JP2000347344A - Heat-developable image forming material - Google Patents
Heat-developable image forming materialInfo
- Publication number
- JP2000347344A JP2000347344A JP11133273A JP13327399A JP2000347344A JP 2000347344 A JP2000347344 A JP 2000347344A JP 11133273 A JP11133273 A JP 11133273A JP 13327399 A JP13327399 A JP 13327399A JP 2000347344 A JP2000347344 A JP 2000347344A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- heat
- formula
- silver
- forming material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 94
- -1 silver halide Chemical class 0.000 claims abstract description 205
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 154
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 115
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 115
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 71
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 70
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 65
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 59
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 46
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 claims abstract description 23
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 22
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 20
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims abstract description 18
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 26
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 21
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000004149 thio group Chemical group *S* 0.000 claims description 15
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 claims description 14
- 239000002872 contrast media Substances 0.000 claims description 11
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 claims description 8
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 8
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 7
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 abstract description 36
- 238000007639 printing Methods 0.000 abstract description 9
- 230000002411 adverse Effects 0.000 abstract description 7
- 230000009982 effect on human Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 122
- 238000000034 method Methods 0.000 description 90
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 75
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 59
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 51
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 50
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 46
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 42
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 41
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 36
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 36
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 31
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 31
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 30
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 28
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 28
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 27
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 27
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 25
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 24
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 23
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 22
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 21
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 21
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 21
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 20
- 150000003378 silver Chemical class 0.000 description 20
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 19
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 19
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 19
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 19
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 19
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 18
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 17
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 17
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 15
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 15
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 15
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 15
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 15
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 15
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 15
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 15
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 14
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 13
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 13
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 13
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 13
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 13
- 230000008859 change Effects 0.000 description 12
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 12
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- 125000002813 thiocarbonyl group Chemical group *C(*)=S 0.000 description 12
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 11
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 11
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 11
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 11
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 10
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 10
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 10
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 10
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 10
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 10
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 10
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 9
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 9
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 9
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 9
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000005035 acylthio group Chemical group 0.000 description 8
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 8
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 8
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 8
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 7
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 7
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 7
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 7
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 7
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 6
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 6
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 6
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 6
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 6
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 6
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 6
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 6
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 6
- 239000007962 solid dispersion Substances 0.000 description 6
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 6
- 150000004772 tellurides Chemical class 0.000 description 6
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 6
- URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N triacetin Chemical compound CC(=O)OCC(OC(C)=O)COC(C)=O URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 5
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 5
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 125000005740 oxycarbonyl group Chemical group [*:1]OC([*:2])=O 0.000 description 5
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 5
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000003284 rhodium compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 5
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 5
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NVXLIZQNSVLKPO-UHFFFAOYSA-N Glucosereductone Chemical compound O=CC(O)C=O NVXLIZQNSVLKPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 4
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 4
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 4
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 4
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 4
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 4
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 4
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- IJAPPYDYQCXOEF-UHFFFAOYSA-N phthalazin-1(2H)-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)NN=CC2=C1 IJAPPYDYQCXOEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N phthalazine Chemical compound C1=NN=CC2=CC=CC=C21 LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 4
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 4
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 4
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 4
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 4
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 4
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 4
- PPTXVXKCQZKFBN-UHFFFAOYSA-N (S)-(-)-1,1'-Bi-2-naphthol Chemical group C1=CC=C2C(C3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=C(O)C=CC2=C1 PPTXVXKCQZKFBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 241001061127 Thione Species 0.000 description 3
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 3
- 229920006318 anionic polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 3
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 3
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N benzopyrazine Natural products N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 3
- 239000001087 glyceryl triacetate Substances 0.000 description 3
- 235000013773 glyceryl triacetate Nutrition 0.000 description 3
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 3
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002504 iridium compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 3
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 3
- 229920005615 natural polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 3
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229940065287 selenium compound Drugs 0.000 description 3
- 150000003343 selenium compounds Chemical class 0.000 description 3
- AQRYNYUOKMNDDV-UHFFFAOYSA-M silver behenate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O AQRYNYUOKMNDDV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 3
- BZHOWMPPNDKQSQ-UHFFFAOYSA-M sodium;sulfidosulfonylbenzene Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=S)C1=CC=CC=C1 BZHOWMPPNDKQSQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 3
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical group O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 3
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 3
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229960002622 triacetin Drugs 0.000 description 3
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical class C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFBBKYQYNPNMAT-UHFFFAOYSA-N 1h-1,2,4-triazol-1-ium-3-thiolate Chemical compound SC=1N=CNN=1 AFBBKYQYNPNMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AVRPFRMDMNDIDH-UHFFFAOYSA-N 1h-quinazolin-2-one Chemical compound C1=CC=CC2=NC(O)=NC=C21 AVRPFRMDMNDIDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SULYEHHGGXARJS-UHFFFAOYSA-N 2',4'-dihydroxyacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(O)C=C1O SULYEHHGGXARJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RPWDFMGIRPZGTI-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-3,5,5-trimethylhexyl]-4,6-dimethylphenol Chemical compound C=1C(C)=CC(C)=C(O)C=1C(CC(C)CC(C)(C)C)C1=CC(C)=CC(C)=C1O RPWDFMGIRPZGTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSVPCSOPJGPTNA-UHFFFAOYSA-N 2-benzoyl-5-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 LSVPCSOPJGPTNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-3,3-dimethyl-7-nitro-4h-isoquinolin-1-one Chemical class C1=C([N+]([O-])=O)C=C2C(=O)N(O)C(C)(C)CC2=C1 NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940044192 2-hydroxyethyl methacrylate Drugs 0.000 description 2
- KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 7H-purine Chemical compound N1=CNC2=NC=NC2=C1 KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 2
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical compound CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVLRYONVFBSTMZ-UHFFFAOYSA-N CC1=CC(=C(C(=C1)C(C)C(C)CC(C)(C)C)O)C Chemical compound CC1=CC(=C(C(=C1)C(C)C(C)CC(C)(C)C)O)C SVLRYONVFBSTMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HSHXDCVZWHOWCS-UHFFFAOYSA-N N'-hexadecylthiophene-2-carbohydrazide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCNNC(=O)c1cccs1 HSHXDCVZWHOWCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 2
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LXEKPEMOWBOYRF-UHFFFAOYSA-N [2-[(1-azaniumyl-1-imino-2-methylpropan-2-yl)diazenyl]-2-methylpropanimidoyl]azanium;dichloride Chemical compound Cl.Cl.NC(=N)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(N)=N LXEKPEMOWBOYRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRXWPCFZBSHSAU-UHFFFAOYSA-N [Ag].[Ag].[Te] Chemical compound [Ag].[Ag].[Te] YRXWPCFZBSHSAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 235000010443 alginic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000000783 alginic acid Substances 0.000 description 2
- 229920000615 alginic acid Polymers 0.000 description 2
- 229960001126 alginic acid Drugs 0.000 description 2
- 150000004781 alginic acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 2
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical class C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 125000006297 carbonyl amino group Chemical group [H]N([*:2])C([*:1])=O 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 2
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000717 hydrazino group Chemical group [H]N([*])N([H])[H] 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 2
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 description 2
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 239000001866 hydroxypropyl methyl cellulose Substances 0.000 description 2
- 235000010979 hydroxypropyl methyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 229920003088 hydroxypropyl methyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- VKOBVWXKNCXXDE-UHFFFAOYSA-N icosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O VKOBVWXKNCXXDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 2
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000015110 jellies Nutrition 0.000 description 2
- 239000008274 jelly Substances 0.000 description 2
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 2
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- KFPBEVFQCXRYIR-UHFFFAOYSA-N n-(3,5-dichloro-4-hydroxyphenyl)benzenesulfonamide Chemical compound C1=C(Cl)C(O)=C(Cl)C=C1NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KFPBEVFQCXRYIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- AMZORBZSQRUXNC-UHFFFAOYSA-N o-Tolyl acetate Chemical compound CC(=O)OC1=CC=CC=C1C AMZORBZSQRUXNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 2
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 2
- 150000003021 phthalic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 2
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 2
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 2
- 230000037452 priming Effects 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 2
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N rhodanine Chemical compound O=C1CSC(=S)N1 KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- DUIOPKIIICUYRZ-UHFFFAOYSA-N semicarbazide group Chemical group NNC(=O)N DUIOPKIIICUYRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 2
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 2
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 2
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRWIZMBXBAOCCF-UHFFFAOYSA-N thiosemicarbazide group Chemical group NNC(=S)N BRWIZMBXBAOCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 2
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical class C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYPCWHHQAVLMKO-XXKQIVDLSA-N (7s,9s)-7-[(2r,4s,5s,6s)-4-amino-5-hydroxy-6-methyloxan-2-yl]oxy-6,9,11-trihydroxy-9-[(e)-n-[(1-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-ylidene)amino]-c-methylcarbonimidoyl]-4-methoxy-8,10-dihydro-7h-tetracene-5,12-dione;hydrochloride Chemical group Cl.O([C@H]1C[C@@](O)(CC=2C(O)=C3C(=O)C=4C=CC=C(C=4C(=O)C3=C(O)C=21)OC)C(\C)=N\N=C1CC(C)(C)N(O)C(C)(C)C1)[C@H]1C[C@H](N)[C@H](O)[C@H](C)O1 GYPCWHHQAVLMKO-XXKQIVDLSA-N 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBYRMPXUBGMOJC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydropyrazol-3-one Chemical compound OC=1C=CNN=1 XBYRMPXUBGMOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIGYLAKFCGVRAN-UHFFFAOYSA-N 1,3,4-thiadiazolidine-2,5-dithione Chemical compound S=C1NNC(=S)S1 BIGYLAKFCGVRAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazole Chemical compound C1=CC=C2[se]C=NC2=C1 AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKKIRKUKAAAUNL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzotellurazole Chemical compound C1=CC=C2[Te]C=NC2=C1 WKKIRKUKAAAUNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical class C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STOQYCJHYNCPTL-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione;silver Chemical compound [Ag].C1=CC=C2NC(=S)NC2=C1 STOQYCJHYNCPTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXFSTTJBVAAALW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydroimidazole-2-thione Chemical class SC1=NC=CN1 OXFSTTJBVAAALW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005207 1,3-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- UHKAJLSKXBADFT-UHFFFAOYSA-N 1,3-indandione Chemical class C1=CC=C2C(=O)CC(=O)C2=C1 UHKAJLSKXBADFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 1,3-selenazole Chemical class C1=C[se]C=N1 ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSINTYZGAWHRBE-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazole-4,5-dione Chemical class O=C1SC=NC1=O RSINTYZGAWHRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDWVOYRAWVKGHA-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazole-4-thiol Chemical class SC1=CSC=N1 ZDWVOYRAWVKGHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNGDWRXWKFWCJY-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dihydropyridine Chemical class C1C=CNC=C1 YNGDWRXWKFWCJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJDDFKGDNUTITH-UHFFFAOYSA-N 1,5-bis(2-chlorophenyl)-1,2,5,6-tetrahydro-[1,2,4]triazolo[1,2-a][1,2,4]triazole-3,7-dithione Chemical compound SC1=NC(C=2C(=CC=CC=2)Cl)N(C(=N2)S)N1C2C1=CC=CC=C1Cl PJDDFKGDNUTITH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRGBKQAXMKYMHJ-UHFFFAOYSA-N 1,5-diphenyl-1,2,5,6-tetrahydro-[1,2,4]triazolo[1,2-a][1,2,4]triazole-3,7-dithione Chemical compound S=C1NC(C=2C=CC=CC=2)N(C(N2)=S)N1C2C1=CC=CC=C1 LRGBKQAXMKYMHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIWGJFPJRAEKMK-UHFFFAOYSA-N 1-(2H-benzotriazol-5-yl)-3-methyl-8-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carbonyl]-1,3,8-triazaspiro[4.5]decane-2,4-dione Chemical compound CN1C(=O)N(c2ccc3n[nH]nc3c2)C2(CCN(CC2)C(=O)c2cnc(NCc3cccc(OC(F)(F)F)c3)nc2)C1=O YIWGJFPJRAEKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole Chemical compound SC1=NN=NN1C1=CC=CC=C1 GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPANWZBSGMDWON-UHFFFAOYSA-N 1-[(2-hydroxynaphthalen-1-yl)methyl]naphthalen-2-ol Chemical compound C1=CC=C2C(CC3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=C(O)C=CC2=C1 ZPANWZBSGMDWON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUZPKXSWFBRSFL-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-3-(isocyanatomethyl)-3,5,5-trimethylhexane Chemical compound O=C=NCC(C)(CC(C)(C)C)CCN=C=O JUZPKXSWFBRSFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALAVMPYROHSFFR-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-[3-(5-sulfanylidene-2h-tetrazol-1-yl)phenyl]urea Chemical compound CNC(=O)NC1=CC=CC(N2C(=NN=N2)S)=C1 ALAVMPYROHSFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDPWHFLTRDUOHM-UHFFFAOYSA-N 1-naphthalen-1-ylphthalazine Chemical compound C1=CC=C2C(C=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)=NN=CC2=C1 HDPWHFLTRDUOHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFYLHMAYBQLBEM-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-1,2,4-triazolidine-3,5-dione Chemical compound O=C1NC(=O)NN1C1=CC=CC=C1 WFYLHMAYBQLBEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USYCQABRSUEURP-UHFFFAOYSA-N 1h-benzo[f]benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2C=C(NC=N3)C3=CC2=C1 USYCQABRSUEURP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEQIWKHCJWRNTH-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrimidine-2,4-dithione Chemical compound S=C1C=CNC(=S)N1 ZEQIWKHCJWRNTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXZSVYHFYHTNBI-UHFFFAOYSA-N 1h-quinoline-2-thione Chemical class C1=CC=CC2=NC(S)=CC=C21 KXZSVYHFYHTNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940069744 2,2'-dithiobisbenzothiazole Drugs 0.000 description 1
- NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluoropropan-1-ol Chemical compound OCC(F)(F)C(F)F NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSABUFWDVWCFDP-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylheptane Chemical compound CCCCCC(C)(C)C PSABUFWDVWCFDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropan-1-one Chemical group CC(C)(C)[C]=O YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVUQDNJRAHUUSB-UHFFFAOYSA-N 2,3,5,6-tetrachloro-1h-pyridine-4-thione Chemical class SC1=C(Cl)C(Cl)=NC(Cl)=C1Cl LVUQDNJRAHUUSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTQQIHUQLOZOJI-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydro-1,2-thiazole Chemical compound C1NSC=C1 YTQQIHUQLOZOJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEIZZTOCUDUQNV-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrophthalazine Chemical compound C1=CC=CC2=CNNC=C21 SEIZZTOCUDUQNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGLPWQKSKUVKMJ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrophthalazine-1,4-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NNC(=O)C2=C1 KGLPWQKSKUVKMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKEGGSPWBGCPNF-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydroxy-5-methyl-3-(piperidin-1-ylamino)cyclopent-2-en-1-one Chemical compound O=C1C(C)(O)CC(NN2CCCCC2)=C1O ZKEGGSPWBGCPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKUDHBLDJYZZQS-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichloro-1h-1,3,5-triazin-4-one Chemical compound OC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 YKUDHBLDJYZZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSQZJBAYJAPBKJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(dimethylamino)methyl]benzo[f]isoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C=C(C(N(CN(C)C)C3=O)=O)C3=CC2=C1 RSQZJBAYJAPBKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBECDWUDYQOTSW-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbut-3-enal Chemical compound CCC(C=C)C=O CBECDWUDYQOTSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOXDGMSQFFMNHA-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybenzenesulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1O MOXDGMSQFFMNHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTWCUGUUDHJVIH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybenzo[de]isoquinoline-1,3-dione Chemical compound C1=CC(C(N(O)C2=O)=O)=C3C2=CC=CC3=C1 KTWCUGUUDHJVIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFMZSMGAMPBRBE-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyisoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(O)C(=O)C2=C1 CFMZSMGAMPBRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical class C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- PUPFOFVEHDNUJU-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-1h-quinazolin-4-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)NC(S)=NC2=C1 PUPFOFVEHDNUJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGWULZWUXSCWPX-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylideneimidazolidin-4-one Chemical class O=C1CNC(=S)N1 UGWULZWUXSCWPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKZXZGWHTRCFPX-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-methylphenol Chemical compound CC1=CC=CC(C(C)(C)C)=C1O BKZXZGWHTRCFPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 2h-1,2-benzoxazine Chemical compound C1=CC=C2C=CNOC2=C1 CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMTYZTXUZLQUSF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbisphenol A Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C(C)(C)C=2C=C(C)C(O)=CC=2)=C1 YMTYZTXUZLQUSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZHHYIOUKQNLQM-UHFFFAOYSA-N 3,4,5,6-tetrachlorophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1C(O)=O WZHHYIOUKQNLQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEBPXHSZHLFWRL-UHFFFAOYSA-N 3,4-dihydro-2,2,5,7,8-pentamethyl-2h-1-benzopyran-6-ol Chemical compound O1C(C)(C)CCC2=C1C(C)=C(C)C(O)=C2C SEBPXHSZHLFWRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGTQPTZBBLHLBV-UHFFFAOYSA-N 3,4-diphenyl-1h-1,2,4-triazole-5-thione Chemical compound C=1C=CC=CC=1N1C(=S)NN=C1C1=CC=CC=C1 QGTQPTZBBLHLBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKRDSDDYNMVKCX-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylpyrazole-1-carboxamide Chemical compound CC=1C=C(C)N(C(N)=O)N=1 AKRDSDDYNMVKCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHUUPUMBZGWODW-UHFFFAOYSA-N 3,6-dihydro-1,2-dioxine Chemical compound C1OOCC=C1 JHUUPUMBZGWODW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAVKJJWZLWPSMK-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-1h-benzimidazole-2-thione Chemical class C1=CC=C2NC(=S)N(CC)C2=C1 UAVKJJWZLWPSMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-1-butanol Chemical compound COC(C)CCO JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropan-1-ol Chemical compound COCCCO JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IENJMFWWRIWLIW-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-1,3-thiazole-2-thione Chemical compound CN1C=CSC1=S IENJMFWWRIWLIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXRSFHYBIRFJSF-UHFFFAOYSA-N 3-phenyl-1,4-dihydropyrazol-5-one Chemical compound N1C(=O)CC(C=2C=CC=CC=2)=N1 OXRSFHYBIRFJSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMHVHKFKFDBCTE-UHFFFAOYSA-N 3h-1,3-benzoxazole-2-thione;silver Chemical compound [Ag].C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 AMHVHKFKFDBCTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEQVCPKISCKMOQ-UHFFFAOYSA-N 3h-benzo[f][1,2]benzoxazine Chemical class C1=CC=CC2=C(C=CNO3)C3=CC=C21 QEQVCPKISCKMOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYYXDZDBXNUPOG-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrahydro-1,3-benzothiazole-2,6-diamine;dihydrochloride Chemical class Cl.Cl.C1C(N)CCC2=C1SC(N)=N2 RYYXDZDBXNUPOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMTAWLUJHGIUPU-UHFFFAOYSA-N 4,5-diphenyl-1,3-dihydroimidazole-2-thione Chemical class N1C(S)=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 GMTAWLUJHGIUPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCAWOHUJKPKOMD-UHFFFAOYSA-N 4,6-diamino-1h-pyrimidine-2-thione Chemical compound NC1=CC(N)=NC(S)=N1 QCAWOHUJKPKOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKYNOIQBWUANOM-UHFFFAOYSA-N 4-[(dimethylamino)methyl]isoindole-1,3-dione Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC2=C1C(=O)NC2=O FKYNOIQBWUANOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODJUOZPKKHIEOZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)propan-2-yl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C(C)(C)C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 ODJUOZPKKHIEOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YARKTHNUMGKMGS-UHFFFAOYSA-N 4-[[(4-hydroxy-3,5-dimethoxyphenyl)methylidenehydrazinylidene]methyl]-2,6-dimethoxyphenol Chemical compound COc1cc(C=NN=Cc2cc(OC)c(O)c(OC)c2)cc(OC)c1O YARKTHNUMGKMGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLCZOHLVCQVKPI-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2h-benzotriazole;silver Chemical compound [Ag].CC1=CC=CC2=C1N=NN2 MLCZOHLVCQVKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- CWJJAFQCTXFSTA-UHFFFAOYSA-L 4-methylphthalate Chemical compound CC1=CC=C(C([O-])=O)C(C([O-])=O)=C1 CWJJAFQCTXFSTA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CWJJAFQCTXFSTA-UHFFFAOYSA-N 4-methylphthalic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 CWJJAFQCTXFSTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXFRSVCWEHBKQT-UHFFFAOYSA-N 4-naphthalen-1-yl-2h-phthalazin-1-one Chemical compound C12=CC=CC=C2C(=O)NN=C1C1=CC=CC2=CC=CC=C12 KXFRSVCWEHBKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLBQXWXKPNIVSQ-UHFFFAOYSA-N 4-nitrophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1C(O)=O SLBQXWXKPNIVSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAOLGZTXBRODCV-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-1h-1,2,4-triazole-5-thione;silver Chemical compound [Ag].SC1=NN=CN1C1=CC=CC=C1 DAOLGZTXBRODCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADWVAVYROMEPCK-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-3h-1,3-oxazole-2-thione Chemical compound O1C(S)=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1 ADWVAVYROMEPCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 4H-1,2,4-triazole Chemical compound C=1N=CNN=1 NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCWOGOMMXQGTDA-UHFFFAOYSA-N 5,7-dimethoxyphthalazine Chemical compound C1=NN=CC2=CC(OC)=CC(OC)=C21 JCWOGOMMXQGTDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMEGOYMIPUGFHF-UHFFFAOYSA-N 5,7-dimethylphthalazine Chemical compound C1=NN=CC2=CC(C)=CC(C)=C21 HMEGOYMIPUGFHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZUUZPAYWFIBDF-UHFFFAOYSA-N 5-amino-1,2-dihydro-1,2,4-triazole-3-thione Chemical class NC1=NNC(S)=N1 WZUUZPAYWFIBDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDGIVSREGUOIJZ-UHFFFAOYSA-N 5-amino-3h-1,3,4-thiadiazole-2-thione Chemical class NC1=NN=C(S)S1 GDGIVSREGUOIJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFQMMWNCTDMSBG-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-2h-benzotriazole;silver Chemical compound [Ag].ClC1=CC=C2NN=NC2=C1 AFQMMWNCTDMSBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWIYBOJLSWJGKV-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical class CC1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 CWIYBOJLSWJGKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRLMMJNORORYPO-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-1,2-dihydro-1,2,4-triazole-3-thione Chemical compound N1C(S)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 JRLMMJNORORYPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNAOFFIFVKGYRZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylpropyl)phthalazine Chemical compound C1=NN=CC2=CC(CC(C)C)=CC=C21 XNAOFFIFVKGYRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWYGMIYEADAIGW-UHFFFAOYSA-N 6-amino-2-sulfanylidene-1h-pyrimidin-4-one;hydrate Chemical class O.NC1=CC(=O)NC(=S)N1 BWYGMIYEADAIGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSPYSWLZOPCOLO-UHFFFAOYSA-N 6-azauracil Chemical compound O=C1C=NNC(=O)N1 SSPYSWLZOPCOLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDECIMXTYLBMFQ-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-2h-phthalazin-1-one Chemical compound C1=NNC(=O)C=2C1=CC(Cl)=CC=2 XDECIMXTYLBMFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AINDGCOQTNWCCB-UHFFFAOYSA-N 6-chlorophthalazine Chemical compound C1=NN=CC2=CC(Cl)=CC=C21 AINDGCOQTNWCCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOASVNMVYBSLSU-UHFFFAOYSA-N 6-ethoxy-3h-1,3-benzothiazole-2-thione Chemical class CCOC1=CC=C2N=C(S)SC2=C1 HOASVNMVYBSLSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQJLPBLXSJWAKG-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-1h-pyrimidin-3-ium-2-thione;chloride Chemical compound Cl.CC1=CC=NC(=S)N1 UQJLPBLXSJWAKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXONAWDYNNJUQI-UHFFFAOYSA-N 6-tert-butylphthalazine Chemical compound C1=NN=CC2=CC(C(C)(C)C)=CC=C21 HXONAWDYNNJUQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VABISHCLVYMGAU-UHFFFAOYSA-N 7,9-dihydropurine-8-thione Chemical class N1=CN=C2NC(S)=NC2=C1 VABISHCLVYMGAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBWDEWRMEKXOFI-UHFFFAOYSA-N 7-(trifluoromethyl)-1h-quinoline-4-thione Chemical class SC1=CC=NC2=CC(C(F)(F)F)=CC=C21 DBWDEWRMEKXOFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCMXOMQMBQOGHU-UHFFFAOYSA-N 7-tert-butyl-2,2-dimethyl-3,4-dihydrochromen-6-ol Chemical compound O1C(C)(C)CCC2=C1C=C(C(C)(C)C)C(O)=C2 SCMXOMQMBQOGHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFRDROUPIRHZFD-UHFFFAOYSA-N 8-methyl-1,3-benzoxazine-2,4-dione Chemical compound O1C(=O)NC(=O)C2=C1C(C)=CC=C2 GFRDROUPIRHZFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N Angelic acid Natural products CC=C(C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- OWNRRUFOJXFKCU-UHFFFAOYSA-N Bromadiolone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC(Br)=CC=2)C=CC=1C(O)CC(C=1C(OC2=CC=CC=C2C=1O)=O)C1=CC=CC=C1 OWNRRUFOJXFKCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKGOEKOJWMSNRX-UHFFFAOYSA-L C(C1(C)C(C)(C)C(C(=O)[O-])CC1)(=O)[O-].[Ag+2] Chemical compound C(C1(C)C(C)(C)C(C(=O)[O-])CC1)(=O)[O-].[Ag+2] BKGOEKOJWMSNRX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- IVXXCKVOQLKBAQ-UHFFFAOYSA-M C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)[O-].[Na+].SC1=NN=NN1 Chemical compound C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)[O-].[Na+].SC1=NN=NN1 IVXXCKVOQLKBAQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920008347 Cellulose acetate propionate Polymers 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IWHXNINOLLNFGP-ZAGWXBKKSA-N Cl.CCOc1ccc(cc1)\N=N\c1ccc(N)cc1N Chemical compound Cl.CCOc1ccc(cc1)\N=N\c1ccc(N)cc1N IWHXNINOLLNFGP-ZAGWXBKKSA-N 0.000 description 1
- ZYSSNSIOLIJYRF-UHFFFAOYSA-H Cl[Ir](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl Chemical compound Cl[Ir](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl ZYSSNSIOLIJYRF-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- HEWVMWUXTNMXST-UHFFFAOYSA-I Cl[Ir](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)N=O Chemical compound Cl[Ir](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)N=O HEWVMWUXTNMXST-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000619542 Homo sapiens E3 ubiquitin-protein ligase parkin Proteins 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- 150000000996 L-ascorbic acids Chemical class 0.000 description 1
- OYHQOLUKZRVURQ-HZJYTTRNSA-N Linoleic acid Chemical compound CCCCC\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O OYHQOLUKZRVURQ-HZJYTTRNSA-N 0.000 description 1
- SPAGIJMPHSUYSE-UHFFFAOYSA-N Magnesium peroxide Chemical compound [Mg+2].[O-][O-] SPAGIJMPHSUYSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- ZIHIJIOWQWZDJM-UHFFFAOYSA-N N#C[Ir](C#N)(C#N)(C#N)(C#N)C#N Chemical compound N#C[Ir](C#N)(C#N)(C#N)(C#N)C#N ZIHIJIOWQWZDJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJKRXEBLWJVYJD-UHFFFAOYSA-N N,N'-diethylethylenediamine Chemical compound CCNCCNCC CJKRXEBLWJVYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAOWLBHJBRNYQY-UHFFFAOYSA-N N1C(NC(C2=CC=CC=C12)=O)=O.C(C=1C(C(=O)O)=CC=CC1)(=O)O Chemical compound N1C(NC(C2=CC=CC=C12)=O)=O.C(C=1C(C(=O)O)=CC=CC1)(=O)O SAOWLBHJBRNYQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical group O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002230 Pectic acid Polymers 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N Silver ion Chemical compound [Ag+] FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M Trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISAKRJDGNUQOIC-UHFFFAOYSA-N Uracil Chemical compound O=C1C=CNC(=O)N1 ISAKRJDGNUQOIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- VXJUUVKQTUQXIB-UHFFFAOYSA-N [Ag+2].[C-]#[C-] Chemical class [Ag+2].[C-]#[C-] VXJUUVKQTUQXIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXFDPVZHNNCRKT-TYYBGVCCSA-L [Ag+2].[O-]C(=O)\C=C\C([O-])=O Chemical compound [Ag+2].[O-]C(=O)\C=C\C([O-])=O JXFDPVZHNNCRKT-TYYBGVCCSA-L 0.000 description 1
- XEIPQVVAVOUIOP-UHFFFAOYSA-N [Au]=S Chemical compound [Au]=S XEIPQVVAVOUIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQMYFBYLULYPD-UHFFFAOYSA-N [N+](=O)([O-])C=1C=CC2=C(C=NCO2)C=1 Chemical compound [N+](=O)([O-])C=1C=CC2=C(C=NCO2)C=1 RRQMYFBYLULYPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVJMTMRFKLJYEC-UHFFFAOYSA-N [amino(sulfanyl)methylidene]azanium;2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound NC(S)=[NH2+].[O-]C(=O)C(F)(F)F UVJMTMRFKLJYEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- GRFKUEDWLAGOJX-UHFFFAOYSA-N acetic acid;butyl acetate Chemical compound CC(O)=O.CCCCOC(C)=O GRFKUEDWLAGOJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000008360 acrylonitriles Chemical class 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000000274 adsorptive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 description 1
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001344 alkene derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004202 aminomethyl group Chemical group [H]N([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005162 aryl oxy carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005311 autocorrelation function Methods 0.000 description 1
- 125000000656 azaniumyl group Chemical group [H][N+]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 150000007656 barbituric acids Chemical class 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 229910001864 baryta Inorganic materials 0.000 description 1
- VDEUYMSGMPQMIK-UHFFFAOYSA-N benzhydroxamic acid Chemical compound ONC(=O)C1=CC=CC=C1 VDEUYMSGMPQMIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJHABGPPCLHLLV-UHFFFAOYSA-N benzo[de]isoquinoline-1,3-dione Chemical class C1=CC(C(=O)NC2=O)=C3C2=CC=CC3=C1 XJHABGPPCLHLLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2C(N=CS3)=C3C=CC2=C1 KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2C(N=CO3)=C3C=CC2=C1 WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N borane Chemical class [10BH3] UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N 0.000 description 1
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N bromic acid Chemical compound OBr(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001661 cadmium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- WGEFECGEFUFIQW-UHFFFAOYSA-L calcium dibromide Chemical compound [Ca+2].[Br-].[Br-] WGEFECGEFUFIQW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000298 carbocyanine Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005708 carbonyloxy group Chemical group [*:2]OC([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 1
- OAYRYNVEFFWSHK-UHFFFAOYSA-N carsalam Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)NC(=O)C2=C1 OAYRYNVEFFWSHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 238000003889 chemical engineering Methods 0.000 description 1
- 150000001843 chromanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 description 1
- 238000001246 colloidal dispersion Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 1
- JNGZXGGOCLZBFB-IVCQMTBJSA-N compound E Chemical compound N([C@@H](C)C(=O)N[C@@H]1C(N(C)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=N1)=O)C(=O)CC1=CC(F)=CC(F)=C1 JNGZXGGOCLZBFB-IVCQMTBJSA-N 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000007771 core particle Substances 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- OPTASPLRGRRNAP-UHFFFAOYSA-N cytosine Chemical compound NC=1C=CNC(=O)N=1 OPTASPLRGRRNAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVJHHUAWPYXKBD-UHFFFAOYSA-N d-alpha-tocopherol Natural products OC1=C(C)C(C)=C2OC(CCCC(C)CCCC(C)CCCC(C)C)(C)CCC2=C1C GVJHHUAWPYXKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004042 decolorization Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N dibenzothiazol-2-yl disulfide Chemical class C1=CC=C2SC(SSC=3SC4=CC=CC=C4N=3)=NC2=C1 AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- DOVUCQDMJHKBFO-UHFFFAOYSA-N diethyl 2,6-dimethoxy-1,4-dihydropyridine-3,5-dicarboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1=C(OC)NC(OC)=C(C(=O)OCC)C1 DOVUCQDMJHKBFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- ZUVOYUDQAUHLLG-OLXYHTOASA-L disilver;(2r,3r)-2,3-dihydroxybutanedioate Chemical compound [Ag+].[Ag+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O ZUVOYUDQAUHLLG-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 125000002228 disulfide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002023 dithiocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- QELUYTUMUWHWMC-UHFFFAOYSA-N edaravone Chemical compound O=C1CC(C)=NN1C1=CC=CC=C1 QELUYTUMUWHWMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- ZEUUVJSRINKECZ-UHFFFAOYSA-N ethanedithioic acid Chemical class CC(S)=S ZEUUVJSRINKECZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEOCXXJPGCBFJA-UHFFFAOYSA-N ethionamide Chemical compound CCC1=CC(C(N)=S)=CC=N1 AEOCXXJPGCBFJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- SXIRJEDGTAKGKU-UHFFFAOYSA-N ethyl phenylcyanoacetate Chemical compound CCOC(=O)C(C#N)C1=CC=CC=C1 SXIRJEDGTAKGKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 1
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- IYWCBYFJFZCCGV-UHFFFAOYSA-N formamide;hydrate Chemical compound O.NC=O IYWCBYFJFZCCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000009998 heat setting Methods 0.000 description 1
- 150000002390 heteroarenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 description 1
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 description 1
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002402 hexoses Chemical class 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- JJIKCECWEYPAGR-UHFFFAOYSA-N icosanoic acid;silver Chemical compound [Ag].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O JJIKCECWEYPAGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000001013 indophenol dye Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940079865 intestinal antiinfectives imidazole derivative Drugs 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005956 isoquinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002545 isoxazoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000007648 laser printing Methods 0.000 description 1
- 229940049918 linoleate Drugs 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- CUONGYYJJVDODC-UHFFFAOYSA-N malononitrile Chemical class N#CCC#N CUONGYYJJVDODC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 150000002730 mercury Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000006626 methoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 1
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 1
- 125000002757 morpholinyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZHFBNFIXRMDULI-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(2-ethoxyethyl)hydroxylamine Chemical compound CCOCCN(O)CCOCC ZHFBNFIXRMDULI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APVPOHHVBBYQAV-UHFFFAOYSA-N n-(4-aminophenyl)sulfonyloctadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)NS(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 APVPOHHVBBYQAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHZPMLXZOSFAKY-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)benzenesulfonamide Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 WHZPMLXZOSFAKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMJYFAKEXUMBGA-UHFFFAOYSA-N n-[amino(ethylamino)phosphoryl]ethanamine Chemical compound CCNP(N)(=O)NCC KMJYFAKEXUMBGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWJFEONZAZSPSG-UHFFFAOYSA-N n-amino-n-(4-methylphenyl)formamide Chemical compound CC1=CC=C(N(N)C=O)C=C1 BWJFEONZAZSPSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMPVAQNHVHNJEC-UHFFFAOYSA-N n-diaminophosphorylaniline Chemical compound NP(N)(=O)NC1=CC=CC=C1 OMPVAQNHVHNJEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N n-propyl vinyl ketone Natural products CCCC(=O)C=C JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- IOMMMLWIABWRKL-WUTDNEBXSA-N nazartinib Chemical compound C1N(C(=O)/C=C/CN(C)C)CCCC[C@H]1N1C2=C(Cl)C=CC=C2N=C1NC(=O)C1=CC=NC(C)=C1 IOMMMLWIABWRKL-WUTDNEBXSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012149 noodles Nutrition 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 125000003452 oxalyl group Chemical group *C(=O)C(*)=O 0.000 description 1
- 125000003355 oxamoyl group Chemical group C(C(=O)N)(=O)* 0.000 description 1
- 125000001096 oxamoylamino group Chemical group C(C(=O)N)(=O)N* 0.000 description 1
- 150000002916 oxazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000001475 oxazolidinediones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002918 oxazolines Chemical class 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 150000002924 oxiranes Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000045222 parkin Human genes 0.000 description 1
- LCLHHZYHLXDRQG-ZNKJPWOQSA-N pectic acid Chemical compound O[C@@H]1[C@@H](O)[C@@H](O)O[C@H](C(O)=O)[C@@H]1OC1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](OC2[C@@H]([C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O2)C(O)=O)O)[C@@H](C(O)=O)O1 LCLHHZYHLXDRQG-ZNKJPWOQSA-N 0.000 description 1
- 238000005453 pelletization Methods 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L persulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])OOS(=O)(=O)[O-] JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JTJMJGYZQZDUJJ-UHFFFAOYSA-N phencyclidine Chemical compound C1CCCCN1C1(C=2C=CC=CC=2)CCCCC1 JTJMJGYZQZDUJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFBAXHOPROOJAW-UHFFFAOYSA-N phenindione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C1C1=CC=CC=C1 NFBAXHOPROOJAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 229940067157 phenylhydrazine Drugs 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-L phosphoramidate Chemical compound NP([O-])([O-])=O PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-N phosphoramidic acid Chemical group NP(O)(O)=O PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N phthalimide Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NC(=O)C2=C1 XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005544 phthalimido group Chemical group 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005936 piperidyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Chemical class 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006290 polyethylene naphthalate film Polymers 0.000 description 1
- 239000010318 polygalacturonic acid Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229960002796 polystyrene sulfonate Drugs 0.000 description 1
- 239000011970 polystyrene sulfonate Substances 0.000 description 1
- 229920005553 polystyrene-acrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N protoneodioscin Natural products O(C[C@@H](CC[C@]1(O)[C@H](C)[C@@H]2[C@]3(C)[C@H]([C@H]4[C@@H]([C@]5(C)C(=CC4)C[C@@H](O[C@@H]4[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@H](CO)O4)CC5)CC3)C[C@@H]2O1)C)[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical class O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003217 pyrazoles Chemical class 0.000 description 1
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical compound O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N pyrimidine-2-thiol Chemical compound SC1=NC=CC=N1 HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003236 pyrrolines Chemical class 0.000 description 1
- GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-c]pyrazole Chemical compound N1=NC2=CC=NC2=C1 GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N quinazoline Chemical compound N1=CN=CC2=CC=CC=C21 JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000012260 resinous material Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000000518 rheometry Methods 0.000 description 1
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 1
- MMRXYMKDBFSWJR-UHFFFAOYSA-K rhodium(3+);tribromide Chemical compound [Br-].[Br-].[Br-].[Rh+3] MMRXYMKDBFSWJR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- VXNYVYJABGOSBX-UHFFFAOYSA-N rhodium(3+);trinitrate Chemical compound [Rh+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O VXNYVYJABGOSBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 239000010420 shell particle Substances 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- IZXSLAZMYLIILP-ODZAUARKSA-M silver (Z)-4-hydroxy-4-oxobut-2-enoate Chemical compound [Ag+].OC(=O)\C=C/C([O-])=O IZXSLAZMYLIILP-ODZAUARKSA-M 0.000 description 1
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRSQDSCQMOUOKO-KVVVOXFISA-M silver;(z)-octadec-9-enoate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC([O-])=O YRSQDSCQMOUOKO-KVVVOXFISA-M 0.000 description 1
- JLGNJRRXZNEIFK-UHFFFAOYSA-N silver;1h-triazine-6-thione Chemical compound [Ag].S=C1C=CN=NN1 JLGNJRRXZNEIFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKZGYOQAFNHEAJ-UHFFFAOYSA-N silver;2-sulfanyl-3h-thiadiazol-5-amine Chemical compound [Ag].NC1=CNN(S)S1 HKZGYOQAFNHEAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKOCEVIXVMBKJA-UHFFFAOYSA-M silver;butanoate Chemical compound [Ag+].CCCC([O-])=O JKOCEVIXVMBKJA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MNMYRUHURLPFQW-UHFFFAOYSA-M silver;dodecanoate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCC([O-])=O MNMYRUHURLPFQW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LTYHQUJGIQUHMS-UHFFFAOYSA-M silver;hexadecanoate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O LTYHQUJGIQUHMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ORYURPRSXLUCSS-UHFFFAOYSA-M silver;octadecanoate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O ORYURPRSXLUCSS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OHGHHPYRRURLHR-UHFFFAOYSA-M silver;tetradecanoate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCCCC([O-])=O OHGHHPYRRURLHR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- QYKHAAOCRIDILD-UHFFFAOYSA-M sodium;2-(4-ethenylphenyl)sulfonylacetate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)CS(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 QYKHAAOCRIDILD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CRWJEUDFKNYSBX-UHFFFAOYSA-N sodium;hypobromite Chemical compound [Na+].Br[O-] CRWJEUDFKNYSBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 1
- 125000003638 stannyl group Chemical group [H][Sn]([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 229920000468 styrene butadiene styrene block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229960002317 succinimide Drugs 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N sulfinic acid Chemical compound OS=O BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006296 sulfonyl amino group Chemical group [H]N(*)S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N sulfurothioic S-acid Chemical compound OS(O)(=O)=S DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 150000003498 tellurium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N tetrachlorophthalic anhydride Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Cl AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003475 thallium Chemical class 0.000 description 1
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001113 thiadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003549 thiazolines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003556 thioamides Chemical class 0.000 description 1
- FYOWZTWVYZOZSI-UHFFFAOYSA-N thiourea dioxide Chemical class NC(=N)S(O)=O FYOWZTWVYZOZSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-ONEGZZNKSA-N tiglic acid Chemical compound C\C=C(/C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000010384 tocopherol Nutrition 0.000 description 1
- 229960001295 tocopherol Drugs 0.000 description 1
- 229930003799 tocopherol Natural products 0.000 description 1
- 239000011732 tocopherol Substances 0.000 description 1
- 125000002088 tosyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- 125000000025 triisopropylsilyl group Chemical group C(C)(C)[Si](C(C)C)(C(C)C)* 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTOHACXAQUCHJO-UHFFFAOYSA-H tripotassium;hexachlororhodium(3-) Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[K+].[K+].[K+].[Rh+3] OTOHACXAQUCHJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 235000020681 well water Nutrition 0.000 description 1
- 239000002349 well water Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 239000001018 xanthene dye Substances 0.000 description 1
- GVJHHUAWPYXKBD-IEOSBIPESA-N α-tocopherol Chemical compound OC1=C(C)C(C)=C2O[C@@](CCC[C@H](C)CCC[C@H](C)CCCC(C)C)(C)CCC2=C1C GVJHHUAWPYXKBD-IEOSBIPESA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は熱現像画像形成材料
に関する。さらに詳細には、本発明は、人体や環境への
悪影響が小さく、かつ、熱現像条件の変動に対して安定
でカブリが極めて小さい印刷製版用に適した熱現像超硬
調画像形成材料に関する。The present invention relates to a heat-developable image forming material. More specifically, the present invention relates to a heat-developable ultrahigh contrast image forming material suitable for printing plate making which has little adverse effect on the human body and the environment, is stable against fluctuations in heat development conditions, and has extremely small fog.
【0002】[0002]
【従来の技術】支持体上に感光性層を有し、画像露光す
ることで画像形成を行う感光材料は、数多く知られてい
る。それらの中でも、環境保全や画像形成手段が簡易化
できるシステムとして、熱現像により画像を形成する技
術が挙げられる。近年写真製版分野において環境保全、
省スペースの観点から処理廃液の減量が強く望まれてい
る。そこで、レーザー・スキャナーまたはレーザー・イ
メージセッターにより効率的に露光させることができ、
高解像度および鮮鋭さを有する鮮明な黒色画像を形成す
ることができる写真製版用途の感光性熱現像材料に関す
る技術が必要とされている。これら感光性熱現像材料で
は、溶液系処理化学薬品の使用をなくし、より簡単で環
境を損なわない熱現像処理システムを顧客に対して供給
することができる。2. Description of the Related Art There are many known photosensitive materials having a photosensitive layer on a support and forming an image by exposing the image. Among them, a technique for forming an image by thermal development is a system that can simplify environmental preservation and image forming means. In recent years, environmental preservation in the photoengraving field,
From the viewpoint of space saving, it is strongly desired to reduce the amount of processing waste liquid. There, you can use a laser scanner or a laser imagesetter to make the exposure more efficient,
There is a need for a technique relating to a photosensitive heat-developable material for photolithography that can form a sharp black image having high resolution and sharpness. These photosensitive heat-developable materials eliminate the use of solution-based processing chemicals, and can provide customers with a simpler heat-development system that does not damage the environment.
【0003】熱現像により画像を形成する方法は、例え
ば米国特許第3,152,904号、同3,457,075号、およびD.
モーガン(Morgan)とB.シェリー(Shely)による
「熱によって処理される銀システム(Thermally Proces
sed Silver Systems)A」(イメージング・プロセッシ
ーズ・アンド・マテリアルズ(Imaging Processes and M
aterials) Neblette第8版、スタージ(Sturge)、V.
ウォールワーズ(Walworth)、A.シェップ(Shepp)
編集、第2頁、1969年)に記載されている。このような
感光材料は、還元可能な非感光性の銀源(例えば有機銀
塩)、触媒活性量の光触媒(例えばハロゲン化銀)、お
よび銀の還元剤を通常有機バインダーマトリックス中に
分散した状態で含有している。感光材料は常温で安定で
あるが、露光後高温(例えば、80℃以上)に加熱した場
合に、還元可能な銀源(酸化剤として機能する)と還元
剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸
化還元反応は露光で発生した潜像の触媒作用によって促
進される。露光領域中の還元可能な銀塩の反応によって
生成した銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対
照をなし、画像の形成がなされる。[0003] A method of forming an image by heat development is described in, for example, US Pat.
Morgan and B.A. "Thermal Proces Silver System (Thermally Proces)" by Shely
sed Silver Systems) A "(Imaging Processes and Materials
aterials) Neblette 8th edition, Sturge, V.E.
Walworth, A .; Shepp
Edited, page 2, 1969). Such photosensitive materials are prepared by dispersing a reducible non-photosensitive silver source (eg, an organic silver salt), a catalytically active amount of a photocatalyst (eg, silver halide), and a silver reducing agent, usually in an organic binder matrix. It is contained in. The photosensitive material is stable at room temperature, but when heated to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher) after exposure, silver is reduced through a redox reaction between a reducible silver source (which functions as an oxidizing agent) and a reducing agent. Generate This oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image generated by the exposure. The silver formed by the reaction of the reducible silver salt in the exposed areas provides a black image, which contrasts with the unexposed areas, resulting in the formation of an image.
【0004】熱現像感光材料においてはカブリが大きな
問題である。熱写真用ハロゲン化銀感光材料のカブリ低
減に向け多くの検討がなされており、例えば、米国特許
第3,589,903号には水銀塩が開示されている。その他
に、米国特許第4,152,160号にはベンゼン酸およびフタ
ル酸等のカルボン酸、米国特許第4,784,939号にはベン
ゾイルベンゼン酸化合物、米国特許第4,569,906号には
インダンまたはテトラリンカルボン酸、米国特許弟4,82
0,617号にはジカルボン酸、米国特許第4,626,500号には
ヘテロ芳香族カルボン酸が開示されている。米国特許第
4,546,075号、米国特許第4,756,999号、米国特許第4,45
2,885号、米国特許第3,874,946号および米国特許第3,95
5,982号にはハロゲン化化合物が開示されている。米国
特許第5,028,523号にはハロゲン分子またはヘテロ原子
環と化合したハロゲン原子が開示されている。米国特許
第4,103,312号およびGB1502670号にはパラジウム化合
物、米国特許第4,128,428号には鉄類の金属、米国特許
第4,123,374号、米国特許第4,129,557号および米国特許
第4,125,430号には置換トリアゾール類、米国特許第4,2
13,784号、米国特許第4,245,033号および特開昭51-2601
9号には硫黄化合物、米国特許第4,002,479号にはチオウ
ラシル類、特開昭50-123331号にはスルフィン酸、米国
特許第4,125,403号、米国特許第4,152,160号、米国特許
第4,307,187号にはチオスルホン酸の金属塩、特開昭53-
20923号および特開昭53-19825号にはチオスルホン酸の
金属塩とスルフィン酸の併用、特公昭62-50810号、特開
平7-209797号および特開平9-43760号にはチオスルホン
酸エステル類が開示されている。また、特開昭51−4
2529号、特公昭63−37368号にジスルフィド
化合物が開示されている。[0004] Fog is a major problem in photothermographic materials. Many studies have been made to reduce fog of silver halide light-sensitive materials for thermophotography. For example, US Pat. No. 3,589,903 discloses a mercury salt. In addition, U.S. Pat.No. 4,152,160 includes carboxylic acids such as benzene and phthalic acid, U.S. Pat.No.4,784,939 discloses benzoylbenzene compounds, U.S. Pat. 82
No. 0,617 discloses dicarboxylic acids and U.S. Pat. No. 4,626,500 discloses heteroaromatic carboxylic acids. U.S. Patent No.
No. 4,546,075; U.S. Pat.No. 4,756,999; U.S. Pat.
No. 2,885, U.S. Pat.No. 3,874,946 and U.S. Pat.
No. 5,982 discloses halogenated compounds. U.S. Pat. No. 5,028,523 discloses halogen atoms combined with halogen molecules or heteroatom rings. U.S. Pat.Nos. 4,103,312 and GB1502670 include palladium compounds, U.S. Pat. 4th, 2nd
No. 13,784, U.S. Pat.No. 4,245,033 and JP-A-51-2601
No. 9 is a sulfur compound, U.S. Patent No. Metal salt, JP-A-53-
JP-A-20923 and JP-A-53-19825 use a combination of a metal salt of thiosulfonic acid and sulfinic acid, JP-B-62-50810, JP-A-7-209797 and JP-A-9-43760 describe thiosulfonic acid esters. It has been disclosed. Also, JP-A-51-4
No. 2529 and JP-B-63-37368 disclose a disulfide compound.
【0005】特公昭54−165号、EP-605981A号、同
631176A号、米国特許第4,546,075号、米国特許第4、756、
999号、米国特許第4、452、885号、米国特許第3、874、946
号および米国特許第3、955、982号にはポリハロゲン化化
合物が開示されている。しかし、これらの化合物はカブ
リ防止の効果が低かったり、あるいは添加量が多くなる
とDmaxが低下したり、処理後の画像保存安定性が悪
化するという欠点があった。また、熱現像時に感光材料
の外に揮散し、人体に悪影響を及ぼすという問題があ
り、これらの問題のないカブリ防止剤の開発が望まれて
いた。特開平10−197989号には、ポリハロゲン
化化合物と特定のカルボン酸誘導体を併用し、カブリを
抑制する記載が開示されているが、現像時の揮散につい
ては何ら記述されていない。また、カブリ切りは十分で
なく、現像温度変動などへの改良効果についても何ら言
及されていない。[0005] JP-B No. 54-165, EP-605981A,
No. 631176A, U.S. Pat.No. 4,546,075, U.S. Pat.
999, U.S. Patent No. 4,452,885, U.S. Patent No. 3,874,946
No. 3,955,982 disclose polyhalogenated compounds. However, these compounds have the drawback that the effect of preventing fogging is low, or the Dmax is reduced when the added amount is large, and the image storage stability after processing is deteriorated. In addition, there is a problem in that it evaporates out of the photosensitive material during thermal development and adversely affects the human body. Therefore, development of an antifoggant free of these problems has been desired. JP-A-10-197989 discloses the use of a polyhalogenated compound and a specific carboxylic acid derivative in combination to suppress fog, but does not disclose any volatilization during development. Further, fogging is not sufficient, and there is no mention of an effect of improving fluctuating development temperature or the like.
【0006】しかし、これらの化合物のカブリ防止能は
十分でないか、あるいは添加量が多くなるとDmax
(最高濃度)が低下したり、処理後の画像保存安定性が
悪化するという欠点があり、新たなカブリ防止剤が望ま
れていた。また、特開昭51−26019号、同57−
207244号、同60−207140号、米国特許第
2,910,377号、米国特許第3,074,809
号、特開平2−251838号にはサリチル酸あるいは
その誘導体が開示されているが、超硬調なドライシルバ
ー系における効果については何も記載されていない。However, these compounds do not have sufficient fog-preventing ability, or if they are added in large amounts, Dmax
There is a drawback that the (highest density) decreases and the image storage stability after processing deteriorates, and a new antifoggant has been desired. Also, JP-A-51-26019, 57-26019
Nos. 207244, 60-207140, U.S. Pat. No. 2,910,377, U.S. Pat. No. 3,074,809.
JP-A-2-253838 discloses salicylic acid or a derivative thereof, but does not disclose any effect in a super-hard dry silver system.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、これらの従
来技術の問題点を解決することを課題とした。すなわ
ち、本発明は、揮散性の殆ど無いポリハロゲン化合物の
単量体から誘導される繰り返し単位を有するポリマーを
用いることで人体や環境への悪影響が小さく、かつ、熱
現像条件の変動に対して安定でカブリが極めて小さい印
刷製版用に適した熱現像超硬調画像形成材料を提供する
ことを解決すべき課題とした。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve these problems of the prior art. That is, the present invention uses a polymer having a repeating unit derived from a monomer of a polyhalogen compound having almost no volatility, thereby having a small adverse effect on the human body and the environment, and suppressing fluctuations in heat development conditions. An object of the present invention is to provide a heat-developable ultrahigh contrast image forming material which is stable and suitable for printing plate making with extremely small fog.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討を重ねた結果、式(1)で表
されるポリハロゲン化合物の単量体から誘導される繰り
返し単位を有するポリマーを使用することによって所望
の効果を奏する優れた熱現像画像形成材料を提供しうる
ことを見出し、本発明を提供するに至った。すなわち、
本発明は、支持体の少なくとも一方の同一面上に、
(a)還元可能な銀塩、(b)還元剤、(c)バインダ
ー、(d)式(1)で表されるポリハロゲン化合物の単
量体から誘導される繰り返し単位を有するポリマーを含
有することを特徴とする熱現像画像形成材料を提供する
ものである。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have found that a repeating unit derived from a monomer of a polyhalogen compound represented by the formula (1) It has been found that the use of a polymer having the formula (1) can provide an excellent heat-developable image-forming material having a desired effect, and have provided the present invention. That is,
The present invention, on at least one same surface of the support,
It contains (a) a reducible silver salt, (b) a reducing agent, (c) a binder, and (d) a polymer having a repeating unit derived from a monomer of the polyhalogen compound represented by the formula (1). A heat-developable image forming material is provided.
【化3】 [式(1)において、Htは芳香環基、またはヘテロ環
基を表し、E1およびE2はそれぞれ独立にハロゲン原子
を表し、Wは水素原子または電子求引性基を表す。Rは
置換基を表し、kは0〜4の整数を表す。Qはエチレン
性不飽和基、またはそれを有する基を表し、mは1〜3
の整数を表す。nは1または2の整数を表す。k、mお
よびnが2以上の整数を表す場合、2以上存在する各々
の基は同一でも異なっていてもよい。] 好ましい態様では、本発明の熱現像画像形成材料は、同
一面上にさらに(e)感光性ハロゲン化銀を有する。好
ましくは、上記式(1)においてE1、E2およびWは臭
素原子である。好ましい態様では、本発明の熱現像画像
形成材料は、同一面上にさらに(f)超硬調化剤を有す
る。Embedded image [In the formula (1), Ht represents an aromatic ring group or a heterocyclic group, E 1 and E 2 each independently represent a halogen atom, and W represents a hydrogen atom or an electron-withdrawing group. R represents a substituent, and k represents an integer of 0 to 4. Q represents an ethylenically unsaturated group or a group having the same;
Represents an integer. n represents an integer of 1 or 2. When k, m and n represent an integer of 2 or more, the groups present in 2 or more may be the same or different. In a preferred embodiment, the heat-developable image-forming material of the present invention further comprises (e) photosensitive silver halide on the same surface. Preferably, in the above formula (1), E 1 , E 2 and W are bromine atoms. In a preferred embodiment, the heat-developable image forming material of the present invention further has (f) a super-high contrast agent on the same surface.
【0009】好ましくは、超硬調化剤は、式(2)、式
(3)および式(4)で表される化合物から選ばれる。Preferably, the superhigh contrast agent is selected from the compounds represented by formulas (2), (3) and (4).
【化4】 [式(2)において、R1、R2およびR3はそれぞれ独立
に水素原子または置換基を表し、Zは電子吸引性基また
はシリル基を表す。式(2)においてR1とZ、R2と
R3、R1とR2、およびR3とZは、それぞれ互いに結合
して環状構造を形成していてもよい。式(3)において、
R4は置換基を表す。式(4)において、XおよびYはそ
れぞれ独立に水素原子または置換基を表し、AおよびB
はそれぞれ独立にアルコキシ基、アルキルチオ基、アル
キルアミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、ア
ニリノ基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基またはヘ
テロ環アミノ基を表す。式(4)においてXとY、および
AとBは、それぞれ互いに結合して環状構造を形成して
いてもよい。]Embedded image [In the formula (2), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing group or a silyl group. In the formula (2), R 1 and Z, R 2 and R 3 , R 1 and R 2 , and R 3 and Z may be mutually bonded to form a cyclic structure. In equation (3),
R 4 represents a substituent. In the formula (4), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent;
Each independently represents an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group, a heterocyclic oxy group, a heterocyclic thio group or a heterocyclic amino group. In the formula (4), X and Y, and A and B may be bonded to each other to form a cyclic structure. ]
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】以下において、本発明の熱現像画
像形成材料の実施態様および実施方法について詳細に説
明する。本発明の熱現像画像形成材料は、支持体の少な
くとも一方の同一面上に、(a)還元可能な銀塩、
(b)還元剤、(c)バインダー、(d)式(1)で表
されるポリハロゲン化合物の単量体から誘導される繰り
返し単位を有するポリマーを含有することを特徴とす
る。式(1)で表されるポリハロゲン化合物の単量体か
ら誘導される繰り返し単位を有するポリマーを使用する
ことにより非画像部の熱カブリが抑制され、かつ、熱現
像条件の変動に対して安定化を図ることができ、揮散性
も大きく低下させることが可能となる。従って、本発明
の熱現像画像形成材料は、揮散性の殆ど無いポリハロゲ
ン化合物の単量体から誘導される繰り返し単位を有する
ポリマーを用いることで人体や環境への悪影響が小さ
く、かつ、熱現像条件の変動に対して安定でカブリが極
めて小さい印刷製版用に適した熱現像超硬調画像形成材
料である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the following, embodiments and methods of the heat-developable image forming material of the present invention will be described in detail. The heat-developable image-forming material of the present invention comprises: (a) a reducible silver salt on at least one same surface of a support;
(B) a reducing agent, (c) a binder, and (d) a polymer having a repeating unit derived from a monomer of the polyhalogen compound represented by the formula (1). By using a polymer having a repeating unit derived from a monomer of the polyhalogen compound represented by the formula (1), heat fogging in the non-image area is suppressed and stable against fluctuations in heat development conditions. And volatility can be greatly reduced. Therefore, the heat-developable image-forming material of the present invention has a small adverse effect on the human body and the environment by using a polymer having a repeating unit derived from a monomer of a polyhalogen compound having little volatility, and has a low heat development property. This is a heat-developable ultra-high contrast image forming material that is stable to fluctuations in conditions and is suitable for printing plate making with extremely small fog.
【0011】まず、本発明に用いられる式(1)の化合
物について、詳細に説明する。式(1)を下記に示す。First, the compound of the formula (1) used in the present invention will be described in detail. Equation (1) is shown below.
【0012】[0012]
【化5】 Embedded image
【0013】式(1)において、E1およびE2はそれぞ
れ独立にハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)
を表すが、E1およびE2は両方とも臭素原子であること
が最も好ましい。式(1)において、Wは水素原子また
は電子求引性基である。ここで言う電子求引性基とは、
ハメットの置換基定数σpが正の値を取りうる置換基の
ことであり、具体的には、例えばシアノ基、アルコキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモ
イル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基、ハロゲン原子、アシル基、ヘテロ
環基等を表す。式(1)において、Wは水素原子または
ハロゲン原子であることが好ましく、最も好ましいのは
臭素原子である。In the formula (1), E 1 and E 2 are each independently a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, iodine)
It is most preferred that both E 1 and E 2 are bromine atoms. In the formula (1), W is a hydrogen atom or an electron withdrawing group. The electron withdrawing group referred to here is
Hammett's substituent constant σ p is a substituent that can take a positive value, specifically, for example, cyano group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, aryl Represents a sulfonyl group, a halogen atom, an acyl group, a heterocyclic group or the like. In the formula (1), W is preferably a hydrogen atom or a halogen atom, and most preferably a bromine atom.
【0014】式(1)において、Rは置換基を表す。置
換基としては一般的に知られているどのような置換基で
もよく、例えば、直鎖、分岐または環状のアルキル基
(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜12、特
に好ましくは1〜8であり、例えば、メチル、エチル、
iso−プロピル、tert−ブチル、n−オクチル、
tert−アミル、1,3−テトラメチルブチル、シク
ロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(好ま
しくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜12、特に好ま
しくは2〜8であり、例えば、ビニル、アリル、2-ブテ
ニル、3-ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル
基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜12、
特に好ましくは2〜8であり、例えば、プロパルギル
基、3-ペンチニル基などが挙げられる。)、アリール基
(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは6〜20、特
に好ましくは6〜12であり、例えば、フェニル、p-メチ
ルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。)、アミノ基
(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは0〜10、更
に好ましくは0〜6であり、例えば、アミノ、メチルア
ミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルア
ミノなどが挙げられる。)、アルコキシ基(好ましくは
炭素数1〜20、より好ましくは1〜12、特に好ましくは
1〜8であり、例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ
などが挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは
炭素数6〜20、より好ましくは6〜16、特に好ましくは
6〜12であり、例えば、フェニルオキシ、2-ナフチルオ
キシなどが挙げられる。)、アシル基(好ましくは炭素
数1〜20、より好ましくは1〜16、特に好ましくは1〜
12であり、例えば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル、
ピバロイルなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニ
ル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜1
6、特に好ましくは2〜12であり、例えば、メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。)、
アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜2
0、より好ましくは7〜16、特に好ましくは7〜10であ
り、例えば、フェノキシカルボニルなどが挙げられ
る。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数1〜20、よ
り好ましくは2〜16、特に好ましくは2〜10であり、例
えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられ
る。)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、よ
り好ましくは2〜16、特に好ましくは2〜10であり、例
えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げら
れる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは
炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、特に好ましくは
2〜12であり、例えば、メトキシカルボニルアミノなど
が挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基
(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは7〜16、特
に好ましくは7〜12であり、例えば、フェニルオキシカ
ルボニルアミノなどが挙げられる。)、スルホニルアミ
ノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜1
6、特に好ましくは1〜12であり、例えば、メタンスル
ホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げら
れる。)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜2
0、より好ましくは0〜16、特に好ましくは0〜12であ
り、例えば、スルファモイル、メチルスルファモイル、
ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなど
が挙げられる。)、カルバモイル基(好ましくは炭素数
0〜20、より好ましくは0〜16、特に好ましくは0〜12
であり、例えば、カルバモイル、ジエチルカルバモイ
ル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。)、ウレ
イド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜
16、特に好ましくは1〜12であり、例えば、ウレイド、
メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられ
る。)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、よ
り好ましくは1〜16、特に好ましくは1〜12であり、例
えば、メチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。)、
アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20、より好まし
くは6〜16、特に好ましくは6〜12であり、例えば、フ
ェニルチオなどが挙げられる。)、スルホニル基(好ま
しくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、特に好ま
しくは1〜12であり、例えば、メシル、トシル、フェニ
ルスルホニル、メシチルスルホニルなどが挙げられ
る。)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜20、よ
り好ましくは1〜16、特に好ましくは1〜12であり、例
えば、メタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなど
が挙げられる。)、燐酸アミド基(好ましくは炭素数1
〜20、より好ましくは1〜16、特に好ましくは1〜12で
あり、例えば、ジエチル燐酸アミド、フェニル燐酸アミ
ドなどが挙げられる。)、ヒドロキシ基、メルカプト
基、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カルボキ
シ基、ニトロ基、ヒドロキサム基、スルフィノ基、ヒド
ラジノ基、スルホニルチオ基、チオスルホニル基、ヘテ
ロ環基(例えば、イミダゾリル、ピリジル、フリル、ピ
ペリジル、モリホリルなどが挙げられる。)、ジスルフ
ィド基などが挙げられる。kは0〜4の整数で、k≧2
の場合、複数個あるRは同一でも異なっていてもよい。In the formula (1), R represents a substituent. The substituent may be any generally known substituent, for example, a linear, branched or cyclic alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms). -8, for example, methyl, ethyl,
iso-propyl, tert-butyl, n-octyl,
tert-amyl, 1,3-tetramethylbutyl, cyclohexyl and the like. ), Alkenyl groups (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 8 carbon atoms, for example, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl and the like), alkynyl Groups (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12,
It is particularly preferably 2 to 8, and examples include a propargyl group and a 3-pentynyl group. ), An aryl group (preferably having 6 to 30, more preferably 6 to 20, and particularly preferably 6 to 12; examples thereof include phenyl, p-methylphenyl, and naphthyl); and an amino group (preferably). Has 0 to 20, more preferably 0 to 10, and still more preferably 0 to 6 carbon atoms. Examples thereof include amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, dibenzylamino and the like, and an alkoxy group (preferably, It has from 1 to 20 carbon atoms, more preferably from 1 to 12, particularly preferably from 1 to 8, and includes, for example, methoxy, ethoxy, butoxy, etc., and an aryloxy group (preferably from 6 to 20, more preferably Is from 6 to 16, particularly preferably from 6 to 12, for example, phenyloxy, 2-naphthyloxy and the like.), An acyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, Ri preferably 1 to 16, particularly preferably 1 to
12, for example, acetyl, benzoyl, formyl,
Pivaloyl and the like. ), An alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 1
6, particularly preferably 2 to 12, for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl and the like. ),
Aryloxycarbonyl group (preferably having 7 to 2 carbon atoms)
It is 0, more preferably 7 to 16, particularly preferably 7 to 10, and examples include phenoxycarbonyl. ), An acyloxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, such as acetoxy and benzoyloxy, etc.), and an acylamino group (preferably having 1 carbon atom). -20, more preferably 2-16, particularly preferably 2-10, for example, acetylamino, benzoylamino and the like.), Alkoxycarbonylamino group (preferably 2-20 carbon atoms, more preferably 2 carbon atoms) To 16, particularly preferably 2 to 12, for example, methoxycarbonylamino and the like.), An aryloxycarbonylamino group (preferably having 7 to 20 carbon atoms, more preferably having 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 7 to 16 carbon atoms). 12, for example, phenyloxycarbonylamino and the like), a sulfonylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, Ri is preferably 1 to 1
6, particularly preferably 1 to 12, for example, methanesulfonylamino, benzenesulfonylamino and the like. ), A sulfamoyl group (preferably having 0 to 2 carbon atoms)
0, more preferably 0 to 16, particularly preferably 0 to 12, for example, sulfamoyl, methylsulfamoyl,
Dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl and the like can be mentioned. ), A carbamoyl group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 16, particularly preferably 0 to 12 carbon atoms).
And examples thereof include carbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl and the like. ), Ureido group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to
16, particularly preferably 1 to 12, for example, ureido,
Methyl ureide, phenyl ureide and the like can be mentioned. ), An alkylthio group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16, particularly preferably 1 to 12, and examples thereof include methylthio and ethylthio).
An arylthio group (preferably having 6 to 20, more preferably 6 to 16, particularly preferably 6 to 12, and examples thereof include phenylthio, etc.) and a sulfonyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably Is 1 to 16, particularly preferably 1 to 12, and examples thereof include mesyl, tosyl, phenylsulfonyl, mesitylsulfonyl and the like, and a sulfinyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16). And particularly preferably 1 to 12, for example, methanesulfinyl, benzenesulfinyl and the like.), A phosphoramide group (preferably having 1 carbon atom)
-20, more preferably 1-16, particularly preferably 1-12, for example, diethylphosphoramide, phenylphosphoramide and the like. ), Hydroxy, mercapto, halogen (eg, fluorine, chlorine, bromine, iodine), cyano, sulfo, carboxy, nitro, hydroxam, sulfino, sulfino, hydrazino, sulfonylthio Thiosulfonyl group, heterocyclic group (for example, imidazolyl, pyridyl, furyl, piperidyl, morpholinyl and the like), disulfide group and the like. k is an integer of 0 to 4 and k ≧ 2
In the above case, a plurality of Rs may be the same or different.
【0015】これらの置換基は更に置換されていてもよ
いし、塩形成可能な基は塩を形成していてもよい。ま
た、これらの置換基は互いに結合してもよく、好ましく
はその場合、5員ないし7員環の非芳香族または芳香族
の炭素環を形成するのがよい。さらに、この環は他の置
換基で置換されていてもよい。These substituents may be further substituted, and a salt-forming group may form a salt. These substituents may be bonded to each other, and preferably form a 5- to 7-membered non-aromatic or aromatic carbon ring. Further, the ring may be substituted with other substituents.
【0016】Htは芳香環基、またはヘテロ環基を表
す。式(1)のHtで表される芳香環基とは、好ましく
は炭素数6〜30の単環または縮環のアリール基であり、
より好ましくは6〜20の単環または縮環のアリール基で
あり、例えば、フェニル、ナフチル等が挙げられ、特に
好ましくはフェニル基である。Htで表される芳香環基
は置換基を有していてもよく、置換基としては写真性能
に悪影響を及ぼさない置換基であればどのような基でも
構わないが、例えばハロゲン原子(フッ素原子、クロル
原子、臭素原子、または沃素原子)、アルキル基(アラ
ルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含
む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテ
ロ環基(N−置換の含窒素ヘテロ環基を含む)、4級化
された窒素原子を含むヘテロ環基(例えばピリジニオ
基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基また
はその塩、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、チオ
カルボニル基、カルバゾイル基、シアノ基、チオカルバ
モイル基、アルコキシ基(エチレンオキシ基もしくはプ
ロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、アリ
ールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、
(アルコキシもしくはアリールオキシ)、カルバモイル
オキシ基、スルホニルオキシ基、アシルアミノ基、スル
ホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド
基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニル
アミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド
基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、4級のアン
モニオ基、(アルキルもしくはアリール)スルホニルウ
レイド基、ニトロ基、(アルキル,アリール,またはヘ
テロ環)チオ基、アシルチオ基、(アルキルまたはアリ
ール)スルホニル基、(アルキルまたはアリール)スル
フィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル
基、ホスホリル基、リン酸アミドもしくはリン酸エステ
ル構造を含む基、シリル基等が挙げられる。これら置換
基は、これら置換基でさらに置換されていてもよい。Ht represents an aromatic ring group or a heterocyclic group. The aromatic ring group represented by Ht in the formula (1) is preferably a monocyclic or condensed aryl group having 6 to 30 carbon atoms,
More preferably, it is a 6-20 monocyclic or condensed aryl group, for example, phenyl, naphthyl and the like, and particularly preferably a phenyl group. The aromatic ring group represented by Ht may have a substituent, and any substituent may be used as long as the substituent does not adversely affect photographic performance. For example, a halogen atom (fluorine atom , A chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom), an alkyl group (including an aralkyl group, a cycloalkyl group, an active methine group, etc.), an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, and a heterocyclic group (N-substituted nitrogen-containing heteroatom). A heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom (eg, a pyridinio group), an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a carboxy group or a salt thereof, an imino group, an N atom Imino group, thiocarbonyl group, carbazoyl group, cyano group, thiocarbamoyl group, alkoxy group (ethyleneoxy group or Piren'okishi containing repeating group containing group units), an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an acyloxy group,
(Alkoxy or aryloxy), carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, Thiosemicarbazide group, hydrazino group, quaternary ammonium group, (alkyl or aryl) sulfonyluureido group, nitro group, (alkyl, aryl, or heterocycle) thio group, acylthio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl Or an aryl) sulfinyl group, a sulfo group or a salt thereof, a sulfamoyl group, a phosphoryl group, a group having a phosphoric amide or a phosphoric ester structure, and a silyl group. These substituents may be further substituted with these substituents.
【0017】式(1)のHtで表される芳香環基の置換
基として特に好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、ハロゲン原子である。式(1)にお
いて、Htで表されるヘテロ環基は、N、OまたはSの
原子を少なくとも1つ含む5ないし7員の飽和または不
飽和のヘテロ環であり、これらは単環であってもよい
し、更に他の環と縮合環を形成していてもよい。Htで
表されるヘテロ環基としては例えば、ピリジル基、ピラ
ジニル基、ピリミジル基、ベンゾチアゾール基、ベンツ
イミダゾール基、チアジアゾリル基、キノリル基、イソ
キノリル基等が挙げられる。これらは置換基を有してい
てもよく、例えば、Htで表される芳香環基の置換基と
同様の基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。式
(1)のHtは好ましくはアリール基であり、特に好ま
しくはフェニル基である。Particularly preferably, the substituent of the aromatic ring group represented by Ht in the formula (1) is an alkyl group, an alkoxy group,
An aryloxy group and a halogen atom. In the formula (1), the heterocyclic group represented by Ht is a 5- to 7-membered saturated or unsaturated heterocyclic ring containing at least one N, O or S atom. Or a condensed ring with another ring may be formed. Examples of the heterocyclic group represented by Ht include a pyridyl group, a pyrazinyl group, a pyrimidyl group, a benzothiazole group, a benzimidazole group, a thiadiazolyl group, a quinolyl group, and an isoquinolyl group. These may have a substituent, and examples thereof include the same groups as the substituents of the aromatic ring group represented by Ht, and the preferable range is also the same. Ht in the formula (1) is preferably an aryl group, particularly preferably a phenyl group.
【0018】Qはエチレン性不飽和基、またはそれを有
する基を表すが、好ましくは下記一般式(5)で表され
る。Q represents an ethylenically unsaturated group or a group having the same, and is preferably represented by the following general formula (5).
【0019】[0019]
【化6】 Embedded image
【0020】式中、R5は水素原子、カルボキシ基または
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基など)を表
し、このアルキル基は置換基を有していてもよく、置換
基としては、ハロゲン原子、カルボキシル基などが挙げ
られる。R5で表されるカルボキシル基および置換基のカ
ルボキシル基は塩を形成してもよい。式中、J1および
J2はそれぞれ2価の結合基を表し、この2価の結合基
としては、例えば、−NHCO−、−CONH−、−C
OO−、−OCO−、−SCO−、−COS−、−O
−、−S−、−SO−、−SO2−などがある。X1、X
2はそれぞれ2価の炭化水素基を表し、2価の炭化水素
基としては例えば、アルキレン基(例えば、メチレン
基、プロピレン基など)、アリーレン基(例えば、フェ
ニレン基など)、アラルキレン基(例えば、フェニルメ
チレン基など)、アルキレンアリーレン基(例えば、メ
チレンフェニレン基など)またはアリーレンアルキレン
基(例えば、フェニレンメチレン基など)が挙げられ
る。k1、m1、k 2、m2はそれぞれ0または1を表す。Where RFiveIs a hydrogen atom, a carboxy group or
Represents an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, etc.)
However, this alkyl group may have a substituent,
Examples of the group include a halogen atom and a carboxyl group.
Can be RFiveOf the carboxyl group and the substituent represented by
The ruboxyl group may form a salt. Where J1and
JTwoRepresents a divalent linking group, and the divalent linking group
Are, for example, -NHCO-, -CONH-, -C
OO-, -OCO-, -SCO-, -COS-, -O
-, -S-, -SO-, -SOTwo-And so on. X1, X
TwoEach represents a divalent hydrocarbon group;
Examples of the group include an alkylene group (eg, methylene
Group, propylene group, etc.), arylene group (for example,
Arylene group (eg, phenylene group)
Alkylene arylene group (for example,
Or an arylene alkylene
Group (for example, phenylenemethylene group, etc.)
You. k1, M1, K Two, MTwoRepresents 0 or 1, respectively.
【0021】式(1)において、mは1〜3の整数で、
m≧2の場合、複数個あるQは同一でも異なっていても
よく、互いに結合して環を形成してもよい。nは1また
は2の整数であり、n=2の場合、複数個ある置換基は
同一でも異なっていてもよい。In the formula (1), m is an integer of 1 to 3,
When m ≧ 2, a plurality of Qs may be the same or different and may combine with each other to form a ring. n is an integer of 1 or 2, and when n = 2, a plurality of substituents may be the same or different.
【0022】以下に、式(1)で表されるポリハロゲン
化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されな
い。Hereinafter, specific examples of the polyhalogen compound represented by the formula (1) will be shown, but the present invention is not limited thereto.
【0023】[0023]
【化7】 Embedded image
【0024】[0024]
【化8】 Embedded image
【0025】[0025]
【化9】 Embedded image
【0026】[0026]
【化10】 Embedded image
【0027】次に、式(1)で表されるポリハロゲン化
合物の単量体から誘導される繰り返し単位を有する共重
合ポリマー化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれら
に限定されない。Next, specific examples of the copolymer compound having a repeating unit derived from the monomer of the polyhalogen compound represented by the formula (1) will be described, but the present invention is not limited thereto.
【0028】[0028]
【表1】 [Table 1]
【0029】本発明で用いられる式(1)で表されるポ
リハロゲン化合物の単量体から誘導される繰り返し単位
を有するポリマー化合物は、1種のみ用いても、2種以
上を併用してもよい。また上記のものの他に、特開平9
−160167、特願平10−292863、特願平1
0−292864、特開平10−339934に記載さ
れたポリハロゲン化合物を併用して用いてもよい。な
お、エチレン性不飽和基を有する化合物、およびそれら
のポリマーの合成に関しては、例えば、新実験化学講座
(丸善)などの教科書に記載の方法により容易に合成で
きる。以下に本発明で用いられる、式(1)で表される
ポリハロゲン化合物の単量体から誘導される繰り返し単
位を有するポリマー化合物の合成例を示すが、本発明は
これらに限定されない。The polymer compound having a repeating unit derived from the monomer of the polyhalogen compound represented by the formula (1) used in the present invention may be used alone or in combination of two or more. Good. Further, in addition to the above-mentioned ones,
-160167, Japanese Patent Application No. 10-2922863, Japanese Patent Application No. 1
0-292864 and polyhalogen compounds described in JP-A-10-339934 may be used in combination. The compounds having an ethylenically unsaturated group and their polymers can be easily synthesized by a method described in a textbook such as New Experimental Chemistry Course (Maruzen). Hereinafter, synthesis examples of the polymer compound having a repeating unit derived from the monomer of the polyhalogen compound represented by the formula (1) used in the present invention are shown, but the present invention is not limited thereto.
【0030】合成例Synthesis example
【化11】 Embedded image
【0031】4−ビニルベンゼンスルホニル酢酸ナトリ
ウム塩(15g)を水30mlに溶解し、90℃に加熱
した。ラジカル開始剤としてV−50を0.15gずつ
1時間間隔で3回加えた。さらに2時間加熱攪拌した
後、希塩酸水溶液に加えて攪拌すると、白色沈殿が得ら
れた。この固体を濾取して、乾燥するとポリ−4−ビニ
ルベンゼンスルホニル酢酸ナトリウムが定量的に得られ
た。このポリマー(15g)を水(200ml)、1,
4−ジオキサン(140ml)の混合液に加え、NaH
CO3(9.0g)を加え、攪拌すると均一の溶液が得
られる。この溶液をNaOBr水溶液(0.25mo
l)に滴下すると固体が生成してくる。この不均一反応
液を40℃で5時間加熱し、生成した固体を濾取、水洗
した。この固体を乾燥し、目的とするポリ4−ビニルベ
ンゼントリブロモメチルスルホン(21g)を得た。4-vinylbenzenesulfonylacetic acid sodium salt (15 g) was dissolved in 30 ml of water and heated to 90 ° C. 0.15 g of V-50 as a radical initiator was added three times at hourly intervals. After further heating and stirring for 2 hours, the mixture was added to a dilute aqueous hydrochloric acid solution and stirred, whereby a white precipitate was obtained. This solid was collected by filtration and dried to give sodium poly-4-vinylbenzenesulfonylacetate quantitatively. This polymer (15 g) was mixed with water (200 ml), 1,
To a mixture of 4-dioxane (140 ml) was added NaH
Add CO 3 (9.0 g) and stir to obtain a homogeneous solution. This solution was added to an aqueous NaOBr solution (0.25 mol
Dropping in l) produces a solid. The heterogeneous reaction solution was heated at 40 ° C. for 5 hours, and the generated solid was collected by filtration and washed with water. The solid was dried to obtain the desired poly 4-vinylbenzene tribromomethyl sulfone (21 g).
【0032】式(1)で表されるポリハロゲン化合物の
単量体から誘導される繰り返し単位を有するポリマー化
合物は、水あるいは適当な有機溶媒、例えばアルコール
類(メタノール、エタノール、プロパノール、フッ素化
アルコール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン)、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶
解して用いることができる。また、既によく知られてい
る乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリクレ
ジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるい
はジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシク
ロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に
乳化分散物を作製して用いることができる。あるいは固
体分散法として知られている方法によって、粉末を水の
中にボールミル、コロイドミル、サンドグラインダーミ
ル、マントンゴーリン、マイクロフルイダイザーあるい
は超音波によって分散し用いることができる。The polymer compound having a repeating unit derived from the monomer of the polyhalogen compound represented by the formula (1) may be water or a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol). ), Ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), dimethylformamide, dimethylsulfoxide, methylcellosolve and the like. Also, by an already well-known emulsification dispersion method, an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone are dissolved and mechanically emulsified and dispersed. An object can be prepared and used. Alternatively, the powder can be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, a sand grinder mill, a Manton-Gaulin, a microfluidizer, or an ultrasonic wave by a method known as a solid dispersion method.
【0033】式(1)で表されるポリハロゲン化合物の
単量体から誘導される繰り返し単位を有するポリマー化
合物は、支持体に対して画像形成層側の層、即ち画像形
成層あるいはこの層側の他のどの層に添加してもよい
が、画像形成層あるいはそれに隣接する層に添加するこ
とが好ましい。式(1)で表されるポリハロゲン化合物
の単量体から誘導される繰り返し単位を有するポリマー
化合物は、画像形成材料1m2当たりの塗布量で示して好
ましくは5×10-5〜1×10-2mol/m2、より好ましく
は1×10-4〜5×10-3mol/m2である。これらの化合
物は1種のみ用いても2種以上併用してもよい。The polymer compound having a repeating unit derived from the monomer of the polyhalogen compound represented by the formula (1) is a layer on the image forming layer side with respect to the support, that is, the image forming layer or this layer side. May be added to any other layer, but is preferably added to the image forming layer or a layer adjacent thereto. The polymer compound having a repeating unit derived from the monomer of the polyhalogen compound represented by the formula (1) is preferably 5 × 10 −5 to 1 × 10 5 in terms of a coating amount per m 2 of the image forming material. -2 mol / m 2 , more preferably 1 × 10 −4 to 5 × 10 −3 mol / m 2 . These compounds may be used alone or in combination of two or more.
【0034】本発明の熱現像画像形成材料には超硬調化
剤として、下記式(2)〜式(4)で表される置換アルケン
誘導体、置換イソオキサゾール誘導体、および特定のア
セタール化合物を含有することが好ましい。式(2)、式
(3)、および式(4)について説明する。The heat-developable image forming material of the present invention contains a substituted alkene derivative, a substituted isoxazole derivative and a specific acetal compound represented by the following formulas (2) to (4) as a super-high contrast agent. Is preferred. Equation (2), Equation
(3) and Equation (4) will be described.
【0035】[0035]
【化12】 Embedded image
【0036】式(2)においてR1,R2,R3は、それぞ
れ独立に水素原子または置換基を表し、Zは電子吸引性
基またはシリル基を表す。式(2)においてR1とZ、R2
とR 3、R1とR2、あるいはR3とZは、互いに結合して
環状構造を形成していてもよい。式(3)においてR
4は、置換基を表す。式(4)においてX,Yはそれぞれ
独立に水素原子または置換基を表し、A,Bはそれぞれ
独立に、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミ
ノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ
基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ
環アミノ基を表す。式(4)においてXとY、あるいはA
とBは、互いに結合して環状構造を形成していてもよ
い。In the equation (2), R1, RTwo, RThreeEach
Each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing property.
Represents a group or a silyl group. In the formula (2), R1And Z, RTwo
And R Three, R1And RTwoOr RThreeAnd Z are joined together
An annular structure may be formed. In the formula (3), R
FourRepresents a substituent. In equation (4), X and Y are respectively
A and B independently represent a hydrogen atom or a substituent,
Independently, an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamido
Group, aryloxy group, arylthio group, anilino
Group, heterocyclic oxy group, heterocyclic thio group, or hetero
Represents a ring amino group. In equation (4), X and Y or A
And B may combine with each other to form a cyclic structure
No.
【0037】式(2)で表される化合物について詳しく説
明する。R1,R2,R3が置換基を表す時、置換基の例
としては、例えばハロゲン原子(フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、またはヨウ素原子)、アルキル基(アラ
ルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含
む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテ
ロ環基(N−置換の含窒素ヘテロ環基を含む)、4級化
された窒素原子を含むヘテロ環基(例えばピリジニオ
基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基また
はその塩、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、チオ
カルボニル基、スルホニルカルバモイル基、アシルカル
バモイル基、スルファモイルカルバモイル基、カルバゾ
イル基、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、チ
オカルバモイル基、ヒドロキシ基またはその塩、アルコ
キシ基(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基
単位を繰り返し含む基を含む)、アリールオキシ基、ヘ
テロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アルコキシもしく
はアリールオキシ)カルボニルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、(アルキ
ル,アリール,またはヘテロ環)アミノ基、アシルアミ
ノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド
基、イミド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)
カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカ
ルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、4
級のアンモニオ基、オキサモイルアミノ基、(アルキル
もしくはアリール)スルホニルウレイド基、アシルウレ
イド基、アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メ
ルカプト基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)
チオ基、アシルチオ基、(アルキルまたはアリール)ス
ルホニル基、(アルキルまたはアリール)スルフィニル
基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、アシル
スルファモイル基、スルホニルスルファモイル基または
その塩、ホスホリル基、リン酸アミドもしくはリン酸エ
ステル構造を含む基、シリル基、スタニル基等が挙げら
れる。これら置換基は、これら置換基でさらに置換され
ていてもよい。The compound represented by the formula (2) will be described in detail. When R 1 , R 2 , and R 3 represent a substituent, examples of the substituent include a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom), an alkyl group (an aralkyl group, a cycloalkyl group, Active methine group, etc.), alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heterocyclic group (including N-substituted nitrogen-containing heterocyclic group), heterocyclic group containing quaternized nitrogen atom (eg, pyridinio group) ), Acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, carboxy group or a salt thereof, imino group, imino group substituted with N atom, thiocarbonyl group, sulfonylcarbamoyl group, acylcarbamoyl group, sulfamoylcarbamoyl Group, carbazoyl group, oxalyl group, oxamoyl group, cyano group, thiocarbamoyl group, hydroxy group Or its salt, an alkoxy group (including a group containing an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group unit repeatedly), an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an acyloxy group, an (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, a carbamoyloxy group, Sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, aryl, or heterocycle) amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy)
Carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, 4
Grade ammonio group, oxamoylamino group, (alkyl or aryl) sulfonyluureido group, acylureido group, acylsulfamoylamino group, nitro group, mercapto group, (alkyl, aryl, or heterocycle)
Thio group, acylthio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfinyl group, sulfo group or a salt thereof, sulfamoyl group, acylsulfamoyl group, sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof, phosphoryl group, phosphorus Examples include groups having an acid amide or phosphate structure, silyl groups, stannyl groups, and the like. These substituents may be further substituted with these substituents.
【0038】式(2)においてZで表される電子吸引性基
とは、ハメットの置換基定数σpが正の値を取りうる置
換基のことであり、具体的には、シアノ基、アルコキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモ
イル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、チオカ
ルボニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、ニトロ基、ハロゲン原子、
パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルカンアミド
基、スルホンアミド基、アシル基、ホルミル基、ホスホ
リル基、カルボキシ基(またはその塩)、スルホ基(ま
たはその塩)、ヘテロ環基、アルケニル基、アルキニル
基、アシルオキシ基、アシルチオ基、スルホニルオキシ
基、またはこれら電子吸引性基で置換されたアリール基
等である。ここにヘテロ環基としては、飽和もしくは不
飽和のヘテロ環基で、例えばピリジル基、キノリル基、
キノキサリニル基、ピラジニル基、ベンゾトリアゾリル
基、イミダゾリル基、ベンツイミダゾリル基、ヒダント
イン−1−イル基、スクシンイミド基、フタルイミド基
等がその例として挙げられる。式(2)においてZで表さ
れる電子吸引性基は、さらに置換基を有していてもよ
く、その置換基としては、式(2)のR1,R2,R3が置
換基を表す時に有していてもよい置換基と同じものが挙
げられる。The electron-withdrawing group represented by Z in the formula (2) is a substituent whose Hammett's substituent constant σ p can take a positive value. Carbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, imino group, imino group substituted with an N atom, thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, halogen atom,
A perfluoroalkyl group, a perfluoroalkaneamide group, a sulfonamide group, an acyl group, a formyl group, a phosphoryl group, a carboxy group (or a salt thereof), a sulfo group (or a salt thereof), a heterocyclic group, an alkenyl group, an alkynyl group, Examples include an acyloxy group, an acylthio group, a sulfonyloxy group, and an aryl group substituted with these electron-withdrawing groups. Here, the heterocyclic group is a saturated or unsaturated heterocyclic group, for example, a pyridyl group, a quinolyl group,
Examples thereof include a quinoxalinyl group, a pyrazinyl group, a benzotriazolyl group, an imidazolyl group, a benzimidazolyl group, a hydantoin-1-yl group, a succinimide group, and a phthalimido group. The electron-withdrawing group represented by Z in the formula (2) may further have a substituent, and as the substituent, R 1 , R 2 and R 3 in the formula (2) are the same as the substituents. The same substituents as the substituents which may be present at the time of expression are exemplified.
【0039】式(2)においてR1とZ、R2とR3、R1と
R2、あるいはR3とZは、互いに結合して環状構造を形
成していてもよいが、この時形成される環状構造とは、
非芳香族の炭素環もしくは非芳香族のヘテロ環である。
次に式(2)で表される化合物の好ましい範囲について述
べる。式(2)においてZで表されるシリル基として好ま
しくは、具体的にトリメチルシリル基、t−ブチルジメ
チルシリル基、フェニルジメチルシリル基、トリエチル
シリル基、トリイソプロピルシリル基、トリメチルシリ
ルジメチルシリル基等である。式(2)においてZで表さ
れる電子吸引性基として好ましくは、総炭素数0〜30
の以下の基、即ち、シアノ基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、チ
オカルボニル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ
基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリー
ルスルホニル基、ニトロ基、パーフルオロアルキル基、
アシル基、ホルミル基、ホスホリル基、アシルオキシ
基、アシルチオ基、または任意の電子吸引性基で置換さ
れたフェニル基等であり、さらに好ましくは、シアノ
基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イミノ
基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリー
ルスルホニル基、アシル基、ホルミル基、ホスホリル
基、トリフルオロメチル基、または任意の電子吸引性基
で置換されたフェニル基等であり、特に好ましくはシア
ノ基、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、イミノ基またはカルバモイル基である。In the formula (2), R 1 and Z, R 2 and R 3 , R 1 and R 2 , or R 3 and Z may be bonded to each other to form a cyclic structure. The cyclic structure is
It is a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring.
Next, a preferred range of the compound represented by the formula (2) will be described. Preferable examples of the silyl group represented by Z in the formula (2) include a trimethylsilyl group, a t-butyldimethylsilyl group, a phenyldimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a triisopropylsilyl group, and a trimethylsilyldimethylsilyl group. . In the formula (2), the electron-withdrawing group represented by Z is preferably a total of 0 to 30 carbon atoms.
The following groups, namely, cyano group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, thiocarbonyl group, imino group, imino group substituted with N atom, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group , Perfluoroalkyl group,
An acyl group, a formyl group, a phosphoryl group, an acyloxy group, an acylthio group, or a phenyl group substituted with any electron-withdrawing group, and more preferably a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an imino group, and a sulfamoyl group. Group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, acyl group, formyl group, phosphoryl group, trifluoromethyl group, or a phenyl group substituted with any electron-withdrawing group, and particularly preferably a cyano group, a formyl group, It is an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an imino group or a carbamoyl group.
【0040】式(2)においてZで表される基は、電子吸
引性基がより好ましい。式(2)においてR1,R2,およ
びR3で表される置換基として好ましくは、総炭素数0
〜30の基で、具体的には上述の式(2)のZで表される
電子吸引性基と同義の基、およびアルキル基、ヒドロキ
シ基(またはその塩)、メルカプト基(またはその塩)、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミ
ノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環
アミノ基、ウレイド基、アシルアミノ基、スルホンアミ
ド基、または置換もしくは無置換のアリール基等が挙げ
られる。さらに式(2)においてR1は、好ましくは電子
吸引性基、アリール基、アルキルチオ基、アルコキシ
基、アシルアミノ基、水素原子またはシリル基である。The group represented by Z in the formula (2) is more preferably an electron-withdrawing group. In the formula (2), the substituent represented by R 1 , R 2 and R 3 is preferably a total of 0 carbon atoms.
To 30 groups, specifically, groups having the same meaning as the electron-withdrawing group represented by Z in the above formula (2), and an alkyl group, a hydroxy group (or a salt thereof), and a mercapto group (or a salt thereof) An alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, a ureido group, an acylamino group, a sulfonamide group, Or a substituted or unsubstituted aryl group. Further, in the formula (2), R 1 is preferably an electron-withdrawing group, an aryl group, an alkylthio group, an alkoxy group, an acylamino group, a hydrogen atom or a silyl group.
【0041】R1が電子吸引性基を表す時、好ましくは
総炭素数0〜30の以下の基、即ち、シアノ基、ニトロ
基、アシル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、チオカルボニル基、イミ
ノ基、N原子で置換したイミノ基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、スルファ
モイル基、トリフルオロメチル基、ホスホリル基、カル
ボキシ基(またはその塩)、または飽和もしくは不飽和
のヘテロ環基であり、さらにシアノ基、アシル基、ホル
ミル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イ
ミノ基、N原子で置換したイミノ基、スルファモイル
基、カルボキシ基(またはその塩)、または飽和もしく
は不飽和のヘテロ環基が好ましい。特に好ましくはシア
ノ基、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、または飽和もしくは不飽和のヘテ
ロ環基である。When R 1 represents an electron-withdrawing group, preferably the following groups having a total of 0 to 30 carbon atoms, ie, a cyano group, a nitro group, an acyl group, a formyl group, an alkoxycarbonyl group,
An aryloxycarbonyl group, a thiocarbonyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a trifluoromethyl group, a phosphoryl group, a carboxy group (or a salt thereof), Or a saturated or unsaturated heterocyclic group, and a cyano group, an acyl group, a formyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a sulfamoyl group, a carboxy group (or a salt thereof) Or a saturated or unsaturated heterocyclic group. Particularly preferred are a cyano group, a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and a saturated or unsaturated heterocyclic group.
【0042】R1がアリール基を表す時、好ましくは総
炭素数6〜30の、置換もしくは無置換のフェニル基で
あり、置換基としては、任意の置換基が挙げられるが、
中でも電子吸引性の置換基が好ましい。式(2)において
R1は、より好ましくは、電子吸引性基またはアリール
基を表す時である。式(2)においてR2およびR3で表さ
れる置換基として好ましくは、具体的に、上述の式(2)
のZで表される電子吸引性基と同義の基、アルキル基、
ヒドロキシ基(またはその塩)、メルカプト基(またはそ
の塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オ
キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チ
オ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、ヘテ
ロ環アミノ基、アシルアミノ基、置換もしくは無置換の
フェニル基等である。When R 1 represents an aryl group, it is preferably a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 30 carbon atoms in total, and the substituent may be any substituent.
Among them, an electron-withdrawing substituent is preferable. In formula (2), R 1 is more preferably an electron-withdrawing group or an aryl group. In the formula (2), the substituents represented by R 2 and R 3 are preferably specific examples of the above-mentioned formula (2)
A group having the same meaning as the electron-withdrawing group represented by Z, an alkyl group,
Hydroxy group (or salt thereof), mercapto group (or salt thereof), alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, amino group, alkylamino group, anilino group, hetero Examples include a cyclic amino group, an acylamino group, and a substituted or unsubstituted phenyl group.
【0043】式(2)においてR2およびR3は、さらに好
ましくは、どちらか一方が水素原子で、他方が置換基を
表す時である。その置換基として好ましくは、アルキル
基、ヒドロキシ基(またはその塩)、メルカプト基(また
はその塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ
環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ
環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、
ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基(特にパーフルオロ
アルカンアミド基)、スルホンアミド基、置換もしくは
無置換のフェニル基、またはヘテロ環基等であり、さら
に好ましくはヒドロキシ基(またはその塩)、メルカプト
基(またはその塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、
ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
ヘテロ環チオ基、またはヘテロ環基であり、特に好まし
くはヒドロキシ基(またはその塩)、アルコキシ基、また
はヘテロ環基である。In formula (2), R 2 and R 3 are more preferably when one of them is a hydrogen atom and the other is a substituent. The substituent is preferably an alkyl group, a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group. Group, alkylamino group, anilino group,
Heterocyclic amino group, acylamino group (particularly perfluoroalkaneamide group), sulfonamide group, substituted or unsubstituted phenyl group, or a heterocyclic group, more preferably a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group ( Or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group,
Heterocyclic oxy group, alkylthio group, arylthio group,
A heterocyclic thio group or a heterocyclic group, particularly preferably a hydroxy group (or a salt thereof), an alkoxy group, or a heterocyclic group.
【0044】式(2)においてZとR1、あるいはまたR2
とR3とが環状構造を形成する場合もまた好ましい。こ
の場合に形成される環状構造は、非芳香族の炭素環もし
くは非芳香族のヘテロ環であり、好ましくは5員〜7員
の環状構造で、置換基を含めたその総炭素数は1〜4
0、さらには3〜30が好ましい。式(2)で表される化
合物の中で、より好ましいものの1つは、Zがシアノ
基、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、
イミノ基、またはカルバモイル基を表し、R1が電子吸
引性基またはアリール基を表し、R2またはR3のどちら
か一方が水素原子で、他方がヒドロキシ基(またはその
塩)、メルカプト基(またはその塩)、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ環基を
表す化合物である。In the formula (2), Z and R 1 , or alternatively, R 2
It is also preferred that and R 3 form a cyclic structure. The cyclic structure formed in this case is a non-aromatic carbocyclic ring or a non-aromatic hetero ring, preferably a 5- to 7-membered cyclic structure having a total carbon number including a substituent of 1 to 4
0, more preferably 3 to 30. Among the compounds represented by the formula (2), one of the more preferable ones is that Z is a cyano group, a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group,
Represents an imino group or a carbamoyl group, R 1 represents an electron-withdrawing group or an aryl group, one of R 2 and R 3 is a hydrogen atom, and the other is a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or Salt), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group,
A compound representing an arylthio group, a heterocyclic thio group, or a heterocyclic group.
【0045】さらにまた式(2)で表される化合物の中で
特に好ましいものの1つは、ZとR 1とが非芳香族の5
員〜7員の環状構造を形成していて、R2またはR3のど
ちらか一方が水素原子で、他方がヒドロキシ基(または
その塩)、メルカプト基(またはその塩)、アルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ
環基を表す化合物である。この時、R1と共に非芳香族
の環状構造を形成するZとしては、アシル基、カルバモ
イル基、オキシカルボニル基、チオカルボニル基、スル
ホニル基等が好ましく、またR1としては、アシル基、
カルバモイル基、オキシカルボニル基、チオカルボニル
基、スルホニル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ
基、アシルアミノ基、カルボニルチオ基等が好ましい。Further, among the compounds represented by the formula (2),
One particularly preferred is Z and R 1Is non-aromatic 5
Having a 7 to 7 membered cyclic structure,TwoOr RThreeThroat
One is a hydrogen atom and the other is a hydroxy group (or
Salt), mercapto group (or salt thereof), alkoxy
Group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, alkylthio
O, arylthio, heterocyclic thio, or hetero
It is a compound that represents a ring group. At this time, R1With non-aromatic
Z which forms a cyclic structure of
Yl, oxycarbonyl, thiocarbonyl, sulf
A honyl group and the like are preferable.1As an acyl group,
Carbamoyl group, oxycarbonyl group, thiocarbonyl
Group, sulfonyl group, imino group, imino substituted with N atom
Groups, acylamino groups, carbonylthio groups and the like are preferred.
【0046】次に式(3)で表される化合物について説明
する。式(3)においてR4で表される置換基としては、
式(2)のR1〜R3の置換基について説明したものと同じ
ものが挙げられる。式(3)においてR4で表される置換
基は、好ましくは電子吸引性基またはアリール基であ
る。R4が電子吸引性基を表す時、好ましくは、総炭素
数0〜30の以下の基、即ち、シアノ基、ニトロ基、ア
シル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、アリー
ルオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリー
ルスルホニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、
トリフルオロメチル基、ホスホリル基、イミノ基、また
は飽和もしくは不飽和のヘテロ環基であり、さらにシア
ノ基、アシル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキルスル
ホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環基が好まし
い。特に好ましくはシアノ基、ホルミル基、アシル基、
アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、またはヘテ
ロ環基である。Next, the compound represented by the formula (3) will be described. As the substituent represented by R 4 in the formula (3),
Examples are the same as those described for the substituents of R 1 to R 3 in the formula (2). In formula (3), the substituent represented by R 4 is preferably an electron-withdrawing group or an aryl group. When R 4 represents an electron-withdrawing group, preferably the following groups having a total carbon number of 0 to 30, that is, a cyano group, a nitro group, an acyl group, a formyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl Group, arylsulfonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group,
A trifluoromethyl group, a phosphoryl group, an imino group, or a saturated or unsaturated heterocyclic group, and further a cyano group, an acyl group, a formyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group And a heterocyclic group are preferred. Particularly preferably, a cyano group, a formyl group, an acyl group,
It is an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, or a heterocyclic group.
【0047】R4がアリール基を表す時、好ましくは総
炭素数0〜30の、置換もしくは無置換のフェニル基で
あり、置換基としては、式(2)のR1,R2,R3が置換
基を表す時にその置換基として説明したものと同じもの
が挙げられる。式(3)においてR4は、特に好ましくは
シアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、
ヘテロ環基、または置換もしくは無置換のフェニル基で
あり、最も好ましくはシアノ基、ヘテロ環基、またはア
ルコキシカルボニル基である。[0047] When R 4 represents an aryl group, preferably a total carbon number of 0 to 30, a substituted or unsubstituted phenyl group, the substituent, R 1, R 2, R 3 of formula (2) When represents a substituent, the same as those described as the substituent can be mentioned. In the formula (3), R 4 is particularly preferably a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group,
A heterocyclic group or a substituted or unsubstituted phenyl group, most preferably a cyano group, a heterocyclic group, or an alkoxycarbonyl group.
【0048】次に式(4)で表される化合物について詳し
く説明する。式(4)においてX,Yはそれぞれ独立に水
素原子または置換基を表し、A,Bはそれぞれ独立に、
アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、ア
リールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ基、ヘテロ
環チオ基、ヘテロ環オキシ基、またはヘテロ環アミノ基
を表す。XとY、あるいはAとBは、互いに結合して環
状構造を形成していてもよい。Next, the compound represented by formula (4) will be described in detail. In the formula (4), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and A and B each independently represent:
Represents an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group, a heterocyclic thio group, a heterocyclic oxy group, or a heterocyclic amino group. X and Y or A and B may be bonded to each other to form a cyclic structure.
【0049】式(4)においてX,Yで表される置換基と
しては、式(2)のR1〜R3の置換基について説明したも
のと同じものが挙げられる。具体的には、アルキル基
(パーフルオロアルキル基、トリクロロメチル基等を含
む)、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、シアノ
基、ニトロ基、アルケニル基、アルキニル基、アシル
基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ
基、カルバモイル基、チオカルボニル基、アシルオキシ
基、アシルチオ基、アシルアミノ基、アルキルスルホニ
ル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、ホス
ホリル基、カルボキシ基(またはその塩)、スルホ基
(またはその塩)、ヒドロキシ基(またはその塩)、メ
ルカプト基(またはその塩)、アルコキシ基、アリール
オキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ
基、アニリノ基、ヘテロ環アミノ基、シリル基等が挙げ
られる。これらの基はさらに置換基を有していてもよ
い。またXとYは、互いに結合して環状構造を形成して
いてもよく、この場合に形成される環状構造としては、
非芳香族の炭素環でも、非芳香族のヘテロ環であっても
よい。As the substituents represented by X and Y in the formula (4), the same as those described for the substituents R 1 to R 3 in the formula (2) can be mentioned. Specifically, alkyl groups (including perfluoroalkyl groups, trichloromethyl groups, etc.), aryl groups, heterocyclic groups, halogen atoms, cyano groups, nitro groups, alkenyl groups, alkynyl groups, acyl groups, formyl groups, alkoxy groups Carbonyl group, aryloxycarbonyl group, imino group, imino group substituted with an N atom, carbamoyl group, thiocarbonyl group, acyloxy group, acylthio group, acylamino group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfamoyl group, phosphoryl group, carboxy Group (or its salt), sulfo group (or its salt), hydroxy group (or its salt), mercapto group (or its salt), alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, alkylthio group, arylthio group, hetero group Ring thio group, amino group, alkylami Group, anilino group, heterocyclic amino group, a silyl group, and the like. These groups may further have a substituent. X and Y may be bonded to each other to form a cyclic structure. In this case, the cyclic structure formed includes:
It may be a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring.
【0050】式(4)においてX,Yで表される置換基
は、好ましくは総炭素数1〜40の、より好ましくは総
炭素数1〜30の基であり、シアノ基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、チオカルボ
ニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基、ニトロ基、パーフルオロアルキル
基、アシル基、ホルミル基、ホスホリル基、アシルアミ
ノ基、アシルオキシ基、アシルチオ基、ヘテロ環基、ア
ルキルチオ基、アルコキシ基、またはアリール基等が挙
げられる。式(4)においてX,Yは、より好ましくはシ
アノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、カルバモ
イル基、アシル基、ホルミル基、アシルチオ基、アシル
アミノ基、チオカルボニル基、スルファモイル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、イミノ基、
N原子で置換したイミノ基、ホスホリル基、トリフルオ
ロメチル基、ヘテロ環基、または置換されたフェニル基
等であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、アシル基、アシルチオ基、アシルア
ミノ基、チオカルボニル基、ホルミル基、イミノ基、N
原子で置換したイミノ基、ヘテロ環基、または任意の電
子吸引性基で置換されたフェニル基等である。The substituents represented by X and Y in the formula (4) are preferably groups having 1 to 40 carbon atoms, more preferably 1 to 30 carbon atoms, and include a cyano group, an alkoxycarbonyl group, Aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, imino group, imino group substituted with N atom, thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, perfluoroalkyl group, acyl group, formyl group, phosphoryl group , An acylamino group, an acyloxy group, an acylthio group, a heterocyclic group, an alkylthio group, an alkoxy group, or an aryl group. In the formula (4), X and Y are more preferably a cyano group, nitro group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, acyl group, formyl group, acylthio group, acylamino group, thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, aryl Sulfonyl group, imino group,
An imino group, a phosphoryl group, a trifluoromethyl group, a heterocyclic group, or a substituted phenyl group substituted with an N atom, particularly preferably a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group , Acyl group, acylthio group, acylamino group, thiocarbonyl group, formyl group, imino group, N
Examples include an imino group substituted with an atom, a heterocyclic group, and a phenyl group substituted with an arbitrary electron-withdrawing group.
【0051】XとYが、互いに結合して非芳香族の炭素
環、または非芳香族のヘテロ環を形成している場合もま
た好ましい。この時、形成される環状構造は5員〜7員
環が好ましく、その総炭素数は1〜40、さらには3〜
30が好ましい。環状構造を形成するXおよびYとして
は、アシル基、カルバモイル基、オキシカルボニル基、
チオカルボニル基、スルホニル基、イミノ基、N原子で
置換したイミノ基、アシルアミノ基、カルボニルチオ基
等が好ましい。It is also preferred that X and Y combine with each other to form a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring. At this time, the formed cyclic structure is preferably a 5- to 7-membered ring, and has a total carbon number of 1 to 40, more preferably 3 to
30 is preferred. X and Y forming a cyclic structure include an acyl group, a carbamoyl group, an oxycarbonyl group,
Preferred are a thiocarbonyl group, a sulfonyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, an acylamino group, a carbonylthio group and the like.
【0052】式(4)においてA,Bはそれぞれ独立に、
アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、ア
リールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ基、ヘテロ
環チオ基、ヘテロ環オキシ基、またはヘテロ環アミノ基
を表し、これらは互いに結合して環状構造を形成してい
てもよい。式(4)においてA,Bで表される基は、好ま
しくは総炭素数1〜40の、より好ましくは総炭素数1
〜30の基であり、さらに置換基を有していてもよい。
式(4)においてA,Bは、これらが互いに結合して環状
構造を形成している場合がより好ましい。この時形成さ
れる環状構造は5員〜7員環の非芳香族のヘテロ環が好
ましく、その総炭素数は1〜40、さらには3〜30が
好ましい。この場合に、A,Bが連結した例(−A−B
−)を挙げれば、例えば−O−(CH2)2−O−,−O
−(CH2)3−O−,−S−(CH2)2−S−,−S−
(CH2)3−S−,−S−Ph−S−,−N(CH3)−
(CH2)2−O−,−N(CH3)−(CH2)2−S
−,−O−(CH2)2−S−,−O−(CH2)3−S
−,−N(CH3)−Ph−O−,−N(CH3)−Ph−S
−,−N(Ph)−(CH2)2−S−等である。In the formula (4), A and B are each independently:
Represents an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group, a heterocyclic thio group, a heterocyclic oxy group, or a heterocyclic amino group, which are bonded to each other to form a cyclic structure. You may. The group represented by A or B in the formula (4) is preferably a group having a total carbon number of 1 to 40, more preferably a group having a total carbon number of 1 to 40.
To 30 and may further have a substituent.
In formula (4), A and B more preferably combine with each other to form a cyclic structure. The cyclic structure formed at this time is preferably a 5- to 7-membered non-aromatic hetero ring, and preferably has a total carbon number of 1 to 40, and more preferably 3 to 30. In this case, an example in which A and B are linked (-AB
-) By way of, for example, -O- (CH 2) 2 -O - , - O
- (CH 2) 3 -O - , - S- (CH 2) 2 -S -, - S-
(CH 2 ) 3 -S-, -S-Ph-S-, -N (CH 3 )-
(CH 2) 2 -O -, - N (CH 3) - (CH 2) 2 -S
-, - O- (CH 2) 2 -S -, - O- (CH 2) 3 -S
-, - N (CH 3) -Ph-O -, - N (CH 3) -Ph-S
-, - N (Ph) - is (CH 2) 2 -S- and the like.
【0053】本発明に用いられる式(2)〜式(4)で表さ
れる化合物は、ハロゲン化銀に対して吸着する吸着性の
基が組み込まれていてもよい。こうした吸着基として
は、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオ尿素基、チ
オアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基など
の米国特許第4,385,108号、同4,459,3
47号、特開昭59−195233号、同59−200
231号、同59−201045号、同59−2010
46号、同59−201047号、同59−20104
8号、同59−201049号、特開昭61−1707
33号、同61−270744号、同62−948号、
同63−234244号、同63−234245号、同
63−234246号に記載された基が挙げられる。ま
たこれらハロゲン化銀への吸着基は、プレカーサー化さ
れていてもよい。その様なプレカーサーとしては、特開
平2−285344号に記載された基が挙げられる。本
発明に用いられる式(2)〜式(4)で表される化合物は、
その中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用
されているバラスト基またはポリマーが組み込まれてい
るものでもよい。特にバラスト基が組み込まれているも
のは本発明の好ましい例の1つである。バラスト基は8
以上の炭素数を有する、写真性に対して比較的不活性な
基であり、例えばアルキル基、アラルキル基、アルコキ
シ基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ
基、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができ
る。またポリマーとしては、例えば特開平1−1005
30号に記載のものが挙げられる。The compounds represented by the formulas (2) to (4) used in the present invention may have incorporated therein an adsorptive group that adsorbs to silver halide. Examples of such adsorbing groups include alkylthio, arylthio, thiourea, thioamide, mercaptoheterocyclic, and triazole groups, which are described in U.S. Pat. Nos. 4,385,108 and 4,459,3.
No. 47, JP-A-59-195233 and JP-A-59-200.
No. 231, 59-201045, 59-2010
No. 46, No. 59-201047, No. 59-20104
No. 8, No. 59-201049, JP-A-61-1707.
No. 33, No. 61-270744, No. 62-948,
The groups described in JP-A-63-234244, JP-A-63-234245, and JP-A-63-234246 are exemplified. These adsorbing groups to silver halide may be precursors. Examples of such a precursor include the groups described in JP-A-2-285344. The compounds represented by the formulas (2) to (4) used in the present invention include:
A ballast group or a polymer commonly used in immobile photographic additives such as couplers may be incorporated therein. Particularly, those incorporating a ballast group are one of preferred examples of the present invention. 8 ballast groups
A group having the above number of carbon atoms, which is relatively inert to photographic properties.For example, select from an alkyl group, an aralkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group, and an alkylphenoxy group. Can be. As the polymer, for example, JP-A-1-1005
No. 30.
【0054】本発明に用いられる式(2)〜式(4)で表さ
れる化合物は、その中にカチオン性基(具体的には、4
級のアンモニオ基を含む基、または4級化された窒素原
子を含む含窒素ヘテロ環基等)、エチレンオキシ基もし
くはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む基、(ア
ルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、あるいは
塩基により解離しうる解離性基(カルボキシ基、スルホ
基、アシルスルファモイル基、カルバモイルスルファモ
イル基等)が含まれていてもよい。特にエチレンオキシ
基もしくはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む
基、あるいは(アルキル,アリール,またはヘテロ環)
チオ基が含まれているものは、本発明の好ましい例の1
つである。これらの基の具体例としては、例えば特開平
7−234471号、特開平5−333466号、特開
平6−19032号、特開平6−19031号、特開平
5−45761号、米国特許4994365号、米国特
許4988604号、特開平3−259240号、特開
平7−5610号、特開平7−244348号、独国特
許4006032号等に記載の化合物が挙げられる。次
に本発明に用いられる式(2)〜式(4)で表される化合物
の具体例を以下に示す。ただし、本発明は以下の化合物
に限定されるものではない。The compounds represented by the formulas (2) to (4) used in the present invention contain a cationic group (specifically,
A group containing a quaternary ammonium group or a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom), a group containing a repeating unit of an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio It may contain a group or a dissociable group which can be dissociated by a base (carboxy group, sulfo group, acylsulfamoyl group, carbamoylsulfamoyl group, etc.). In particular, a group containing a repeating unit of an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group, or (alkyl, aryl, or heterocycle)
Those containing a thio group are one of the preferred examples of the present invention.
One. Specific examples of these groups include, for example, JP-A-7-234471, JP-A-5-333466, JP-A-6-19032, JP-A-6-19031, JP-A-5-45761, U.S. Pat. The compounds described in U.S. Pat. No. 4,988,604, JP-A-3-259240, JP-A-7-5610, JP-A-7-244348, German Patent 4006032, and the like can be mentioned. Next, specific examples of the compounds represented by the formulas (2) to (4) used in the present invention are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.
【0055】[0055]
【化13】 Embedded image
【0056】[0056]
【化14】 Embedded image
【0057】[0057]
【化15】 Embedded image
【0058】本発明に用いられる式(2)〜式(4)で表さ
れる化合物は、水または適当な有機溶媒、例えばアルコ
ール類(メタノール、エタノール、プロパノール、フッ
素化アルコール)、ケトン類(アセトン、メチルエチル
ケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、メチルセルソルブなどに溶解して用いることができ
る。また、既によく知られている乳化分散法によって、
ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グ
リセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートな
どのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助
溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製して用
いることができる。あるいは固体分散法として知られて
いる方法によって、式(2)〜式(4)で表される化合物
の粉末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミ
ル、あるいは超音波によって分散し用いることができ
る。The compounds represented by the formulas (2) to (4) used in the present invention may be water or a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone) , Methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethylsulfoxide, methylcellosolve and the like. Also, by the well-known emulsification dispersion method,
An oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone can be used for dissolving and mechanically producing an emulsified dispersion for use. Alternatively, the powder of the compound represented by the formula (2) to the formula (4) is dispersed in a suitable solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, or an ultrasonic wave by a method known as a solid dispersion method and used. Can be.
【0059】本発明に用いられる式(2)〜式(4)で表さ
れる化合物は、支持体に対して画像形成層側の層、即ち
画像形成層あるいはこの層側の他のどの層に添加しても
よいが、画像形成層あるいはそれに隣接する層に添加す
ることが好ましい。式(2)〜式(4)で表される化合物の
添加量は、銀1モルに対し1×10-6〜1モルが好まし
く、1×10-5〜5×10-1モルがより好ましく、2×
10-5〜2×10-1モルが最も好ましい。式(2)〜式
(4)で表される化合物は公知の方法により容易に合成す
ることができるが、例えば、米国特許5,545,51
5号、米国特許5,635,339号、米国特許5,6
54,130号、国際公開WO97/34196号、あ
るいは特願平9−354107号、特願平9−3098
13号、特願平9−272002号に記載の方法を参考
に合成することができる。本発明に用いられる式(2)〜
式(4)で表される化合物は、1種のみ用いても、2種以
上を併用してもよい。また上記のものの他に、米国特許
5,545,515号、米国特許5,635,339
号、米国特許5,654,130号、国際公開WO97
/34196号、米国特許5,686,228号に記載
の化合物、あるいはまた特願平9−228881号、特
願平9−273935号、特願平9−354107号、
特願平9−309813号、特願平9−296174
号、特願平9−282564号、特願平9−27200
2号、特願平9−272003号、特願平9−3323
88号に記載された化合物を併用して用いてもよい。The compounds represented by the formulas (2) to (4) used in the present invention may be added to a layer on the image forming layer side with respect to the support, that is, the image forming layer or any other layer on the layer side. It may be added, but is preferably added to the image forming layer or a layer adjacent thereto. The amount of the compounds represented by the formulas (2) to (4) is preferably 1 × 10 -6 to 1 mol, more preferably 1 × 10 -5 to 5 × 10 -1 mol, per mol of silver. , 2 ×
Most preferably, it is 10 -5 to 2 × 10 -1 mol. Equation (2)-Equation
The compound represented by (4) can be easily synthesized by a known method. For example, US Pat. No. 5,545,51
5, US Pat. No. 5,635,339, US Pat.
No. 54,130, International Publication WO97 / 34196, or Japanese Patent Application Nos. 9-354107 and 9-3098.
No. 13, Japanese Patent Application No. 9-272002 can be synthesized with reference to the method described therein. Formula (2) used in the present invention
The compound represented by the formula (4) may be used alone or in combination of two or more. In addition to the above, US Pat. No. 5,545,515 and US Pat. No. 5,635,339
No. 5,654,130, International Publication WO97
/ 34196, the compounds described in U.S. Pat. No. 5,686,228;
Japanese Patent Application Nos. 9-309813 and 9-296174
No., Japanese Patent Application No. 9-282564, Japanese Patent Application No. 9-27200
No. 2, Japanese Patent Application No. 9-272003, Japanese Patent Application No. 9-3323
The compounds described in No. 88 may be used in combination.
【0060】さらに本発明においては、特開平10−3
39932号、特願平9−240511号、特開平10
−161270号に記載のヒドラジン誘導体を組み合わ
せて用いることもできる。さらには下記のヒドラジン誘
導体を組み合わせて用いることもできる。即ち、特公平
6−77138号に記載の(化1)で表される化合物
で、具体的には同公報3頁、4頁に記載の化合物。特公
平6−93082号に記載の一般式(I)で表される化
合物で、具体的には同公報8頁〜18頁に記載の1〜3
8の化合物。特開平6−230497号に記載の一般式
(4)、一般式(5)および一般式(6)で表される化
合物で、具体的には同公報25頁、26頁に記載の化合
物4−1〜化合物4−10、28頁〜36頁に記載の化
合物5−1〜5−42、および39頁、40頁に記載の
化合物6−1〜化合物6−7。特開平6−289520
号に記載の一般式(1)および一般式(2)で表される
化合物で、具体的には同公報5頁〜7頁に記載の化合物
1−1)〜1−17)および2−1)。特開平6−31
3936号に記載の(化2)および(化3)で表される
化合物で、具体的には同公報6頁〜19頁に記載の化合
物。特開平6−313951号に記載の(化1)で表さ
れる化合物で、具体的には同公報3頁〜5頁に記載の化
合物。特開平7−5610号に記載の一般式(I)で表
される化合物で、具体的には同公報5頁〜10頁に記載
の化合物I−1〜I−38。特開平7−77783号に
記載の一般式(II)で表される化合物で、具体的には同
公報10頁〜27頁に記載の化合物II−1〜II−10
2。特開平7−104426号に記載の一般式(H)お
よび一般式(Ha)で表される化合物で、具体的には同
公報8頁〜15頁に記載の化合物H−1〜H−44。欧
州特許713131A号に記載の、ヒドラジン基の近傍
にアニオン性基またはヒドラジンの水素原子と分子内水
素結合を形成するノニオン性基を有することを特徴とす
る化合物で、特に一般式(A)、一般式(B)、一般式
(C)、一般式(D)、一般式(E)、一般式(F)で
表される化合物で、具体的には同公報に記載の化合物N
−1〜N−30。欧州特許713131A号に記載の一
般式(1)で表される化合物で、具体的には同公報に記
載の化合物D−1〜D−55。さらに1991年3月22日発
行の「公知技術(1〜207頁)」(アズテック社刊)の25頁か
ら34頁に記載の種々のヒドラジン誘導体。特開昭62
−86354号(6頁〜7頁)の化合物D−2およびD
−39。Further, in the present invention, Japanese Patent Laid-Open No. 10-3
39932, Japanese Patent Application No. 9-240511,
The hydrazine derivatives described in JP-A-161270 can also be used in combination. Further, the following hydrazine derivatives can be used in combination. That is, the compounds represented by (Chemical Formula 1) described in JP-B-6-77138, specifically, the compounds described on pages 3 and 4 of the same publication. Compounds represented by the general formula (I) described in JP-B-6-93082, specifically, compounds 1 to 3 described in pages 8 to 18 of the same publication
Compound of 8. Compounds represented by formulas (4), (5) and (6) described in JP-A-6-230497, specifically, compound 4- described on pages 25 and 26 of the same publication. 1 to 4-10, compounds 5-1 to 5-42 described on pages 28 to 36, and compounds 6-1 to 6-7 described on pages 39 and 40. JP-A-6-289520
Compounds represented by the general formulas (1) and (2) described in the above publications, specifically, the compounds 1-1) to 1-17) and 2-1 described on pages 5 to 7 of the same publication. ). JP-A-6-31
Compounds represented by (Chemical Formula 2) and (Chemical Formula 3) described in No. 3936, specifically, compounds described on pages 6 to 19 of the same publication. Compounds represented by (Chemical Formula 1) described in JP-A-6-313951, specifically, compounds described on pages 3 to 5 of the same. Compounds represented by formula (I) described in JP-A-7-5610, specifically, compounds I-1 to I-38 described on pages 5 to 10 of the same. Compounds represented by general formula (II) described in JP-A-7-77783, specifically, compounds II-1 to II-10 described on pages 10 to 27 of the same publication
2. Compounds represented by formulas (H) and (Ha) described in JP-A-7-104426, specifically, compounds H-1 to H-44 described on pages 8 to 15 of the same publication. A compound described in EP 713131A, which has an anionic group or a nonionic group that forms an intramolecular hydrogen bond with a hydrogen atom of hydrazine in the vicinity of a hydrazine group. Particularly, a compound represented by the general formula (A): A compound represented by the formula (B), the general formula (C), the general formula (D), the general formula (E), or the general formula (F).
-1 to N-30. Compounds represented by the general formula (1) described in European Patent 713131A, and specifically, compounds D-1 to D-55 described in the publication. Further, various hydrazine derivatives described on pages 25 to 34 of "Known Techniques (pages 1 to 207)" (Aztec) published on March 22, 1991. JP 62
Compounds D-2 and D of -86354 (pages 6 to 7)
-39.
【0061】これらヒドラジン誘導体は、水または適当
な有機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノ
ール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類
(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに
溶解して用いることができる。また、既によく知られて
いる乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリク
レジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートある
いはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシ
クロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的
に乳化分散物を作製して用いることができる。あるいは
固体分散法として知られている方法によって、ヒドラジ
ン誘導体の粉末を水の中にボールミル、コロイドミル、
あるいは超音波によって分散し用いることができる。These hydrazine derivatives are dissolved in water or a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, methylcellosolve, etc. Can be used. Also, by an already well-known emulsification dispersion method, an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone are dissolved and mechanically emulsified and dispersed. An object can be prepared and used. Alternatively, by a method known as a solid dispersion method, a powder of a hydrazine derivative is put into water using a ball mill, a colloid mill,
Alternatively, it can be dispersed and used by ultrasonic waves.
【0062】これらヒドラジン誘導体は、支持体に対し
て画像形成層側の層、即ち画像形成層あるいはこの層側
の他のどの層に添加してもよいが、画像形成層あるいは
それに隣接する層に添加することが好ましい。これらヒ
ドラジン誘導体の添加量は銀1モルに対し1×10-6〜
1モルが好ましく、1×10-5〜5×10-1モルがより
好ましく、2×10-5〜2×10-1モルが最も好まし
い。また、米国特許5,545,515に記載のアクリロニトリ
ル類、具体的にはCN-1〜CN-13等を超硬調化剤とし
て用いることができる。These hydrazine derivatives may be added to the layer on the image forming layer side with respect to the support, that is, to the image forming layer or any other layer on the layer side. It is preferred to add. The addition amount of these hydrazine derivatives is 1 × 10 −6 to 1 mol of silver.
1 mol is preferable, 1 * 10 < -5 > to 5 * 10 <-1> mol is more preferable, and 2 * 10 < -5 > to 2 * 10 <-1> mol is most preferable. Further, acrylonitriles described in U.S. Pat. No. 5,545,515, specifically, CN-1 to CN-13 and the like can be used as a super-high contrast agent.
【0063】また、本発明は超硬調画像形成のために、
前記の超硬調化剤とともに硬調化促進剤を併用すること
ができる。例えば、米国特許第5,545,505号に記載のア
ミン化合物、具体的にはAM-1〜AM-5、同5,545,507
号に記載のヒドロキサム酸類、具体的にはHA-1〜HA
-11、同5,558,983号に記載のヒドラジン化合物、具体的
にはCA-1〜CA-6、特開平9-297368号に記載
のオニュ−ム塩類、具体的にはA-1〜A-42、B-1〜B-
27、C-1〜C-14などを用いることができる。前記の超
硬調化剤、およびこれらの硬調化促進剤の合成方法、添
加方法、添加量等は、それぞれの前記引用特許に記載さ
れているように行うことができる。Further, the present invention provides a method for forming a super-high contrast image.
A high contrast accelerator can be used in combination with the above-mentioned super-high contrast agent. For example, the amine compounds described in U.S. Patent No. 5,545,505, specifically AM-1 to AM-5, and 5,545,507
, Specifically HA-1 to HA
Hydrazine compounds described in JP-A-5-558983, specifically CA-1 to CA-6, onium salts described in JP-A-9-297368, specifically A-1 to A-42, B-1 to B-
27, C-1 to C-14 and the like can be used. The synthesis method, addition method, addition amount, and the like of the above-mentioned super-high contrast agent and these high-contrast accelerators can be performed as described in each of the cited patents.
【0064】本発明の熱現像画像形成材料は、還元剤、
特には有機銀塩のための還元剤を含む。有機銀塩のため
の還元剤は、銀イオンを金属銀に還元する任意の物質、
好ましくは有機物質であってよい。フェニドン、ハイド
ロキノンおよびカテコールなどの従来の写真現像剤は有
用であるが、ヒンダードフェノール還元剤が好ましい。
還元剤は、画像形成層を有する面の銀1モルに対して5〜
50モル%含まれることが好ましく、10〜40モル%で含まれ
ることがさらに好ましい。還元剤の添加層は画像形成層
を有する面のいかなる層でもよい。画像形成層以外の層
に添加する場合は銀1モルに対して10〜50モル%と多めに
使用することが好ましい。また、還元剤は現像時のみ有
効に機能を持つように誘導化されたいわゆるプレカーサ
ーであってもよい。The heat-developable image-forming material of the present invention comprises a reducing agent,
In particular, it contains a reducing agent for an organic silver salt. A reducing agent for an organic silver salt is any substance that reduces silver ions to metallic silver,
Preferably, it may be an organic substance. Conventional photographic developers such as phenidone, hydroquinone and catechol are useful, but hindered phenol reducing agents are preferred.
The reducing agent is used in an amount of 5 to 1 mol of silver on the surface having the image forming layer.
It is preferably contained at 50 mol%, more preferably at 10 to 40 mol%. The layer to which the reducing agent is added may be any layer on the side having the image forming layer. When it is added to a layer other than the image forming layer, it is preferable to use a relatively large amount of 10 to 50 mol% with respect to 1 mol of silver. Further, the reducing agent may be a so-called precursor which is derivatized so as to have a function effectively only during development.
【0065】有機銀塩を利用した熱現像画像形成材料に
おいては広範囲の還元剤が特開昭46-6074号、同47-1238
号、同47-33621号、同49-46427号、同49-115540号、同5
0-14334号、同50-36110号、同50-147711号、同51-32632
号、同51-1023721号、同51-32324号、同51-51933号、同
52-84727号、同55-108654号、同56-146133号、同57-828
28号、同57-82829号、特開平6-3793号、米国特許3,667,
9586号、同3,679,426号、同3,751,252号、同3,751,255
号、同3,761,270号、同3,782,949号、同3,839,048号、
同3,928,686号、同5,464,738号、独国特許2321328号、
欧州特許692732号などに開示されている。例えば、フェ
ニルアミドオキシム、2-チエニルアミドオキシムおよび
p-フェノキシフェニルアミドオキシムなどのアミドオキ
シム;例えば4-ヒドロキシ-3,5-ジメトキシベンズアル
デヒドアジンなどのアジン;2,2'-ビス(ヒドロキシメチ
ル)プロピオニル-β-フェニルヒドラジンとアスコルビ
ン酸との組合せのような脂肪族カルボン酸アリールヒド
ラジドとアスコルビン酸との組合せ;ポリヒドロキシベ
ンゼンと、ヒドロキシルアミン、レダクトンおよび/ま
たはヒドラジンの組合せ(例えばハイドロキノンと、ビ
ス(エトキシエチル)ヒドロキシルアミン、ピペリジノヘ
キソースレダクトンまたはホルミル-4-メチルフェニル
ヒドラジンの組合せなど);フェニルヒドロキサム酸、p
-ヒドロキシフェニルヒドロキサム酸およびβ-アリニン
ヒドロキサム酸などのヒドロキサム酸;アジンとスルホ
ンアミドフェノールとの組合せ(例えば、フェノチアジ
ンと2,6-ジクロロ-4-ベンゼンスルホンアミドフェノー
ルなど);エチル-α-シアノ-2-メチルフェニルアセテー
ト、エチル-α-シアノフェニルアセテートなどのα-シ
アノフェニル酢酸誘導体;2,2'-ジヒドロキシ-1,1'-ビ
ナフチル、6,6'-ジブロモ-2,2'-ジヒドロキシ-1,1'-ビ
ナフチルおよびビス(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)メタン
に例示されるようなビス-β-ナフトール;ビス-β-ナフ
トールと1,3-ジヒドロキシベンゼン誘導体(例えば、2,4
-ジヒドロキシベンゾフェノンまたは2',4'-ジヒドロキ
シアセトフェノンなど)の組合せ;3-メチル-1-フェニル
-5-ピラゾロンなどの、5-ピラゾロン;ジメチルアミノ
ヘキソースレダクトン、アンヒドロジヒドロアミノヘキ
ソースレダクトンおよびアンヒドロジヒドロピペリドン
ヘキソースレダクトンに例示されるようなレダクトン;
2,6-ジクロロ-4-ベンゼンスルホンアミドフェノールお
よびp-ベンゼンスルホンアミドフェノールなどのスルホ
ンアミドフェノール還元剤;2-フェニルインダン-1,3-
ジオンなど;2,2-ジメチル-7-t-ブチル-6-ヒドロキシク
ロマンなどのクロマン;2,6-ジメトキシ-3,5-ジカルボ
エトキシ-1,4-ジヒドロピリジンなどの1,4-ジヒドロピ
リジン;ビスフェノール(例えば、ビス(2-ヒドロキシ-3
-t-ブチル-5-メチルフェニル)メタン、2,2-ビス(4-ヒド
ロキシ-3-メチルフェニル)プロパン、4,4-エチリデン-
ビス(2-t-ブチル-6-メチルフェノール)、1,1-ビス(2-ヒ
ドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘ
キサンおよび2,2-ビス(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェ
ニル)プロパンなど);アスコルビン酸誘導体(例えば、
パルミチン酸1-アスコルビル、ステアリン酸アスコルビ
ルなど);ならびにベンジルおよびビアセチルなどのア
ルデヒドおよびケトン;3-ピラゾリドンおよびある種の
インダン-1,3-ジオン;クロマノール(トコフェロールな
ど)などがある。In a heat-developable image forming material using an organic silver salt, a wide range of reducing agents are disclosed in JP-A-46-6074 and JP-A-47-1238.
Nos. 47-33621, 49-46427, 49-115540, 5
0-14334, 50-36110, 50-147711, 51-32632
No. 51-1023721, No. 51-32324, No. 51-51933, No.
52-84727, 55-108654, 56-146133, 57-828
No. 28, 57-82829, JP-A-6-3793, U.S. Pat.
9586, 3,679,426, 3,751,252, 3,751,255
Nos. 3,761,270, 3,782,949, 3,839,048,
3,928,686, 5,464,738, German patent 2321328,
It is disclosed in European Patent No. 692732 and the like. For example, phenylamide oxime, 2-thienylamide oxime and
Amide oximes such as p-phenoxyphenylamide oxime; azines such as 4-hydroxy-3,5-dimethoxybenzaldehyde azine; combinations of 2,2′-bis (hydroxymethyl) propionyl-β-phenylhydrazine with ascorbic acid A combination of such an aliphatic carboxylic acid aryl hydrazide and ascorbic acid; a combination of polyhydroxybenzene and hydroxylamine, reductone and / or hydrazine (eg, hydroquinone and bis (ethoxyethyl) hydroxylamine, piperidinohexose reductone Or a combination of formyl-4-methylphenylhydrazine, etc.); phenylhydroxamic acid, p
Hydroxamic acids such as -hydroxyphenylhydroxamic acid and β-alinine hydroxamic acid; combinations of azines with sulfonamidophenols (eg, phenothiazine and 2,6-dichloro-4-benzenesulfonamidophenol); ethyl-α-cyano Α-cyanophenylacetic acid derivatives such as 2-methylphenylacetate and ethyl-α-cyanophenylacetate; 2,2′-dihydroxy-1,1′-binaphthyl, 6,6′-dibromo-2,2′-dihydroxy Bis-β-naphthol as exemplified by -1,1′-binaphthyl and bis (2-hydroxy-1-naphthyl) methane; bis-β-naphthol and 1,3-dihydroxybenzene derivatives (eg, 2,4
-Dihydroxybenzophenone or 2 ', 4'-dihydroxyacetophenone); 3-methyl-1-phenyl
5-pyrazolone, such as -5-pyrazolone; reductones as exemplified by dimethylaminohexose reductone, anhydrodihydroaminohexose reductone and anhydrodihydropiperidone hexose reductone;
Sulfonamidophenol reducing agents such as 2,6-dichloro-4-benzenesulfonamidophenol and p-benzenesulfonamidophenol; 2-phenylindane-1,3-
Dione and the like; chromanes such as 2,2-dimethyl-7-t-butyl-6-hydroxychroman; 1,4-dihydropyridines such as 2,6-dimethoxy-3,5-dicarbethoxy-1,4-dihydropyridine; Bisphenols (e.g., bis (2-hydroxy-3
-t-butyl-5-methylphenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 4,4-ethylidene-
Bis (2-t-butyl-6-methylphenol), 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane and 2,2-bis (3,5 -Dimethyl-4-hydroxyphenyl) propane, etc.); ascorbic acid derivatives (for example,
And aldehydes and ketones such as benzyl and biacetyl; 3-pyrazolidone and certain indan-1,3-diones; chromanol (such as tocopherol).
【0066】還元剤は、溶液、粉末、固体微粒子分散物
などいかなる方法で添加してもよい。固体微粒子分散は
公知の微細化手段(例えば、ボールミル、振動ボールミ
ル、サンドミル、コロイドミル、ジェットミル、ローラ
ーミルなど)で行われる。また、固体微粒子分散する際
に分散助剤を用いてもよい。The reducing agent may be added by any method such as a solution, a powder, and a solid fine particle dispersion. The dispersion of the solid fine particles is carried out by a known means for making fine (for example, a ball mill, a vibration ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill, a roller mill, etc.). When dispersing the solid fine particles, a dispersing aid may be used.
【0067】本発明の好ましい態様においては、本発明
の熱現像画像形成材料は、感光性ハロゲン化銀を含有す
る。以下、本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀につ
いて詳細に説明する。In a preferred embodiment of the present invention, the heat-developable image-forming material of the present invention contains a photosensitive silver halide. Hereinafter, the photosensitive silver halide used in the present invention will be described in detail.
【0068】本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀
は、ハロゲン組成として特に制限はなく、塩化銀、塩臭
化銀、臭化銀、ヨウ臭化銀、ヨウ塩臭化銀を用いること
ができる。粒子内におけるハロゲン組成の分布は均一で
あってもよく、ハロゲン組成がステップ状に変化したも
のでもよく、あるいは連続的に変化したものでもよい。
また、コア/シェル構造を有するハロゲン化銀粒子を好
ましく用いることができる。構造としては好ましくは2
〜5重構造、より好ましくは2〜4重構造のコア/シェ
ル粒子を用いることができる。また塩化銀または塩臭化
銀粒子の表面に臭化銀を局在させる技術も好ましく用い
ることができる。The photosensitive silver halide used in the present invention is not particularly limited in the halogen composition, and silver chloride, silver chlorobromide, silver bromide, silver iodobromide, and silver iodochlorobromide can be used. . The distribution of the halogen composition in the grains may be uniform, the halogen composition may change stepwise, or may change continuously.
Further, silver halide grains having a core / shell structure can be preferably used. The structure is preferably 2
Core / shell particles having a 55-fold structure, more preferably a 2- to 4-fold structure, can be used. A technique for localizing silver bromide on the surface of silver chloride or silver chlorobromide grains can also be preferably used.
【0069】本発明で用いる感光性ハロゲン化銀の形成
方法は当業界ではよく知られており例えば、リサーチデ
ィスクロージャー1978年6月の第17029号、および米国特
許第3,700,458号に記載されている方法を用いることが
できる。本発明で用いることのできる具体的な方法とし
ては、調製された有機銀塩中にハロゲン含有化合物を添
加することにより有機銀塩の銀の一部を感光性ハロゲン
化銀に変換する方法、ゼラチンあるいは他のポリマー溶
液の中に銀供給化合物およびハロゲン供給化合物を添加
することにより感光性ハロゲン化銀粒子を調製し有機銀
塩と混合する方法を用いることができる。本発明におい
て好ましくは後者の方法を用いることができる。感光性
ハロゲン化銀の粒子サイズは、画像形成後の白濁を低く
抑える目的のために小さいことが好ましく具体的には0.
20μm以下、より好ましくは0.01μm以上0.15μm以下、
更に好ましくは0.02μm以上0.12μm以下がよい。ここ
でいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子が立方体ある
いは八面体のいわゆる正常晶である場合にはハロゲン化
銀粒子の稜の長さをいう。また、ハロゲン化銀粒子が平
板状粒子である場合には主表面の投影面積と同面積の円
像に換算したときの直径をいう。その他正常晶でない場
合、例えば球状粒子、棒状粒子等の場合には、ハロゲン
化銀粒子の体積と同等な球を考えたときの直径をいう。The method of forming the photosensitive silver halide used in the present invention is well known in the art, and includes, for example, those described in Research Disclosure No. 17029, June 1978, and US Pat. No. 3,700,458. Can be used. Specific methods that can be used in the present invention include a method of converting a part of the silver of the organic silver salt to a photosensitive silver halide by adding a halogen-containing compound to the prepared organic silver salt, gelatin. Alternatively, a method of preparing a photosensitive silver halide grain by adding a silver supply compound and a halogen supply compound to another polymer solution and mixing the resultant with an organic silver salt can be used. In the present invention, the latter method can be preferably used. The particle size of the photosensitive silver halide is preferably small for the purpose of suppressing the white turbidity after image formation to be low.
20 μm or less, more preferably 0.01 μm or more and 0.15 μm or less,
More preferably, the thickness is 0.02 μm or more and 0.12 μm or less. Here, the grain size means the length of the edge of the silver halide grain when the silver halide grain is a cubic or octahedral so-called normal crystal. In the case where the silver halide grains are tabular grains, the diameter refers to a diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of the main surface. In the case of other than normal crystals, for example, in the case of spherical grains, rod-shaped grains, etc., it refers to the diameter of a sphere equivalent to the volume of silver halide grains.
【0070】ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、
八面体、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ
状粒子等を挙げることができるが、本発明においては特
に立方体状粒子、平板状粒子が好ましい。平板状ハロゲ
ン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は好ましく
は100:1〜2:1、より好ましくは50:1〜3:1がよい。更
に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ま
しく用いることができる。感光性ハロゲン化銀粒子の外
表面の面指数(ミラー指数)については特に制限はない
が、分光増感色素が吸着した場合の分光増感効率が高い
[100]面の占める割合が高いことが好ましい。その割合
としては50%以上が好ましく、65%以上がより好ましく、
80%以上が更に好ましい。ミラー指数[100]面の比率は増
感色素の吸着における[111]面と[100]面との吸着依存性
を利用したT.Tani;J.Imaging Sci.,29、165(1985年)に記
載の方法により求めることができる。The shape of the silver halide grains is cubic,
Octahedral, tabular particles, spherical particles, rod-like particles, potato-like particles and the like can be mentioned. In the present invention, cubic particles and tabular particles are particularly preferable. When tabular silver halide grains are used, the average aspect ratio is preferably 100: 1 to 2: 1, more preferably 50: 1 to 3: 1. Further, grains having rounded corners of silver halide grains can also be preferably used. The surface index (mirror index) of the outer surface of the photosensitive silver halide grain is not particularly limited, but the spectral sensitization efficiency when the spectral sensitizing dye is adsorbed is high.
The proportion occupied by the [100] plane is preferably high. The ratio is preferably 50% or more, more preferably 65% or more,
80% or more is more preferable. The Miller index [100] plane ratio was determined by T. Tani; J. Imaging Sci., 29, 165 (1985), which utilizes the adsorption dependence of [111] and [100] planes on the adsorption of sensitizing dyes. It can be determined by the method described.
【0071】本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀粒
子は、周期律表の第VII族あるいは第VIII族(第7族〜
第10族)の金属または金属錯体を含有することが好ま
しい。周期律表の第VII族あるいは第VIII族の金属また
は金属錯体の中心金属として好ましくはロジウム、レニ
ウム、ルテニウム、オスミウム、イリジウムである。こ
れら金属錯体は1種類でもよいし、同種金属および異種
金属の錯体を2種以上併用してもよい。好ましい含有率
は銀1モルに対し10-9モルから10-2モルの範囲が好
ましく、10-8モルから10-4モルの範囲がより好まし
い。具体的な金属錯体の構造としては特開平7-225449号
等に記載された構造の金属錯体を用いることができる。The photosensitive silver halide grains for use in the present invention are preferably selected from the group VII or VIII (groups 7 to 7) of the periodic table.
It preferably contains a metal of Group 10) or a metal complex. Rhodium, rhenium, ruthenium, osmium and iridium are preferred as the metal of Group VII or VIII of the periodic table or the central metal of the metal complex. One type of these metal complexes may be used, or two or more types of complexes of the same metal and different metals may be used in combination. The preferred content is in the range of 10 -9 mol to 10 -2 mol, preferably 10 -8 mol to 10 -4 mol, per mol of silver. As a specific structure of the metal complex, a metal complex having a structure described in JP-A-7-225449 or the like can be used.
【0072】本発明に好ましく用いられるロジウム化合
物としては、水溶性ロジウム化合物を用いることができ
る。例えば、ハロゲン化ロジウム(III)化合物、また
はロジウム錯塩で配位子としてハロゲン、アミン類、オ
キザラト等を持つもの、例えば、ヘキサクロロロジウム
(III)錯塩、ペンタクロロアコロジウム(III)錯塩、
テトラクロロジアコロジウム(III)錯塩、ヘキサブロ
モロジウム(III)錯塩、ヘキサアンミンロジウム(II
I)錯塩、トリザラトロジウム(III)錯塩等が挙げられ
る。これらのロジウム化合物は、水あるいは適当な溶媒
に溶解して用いられるが、ロジウム化合物の溶液を安定
化させるために一般によく行われる方法、すなわち、ハ
ロゲン化水素水溶液(例えば塩酸、臭酸、フッ化水素酸
等)、あるいはハロゲン化アルカリ(例えばKCl、NaC
l、KBr、NaBr等)を添加する方法を用いることができ
る。水溶性ロジウムを用いる代わりにハロゲン化銀調製
時に、あらかじめロジウムをドープしてある別のハロゲ
ン化銀粒子を添加して溶解させることも可能である。As the rhodium compound preferably used in the present invention, a water-soluble rhodium compound can be used. For example, a rhodium (III) halide compound or a rhodium complex salt having a ligand such as halogen, amines, oxalato, etc., for example, hexachlororhodium (III) complex salt, pentachloroacolodium (III) complex salt,
Tetrachlorodiachodium (III) complex salt, hexabromorhodium (III) complex salt, hexaamminerhodium (II)
I) complex salts and trizalatrodium (III) complex salts. These rhodium compounds are used by dissolving them in water or a suitable solvent. A method generally used for stabilizing a solution of the rhodium compound, that is, an aqueous solution of hydrogen halide (for example, hydrochloric acid, bromic acid, fluoride, etc.) Hydrogen acid, etc.) or alkali halides (eg KCl, NaC
l, KBr, NaBr, etc.) can be used. Instead of using water-soluble rhodium, it is also possible to add and dissolve other silver halide grains doped with rhodium during the preparation of silver halide.
【0073】これらのロジウム化合物の添加量はハロゲ
ン化銀1モル当たり1×10-8モル〜5×10-6モルの
範囲が好ましく、特に好ましくは5×10-8モル〜1×
10 -6モルである。これらの化合物の添加は、ハロゲン
化銀乳剤粒子の製造時および乳剤を塗布する前の各段階
において適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添
加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好まし
い。The amount of these rhodium compounds added is
1 × 10 per mole of silver halide-8Mol to 5 × 10-6Mole of
The range is preferably, particularly preferably 5 × 10-8Mol ~ 1x
10 -6Is a mole. The addition of these compounds is
Steps during the production of silver halide emulsion grains and before coating the emulsion
Can be suitably performed, but in particular,
And preferably incorporated into silver halide grains.
No.
【0074】本発明に好ましく用いられるレニウム、ル
テニウム、オスミウムは特開昭63-2042号、特開平1-2859
41号、同2-20852号、同2-20855号等に記載された水溶性錯
塩の形で添加される。特に好ましいものとして、以下の
式で示される六配位錯体が挙げられる。 [ML6]n- ここでMはRu、Re、またはOsを表し、Lは配位子
を表し、nは0、1、2、3または4を表す。この場
合、対イオンは重要性を持たず、アンモニウムもしくは
アルカリ金属イオンが用いられる。Rhenium, ruthenium and osmium preferably used in the present invention are described in JP-A-63-2042 and JP-A-1-2859.
It is added in the form of a water-soluble complex salt described in JP-A Nos. 41, 2-20852, 2-20855 and the like. Particularly preferred is a six-coordinate complex represented by the following formula. [ML 6 ] n -where M represents Ru, Re, or Os, L represents a ligand, and n represents 0, 1, 2, 3, or 4. In this case, the counter ion is not important and ammonium or alkali metal ions are used.
【0075】また好ましい配位子としてはハロゲン化物
配位子、シアン化物配位子、シアン酸化物配位子、ニト
ロシル配位子、チオニトロシル配位子等が挙げられる。
以下に本発明に用いられる具体的錯体の例を示すが、本
発明はこれに限定されるものではない。Preferred ligands include halide ligands, cyanide ligands, cyanide ligands, nitrosyl ligands, thionitrosyl ligands and the like.
Examples of specific complexes used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
【0076】 [ReCl6]3- [ReBr6]3- [ReCl5(NO)]2- [Re(NS)Br5]2- [Re(NO)(CN)5]2- [Re(O)2(CN)4]3- [RuCl6]3- [RuCl4(H2O)2]- [RuCl5(H2O)]2- [RuCl5(NO)]2- [RuBr5(NS)]2- [Ru(CO)3Cl3]2- [Ru(CO)Cl5]2- [Ru(CO)Br5]2- [OsCl6]3- [OsCl5(NO)]2- [Os(NO)(CN)5]2- [Os(NS)Br5]2- [Os(O)2(CN)4]4- [ReCl 6 ] 3- [ReBr 6 ] 3- [ReCl 5 (NO)] 2- [Re (NS) Br 5 ] 2- [Re (NO) (CN) 5 ] 2- [Re (O ) 2 (CN) 4 ] 3- [RuCl 6 ] 3- [RuCl 4 (H 2 O) 2 ] - [RuCl 5 (H 2 O)] 2- [RuCl 5 (NO)] 2- [RuBr 5 ( NS)] 2- [Ru (CO) 3 Cl 3 ] 2- [Ru (CO) Cl 5 ] 2- [Ru (CO) Br 5 ] 2- [OsCl 6 ] 3- [OsCl 5 (NO)] 2 - [Os (NO) (CN) 5 ] 2- [Os (NS) Br 5 ] 2- [Os (O) 2 (CN) 4 ] 4-
【0077】これらの化合物の添加量はハロゲン化銀1
モル当たり1×10-9モル〜1×10-5モルの範囲が好
ましく、特に好ましくは1×10-8モル〜1×10-6モ
ルである。これらの化合物の添加は、ハロゲン化銀乳剤
粒子の製造時および乳剤を塗布する前の各段階において
適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加し、ハ
ロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。これ
らの化合物をハロゲン化銀の粒子形成中に添加してハロ
ゲン化銀粒子中に組み込むには、金属錯体の粉末もしく
はNaCl、KClと一緒に溶解した水溶液を、粒子形成中の
水溶性塩または水溶性ハライド溶液中に添加しておく方
法、あるいは銀塩とハライド溶液が同時に混合されると
き第3の溶液として添加し、3液同時混合の方法でハロ
ゲン化銀粒子を調製する方法、あるいは粒子形成中に必
要量の金属錯体の水溶液を反応容器に投入する方法など
がある。特に粉末もしくはNaCl、KClと一緒に溶解した
水溶液を、水溶性ハライド溶液に添加する方法が好まし
い。The addition amount of these compounds is 1
It is preferably in the range of 1 × 10 −9 mol to 1 × 10 −5 mol per mol, particularly preferably 1 × 10 −8 mol to 1 × 10 −6 mol. These compounds can be appropriately added at the time of the production of silver halide emulsion grains and at each stage before coating the emulsion, but it is particularly preferable to add them at the time of emulsion formation and incorporate them into the silver halide grains. . In order to add these compounds during silver halide grain formation and incorporate them into silver halide grains, a metal complex powder or an aqueous solution dissolved together with NaCl or KCl is added to a water-soluble salt or a water-soluble salt during grain formation. A method in which silver halide grains are added to a neutral halide solution, or a third solution is added when a silver salt and a halide solution are simultaneously mixed, and silver halide grains are prepared by a three-solution simultaneous mixing method, or a grain formation method. There is a method in which a required amount of an aqueous solution of a metal complex is charged into a reaction vessel. In particular, a method of adding a powder or an aqueous solution dissolved together with NaCl and KCl to a water-soluble halide solution is preferable.
【0078】粒子表面に添加するには、粒子形成直後ま
たは物理熟成時途中もしくは終了時または化学熟成時に
必要量の金属錯体の水溶液を反応容器に投入することも
できる。本発明に好ましく用いられるイリジウム化合物
としては種々のものを使用できるが、例えばヘキサクロ
ロイリジウム、ヘキサアンミンイリジウム、トリオキザ
ラトイリジウム、ヘキサシアノイリジウム、ペンタクロ
ロニトロシルイリジウム等が挙げられる。これらのイリ
ジウム化合物は、水あるいは適当な溶媒に溶解して用い
られるが、イリジウム化合物の溶液を安定化させるため
に一般によく行われる方法、すなわち、ハロゲン化水素
水溶液(例えば塩酸、臭酸、フッ酸等)、あるいはハロ
ゲン化アルカリ(例えばKCl、NaCl、KBr、NaBr等)を添
加する方法を用いることができる。水溶性イリジウムを
用いる代わりにハロゲン化銀調製時に、あらかじめイリ
ジウムをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加し
て溶解させることも可能である。For the addition to the particle surface, a required amount of an aqueous solution of a metal complex can be charged into the reaction vessel immediately after the formation of the particles, during or during physical ripening, or at the time of chemical ripening. Various compounds can be used as the iridium compound preferably used in the present invention, and examples thereof include hexachloroiridium, hexaammineiridium, trioxalatoiridium, hexacyanoiridium, and pentachloronitrosyliridium. These iridium compounds are used after being dissolved in water or a suitable solvent. However, a method generally used for stabilizing a solution of the iridium compound, that is, an aqueous solution of hydrogen halide (for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrofluoric acid) is used. Etc.) or a method of adding an alkali halide (eg, KCl, NaCl, KBr, NaBr, etc.). Instead of using water-soluble iridium, it is also possible to add and dissolve another iridium-doped silver halide grain during silver halide preparation.
【0079】さらに本発明に用いられるハロゲン化銀粒
子に、コバルト、鉄、ニッケル、クロム、パラジウム、
白金、金、タリウム、銅、鉛、等の金属原子を含有して
もよい。コバルト、鉄、クロム、さらにルテニウムの化
合物については六シアノ金属錯体を好ましく用いること
ができる。具体例としては、フェリシアン酸イオン、フ
ェロシアン酸イオン、ヘキサシアノコバルト酸イオン、
ヘキサシアノクロム酸イオン、ヘキサシアノルテニウム
酸イオンなどが挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。ハロゲン化銀中の金属錯体は均一に含有させ
ても、コア部に高濃度に含有させてもよく、あるいはシ
ェル部に高濃度に含有させてもよく特に制限はない。上
記金属はハロゲン化銀1モル当たり1×10-9〜1×1
0-4モルが好ましい。また、上記金属を含有させるには
単塩、複塩、または錯塩の形の金属塩にして粒子調製時
に添加することができる。The silver halide grains used in the present invention may further include cobalt, iron, nickel, chromium, palladium,
It may contain metal atoms such as platinum, gold, thallium, copper and lead. For compounds of cobalt, iron, chromium, and ruthenium, hexacyano metal complexes can be preferably used. Specific examples include ferricyanate ion, ferrocyanate ion, hexacyanocobaltate ion,
Examples include, but are not limited to, hexacyanochromate ions, hexacyanoruthenate ions, and the like. The metal complex in the silver halide may be contained uniformly, may be contained in the core portion at a high concentration, or may be contained in the shell portion at a high concentration, and there is no particular limitation. The metal is 1 × 10 -9 to 1 × 1 per mol of silver halide.
0-4 moles are preferred. Further, in order to contain the above-mentioned metal, a metal salt in the form of a single salt, a double salt or a complex salt can be added at the time of preparing particles.
【0080】感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フ
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができるが本発明においては脱塩
してもしなくてもよい。本発明で用いるハロゲン化銀乳
剤は化学増感されることが好ましい。化学増感の方法と
しては、硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法、貴
金属増感法などの知られている方法を用いることがで
き、単独または組み合わせて用いられる。組み合わせて
使用する場合には、例えば、硫黄増感法と金増感法、硫
黄増感法とセレン増感法と金増感法、硫黄増感法とテル
ル増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン増感法とテル
ル増感法と金増感法などが好ましい。The photosensitive silver halide grains can be desalted by washing with water by a method known in the art such as a noodle method or a flocculation method, but in the present invention, it may or may not be desalted. . The silver halide emulsion used in the present invention is preferably chemically sensitized. As the method of chemical sensitization, known methods such as a sulfur sensitization method, a selenium sensitization method, a tellurium sensitization method, and a noble metal sensitization method can be used, and these are used alone or in combination. When used in combination, for example, sulfur sensitization and gold sensitization, sulfur sensitization and selenium sensitization and gold sensitization, sulfur sensitization and tellurium sensitization and gold sensitization, Sulfur sensitization, selenium sensitization, tellurium sensitization, gold sensitization and the like are preferred.
【0081】本発明に用いられる硫黄増感は、通常、硫
黄増感剤を添加して、40℃以上の高温で乳剤を一定時
間攪拌することにより行われる。硫黄増感剤としては公
知の化合物を使用することができ、例えば、ゼラチン中
に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、例え
ばチオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニン
類等を用いることができる。好ましい硫黄化合物は、チ
オ硫酸塩、チオ尿素化合物である。硫黄増感剤の添加量
は、化学熟成時のpH、温度、ハロゲン化銀粒子の大き
さなどの種々の条件の下で変化するが、ハロゲン化銀1
モル当たり10 -7〜10-2モルであり、より好ましくは
10-5〜10-3モルである。The sulfur sensitization used in the present invention is usually carried out by
Add a yellow sensitizer and keep the emulsion at a high temperature of 40 ° C or more.
It is performed by stirring for a while. Public sulfur sensitizer
Known compounds can be used, for example, in gelatin
In addition to the sulfur compounds contained in, various sulfur compounds, such as
Thiosulfate, thioureas, thiazoles, rhodanine
Can be used. Preferred sulfur compounds are
Osulfates and thiourea compounds. Amount of sulfur sensitizer added
Indicates the pH, temperature, and size of silver halide grains during chemical ripening
Changes under various conditions, such as silver halide.
10 per mole -7-10-2Mole, more preferably
10-Five-10-3Is a mole.
【0082】本発明に用いられるセレン増感剤として
は、公知のセレン化合物を用いることができる。すなわ
ち、通常、不安定型および/または非不安定型セレン化
合物を添加して40℃以上の高温で乳剤を一定時間攪拌
することにより行われる。不安定型セレン化合物として
は特公昭44-15748号、同43-13489号、特開平4-25832号、同
4-109240号、同4-324855号等に記載の化合物を用いるこ
とができる。特に特開平4-324855号中の一般式(VIII)お
よび(IX)で示される化合物を用いることが好ましい。As the selenium sensitizer used in the present invention, known selenium compounds can be used. That is, it is usually carried out by adding an unstable and / or non-unstable selenium compound and stirring the emulsion at a high temperature of 40 ° C. or higher for a certain time. As unstable selenium compounds, JP-B-44-15748, JP-B-43-13489, JP-A-4-25832,
The compounds described in JP-A Nos. 4-109240 and 4-324855 can be used. In particular, it is preferable to use the compounds represented by formulas (VIII) and (IX) in JP-A-4-324855.
【0083】本発明に用いられるテルル増感剤は、ハロ
ゲン化銀粒子表面または内部に、増感核になると推定さ
れるテルル化銀を生成させる化合物である。ハロゲン化
銀乳剤中のテルル化銀生成速度については特開平5-3132
84号に記載の方法で試験することができる。テルル増感
剤としては例えばジアシルテルリド類、ビス(オキシカ
ルボニル)テルリド類、ビス(カルバモイル)テルリド
類、ジアシルテルリド類、ビス(オキシカルボニル)ジテ
ルリド類、ビス(カルバモイル)ジテルリド類、P=Te結合
を有する化合物、テルロカルボン酸塩類、Te−オルガ
ニルテルロカルボン酸エステル類、ジ(ポリ)テルリド
類、テルリド類、テルロール類、テルロアセタール類、
テルロスルホナート類、P-Te結合を有する化合物、含T
eヘテロ環類、テルロカルボニル化合物、無機テルル化
合物、コロイド状テルルなどを用いることができる。具
体的には、米国特許第1,623,499号、同第3,320,069号、同
第3,772,031号、英国特許第235,211号、同第1,121,496号、
同第1,295,462号、同第1,396,696号、カナダ特許第800,9
58号、特開平4-204640号、特開平4−271341号、同
4−333043号、同5−303157号、ジャーナ
ル・オブ・ケミカル・ソサイアティー・ケミカル・コミ
ュニケーション(J.Chem.Soc.Chem.Commun.)635(1980),
ibid 1102(1979),ibid 645(1979)、ジャーナル・オブ
・ケミカル・ソサイアティー・パーキン・トランザクシ
ョン(J.Chem.Soc.Perkin.Trans.) 1,2191(1980)、S.パ
タイ(S.Patai)編、ザ・ケミストリー・オブ・オーガニ
ック・セレニウム・アンド・テルリウム・カンパウンズ
(The Chemistry of Organic Serenium and Tellunium
Compounds),Vol.1(1986)、同 Vol.2(1987)に記載の化合
物を用いることができる。特に特開平5-313284号中の一
般式(II),(III),(IV)で示される化合物が好ましい。The tellurium sensitizer used in the present invention is a compound that forms silver telluride which is presumed to be a sensitizing nucleus on the surface or inside of silver halide grains. The formation rate of silver telluride in a silver halide emulsion is described in JP-A-5-3132.
It can be tested by the method described in No. 84. Examples of tellurium sensitizers include diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) tellurides, bis (carbamoyl) tellurides, diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) ditellurides, bis (carbamoyl) ditellurides, P = Te Compounds having a bond, tellurocarboxylates, Te-organyltellurocarboxylates, di (poly) tellurides, tellurides, tellurols, telluroacetals,
Tellurosulfonates, compounds having a P-Te bond, containing T
e Heterocycles, tellurocarbonyl compounds, inorganic tellurium compounds, colloidal tellurium, and the like can be used. Specifically, U.S. Patent Nos. 1,623,499, 3,320,069, 3,772,031, UK Patent 235,211 and 1,121,496,
No. 1,295,462, No. 1,396,696, Canadian Patent 800,9
No. 58, JP-A-4-204640, JP-A-4-273341, JP-A-4-330343, JP-A-5-303157, Journal of Chemical Society Chemical Communication (J. Chem. Soc. Chem. Commun. .) 635 (1980),
ibid 1102 (1979), ibid 645 (1979), Journal of Chemical Society Parkin Transaction (J. Chem. Soc. Perkin. Trans.) 1, 2191 (1980), S. Patai Ed., The Chemistry of Organic Serenium and Tellunium
Compounds), Vol. 1 (1986) and the compounds described in Vol. 2 (1987) can be used. In particular, compounds represented by formulas (II), (III) and (IV) in JP-A-5-313284 are preferred.
【0084】本発明で用いられるセレンおよびテルル増
感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成
条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀1モル当
たり10-8〜10-2モル、好ましくは10-7〜10-3モ
ル程度を用いる。本発明における化学増感の条件として
は特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAgとし
ては6〜11、好ましくは7〜10であり、温度として
は40〜95℃、好ましくは45〜85℃である。本発
明に用いられる貴金属増感剤としては、金、白金、パラ
ジウム、イリジウム等が挙げられるが、特に金増感が好
ましい。本発明に用いられる金増感剤としては具体的に
は、塩化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウムオ
ーリチオシアネート、硫化金などが挙げられ、ハロゲン
化銀1モル当たり10-7〜10-2モル程度を用いること
ができる。[0084] The amount of the selenium and tellurium sensitizers used in the present invention, the silver halide grains to be used, but the chemical ripening condition and the like and, generally, per mol of silver halide 10 -8 to 10 -2 mol, Preferably, about 10 -7 to 10 -3 mol is used. The conditions of the chemical sensitization in the present invention are not particularly limited, but the pH is 5 to 8, the pAg is 6 to 11, preferably 7 to 10, and the temperature is 40 to 95 ° C, preferably 45 to 45 ° C. 85 ° C. Examples of the noble metal sensitizer used in the present invention include gold, platinum, palladium, and iridium, and gold sensitization is particularly preferable. Specific examples of the gold sensitizer used in the present invention include chloroauric acid, potassium chloroaurate, potassium aurithiocyanate, and gold sulfide, and 10 -7 to 10 -2 mol per mol of silver halide. Degrees can be used.
【0085】本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロ
ゲン化銀粒子の形成または物理熟成の過程においてカド
ミウム塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させ
てもよい。本発明においては、還元増感を用いることが
できる。還元増感法の具体的な化合物としてはアスコル
ビン酸、二酸化チオ尿素の他に例えば、塩化第一スズ、
アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導体、
ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用
いることができる。また、乳剤のpHを7以上またはpAgを
8.3以下に保持して熟成することにより還元増感するこ
とができる。また、粒子形成中に銀イオンのシングルア
ディション部分を導入することにより還元増感すること
ができる。本発明で用いるハロゲン化銀乳剤は、欧州公
開特許EP293,917号に示される方法により、チオスルホ
ン酸化合物を添加してもよい。In the silver halide emulsion used in the present invention, a cadmium salt, a sulfite, a lead salt, a thallium salt, and the like may be coexistent during the formation of silver halide grains or physical ripening. In the present invention, reduction sensitization can be used. Specific compounds of the reduction sensitization method include, as well as ascorbic acid, thiourea dioxide, for example, stannous chloride,
Aminoiminomethanesulfinic acid, hydrazine derivatives,
Borane compounds, silane compounds, polyamine compounds and the like can be used. Also, adjust the pH of the emulsion to 7 or more or pAg.
Reduction sensitization can be achieved by ripening while keeping the temperature at 8.3 or less. Further, reduction sensitization can be achieved by introducing a single addition portion of silver ion during grain formation. To the silver halide emulsion used in the present invention, a thiosulfonic acid compound may be added by the method described in EP 293,917.
【0086】本発明に用いられる画像形成材料中のハロ
ゲン化銀乳剤は、一種だけでもよいし、二種以上(例え
ば、平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異な
るもの、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なるも
の)併用してもよい。感光性ハロゲン化銀の使用量とし
ては有機銀塩1モルに対して感光性ハロゲン化銀0.01モ
ル以上0.5モル以下が好ましく、0.02モル以上0.3モル以
下がより好ましく、0.03モル以上0.25モル以下が特に好
ましい。別々に調製した感光性ハロゲン化銀と有機銀塩
の混合方法および混合条件については、それぞれ調製終
了したハロゲン化銀粒子と有機銀塩を高速撹拌機やボー
ルミル、サンドミル、コロイドミル、振動ミル、ホモジ
ナイザー等で混合する方法や、あるいは有機銀塩の調製
中のいずれかのタイミングで調製終了した感光性ハロゲ
ン化銀を混合して有機銀塩を調製する方法等があるが、
本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限は
ない。The silver halide emulsion in the image forming material used in the present invention may be only one kind or two or more kinds (for example, those having different average grain sizes, those having different halogen compositions, those having different crystal habits, Those having different conditions of chemical sensitization) may be used together. The amount of the photosensitive silver halide to be used is preferably 0.01 mol or more and 0.5 mol or less, more preferably 0.02 mol or more and 0.3 mol or less, particularly preferably 0.03 mol or more and 0.25 mol or less, based on 1 mol of the organic silver salt. preferable. Regarding the mixing method and mixing conditions of the separately prepared photosensitive silver halide and organic silver salt, the prepared silver halide particles and the organic silver salt were mixed with a high-speed stirrer, ball mill, sand mill, colloid mill, vibration mill, homogenizer, etc. And the like, or a method of preparing an organic silver salt by mixing photosensitive silver halide prepared at any timing during the preparation of the organic silver salt, and the like,
There is no particular limitation as long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited.
【0087】本発明の熱現像画像形成材料において還元
可能な銀塩として用いることのできる有機銀塩は、光に
対して比較的安定であるが、露光された光触媒(感光性
ハロゲン化銀の潜像など)および還元剤の存在下で、80
℃あるいはそれ以上に加熱された場合に銀画像を形成す
る銀塩である。有機銀塩は銀イオンを還元できる源を含
む任意の有機物質であってよい。有機酸の銀塩、特に
(炭素数が10〜30、好ましくは15〜28の)長鎖脂肪カルボ
ン酸の銀塩が好ましい。配位子が4.0〜10.0の範囲の錯
安定度定数を有する有機または無機銀塩の錯体も好まし
い。銀供給物質は、好ましくは画像形成層の約5〜70重
量%を構成することができる。好ましい有機銀塩はカル
ボキシル基を有する有機化合物の銀塩を含む。これらの
例は、脂肪族カルボン酸の銀塩および芳香族カルボン酸
の銀塩を含むがこれらに限定されることはない。脂肪族
カルボン酸の銀塩の好ましい例としては、ベヘン酸銀、
アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウ
リン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン
酸銀、マレイン酸銀、フマル酸銀、酒石酸銀、リノール
酸銀、酪酸銀および樟脳酸銀、これらの混合物などを含
む。The organic silver salt which can be used as the reducible silver salt in the heat-developable image-forming material of the present invention is relatively stable to light, but is exposed to an exposed photocatalyst (a latent silver halide). Image) and in the presence of a reducing agent, 80
It is a silver salt that forms a silver image when heated to a temperature of ℃ or more. The organic silver salt can be any organic substance including a source capable of reducing silver ions. Silver salts of organic acids, especially
Silver salts of long chain fatty carboxylic acids (with 10-30, preferably 15-28 carbon atoms) are preferred. Also preferred are complexes of organic or inorganic silver salts wherein the ligand has a complex stability constant in the range of 4.0 to 10.0. The silver donor material can preferably make up about 5-70% by weight of the imaging layer. Preferred organic silver salts include silver salts of organic compounds having a carboxyl group. Examples of these include, but are not limited to, silver salts of aliphatic carboxylic acids and silver salts of aromatic carboxylic acids. Preferred examples of the silver salt of an aliphatic carboxylic acid include silver behenate,
Silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, silver maleate, silver fumarate, silver tartrate, silver linoleate, silver butyrate and silver camphorate, And mixtures thereof.
【0088】メルカプト基またはチオン基を含む化合物
の銀塩およびこれらの誘導体を使用することもできる。
これらの化合物の好ましい例としては、3-メルカプト-4
-フェニル-1,2,4-トリアゾールの銀塩、2-メルカプトベ
ンズイミダゾールの銀塩、2-メルカプト-5-アミノチア
ジアゾールの銀塩、2-(エチルグリコールアミド)ベン
ゾチアゾールの銀塩、S-アルキルチオグリコール酸(こ
こでアルキル基の炭素数は12〜22である)の銀塩などの
チオグリコール酸の銀塩、ジチオ酢酸の銀塩などのジチ
オカルボン酸の銀塩、チオアミドの銀塩、5-カルボキシ
ル-1-メチル-2-フェニル-4-チオピリジンの銀塩、メル
カプトトリアジンの銀塩、2-メルカプトベンズオキサゾ
ールの銀塩、米国特許第4,123,274号に記載の銀塩、例
えば3-アミノ-5-ベンジルチオ-1,2,4-チアゾールの銀塩
などの1,2,4-メルカプトチアゾール誘導体の銀塩、米国
特許第3,301,678号に記載の3-(3-カルボキシエチル)-4-
メチル-4-チアゾリン-2-チオンの銀塩などのチオン化合
物の銀塩を含む。さらに、イミノ基を含む化合物も使用
することができる。これらの化合物の好ましい例として
は、ベンゾトリアゾールの銀塩およびそれらの誘導体、
例えばメチルベンゾトリアゾール銀などのベンゾトリア
ゾールの銀塩、5-クロロベンゾトリアゾール銀などのハ
ロゲン置換ベンゾトリアゾールの銀塩、米国特許第4,22
0,709号に記載のような1,2,4-トリアゾールまたは1-H-
テトラゾールの銀塩、イミダゾールおよびイミダゾール
誘導体の銀塩などを含む。例えば、米国特許第4,761,36
1号および同第4,775,613号に記載のような種々の銀アセ
チリド化合物をも使用することもできる。A silver salt of a compound containing a mercapto group or a thione group and derivatives thereof can also be used.
Preferred examples of these compounds include 3-mercapto-4
-Phenyl-1,2,4-triazole silver salt, 2-mercaptobenzimidazole silver salt, 2-mercapto-5-aminothiadiazole silver salt, 2- (ethylglycolamide) benzothiazole silver salt, S- Silver salts of thioglycolic acid such as silver salts of alkylthioglycolic acid (where the alkyl group has 12 to 22 carbon atoms), silver salts of dithiocarboxylic acids such as silver salts of dithioacetic acid, silver salts of thioamides, 5 -Carboxyl-1-methyl-2-phenyl-4-thiopyridine silver salt, mercaptotriazine silver salt, 2-mercaptobenzoxazole silver salt, silver salts described in U.S. Pat.No.4,123,274, for example, 3-amino-5 Silver salts of 1,2,4-mercaptothiazole derivatives such as -benzylthio-1,2,4-thiazole silver salt, 3- (3-carboxyethyl) -4- described in U.S. Pat.No. 3,301,678
Includes silver salts of thione compounds such as silver salt of methyl-4-thiazoline-2-thione. Furthermore, compounds containing an imino group can also be used. Preferred examples of these compounds include silver salts of benzotriazole and derivatives thereof,
For example, silver salts of benzotriazole such as silver methylbenzotriazole, silver salts of halogen-substituted benzotriazole such as silver 5-chlorobenzotriazole, U.S. Pat.
0,709 1,2,4-triazole or 1-H-
Includes silver salts of tetrazole, silver salts of imidazole and imidazole derivatives, and the like. For example, U.S. Pat.
Various silver acetylide compounds as described in No. 1 and 4,775,613 can also be used.
【0089】本発明に用いることができる有機銀塩の形
状としては特に制限はないが、短軸と長軸を有する針状
結晶が好ましい。本発明においては短軸0.01μm以上0.2
0μm以下、長軸0.10μm以上5.0μm以下が好ましく、短
軸0.01μm以上0.15μm以下、長軸0.10μm以上4.0μm以
下がより好ましい。有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散
であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれ
の長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の百
分率が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、
更に好ましくは50%以下である。有機銀塩の形状の測定
方法としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より
求めることができる。単分散性を測定する別の方法とし
て、有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差を求める方
法があり、体積加重平均直径で割った値の百分率(変動
係数)が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、
更に好ましくは50%以下である。測定方法としては例え
ば液中に分散した有機銀塩にレーザー光を照射し、その
散乱光のゆらぎの時間変化に対する自己相関関数を求め
ることにより得られた粒子サイズ(体積加重平均直径)か
ら求めることができる。The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, but a needle crystal having a short axis and a long axis is preferable. In the present invention, the minor axis is 0.01 μm or more and 0.2 μm or more.
0 μm or less, major axis of 0.10 μm or more and 5.0 μm or less, minor axis of 0.01 μm or more and 0.15 μm or less, and major axis of 0.10 μm or more and 4.0 μm or less are more preferred. The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodisperse and the minor axis, the percentage of the value obtained by dividing the standard deviation of the length of each major axis by each minor axis, major axis is preferably 100% or less, more preferably 80% or less,
More preferably, it is 50% or less. The shape of the organic silver salt can be measured from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method of measuring the monodispersity, there is a method of determining the standard deviation of the volume-weighted average diameter of the organic silver salt, the percentage of the value divided by the volume-weighted average diameter (coefficient of variation) is preferably 100% or less, more Preferably 80% or less,
More preferably, it is 50% or less. As a measuring method, for example, the particle size (volume weighted average diameter) obtained by irradiating a laser beam to an organic silver salt dispersed in a liquid and obtaining an autocorrelation function with respect to a time change of fluctuation of the scattered light is obtained. Can be.
【0090】本発明に用いることのできる有機銀塩は、
好ましくは脱塩をすることができる。脱塩を行う方法と
しては特に制限はなく公知の方法を用いることができる
が、遠心濾過、吸引濾過、限外濾過、凝集法によるフロ
ック形成水洗等の公知の濾過方法を好ましく用いること
ができる。本発明では、高S/Nで、粒子サイズが小さ
く、凝集のない有機銀塩固体分散物を得る目的で、画像
形成媒体である有機銀塩を含み、かつ感光性銀塩を実質
的に含まない水分散液を高速流に変換した後、圧力降下
させる分散法を用いることが好ましい。そして、このよ
うな工程を経た後に、感光性銀塩水溶液と混合して感光
性画像形成媒体塗布液を製造する。このような塗布液を
用いて熱現像画像形成材料を作製するとヘイズが低く、
低カブリで高感度の熱現像画像形成材料が得られる。こ
れに対し、高圧、高速流に変換して分散する時に、感光
性銀塩を共存させると、カブリが上昇し、感度が著しく
低下しやすくなる。また、分散媒として水ではなく、有
機溶剤を用いると、ヘイズが高くなり、カブリが上昇
し、感度が低下しやすくなる。一方、感光性銀塩水溶液
を混合する方法にかえて、分散液中の有機銀塩の一部を
感光性銀塩に変換するコンバージョン法を用いると感度
が低下しやすくなる。上記において、高圧、高速化に変
換して分散される水分散液は、実質的に感光性銀塩を含
まないものであり、その含有量は非感光性の有機銀塩に
対して0.1モル%以下であり、積極的な感光性銀塩の添加
は行わないものである。The organic silver salt that can be used in the present invention includes:
Preferably, desalting can be performed. The method for desalting is not particularly limited, and a known method can be used. However, a known filtration method such as centrifugal filtration, suction filtration, ultrafiltration, or floc-forming water washing by a coagulation method can be preferably used. In the present invention, for the purpose of obtaining an organic silver salt solid dispersion having a high S / N, a small particle size, and no aggregation, the organic silver salt containing an image forming medium is contained, and the photosensitive silver salt is substantially contained. It is preferable to use a dispersion method in which an aqueous dispersion is converted into a high-speed stream and then the pressure is reduced. After passing through such a process, the mixture is mixed with a photosensitive silver salt aqueous solution to produce a photosensitive image forming medium coating solution. When a heat-developable image forming material is prepared using such a coating liquid, haze is low,
A low-fogging and high-sensitivity heat-developable image forming material can be obtained. On the other hand, when the photosensitive silver salt is coexistent when the light is converted into a high-pressure and high-speed flow and dispersed, the fog increases and the sensitivity is liable to decrease remarkably. When an organic solvent is used instead of water as a dispersion medium, haze increases, fog increases, and sensitivity tends to decrease. On the other hand, when a conversion method for converting a part of the organic silver salt in the dispersion liquid to the photosensitive silver salt is used instead of the method of mixing the aqueous solution of the photosensitive silver salt, the sensitivity tends to be lowered. In the above, the high pressure, the aqueous dispersion is dispersed and converted to high speed, is substantially free of photosensitive silver salt, the content is 0.1 mol% based on the non-photosensitive organic silver salt In the following, the photosensitive silver salt was not positively added.
【0091】本発明において、上記のような分散法を実
施するのに用いられる固体分散装置およびその技術につ
いては、例えば『分散系レオロジーと分散化技術』(梶
内俊夫、薄井洋基 著、1991、信山社出版(株)、p357
〜p403)、『化学工学の進歩第24集』(社団法人 化学
工学会東海支部 編、1990、槙書店、p184〜p185)、
等に詳しいが、本発明での分散法は、少なくとも有機銀
塩を含む水分散物を高圧ポンプ等で加圧して配管内に送
入した後、配管内に設けられた細いスリットを通過さ
せ、この後に分散液に急激な圧力低下を生じさせること
により微細な分散を行う方法である。本発明が関連する
高圧ホモジナイザーについては、一般には、(a)分散質
が狭間隙を高圧、高速で通過する際に生じる『剪断
力』、(b)分散質が高圧下から常圧に解放される際に生
じる『キャビテーション力』、等の分散力によって微細
な粒子への分散が行われると考えられている。この種の
分散装置としては、古くはゴーリンホモジナイザーが挙
げられるが、この装置では高圧で送られた被分散液が円
柱面上の狭い間隙で、高速流に変換され、その勢いで周
囲の壁面に衝突し、その衝撃力で乳化・分散が行われ
る。使用圧力は一般には100〜600kg/cm2、流速は数m〜3
0m/秒の範囲であり、分散効率を上げるために高流速部
を鋸刃状にし衝突回数を増やすなどの工夫を施したもの
も考案されている。これに対して、近年更に高圧、高流
速での分散が可能となる装置が開発されてきており、そ
の代表例としてはマイクロフルイダイザー(マイクロフ
ルイデックス・インターナショナル・コーポレーション
社)、ナノマイザー(特殊機化工業(株))などが挙げ
られる。In the present invention, the solid dispersion apparatus and the technique used for carrying out the dispersion method as described above are described in, for example, “Dispersion Rheology and Dispersion Technique” (Toshio Kajiuchi and Hiroki Usui, 1991, Shinzansha Publishing Co., Ltd., p357
-P403), "The 24th Progress of Chemical Engineering", edited by The Society of Chemical Engineers, Tokai Branch, 1990, Maki Shoten, p184-p185),
Although detailed in the dispersing method of the present invention, the aqueous dispersion containing at least an organic silver salt is pressurized by a high-pressure pump or the like and sent into a pipe, and then passed through a narrow slit provided in the pipe, Thereafter, the dispersion is finely dispersed by causing an abrupt pressure drop in the dispersion. As for the high-pressure homogenizer to which the present invention is related, generally, (a) the dispersoid is released at a normal pressure from a high pressure under a high pressure, and `` shearing force '' generated when the dispersoid passes through a narrow gap at a high speed. It is considered that the particles are dispersed into fine particles by a dispersing force such as “cavitation force” generated when the particles are dispersed. As an example of this type of dispersing apparatus, a Gaulin homogenizer is mentioned in the past.In this apparatus, the liquid to be dispersed sent at a high pressure is converted into a high-speed flow through a narrow gap on a cylindrical surface, and the force is applied to the surrounding wall by the force. The particles collide and are emulsified and dispersed by the impact force. Operating pressure is generally 100~600kg / cm 2, the number is the flow velocity m~3
It is in the range of 0 m / sec, and in order to increase the dispersion efficiency, a device in which the high flow rate portion is saw-toothed and the number of collisions is increased has been devised. On the other hand, in recent years, apparatuses capable of dispersing at higher pressure and higher flow rate have been developed, and typical examples thereof include a microfluidizer (Microfluidex International Corporation) and a nanomizer (specialized machine). Industrial Co., Ltd.).
【0092】本発明に適した分散装置としては、マイク
ロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーシ
ョン社製マイクロフルイダイザーM−110S−EH
(G10Zインターラクションチャンバー付き)、M−
110Y(H10Zインターラクションチャンバー付
き)、M−140K(G10Zインターラクションチャ
ンバー付き)、HC−5000(L30ZまたはH23
0Zインターラクションチャンバー付き),HC−80
00(E230ZまたはL30Zインターラクションチ
ャンバー付き)等が挙げられる。これらの装置を用い、
少なくとも有機銀塩を含む水分散液を高圧ポンプ等で加
圧して配管内に送入した後、配管内に設けられた細いス
リットを通過させることにより所望の圧力を印加し、こ
の後に配管内の圧力を大気圧に急速に戻す等の方法で分
散液に急激な圧力降下を生じさせることにより本発明に
最適な有機銀塩分散物を得ることが可能である。As a dispersing apparatus suitable for the present invention, a microfluidizer M-110S-EH manufactured by Microfluidics International Corporation is used.
(With G10Z interaction chamber), M-
110Y (with H10Z interaction chamber), M-140K (with G10Z interaction chamber), HC-5000 (L30Z or H23
With 0Z interaction chamber), HC-80
00 (with an E230Z or L30Z interaction chamber) and the like. Using these devices,
After the aqueous dispersion containing at least the organic silver salt is pressurized by a high-pressure pump or the like and sent into the pipe, a desired pressure is applied by passing through a narrow slit provided in the pipe, and thereafter, the inside of the pipe is It is possible to obtain an optimal organic silver salt dispersion for the present invention by causing a rapid pressure drop in the dispersion by, for example, rapidly returning the pressure to the atmospheric pressure.
【0093】有機銀塩分散においては、流速、圧力降下
時の差圧と処理回数の調節によって所望の粒子サイズに
分散することが可能であるが、写真特性と粒子サイズの
点から、流速が200m/秒〜600m/秒、圧力降下時の差圧が
900〜3000kg/cm2の範囲が好ましく、流速が300m/秒〜60
0m/秒、圧力降下時の差圧が1500〜3000kg/cm2の範囲で
あることが更に好ましい。分散処理回数は必要に応じて
選択でき、通常は1回〜10回の処理回数が選ばれるが、
生産性の点からは1回〜3回程度の処理回数が選ばれる。
高圧下でこのような水分散液を高温にすることは、分散
性、写真特性の点から好ましくなく、90℃を越えるよう
な高温では粒子サイズが大きくなりやすくなると共に、
カブリが高くなる傾向がある。従って、本発明では前記
の高圧、高流速に変換する前の工程もしくは、圧力降下
させた後の工程、あるいはこれらの両工程に冷却工程を
含み、このような水分散の温度が冷却工程により5〜90
℃の範囲に保たれていることが好ましく、更に好ましく
は5〜80℃の範囲、特に5〜65℃の範囲に保たれているこ
とが好ましい。特に、1500〜3000kg/cm2範囲の高圧の分
散時には前記の冷却工程を設置することが有効である。
冷却器は、その所要熱交換量に応じて、二重管や二重管
にスタチックミキサーを使用したもの、多管式熱交換
器、蛇管式熱交換器等を適宜選択することができる。ま
た、熱交換の効率を上げるために、使用圧力を考慮し
て、管の太さ、肉厚や材質など好適なものを選べばよ
い。冷却器に使用する冷媒は、熱交換量から、20℃の井
水や冷凍機で処理した5〜10℃の冷水、また必要に応じ
て-30℃のエチレングリコール/水等の冷媒を使用するこ
ともできる。In the dispersion of an organic silver salt, it is possible to disperse a desired particle size by adjusting the flow rate, the differential pressure at the time of pressure drop, and the number of treatments. / Sec to 600m / sec, the differential pressure during pressure drop
Is preferably in the range of 900~3000kg / cm 2, the flow rate is 300 meters / sec to 60
More preferably, the pressure difference at the time of 0 m / sec and the pressure drop is in the range of 1500 to 3000 kg / cm 2 . The number of times of distributed processing can be selected as needed, and usually 1 to 10 times of processing is selected,
From the viewpoint of productivity, the number of treatments is selected from about 1 to 3 times.
High temperature of such an aqueous dispersion under high pressure is not preferable from the viewpoint of dispersibility and photographic properties, and at a high temperature such as exceeding 90 ° C., the particle size tends to increase,
Fog tends to be high. Therefore, in the present invention, the step before the conversion to the high pressure and high flow rate, the step after the pressure is reduced, or both of these steps include a cooling step, and the temperature of such water dispersion is reduced by the cooling step. ~ 90
C. It is preferably maintained in the range of 5 ° C., more preferably in the range of 5 to 80 ° C., particularly preferably in the range of 5 to 65 ° C. In particular, it is effective to provide the above cooling step at the time of high-pressure dispersion in the range of 1500 to 3000 kg / cm 2 .
As the cooler, a double tube, a double tube using a static mixer, a multi-tube heat exchanger, a coiled tube heat exchanger, or the like can be appropriately selected according to the required heat exchange amount. Further, in order to increase the efficiency of heat exchange, it is sufficient to select a suitable one such as a pipe thickness, a wall thickness and a material in consideration of a working pressure. As the refrigerant used for the cooler, use 20 ° C well water, 5-10 ° C cold water treated with a refrigerator, and, if necessary, -30 ° C ethylene glycol / water refrigerant, etc., based on the heat exchange amount. You can also.
【0094】分散操作では、水性溶媒可溶な分散剤(分
散助剤)の存在下で有機銀塩を分散することが好まし
い。分散助剤としては、例えば、ポリアクリル酸、アク
リル酸の共重合体、マレイン酸共重合体、マレイン酸モ
ノエステル共重合体、アクリロメチルプロパンスルホン
酸共重合体などの合成アニオンポリマー、カルボキシメ
チルデンプン、カルボキシメチルセルロースなどの半合
成アニオンポリマー、アルギン酸、ペクチン酸などのア
ニオン性ポリマー、特開平7-350753号に記載の化合物、
あるいは公知のアニオン性、ノニオン性、カチオン性界
面活性剤やその他のポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシ
プロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロ
ース等の公知のポリマー、あるいはゼラチン等の自然界
に存在する高分子化合物を適宜選択して用いることがで
きるが、ポリビニルアルコール類、水溶性のセルロース
誘導体が特に好ましい。In the dispersion operation, it is preferable to disperse the organic silver salt in the presence of an aqueous solvent-soluble dispersant (dispersion aid). Examples of the dispersing agent include polyacrylic acid, a copolymer of acrylic acid, a maleic acid copolymer, a maleic acid monoester copolymer, a synthetic anionic polymer such as an acrylomethylpropanesulfonic acid copolymer, and carboxymethyl. Starch, semi-synthetic anionic polymer such as carboxymethyl cellulose, alginic acid, anionic polymer such as pectic acid, the compound described in JP-A-7-350753,
Alternatively, known anionic, nonionic, cationic surfactants and other known polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, carboxymethylcellulose, hydroxypropylcellulose, and hydroxypropylmethylcellulose, or naturally occurring polymer compounds such as gelatin Can be appropriately selected and used, but polyvinyl alcohols and water-soluble cellulose derivatives are particularly preferred.
【0095】分散助剤は、分散前に有機銀塩の粉末また
はウェットケーキ状態の有機銀塩と混合し、スラリーと
して分散機に送り込むのは一般的な方法であるが、予め
有機銀塩と混ぜ合わせた状態で熱処理や溶媒による処理
を施して有機銀塩粉末またはウェットケーキとしてもよ
い。分散前後または分散中に適当なpH調整剤によりpHコ
ントロールしてもよい。機械的に分散する以外にも、pH
コントロールすることで溶媒中に粗分散し、その後、分
散助剤の存在下でpHを変化させて微粒子化させてもよ
い。このとき、粗分散に用いる溶媒として有機溶媒を使
用してもよく、通常有機溶媒は微粒子化終了後除去され
る。調製された分散物は、保存時の微粒子の沈降を抑え
る目的で撹拌しながら保存したり、親水性コロイドによ
り粘性の高い状態(例えば、ゼラチンを使用しゼリー状
にした状態)で保存したりすることもできる。また、保
存時の雑菌などの繁殖を防止する目的で防腐剤を添加す
ることもできる。有機銀塩は所望の量で使用できるが、
画像形成材料1m2当たりの塗布量で示して、銀量として
0.1〜5g/m2が好ましく、さらに好ましくは1〜3g/m2であ
る。It is a general method that the dispersing agent is mixed with the organic silver salt powder or the organic silver salt in a wet cake state before the dispersion and then sent as a slurry to the dispersing machine. Heat treatment or treatment with a solvent may be performed in the combined state to obtain an organic silver salt powder or a wet cake. The pH may be controlled by a suitable pH adjuster before, during or after dispersion. In addition to mechanical dispersion, pH
By performing control, the particles may be roughly dispersed in a solvent, and then the pH may be changed in the presence of a dispersing agent to form fine particles. At this time, an organic solvent may be used as a solvent used for the coarse dispersion, and the organic solvent is usually removed after completion of the fine particle formation. The prepared dispersion is stored with stirring for the purpose of suppressing sedimentation of fine particles during storage, or stored in a highly viscous state by a hydrophilic colloid (for example, in a jelly state using gelatin). You can also. Further, a preservative can be added for the purpose of preventing the propagation of various bacteria during storage. The organic silver salt can be used in any desired amount,
Indicates the coating amount per image forming material 1 m 2, as silver
Preferably 0.1-5 g / m 2, more preferably from 1 to 3 g / m 2.
【0096】画像を向上させる「色調剤」として知られ
る添加剤を含むと光学濃度が高くなることがある。ま
た、色調剤は黒色銀画像を形成させる上でも有利になる
ことがある。色調剤は画像形成層を有する面に銀1モル
当たりの0.1〜50%(モル)の量含まれることが好まし
く、0.5〜20%(モル)含まれることがさらに好ましい。
また、色調剤は現像時のみ有効に機能を持つように誘導
化されたいわゆるプレカーサーであってもよい。When an additive known as a "toning agent" for improving an image is included, the optical density may be increased. Toning agents may also be advantageous in forming black silver images. The toning agent is preferably contained in an amount of 0.1 to 50% (mole) per mole of silver on the surface having the image forming layer, and more preferably 0.5 to 20% (mole).
Further, the toning agent may be a so-called precursor which is derivatized so as to have a function effectively only during development.
【0097】有機銀塩を利用した熱現像画像形成材料に
おいては広範囲の色調剤が特開昭46-6077号、同47-1028
2号、同49-5019号、同49-5020号、同49-91215号、同49-
91215号、同50-2524号、同50-32927号、同50-67132号、
同50-67641号、同50-114217号、同51-3223号、同51-279
23号、同52-14788号、同52-99813号、同53-1020号、同5
3-76020号、同54-156524号、同54-156525号、同61-1836
42号、特開平4-56848号、特公昭49-10727号、同54-2033
3号、米国特許3,080,254号、同3,446,648号、同3,782,9
41号、同4,123,282号、同4,510,236号、英国特許138079
5号、ベルギー特許841910号などに開示されている。色
調剤の例は、フタルイミドおよびN-ヒドロキシフタルイ
ミド;スクシンイミド、ピラゾリン-5-オン、ならびに
キナゾリノン、3-フェニル-2-ピラゾリン-5-オン、1-フ
ェニルウラゾール、キナゾリンおよび2,4-チアゾリジン
ジオンのような環状イミド;ナフタルイミド(例えば、N
-ヒドロキシ-1,8-ナフタルイミド);コバルト錯体(例え
ば、コバルトヘキサミントリフルオロアセテート);3-
メルカプト-1,2,4-トリアゾール、2,4-ジメルカプトピ
リミジン、3-メルカプト-4,5-ジフェニル-1,2,4-トリア
ゾールおよび2,5-ジメルカプト-1,3,4-チアジアゾール
に例示されるメルカプタン;N-(アミノメチル)アリール
ジカルボキシイミド、(例えば、(N,N-ジメチルアミノメ
チル)フタルイミドおよびN,N-(ジメチルアミノメチル)-
ナフタレン-2,3-ジカルボキシイミド);ならびにブロッ
ク化ピラゾール、イソチウロニウム誘導体およびある種
の光退色剤(例えば、N,N'-ヘキサメチレンビス(1-カル
バモイル-3,5-ジメチルピラゾール)、1,8-(3,6-ジアザ
オクタン)ビス(イソチウロニウムトリフルオロアセテー
ト)および2-トリブロモメチルスルホニル-(ベンゾチア
ゾール));ならびに3-エチル-5[(3-エチル-2-ベンゾチ
アゾリニリデン)-1-メチルエチリデン]-2-チオ-2,4-オ
キサゾリジンジオン;フタラジノン、フタラジノン誘導
体もしくは金属塩、または4-(1-ナフチル)フタラジノ
ン、6-クロロフタラジノン、5,7-ジメトキシフタラジノ
ンおよび2,3-ジヒドロ-1,4-フタラジンジオンなどの誘
導体;フタラジノンとフタル酸誘導体(例えば、フタル
酸、4-メチルフタル酸、4-ニトロフタル酸およびテトラ
クロロ無水フタル酸など)との組合せ;フタラジン、フ
タラジン誘導体(例えば、4-(1-ナフチル)フタラジン、6
-クロロフタラジン、5,7-ジメトキシフタラジン、6-iso
-ブチルフタラジン、6-tert-ブチルフタラジン、5,7-ジ
メチルフタラジン、および2,3-ジヒドロフタラジンなど
の誘導体)もしくは金属塩;フタラジンおよびその誘導
体とフタル酸誘導体(例えば、フタル酸、4-メチルフタ
ル酸、4-ニトロフタル酸およびテトラクロロ無水フタル
酸など)との組合せ;キナゾリンジオン、ベンズオキサ
ジンまたはナフトオキサジン誘導体;色調調節剤として
だけでなくその場でハロゲン化銀生成のためのハライド
イオンの源としても機能するロジウム錯体、例えばヘキ
サクロロロジウム(III)酸アンモニウム、臭化ロジウ
ム、硝酸ロジウムおよびヘキサクロロロジウム(III)酸
カリウムなど;無機過酸化物および過硫酸塩、例えば、
過酸化二硫化アンモニウムおよび過酸化水素;1,3-ベン
ズオキサジン-2,4-ジオン、8-メチル-1,3-ベンズオキ
サジン-2,4-ジオンおよび6-ニトロ-1,3-ベンズオキサジ
ン-2,4-ジオンなどのベンズオキサジン-2,4-ジオン;ピ
リミジンおよび不斉-トリアジン(例えば、2,4-ジヒドロ
キシピリミジン、2-ヒドロキシ-4-アミノピリミジンな
ど)、アザウラシル、およびテトラアザペンタレン誘導
体(例えば、3,6-ジメルカプト-1,4-ジフェニル-1H,4H-
2,3a,5,6a-テトラアザペンタレン、および1,4-ジ(o-ク
ロロフェニル)-3,6-ジメルカプト-1H,4H-2,3a,5,6a-テ
トラアザペンタレン)などがある。In a heat-developable image forming material using an organic silver salt, a wide range of color toning agents are disclosed in JP-A-46-6077 and JP-A-47-1028.
No. 2, No. 49-5019, No. 49-5020, No. 49-91215, No. 49-
No. 91215, No. 50-2524, No. 50-32927, No. 50-67132,
No. 50-67641, No. 50-114217, No. 51-3223, No. 51-279
No. 23, No. 52-14788, No. 52-99813, No. 53-1020, No. 5
3-76020, 54-156524, 54-156525, 61-1836
No. 42, JP-A-4-56848, JP-B-49-10727, 54-2033
No. 3, U.S. Pat.Nos. 3,080,254, 3,446,648, 3,782,9
No. 41, No. 4,123,282, No. 4,510,236, British Patent 138079
No. 5, Belgian Patent No. 841910 and the like. Examples of toning agents are phthalimide and N-hydroxyphthalimide; succinimide, pyrazolin-5-one, and quinazolinone, 3-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-phenylurazole, quinazoline and 2,4-thiazolidinedione Cyclic imides such as; naphthalimides (eg, N
-Hydroxy-1,8-naphthalimide); cobalt complexes (eg, cobalt hexamine trifluoroacetate); 3-
Mercapto-1,2,4-triazole, 2,4-dimercaptopyrimidine, 3-mercapto-4,5-diphenyl-1,2,4-triazole and 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole Illustrative mercaptans; N- (aminomethyl) aryldicarboximides, such as (N, N-dimethylaminomethyl) phthalimide and N, N- (dimethylaminomethyl)-
Naphthalene-2,3-dicarboximide); and blocked pyrazoles, isothiuronium derivatives and certain photobleaching agents (eg, N, N′-hexamethylenebis (1-carbamoyl-3,5-dimethylpyrazole), 1 , 8- (3,6-diazaoctane) bis (isothiuronium trifluoroacetate) and 2-tribromomethylsulfonyl- (benzothiazole)); and 3-ethyl-5 [(3-ethyl-2-benzothiazolyl) Nylidene) -1-methylethylidene] -2-thio-2,4-oxazolidinedione; phthalazinone, phthalazinone derivative or metal salt, or 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethoxy Derivatives such as phthalazinone and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione; phthalazinone and phthalic acid derivatives such as phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachloro- Combination of anhydride such as phthalic acid); phthalazine, phthalazine derivatives (e.g., 4- (1-naphthyl) phthalazine, 6
-Chlorophthalazine, 5,7-dimethoxyphthalazine, 6-iso
Derivatives such as -butylphthalazine, 6-tert-butylphthalazine, 5,7-dimethylphthalazine, and 2,3-dihydrophthalazine) or metal salts; phthalazine and its derivatives and phthalic acid derivatives (for example, phthalic acid Quinazolinedione, benzoxazine or naphthoxazine derivatives; halides for silver halide formation in situ as well as color tone regulators Rhodium complexes that also function as sources of ions, such as ammonium hexachlororhodate (III), rhodium bromide, rhodium nitrate and potassium hexachlororhodate (III); inorganic peroxides and persulfates, such as
Ammonium disulfide and hydrogen peroxide; 1,3-benzoxazine-2,4-dione, 8-methyl-1,3-benzoxazine-2,4-dione and 6-nitro-1,3-benzoxazine Benzoxazine-2,4-dione such as -2,4-dione; pyrimidine and asymmetric triazines (eg, 2,4-dihydroxypyrimidine, 2-hydroxy-4-aminopyrimidine, etc.), azauracil, and tetraazapentane Ren derivatives (e.g., 3,6-dimercapto-1,4-diphenyl-1H, 4H-
2,3a, 5,6a-tetraazapentalene and 1,4-di (o-chlorophenyl) -3,6-dimercapto-1H, 4H-2,3a, 5,6a-tetraazapentalene) is there.
【0098】本発明において、色調剤は、溶液、粉末、
固体微粒子分散物などいかなる方法で添加してもよい。
固体微粒子分散は公知の微細化手段(例えば、ボールミ
ル、振動ボールミル、サンドミル、コロイドミル、ジェ
ットミル、ローラーミルなど)で行われる。また、固体
微粒子分散する際に分散助剤を用いてもよい。In the present invention, the color-toning agent may be a solution, a powder,
It may be added by any method such as a solid fine particle dispersion.
The dispersion of the solid fine particles is carried out by a known means for making fine (for example, a ball mill, a vibration ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill, a roller mill, etc.). When dispersing the solid fine particles, a dispersing aid may be used.
【0099】本発明の熱現像画像形成材料における画像
形成層(感光性層、乳剤層)のバインダーとしては、よ
く知られている天然または合成樹脂、例えば、ゼラチ
ン、ポリビニルアセタール、ポリビニルクロリド、ポリ
ビニルアセテート、セルロースアセテート、ポリオレフ
ィン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアクリロニト
リル、ポリカーボネートなどから任意のものを選択する
ことができる。当然ながら、コポリマーおよびターポリ
マーも含まれる。好ましいポリマーは、ポリビニルブチ
ラール、ブチルエチルセルロース、メタクリレートコポ
リマー、無水マレイン酸エステルコポリマー、ポリスチ
レンおよびブタジエン-スチレンコポリマーである。必
要に応じて、これらのポリマーを2種またはそれ以上組
合せて使用することができる。そのようなポリマーは、
成分をその中に保持するのに十分な量で使用される。す
なわち、バインダーとして機能するのに効果的な範囲で
使用される。効果的な範囲は、当業者が適切に決定する
ことができる。少なくとも有機銀塩を保持する場合の目
安として、バインダー対有機銀塩の割合は、15:1〜1:
2、特に8:1〜1:1の範囲が好ましい。As the binder for the image forming layer (photosensitive layer, emulsion layer) in the heat-developable image forming material of the present invention, well-known natural or synthetic resins, for example, gelatin, polyvinyl acetal, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate , Cellulose acetate, polyolefin, polyester, polystyrene, polyacrylonitrile, polycarbonate and the like. Of course, copolymers and terpolymers are also included. Preferred polymers are polyvinyl butyral, butyl ethyl cellulose, methacrylate copolymer, maleic anhydride copolymer, polystyrene and butadiene-styrene copolymer. If necessary, two or more of these polymers can be used in combination. Such polymers are:
It is used in an amount sufficient to retain the ingredients therein. That is, it is used in a range effective to function as a binder. The effective range can be appropriately determined by those skilled in the art. As a guide when at least the organic silver salt is retained, the ratio of the binder to the organic silver salt is 15: 1 to 1:
2, especially the range of 8: 1 to 1: 1 is preferred.
【0100】本発明の熱現像画像形成材料の画像形成層
のうち少なくとも1層は以下に述べるポリマーラテック
スを全バインダーの50wt%以上含有する画像形成層であ
ることが好ましい。(以降この画像形成層を「本発明に
おける画像形成層」、バインダーに用いるポリマーラテ
ックスを「本発明で用いるポリマーラテックス」と表
す。)また、ポリマーラテックスは画像形成層だけでは
なく、保護層やバック層に用いてもよく、特に寸法変化
が問題となる印刷用途に本発明の熱現像画像形成材料を
用いる場合には、保護層やバック層にもポリマーラテッ
クスを用いる必要がある。ただしここで言う「ポリマー
ラテックス」とは水不溶な疎水性ポリマーが微細な粒子
として水溶性の分散媒中に分散したものである。分散状
態としてはポリマーが分散媒中に乳化されているもの、
乳化重合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいは
ポリマー分子中に部分的に親水的な構造を持ち分子鎖自
身が分子状分散したものなどいずれでもよい。なお本発
明で用いるポリマーラテックスについては「合成樹脂エ
マルジョン(奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行(19
78))」、「合成ラテックスの応用(杉村孝明、片岡靖
男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行(199
3))」、「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊
行会発行(1970))」などに記載されている。分散粒子の
平均粒径は1〜50000nm、より好ましくは5〜1000nm程度
の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分布に関しては特に
制限は無く、広い粒径分布を持つものでも単分散の粒径
分布を持つものでもよい。At least one of the image forming layers of the heat-developable image forming material of the present invention is preferably an image forming layer containing the polymer latex described below in an amount of 50% by weight or more of the total binder. (Hereinafter, this image forming layer is referred to as “image forming layer in the present invention” and the polymer latex used for the binder is referred to as “polymer latex used in the present invention.” When the heat-developable image-forming material of the present invention is used for printing in which dimensional change is a problem, it is necessary to use a polymer latex for the protective layer and the back layer. However, the "polymer latex" referred to here is a water-insoluble hydrophobic polymer dispersed as fine particles in a water-soluble dispersion medium. As a dispersion state, a polymer is emulsified in a dispersion medium,
Emulsion polymerization, micellar dispersion, or a polymer having a partially hydrophilic structure in a polymer molecule and molecular chains themselves molecularly dispersed may be used. As for the polymer latex used in the present invention, `` Synthetic resin emulsion (Taira Okuda, edited by Hiroshi Inagaki, published by Polymer Publishing Association (19
78))), `` Application of synthetic latex (Takaaki Sugimura, Yasuo Kataoka, Soichi Suzuki, Keiji Kasahara, published by Polymer Publishing Association (199)
3)) "and" Synthesis of Synthetic Latex (Souichi Muroi, published by Kobunshi Kankokai (1970)) "and the like. The average particle size of the dispersed particles is preferably in the range of 1 to 50,000 nm, more preferably about 5 to 1000 nm. There is no particular limitation on the particle size distribution of the dispersed particles, and those having a wide particle size distribution or those having a monodispersed particle size distribution may be used.
【0101】本発明で用いるポリマーラテックスとして
は通常の均一構造のポリマーラテックス以外、いわゆる
コア/シェル型のラテックスでもよい。この場合コアと
シェルはガラス転移温度を変えると好ましい場合があ
る。本発明においてバインダーとして用いるポリマーラ
テックスのポリマーのガラス転移温度(Tg)は保護
層、バック層と画像形成層とでは好ましい範囲が異な
る。画像形成層にあっては熱現像時に写真有用素材の拡
散を促すため、40℃以下であり、さらには-30〜40℃が
好ましい。保護層やバック層に用いる場合には種々の機
器と接触するために25〜70℃のガラス転移温度が好まし
い。本発明で用いるポリマーラテックスの最低造膜温度
(MFT)は-30℃〜90℃、より好ましくは0℃〜70℃程度が
好ましい。最低造膜温度をコントロールするために造膜
助剤を添加してもよい。造膜助剤は可塑剤ともよばれポ
リマーラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化合
物(通常有機溶剤)で、例えば前述の「合成ラテックスの
化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」に記載さ
れている。The polymer latex used in the present invention may be a so-called core / shell type latex other than a polymer latex having a normal uniform structure. In this case, it may be preferable to change the glass transition temperature of the core and the shell. The preferred range of the glass transition temperature (Tg) of the polymer of the polymer latex used as a binder in the present invention differs between the protective layer, the back layer and the image forming layer. In the image forming layer, the temperature is preferably 40 ° C. or lower, more preferably -30 to 40 ° C., in order to promote diffusion of the photographically useful material during thermal development. When used for the protective layer or the back layer, a glass transition temperature of 25 to 70 ° C. is preferable for contacting various devices. Minimum film forming temperature of polymer latex used in the present invention
(MFT) is preferably -30 ° C to 90 ° C, more preferably about 0 ° C to 70 ° C. A film-forming auxiliary may be added to control the minimum film-forming temperature. The film-forming aid is an organic compound (usually an organic solvent) that lowers the minimum film-forming temperature of the polymer latex, also called a plasticizer, and is described in, for example, `` Synthesis of Synthetic Latex (Souichi Muroi, published by Polymer Publishing Association (1970) )"It is described in.
【0102】本発明で用いるポリマーラテックスに用い
られるポリマー種としてはアクリル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹
脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフ
ィン樹脂、またはこれらの共重合体などがある。ポリマ
ーとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーで
も、また架橋されたポリマーでもよい。またポリマーと
しては単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマー
でもよいし、2種以上のモノマーが重合したコポリマー
でもよい。コポリマーの場合はランダムコポリマーでも
ブロックコポリマーでもよい。ポリマーの分子量は数平
均分子量で5000〜1000000、好ましくは10000〜100000程
度が好ましい。分子量が小さすぎるものは画像形成層の
力学強度が不十分であり、大きすぎるものは製膜性が悪
く好ましくない。The polymer species used for the polymer latex used in the present invention include acrylic resin, vinyl acetate resin, polyester resin, polyurethane resin, rubber resin, vinyl chloride resin, vinylidene chloride resin, polyolefin resin, or a copolymer thereof. and so on. The polymer may be a linear polymer, a branched polymer, or a crosslinked polymer. The polymer may be a so-called homopolymer in which a single monomer is polymerized, or a copolymer in which two or more monomers are polymerized. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. The molecular weight of the polymer is preferably from 5000 to 100000, more preferably from about 10,000 to 100,000 in number average molecular weight. If the molecular weight is too small, the mechanical strength of the image forming layer is insufficient, and if it is too large, the film-forming properties are poor, which is not preferable.
【0103】本発明の熱現像画像形成材料の画像形成層
のバインダーとして用いられるポリマーラテックスの具
体例としては以下のようなものがある。メチルメタクリ
レート/エチルアクリレート/メタクリル酸コポリマー
のラテックス、メチルメタクリレート/2−エチルヘキ
シルアクリレート/スチレン/アクリル酸コポリマーの
ラテックス、スチレン/ブタジエン/アクリル酸コポリ
マーのラテックス、スチレン/ブタジエン/ジビニルベ
ンゼン/メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチル
メタクリレート/塩化ビニル/アクリル酸コポリマーの
ラテックス、塩化ビニリデン/エチルアクリレート/ア
クリロニトリル/メタクリル酸コポリマーのラテックス
など。また、このようなポリマーは市販もされていて、
以下のようなポリマーが利用できる。例えばアクリル樹
脂の例として、セビアンA-4635,46583、4601(以上ダイ
セル化学工業(株)製)、Nipol Lx811、814、821、82
0、857(以上日本ゼオン(株)製)など、ポリエステル樹
脂としては、FINETEX ES650、611、675、850(以上大日
本インキ化学(株)製)、WD-size、WMS(以上イーストマ
ンケミカル製)など、ポリウレタン樹脂としてはHYDRAN
AP10、20、30、40(以上大日本インキ化学(株)製)な
ど、ゴム系樹脂としてはLACSTAR 7310K、3307B、4700
H、7132C(以上大日本インキ化学(株)製)、Nipol Lx41
6、410、438C、2507(以上日本ゼオン(株)製)など、塩
化ビニル樹脂としてはG351、G576(以上日本ゼオン
(株)製)など、塩化ビニリデン樹脂としてはL502、L51
3(以上旭化成工業(株)製)、アロンD7020、D504、D507
1(以上三井東圧(株)製)など、オレフィン樹脂としては
ケミパールS120、SA100(以上三井石油化学(株)製)な
どを挙げることができる。これらのポリマーは単独で用
いてもよいし、必要に応じて2種以上ブレンドして用い
てもよい。Specific examples of the polymer latex used as a binder for the image forming layer of the heat-developable image forming material of the present invention include the following. Latex of methyl methacrylate / ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer, latex of methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / styrene / acrylic acid copolymer, latex of styrene / butadiene / acrylic acid copolymer, latex of styrene / butadiene / divinylbenzene / methacrylic acid copolymer Latex of methyl methacrylate / vinyl chloride / acrylic acid copolymer, latex of vinylidene chloride / ethyl acrylate / acrylonitrile / methacrylic acid copolymer, and the like. Such polymers are also commercially available,
The following polymers can be used. For example, as an example of an acrylic resin, Sebian A-4635,46583,4601 (all manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol Lx811, 814, 821, 82
Polyester resins such as 0, 857 (all manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) include FINETEX ES650, 611, 675, 850 (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), WD-size, WMS (all manufactured by Eastman Chemical Co., Ltd.) HYDRAN for polyurethane resin
LACSTAR 7310K, 3307B, 4700 are rubber-based resins such as AP10, 20, 30, 40 (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)
H, 7132C (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), Nipol Lx41
6, 410, 438C, 2507 (Nippon Zeon Co., Ltd.), etc .; vinyl chloride resins such as G351 and G576 (Nippon Zeon Co., Ltd.); vinylidene chloride resins L502, L51
3 (All made by Asahi Kasei Corporation), Aron D7020, D504, D507
Examples of olefin resins include Chemipearl S120 and SA100 (both manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd.). These polymers may be used alone or as a blend of two or more as necessary.
【0104】本発明における画像形成層は全バインダー
の50重量%以上として上記ポリマーラテックスを用いる
ことが好ましいが、70重量%以上として上記ポリマーラ
テックスを用いることがより好ましい。本発明における
画像形成層には必要に応じて全バインダーの50重量%以
下の範囲でゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセ
ルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシ
メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロー
スなどの親水性ポリマーを添加してもよい。これらの親
水性ポリマーの添加量は画像形成層の全バインダーの30
重量%以下、さらには15重量%以下が好ましい。In the image forming layer according to the invention, the polymer latex is preferably used in an amount of 50% by weight or more of the total binder, and more preferably 70% by weight or more. In the image forming layer in the present invention, a hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, carboxymethyl cellulose, or hydroxypropyl methyl cellulose may be added as needed in the range of 50% by weight or less of the whole binder. . The amount of these hydrophilic polymers added is 30% of the total binder of the image forming layer.
% By weight or less, more preferably 15% by weight or less.
【0105】本発明における画像形成層は水系の塗布液
を塗布後乾燥して調製することが好ましい。ただし、こ
こで言う「水系」とは塗布液の溶媒(分散媒)の60重量%
以上が水であることをいう。塗布液の水以外の成分はメ
チルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアル
コール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ジメチ
ルホルムアミド、酢酸エチルなどの水混和性の有機溶媒
を用いることができる。具体的な溶媒組成の例として
は、水のほか、以下のようなものがある。水/メタノー
ル=90/10、水/メタノール=70/30、水/エタノール=9
0/10、水/イソプロパノール=90/10、水/ジメチルホ
ルムアミド=95/5、水/メタノール/ジメチルホルムア
ミド=80/15/5、水/メタノール/ジメチルホルムアミ
ド=90/5/5。(ただし数字は重量%を表す。) 本発明における画像形成層の全バインダー量は0.2〜30g
/m2、より好ましくは1〜15g/m2の範囲が好ましい。本
発明における画像形成層には架橋のための架橋剤、塗布
性改良のための界面活性剤などを添加してもよい。The image forming layer in the present invention is preferably prepared by applying an aqueous coating solution and then drying it. However, the `` water-based '' here is 60% by weight of the solvent (dispersion medium) of the coating liquid.
It means that the above is water. As components other than water of the coating solution, water-miscible organic solvents such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, and ethyl acetate can be used. Specific examples of the solvent composition include the following in addition to water. Water / methanol = 90/10, water / methanol = 70/30, water / ethanol = 9
0/10, water / isopropanol = 90/10, water / dimethylformamide = 95/5, water / methanol / dimethylformamide = 80/15/5, water / methanol / dimethylformamide = 90/5/5. (However, the numbers represent% by weight.) The total binder amount of the image forming layer in the present invention is 0.2 to 30 g.
/ M 2 , more preferably in the range of 1 to 15 g / m 2 . A crosslinking agent for crosslinking, a surfactant for improving coating properties, and the like may be added to the image forming layer in the invention.
【0106】本発明で用いる増感色素としてはハロゲン
化銀粒子に吸着した際、所望の波長領域でハロゲン化銀
粒子を分光増感できるもので有ればいかなるものでもよ
い。増感色素としては、シアニン色素、メロシアニン色
素、コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロ
シアニン色素、ホロポーラーシアニン色素、スチリル色
素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソ
ノール色素等を用いることができる。本発明に使用され
る有用な増感色素は例えばRESEARCH DISCLOSURE Item17
643IV-A項(1978年12月p.23)、同Item1831X項(1979年8月
p.437)に記載もしくは引用された文献に記載されてい
る。特に各種レーザーイメージャー、スキャナー、イメ
ージセッターや製版カメラの光源の分光特性に適した分
光感度を有する増感色素を有利に選択することができ
る。赤色光への分光増感の例としては、He-Neレーザ
ー、赤色半導体レーザーやLEDなどのいわゆる赤色光源
に対しては、特開昭54-18726号に記載のI-1からI-38
の化合物、特開平6-75322号に記載のI-1からI-35の化
合物および特開平7-287338号に記載のI-1からI-34の
化合物、特公昭55-39818号に記載の色素1から20、特開
昭62-284343号に記載のI-1からI-37の化合物および特
開平7-287338号に記載のI-1からI-34の化合物などが
有利に選択される。As the sensitizing dye used in the present invention, any sensitizing dye can be used as long as it can spectrally sensitize the silver halide grains in a desired wavelength region when adsorbed on the silver halide grains. As the sensitizing dye, a cyanine dye, a merocyanine dye, a complex cyanine dye, a complex merocyanine dye, a holopolar cyanine dye, a styryl dye, a hemicyanine dye, an oxonol dye, a hemioxonol dye, and the like can be used. Useful sensitizing dyes for use in the present invention include, for example, RESEARCH DISCLOSURE Item 17
Item 643IV-A (p.23, December 1978), Item 1831X (August 1979)
p.437) or in the literature cited. In particular, a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of the light source of various laser imagers, scanners, imagesetters and plate making cameras can be advantageously selected. Examples of spectral sensitization to red light include, for so-called red light sources such as He-Ne lasers, red semiconductor lasers, and LEDs, I-1 to I-38 described in JP-A-54-18726.
The compound of I-1 to I-35 described in JP-A-6-75322 and the compound of I-1 to I-34 described in JP-A-7-287338, described in JP-B-55-39818 Dyes 1 to 20, compounds of I-1 to I-37 described in JP-A-62-284343 and compounds of I-1 to I-34 described in JP-A-7-287338 are advantageously selected. .
【0107】750〜1400nmの波長領域の半導体レーザー
光源に対しては、シアニン、メロシアニン、スチリル、
ヘミシアニン、オキソノール、ヘミオキソノールおよび
キサンテン色素を含む種々の既知の色素により、スペク
トル的に有利に増感させることができる。有用なシアニ
ン色素は、例えば、チアゾリン核、オキサゾリン核、ピ
ロリン核、ピリジン核、オキサゾール核、チアゾール
核、セレナゾール核およびイミダゾール核などの塩基性
核を有するシアニン色素である。有用なメロシアニン染
料で好ましいものは、上記の塩基性核に加えて、チオヒ
ダントイン核、ローダニン核、オキサゾリジンジオン
核、チアゾリンジオン核、バルビツール酸核、チアゾリ
ノン核、マロノニトリル核およびピラゾロン核などの酸
性核も含む。上記のシアニンおよびメロシアニン色素に
おいて、イミノ基またはカルボキシル基を有するものが
特に効果的である。例えば、米国特許3,761,279号、同
3,719,495号、同3,877,943号、英国特許1,466,201号、
同1,469,117号、同1,422,057号、特公平3-10391号、同6
-52387号、特開平5-341432号、同6-194781号、同6-3011
41号に記載されたような既知の色素から適当に選択して
よい。For a semiconductor laser light source in the wavelength region of 750 to 1400 nm, cyanine, merocyanine, styryl,
A variety of known dyes, including hemicyanine, oxonol, hemioxonol and xanthene dyes, can be spectrally sensitized favorably. Useful cyanine dyes are, for example, cyanine dyes having a basic nucleus, such as a thiazoline nucleus, an oxazoline nucleus, a pyrroline nucleus, a pyridine nucleus, an oxazole nucleus, a thiazole nucleus, a selenazole nucleus and an imidazole nucleus. Preferred useful merocyanine dyes include, in addition to the above basic nuclei, acidic nuclei such as thiohydantoin nucleus, rhodanine nucleus, oxazolidinedione nucleus, thiazolinedione nucleus, barbituric acid nucleus, thiazolinone nucleus, malononitrile nucleus and pyrazolone nucleus. Including. Among the above-mentioned cyanine and merocyanine dyes, those having an imino group or a carboxyl group are particularly effective. For example, U.S. Pat.
3,719,495, 3,877,943, British Patent 1,466,201,
No. 1,469,117, No. 1,422,057, No. 3-10391, No. 6
-52387, JP-A-5-341432, JP-A-6-94781, JP-A-6-3011
The dye may be appropriately selected from known dyes as described in No. 41.
【0108】本発明に用いられる色素の構造として特に
好ましいものは、チオエーテル結合含有置換基を有する
シアニン色素(例としては特開昭62-58239号、同3-13863
8号、同3-138642号、同4-255840号、同5-72659号、同5-
72661号、同6-222491号、同2-230506号、同6-258757
号、同6-317868号、同6-324425号、特表平7-500926号、
米国特許5,541,054号に記載された色素)、カルボン酸基
を有する色素(例としては特開平3-163440号、同6-30114
1号、米国特許5,441,899号に記載された色素)、メロシ
アニン色素、多核メロシアニン色素や多核シアニン色素
(特開昭47-6329号、同49-105524号、同51-127719号、同
52-80829号、同54-61517号、同59-214846号、同60-6750
号、同63-159841号、特開平6-35109号、同6-59381号、
同7-146537号、同7-146537号、特表平55-50111号、英国
特許1,467,638号、米国特許5,281,515号に記載された色
素)が挙げられる。また、J-bandを形成する色素として
米国特許5,510,236号、同3,871,887号の実施例5記載の
色素、特開平2-96131号、特開昭59-48753号が開示され
ており、本発明に好ましく用いることができる。Particularly preferred as the structure of the dye used in the present invention is a cyanine dye having a thioether bond-containing substituent (for example, JP-A-62-58239 and JP-A-3-13863).
No.8, No.3-138642, No.4-255840, No.5-72659, No.5-
No. 72661, No. 6-222491, No. 2-230506, No. 6-258757
No., 6-317868, 6-324425, Tokuyohei 7-500926,
Dyes described in U.S. Pat.No. 5,541,054), dyes having a carboxylic acid group (for example, JP-A-3-163440, JP-A-6-30114)
No. 1, U.S. Pat.No. 5,441,899), merocyanine dyes, polynuclear merocyanine dyes and polynuclear cyanine dyes
(JP 47-6329, JP 49-105524, JP 51-127719, JP
52-80829, 54-61517, 59-214846, 60-6750
No. 63-159841, JP-A-6-35109, JP-A-6-59381,
And the dyes described in JP-A-7-146537, JP-A-7-146537, JP-T-55-50111, British Patent 1,467,638, and US Patent 5,281,515. Further, as a dye forming a J-band, U.S. Pat.No. 5,510,236, the dye described in Example 5 of 3,871,887, JP-A-2-96131, JP-A-59-48753 are disclosed, and are preferably used in the present invention. Can be used.
【0109】これらの増感色素は単独に用いてもよく、
2種以上組合せて用いてもよい。増感色素の組合せは特
に、強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色素と
ともに、それ自身分光増感作用をもたない色素あるいは
可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感を
示す物質を乳剤中に含んでもよい。有用な増感色素、強
色増感を示す色素の組合せおよび強色増感を示す物質は
Research Disclosure176巻17643(1978年12月発行)第23
頁IVのJ項、あるいは特公昭49-25500号、同43-4933号、
特開昭59-19032号、同59-192242号等に記載されてい
る。増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加させるには、
それらを直接乳剤中に分散してもよいし、あるいは水、
メタノール、エタノール、プロパノール、アセトン、メ
チルセルソルブ、2,2,3,3-テトラフルオロプロパノー
ル、2,2,2-トリフルオロエタノール、3-メトキシ-1-プ
ロパノール、3-メトキシ-1-ブタノール、1-メトキシ-2-
プロパノール、N,N-ジメチルホルムアミド等の溶媒の単
独もしくは混合溶媒に溶解して乳剤に添加してもよい。
また、米国特許3,469,987号明細書等に開示されている
ように、色素を揮発性の有機溶剤に溶解し、この溶液を
水または親水性コロイド中に分散し、この分散物を乳剤
中へ添加する方法、特公昭44-23389号、同44-27555号、
同57-22091号等に開示されているように、色素を酸に溶
解し、この溶液を乳剤中に添加したり、酸または塩基を
共存させて水溶液として乳剤中へ添加する方法、米国特
許3,822,135号、同4,006,025号明細書等に開示されてい
るように界面活性剤を共存させて水溶液あるいはコロイ
ド分散物としたものを乳剤中に添加する方法、特開昭53
-102733号、同58-105141号に開示されているように親水
性コロイド中に色素を直接分散させ、その分散物を乳剤
中に添加する方法、特開昭51-74624号に開示されている
ように、レッドシフトさせる化合物を用いて色素を溶解
し、この溶液を乳剤中へ添加する方法を用いることもで
きる。また、溶解に超音波を用いることもできる。These sensitizing dyes may be used alone.
Two or more kinds may be used in combination. Combinations of sensitizing dyes are often used, especially for supersensitization. In addition to the sensitizing dye, the emulsion may contain a dye which does not itself have a spectral sensitizing effect or a substance which does not substantially absorb visible light and exhibits supersensitization. Useful sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization and substances exhibiting supersensitization are
Research Disclosure Volume 176, 17643 (Issued December 1978) No. 23
Section IV on page IV, or JP-B-49-25500, 43-43933,
These are described in JP-A-59-19032 and JP-A-59-192242. In order to add a sensitizing dye to a silver halide emulsion,
They may be dispersed directly in the emulsion, or
Methanol, ethanol, propanol, acetone, methylcellosolve, 2,2,3,3-tetrafluoropropanol, 2,2,2-trifluoroethanol, 3-methoxy-1-propanol, 3-methoxy-1-butanol, 1-methoxy-2-
A solvent such as propanol and N, N-dimethylformamide alone or in a mixed solvent may be added to the emulsion.
Further, as disclosed in U.S. Pat.No. 3,469,987, a dye is dissolved in a volatile organic solvent, this solution is dispersed in water or a hydrophilic colloid, and this dispersion is added to the emulsion. Method, JP-B-44-23389, 44-27555,
As disclosed in JP-A-57-22091 and the like, a method of dissolving a dye in an acid and adding this solution to an emulsion, or adding an acid or a base to an emulsion as an aqueous solution in the presence of an acid or base, U.S. Pat. No. 4,006,025, a method of adding an aqueous solution or a colloidal dispersion in the presence of a surfactant to an emulsion as disclosed in
-102733, a method of directly dispersing a dye in a hydrophilic colloid as disclosed in JP-A-58-105141, and adding the dispersion to an emulsion, disclosed in JP-A-51-74624. As described above, a method in which a dye is dissolved using a compound that causes a red shift, and this solution is added to an emulsion can also be used. Also, ultrasonic waves can be used for dissolution.
【0110】本発明に用いる増感色素をハロゲン化銀乳
剤中に添加する時期は、これまで有用であることが認め
られている乳剤調製のいかなる工程中であってもよい。
例えば米国特許2,735,766号、同3,628,960号、同4,183,
756号、同4,225,666号、特開昭58-184142号、同60-1967
49号等の明細書に開示されているように、ハロゲン化銀
の粒子形成工程または/および脱塩前の時期、脱塩工程
中および/または脱塩後から化学熟成の開始前までの時
期、特開昭58-113920号等の明細書に開示されているよ
うに、化学熟成の直前または工程中の時期、化学熟成
後、塗布までの時期の乳剤が塗布される前ならばいかな
る時期、工程において添加されてもよい。また、米国特
許4,225,666号、特開昭58-7629号等の明細書に開示さ
れているように、同一化合物を単独で、または異種構造
の化合物と組み合わせて、例えば粒子形成工程中と化学
熟成工程中または化学熟成完了後とに分けたり、化学熟
成の前または工程中と完了後とに分けるなどして分割し
て添加してもよく、分割して添加する化合物および化合
物の組み合わせの種類を変えて添加してもよい。増感色
素の使用量としては感度やカブリなどの性能に合わせて
所望の量でよいが、感光性層のハロゲン化銀1モル当た
り10-6〜1モルが好ましく、10-4〜10-1モルがさらに好
ましい。The sensitizing dye used in the present invention may be added to the silver halide emulsion at any time during the preparation of the emulsion which has been recognized to be useful.
For example, U.S. Pat.Nos. 2,735,766, 3,628,960, 4,183,
No. 756, 4,225,666, JP-A-58-184142, 60-1967
As disclosed in the specification of No. 49, etc., the stage before silver halide grain formation step and / or before desalting, during the desalting step and / or after desalting and before the start of chemical ripening, As disclosed in the specification of Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-113920, etc., any time, step, immediately before or during chemical ripening, any time after chemical ripening and before coating, before the emulsion is coated. May be added. Also, as disclosed in the specification of U.S. Pat. No. 4,225,666, JP-A-58-7629, etc., the same compound may be used alone or in combination with a compound having a different structure, for example, during the particle forming step. The compound may be added separately during the ripening step or after the completion of the chemical ripening, or may be added separately before or during the chemical ripening or after the completion of the chemical ripening. May be added. The amount of the sensitizing dye used may be a desired amount in accordance with the performance such as sensitivity and fog, but is preferably 10 -6 to 1 mol, more preferably 10 -4 to 10 -1 per mol of silver halide in the photosensitive layer. Mole is more preferred.
【0111】本発明の熱現像画像形成材料には、現像を
抑制あるいは促進させ現像を制御するため、分光増感効
率を向上させるため、現像前後の保存性を向上させるた
めなどにメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオ
ン化合物を含有させることができる。本発明にメルカプ
ト化合物を使用する場合、いかなる構造のものでもよい
が、Ar-SMo、Ar-S-S-Arで表されるものが好ましい。式
中、Moは水素原子またはアルカリ金属原子であり、Arは
1個以上の窒素、イオウ、酸素、セレニウムまたはテル
リウム原子を有する芳香環基または縮合芳香環基であ
る。好ましくは、これらの基中の複素芳香環はベンズイ
ミダゾール、ナフスイミダゾール、ベンゾチアゾール、
ナフトチアゾール、ベンズオキサゾール、ナフスオキサ
ゾール、ベンゾセレナゾール、ベンゾテルラゾール、イ
ミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリアゾー
ル、チアジアゾール、テトラゾール、トリアジン、ピリ
ミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キ
ノリンまたはキナゾリノンである。この複素芳香環は、
例えば、ハロゲン(例えば、BrおよびCl)、ヒドロキシ、
アミノ、カルボキシ、アルキル(例えば、1個以上の炭素
原子、好ましくは1〜4個の炭素原子を有するもの)、ア
ルコキシ(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは1〜
4個の炭素原子を有するもの)およびアリール(置換基
を有していてもよい)からなる置換基群から選択される
ものを有してもよい。メルカプト置換複素芳香族化合物
としては、2-メルカプトベンズイミダゾール、2-メルカ
プトベンズオキサゾール、2-メルカプトベンゾチアゾー
ル、2-メルカプト-5-メチルベンズイミダゾール、6-エ
トキシ-2-メルカプトベンゾチアゾール、2,2'-ジチオビ
ス-ベンゾチアゾール、3-メルカプト-1,2,4-トリアゾー
ル、4,5-ジフェニル-2-イミダゾールチオール、2-メル
カプトイミダゾール、1-エチル-2-メルカプトベンズイ
ミダゾール、2-メルカプトキノリン、8-メルカプトプリ
ン、2-メルカプト-4(3H)-キナゾリノン、7-トリフルオ
ロメチル-4-キノリンチオール、2,3,5,6-テトラクロロ-
4-ピリジンチオール、4-アミノ-6-ヒドロキシ-2-メルカ
プトピリミジンモノヒドレート、2-アミノ-5-メルカプ
ト-1,3,4-チアジアゾール、3-アミノ-5-メルカプト-1,
2,4-トリアゾール、4-ヒドキロシ-2-メルカプトピリミ
ジン、2-メルカプトピリミジン、4,6-ジアミノ-2-メル
カプトピリミジン、2-メルカプト-4-メチルピリミジン
ヒドロクロリド、3-メルカプト-5-フェニル-1,2,4-トリ
アゾール、1-フェニル-5-メルカプトテトラゾール、3-
(5-メルカプトテトラゾール)-ベンゼンスルフォン酸ナ
トリウム、N-メチル-N'-[3-(5-メルカプトテトラゾリ
ル)フェニル]ウレア、2-メルカプト-4-フェニルオキサ
ゾールなどが挙げられるが、本発明はこれらに限定され
ない。これらのメルカプト化合物の添加量としては乳剤
層(画像形成層)中に銀1モル当たり0.0001〜1モルの
範囲が好ましく、さらに好ましくは、銀の1モル当たり
0.001〜0.3モルの量である。The heat-developable image-forming material of the present invention may contain a mercapto compound, a disulfide, or the like for controlling development by suppressing or accelerating development, improving spectral sensitization efficiency, or improving storage stability before and after development. Compounds and thione compounds can be contained. When a mercapto compound is used in the present invention, it may have any structure, but is preferably a compound represented by Ar- SMo or Ar-SS-Ar. Wherein, M o is a hydrogen atom or an alkali metal atom, Ar is an aromatic ring or fused aromatic ring group having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium or tellurium atom. Preferably, the heteroaromatic rings in these groups are benzimidazole, naphthimidazole, benzothiazole,
Naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzoselenazole, benzotellurazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, thiadiazole, tetrazole, triazine, pyrimidine, pyridazine, pyrazine, pyridine, purine, quinoline or quinazolinone. This heteroaromatic ring is
For example, halogens (e.g., Br and Cl), hydroxy,
Amino, carboxy, alkyl (e.g., having one or more carbon atoms, preferably having 1-4 carbon atoms), alkoxy (e.g., one or more carbon atoms, preferably
It may have a substituent selected from the group consisting of those having 4 carbon atoms) and aryl (which may have a substituent). As mercapto-substituted heteroaromatic compounds, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercapto-5-methylbenzimidazole, 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole, 2,2 '-Dithiobis-benzothiazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 4,5-diphenyl-2-imidazolethiol, 2-mercaptoimidazole, 1-ethyl-2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptoquinoline, 8-mercaptopurine, 2-mercapto-4 (3H) -quinazolinone, 7-trifluoromethyl-4-quinolinethiol, 2,3,5,6-tetrachloro-
4-pyridinethiol, 4-amino-6-hydroxy-2-mercaptopyrimidine monohydrate, 2-amino-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole, 3-amino-5-mercapto-1,
2,4-Triazole, 4-Hydrogyrosine-2-mercaptopyrimidine, 2-mercaptopyrimidine, 4,6-diamino-2-mercaptopyrimidine, 2-mercapto-4-methylpyrimidine hydrochloride, 3-mercapto-5-phenyl- 1,2,4-triazole, 1-phenyl-5-mercaptotetrazole, 3-
Examples of the present invention include sodium (5-mercaptotetrazole) -benzenesulfonate, N-methyl-N '-[3- (5-mercaptotetrazolyl) phenyl] urea, and 2-mercapto-4-phenyloxazole. Is not limited to these. The addition amount of these mercapto compounds is preferably in the range of 0.0001 to 1 mol per mol of silver in the emulsion layer (image forming layer), and more preferably per mol of silver.
It is in the amount of 0.001 to 0.3 mol.
【0112】本発明における画像形成層(感光性層)に
は、可塑剤および潤滑剤として多価アルコール(例え
ば、米国特許第2,960,404号に記載された種類のグリセ
リンおよびジオール)、米国特許第2,588,765号および同
第3,121,060号に記載の脂肪酸またはエステル、英国特
許第955,061号に記載のシリコーン樹脂などを用いるこ
とができる。本発明の熱現像画像形成材料には、画像形
成層の付着防止などの目的で表面保護層を設けることが
できる。表面保護層のバインダーとしてはいかなるポリ
マーでもよいが、カルボン酸残基を有するポリマーを10
0mg/m2以上5g/m2以下含むことが好ましい。ここでいう
カルボキシル残基を有するポリマーとしては天然高分子
(ゼラチン、アルギン酸など)、変性天然高分子(カルボ
キシメチルセルロース、フタル化ゼラチンなど)、合成
高分子(ポリメタクリレート、ポリアクリレート、ポリ
アルキルメタクリレート/アクリレート共重合体、ポリ
スチレン/ポリメタクリレート共重合体など)などが挙げ
られる。このようなポリマーのカルボキシ残基の含有量
としてはポリマー100g当たり10mmol以上1.4mol以下であ
ることが好ましい。また、カルボン酸残基はアルカリ金
属イオン、アルカリ土類金属イオン、有機カチオンなど
と塩を形成してもよい。In the image forming layer (photosensitive layer) in the present invention, a polyhydric alcohol (for example, glycerin and diol of the type described in US Pat. No. 2,960,404) as a plasticizer and a lubricant, and US Pat. No. 2,588,765 are used. And fatty acids or esters described in US Pat. No. 3,121,060 and silicone resins described in British Patent No. 955,061. The heat-developable image forming material of the present invention may be provided with a surface protective layer for the purpose of preventing adhesion of the image forming layer. Any polymer may be used as the binder for the surface protective layer.
It is preferable to contain 0 mg / m 2 or more and 5 g / m 2 or less. The polymer having a carboxyl residue is a natural polymer
(Gelatin, alginic acid, etc.), modified natural polymers (carboxymethyl cellulose, phthalated gelatin, etc.), synthetic polymers (polymethacrylate, polyacrylate, polyalkyl methacrylate / acrylate copolymer, polystyrene / polymethacrylate copolymer, etc.) Is mentioned. The carboxy residue content of such a polymer is preferably from 10 mmol to 1.4 mol per 100 g of the polymer. Further, the carboxylic acid residue may form a salt with an alkali metal ion, an alkaline earth metal ion, an organic cation, or the like.
【0113】表面保護層としては、いかなる付着防止材
料を使用してもよい。付着防止材料の例としては、ワッ
クス、シリカ粒子、スチレン含有エラストマー性ブロッ
クコポリマー(例えば、スチレン-ブタジエン-スチレ
ン、スチレン-イソプレン-スチレン)、酢酸セルロー
ス、セルロースアセテートブチレート、セルロースプロ
ピオネートやこれらの混合物などがある。また、表面保
護層には架橋のための架橋剤、塗布性改良のための界面
活性剤などを添加してもよい。本発明における画像形成
層もしくは画像形成層の保護層には、米国特許第3,253,
921号、同第2,274,782号、同第2,527,583号および同第
2,956,879号に記載されているような光吸収物質および
フィルター染料を使用することができる。また、例えば
米国特許第3,282,699号に記載のように染料を媒染する
ことができる。フィルター染料の使用量としては露光波
長での吸光度が0.1〜3が好ましく、0.2〜1.5が特に好ま
しい。As the surface protective layer, any anti-adhesion material may be used. Examples of anti-adhesion materials include wax, silica particles, styrene-containing elastomeric block copolymers (e.g., styrene-butadiene-styrene, styrene-isoprene-styrene), cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose propionate and the like. And mixtures. Further, a crosslinking agent for crosslinking and a surfactant for improving coating properties may be added to the surface protective layer. In the image forming layer or the protective layer of the image forming layer in the present invention, U.S. Pat.
Nos. 921, 2,274,782, 2,527,583 and
Light absorbing materials and filter dyes as described in 2,956,879 can be used. Further, a dye can be mordant as described in, for example, US Pat. No. 3,282,699. The amount of the filter dye used is preferably such that the absorbance at the exposure wavelength is 0.1 to 3, and particularly preferably 0.2 to 1.5.
【0114】本発明の熱現像画像形成材料の感光性層に
は色調改良、イラジエーション防止の観点から各種染料
や顔料を用いることができる。感光性層に用いる染料お
よび顔料はいかなるものでもよいが、例えばカラーイン
デックス記載の顔料や染料があり、具体的にはピラゾロ
アゾール染料、アントラキノン染料、アゾ染料、アゾメ
チン染料、オキソノール染料、カルボシアニン染料、ス
チリル染料、トリフェニルメタン染料、インドアニリン
染料、インドフェノール染料、フタロシアニンをはじめ
とする有機顔料、無機顔料などが挙げられる。本発明に
用いられる好ましい染料としてはアントラキノン染料
(例えば特開平5-341441号記載の化合物1〜9、特開平5-1
65147号記載の化合物3-6〜18および3-23〜38など)、ア
ゾメチン染料(特開平5-341441号記載の化合物17〜47な
ど)、インドアニリン染料(例えば特開平5-289227号記載
の化合物11〜19、特開平5-341441号記載の化合物47、特
開平5-165147号記載の化合物2-10〜11など)およびアゾ
染料(特開平5-341441号記載の化合物10〜16)が挙げられ
る。これらの染料の添加法としては、溶液、乳化物、固
体微粒子分散物、高分子媒染剤に媒染された状態などい
かなる方法でもよい。これらの化合物の使用量は目的の
吸収量によって決められるが、一般的に画像形成材料1m
2当たり1μg以上1g以下の範囲で用いることが好まし
い。In the photosensitive layer of the heat-developable image forming material of the present invention, various dyes and pigments can be used from the viewpoint of improving color tone and preventing irradiation. Dyes and pigments used in the photosensitive layer may be any, for example, pigments and dyes described in the Color Index, specifically, pyrazoloazole dye, anthraquinone dye, azo dye, azomethine dye, oxonol dye, carbocyanine dye , Styryl dyes, triphenylmethane dyes, indoaniline dyes, indophenol dyes, organic pigments such as phthalocyanine, and inorganic pigments. Preferred dyes used in the present invention are anthraquinone dyes
(For example, compounds 1 to 9 described in JP-A-5-341441, JP-A-5-15-1
65147 described compounds 3-6-18 and 3-23-38, etc.), azomethine dyes (compounds 17-47 described in JP-A-5-341441), indoaniline dyes (e.g. described in JP-A-5-289227) Compounds 11 to 19, compound 47 described in JP-A-5-341441, compounds 2-10 to 11 described in JP-A-5-165147) and azo dyes (compounds 10 to 16 described in JP-A-5-341441) are included. No. As a method for adding these dyes, any method such as a solution, an emulsion, a solid fine particle dispersion, and a state in which the dye is mordanted with a polymer mordant may be used. The amount of these compounds used is determined by the desired absorption, but generally 1 m
It is preferable to use 1 μg or more and 1 g or less per 2 .
【0115】本発明の熱現像画像形成材料は、支持体の
一方の側に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤を含む感
光性層(画像形成層)を有し、他方の側にバック層を有
する、いわゆる片面画像形成材料であることが好まし
い。本発明においてバック層は、所望の範囲での最大吸
収が約0.3以上2.0以下であることが好ましい。所望の範
囲が750〜1400nmである場合には、750〜360nmにおいて
の光学濃度が0.005以上0.5未満であることが好ましく、
さらに好ましくは0.001以上0.3未満の光学濃度を有する
ハレーション防止層であることが好ましい。所望の範囲
が750nm以下である場合には、画像形成前の所望範囲の
最大吸収が0.3以上2.0以下であり、さらに画像形成後の
360〜750nmの光学濃度が0.005以上0.3未満になるような
ハレーション防止層であることが好ましい。画像形成後
の光学濃度を上記の範囲に下げる方法としては特に制限
はないが、例えばベルギー特許第733,706号に記載され
たように染料による濃度を加熱による消色で低下させる
方法、特開昭54-17833号に記載の光照射による消色で濃
度を低下させる方法等が挙げられる。The heat-developable image-forming material of the present invention has at least one photosensitive layer (image-forming layer) containing a silver halide emulsion on one side of a support, and has a back layer on the other side. It is preferably a so-called single-sided image forming material. In the present invention, the back layer preferably has a maximum absorption in a desired range of about 0.3 or more and 2.0 or less. When the desired range is 750 to 1400 nm, the optical density at 750 to 360 nm is preferably 0.005 or more and less than 0.5,
It is more preferable that the antihalation layer has an optical density of 0.001 or more and less than 0.3. When the desired range is 750 nm or less, the maximum absorption of the desired range before image formation is 0.3 or more and 2.0 or less, and further after image formation.
It is preferable that the antihalation layer has an optical density of from 360 to 750 nm of from 0.005 to less than 0.3. The method for lowering the optical density after image formation to the above range is not particularly limited. For example, as described in Belgian Patent No. 733,706, a method in which the density of a dye is reduced by decolorization by heating, And a method of decreasing the density by decoloring by light irradiation described in JP-A-17833.
【0116】本発明でハレーション防止染料を使用する
場合、こうした染料は所望の範囲で目的の吸収を有し、
処理後に可視領域での吸収が充分少なく、上記バック層
の好ましい吸光度スペクトルの形状が得られればいかな
る化合物でもよい。例えば以下に挙げるものが開示され
ているが本発明はこれに限定されるものではない。単独
の染料としては特開昭59-56458号、特開平2-216140号、
同7-13295号、同7-11432号、米国特許5,380,635号記
載、特開平2-68539号公報第13頁左下欄1行目から同第14
頁左下欄9行目、同3-24539号公報第14頁左下欄から同第
16頁右下欄記載の化合物があり、処理で消色する染料と
しては特開昭52-139136号、同53-132334号、同56-50148
0号、同57-16060号、同57-68831号、同57-101835号、同
59-182436号、特開平7-36145号、同7-199409号、特公昭
48-33692号、同50-16648号、特公平2-41734号、米国特
許4,088,497号、同4,283,487号、同4,548,896号、同5,1
87,049号がある。When antihalation dyes are used in the present invention, such dyes have the desired absorption in the desired range,
Any compound may be used as long as it has a sufficiently low absorption in the visible region after the treatment and a desirable absorbance spectrum of the back layer is obtained. For example, the following are disclosed, but the present invention is not limited thereto. As a single dye, JP-A-59-56458, JP-A-2-216140,
No. 7-13295, No. 7-11432, U.S. Pat.No.5,380,635, JP-A-2-688539, page 13, lower left column, line 1 to line 14,
The lower left column of the page, line 9, from the lower left column of page 14 of JP-A-3-24539
There are compounds described in the lower right column of page 16, and as dyes which can be decolorized by treatment, JP-A Nos. 52-139136, 53-132334, 56-50148.
No. 0, No. 57-16060, No. 57-68831, No. 57-101835, No.
No. 59-182436, JP-A-7-36145, 7-199409
No. 48-33692, No. 50-16648, Japanese Patent Publication No. 2-41734, U.S. Pat.Nos. 4,088,497, 4,283,487, 4,548,896, 5,1
There is 87,049.
【0117】本発明においてバック層の好適なバインダ
ーは透明または半透明で、一般に無色であり、天然ポリ
マー合成樹脂やポリマーおよびコポリマー、その他フィ
ルムを形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴ
ム、ポリ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロ
ース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブ
チレート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デンプ
ン、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル酸)、ポ
リ(塩化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コポリ(スチレ
ン-無水マレイン酸)、コポリ(スチレン-アクリロニトリ
ル)、コポリ(スチレン-ブタジエン)、ポリ(ビニルアセ
タール)類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)およびポリ
(ビニルブチラール))、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタ
ン)類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ
(エポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニル
アセテート)、セルロースエステル類、ポリ(アミド)類
がある。バインダーは水または有機溶媒またはエマルジ
ョンから被覆形成してもよい。In the present invention, suitable binders for the back layer are transparent or translucent, generally colorless, and include natural polymer synthetic resins, polymers and copolymers, and other film-forming media such as gelatin, gum arabic, and poly (vinyl). (Alcohol), hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, poly (vinyl pyrrolidone), casein, starch, poly (acrylic acid), poly (methyl methacrylic acid), poly (vinyl chloride), poly (methacrylic acid), copoly (Styrene-maleic anhydride), copoly (styrene-acrylonitrile), copoly (styrene-butadiene), poly (vinylacetal) s (e.g., poly (vinylformal) and poly (vinylformal)).
(Vinyl butyral)), poly (ester) s, poly (urethanes), phenoxy resin, poly (vinylidene chloride), poly (vinylidene chloride)
(Epoxides), poly (carbonates), poly (vinyl acetate), cellulose esters, and poly (amides). The binder may be coated from water or an organic solvent or emulsion.
【0118】本発明の熱現像画像形成材料が片面画像形
成材料である場合、それには、搬送性改良のために感光
性乳剤層(画像形成層)の表面保護層および/またはバ
ック層またはバック層の表面保護層にマット剤を添加し
てもよい。マット剤は、一般に水に不溶性の有機または
無機化合物の微粒子である。マット剤としては任意のも
のを使用でき、例えば米国特許第1,939,213号、同2,70
1,245号、同2,322,037号、同3,262,782号、同3,539,344
号、同3,767,448号等の各明細書に記載の有機マット
剤、同1,260,772号、同2,192,241号、同3,257,206号、
同3,370,951号、同3,523,022号、同3,769,020号等の各
明細書に記載の無機マット剤など当業界でよく知られた
ものを用いることができる。例えば具体的にはマット剤
として用いることのできる有機化合物の例としては、水
分散性ビニル重合体の例としてポリメチルアクリレー
ト、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニトリ
ル、アクリロニトリル-α-メチルスチレン共重合体、ポ
リスチレン、スチレン-ジビニルベンゼン共重合体、ポ
リビニルアセテート、ポリエチレンカーボネート、ポリ
テトラフルオロエチレンなど、セルロース誘導体の例と
してはメチルセルロース、セルロースアセテート、セル
ロースアセテートプロピオネートなど、澱粉誘導体の例
としてカルボキシ澱粉、カルボキシニトロフェニル澱
粉、尿素-ホルムアルデヒド-澱粉反応物など、公知の硬
化剤で硬化したゼラチンおよびコアセルベート硬化して
微少カプセル中空粒体とした硬化ゼラチンなど好ましく
用いることができる。無機化合物の例としては二酸化珪
素、二酸化チタン、二酸化マグネシウム、酸化アルミニ
ウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、公知の方法で減
感した塩化銀、同じく臭化銀、ガラス、珪藻土などを好
ましく用いることができる。上記のマット剤は必要に応
じて異なる種類の物質を混合して用いることができる。
マット剤の大きさ、形状に特に限定はなく、任意の粒径
のものを用いることができる。本発明の実施に際しては
0.1μm〜30μmの粒径のものを用いるのが好ましい。ま
た、マット剤の粒径分布は狭くても広くてもよい。一
方、マット剤は画像形成材料のヘイズ、表面光沢に大き
く影響することから、マット剤作製時あるいは複数のマ
ット剤の混合により、粒径、形状および粒径分布を必要
に応じた状態にすることが好ましい。When the heat-developable image-forming material of the present invention is a single-sided image-forming material, it may be provided with a surface protective layer and / or a back layer or a back layer of a photosensitive emulsion layer (image forming layer) for improving transportability. A matting agent may be added to the surface protective layer. The matting agent is generally fine particles of an organic or inorganic compound insoluble in water. Any matting agent can be used, for example, U.S. Patent Nos. 1,939,213 and 2,70
1,245, 2,322,037, 3,262,782, 3,539,344
No. 3,767,448 No., organic matting agents described in each specification such as No. 1,260,772, No. 2,192,241, No. 3,257,206,
Inorganic matting agents well-known in the art, such as inorganic matting agents described in the specifications of JP-A Nos. 3,370,951, 3,523,022, and 3,769,020 can be used. For example, specifically, examples of organic compounds that can be used as a matting agent include, as examples of water-dispersible vinyl polymers, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polyacrylonitrile, acrylonitrile-α-methylstyrene copolymer, and polystyrene. , Styrene-divinylbenzene copolymer, polyvinyl acetate, polyethylene carbonate, polytetrafluoroethylene, etc., examples of cellulose derivatives such as methylcellulose, cellulose acetate, cellulose acetate propionate, and starch derivatives such as carboxy starch, carboxynitrophenyl Gelatin hardened with a known hardener such as starch, urea-formaldehyde-starch reactant, and hardened gelatin formed into microcapsule hollow granules by coacervate hardening are preferably used. Can be. Examples of the inorganic compound include silicon dioxide, titanium dioxide, magnesium dioxide, aluminum oxide, barium sulfate, calcium carbonate, silver chloride desensitized by a known method, silver bromide, glass, and diatomaceous earth. The above matting agents can be used by mixing different types of substances as necessary.
The size and shape of the matting agent are not particularly limited, and those having an arbitrary particle size can be used. In carrying out the present invention
It is preferable to use one having a particle size of 0.1 μm to 30 μm. Further, the particle size distribution of the matting agent may be narrow or wide. On the other hand, since the matting agent greatly affects the haze and surface gloss of the image forming material, the particle size, shape, and particle size distribution should be adjusted as necessary during the preparation of the matting agent or by mixing a plurality of matting agents. Is preferred.
【0119】本発明においてバック層にマット剤を添加
するのは好ましい態様であり、バック層のマット度とし
てはベック平滑度が1200秒以下10秒以上が好ましく、さ
らに好ましくは700秒以下50秒以上である。In the present invention, it is a preferred embodiment to add a matting agent to the back layer. The matting degree of the back layer is preferably a Beck smoothness of 1200 seconds or less and 10 seconds or more, more preferably 700 seconds or less and 50 seconds or more. It is.
【0120】本発明において、マット剤は画像形成材料
の最外表面層もしくは最外表面層として機能する層、あ
るいは外表面に近い層に含有されるのが好ましく、また
いわゆる保護層として作用する層に含有されることが好
ましい。また、乳剤面保護層のマット度は星屑故障が生
じなければいかようでもよいが、ベック平滑度が500秒
以上10,000秒以下が好ましく、特に500秒以上2,000秒以
下が好ましい。In the present invention, the matting agent is preferably contained in the outermost surface layer of the image forming material, a layer functioning as the outermost surface layer, or a layer close to the outer surface, and a layer functioning as a so-called protective layer. Is preferably contained. The matte degree of the emulsion surface protective layer may be any value as long as stardust failure does not occur, but the Beck smoothness is preferably from 500 seconds to 10,000 seconds, and particularly preferably from 500 seconds to 2,000 seconds.
【0121】本発明で用いられる熱現像写真用乳剤は、
支持体上に一またはそれ以上の層を構成する。一層の構
成は有機銀塩、ハロゲン化銀、現像剤およびバインダ
ー、ならびに色調剤、被覆助剤および他の補助剤などの
所望による追加の材料を含まなければならない。二層の
構成は、第1乳剤層(通常は支持体に隣接した層)中に有
機銀塩およびハロゲン化銀を含み、第2層または両層中
にいくつかの他の成分を含まなければならない。しか
し、全ての成分を含む単一乳剤層および保護トップコー
トを含んでなる二層の構成も考えられる。多色感光性熱
現像写真材料の構成は、各色についてこれらの二層の組
合せを含んでよく、また、米国特許第4,708,928号に記
載されているように単一層内に全ての成分を含んでいて
もよい。多染料多色感光性熱現像写真材料の場合、各乳
剤層は、一般に、米国特許第4,460,681号に記載されて
いるように、各乳剤層(感光性層)の間に官能性もしく
は非官能性のバリアー層を使用することにより、互いに
区別されて保持される。米国特許第4,460,681号および
同第4,374,921号に示されるような裏面抵抗性加熱層(ba
ckside resistive heating layer)を感光性熱現像写真
画像系に使用することもできる。The heat-developable photographic emulsion used in the present invention includes:
Configure one or more layers on the support. One layer must contain additional optional materials such as organic silver salts, silver halides, developers and binders, and toning agents, coating aids and other auxiliaries. The two-layer configuration is that the first emulsion layer (usually the layer adjacent to the support) contains an organic silver salt and silver halide, and the second layer or both layers do not contain some other components. No. However, a two-layer construction comprising a single emulsion layer containing all components and a protective topcoat is also contemplated. The construction of a multicolor photothermographic material may include a combination of these two layers for each color, and may include all components in a single layer as described in U.S. Pat.No. 4,708,928. Is also good. In the case of a multi-dye, multi-color photothermographic material, each emulsion layer generally has a functional or non-functional layer between the emulsion layers (photosensitive layer), as described in U.S. Pat. No. 4,460,681. Are kept distinct from each other by using the barrier layer. U.S. Pat.No. 4,460,681 and U.S. Pat.
(ckside resistive heating layer) can also be used in the photothermographic image system.
【0122】本発明の熱現像画像形成材料における画像
形成層(感光性層)、保護層、バック層など各層には硬
膜剤を用いてもよい。硬膜剤の例としては、米国特許4,
281,060号、特開平6-208193号などに記載されているポ
リイソシアネート類、米国特許4,791,042号などに記載
されているエポキシ化合物類、特開昭62-89048号などに
記載されているビニルスルホン系化合物類などが用いら
れる。本発明の熱現像画像形成材料には塗布性、帯電改
良などを目的として界面活性剤を用いてもよい。界面活
性剤の例としては、ノニオン系、アニオン系、カチオン
系、フッ素系などいかなるものも適宜用いられる。具体
的には、特開昭62-170950号、米国特許5,380,644号など
に記載のフッ素系高分子界面活性剤、特開昭60-244945
号、特開昭63-188135号などに記載のフッ素系界面活性
剤、米国特許3,885,965号などに記載のポリシロキサン
系界面活性剤、特開平6-301140号などに記載のポリアル
キレンオキサイドやアニオン系界面活性剤などが挙げら
れる。In the heat-developable image forming material of the present invention, a hardener may be used for each layer such as an image forming layer (photosensitive layer), a protective layer and a back layer. Examples of hardeners include U.S. Pat.
No. 281,060, polyisocyanates described in JP-A-6-208193, epoxy compounds described in U.S. Pat. And the like are used. A surfactant may be used in the heat-developable image forming material of the present invention for the purpose of improving coating properties and charging. As the surfactant, any surfactant such as nonionic, anionic, cationic, and fluorine can be used as appropriate. Specifically, JP-A-62-170950, a fluoropolymer surfactant described in U.S. Patent No. 5,380,644, JP-A-60-244945
JP-A-63-188135, a fluorine-based surfactant described in JP-A-63-188135, a polysiloxane-based surfactant described in U.S. Pat. Surfactants and the like.
【0123】本発明において、熱現像用写真乳剤は、一
般的には種々の支持体上に被覆させることができる。典
型的な支持体は、ポリエステルフィルム、下塗りポリエ
ステルフィルム、ポリ(エチレンテレフタレート)フィ
ルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、硝酸セルロ
ースフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリ(ビ
ニルアセタール)フィルム、ポリカーボネートフィルム
および関連するまたは樹脂状の材料、ならびにガラス、
紙、金属などを含む。可撓性基材、特に、バライタおよ
び/または部分的にアセチル化されたα-オレフィンポ
リマー、特にポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン
−ブテンコポリマーなどの炭素数2〜10のα-オレフィン
のポリマーによりコートされた紙支持体が、典型的に用
いられる。このような支持体は透明であっても不透明で
あってもよいが、透明であることが好ましい。これらの
うちでも75〜200μm程度の2軸延伸したポリエチレンテ
レフタレート(PET)が特に好ましい。一方、プラス
チックフィルムを80℃以上の処理の熱現像機に通すと一
般にフィルムの寸法が伸縮する。処理後の材料を印刷製
版用途として使用する場合、この伸縮は精密多色印刷を
行う時に重大な問題となる。よって、本発明では二軸延
伸時にフィルム中に残存する内部歪みを緩和させ、熱現
像中に発生する熱収縮歪みをなくす工夫をした、寸法変
化の小さいフィルムを用いることが好ましい。例えば、
熱現像用写真乳剤を塗布する前に100℃〜210℃の範囲で
熱処理したポリエチレンテレフタレートなどが好ましく
用いられる。ガラス転移温度の高いものも好ましく、ポ
リエーテルエチルケトン、ポリスチレン、ポリスルフォ
ン、ポリエーテルスルフォン、ポリアリレート、ポリカ
ーボネート等が使用できる。In the present invention, the photographic emulsion for thermal development can be generally coated on various supports. Typical supports include polyester films, primed polyester films, poly (ethylene terephthalate) films, polyethylene naphthalate films, cellulose nitrate films, cellulose ester films, poly (vinyl acetal) films, polycarbonate films and related or resinous Materials, as well as glass,
Including paper, metal, etc. Flexible substrates, particularly coated with baryta and / or partially acetylated α-olefin polymers, especially polymers of C 2-10 α-olefins such as polyethylene, polypropylene, ethylene-butene copolymers A paper support is typically used. Such a support may be transparent or opaque, but is preferably transparent. Among them, biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) of about 75 to 200 μm is particularly preferred. On the other hand, when a plastic film is passed through a heat developing machine at a temperature of 80 ° C. or higher, the dimensions of the film generally expand and contract. When the processed material is used for printing plate making, this expansion and contraction becomes a serious problem when performing precision multicolor printing. Therefore, in the present invention, it is preferable to use a film having a small dimensional change, which is designed to reduce internal strain remaining in the film at the time of biaxial stretching and eliminate thermal shrinkage distortion generated during thermal development. For example,
Polyethylene terephthalate or the like, which is heat-treated at 100 ° C. to 210 ° C. before applying the photographic emulsion for thermal development, is preferably used. Those having a high glass transition temperature are also preferable, and polyether ethyl ketone, polystyrene, polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polycarbonate and the like can be used.
【0124】本発明の熱現像画像形成材料には、帯電防
止のため、例えば、可溶性塩(例えば塩化物、硝酸塩な
ど)、蒸着金属層、米国特許第2,861,056号および同第3,
206,312号に記載のようなイオン性ポリマーまたは米国
特許第3,428,451号に記載のような不溶性無機塩、特開
昭60-252349号、同57-104931号に記載されている酸化ス
ズ微粒子などを含む層を有してもよい。本発明の熱現像
画像形成材料を用いてカラー画像を得る方法としては特
開平7-13295号10頁左欄43行目から11左欄40行目に記載
の方法がある。また、カラー染料画像の安定剤としては
英国特許第1,326,889号、米国特許第3,432,300号、同第
3,698,909号、同第3,574,627号、同第3,573,050号、同
第3,764,337号および同第4,042,394号に例示されてい
る。The heat-developable image-forming material of the present invention may contain, for example, a soluble salt (for example, chloride or nitrate), a deposited metal layer, US Pat. No. 2,861,056 and US Pat.
No. 206,312 or a layer containing an insoluble inorganic salt as described in U.S. Pat. May be provided. As a method for obtaining a color image using the heat-developable image forming material of the present invention, there is a method described in JP-A-7-13295, page 10, left column, line 43 to 11 left column, line 40. Further, as a stabilizer for a color dye image, British Patent No. 1,326,889, U.S. Patent No. 3,432,300,
Nos. 3,698,909, 3,574,627, 3,573,050, 3,764,337 and 4,042,394.
【0125】本発明で用いる熱現像写真乳剤は、浸漬コ
ーティング、エアナイフコーティング、フローコーティ
ングまたは、米国特許第2,681,294号に記載の種類のホ
ッパーを用いる押出コーティングを含む種々のコーティ
ング操作により被覆することができる。所望により、米
国特許第2,761,791号および英国特許第837,095号に記載
の方法により2層またはそれ以上の層を同時に被覆する
ことができる。本発明の熱現像画像形成材料の中に追加
の層、例えば移動染料画像を受容するための染料受容
層、反射印刷が望まれる場合の不透明化層、保護トップ
コート層および光熱写真技術において既知のプライマー
層などを含むことができる。本発明の画像形成材料はそ
の画像形成材料一枚のみで画像形成できることが好まし
く、受像層等の画像形成に必要な機能性層が別の画像形
成材料とならないことが好ましい。The photothermographic emulsions used in this invention can be coated by various coating operations including dip coating, air knife coating, flow coating or extrusion coating using a hopper of the type described in US Pat. No. 2,681,294. . If desired, two or more layers can be coated simultaneously by the methods described in US Pat. No. 2,761,791 and British Patent No. 837,095. Additional layers in the heat-developable imaging element of this invention, such as a dye-receiving layer for receiving a migrating dye image, an opacifying layer if reflective printing is desired, a protective topcoat layer and those known in the photothermographic art. It may include a primer layer and the like. It is preferable that the image forming material of the present invention can form an image with only one image forming material, and it is preferable that a functional layer such as an image receiving layer necessary for image formation does not become another image forming material.
【0126】本発明の熱現像画像形成材料はいかなる方
法で現像されてもよいが、通常イメージワイズに露光し
た画像形成材料を昇温して現像される。用いられる熱現
像機の好ましい態様としては、熱現像画像形成材料をヒ
ートローラーやヒートドラムなどの熱源に接触させるタ
イプとして特公平5-56499号、特許公報第684453号、特
開平9-292695号、特開平9-297385号および国際公開WO
95/30934号に記載の熱現像機、非接触型のタイプとして
特開平7-13294号、国際公開WO97/28489号、同97/2848
8号および同97/28487号に記載の熱現像機がある。特に
好ましい態様としては非接触型の熱現像機である。好ま
しい現像温度としては80〜250℃であり、さらに好まし
くは100〜140℃である。現像時間としては1〜180秒が好
ましく、10〜90秒がさらに好ましい。The heat-developable image-forming material of the present invention may be developed by any method, but is usually developed by elevating the temperature of the image-wise exposed image-forming material. As a preferred embodiment of the heat developing machine used, as a type in which the heat-developable image forming material is brought into contact with a heat source such as a heat roller or a heat drum, Japanese Patent Publication No. 5-56499, Patent Publication No. 684453, JP-A-9-292695, JP-A-9-297385 and International Publication WO
No. 95/30934, as a non-contact type, JP-A-7-13294, WO 97/28489, and 97/2848
Nos. 8 and 97/28487. A particularly preferred embodiment is a non-contact type thermal developing machine. The preferred development temperature is 80 to 250 ° C, more preferably 100 to 140 ° C. The development time is preferably from 1 to 180 seconds, more preferably from 10 to 90 seconds.
【0127】本発明の熱現像画像形成材料の前述の熱現
像時の寸法変化による処理ムラを防止する方法として、
80℃以上115℃未満(好ましくは113℃以下)の温度で画
像が出ないようにして5秒以上加熱した後、110℃以上
(好ましくは130℃以下)で熱現像して画像形成させる
方法(いわゆる多段階加熱方法)が有効である。本発明
の画像形成材料はいかなる方法で露光されてもよいが、
露光光源としてレーザー光が好ましい。本発明によるレ
ーザー光としては、ガスレーザー、YAGレーザー、色素
レーザー、半導体レーザーなどが好ましい。また、半導
体レーザーと第2高調波発生素子などを用いることもで
きる。As a method for preventing the processing unevenness due to the dimensional change during the heat development of the heat-developable image-forming material of the present invention,
A method in which an image is not formed at a temperature of 80 ° C. or more and less than 115 ° C. (preferably 113 ° C. or less), heated for 5 seconds or more, and then thermally developed at 110 ° C. or more (preferably 130 ° C. or less) to form an image ( A so-called multi-stage heating method) is effective. The image forming material of the present invention may be exposed by any method,
Laser light is preferred as the exposure light source. As the laser beam according to the present invention, a gas laser, a YAG laser, a dye laser, a semiconductor laser and the like are preferable. Further, a semiconductor laser and a second harmonic generation element can be used.
【0128】本発明の画像形成材料は露光時のヘイズが
低く、干渉縞が発生しやすい傾向にある。この干渉縞発
生防止技術としては、特開平5-113548号などに開示され
ているレーザー光を画像形成材料に対して斜めに入光さ
せる技術や、WO95/31754号などに開示されているマルチ
モードレーザーを利用する方法が知られており、これら
の技術を用いることが好ましい。本発明の画像形成材料
を露光するにはSPIE vol.169 Laser Printing 116-128
頁(1979)、特開平4-51043号、WO95/31754号などに開示
されているようにレーザー光が重なるように露光し、走
査線が見えないようにすることが好ましい。The image forming material of the present invention has a low haze at the time of exposure and tends to cause interference fringes. Examples of this interference fringe prevention technology include a technology in which a laser beam is obliquely incident on an image forming material as disclosed in JP-A-5-113548 and a multi-mode disclosed in WO95 / 31754 and the like. Methods using lasers are known, and it is preferable to use these techniques. To expose the image forming material of the present invention, SPIE vol.169 Laser Printing 116-128
As disclosed in, for example, page (1979), JP-A-4-51043, and WO95 / 31754, exposure is preferably performed so that laser beams overlap each other so that scanning lines are not visible.
【0129】本発明の熱現像画像形成材料の熱現像処理
に用いられる熱現像機の一構成例を図1に示す。図1は
熱現像機の側面図を示したものである。内部に加熱手段
の熱源として、ハロゲンランプ1を収納した円筒状のヒ
ートドラム2の周面に複数個の送りローラー3に懸架さ
れた搬送用のエンドレスベルト4が圧接され、エンドレ
スベルト4とヒートドラム2との間に熱現像画像形成材
料5が挟まれて搬送される。搬送される間に熱現像画像
形成材料5は、現像温度まで加熱され、熱現像が行われ
る。この場合、ランプの配向は最適化され、幅方向の温
度制御が精度よく行われる。ヒートドラム2とエンドレ
スベルト4の間から熱現像画像形成材料5が送り出され
る出口6付近に、ヒートドラム2の周面の湾曲から開放
された熱現像形成材料5を平面状に矯正する矯正ガイド
板7が設けられている。この矯正ガイド板7付近におい
て、熱現像画像形成材料5の温度が所定の温度以下にな
らないように雰囲気温度を調整してある。FIG. 1 shows an example of the configuration of a heat developing machine used in the heat developing process of the heat-developable image forming material of the present invention. FIG. 1 is a side view of the heat developing machine. A transfer endless belt 4 suspended by a plurality of feed rollers 3 is pressed against the peripheral surface of a cylindrical heat drum 2 containing a halogen lamp 1 as a heat source of a heating means therein, and the endless belt 4 and the heat drum 2 is conveyed with the heat-developable image forming material 5 interposed therebetween. While being transported, the heat-developable image forming material 5 is heated to a development temperature, and heat development is performed. In this case, the orientation of the lamp is optimized, and the temperature control in the width direction is performed accurately. A correction guide plate for correcting the heat development forming material 5 released from the curvature of the peripheral surface of the heat drum 2 into a flat shape near the outlet 6 from which the heat development image forming material 5 is sent out between the heat drum 2 and the endless belt 4. 7 are provided. In the vicinity of the correction guide plate 7, the ambient temperature is adjusted so that the temperature of the heat-developable image forming material 5 does not become lower than a predetermined temperature.
【0130】出口6の下流には熱現像画像形成材料5を
送る1対の送りローラー8が設置され、その下流には送
りローラー対8に隣接して、熱現像画像形成材料5を平
面状に維持した状態で案内する1対の平面ガイド板9が
設置され、さらにその下流には平面ガイド板9に隣接し
てもう1対の送りローラー対10が設置されている。こ
の平面ガイド板9は熱現像画像形成材料5がその間を搬
送されている間に熱現像画像形成材料5が冷却されるだ
けの長さを有している。すなわち、その間に熱現像画像
形成材料5の温度が30℃以下になるまで冷却される。
この冷却手段として、冷却ファン11が設置されてい
る。以上、図示例に従って説明したが、これに限らず、
例えば特開平7−13294号に記載のものなど、本発
明に用いられる熱現像機は種々の構成のものであってよ
い。また、本発明において、好ましく用いられる多段階
加熱方法の場合は、上述のような装置において、加熱温
度の異なる熱源を2個以上設置し、連続的に異なる温度
で加熱するようにすればよい。A pair of feed rollers 8 for feeding the heat-developable image-forming material 5 is provided downstream of the outlet 6, and the heat-developable image-forming material 5 is placed downstream thereof adjacent to the pair of feed rollers 8. A pair of flat guide plates 9 for guiding while being maintained is installed, and further downstream thereof, another pair of feed rollers 10 is installed adjacent to the flat guide plate 9. The flat guide plate 9 has such a length that the heat-developable image-forming material 5 is cooled while the heat-developable image-forming material 5 is conveyed therebetween. That is, during this time, the heat-developable image forming material 5 is cooled until the temperature thereof becomes 30 ° C. or less.
As this cooling means, a cooling fan 11 is provided. As described above, the description has been given according to the illustrated example.
For example, the thermal developing machine used in the present invention, such as that described in JP-A-7-13294, may have various configurations. Further, in the case of the multi-stage heating method preferably used in the present invention, in the above-described apparatus, two or more heat sources having different heating temperatures may be provided, and heating may be performed continuously at different temperatures.
【0131】[0131]
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、
操作等は、本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更す
ることができる。したがって、本発明の範囲は以下に示
す具体例に制限されるものではない。 (実施例1)実施例1に用いた化合物を以下に示す。The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, amounts, proportions,
The operation and the like can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the following specific examples. (Example 1) The compounds used in Example 1 are shown below.
【0132】[0132]
【化16】 Embedded image
【0133】[0133]
【化17】 Embedded image
【0134】[0134]
【化18】 Embedded image
【0135】[0135]
【化19】 Embedded image
【0136】1.有機酸銀乳剤Aの調製 ベヘン酸933gを12リットルの水に添加し90℃に保ちなが
ら、水酸化ナトリウム48g、炭酸ナトリウム63gを1.5リ
ットルの水に溶解したものを添加した。30分撹拌した後
50℃とし、N-ブロモサクシイミド1%水溶液1.1リット
ルを添加し、次いで硝酸銀17%水溶液2.3リットルを撹拌
しながら徐々に添加した。さらに液温を35℃とし、撹拌
しながら臭化カリウム2%水溶液1.5リットルを2分間かけ
て添加した後30分間撹拌し、N-ブロモサクシイミド1%水
溶液2.4リットルを添加した。この水系混合物に撹拌し
ながら1.2重量%ポリ酢酸ビニルの酢酸ブチル溶液3300g
を加えた後10分間静置し2層に分離させ水層を取り除
き、さらに残されたゲルを水で2回洗浄した。こうして
得られたゲル状のベヘン酸銀および臭化銀の混合物をポ
リビニルブチラール(電気化学工業(株)製デンカブチ
ラール#3000-K)の2.6%2-ブタノン溶液1800gで分散
し、さらにポリビニルブチラール(日本モンサント
(株)製Butvar B-76)600g、イソプロピルアルコール3
00gと共に分散し有機酸銀塩乳剤(平均短径0.05μm、平
均長径1.2μm、変動係数25%の針状粒子)を得た。[0136] 1. Preparation of Organic Acid Silver Emulsion A 933 g of behenic acid was added to 12 liters of water, and while keeping at 90 ° C., a solution prepared by dissolving 48 g of sodium hydroxide and 63 g of sodium carbonate in 1.5 liters of water was added. After stirring for 30 minutes
The temperature was adjusted to 50 ° C., 1.1 L of a 1% aqueous solution of N-bromosuccinimide was added, and 2.3 L of a 17% aqueous solution of silver nitrate were gradually added with stirring. Furthermore, the liquid temperature was set to 35 ° C., 1.5 liters of a 2% aqueous solution of potassium bromide was added over 2 minutes with stirring, and the mixture was stirred for 30 minutes, and 2.4 liters of a 1% aqueous solution of N-bromosuccinimide was added. While stirring this aqueous mixture, 3300 g of a 1.2 wt% polyvinyl acetate butyl acetate solution
Was added and left standing for 10 minutes to separate into two layers, the aqueous layer was removed, and the remaining gel was washed twice with water. The gel mixture of silver behenate and silver bromide thus obtained was dispersed in 1800 g of a 2.6% 2-butanone solution of polyvinyl butyral (Denka Butyral # 3000-K, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.), and further dispersed in polyvinyl butyral ( Japan Monsanto
Butvar B-76 manufactured by Co., Ltd.) 600 g, isopropyl alcohol 3
This was dispersed together with 00 g to obtain an organic acid silver salt emulsion (acicular particles having an average minor axis of 0.05 μm, an average major axis of 1.2 μm, and a coefficient of variation of 25%).
【0137】2.乳剤層塗布液Aの調製 上記で得た有機酸銀乳剤に銀1モル当たり以下の量とな
るように各薬品を添加した。25℃で増感色素Aを520m
g、化合物(C-1)1.70g、4-クロロベンゾフェノン-2-カル
ボン酸(C-2)21.5g、カルシウムブロマイド2水塩0.90
gと2-ブタノン580g、ジメチルホルムアミド220gを撹拌
しながら添加し3時間放置した。ついで、1,1-ビス(2-
ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-トリメチル
ヘキサン(C-3)160g、硬調化剤として例示化合物B-42
を2.1g、式(1)で表される単量体から誘導される繰り
返し単位を有するポリマー化合物または比較化合物を表
2に記載の種類と量、染料(C-4)1.11g、sumidur N350
0(住友バイエルウレタン社製ポリイソシアネート)6.4
5g、メガファックスF-176P(大日本インキ化学工業
(株)製フッ素系界面活性剤)0.60g、2-ブタノン590
g、メチルイソブチルケトン10gを撹拌しながら添加し
た。[0137] 2. Preparation of Emulsion Layer Coating Solution A Each chemical was added to the above-obtained organic acid silver emulsion in the following amount per mole of silver. At 25 ° C, 520m of sensitizing dye A
g, compound (C-1) 1.70 g, 4-chlorobenzophenone-2-carboxylic acid (C-2) 21.5 g, calcium bromide dihydrate 0.90
g, 2-butanone 580 g and dimethylformamide 220 g were added with stirring and left for 3 hours. Then, the 1,1-bis (2-
(Hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane (C-3) 160 g, Exemplified compound B-42 as a contrast agent
2.1 g, a polymer compound having a repeating unit derived from a monomer represented by the formula (1) or a comparative compound, the kind and amount shown in Table 2, dye (C-4) 1.11 g, sumidur N350
0 (Sumitomo Bayer Urethane Polyisocyanate) 6.4
5 g, Megafax F-176P (a fluorinated surfactant manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.60 g, 2-butanone 590
g and 10 g of methyl isobutyl ketone were added with stirring.
【0138】3.乳剤面保護層塗布液Aの調製 CAB171-15S(イーストマンケミカル(株)製酢酸酪酸セ
ルロース)65g、フタラジン(C-5)5.6g、テトラクロロ
フタル酸(C-6)1.91g、4-メチルフタル酸(C-7)2.6
g、テトラクロロフタル酸無水物(C-8)0.67g、メガフ
ァックスF-176P 0.36g、シルデックスH31(洞海化学社
製真球状シリカ平均サイズ3μm)2g、を2-ブタノン1050
gとジメチルホルムアミド50gに溶解したものを調製し
た。[0138] 3. Preparation of Emulsion Surface Protective Layer Coating Solution A 65 g CAB171-15S (cellulose acetate butyrate manufactured by Eastman Chemical Co., Ltd.), 5.6 g phthalazine (C-5), 1.91 g tetrachlorophthalic acid (C-6), 4-methylphthalate Acid (C-7) 2.6
g, 0.67 g of tetrachlorophthalic anhydride (C-8), 0.36 g of Megafax F-176P, 2 g of Sildex H31 (average spherical silica size 3 μm manufactured by Dokai Chemical Co., Ltd.), and 2-butanone 1050
g and 50 g of dimethylformamide.
【0139】4.バック面を有した支持体の作成 ポリビニルブチラール(電気化学工業(株)製デンカブ
チラール#4000-2)6g、シルデックスH121(洞海化学社
製真球状シリカ平均サイズ12μm)0.2g、シルデックスH
51(洞海化学社製真球状シリカ平均サイズ5μm)0.2g、
0.1gのメガファックスF-176P、2-プロパノール64gに撹
拌しながら添加し溶解および混合させた。さらに、420m
gの染料Aをメタノール10gとアセトン20gに溶かした混合
溶液および3-イソシアナトメチル-3,5,5-トリメチルヘ
キシルイソシアネート0.8gを酢酸エチル6gに溶かした溶
液を添加し塗布液を調製した。両面が塩化ビニリデンを
含む防湿下塗りからなるポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上にバック面塗布液を780nmの光学濃度0.7となる
ように塗布した。上記のように調製した支持体上に乳剤
層塗布液を銀が1.6g/m2となるように塗布した後、乳剤
面上に乳剤面保護層塗布液を乾燥厚さ2.3μmとなるよう
に塗布した。[0139] 4. Preparation of a support having a back surface 6 g of polyvinyl butyral (Denka Butyral # 4000-2 manufactured by Denki Kagaku Kogyo KK), 0.2 g of Sildex H121 (average size of spherical silica 12 μm manufactured by Dokai Chemical Co., Ltd.), 0.2 g of Sildex H
0.2 g of 51 (Square silica average particle size 5μm, Dokai Chemical)
It was added to 0.1 g of Megafax F-176P and 64 g of 2-propanol with stirring to dissolve and mix. In addition, 420m
A mixed solution of g of dye A in 10 g of methanol and 20 g of acetone and a solution of 0.8 g of 3-isocyanatomethyl-3,5,5-trimethylhexyl isocyanate in 6 g of ethyl acetate were added to prepare a coating solution. A back surface coating solution was applied on a polyethylene terephthalate film having a moisture-proof undercoat containing vinylidene chloride on both sides so as to have an optical density of 0.7 at 780 nm. After silver emulsion layer coating liquid prepared support on as described above was coated to a 1.6 g / m 2, as the emulsion surface protective layer coating solution onto the emulsion surface a dry thickness of 2.3μm Applied.
【0140】5.写真性能の評価 780nmにピークを持つ干渉フィルターを介し、ステップ
ウェッジを通して発光時間10-4secのキセノンフラッシ
ュ光で露光し、117℃で20秒間処理(現像)、120℃で20
秒間処理し、得られた画像の評価を濃度計により行っ
た。測定の結果は、Dmax、カブリ(Dmin)、感度(Dmin
より1.5高い濃度を与える露光量の比の逆数)で評価し
た。感度は表1のサンプルNo.101の感度を100として
相対値で示した。特性曲線で濃度0.3と3.0の点を結ぶ直
線の傾きを階調γとして示した。結果を表2に示す。[0140] 5. Evaluation of photographic performance Exposure to xenon flash light with an emission time of 10 -4 sec through a step wedge through an interference filter having a peak at 780 nm, processing at 117 ° C for 20 seconds (development), and heating at 120 ° C for 20 seconds
After processing for 2 seconds, the obtained image was evaluated with a densitometer. The measurement results were Dmax, fog (Dmin), and sensitivity (Dmin
(The reciprocal of the ratio of the exposure amount giving a density higher than 1.5). The sensitivity was shown as a relative value with the sensitivity of sample No. 101 in Table 1 as 100. The gradient of the straight line connecting the points of density 0.3 and 3.0 in the characteristic curve is shown as gradation γ. Table 2 shows the results.
【0141】[0141]
【表2】 [Table 2]
【0142】6.結果 試料No.101〜103では、117℃現像でカブリが高く120℃
現像では更にカブリ上がり、感度の増加が大きい。本発
明の試料No.104〜114では、現像温度変化によるカブリ
増加や感度の変動が小さく押さえられていることが分か
る。[0142] 6. Result In sample Nos. 101 to 103, fog was high at 117 ° C development and 120 ° C.
In development, fog is further increased, and the sensitivity is greatly increased. It can be seen that in the samples Nos. 104 to 114 of the present invention, the increase in fog and the change in sensitivity due to the change in the developing temperature are suppressed to a small level.
【0143】(実施例2)実施例2に用いた化合物を以
下に示す。Example 2 The compounds used in Example 2 are shown below.
【0144】[0144]
【化20】 Embedded image
【0145】1.ハロゲン化銀乳剤の調製(乳剤A) 水700mlにフタル化ゼラチン11gおよび臭化カリウム30m
g、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム10mgを溶解して
温度55℃にてpHを5.0に合わせた後、硝酸銀18.6gを含む
水溶液159mlと臭化カリウムを1モル/リットルで含む水
溶液をpAg7.7に保ちながらコントロールダブルジェット
法で6分30秒間かけて添加した。ついで、硝酸銀55.5gを
含む水溶液476mlと臭化カリウムを1モル/リットルで含
むハロゲン塩水溶液をpAg7.7に保ちながらコントロール
ダブルジェット法で28分30秒間かけて添加した。その後
pHを下げて凝集沈降させて脱塩処理をし、化合物Aを0.
17g、脱イオンゼラチン(カルシウム含有量として20ppm
以下)を23.7g加え、pH5.9、pAg8.0に調整した。得られ
た粒子は平均粒子サイズ0.11μm、投影面積変動係数8
%、(100)面比率93%の立方体粒子であった。こうして得
たハロゲン化銀粒子を60℃に昇温して銀1モル当たりベ
ンゼンチオスルホン酸ナトリウム76μモルを添加し、3
分後にチオ硫酸ナトリウム154μモルを添加して、100分
熟成した。その後、40℃に温度を保ち、ハロゲン化銀1
モルに対して6.4×10-4モルの増感色素B、6.4×10-3モ
ルの化合物Bを攪拌しながら添加し、20分後に30℃に急
冷してハロゲン化銀乳剤Aの調製を終了した。 1. Preparation of silver halide emulsion (Emulsion A) 11 g of phthalated gelatin and 30 m of potassium bromide in 700 ml of water
g, dissolving 10 mg of sodium benzenethiosulfonate, adjusting the pH to 5.0 at a temperature of 55 ° C., and keeping an aqueous solution containing 18.6 g of silver nitrate and an aqueous solution containing potassium bromide at 1 mol / liter at pAg 7.7. It was added over 6 minutes and 30 seconds by the control double jet method. Then, 476 ml of an aqueous solution containing 55.5 g of silver nitrate and a halogen salt aqueous solution containing 1 mol / l of potassium bromide were added by a control double jet method over 28 minutes and 30 seconds while keeping the pAg at 7.7. afterwards
The pH was lowered to cause coagulation sedimentation and desalting treatment.
17g, deionized gelatin (calcium content 20ppm
23.7 g) were added to adjust the pH to 5.9 and pAg8.0. The obtained particles have an average particle size of 0.11 μm and a projected area variation coefficient of 8
%, (100) face ratio of 93%. The silver halide grains thus obtained were heated to 60 ° C., and 76 μmol of sodium benzenethiosulfonate was added per 1 mol of silver.
One minute later, 154 μmol of sodium thiosulfate was added, and the mixture was aged for 100 minutes. After that, keep the temperature at 40 ° C,
6.4 × 10 -4 moles of sensitizing dye B and 6.4 × 10 -3 moles of compound B were added with stirring, and after 20 minutes, the mixture was rapidly cooled to 30 ° C. to complete the preparation of silver halide emulsion A. did.
【0146】2.有機酸銀分散物の調製(有機酸銀A) アラキジン酸6.1g、ベヘン酸37.6g、蒸留水700ml、tert
-ブタノール70ml、1N-NaOH水溶液123mlを混合し、75℃
で1時間撹拌し反応させ、65℃に降温した。次いで、硝
酸銀22gの水溶液112.5mlを45秒かけて添加し、そのまま
5分間放置し、30℃に降温した。その後、吸引濾過で固
形分を濾別し、固形分を濾水の伝導度が30μS/cmになる
まで水洗した。こうして得られた固形分は、乾燥させな
いでウエットケーキとして取り扱い、乾燥固形分100g
相当のウエットケーキに対し、ポリビニルアルコール
(商品名:PVA-205)5gおよび水を添加し、全体量を500
gとしてからホモミキサーにて予備分散した。次に予備
分散済みの原液を分散機(商品名:マイクロフルイダイ
ザーM−110S−EH、マイクロフルイデックス・イ
ンターナショナル・コーポレーション製、G10Zイン
タラクションチャンバー使用)の圧力を1750kg/cm2に調
節して、三回処理し、有機酸銀分散物Aを得た。こうし
て得た有機酸銀分散物に含まれる有機酸銀粒子は平均短
径0.04μm、平均長径0.8μm、変動係数30%の針状粒子で
あった。粒子サイズの測定は、Malvern Instruments Lt
d.製MasterSizerXにて行った。冷却操作は蛇管式熱交換
器をインタラクションチャンバーの前後に各々装着し、
冷媒の温度を調節することで所望の分散温度に設定し
た。こうして、ベヘン酸銀含有率85モル%の有機酸銀A
を調製した。[0146] 2. Preparation of organic acid silver dispersion (organic acid silver A) 6.1 g of arachidic acid, 37.6 g of behenic acid, 700 ml of distilled water, tert
-Butanol 70ml, 1N-NaOH aqueous solution 123ml mixed, 75 ℃
The mixture was stirred for 1 hour to react, and the temperature was lowered to 65 ° C. Then, 112.5 ml of an aqueous solution of 22 g of silver nitrate was added over 45 seconds, and
It was left for 5 minutes, and the temperature was lowered to 30 ° C. Thereafter, the solid content was separated by suction filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of the filtrate became 30 μS / cm. The solid content thus obtained is treated as a wet cake without drying, and the dry solid content is 100 g.
Considerable wet cake, polyvinyl alcohol
(Product name: PVA-205) Add 5g and water to make the total amount 500
g and then predispersed with a homomixer. Next, the pressure of the predispersed undiluted solution was adjusted to 1750 kg / cm 2 by using a dispersing machine (trade name: Microfluidizer M-110S-EH, manufactured by Microfluidics International Corporation, using a G10Z interaction chamber). This was repeated to obtain an organic acid silver dispersion A. The organic acid silver particles contained in the organic acid silver dispersion thus obtained were needle-like particles having an average minor axis of 0.04 μm, an average major axis of 0.8 μm, and a variation coefficient of 30%. Particle size measurements are available from Malvern Instruments Lt.
d. Performed with MasterSizerX. For cooling operation, install a coiled heat exchanger before and after the interaction chamber, respectively.
The desired dispersion temperature was set by adjusting the temperature of the refrigerant. Thus, organic acid silver A having a silver behenate content of 85 mol% was prepared.
Was prepared.
【0147】3. 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチ
ルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサンの固体微粒子分
散物の調製 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-
トリメチルヘキサン70gに対してクラレ(株)製MPポリ
マーのMP-203を14gと水266mlを添加してよく撹拌して、
スラリーとして3時間放置した。その後、0.5mmのジルコ
ニアシリケートビーズを960g用意してスラリーと一緒に
ベッセルに入れ、分散機(1/4Gサンドグラインダーミ
ル:アイメックス(株)製)にて5時間分散し還元剤固体
微粒子分散物を調製した。粒子径は、粒子の80wt%が0.3
μm以上1.0μm以下であった。[0147] 3. 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethyl
Ruphenyl) -3,5,5-trimethylhexane
Preparation of powder 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-
To 70 g of trimethylhexane, 14 g of MP-203 of Kuraray Co., Ltd. and 266 ml of water were added and stirred well,
The slurry was left for 3 hours. Thereafter, 960 g of 0.5 mm zirconia silicate beads were prepared, put into a vessel together with the slurry, and dispersed with a dispersing machine (1 / 4G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) for 5 hours to obtain a dispersion of solid fine particles of a reducing agent. Prepared. The particle size is 80 wt% of the particles 0.3
It was not less than μm and not more than 1.0 μm.
【0148】4. 式(1)で表される単量体から誘導
される繰り返し単位を有するポリマー化合物の固体微粒
子分散物の調製 式(1)で表される単量体から誘導される繰り返し単位
を有するポリマー化合物例P-5 30gに対してクラレ(株)
製MPポリマーのMP-203を4g、化合物C0.25gと、水66
gを添加しよく撹拌し、その後、0.5mmのジルコニアシリ
ケートビーズを200g用意してスラリーと一緒にベッセル
に入れ、分散機(1/16Gサンドグラインダーミル:
アイメックス(株)製)にて5時間分散し固体微粒子分散
物を調製した。粒子径は、粒子の80wt%が0.3μm以上1.0
μm以下であった。式(1)で表される単量体から誘導
される繰り返し単位を有するポリマー化合物の他種化合
物および比較化合物についても上記と同様な方法で分散
し固体微粒子分散物を調製した。[0148] 4. Derived from monomer represented by formula (1)
Fine Particles of Polymer Compounds Having Repeating Units
Kuraray the child dispersed polymer compound having a repeating unit derived from a monomer represented by Preparation formula (1) of the Composition Example P-5 30 g (Ltd.)
4 g of MP-203, 0.25 g of compound C, and 66 parts of water
g, and stirred well, and then 200 g of 0.5 mm zirconia silicate beads were prepared and placed in a vessel together with the slurry, and the dispersion machine (1 / 16G sand grinder mill:
The mixture was dispersed for 5 hours by using IMEX Co., Ltd. to prepare a solid fine particle dispersion. The particle diameter is 80% by weight of the particles is 0.3 μm or more and 1.0
μm or less. Other kinds of polymer compounds having a repeating unit derived from the monomer represented by the formula (1) and comparative compounds were dispersed in the same manner as described above to prepare solid fine particle dispersions.
【0149】5.超硬調化剤の固体微粒子分散物の調製 前記の化合物例B-42 10gに対してクラレ(株)製ポバール
PVA-217 2.5gと水87.5ml添加してよく撹拌して、スラリ
ーとし、その後、式(1)で表される単量体から誘導さ
れる繰り返し単位を有するポリマー化合物の調製と同様
にして固体微粒子分散物を調製した。粒子径は、粒子の
80wt%が0.3μm以上1.0μm以下であった。[0149] 5. Preparation of solid fine particle dispersion of ultra-high contrast agent Kuraray Co., Ltd.
2.5 g of PVA-217 and 87.5 ml of water were added, and the mixture was stirred well to form a slurry. Thereafter, a solid was prepared in the same manner as in the preparation of the polymer compound having a repeating unit derived from the monomer represented by the formula (1). A fine particle dispersion was prepared. The particle size is
80 wt% was 0.3 μm or more and 1.0 μm or less.
【0150】6.乳剤層塗布液の調製 上記で作成した有機酸銀微結晶分散物の銀1モルに対し
て、以下のバインダー、素材、およびハロゲン化銀乳剤
Aを添加して、水を加えて、乳剤層塗布液とした。 バインダー;ラックスター3307B 固形分として 470g (大日本インキ化学工業(株)製;SBRラテックスでガラス転移温度17℃) 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン 固形分として 110g 式(1)で表される単量体から誘導される繰り返し単位を有するポリマー化合物 表3に量と種類を記載 ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム 0.1g 6-メチルベンゾトリアゾール 1.35g ポリビニルアルコール(クラレ(株)製MP-203) 46g 6-iso-ブチルフタラジン 0.12mol 染料B 0.62g ハロゲン化銀乳剤A Ag量として0.05mol 超硬調化剤 例示化合物B-42の固体分散物 B-42として 8.5g[0150] 6. Preparation of Emulsion Layer Coating Solution The following binder, material, and silver halide emulsion A were added to 1 mol of silver of the organic acid silver microcrystal dispersion prepared above, and water was added. Liquid. Binder; Luck Star 3307B 470 g as solids (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc .; glass transition temperature of 17 ° C. with SBR latex) 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5 , 5-trimethylhexane 110g as solid content Polymer compound having a repeating unit derived from a monomer represented by the formula (1) The amount and type are described in Table 3. Sodium benzenethiosulfonate 0.1g 6-methylbenzotriazole 1.35 g polyvinyl alcohol (MP-203, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 46 g 6-iso-butylphthalazine 0.12 mol Dye B 0.62 g Silver halide emulsion A 0.05 mol as Ag amount Ultra-high contrast agent Solid dispersion of Exemplified Compound B-42 8.5g for B-42
【0151】7.乳剤面保護層塗布液の調製 固形分27.5wt%のポリマーラテックス(メチルメタクリ
レート/スチレン/2-エチルヘキシルアクリレート/2-
ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸=59/9
/26/5/1の共重合体でガラス転移温度55℃)109gにH2
O 3.75gを加え、造膜助剤としてベンジルアルコール4.
5g、化合物D 0.45g、化合物E 0.125g、化合物F1.70
g、およびポリビニルアルコール(クラレ(株)製,PVA-
217)0.285gを加え、さらにH2Oを加えて、150gとし、塗
布液とした。[0151] 7. Preparation of Coating Solution for Emulsion Surface Protective Layer Polymer latex having a solid content of 27.5 wt% (methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexyl acrylate / 2-
Hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid = 59/9
/ 26/5/1 copolymer with a glass transition temperature of 55 ° C) 109 g of H 2
O 3.75 g was added, and benzyl alcohol 4.
5 g, Compound D 0.45 g, Compound E 0.125 g, Compound F 1.70
g, polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., PVA-
217) 0.285 g was added, and further H 2 O was added to 150 g to prepare a coating solution.
【0152】8.バック/下塗り層のついたPET支持体
の作成 (1)支持体 テレフタル酸とエチレングリコールを用い、常法に従
い、IV(固有粘度)=0.66(フェノール/テトラクロル
エタン=6/4(重量比)中25℃で測定)のPETを得
た。これをペレット化した後、130℃で4時間乾燥し、3
00℃で溶融後T型ダイから押し出して急冷し、熱固定後
の膜厚が120μmになるような厚みの未延伸フイルムを
作成した。これを周速の異なるロールを用い、3.3倍に
縦延伸、ついでテンターで4.5倍に横延伸を実施した。
このときの温度はそれぞれ、110℃、130℃であった。こ
の後、240℃で20秒間熱固定後これと同じ温度で横方向
に4%緩和した。この後、テンターのチャック部をスリッ
トした後、両端にナール加工を行い、4.8kg/cm2で巻き
とった。このようにして、幅2.4m、長さ3500m、厚み120
μmのロールを得た。[0182] 8. PET support with backing / priming layer
Preparation of (1) Support PET (intrinsic viscosity) = 0.66 (measured in phenol / tetrachloroethane = 6/4 (weight ratio) at 25 ° C.) using terephthalic acid and ethylene glycol according to a conventional method. Was. After pelletizing this, it was dried at 130 ° C for 4 hours,
After being melted at 00 ° C., the film was extruded from a T-die and quenched to prepare an unstretched film having a thickness of 120 μm after heat setting. This was longitudinally stretched 3.3 times using rolls having different peripheral speeds, and then horizontally stretched 4.5 times using a tenter.
The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. After that, it was heat-set at 240 ° C. for 20 seconds and relaxed 4% in the lateral direction at the same temperature. Then, after slitting the chuck portion of the tenter, knurling was performed on both ends, and the film was wound at 4.8 kg / cm 2 . Thus, width 2.4m, length 3500m, thickness 120
A μm roll was obtained.
【0153】 (2)下塗り層(a) ポリマーラテックス−(1) スチレン/ブタジエン/ヒドロキシエチルメタクリレート/ジビニルベンゼン =67/30/2.5/0.5(重量%) 160mg/m2 2,4-ジクロロ-6-ヒドロキシ-s-トリアジン 4mg/m2 マット剤(ポリスチレン、平均粒子径2.4μm) 3mg/m2 (3)下塗り層(b) アルカリ処理ゼラチン (Ca2+含量30ppm、ゼリー強度230g) 50mg/m2 染料B 780nmの光学濃度が1.0になる塗布量 (4)導電層 ジュリマーET-410(日本純薬(株)製) 96mg/m2 ゼラチン 50mg/m2 化合物A 0.2mg/m2 ポリオキシエチレンフェニルエーテル 10mg/m2 スミテックスレジンM-3 18mg/m2 (水溶性メラミン化合物 住友化学工業(株)製) 染料B 780nmの光学濃度が1.0になる塗布量 SnO2/Sb(9/1重量比、針状微粒子、長軸/短軸=20〜30;石原産業(株)製) 120mg/m2 マット剤(ポリメチルメタクリレート、平均粒子径5μm) 7mg/m2 (2) Undercoat layer (a) Polymer latex- (1) Styrene / butadiene / hydroxyethyl methacrylate / divinylbenzene = 67/30 / 2.5 / 0.5 (% by weight) 160 mg / m 2 2,4-dichloro-6 -Hydroxy-s-triazine 4 mg / m 2 Matting agent (polystyrene, average particle size 2.4 μm) 3 mg / m 2 (3) Undercoat layer (b) Alkali-treated gelatin (Ca 2+ content 30 ppm, jelly strength 230 g) 50 mg / m 2 Dye B Coating amount at which the optical density of 780 nm becomes 1.0 (4) Conductive layer Julimer ET-410 (manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.) 96 mg / m 2 Gelatin 50 mg / m 2 Compound A 0.2 mg / m 2 Polyoxyethylene Phenyl ether 10 mg / m 2 Sumitex resin M-3 18 mg / m 2 (Water-soluble melamine compound manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) Dye B Coating amount at which the optical density of 780 nm becomes 1.0 SnO 2 / Sb (9/1 weight ratio, acicular particles, a long axis / short axis = 20-30; Ishihara Sangyo Co., Ltd.) 120 mg / m 2 matting agent (polymethyl Rate, the average particle diameter 5μm) 7mg / m 2
【0154】 (5)保護層 ポリマーラテックス−(2) メチルメタクリレート/スチレン/2−エチルヘキシルアクリレート/ 2−ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸 =59/9/26/5/1(重量%の共重合体) 1000mg/m2 ポリスチレンスルホン酸塩(分子量1000〜5000) 2.6mg/m2 セロゾール524(中央油脂(株)製) 30mg/m2 スミテックスレジンM-3 218mg/m2 (水溶性メラミン化合物、住友化学工業(株)製)(5) Protective Layer Polymer Latex- (2) Methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid = 59/9/26/5/1 (weight% copolymer) 1000 mg / m 2 polystyrene sulfonate (molecular weight: 1000 to 5000) 2.6 mg / m 2 cellosol 524 (manufactured by Chuo Yushi Co., Ltd.) 30 mg / m 2 Sumitex Resin M-3 218 mg / m 2 (water-soluble melamine compound, Sumitomo Chemical Industry Co., Ltd.)
【0155】支持体の片面に下塗り層(a)と下塗り層(b)
を順次塗布し、それぞれ180℃、4分間乾燥した。つい
で、下塗り層(a)と下塗り層(b)を塗布した反対側の面に
導電層と保護層を順次塗布し、それぞれ180℃、30秒間
乾燥してバック/下塗り層のついたPET支持体を作成し
た。このようにして作成したバック/下塗り層のついた
PET支持体を150℃に設定した全長30mの熱処理ゾーンに
入れ、張力14g/cm2、搬送速度20m/分で自重搬送した。
その後、40℃のゾーンに15秒間通し、10kg/cm2の巻き取
り張力で巻き取った。An undercoat layer (a) and an undercoat layer (b) are formed on one side of the support.
Were sequentially applied and dried at 180 ° C. for 4 minutes. Then, a conductive layer and a protective layer are sequentially coated on the opposite side to which the undercoat layer (a) and the undercoat layer (b) have been applied, and dried at 180 ° C. for 30 seconds, respectively, for a PET support having a back / undercoat layer. It was created. With the back / priming layer created in this way
The PET support was placed in a heat treatment zone with a total length of 30 m set at 150 ° C. and transported under its own weight at a tension of 14 g / cm 2 and a transport speed of 20 m / min.
Thereafter, the film was passed through a zone at 40 ° C. for 15 seconds, and wound up at a winding tension of 10 kg / cm 2 .
【0156】9.熱現像画像形成材料の調製 前記バック/下塗り層のついたPET支持体の下塗り層の
上に前記の乳剤層塗布液を塗布銀量1.6g/m2になるよう
に塗布した。さらにその上に、前記乳剤面保護層塗布液
をポリマーラテックスの固形分の塗布量が2.0g/m2にな
るように塗布した。[0156] 9. It was applied so that the emulsion layer coating solution on a PET support undercoat layer equipped with a prepared the back / subbing layer of the heat developable image-forming material on the coated silver amount 1.6 g / m 2. Further, the coating liquid for the emulsion surface protective layer was applied thereon so that the coating amount of the solid content of the polymer latex was 2.0 g / m 2 .
【0157】10.写真性能の評価 (露光処理)得られた塗布サンプルを780nmにピークを有
する干渉フィルターおよびステップウェッジを介して、
発光時間10-6秒のキセノンフラッシュ光で露光した。 (熱現像処理)露光済みのサンプルを図1の熱現像機にて
117℃で20秒間、120℃で20秒間熱現像処理を行った。な
お、図1のドラム式熱現像機は、ランプの配光を最適化
し、幅方向の温度制御を±1℃で行った。また、矯正ガ
イド板7付近において熱現像画像形成材料の温度が90
℃以下にならないように雰囲気温度を調整した。 (写真性能の評価)得られた画像の評価をマクベスTD904
濃度計(可視濃度)により行った。測定の結果は、Dmax、
カブリ(Dmin)、感度(Dminより1.5高い濃度を与える露光
量の比の逆数)、階調(コントラスト)で評価した。感
度についてはサンプルNo.201の感度を100とした。コン
トラストは露光量の対数を横軸として、濃度0.3と3.0の
点を結ぶ直線の傾きで表した。[0157] 10. Evaluation of photographic performance (exposure processing) through the coating sample obtained through an interference filter and a step wedge having a peak at 780 nm,
Exposure was performed with xenon flash light having an emission time of 10-6 seconds. (Heat development processing) The exposed sample is processed by the heat development machine shown in FIG.
Heat development was performed at 117 ° C. for 20 seconds and at 120 ° C. for 20 seconds. In the drum type heat developing machine of FIG. 1, the light distribution of the lamp was optimized, and the temperature control in the width direction was performed at ± 1 ° C. Further, the temperature of the heat-developable image forming material in the vicinity of the correction guide plate 7 is 90 °.
The ambient temperature was adjusted so that the temperature did not fall below ℃. (Evaluation of photographic performance) Macbeth TD904
The measurement was performed using a densitometer (visible density). The result of the measurement is Dmax,
Evaluation was made based on fog (Dmin), sensitivity (reciprocal of the ratio of the exposure amount giving a density 1.5 higher than Dmin), and gradation (contrast). The sensitivity of sample No. 201 was set to 100. Contrast was represented by the slope of a straight line connecting points of density 0.3 and 3.0, with the logarithm of the exposure amount as the horizontal axis.
【0158】[0158]
【表3】 [Table 3]
【0159】(結果)本発明で用いる特定の化合物を組
み合わせて使用することにより、超硬調性を満足しなが
らカブリにくく、現像温度変動に対してもカブリ耐性が
よい熱現像画像形成材料が得られた。(Results) By using the specific compounds used in the present invention in combination, a heat-developable image-forming material which satisfies the super-high contrast property, is hardly fogged, and has good fog resistance even when the developing temperature fluctuates. Was.
【0160】(実施例3)実施例1のポリハロゲン比較
化合物−1〜3および式(1)で表される単量体から誘
導される繰り返し単位を有するポリマー化合物の例示化
合物P−5、P−9、P−13を160℃60分加熱し、加
熱前後の重量変化を調べた結果、比較化合物−1および
2では約20%、比較化合物−3では約50%の重量変
化が見られたが、例示化合物P−5,P−9およびP−
13では全く重量変化が見られなかった。(Example 3) Exemplified compounds P-5 and P-5 of polymer compounds having a repeating unit derived from the monomer represented by the formula (1) and the polyhalogen comparative compounds-1 to 3 of Example 1 -9 and P-13 were heated at 160 ° C. for 60 minutes, and the weight change before and after heating was examined. As a result, about 20% of the weight change was observed for Comparative Compounds 1 and 2, and about 50% for the Comparative Compound-3. Is exemplified compounds P-5, P-9 and P-
In No. 13, no change in weight was observed.
【0161】[0161]
【発明の効果】本発明によれば、揮散性の殆ど無いポリ
ハロゲン化合物を用いることで人体や環境への悪影響が
小さく、かつ、硬調で熱現像条件の変動に対してもカブ
リが極めて小さい印刷製版用に適した熱現像超硬調画像
形成材料が得られる。According to the present invention, by using a polyhalogen compound having almost no volatility, the adverse effect on the human body and the environment is small, and the printing is hard and the fog is extremely small even when the heat development conditions fluctuate. A heat-developable ultrahigh contrast image forming material suitable for plate making is obtained.
【図1】本発明に用いる熱現像機の一構成例を示す側面
図である。FIG. 1 is a side view showing a configuration example of a heat developing machine used in the present invention.
1 ハロゲンランプ 2 ヒートドラム 3 送りローラ 4 エンドレスベルト 5 熱現像画像形成材料 6 出口 7 ガイド板 8 送りローラー対 9 平面ガイド板 10 送りローラ−対 11 冷却ファン DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Halogen lamp 2 Heat drum 3 Feed roller 4 Endless belt 5 Thermal development image forming material 6 Exit 7 Guide plate 8 Feed roller pair 9 Flat guide plate 10 Feed roller pair 11 Cooling fan
Claims (5)
(a)還元可能な銀塩、(b)還元剤、(c)バインダ
ー、(d)式(1)で表されるポリハロゲン化合物の単
量体から誘導される繰り返し単位を有するポリマーを含
有することを特徴とする熱現像画像形成材料。 【化1】 [式(1)において、Htは芳香環基、またはヘテロ環
基を表し、E1およびE2はそれぞれ独立にハロゲン原子
を表し、Wは水素原子または電子求引性基を表す。Rは
置換基を表し、kは0〜4の整数を表す。Qはエチレン
性不飽和基、またはエチレン性不飽和基を有する基を表
し、mは1〜3の整数を表す。nは1または2の整数を
表す。k、mおよびnが2以上の整数を表す場合、2以
上存在する各々の基は同一でも異なっていてもよい。]1. At least one surface of a support,
It contains (a) a reducible silver salt, (b) a reducing agent, (c) a binder, and (d) a polymer having a repeating unit derived from a monomer of the polyhalogen compound represented by the formula (1). A heat-developable image forming material, comprising: Embedded image [In the formula (1), Ht represents an aromatic ring group or a heterocyclic group, E 1 and E 2 each independently represent a halogen atom, and W represents a hydrogen atom or an electron-withdrawing group. R represents a substituent, and k represents an integer of 0 to 4. Q represents an ethylenically unsaturated group or a group having an ethylenically unsaturated group, and m represents an integer of 1 to 3. n represents an integer of 1 or 2. When k, m and n represent an integer of 2 or more, the groups present in 2 or more may be the same or different. ]
化銀を有することを特徴とする請求項1の熱現像画像形
成材料。2. The heat-developable image forming material according to claim 1, further comprising (e) photosensitive silver halide on the same surface.
が臭素原子である、請求項1または2の熱現像画像形成
材料。3. In the above formula (1), E 1 , E 2 and W
3. The heat-developable image-forming material according to claim 1, wherein is a bromine atom.
することを特徴とする請求項1〜3の何れかの熱現像画
像形成材料。4. The heat-developable image forming material according to claim 1, further comprising (f) a super-high contrast agent on the same surface.
び式(4)で表される化合物から選ばれる請求項4の熱
現像画像形成材料。 【化2】 [式(2)において、R1、R2およびR3はそれぞれ独立
に水素原子または置換基を表し、Zは電子吸引性基また
はシリル基を表す。式(2)においてR1とZ、R2と
R3、R1とR2、およびR3とZは、それぞれ互いに結合
して環状構造を形成していてもよい。式(3)において、
R4は置換基を表す。式(4)において、XおよびYはそ
れぞれ独立に水素原子または置換基を表し、AおよびB
はそれぞれ独立にアルコキシ基、アルキルチオ基、アル
キルアミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、ア
ニリノ基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基またはヘ
テロ環アミノ基を表す。式(4)においてXとY、および
AとBは、それぞれ互いに結合して環状構造を形成して
いてもよい。]5. The heat-developable image-forming material according to claim 4, wherein the super-high contrast agent is selected from the compounds represented by formulas (2), (3) and (4). Embedded image [In the formula (2), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing group or a silyl group. In the formula (2), R 1 and Z, R 2 and R 3 , R 1 and R 2 , and R 3 and Z may be mutually bonded to form a cyclic structure. In equation (3),
R 4 represents a substituent. In the formula (4), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent;
Each independently represents an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group, a heterocyclic oxy group, a heterocyclic thio group or a heterocyclic amino group. In the formula (4), X and Y, and A and B may be bonded to each other to form a cyclic structure. ]
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11133273A JP2000347344A (en) | 1999-03-29 | 1999-05-13 | Heat-developable image forming material |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11-87298 | 1999-03-29 | ||
| JP8729899 | 1999-03-29 | ||
| JP11133273A JP2000347344A (en) | 1999-03-29 | 1999-05-13 | Heat-developable image forming material |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000347344A true JP2000347344A (en) | 2000-12-15 |
Family
ID=26428586
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11133273A Pending JP2000347344A (en) | 1999-03-29 | 1999-05-13 | Heat-developable image forming material |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000347344A (en) |
-
1999
- 1999-05-13 JP JP11133273A patent/JP2000347344A/en active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH11282128A (en) | Heat-developable photosensitive material | |
| JPH11282123A (en) | Heat-developable photosensitive material | |
| JPH11295845A (en) | Heat-developable photosensitive material | |
| JP2000035631A (en) | Heat-developable photosensitive material | |
| JP2000284412A (en) | Heat developable photographic material | |
| JP2000330234A (en) | Heat-developable recording material | |
| JP2001235833A (en) | Heat developable photosensitive material | |
| JP4008148B2 (en) | Photothermographic material | |
| JP2000112070A (en) | Heat-developable photosensitive material | |
| JP2000221634A (en) | Heat-developable sensitive material | |
| JP2000112066A (en) | Image forming method using heat-developable photosensitive material | |
| JP2000206642A (en) | Photosensitive heat-developable image forming material | |
| JP2000098534A (en) | Production of heat developable photosensitive material | |
| JP3893433B2 (en) | Photothermographic material | |
| JPH11271920A (en) | Photosensitive heat-developable image forming material | |
| JP4008149B2 (en) | Photothermographic material | |
| JP2000019678A (en) | Heat developable image recording material | |
| JP3893434B2 (en) | Photothermographic material | |
| JP4012337B2 (en) | Thermally developed image recording material | |
| JP2000194090A (en) | Production of heat developable photosensitive material | |
| JP2000347344A (en) | Heat-developable image forming material | |
| JP2000284399A (en) | Heat developable photosensitive material | |
| JP2000112072A (en) | Heat-developable photosensitive material | |
| JP2000347345A (en) | Photosensitive heat-developable image forming material | |
| JP2000267221A (en) | Heat developable image forming material |