JP2000353370A - 負圧溝に形成する圧力制御溝で浮上量を制御できる磁気ヘッドスライダ及びそれを搭載した磁気ディスク装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気ヘッドスライダの負圧溝に形成する圧力
調整溝により磁気ヘッドスライダの浮上量を制御するこ
と。 【解決手段】 レール面６，７，１１、レール面より深
いステップ軸受け５，８，９、ステップ軸受け面より深
い負圧溝１２、からなる浮上面３と、空気流入端２と、
空気流出端４と、を備えた磁気ヘッドスライダにおい
て、空気流入端側に、レール面とステップ軸受けで形成
されるフロントパッドと、空気流出端側に、レール面と
ステップ軸受けで形成されるとともに、フロントパッド
と負圧溝で隔てられたリアパッドと、リアパッドのレー
ル面の空気流出端近傍に設けられた磁気トランスデュー
サと、リアパッドの空気流入側の負圧溝に、負圧溝より
深く形成された圧力制御溝と、を備え、圧力制御溝は、
直線又は曲線で囲まれた領域を負圧溝に形成し、空気流
出端近傍の浮上量を減少させる磁気ヘッドスライダ。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気ヘッドスライダ
に関し、より詳しくは、磁気ヘッドスライダの負圧溝に
形成する圧力制御溝によってスライダの浮上量を制御す
ることができる磁気ヘッドスライダであり、さらに、こ
の磁気ヘッドスライダを搭載した磁気ディスク装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスク装置では、回転するディス
ク記録媒体上で微少な間隔を保ちながら浮上する磁気ヘ
ッドスライダが使用されている。通常、磁気ヘッドスラ
イダはスライダの空気流出端にデイスク記録媒体に対し
て情報を記録・再生する磁気トランスデュ−サを備えて
おり、記録密度を高めるためにビット密度を高めること
とトラック幅をさらに狭くすることが求められる。

【０００３】さらに、可能な限りディスク記録媒体に近
接した低浮上状態で磁気ヘッドスライダを浮上させるこ
とが要求される。低浮上状態で充分な信頼性をもってデ
ータの記録・再生を実現するには、磁気ヘッドスライダ
の浮上量変化、すなわち、浮上量ばらつきを小さく維持
することが重要な課題となっている。

【０００４】磁気ヘッドスライダの浮上量ばらつきを低
減するためには、磁気ヘッドスライダとして負圧スライ
ダを使用することが有効であり、広く一般に使用されて
いる。この負圧スライダはディスク記録媒体とスライダ
の浮上面の間で発生する空気膜の剛性が高いため、スラ
イダを支持するサスペンションの荷重、姿勢角や、サス
ペンションの振動、ディスク記録媒体のうねり振動等の
外乱に起因するスライダの浮上量ばらつきを小さくする
ことが可能であり、低浮上化に有効である。

【０００５】しかしながら、磁気ヘッドスライダの低浮
上化に対する要求は年々厳しくなり、ディスク記録媒体
と接触を生じない状態で可能な限り浮上量を下げること
が求められ、その浮上量は２０ｎｍ以下に達している。

【０００６】このような低浮上化の実現手段として従来
のディスク記録媒体上で磁気ヘッドスライダが起動・停
止するＣＳＳ方式を見直し、磁気ヘッドスライダを装置
停止時にはディスク記録媒体上から退避するロード・ア
ンロード方式の採用が進んでいる。このロード・アンロ
ード方式の採用で磁気ヘッドスライダの低浮上化の阻害
要因となるディスク記録媒体上の突起（スライダの停止
時にスライダと当接するもの）を無くすことが可能とな
り、低浮上化を加速した。こうしたヘッド・ディスク・
インタフェースでは、磁気ヘッドスライダがディスク記
録媒体に極めて近接して浮上しているためにスライダの
浮上量ばらつきは小さく維持しなければならない。

【０００７】また、温度上昇や大気圧以下で使用された
場合の浮上量の低下が大きいことも低浮上化を妨げる要
因となるため、できる限りこれら環境変化に対する感度
も小さくしなければならない。しかし、従来の負圧スラ
イダの考え方では、これらの要求を同時に満足すること
が困難になりつつある。

【０００８】そこで、上述した厳しい要求に応じられる
負圧スライダとして、従来の負圧スライダに比べて比較
的浅い負圧溝とテーパに比べ軸受け効果の高いサブミク
ロンの深さを有するステップ軸受けを採用した負圧スラ
イダが提案されている。このような負圧スライダは、こ
れに関する技術を記載した先行引用文献に述べられてい
るように、この負圧スライダは空気軸受け効果の大きな
サブミクロンの深さを有するステップ軸受けを採用し、
負圧溝で発生する負圧力が最大となる深さで設計するこ
とで温度及び気圧変化に対する浮上量の変化を低減で
き、また、従来の負圧スライダに比べて大きな負圧力を
利用することで、空気膜の剛性がさらに高く、サスペン
ションの荷重や姿勢角変化に起因する浮上量ばらつきが
小さい特徴を有している。

【０００９】しかし、この負圧スライダで採用している
サブミクロンの深さを有するステップ軸受けの加工精度
が、浮上量ばらつきに及ぼす影響が大きく、浮上量ばら
つきの原因の半分以上を占めることになり、極めて厳し
い加工精度が要求される。

【００１０】また、このステップ軸受けは、通常、イオ
ンミリング等の加工法で形成されるため、一度に加工さ
れる数量が多く、ロット単位で浮上量の平均値シフトが
出現する。このことは、ステップ軸受けの加工工程での
良否が磁気ヘッドスライダの浮上歩留まりを大きく左右
する原因となり、コスト的に困難な問題を生じる。

【００１１】また、ステップ軸受け以外の加工起因の浮
上量ばらつきも存在し、これらも磁気ヘッドスライダの
低浮上化には阻害要因である。しかし、加工技術の高精
度化には時間と費用が必要であるため、現状の加工プロ
セス内で磁気ヘッドスライダの加工起因で生じる浮上量
変化を補正する方法が今後の低浮上化に向けて必用とさ
れている。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、磁気
ヘッドスライダの負圧溝に形成する圧力制御溝の形状、
大きさ、深さ、形成位置を制御することでスライダの浮
上量を制御することでスライダの浮上量ばらつきを低減
する磁気ヘッドスライダと、この磁気ヘッドスライダを
搭載した磁気ディスク装置を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明は主として次のような構成を採用する。

【００１４】レール面、前記レール面より深いステップ
軸受け、前記ステップ軸受け面より深い負圧溝、からな
る浮上面と、空気流入端と、空気流出端と、を備えた磁
気ヘッドスライダにおいて、前記空気流入端側に、前記
レール面と前記ステップ軸受けで形成されるフロントパ
ッドと、前記空気流出端側に、前記レール面と前記ステ
ップ軸受けで形成されるとともに、前記フロントパッド
と前記負圧溝で隔てられたリアパッドと、前記リアパッ
ドの前記レール面の空気流出端近傍に設けられた磁気ト
ランスデューサと、前記リアパッドの空気流入側の前記
負圧溝に、前記負圧溝より深く形成された圧力制御溝
と、を備え、前記圧力制御溝は、直線又は曲線で囲まれ
た領域を前記負圧溝に形成し、前記空気流出端近傍の浮
上量を減少させる磁気ヘッドスライダ。

【００１５】また、レール面、前記レール面より深いス
テップ軸受け、前記ステップ軸受け面より深い負圧溝、
からなる浮上面と、空気流入端と、空気流出端と、を備
えた磁気ヘッドスライダにおいて、前記空気流入端側
に、前記レール面と前記ステップ軸受けで形成されるフ
ロントパッドと、前記空気流出端側に、前記レール面と
前記ステップ軸受けで形成されるとともに、前記フロン
トパッドと前記負圧溝で隔てられたリアパッドと、前記
リアパッドの前記レール面の空気流出端近傍に設けられ
た磁気トランスデューサと、前記リアパッドへの空気流
入経路から外れ且つ前記負圧溝の圧力勾配の高い箇所
に、前記負圧溝より深く形成された圧力制御溝と、を備
え、前記圧力制御溝は、直線及び又は曲線で囲まれた領
域を前記負圧溝に形成し、前記空気流出端近傍の浮上量
を増加させる磁気ヘッドスライダ。

【００１６】また、レール面、前記レール面より深いス
テップ軸受け、前記ステップ軸受け面より深い負圧溝、
からなる浮上面と、空気流入端と、空気流出端と、を備
えた磁気ヘッドスライダにおいて、前記空気流入端側
に、前記レール面と前記ステップ軸受けで形成されるフ
ロントパッドと、前記空気流出端側に、前記レール面と
前記ステップ軸受けで形成されるとともに、前記フロン
トパッドと前記負圧溝で隔てられたリアパッドと、前記
リアパッドの前記レール面の空気流出端近傍に設けられ
た磁気トランスデューサと、前記フロントパッドで囲ま
れる負圧溝に、前記負圧溝より深く形成された圧力制御
溝と、を備え、前記圧力制御溝は、直線及び又は曲線で
囲まれた領域を前記負圧溝に形成し、前記空気流入端側
の浮上量を減少させる磁気ヘッドスライダ。

【００１７】また、レール面、前記レール面より深いス
テップ軸受け、前記ステップ軸受け面より深い負圧溝、
からなる浮上面と、空気流入端と、空気流出端と、を備
えた磁気ヘッドスライダにおいて、前記空気流入端側
に、前記レール面と前記ステップ軸受けで形成されるフ
ロントパッドと、前記空気流出端側に、前記レール面と
前記ステップ軸受けで形成されるとともに、前記フロン
トパッドと前記負圧溝で隔てられたリアパッドと、前記
リアパッドの前記レール面の空気流出端近傍に設けられ
た磁気トランスデューサと、前記リアパッドの空気流入
側の前記負圧溝に、前記負圧溝より深く形成された第１
の圧力制御溝と、前記フロントパッドで囲まれる負圧溝
に、前記負圧溝より深く形成された第２の圧力制御溝
と、を備え、前記第１の圧力制御溝は、直線又は曲線で
囲まれた領域を前記負圧溝に形成し、前記空気流出端近
傍の浮上量を減少させ、前記第２の圧力制御溝は、直線
及び又は曲線で囲まれた領域を前記負圧溝に形成し、前
記空気流入端側の浮上量を減少させる磁気ヘッドスライ
ダ。

【００１８】また、レール面、前記レール面より深いス
テップ軸受け、前記ステップ軸受け面より深い負圧溝、
からなる浮上面と、空気流入端と、空気流出端と、を備
えた磁気ヘッドスライダにおいて、前記空気流入端側
に、前記レール面と前記ステップ軸受けで形成されるフ
ロントパッドと、前記空気流出端側に、前記レール面と
前記ステップ軸受けで形成されるとともに、前記フロン
トパッドと前記負圧溝で隔てられたリアパッドと、前記
リアパッドの前記レール面の空気流出端近傍に設けられ
た磁気トランスデューサと、前記リアパッドの空気流入
側の前記負圧溝に、前記負圧溝より深く形成された圧力
制御溝と、を備え、前記圧力制御溝は直線又は曲線で囲
まれた領域を前記負圧溝に形成し、前記圧力制御溝の深
さは、前記空気流出端近傍の浮上量を変化させる形状又
は寸法に関連付けされて形成される磁気ヘッドスライ
ダ。

【００１９】

【発明の実施の形態】本発明の第１の実施形態に係る磁
気ヘッドスライドについて、図１〜図８を用いて以下説
明する。図１は本発明の第１の実施形態に係る磁気ヘッ
ドスライダを示す斜視図であり、図２は本発明が有効な
効果を発揮できる典型的な磁気ヘッドスライダを示す図
である。

【００２０】図２に示す磁気ヘッドスライダ１は、空気
流入端２、浮上面３及び空気流出端４を備えて構成され
ている。ここで、浮上面３は、空気流入端２から続いて
形成されたフロントステップ軸受け５、このフロントス
テップ軸受け５から続いて形成された一対のサイドレー
ル面６，７、前記サイドレール面から連続形成された前
記フロントステップ軸受けより深い負圧溝、フロントス
テップ軸受け５と同一深さを有する一対のサイドステッ
プ軸受け８，９、からなるフロントパッド１３と、スラ
イダ１の空気流出端４側のセンタレール面１１、フロン
トステップ軸受け５と同一深さでセンタレール面１１を
囲むように形成されたリアステップ軸受け１０、からな
るセンタパッド１４と、から構成される。

【００２１】図２の磁気ヘッドスライダ１の長さは１．
２５ｍｍ、幅は１．０ｍｍ、厚さは０．３ｍｍであり、
フロントステップ軸受け５の空気流入端２から一対のレ
ール面６及び７までの距離は０．０８ｍｍ、一対のサイ
ドレール面６，７及びセンタレール面１１を基準とした
フロントステップ軸受けの深さδｓは１５０ｎｍであ
る。一対のサイドレール面６，７のスライダ長手方向の
最大長さは０．４５ｍｍ、スライダ短手方向の最大幅は
０．３０５ｍｍであり、最大長さに対し最大幅は０．６
８倍である。

【００２２】図３はサイドレール面６，７、センタレー
ル面１１と、フロントステップ軸受け５、サイドステッ
プ軸受け７，８、リアステップ軸受け１０と、負圧溝１
２の相対関係を説明するために、図２中のＡ−Ａ’線断
面図である。図３において一対のサイドステップ軸受け
８，９及びリアステップ軸受け１０の深さは、前述した
ようにフロントステップ軸受け５の深さδｓ＝１５０ｎ
ｍと同一である（以下、総称でステップ軸受けと呼ぶこ
ともある）。

【００２３】一対のサイドレール面６，７及びセンタレ
ール面１１（以下、総称でレール面と呼ぶこともあ
る。）を基準とした負圧溝１２の深さＲは１μｍであ
る。センタパッド１４のセンタレール面１１にはディス
ク記録媒体２５に対して情報を記録・再生する磁気トラ
ンスデューサ１９を有している。

【００２４】図２に示した磁気ヘッドスライダを搭載し
た磁気ディスク装置２８の平面図を図４に示す。この磁
気ディスク装置２８は略＋７°〜−１５°のヨ−角変化
を伴う２．５インチのディスク記録媒体２５を搭載して
いる。ここで、ヨー角は、スライダ１がディスク記録媒
体２５に対向して位置し、回転アクチュエ−タ２７によ
る揺動運動によってスライダ１にディスク記録媒体２５
の円周に沿って空気が流入する方向とスライダ１の長手
方向のなす角である。

【００２５】ヨー角の符号はスライダ１の長手方向に対
しディスク記録媒体２５の内周側から空気が流入する方
向を正と表している。この磁気ディスク装置２８は、回
転数４２００ｒｐｍで回転するスピンドル２６に取り付
けられたディスク記録媒体２５と、回転アクチュエ−タ
２７からキャリッジ２４とサスペンション２０を介し
て、サスペンション２０の先端に取り付けられたスライ
ダ１とから構成される。

【００２６】スライダ１はサスペンション２０によって
ディスク記録媒体２５上に２．７ｇｆの力で押しつけら
れ、ディスク記録媒体２５の回転よって生じる空気の流
れがスライダ１とディスク記録媒体２５間に入り込むこ
とによって、スライダ１はディスク記録媒体２５から浮
上量２２ｎｍ程度で浮上する。スライダ１は回転アクチ
ュエ−タ２７によってディスク記録媒体２５上において
略１５〜２９ｍｍの任意の半径位置で精度よく位置決め
され、スライダ１のセンタパッド１４に搭載された磁気
トランスデュ−サ１９によりディスク記録媒体２５に対
して任意の位置で情報の記録・再生が行われる。

【００２７】図４で示した磁気ディスク装置２８で使用
する図２に示す磁気ヘッドスライダ１のステップ軸受け
の深さδｓに対するセンタレール面１１の空気流出端４
近傍の浮上量変化を図５に示す。図５の縦軸で＋数値が
大きくなるほどスライダが媒体から遠ざかり、−数値が
大きくなるほどスライダが媒体に近づくことを表す。

【００２８】図５の浮上量変化はスライダ１がディスク
記録媒体２５上で半径位置１５ｍｍ（内周）、２２ｍｍ
（中周）及び２９ｍｍ（外周）に位置したときの変化を
それぞれ示している。ここで、ステップ軸受けの深さδ
ｓを横軸に選んだ理由として、ステップ軸受けの加工量
変化の浮上量に及ぼす影響が他の要因（たとえば、レー
ル面の平面度（通常、クラウン／キャンバとして管理さ
れる）面積、スライダ１の長さ等）に比べ特に大きいこ
とによる。その割合は既存の加工精度ではスライダ１の
浮上量ばらつきの６割近くを占める。

【００２９】このことは図５のグラフにも如実に示され
ている。ステップ軸受けの深さδｓの設計（ノミナル）
値からの変化量が±２０ｎｍの場合、浮上量変化は内周
で２〜３ｎｍ、中周及び外周で４〜５ｎｍに及ぶ。詳細
には、ステップ軸受け深さδｓが深くなる側（図５でＡ
側）では、スライダ１がディスク記録媒体２５上を内
周、中周そして外周に移動したときの浮上量の変化を表
す浮上プロファイル（以下、単に浮上プロファイル）
は、設計でほぼ一定であったものが内周で２〜３ｎｍ程
度高くなり、外周でさらに高い外周上がりとなる。この
浮上プロファイルの変化は、スライダ１に搭載した磁気
トランスデューサ１９の情報を記録・再生する場合、出
力の減少の原因となり好ましくない。

【００３０】一方、ステップ軸受けの深さδｓが浅くな
る側（図５でＢ側）では、スライダ１の浮上プロファイ
ルは、内周で２〜３ｎｍ程度低く、外周でさらに低くな
るため、外周下がりとなる。この浮上プロファイルの変
化は、スライダ１とディスク記録媒体２５との接触の危
険性を増加させるため、これもまた好ましくない。

【００３１】一般にスライダ１はある程度の加工ばらつ
きをもって製作され、上述のステップ軸受けのように、
加工ばらつきはスライダ１の浮上量を変化させる。スラ
イダ１の低浮上化には、浮上量ばらつきの低減が必須で
あり、そのためにはステップ軸受けの深さδｓ等の加工
精度を向上することが考えられる。しかし、加工精度の
向上には高精度加工装置等への投資が必要である。

【００３２】そこで、コスト上昇を小さく押さえながら
現状の加工装置と加工精度のもとで浮上量ばらつきを小
さくする新たな手法としてスライダ１の浮上量を制御す
る機能を有する磁気ヘッドスライダを創案したので以下
に本発明の内容をいくつかの実施形態を示しながら説明
する。

【００３３】図１は本発明による磁気ヘッドスライダの
第１実施形態を示す斜視図、図６は同じく平面図、図７
は図６中のＡ−Ａ’線断面図である。図示するように本
発明による磁気ヘッドスライダ１は図２で示した典型的
な磁気ヘッドスライダ１の構成をとることが必要であ
る。

【００３４】本発明による磁気ヘッドスライダ１は、セ
ンタパッド１４のリアステップ軸受け１０の空気流入側
に広がる負圧溝１２にこの負圧溝１２より深い圧力制御
溝３０を有する。この圧力制御溝３０の形状、深さ、面
積、形成位置と個数でスライダ１の浮上量の制御を可能
とするところが本発明による磁気ヘッドスライダであ
る。

【００３５】まず、図１又は図６で示した磁気ヘッドス
ライダ１の負圧溝１２に形成した圧力制御溝３０は、浮
上面３内で見た場合、単純な長方形であり、スライダ１
長手方向の短辺の長さは０．０８ｍｍ、スライダ１短手
方向の長辺の長さはセンタパッド１４（このパッド１４
はスライダのセンターに配されているのでセンタパッド
と称するが、スライダの後方にも配置されているので、
フロントパッドとの対比でリアパッドとも称する）とほ
ぼ同じである。

【００３６】また、負圧溝１２に形成した圧力制御溝３
０の長辺とセンタパッド１４のリアステップ軸受け１０
の空気流入端までの最小距離Ｄｒが３０μｍであり、圧
力制御溝３０の長辺はリアステップ軸受け１０の空気流
入端と平行である。ここで、最小距離Ｄｒは、ステップ
軸受けの空気流入端面と、その垂線上で圧力制御溝で最
も近接している部位と、の距離を表しており、例えば、
圧力制御溝が円形形状であれば、ステップ軸受け空気流
入端面とその端面に最も近い円形の円周上の点との距離
を云う。

【００３７】この圧力制御溝３０はあくまでも一例であ
り、形状は円形、３辺以上の多角形または任意の閉曲線
を形成する形状であってもよい。また、面積及び負圧溝
１２に形成した圧力制御溝３０の長辺とリアパッド１４
のリアステップ軸受け１０の空気流入端までの最小距離
Ｄｒは、好ましくは、０μｍ＜Ｄｒ＜１００μｍであり
（この数値はコンピュータシミュレーションで実証でき
た）、形状あるいは面積と密接に関係する。さらに、圧
力制御溝３０は２箇所以上に存在しても良い。

【００３８】レール面を基準にした圧力制御溝３０の深
さＲｃａｖｉｔｙは制御する浮上量に応じて任意に設定
することができる。図６に示す本発明の第１実施形態に
よる磁気ヘッドスライダ１を図４の磁気ディスク装置で
使用した場合のセンタレール面１１の空気流出端４近傍
での浮上量の圧力制御溝３０の深さＲｃａｖｉｔｙに対
する変化を図８に示す。図８で示すように圧力制御溝３
０の深さＲｃａｖｉｔｙは、スライダ１の浮上量を減少
させる方向に作用していることがわかる（図８で縦軸の
数値が大きくなるほど浮上量が減少してスライダが媒体
に近づくことを表す）。

【００３９】内周では、その効果は小さく、Ｒｃａｖｉ
ｔｙが２μｍ、すなわち、負圧溝１２の深さＲに比べ２
倍の深さで浮上量を２ｎｍ程度下げる効果を示す。しか
し、スライダ１の浮上量の減少量は、２μｍ以上ではＲ
ｃａｖｉｔｙに対して飽和しており、浮上量の減少量を
大きくすることはできない。

【００４０】一方、中周そして外周では浮上量の減少量
が飽和する圧力制御溝３０の深さＲｃａｖｉｔｙが深
く、浮上量の減少量も大きくなる傾向がある。浮上量の
最大減少量は外周で６ｎｍ程度でその圧力制御溝３０の
深さは３μｍである。このような半径位置によって浮上
量の減少量が異なる特性は利用できる。

【００４１】すなわち、前述したようなステップ軸受け
の深さδｓが過剰加工により深くなりすぎてスライダ１
の浮上プロファイルが外周上がりになった場合、ここで
示した浮上量の減少に作用する圧力制御溝３０の深さＲ
ｃａｖｉｔｙを補正したい浮上量に応じて設定すること
で、過剰加工で生じた浮上量の増加を再び適切な浮上量
に補正することが可能となる。

【００４２】この機能を利用することは磁気ヘッドスラ
イダ１の浮上量ばらつきを小さくするのに有効である。
最も浮上量に対して大きな感度を有するステップ軸受け
の深さδｓを管理し、ある管理値を超えて深く為りすぎ
た場合に、この圧力制御溝３０を適応すれば、極めて小
さな浮上量ばらつきを実現でき、浮上量ばらつきを小さ
くした分だけ磁気ヘッドスライダ１の低浮上化が可能と
なる。この手法を好ましくは、溝形成を行うイオンミリ
ングと同一工程で実施すれば磁気ヘッドスライダ１の浮
上量の平均値を一定に保つ効果が得られる。

【００４３】以上の説明では、浮上量を変化させる要因
としてステップ軸受けの深さδｓを挙げたが、これ以外
にも例えば、レール面の平面度、負圧溝深さ、レールの
太さ等によっても、前記ステップ軸受けの深さδｓに比
べれば小さいものの、浮上量が変化することが確かめら
れている。従って、これらの浮上量を変化させる形状、
寸法等の要因に関連させて圧力制御溝の深さを決めるこ
ともできる。

【００４４】本発明による磁気ヘッドスライダ１の圧力
制御溝３０の深さＲｃａｖｉｔｙは補正する浮上量が比
較的大きい場合、図８に示すように圧力制御溝３０の深
さＲｃａｖｉｔｙに対する浮上量の感度が小さい。たと
えば、図８中の最も高い感度を示す外周でみると、浮上
量を４．２ｎｍ程度補正する場合の圧力制御溝３０の深
さＲｃａｖｉｔｙは１．８μｍであり、その付近の感度
は３ｎｍ／μｍ程度である。補正する浮上量を１ｎｍの
精度で制御しようとすると０．３３μｍの加工精度が必
要となる。この加工精度は加工量の１８％程度であり
（１００×０．３３／１．８）、イオンミリング加工に
よれば余裕をもって実現できる。

【００４５】圧力制御溝３０は負圧溝１２及センタパッ
ド１４での圧力状態を変化させることでスライダ１の浮
上量を制御する。この圧力制御溝３０の形成に際してレ
ール面やステップ軸受け面の平面形状は小さく抑えてお
く必要がある。なぜなら、平面形状の変化が大きい場
合、その平面形状も浮上量の変化を引き起こすため、精
度の良い浮上量制御性を実現することが困難となるため
である。

【００４６】したがって、圧力制御溝３０の形成方法
は、ステップ軸受けや負圧溝１２を形成する同一の加工
法、たとえばイオンミリングが好ましく、その他の加工
歪の発生がなるべく小さいその他既存の加工方法で形成
する必要がある。特開平７−１５３０５０号公報にスラ
イダの負圧溝あるいはスライダの裏面にレーザあるいは
ダイヤモンドカッタ等で引っ掻いてスクライブを入れる
ことで積極的に平面度を調節する方法が開示されている
が、この方法では、レール面及びステップ軸受けの平面
形状が大きく変化してしまい、高精度な浮上量制御性を
実現することは困難であると考えられる。

【００４７】以上述べたような磁気ヘッドスライダ１の
負圧溝１２に形成する圧力制御溝３０によって浮上量を
制御する本発明の他の実施形態について、以下説明す
る。

【００４８】図９は、本発明の第２の実施形態に係る磁
気ヘッドスライダを示す平面図である。本発明による第
２の実施形態の磁気ヘッドスライダ１は、第１の実施形
態と同じく図２で示した磁気ヘッドスライダ１と同じ構
成をとり、特徴としては負圧溝１２に形成する圧力制御
溝３０が５つの円形パターンで構成される点である。こ
の円形パターンの圧力制御溝３０について各々の直径が
５０μｍで、円形パターンの圧力制御溝３０の輪郭線と
リアステップ軸受け１０の空気流入端との間の最小距離
Ｄｒが３０μｍである。

【００４９】ここでは、５つの円形パターンの圧力制御
溝３０が形成されているが、そのリアステップ軸受け１
０の空気流入端との間の距離は５つのパターンですべて
同一である（図９で空気流入端の各辺とそれに直交する
線で円形パターンの最も近い部位との距離である。この
際、５つの円形パターンに対応する空気流入端の辺は、
図９の場合、３つの辺がある）。また、各円形パターン
の圧力制御溝３０について中心間のピッチ間隔は８０μ
ｍである。以上のような複数の独立した円形パターンを
センタパッド１４の周辺に形成することで第１の実施形
態の磁気ヘッドスライダ１と同じく、圧力制御溝３０の
深さＲｃａｖｉｔｙによりスライダ１の浮上量を制御す
ることが可能である。

【００５０】次に、スライダ１の浮上量の制御よりも浮
上姿勢角の制御に効果を発揮する圧力制御溝３０につい
て実施形態をあげて説明する。図１０が本発明の第３の
実施形態に係る磁気ヘッドスライダを示す平面図であ
る。

【００５１】この第３の実施形態の磁気ヘッドスライダ
も第１の実施形態と同様に図２で示した典型的な磁気ヘ
ッドスライダ１と同じ構成をとる。第３の実施形態の磁
気ヘッドスライダの特徴は、負圧溝１２に形成する圧力
制御溝３０をフロントパッド１３で囲まれる負圧溝１２
に形成するところである。この位置に形成する圧力制御
溝３０は負圧溝１２で発生する負圧力がわずかながら増
加させる作用があり、スライダ１の空気流入端２側の浮
上量が減少する（媒体に近づく）。一方、スライダ１の
空気流出端４側にあるセンタパッド１４で発生する圧力
にはほとんど影響しない。

【００５２】したがって、結果的に浮上姿勢角が小さく
なる働きを生じる。この働きを利用すれば浮上姿勢角を
浮上量と同じく制御することが可能となる。

【００５３】このような浮上姿勢角を制御するパターン
が必要とされる背景には、第１の実施形態及び第２の実
施形態の磁気ヘッドスライダでは、センタパッド１４の
周辺の負圧溝１２に形成する圧力制御溝３０の効果によ
り浮上量は低下するが、空気流入端２側の浮上量は変化
しない。したがって、浮上姿勢角が増加してしまうた
め、その浮上姿勢角の増加のみを制御して流出端近傍の
浮上量は変化させない作用が必要となる。

【００５４】図１１は本発明の第４の実施形態に係る磁
気ヘッドスライダを示す平面図である。第４の実施形態
では、第２の実施形態で示す磁気ヘッドスライダは浮上
姿勢角の制御効果を円形パターンでも実現できる構成例
である。

【００５５】図１２は本発明の第５の実施形態に係る磁
気ヘッドスライダを示す平面図である。第５の実施形態
の磁気ヘッドスライダ１では、図２で示した磁気ヘッド
スライダ１と空気流出端２側に位置するパッドが異な
る。第５の実施形態の磁気ヘッドスライダ１では、一対
のサイドパッド１４ａ、１４ｂがあり、それぞれサイド
リアステップ軸受け１０ａ、１０ｂと、このサイドリア
ステップ軸受け１０ａ、１０ｂに続いて形成されたサイ
ドレール面１１ａ、１１ｂから構成される。

【００５６】サイドリアステップ軸受け１０ａ、１０ｂ
の深さはフロントステップ軸受け５の深さδｓ＝１５０
ｎｍで同一である。また、ディスク記録媒体２５に対し
て情報を記録・再生する磁気トランスデューサ１９は一
対のサイドパッドのいずれか一方、あるいは両方に形成
される。第５の実施形態の磁気ヘッドスライダ１では、
第１及び２の実施形態の磁気ヘッドスライダの浮上量制
御機能を一対のサイドパッド１４ａ，１４ｂのサイドリ
アステップ軸受けの空気流入側に広がる負圧溝１２に形
成する圧力制御溝３０により実現するものである。この
圧力制御溝３０の形状及びサイドリアステップ軸受け１
０ａ，１０ｂの空気流入端との間の最小距離Ｄｒは３０
μｍである。

【００５７】第５の実施形態の磁気ヘッドスライダ１の
圧力制御溝３０は左右の形状を異なるものとすること
で、浮上量の制御だけでなく、浮上量アンバランス、す
なわち、スライダ短手方向の浮上姿勢角も制御可能とな
る。したがって、左右の圧力制御溝３０の対称性には何
ら制約はない。

【００５８】図１３は本発明の第６の実施形態に係る磁
気ヘッドスライダを示す平面図である。第６の実施形態
の磁気ヘッドスライダ１では、第５の実施形態とほとん
ど同様に構成をとる。異なる点は、圧力制御溝３０を複
数の円形パターンで形成するものであり、浮上量及びス
ライダ短手方向の制御効果は同じである。

【００５９】図１４は本発明の第７の実施形態に係る磁
気ヘッドスライダを示す平面図、図１５は同じく第８の
実施形態を示す平面図、図１６は同じく第９の実施形態
を示す平面図、図１７は同じく第１０の実施形態を示す
平面図である。

【００６０】図１４から図１７に示した第７から第１０
の実施形態の磁気ヘッドスライダ１は、浮上量を増加さ
せる（スライダを媒体から遠ざける）方向に作用する機
能を有する。この機能は本発明の第１から第６の実施形
態で示した浮上量低減作用の反対の作用である。この作
用は、負圧溝１２に形成する圧力制御溝３０の位置を空
気流入側から空気流出側に向かってサイドステップ軸受
け８及び９によって囲まれる負圧溝１２より、負圧が大
気圧へ遷移する領域に圧力制御溝３０を形成することで
実現できる。この作用は負圧溝１２で空気流入側から空
気流出側にかけて、圧力制御溝３０が負圧の発生領域を
縮小し、大気圧に近い領域を増加させる働きによる。

【００６１】付言するに、負圧溝に圧力制御溝を形成す
る場合の浮上作用についてであるが、圧力制御溝を設け
ると、負圧溝で発生した負圧を減少させてスライダを媒
体から遠ざける第１の作用と、圧力制御溝を設置するこ
とによるパッドでの圧力発生を低下させてスライダを媒
体に近付ける第２の作用とを奏するのであり、この場
合、圧力制御溝の設置個所によって、第１と第２の作用
の効き目が異なるのである。即ち、図１に示すように、
圧力制御溝をセンタパッドの手前直近に配すれば、第２
の作用が第１の作用より効いてスライダが媒体に近づく
のである。一方、図１４のように、負圧から大気圧に遷
移するというような圧力勾配が大きい箇所で且つパッド
から離れた箇所に圧力制御溝を設置すると負圧を一層減
少させて、第１の作用が第２の作用より効いてスライダ
が媒体から遠ざかるのである。

【００６２】浮上量を増加させる方向に作用する負圧溝
１２に形成する圧力制御溝３０の例を第７から第１０の
実施形態について説明する。図１４に示す第７の実施形
態の磁気ヘッドスライダ１では、スライダ長手方向の長
辺が１５０μｍ、スライダ短手方向の短辺が８０μｍの
長方形の圧力制御溝３０が、その長方形のスライダ長手
方向の中央部がほぼサイドステップ軸受けの終端付近に
あり、サイドステップ軸受け８及び９のスライダ内側の
辺とセンタパッド１４のスライダ１の外側の辺との間隔
の中央に圧力制御溝３０の中央線がくるような位置にあ
り、対称な位置にも圧力制御溝３０がある。

【００６３】この圧力制御溝３０による浮上量の増加作
用は深さに対して鈍感であり、前述した浮上量の減少作
用に比較するとその制御性は小さい。

【００６４】したがって、ステップ深さの例で見るとス
テップ深さが過小加工の場合、図５のＢ側で生じる浮上
量が小さい状態に対して、浮上量を増加させることに利
用できる。すなわち、図５に示すステップ軸受けの過小
深さでスライダが媒体に近付いた分だけ、図１４に示す
圧力制御溝の設置によりスライドを媒体から遠ざけよう
とするものである。このとき、加工する圧力制御溝３０
の深さＲｃａｖｉｔｙは負圧溝１２の１．５倍程度で良
く、加工量に対して浮上量の変化が飽和しているために
低い加工精度で加工できる。

【００６５】第８の実施形態の磁気ヘッドスライダ１は
第７の実施形態の磁気ヘッドスライダ１の圧力制御溝３
０として長方形パターンに変わって、直径５０μｍの円
形パターンをピッチ８０μｍで直列に配置したものであ
る。この実施形態も浮上量増加の作用を実現できる。

【００６６】さらに、第９の実施形態及び第１０の実施
形態による磁気ヘッドスライダ１はセンタパッド１４に
変わり、サイドパッド１４ａ、１４ｂを有する例であ
る。圧力制御溝３０を形成する位置はスライダ長手方向
にはその分布の中央がサイドステップの終端であり、ス
ライダ短手方向にはスライダの中央である。圧力制御溝
３０の形状はそれぞれ長方形、複数の円形パターンであ
るが、その外の形状でも構わない。これらの実施形態に
よる磁気ヘッドスライダも圧力制御溝３０の深さＲｃａ
ｖｉｔｙを負圧溝１２の１．５倍ぐらいで形成すれば浮
上量を増加させる作用を得ることが可能であり、浮上量
の制御に利用できる。

【００６７】以上が本発明による負圧溝１２に形成する
圧力制御溝３０によって浮上量を制御できる磁気ヘッド
スライダの実施形態である。最後に、具体的に本発明を
利用して浮上量の制御をした構成例を用いその有効性に
ついて説明する。

【００６８】図１８が本発明による磁気ヘッドスライダ
の第１１の実施形態を示す平面図である。第１１の実施
形態は図２で示した磁気ヘッドスライダ１に対して、浮
上量を制御するために第１の実施形態で説明したセンタ
パッド１４の空気流入端側に広がる負圧溝１２に形成し
た多角形のリア圧力制御溝３０ａと、浮上姿勢角を制御
する目的でフロントパッド１３の負圧溝１２に形成した
多角形のフロント圧力制御溝３０ｂを備えている。

【００６９】ここで、リア圧力制御溝３０ａとリアステ
ップ軸受け１０の空気流入端との最小距離Ｄｒは３０μ
ｍであり、フロント圧力制御溝３０ｂとフロントステッ
プ軸受け５の空気流出端との最小距離Ｄｆは１００μｍ
である。

【００７０】第１１の実施形態の磁気ヘッドスライダ１
を図４で示した磁気ディスク装置２８で使用した場合に
ついて説明する。まず、リア圧力制御溝３０ａとフロン
ト圧力制御溝３０ｂを形成しないサンプル、すなわち、
図２で示したような典型的な磁気ヘッドスライダ１を設
計時のサンプルとしてその浮上プロファイルを図１９に
示してある。これに対してステップ軸受けの深さδｓを
ノミナルの１５０ｎｍに対して２０ｎｍ過剰に加工して
しまったサンプルの浮上プロファイルも示す。

【００７１】そして、ステップ軸受けの深さを過剰加工
してまった前述のサンプルに対して、浮上量を制御する
ために第１１の実施形態の磁気ヘッドスライダ１につい
て１．６μｍのリア圧力制御溝３０ａとフロント圧力制
御溝３０ｂを形成したサンプルの浮上プロファイルの比
較を図１９に示す。

【００７２】図１９では、設計時のサンプルの浮上プロ
ファイルは内周から外周にかけて１．８ｎｍ上昇する程
度である。一方、ステップ深さを設計よりも２０ｎｍ過
剰加工となったサンプルでは、内周で１．８ｎｍ、外周
で６ｎｍ近く浮上量が増加し外周上がりの浮上プロファ
イルとなってしまっている。

【００７３】これに対して、本発明による圧力制御溝３
０を第１１の実施形態のように深さ１．６μｍで形成す
ることによって、浮上量を内周でほぼ設計値に、外周で
設計値より０．８ｎｍ程度高い程度の値に補正されてお
り本発明の有効性が示されている。

【００７４】次に、本発明の実施形態に係る磁気ヘッド
スライダの製造方法について説明する。ウエハを切断し
てその浮上面・裏面をラッピングした後に、深い溝を形
成して図１に示すような負圧溝１２を形成する。続い
て、浅い溝を形成して図１に示すようなステップ軸受け
５，８，９，１０を形成する。次に、前記ステップ軸受
けの深さを測定してその設計値からのシフト量を求め
る。前記深さ測定値、シフト量に基づいて圧力制御溝３
０を形成し、その際の図７に示すような圧力制御溝の深
さＲｃａｖｉｔｙは図８に示すようなデータに基づいて
形成する。このように、ステップ軸受けのレール面１１
からの深さδｓを測定しその測定値に基づいて圧力制御
溝３０の深さＲｃａｖｉｔｙを求めて形成するのであ
る。

【００７５】図１４に示す圧力制御溝３０を設置するの
はスライダを媒体から遠ざける作用を奏するものであっ
て、前記圧力制御溝の設置箇所については図１のものと
異なるが、その製造工程の手順については図１のものと
同一である。更に、図１８に示す浮上姿勢角３０ｂを設
ける製造手順も圧力制御溝３０ａと同様である。

【００７６】以上説明したように、本発明の実施形態
は、次のような構成例を含むものである。

【００７７】空気流入端と浮上面と空気流出端とを備
え、前記浮上面が、前記空気流入端から連続形成された
サブミクロンの深さを有するフロントステップ軸受け
と、前記フロントステップ軸受けから連続形成されたレ
ール面と、前記レール面から連続形成された前記フロン
トステップ軸受けより深い負圧溝と、前記レール面から
連続形成された前記フロントステップ軸受けと同一深さ
を有するサイドステップ軸受けと、で形成されるフロン
トパッドと、前記フロントパッドと前記負圧溝で隔てら
れ、前記フロントステップ軸受けと同一深さを有するリ
アステップ軸受けと、前記リアステップ軸受けから連続
形成されたレール面と、で構成されるリアパッドを１つ
以上有し、少なくとも１つの前記リアパッドで前記レー
ル面の空気流出端近傍に磁気トランスデューサを有する
磁気ヘッドスライダにおいて、前記リアパッドの空気流
入側に広がる前記負圧溝に、前記負圧溝よりも深い深さ
で形成された圧力制御溝を有し、前記負圧溝との境界線
が閉曲線あるいは３辺以上の多角形であるような前記圧
力制御溝を１つ以上有する磁気ヘッドスライダである。
ここで形成した圧力制御溝の形状、深さ、形成位置を浮
上量に応じて設定することで、磁気ヘッドスライダの浮
上量を制御し、浮上量ばらつきを低減する。

【００７８】

【発明の効果】以上のように磁気ヘッドスライダの浮上
量が加工起因で変化した場合に、負圧溝１２に圧力制御
溝３０として制御したい浮上量に応じて深さや位置、形
状を決めてやれば、磁気ヘッドスライダの浮上量を適正
な値に制御することが可能となり結果的に浮上量ばらつ
きを低減できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態に係る磁気ヘッドスラ
イダの斜視図である。

【図２】本発明が有効な効果を発揮できる典型的な磁気
ヘッドスライダの平面図である。

【図３】図２中のＡ−Ａ’線の断面図である。

【図４】本発明に係る磁気ヘッドスライダを搭載した磁
気ディスク装置の平面図である。

【図５】図２で示した磁気ヘッドスライダのステップ軸
受け深さδｓの設計値（ノミナル値）からのシフト量と
浮上量の設計値からの変化量との関係を示すグラフであ
る。

【図６】本発明の第１の実施形態に係る磁気ヘッドスラ
イダの平面図である。

【図７】図６中のＡ−Ａ’線の断面図である。

【図８】第１の実施形態に係る磁気ヘッドスライダにお
ける圧力制御溝の深さと浮上量の関係を示すグラフであ
る。

【図９】本発明の第２の実施形態に係る磁気ヘッドスラ
イダの平面図である。

【図１０】本発明の第３の実施形態に係る磁気ヘッドス
ライダの平面図である。

【図１１】本発明の第４の実施形態に係る磁気ヘッドス
ライダの平面図である。

【図１２】本発明の第５の実施形態に係る磁気ヘッドス
ライダの平面図である。

【図１３】本発明の第６の実施形態に係る磁気ヘッドス
ライダの平面図である。

【図１４】本発明の第７の実施形態に係る磁気ヘッドス
ライダの平面図である。

【図１５】本発明の第８の実施形態に係る磁気ヘッドス
ライダの平面図である。

【図１６】本発明の第９の実施形態に係る磁気ヘッドス
ライダの平面図である。

【図１７】本発明の第１０の実施形態に係る磁気ヘッド
スライダの平面図である。

【図１８】本発明の第１１の実施形態に係る磁気ヘッド
スライダの平面図である。

【図１９】第１１に実施形態を構成例として、本発明の
効果を浮上プロファイルで比較するグラフである。

【符号の説明】

１ スライダ ２ 空気流入端 ３ 浮上面 ４ 空気流出端 ５ フロントステップ軸受け ６，７ 一対のレール面 ８，９ 一対のサイドステップ軸受け １０ リアステップ軸受け １０ａ，１０ｂ 一対のサイドリアステップ軸受け １１ センタレール面 １１ａ，１１ｂ 一対のサイドレール面 １２ 負圧溝 １３ フロントパッド １４ センタパッド １４ａ，１４ｂ 一対のリアサイドパッド １９ 磁気トランスデュ−サ ２０ サスペンション ２４ キャリッジ ２５ ディスク記録媒体 ２６ スピンドル ２７ 回転アクチュエータ ２８ 磁気ディスク装置 ３０ 圧力制御溝 ３０ａ リア圧力制御溝 ３０ｂ フロント圧力制御溝

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 遠藤 正義 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者 厚見 昌宏 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 Ｆターム(参考） 5D042 NA02 PA01 PA05 QA02

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レール面、前記レール面より深いステッ
   プ軸受け、前記ステップ軸受け面より深い負圧溝、から
   なる浮上面と、空気流入端と、空気流出端と、を備えた
   磁気ヘッドスライダにおいて、 前記空気流入端側に、前記レール面と前記ステップ軸受
   けで形成されるフロントパッドと、 前記空気流出端側に、前記レール面と前記ステップ軸受
   けで形成されるとともに、前記フロントパッドと前記負
   圧溝で隔てられたリアパッドと、 前記リアパッドの前記レール面の空気流出端近傍に設け
   られた磁気トランスデューサと、 前記リアパッドの空気流入側の前記負圧溝に、前記負圧
   溝より深く形成された圧力制御溝と、を備え、 前記圧力制御溝は、直線又は曲線で囲まれた領域を前記
   負圧溝に形成し、前記空気流出端近傍の浮上量を減少さ
   せることを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
2. 【請求項２】 レール面、前記レール面より深いステッ
   プ軸受け、前記ステップ軸受け面より深い負圧溝、から
   なる浮上面と、空気流入端と、空気流出端と、を備えた
   磁気ヘッドスライダにおいて、 前記空気流入端側に、前記レール面と前記ステップ軸受
   けで形成されるフロントパッドと、 前記空気流出端側に、前記レール面と前記ステップ軸受
   けで形成されるとともに、前記フロントパッドと前記負
   圧溝で隔てられたリアパッドと、 前記リアパッドの前記レール面の空気流出端近傍に設け
   られた磁気トランスデューサと、 前記リアパッドへの空気流入経路から外れ且つ前記負圧
   溝の圧力勾配の高い箇所に、前記負圧溝より深く形成さ
   れた圧力制御溝と、を備え、 前記圧力制御溝は、直線及び又は曲線で囲まれた領域を
   前記負圧溝に形成し、前記空気流出端近傍の浮上量を増
   加させることを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
3. 【請求項３】 レール面、前記レール面より深いステッ
   プ軸受け、前記ステップ軸受け面より深い負圧溝、から
   なる浮上面と、空気流入端と、空気流出端と、を備えた
   磁気ヘッドスライダにおいて、 前記空気流入端側に、前記レール面と前記ステップ軸受
   けで形成されるフロントパッドと、 前記空気流出端側に、前記レール面と前記ステップ軸受
   けで形成されるとともに、前記フロントパッドと前記負
   圧溝で隔てられたリアパッドと、 前記リアパッドの前記レール面の空気流出端近傍に設け
   られた磁気トランスデューサと、 前記フロントパッドで囲まれる負圧溝に、前記負圧溝よ
   り深く形成された圧力制御溝と、を備え、 前記圧力制御溝は、直線及び又は曲線で囲まれた領域を
   前記負圧溝に形成し、前記空気流入端側の浮上量を減少
   させることを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
4. 【請求項４】 レール面、前記レール面より深いステッ
   プ軸受け、前記ステップ軸受け面より深い負圧溝、から
   なる浮上面と、空気流入端と、空気流出端と、を備えた
   磁気ヘッドスライダにおいて、 前記空気流入端側に、前記レール面と前記ステップ軸受
   けで形成されるフロントパッドと、 前記空気流出端側に、前記レール面と前記ステップ軸受
   けで形成されるとともに、前記フロントパッドと前記負
   圧溝で隔てられたリアパッドと、 前記リアパッドの前記レール面の空気流出端近傍に設け
   られた磁気トランスデューサと、 前記リアパッドの空気流入側の前記負圧溝に、前記負圧
   溝より深く形成された第１の圧力制御溝と、 前記フロントパッドで囲まれる負圧溝に、前記負圧溝よ
   り深く形成された第２の圧力制御溝と、を備え、 前記第１の圧力制御溝は、直線又は曲線で囲まれた領域
   を前記負圧溝に形成し、前記空気流出端近傍の浮上量を
   減少させ、 前記第２の圧力制御溝は、直線及び又は曲線で囲まれた
   領域を前記負圧溝に形成し、前記空気流入端側の浮上量
   を減少させることを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
5. 【請求項５】 レール面、前記レール面より深いステッ
   プ軸受け、前記ステップ軸受け面より深い負圧溝、から
   なる浮上面と、空気流入端と、空気流出端と、を備えた
   磁気ヘッドスライダにおいて、 前記空気流入端側に、前記レール面と前記ステップ軸受
   けで形成されるフロントパッドと、 前記空気流出端側に、前記レール面と前記ステップ軸受
   けで形成されるとともに、前記フロントパッドと前記負
   圧溝で隔てられたリアパッドと、 前記リアパッドの前記レール面の空気流出端近傍に設け
   られた磁気トランスデューサと、 前記リアパッドの空気流入側の前記負圧溝に、前記負圧
   溝より深く形成された圧力制御溝と、を備え、 前記圧力制御溝は直線又は曲線で囲まれた領域を前記負
   圧溝に形成し、 前記圧力制御溝の深さは、前記空気流出端近傍の浮上量
   を変化させる形状又は寸法に関連付けされて形成される
   ことを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
6. 【請求項６】 レール面、前記レール面より深いステッ
   プ軸受け、前記ステップ軸受け面より深い負圧溝、から
   なる浮上面と、空気流入端と、空気流出端と、を備えた
   磁気ヘッドスライダにおいて、 前記空気流入端側に、前記レール面と前記ステップ軸受
   けで形成されるフロントパッドと、 前記空気流出端側に、前記レール面と前記ステップ軸受
   けで形成されるとともに、前記フロントパッドと前記負
   圧溝で隔てられたリアパッドと、 前記リアパッドの前記レール面の空気流出端近傍に設け
   られた磁気トランスデューサと、 前記リアパッドの空気流入側の前記負圧溝に、前記負圧
   溝より深く形成された圧力制御溝と、を備え、 前記圧力制御溝は直線又は曲線で囲まれた領域を前記負
   圧溝に形成し、 前記圧力制御溝の深さは、前記ステップ軸受けのレール
   面からの深さに関連付けされて形成されることを特徴と
   する磁気ヘッドスライダ。
7. 【請求項７】 請求項１又は６に記載の磁気ヘッドスラ
   イダにおいて、 前記リアパッドのステップ軸受けの空気流入端面と、そ
   の垂線上で圧力制御溝の最も近接している部位と、の距
   離Ｄｒが、 ０μｍ＜Ｄｒ＜１００μｍ であることを特徴とする磁
   気ヘッドスライダ。
8. 【請求項８】 請求項３に記載の磁気ヘッドスライダに
   おいて、 前記フロントパッドのステップ軸受けの空気流出端と、
   その垂線上で圧力制御溝の最も近接している部位と、の
   距離Ｄｆが、 ０μｍ＜Ｄｆ＜２００μｍ であることを特徴とする磁
   気ヘッドスライダ。
9. 【請求項９】 請求項１、３又は６に記載の磁気ヘッド
   スライダにおいて、 前記レール面を基準とした前記圧力制御溝の深さＲｃａ
   ｖｉｔｙと前記レール面を基準とした前記負圧溝の深さ
   Ｒとの比が、 １＜（Ｒｃａｖｉｔｙ／Ｒ）＜１００ であることを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
10. 【請求項１０】 請求項１乃至９のいずれか１つの請求
    項に記載の磁気ヘッドスライダにおいて、 前記圧力制御溝は３辺以上の多角形状又は複数の円形形
    状群から形成されることを特徴とする磁気ヘッドスライ
    ダ。
11. 【請求項１１】 請求項１乃至１０のいずれか１つの請
    求項に記載の磁気ヘッドスライダを搭載したことを特徴
    とする磁気ディスク装置。