とした。
は研磨加工をする場合にバキュームチャックの交換をし
なくともセラミックマスクを交換するだけでフリーサイ
ズとするセラミックマスクとその使用方法を提供する。 【解決手段】底面に吸引孔を貫設すると共に凹陥部を備
えたカップ状のバキュームチャックベースと、バキュー
ムチャックベースの凹陥部に嵌入するポーラスセラミッ
クで形成された吸着台と、吸着台にシリコンウエハを吸
着させて研削加工又は研磨加工を施すバキュームチャッ
クにおいて、シリコンウエハの外周とバキュームチャッ
クベースの外周縁辺の上面との間を覆う不通気性のセラ
ミックマスクを形成すると共に、セラミックマスクの肉
厚はシリコンウエハの肉厚より薄肉とした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、研磨盤又は研削盤のシ
リコンウエハを吸着させるバキュームチャックのセラミ
ックマスクとその使用方法に関するものであって、更に
詳細には、研磨盤又は研削盤において、サイズの相違す
るシリコンウエハに研削加工又は研磨加工をする場合に
バキュームチャックの交換をしなくともセラミックマス
クを交換するだけでフリーサイズのバキュームチャック
とするバキュームチャックのセラミックマスクに関する
ものである。
リコンウエハを吸着させるバキュームチャックのセラミ
ックマスクとその使用方法に関するものであって、更に
詳細には、研磨盤又は研削盤において、サイズの相違す
るシリコンウエハに研削加工又は研磨加工をする場合に
バキュームチャックの交換をしなくともセラミックマス
クを交換するだけでフリーサイズのバキュームチャック
とするバキュームチャックのセラミックマスクに関する
ものである。
【０００２】
【従来技術】従来、この種の通気性の吸着台を用いたバ
キュームチャックでシリコンウエハのサイズの相違する
研削加工又は研磨加工をする場合は、シリコンウエハの
サイズによってバキュームチャックを交換して、バキュ
ームが有効に作用するようにシリコンウエハのサイズと
通気性の吸着台のサイズを略同径としていた。
キュームチャックでシリコンウエハのサイズの相違する
研削加工又は研磨加工をする場合は、シリコンウエハの
サイズによってバキュームチャックを交換して、バキュ
ームが有効に作用するようにシリコンウエハのサイズと
通気性の吸着台のサイズを略同径としていた。
【０００３】
【解決しようとする課題】然し乍、このバキュームチャ
ックの交換のための作業は手間暇かかると共に、研削盤
又は研磨盤での加工作業を一時的に停止して行わなけれ
ばならず、時間的なロスが発生しており課題を有してい
た。
ックの交換のための作業は手間暇かかると共に、研削盤
又は研磨盤での加工作業を一時的に停止して行わなけれ
ばならず、時間的なロスが発生しており課題を有してい
た。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、前述の課題に
鑑みて、鋭意研鑽の結果、底面に吸引孔を貫設すると共
に凹陥部を備えたカップ状のバキュームチャックベース
と、バキュームチャックベースの凹陥部に嵌入するポー
ラスセラミックで形成された吸着台と、吸着台にシリコ
ンウエハを吸着させて研削加工又は研磨加工を施すバキ
ュームチャックにおいて、シリコンウエハの外周とバキ
ュームチャックベースの外周縁辺の上面との間を覆う不
通気性のセラミックマスクを形成すると共に、セラミッ
クマスクの肉厚はシリコンウエハの肉厚より薄肉とした
ものである。
鑑みて、鋭意研鑽の結果、底面に吸引孔を貫設すると共
に凹陥部を備えたカップ状のバキュームチャックベース
と、バキュームチャックベースの凹陥部に嵌入するポー
ラスセラミックで形成された吸着台と、吸着台にシリコ
ンウエハを吸着させて研削加工又は研磨加工を施すバキ
ュームチャックにおいて、シリコンウエハの外周とバキ
ュームチャックベースの外周縁辺の上面との間を覆う不
通気性のセラミックマスクを形成すると共に、セラミッ
クマスクの肉厚はシリコンウエハの肉厚より薄肉とした
ものである。
【０００５】従って、本発明の目的は、サイズの相違す
るシリコンウエハに研削加工又は研磨加工をする場合に
バキュームチャックの交換をしなくともセラミックマス
クを交換するだけでフリーサイズとするセラミックマス
クとその使用方法を創案して提供することを目的とする
ものである。
るシリコンウエハに研削加工又は研磨加工をする場合に
バキュームチャックの交換をしなくともセラミックマス
クを交換するだけでフリーサイズとするセラミックマス
クとその使用方法を創案して提供することを目的とする
ものである。
【０００６】
【発明の作用】本発明は、吸着台に吸着させるシリコン
ウエハの外径にあわせて略同径の内径を備えたセラミッ
クマスクをシリコンウエハの外径とバキュームチャック
ベースの外周縁辺の上面の間に乗載させて研削加工又は
研磨加工を施すものである。
ウエハの外径にあわせて略同径の内径を備えたセラミッ
クマスクをシリコンウエハの外径とバキュームチャック
ベースの外周縁辺の上面の間に乗載させて研削加工又は
研磨加工を施すものである。
【０００７】
【実施例】以下、実施例の図面によって、本発明のバキ
ュームチャックのセラミックマスクとその使用方法を具
体的に説明する。
ュームチャックのセラミックマスクとその使用方法を具
体的に説明する。
【０００８】図１は本発明のバキュームチャックのセラ
ミックマスクとその使用方法を説明するための説明平面
図であり、図２は本発明のバキュームチャックのセラミ
ックマスクとその使用方法を説明するための説明側面図
であり、図３は本発明のバキュームチャックのセラミッ
クマスクとその使用方法を説明するための説明側面図で
ある。
ミックマスクとその使用方法を説明するための説明平面
図であり、図２は本発明のバキュームチャックのセラミ
ックマスクとその使用方法を説明するための説明側面図
であり、図３は本発明のバキュームチャックのセラミッ
クマスクとその使用方法を説明するための説明側面図で
ある。
【０００９】本発明は、研磨盤又は研削盤のシリコンウ
エハＷを吸着させるバキュームチャックのセラミックマ
スク１とその使用方法に関するものであって、更に詳細
には、研磨盤又は研削盤において、サイズの相違するシ
リコンウエハＷに研削加工又は研磨加工をする場合にバ
キュームチャックの交換をしなくともセラミックマスク
１を交換するだけでフリーサイズのバキュームチャック
とするバキュームチャックのセラミックマスク１に関す
るものであり、請求項１に記載のバキュームチャックの
セラミックマスク１は、底面に複数の吸引孔２ａを貫設
すると共に中央に凹陥部２ｂを備えたカップ状のバキュ
ームチャックベース２と、該バキュームチャックベース
２の凹陥部２ｂに嵌入する通気性のポーラスセラミック
で円板状に形成された吸着台３と、該吸着台３の中央に
シリコンウエハＷを吸着させて研削加工又は研磨加工を
施すバキュームチャックにおいて、前記シリコンウエハ
Ｗの外周とバキュームチャックベース２の外周縁辺の上
面との間を覆う不通気性のセラミックマスク１をドーナ
ツ状に形成すると共に、前記セラミックマスク１の肉厚
はシリコンウエハＷの肉厚より薄肉としたものである。
エハＷを吸着させるバキュームチャックのセラミックマ
スク１とその使用方法に関するものであって、更に詳細
には、研磨盤又は研削盤において、サイズの相違するシ
リコンウエハＷに研削加工又は研磨加工をする場合にバ
キュームチャックの交換をしなくともセラミックマスク
１を交換するだけでフリーサイズのバキュームチャック
とするバキュームチャックのセラミックマスク１に関す
るものであり、請求項１に記載のバキュームチャックの
セラミックマスク１は、底面に複数の吸引孔２ａを貫設
すると共に中央に凹陥部２ｂを備えたカップ状のバキュ
ームチャックベース２と、該バキュームチャックベース
２の凹陥部２ｂに嵌入する通気性のポーラスセラミック
で円板状に形成された吸着台３と、該吸着台３の中央に
シリコンウエハＷを吸着させて研削加工又は研磨加工を
施すバキュームチャックにおいて、前記シリコンウエハ
Ｗの外周とバキュームチャックベース２の外周縁辺の上
面との間を覆う不通気性のセラミックマスク１をドーナ
ツ状に形成すると共に、前記セラミックマスク１の肉厚
はシリコンウエハＷの肉厚より薄肉としたものである。
【００１０】更に、請求項２に記載バキュームチャック
のセラミックマスク１の使用方法は、底面に複数の吸引
孔２ａを貫設すると共に中央に凹陥部２ｂを備えたカッ
プ状のバキュームチャックベース２と、該バキュームチ
ャックベース２の凹陥部２ｂに嵌入する通気性のポーラ
スセラミックで円板状に形成された吸着台３と、該吸着
台３の中央にシリコンウエハＷを吸着させて研削加工又
は研磨加工を施すバキュームチャックにおいて、前記シ
リコンウエハＷの外周とバキュームチャックベース２の
外周縁辺の上面との間を覆う不通気性のセラミックマス
ク１をドーナツ状に形成すると共に、前記セラミックマ
スク１の肉厚はシリコンウエハＷの肉厚より薄肉とした
バキュームチャックのセラミックマスク１を用いて、前
記吸着台３に吸着させるシリコンウエハＷの外径にあわ
せて略同径の内径を備えたセラミックマスク１をシリコ
ンウエハＷの外径とバキュームチャックベース２の外周
縁辺の上面との間に乗載させて研削加工又は研磨加工を
施すものである。
のセラミックマスク１の使用方法は、底面に複数の吸引
孔２ａを貫設すると共に中央に凹陥部２ｂを備えたカッ
プ状のバキュームチャックベース２と、該バキュームチ
ャックベース２の凹陥部２ｂに嵌入する通気性のポーラ
スセラミックで円板状に形成された吸着台３と、該吸着
台３の中央にシリコンウエハＷを吸着させて研削加工又
は研磨加工を施すバキュームチャックにおいて、前記シ
リコンウエハＷの外周とバキュームチャックベース２の
外周縁辺の上面との間を覆う不通気性のセラミックマス
ク１をドーナツ状に形成すると共に、前記セラミックマ
スク１の肉厚はシリコンウエハＷの肉厚より薄肉とした
バキュームチャックのセラミックマスク１を用いて、前
記吸着台３に吸着させるシリコンウエハＷの外径にあわ
せて略同径の内径を備えたセラミックマスク１をシリコ
ンウエハＷの外径とバキュームチャックベース２の外周
縁辺の上面との間に乗載させて研削加工又は研磨加工を
施すものである。
【００１１】即ち、本発明のバキュームチャックのセラ
ミックマスク１の実施例は、図１に図示する如く、研削
盤又は研磨盤の回転自在に立設させた加工テーブルに複
数のバキュームチャックを設けているもので、夫々のバ
キュームチャックの上面にはシリコンウエハＷを吸着さ
せて、上方から回転自在のスピンドル軸（図示しない）
の下面に備えられたカップホイール砥石、ラッピング定
盤、ポリシング定盤等を降下させて研削加工又は研磨加
工を施すものである。
ミックマスク１の実施例は、図１に図示する如く、研削
盤又は研磨盤の回転自在に立設させた加工テーブルに複
数のバキュームチャックを設けているもので、夫々のバ
キュームチャックの上面にはシリコンウエハＷを吸着さ
せて、上方から回転自在のスピンドル軸（図示しない）
の下面に備えられたカップホイール砥石、ラッピング定
盤、ポリシング定盤等を降下させて研削加工又は研磨加
工を施すものである。
【００１２】そして、夫々のバキュームチャックはカッ
プ状のバキュームチャックベース２と、該バキュームチ
ャックベース２の凹陥部２ｂに嵌入する通気性のポーラ
スセラミックで形成された吸着台３とから成るものであ
る。
プ状のバキュームチャックベース２と、該バキュームチ
ャックベース２の凹陥部２ｂに嵌入する通気性のポーラ
スセラミックで形成された吸着台３とから成るものであ
る。
【００１３】次に、バキュームチャックベース２は、図
２乃至図３に図示する如く、底面と中央に凹陥部２ｂと
を有したカップ状に形成すると共に、前記底面にはバキ
ューム吸着させるための複数の吸引孔２ａを貫設してい
るものである。
２乃至図３に図示する如く、底面と中央に凹陥部２ｂと
を有したカップ状に形成すると共に、前記底面にはバキ
ューム吸着させるための複数の吸引孔２ａを貫設してい
るものである。
【００１４】更に、吸着台３は前記バキュームチャック
ベース２の凹陥部２ｂに嵌入させるもので、吸着台３は
通気性を有するポーラスセラミックで円板状に形成され
ているものであり、吸着台３の上面とバキュームチャッ
クベース２の外周縁辺の上面とは面一となるものであ
る。
ベース２の凹陥部２ｂに嵌入させるもので、吸着台３は
通気性を有するポーラスセラミックで円板状に形成され
ているものであり、吸着台３の上面とバキュームチャッ
クベース２の外周縁辺の上面とは面一となるものであ
る。
【００１５】そして、吸着台３の中央にシリコンウエハ
Ｗを乗載させて、吸引孔２ａよりエアを排除することで
バキュームをかけて吸着させ、シリコンウエハＷの上面
に研削加工又は研磨加工を施すものである。
Ｗを乗載させて、吸引孔２ａよりエアを排除することで
バキュームをかけて吸着させ、シリコンウエハＷの上面
に研削加工又は研磨加工を施すものである。
【００１６】次に、セラミックマスク１は不通気性のセ
ラミックでシリコンウエハＷの外周とバキュームチャッ
クベース２の外周縁辺の上面との間を覆うドーナツ状に
形成したものであって、セラミックマスク１の内周はシ
リコンウエハＷを挿通させるため稍小径とした略同径の
ものであり、セラミックマスク１の外径はバキュームチ
ャックベース２の外径と略同径に形成しているものであ
る。
ラミックでシリコンウエハＷの外周とバキュームチャッ
クベース２の外周縁辺の上面との間を覆うドーナツ状に
形成したものであって、セラミックマスク１の内周はシ
リコンウエハＷを挿通させるため稍小径とした略同径の
ものであり、セラミックマスク１の外径はバキュームチ
ャックベース２の外径と略同径に形成しているものであ
る。
【００１７】次いで、セラミックマスク１の肉厚はシリ
コンウエハＷの肉厚より薄肉としているもので、研削加
工又は研磨加工の作業中にカップホイール砥石、ラッピ
ング定盤、ポリシング定盤等に接触しないように形成さ
れているものである。
コンウエハＷの肉厚より薄肉としているもので、研削加
工又は研磨加工の作業中にカップホイール砥石、ラッピ
ング定盤、ポリシング定盤等に接触しないように形成さ
れているものである。
【００１８】更に、本発明の請求項２に記載の発明は、
前記バキュームチャックのセラミックマスク１を用い
て、シリコンウエハＷの外径に合わせた略同径の内径の
セラミックマスク１をシリコンウエハＷの外径とバキュ
ームチャックベース２の外周縁辺の上面との間に乗載さ
せて研削加工又は研磨加工を施すものである。
前記バキュームチャックのセラミックマスク１を用い
て、シリコンウエハＷの外径に合わせた略同径の内径の
セラミックマスク１をシリコンウエハＷの外径とバキュ
ームチャックベース２の外周縁辺の上面との間に乗載さ
せて研削加工又は研磨加工を施すものである。
【００１９】つまり、図１に図示する如く、例えば、サ
イズの相違するシリコンウエハＷを同時に研削加工又は
研磨加工を施す場合でも、又、図２と図３に図示するよ
うに、研削加工又は研磨加工を施すシリコンウエハＷの
サイズか代わった場合でも、シリコンウエハＷの外径と
合致する内径を備えたセラミックマスク１を用いれば、
バキュームチャックの交換をしなくとも、通気性の吸着
盤の上方はシリコンウエハＷかセラミックマスク１に覆
われており、バキュームが有効に作用するものである。
イズの相違するシリコンウエハＷを同時に研削加工又は
研磨加工を施す場合でも、又、図２と図３に図示するよ
うに、研削加工又は研磨加工を施すシリコンウエハＷの
サイズか代わった場合でも、シリコンウエハＷの外径と
合致する内径を備えたセラミックマスク１を用いれば、
バキュームチャックの交換をしなくとも、通気性の吸着
盤の上方はシリコンウエハＷかセラミックマスク１に覆
われており、バキュームが有効に作用するものである。
【００２０】又、本発明のバキュームチャックのセラミ
ックマスク１とその使用方法はシリコンウエハＷを枚葉
ごとに研削加工又は研磨加工を施こされる研削盤又は研
磨盤にも適応できるものである。
ックマスク１とその使用方法はシリコンウエハＷを枚葉
ごとに研削加工又は研磨加工を施こされる研削盤又は研
磨盤にも適応できるものである。
【００２１】
【発明の効果】前述の如く構成した本発明のバキューム
チャックのセラミックマスク１とその使用方法は、研磨
盤又は研削盤等において、サイズの相違するシリコンウ
エハに研削加工又は研磨加工をする場合にバキュームチ
ャックの交換をしなくともセラミックマスクを交換する
だけでフリーサイズのバキュームチャックとするもので
あり、極めて有意義な効果を奏することができるもので
ある。
チャックのセラミックマスク１とその使用方法は、研磨
盤又は研削盤等において、サイズの相違するシリコンウ
エハに研削加工又は研磨加工をする場合にバキュームチ
ャックの交換をしなくともセラミックマスクを交換する
だけでフリーサイズのバキュームチャックとするもので
あり、極めて有意義な効果を奏することができるもので
ある。
【図１】図１は本発明のバキュームチャックのセラミッ
クマスクとその使用方法を説明するための説明平面図で
ある。
クマスクとその使用方法を説明するための説明平面図で
ある。
【図２】図２は本発明のバキュームチャックのセラミッ
クマスクとその使用方法を説明するための説明側面図で
ある。
クマスクとその使用方法を説明するための説明側面図で
ある。
【図３】図３は本発明のバキュームチャックのセラミッ
クマスクとその使用方法を説明するための説明側面図で
ある。
クマスクとその使用方法を説明するための説明側面図で
ある。
【符号の説明】 Ｗ シリコンウエハ １ セラミックマスク ２ バキュームチャックベース ２ａ 吸引孔 ２ｂ 凹陥部 ３ 吸着台
Claims (2)
- 【請求項１】底面に複数の吸引孔を貫設すると共に中央
に凹陥部を備えたカップ状のバキュームチャックベース
と、該バキュームチャックベースの凹陥部に嵌入する通
気性のポーラスセラミックで円板状に形成された吸着台
と、該吸着台の中央にシリコンウエハを吸着させて研削
加工又は研磨加工を施すバキュームチャックにおいて、
前記シリコンウエハの外周とバキュームチャックベース
の外周縁辺の上面との間を覆う不通気性のセラミックマ
スクをドーナツ状に形成すると共に、前記セラミックマ
スクの肉厚はシリコンウエハの肉厚より薄肉としたこと
を特徴とするバキュームチャックのセラミックマスク。 - 【請求項２】底面に複数の吸引孔を貫設すると共に中央
に凹陥部を備えたカップ状のバキュームチャックベース
と、該バキュームチャックベースの凹陥部に嵌入する通
気性のポーラスセラミックで円板状に形成された吸着台
と、該吸着台の中央にシリコンウエハを吸着させて研削
加工又は研磨加工を施すバキュームチャックにおいて、
前記シリコンウエハの外周とバキュームチャックベース
の外周縁辺の上面との間を覆う不通気性のセラミックマ
スクをドーナツ状に形成すると共に、前記セラミックマ
スクの肉厚はシリコンウエハの肉厚より薄肉としたバキ
ュームチャックのセラミックマスクを用いて、前記吸着
台に吸着させるシリコンウエハの外径にあわせて略同径
の内径を備えたセラミックマスクをシリコンウエハの外
周とバキュームチャックベースの外周縁辺の上面との間
に乗載させて研削加工又は研磨加工を施すことを特徴と
するバキュームチャックのセラミックマスクの使用方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15768599A JP2000343363A (ja) | 1999-06-04 | 1999-06-04 | バキュームチャックのセラミックマスクとその使用方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15768599A JP2000343363A (ja) | 1999-06-04 | 1999-06-04 | バキュームチャックのセラミックマスクとその使用方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000343363A true JP2000343363A (ja) | 2000-12-12 |
Family
ID=15655160
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15768599A Pending JP2000343363A (ja) | 1999-06-04 | 1999-06-04 | バキュームチャックのセラミックマスクとその使用方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000343363A (ja) |
-
1999
- 1999-06-04 JP JP15768599A patent/JP2000343363A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A625 | Written request for application examination (by other person) |
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