JP2000507521A - スクリン印刷法による陶磁器製品の浮彫り装飾方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は製造の基礎を成す陶磁器製品の浮き彫り装飾方法であって，本方法は，転写紙（１３），典型的には前以て慣用的な２次元状の第１図案（１９）で刷り込んだ転写紙の表面に浮き彫り特徴を刷り込むための特別の技術を供する。この新しい方法には，窄まっていない貫通孔（３２）を有することによって特徴づけられる普通になく厚い刷り込みステンシル（３１）が含まれる。セラミックインクが百万ｃｐｓを越える重い粘性を有するように構成されている。インクは，流動抵抗質で，低速移動のスクィージ（４２）によってステンシルの貫通孔を強制的に進入させられる。刷り込み図案は，転写紙から陶磁器製品（１０）に転写させられ，次いで窯内で焼き上げられることにより陶磁器に熔着させられる。浮き彫り図案要素（１２，４５）は，陶磁器上に３次元的に顕著に突出する。

Description

【発明の詳細な説明】 スクリン印刷法による陶磁器製品の浮彫り装飾方法 技術分野 本発明は，土器や磁器や陶器を含む陶磁器，セラミックタイル等の陶磁器製品 の浮き彫り形成技術に関する。 本発明の背景 陶磁器製品の装飾に関する公知技術の一つに転写紙使用のものが在る。望まれ る図案は，典型的には特殊なセラミックインクを使用してスクリン印刷法によっ て，転写紙に対して付着される。この様に転写紙に刷込まれた図案は，その後公 知の慣用的方法によって陶磁器製品の表面に転写されて装飾，固着される。次い で，被転写図案を有する陶磁器製品は窯の中で高温度で焼き上げられ，セラミッ クインクが陶磁器製品の表面上に永久に融合する。 上記の目的のために利用される慣用のスクリン印刷技術は，相対的に複雑で正 確な図案を陶磁器に定着することが可能であるが，この様に設けられた図案は， 転写紙に付着されたインク層が極めて薄いので，本質的に２次元平面である。 数多くの高品位の陶磁器製品に対して，３次元の立体特徴，即ち浮き彫りを第 一次図案全体に与えることが望まれる。過去に於いては，その様な浮き彫り要素 を陶磁器の第一次図案に施すのに，ペイントブラシやその他の手段を用いて作業 者の手作業によって実施され，陶磁器表面上に予め定着された第一次図案に対し て望ましく粘着性のセラミックインクを累積させるようにしていた。陶磁器表面 から突出している手作業添着インクは，三次元立体特徴を保つために乾燥させら れる。次いで，被装飾陶磁器製品は窯の中で焼かれ，当該インクは陶磁器製品に 対して周知の態様で熔着する。手作業添着図案要素は，例え熔着後であっても， 隆起特徴のほとんどを保ち，仕上がり図案に望ましい三次元立体つまり浮き彫り 特徴を提供する。 上記した従来の方法によって提供される浮き彫り図案の仕上がり結果は最終製 品の外観に関して大いに満足行くものであるけれども，極めて労働集約的な方法 であって，熟練者を必要とするものである。加えて，ある種の図案では，デザイ ナーは一つの陶磁器に対して数多くの箇所に浮き彫り特徴を適用しようと望むが ，浮き彫り用インクを手作業により添着する毎に間違う恐れが在り，またコスト 上割高になる可能性が在る。 その様な多箇所への浮き彫り特徴の適用を低い生産コストで実施することが求 められて来たにも拘わらず，これまで業界は，浮き彫り特徴の上記した手作業に よる添着に頼ることなく，陶磁器製品の浮き彫り装飾を製造上の基礎に定立する ための実り有る方法を開発してこなかった。 発明の開示 本発明に依れば，相対的に高速で，精度の高いスクリン印刷技法を利用して， 手作業による添着の必要性を全く無くして，陶磁器製品の浮き彫り装飾を成し遂 げることの出来る新規かつ大幅に改善された方法が提供される。全般的に，本発 明の新しい方法のとりわけ有利な形態の一つは，初期の準備段階で二次元平面の 第一図案が従来通り慣用的スクリン印刷法を用いて周知の技法によってスクリン 印刷して準備しておき，その後で，浮き彫り装飾が特別でユニークなスクリン印 刷工程によって同一転写紙に付着される。この工程は，先にスクリン印刷された 第一図案と正確に見当合わせした所定箇所で転写紙表面に濃密で流動抵抗性のセ ラミックインクを付着する工程である。この改善されたスクリン印刷の最後の工 程に於いて，特別の技法が採用され，濃密で通常流動抵抗性質を有するニュート ン流動型の，即ち揺変性のセラミックインクを転写紙表面に堆積させる。浮き彫 り堆積物の厚みは第一図案よりも実質的にかなり突出している。各スクリン印刷 工程の後でインクは乾燥され，更に最終（浮き彫り）印刷及び乾燥の後に覆い膜 が転写紙の図案全体に被される。この後者の工程は，業界では慣用的作業で，転 写紙の表面から図案を被装飾陶磁器製品の表面に転写する間，図案全体をありの まま維持するのに役立つ。 場合によっては，装飾すべき物品に対して一層個性を与える為に手作業塗布技 法によって，又は別の転写紙によって第一図案を物品に設けることが望まれ得る 。この様な場合，浮き彫り特徴のみを転写紙に付着すればよく，物品上に一回の 工程で済ますことが出来る。この点，一つの図案に関する浮き彫り要素は濃密で 粘着性のインクの多数の堆積物により構成し得る。又，顕著な生産コストの低減 および労働節減が，本発明の諸原理に基づき転写紙を介して浮き彫り特徴を付与 することで実現され得る。 本発明の上記した又は他の特長及び利点を一層理解するには，本発明の好まし い実施例および作業の下記の詳細な説明、及び添付図面を参照すべきである。 図面の簡単な説明 図１は、本発明の方法による装飾に適したタイプの陶磁器の被装飾皿を示す代 表図である。 図２は、平坦な図案を転写紙に刷込み付着する為の慣用的スクリン印刷のスク リンを部分的にを示す概略斜視図である。 図３は、図２のスクリンに於ける図案要素の構成を示す拡大部分断面図である 。 図４は、予め付着された第一図案と見当合わせして浮き彫り装飾を転写紙に刷 込み付着する為に本発明の方法で使用される好ましい形態のスクリンを部分的に 簡略化して示す代表的斜視図である。 図５は、図４のスクリンの拡大部分断面図である。 図６は、浮き彫り装飾特徴を適用するのに本発明の方法に於いて利用され得る 改良形態のスクリンの部分的拡大断面図である。 図７は、図６のスクリンの平面図である。 図８は、本発明の諸原理に基づき浮き彫り図案要素を転写紙表面に刷込み付着 するのを示す為の拡大断面図である。 図９は、本発明に従って第１図案および浮き彫り要素を刷込んだ後、装飾対象 の陶磁器製品の表面に転写する前に於ける転写紙の拡大部分断面図である。 図１０は、浮き彫り要素を多色刷込む為の改良形態の加工ステンシルを示す拡 大部分断面図である。 図１１は、多色浮き彫り刷込みに使用される為に改良された浮き彫り用ステン シルの拡大部分断面図である。 発明を実施するための最良の形態 図面を参照して説明すると，参照番号１０（図１）は，図案要素１１と浮き彫 り要素１２から成る装飾が施された陶磁器の食器類の代表的物品を示す。第１図 案要素１１を皿１０表面に設ける代表的な方法では，適切なセラミックインクの 図案が転写紙表面に対して，典型的に関係業界で良く知られたスクリン印刷法に よって付着される。本発明以前では，転写紙による移し絵付加装飾は，多くの目 的に適した実質平坦な２次元特長を有していた。しかし，高品位な装飾効果が望 まれる場合は，デザイナーは３次元状の浮き彫り特徴を第１図案に付け加えるこ とを選択することが在る。図１の具体例に於いて，転写紙から転写された第１図 案１１は常緑樹を例示するが，デザイナーは常緑樹の第１図案それ自体と異なる 色で，かつ３次元特徴として容易に見分けらる共に触覚上区別し得る充分な高さ だけ皿１０の表面から外方に突出する３次元状浮き彫り要素１２を数多く配置す ることによって装飾度を高めることを望む。 これ迄に実施されてきた方法では，第１図案要素１１を転写紙から陶磁器の物 品１０に転写した後，比較的濃密なセラミックインクを皿表面に累積することの 出来るペイントブラシや他の適当な手道具によって，浮き彫り図案要素１２が個 々に第１図案上に適切に置かれた。最良な環境下でもその様な浮き彫り装飾は労 働集約的な仕事で，熟練者の注意を集中する努力を必要とする。デザイナーの要 求を満たすために，或いは場合によって完成品に於いて望ましくない結果をもた らすことになり得る相違する色のインク同士の接触を回避するために，浮き彫り 要素を第１図案と正確に見当合わせして配置しなければならない場合には，作業 はより困難になる。 装飾工程の完了の後，陶磁器製品１０は窯の中で高温度で焼き上げられて，イ ンクのセラミック成分が物品１０に熔着して，永久的図案を形成する。 本発明に依って初めて，浮き彫り要素１２を直接に転写紙表面にスクリン印刷 を介して付着することが可能になり，転写され得る図案の一体的な１部となり得 る。これによって，２次元の第１図案要素と３次元の浮き彫り要素を含む図案全 体を単一の転写紙として一回の操作で物品１０に付着することが出来る。容易に 見て取れるように，長らく求められてきた本目的の実現化は，これまで必要とし た多大の労力およびコスト高の手作業を省けるだけでなく，同時に第１図案要素 と浮き彫り図案要素の正確な見当あわせを保障し，物品毎に図案の整合性を提供 することが出来，必要要件であるが確実に図案要素の重なりを回避することが出 来る。 本発明の実施に当たり，概して従来のフラットベッド型のスクリン印刷装置を 採用できる。この種装置は当業者にとってよく知られ，そのメーカーから容易に 入手できる。米国特許No．３，７９５，１８９はその種フラットベッド型印刷装 置の一形態の１例である。 本発明に依る有利な方法に於いて，第一図案と浮き彫り図案は一枚の転写紙１ ３（図９）の表面に別工程で刷込まれる。尚，転写紙を以下で水滑動紙（ウォー タ・スライド・ペーパ）と称することもある。本目的のために利用される水滑動 転写紙は一般に良く知られており，商業上入手し得る。この種の用紙の適合する タイプはブリテインズ社（Ｂｒｉｔａｉｎｓ）からブランド名デカフラット（Ｄ ｅｃａｆｌａｔ）及びツィンカルＩＩ（Ｔｗｉｎｃａｌ ＩＩ）で販売され，ま たホフマン・エンゲルマン社（Ｈｏｆｆｍａｎ ＆Ｅｎｇｅｌｍａｎ）からメタ （Ｍｅｔａ）２０００，メタ １９０およびダックス（ＤＵＸ）の名で販売され ている。これらの用紙は，複数の刷込み工程に於いて正確な見当合わせを可能に する湿度で広範囲の温度に対して，寸法上安定し，防カール性（捲き上がり抵抗 性）を有する。当該用紙はセラミック装飾インクと親和するガム表面コーテイン グ１４で形成されている。転写紙を水分に浸したとき，ガム成分は軟化して，転 写紙上の図案が下側に位置する転写紙用紙から分離するのを可能にし，又陶磁器 表面に図案を初期固着するのに役立つ。 全体的に２次元の第１図案を転写紙に付着する初期の刷込み工程は，従来のス クリン印刷技法を用いて行われる。典型的には細かい網目のステンレス・スチー ルまたはポリエステルのスクリン１６がスクリン枠１５（図２）に取り付けられ ている。慣用的には，スクリン布は２７５−４００の網目で，典型的にほぼ０． ００１０”乃至０．００１４”の範囲の糸径並びに０．００２２”乃至０．００ ２６”全体厚みを有する。スクリンはスクリン枠１５に引っ張られて維持されて いる。典型的には１６−３２Ｎ／ｃｍの引張り力が採用されている。 刷込みステンシル１７（図３）はスクリン１６の下側に形成され，感光性ポリ マーが従来の方法を用いてスクリン１６の下表面に被膜されて成る（直接法）。 或いは前以て形成された感光性ポリマーのフィルムをスクリンに，接着剤として 同じ素材を薄く塗布して接合しても良い（直接−間接法）。何れの場合もスクリ ン１６とステンシル１７の総厚みは典型的には０．００２５”乃至０．００５０ ”の範囲である。感光性ポリマーは，強力な光りの下で露光され所望第１図案の ”ポジチブ”が形成される。ポジチブはポリマーと接した状態で保持される。ポ リマーの感光部は水不溶性に化し，他方非感光部は水溶性のままである。次いで ，高圧の水スプレーを被って水溶性の区域が除去されて，ステンシルが具体的化 される。 典型的な業務的工程では，図２に於いて番号１８で包括的に示す印刷スクリン は，一つの刷込み工程で転写紙に複数の図案が刷込まれるように図案１９を複数 個反復したものを含む。 第１図案の刷込みの為の上記した慣用的方法は，比較的複雑で込み入った質の 第１図案の刷込みを考慮している。第１図案１９の刷込み後，転写紙は運搬され ，ヒータを通過せしめられ，付着インクを乾燥，固定させる。本発明の方法では ，インクは，媒質，フリットおよび染料の混合物によって形成されたセラミック インクである。初期工程の乾燥に於いてインクは，後の追加的刷込み工程で転写 紙を処理できるように単にある程度乾燥されるに過ぎない。 第１図案が異なる色要素から成る場合に於いては，望むらくば複数の慣用的ス クリン印刷工程を転写紙１３に対し適用しても良い。 本発明に依れば，最終工程は，濃密で流動抵抗性のセラミックインクの３次元 状浮き彫り特徴をスクリン印刷による付着することから成り，転写紙表面から顕 著に突出するように第１図案の厚み以上の厚みで転写紙表面上に浮き彫り要素を 正確に堆積することができる。 図４は，浮き彫り図案要素の付着の為に使用されるスクリン及びステンシルの 好ましい形態を示す。慣用的印刷工程で使用されたのとほぼ同等のスクリン枠３ ０が備えつけられている。浮き彫り用ステンシル３１が硬質で滑らかで平らな板 状の形態で提供され，ステンレス・スチールやニッケル又は真鍮等の金属，或る いは高密度ポリエチレン，ポリエステル，スチレンやマイラー（商標名）等の構 成プラスチックから形成される。浮き彫り用ステンシルは，典型的には０．０１ ５”乃至０．０６０”の範囲の厚みで，場合によっては０．１２５”の厚みで提 供され，転写紙に付着すべき浮き彫り要素を形成する貫通孔３２が表面複数箇所 に設けられている。図４では，参照番号３３によって特定される第１図案を破線 で示すが，単に第１図案との浮き彫り要素３２の見当合わせを示しているに過ぎ ない。しかし，第１図案は前以て転写紙に付着されており，浮き彫り用ステンシ ル３１は第１図案の付着に何ら関与していない。 先行する刷込み工程の場合に於ける如く，ステンシル３１は浮き彫り図案要素 の複数の反復を含めることが出来る。勿論，これらの反復は，第１図案要素の刷 込みに関し採用され，スクリンに形成された反復に対応する。貫通孔３２は，典 型的にはコンピュター化工作機械を用いて，正確に位置決め及び切削して精密加 工によってステンシル３１に好ましく形成される。場合によっては，貫通孔３２ は金属の浮き彫り用ステンシル３１にエッチング加工を施して形成することが出 来る。この様な場合，フォトレジストのエマルジョンがステンシルプレート上に 被覆され，その上に図線が写真的に細密に転写される。非保護表面区域を腐食す るの酸性水溶液が用いられ，所望位置に所望形状の貫通孔３２が提供される。貫 通孔３２の機械加工形成の方が大抵の場合好まれ，多くの場合図５に示す如く側 壁が直に延びる貫通孔を確保するために必要とされる。エッチング加工は，概し て所定厚み範囲の薄い方の下限近くの厚みのステンシルに備なえて使用されるの に限られ，とりわけ，厚めのステンシルに対しては，貫通孔内部が若干狭搾し， 回避しなければならないほぼ鼓状の形状に成る傾向がある。貫通孔は，刷込み後 転写紙から分離させる際に流動抵抗インクの堆積物を持ち上げる傾向を回避する ために，下方向に細まるっていてはいけない。 浮き彫り用ステンシル３１に必要な総ての貫通孔３２を形成するための処理を 施した後，図４に示す如くステンシルの外周縁３４は例えば適切なエポキシ樹脂 接着剤３８等によってスクリン３６の内縁部３５に接着固定されている。スクリ ン３６と浮き彫り用ステンシル３１を接合した後，スクリンは枠３０の下側に， 強い引っ張り力で，例えば１５−３０Ｎ／ｃｍで固着される。典型的には，スク リン３６の布は，スクリンが枠３０に引っ張られて取り付けられる迄，手を加え ず，その後，スクリンの中央部が切断されて，浮き彫り用ステンシルの上面を露 出させて，図４に示す構成に形成する。 図６乃至７に示す如く浮き彫り用ステンシルとスクリンを組み合わせるもう一 つ別の方法は，金属の浮き彫り用ステンシル３１の全表シート面を覆って，貫通 孔３２を形成しながら，スクリンとステンシルを同時に機械加工することである 。 図５乃至７に示す２つの態様のステンシルに於いて，ステンシルの顕著な特徴 は，浮き彫り刷込みインクの通過用孔がステンシルを厚み方向に完全に貫通し， かつステンシル装着スクリンによって重ね置かれないことである。これによって ，極めて濃密な流動抵抗性浮き彫り刷込みインクが貫通孔に進入し，刷込まれる べき転写紙と接触することが可能になる。 図５乃至７に示す何れの形態のステンシルも，従来の２次元状第１図案の為に 採用された極めて細かい網目のスクリンを使用する必要は無い。６０−９０の網 目構成のステンレス・スチール又はポリエステルのスクリンが適しており且つ望 ましく，典型的には０．００８”乃至０．０１０”の範囲の厚みを有する。図６ 乃至７に示した別形態のステンシルの場合，スクリンの厚みがステンシルの総厚 みの１部を構成し，他方図５に示す形態のステンシルに於いてステンシルの総厚 みはステンシル３１の厚みである。 限られた環境では，極めて粗い網目のスクリンを採用することが可能で，この 場合，スクリンは下のステンシルの貫通孔開口部上に留まる。これに関し，網目 が充分に広ければ，或る種インクや或る種図案に関して，非常に大きい網目のス クリンにインクを通過せしめることは受容される。この様な場合，既に説明した 直接−間接法，つまり感光性ポリマー・シートをスクリンの下側に感光性ポリマ ーの接着剤で接着して，ステンシルを構成することが可能である。概して，この 方法は所定の厚み範囲の薄い方の下限近くの厚みの浮き彫り用刷込みステンシル の形成に限られよう。 本発明の方法で採用されたセラミックインクは，公知の商業上入手可能な成分 から形成され，ケルデック アー・ゲー（Ｃｅｒｄｅｃ ＡＧ，ドイツ，フラン クフルト）やクックソン マットヘイ（Ｃｏｏｋｓｏｎ Ｍａｔｔｈｅｙ，アメ リカ，ペンシルベニア，ダウンイングトン）の製造元から入手可能である。採用 したインクは，媒質，フリットおよび顔料の混合物で，個々の混合物は仕事によ って変わる。これらセラミックインクの慣用的スクリン印刷のためには，インク は，細かい網目のスクリンを通って容易に流動可能な相対的に低い粘性に成るよ うに調合される。他方，本発明に依る浮き彫り刷込み工程を実施するために，イ ンクは，極めて濃密で粘着質のものであって，主観的にはピーナツバターの粘度 を有するものであると言えよう。より客観的には，百万ｃｐｓを充分に越える粘 性を有するように形成される。インクの各成分は十二分に掻き混ぜられて，ロー ラ間で粉砕され，均一の細かい粒子サイズ（Ｈｅｇｍａｎ １−２）にされてい る。 本発明に依る浮き彫り刷込み工程で使用されるセラミックインクは，流動抵抗 性を有し，しかもステンシルの貫通孔を強制的に通過せしめられなければ成らな い。この為，このインクを利用するスクリン印刷工程は，慣用的工程と異なった 様に実施されなければならない。ほぼ一致した結果が得られるように，浮き彫り 刷込みのために用意されるスクリンは，図５に示す如くステンシルの上面が刷込 まられるべき区域で完全に露出しているタイプのものか，図６及び７に示す如く ステンシルの貫通孔開口部がインクの無障壁な通過を許容するようにスクリン及 びステンシルそれ自体に形成されているタイプのものでなければならない。これ は図３に示す形態のステンシルと対照的である。しかし，場合によっては，普通 にない大き目の網目のスクリンを用いて，流動抵抗性浮き彫り刷込みインクをス クリンに強制的に通過させ，ステンシルの貫通孔内に進入させることができる。 浮き彫り刷込み工程の為の特殊インク及びステンシルの利用に加えて，スクリ ン印刷工程を改良した態様で実施していることも有利な点である。慣用的スクリ ン印刷に於いては，平らな棒をスクリン面上方で水平に移動させて，インクをス クリン一面に均一の層として拡散させる。次いで，スクィージ要素をスクリン上 面に対して下向きに押し当て，スクリン表面上を長手方向に引き摺る。強く張ら れたスクリンは通常，転写紙の刷込み面より上方に離間して配置されている。し かしながら，スクィージの下向きの押力は，スクリンの一部区域を一時的に下方 向に歪曲し，刷込み面と接触させる一方，インクをスクリンを通って流動させ， 下のステンシルの貫通孔内に進入させ，刷込むべき表面に達せしめる。スクィー ジ要素は通常，１秒につき例えば１２−２４インチの相対的に速い速度で移動す る。スクリンを強く張る構成であるため，スクリンの歪曲区域は，スクィージの 通過によりインクを転写紙表面上に残し去った後，ほぼ瞬時に転写紙表面から元 に戻る。 本発明の方法に於いては，浮き彫り用インクの極めて濃密で流動抵抗性の特質 のため，ステンシルが転写紙から離れ戻る以前に，インクと転写紙の間の接触時 間間隔を大きめに設けることが望ましい。これは，慣用的作業を改良することに よって実現される。図８を参照して，ステンシル３１は，強く張られてスクリン によって保持されているが，浮き彫り図案で刷込まれるべき転写紙４０の表面よ り若干上方位置で，通常支持されている。スクリン印刷機の一部を形成する支持 ベッド４１が転写紙の下に横たわり，印着過程の間，転写紙を支持している。 スクィージ要素４２は，７０−８０の範囲のデュロメータ（硬質係数）を有す る弾性材からなり，下端部が角状に形成され，好ましくは垂線に対して１０−１ ５°の角度で若干傾斜して配置される。スクィージは，ステンシル表面に沿って 図８の左側へ向かって進行させられている間，ステンシル３１の表面に対して相 当な下向きの力で押し付けるように配置される。 スクィージ４２の進行に先立って分散バー（図示せず）でステンシルの表面全 体がインクの層に掻き均される。スクィージが進行するにつれて，ステンシルは 転写紙４０の表面に向かって下向きに歪曲する。又，スクィージの進行面に沿っ て積もった濃密セラミックインク４４は貫通孔３２に進入せしめられ，転写紙の 上面と接触せしめられる。 本発明による方法に於いては，慣用のセラミックインクの刷込みに関して１秒 につき１２−２４インチの範囲の進行速度と比較して，例えば１秒につき０．３ 乃至３インチの範囲の著しく減速した速度でスクィージ４２を移動させることが 望ましい。加えて，スクリン印刷機は，歪曲していないステンシルの底面と転写 紙４０の上面との間に通常より著しく微小のクリアランスを有するように調整さ せられている。これによって，ステンシルは，図８に概略的に示すようにスクィ ージの通過後ステンシルが転写紙から持ち揚がるのを遅らせる傾向にある通常よ りも浅い角度で，転写紙に対し押圧される。この構成は，スクィージの通過後， 転写紙の多くても１−２インチに対してステンシルの”停滞時間”を与えるよう にするものである。この停滞時間は，スクィージ自体のより緩やかな移動と関連 して，図８に参照番号４５で示すインク堆積物に対して，ステンシル貫通孔３２ 内に進入して転写紙表面と確実に接合するのに通常よりも極めて大きな時間を提 供する。この結果，ステンシルを持ち上げたとき堆積物が転写紙に留まる。 浮き彫り用刷込みインクの流動抵抗特質のため，刷込み堆積物は，ステンシル の総厚み分が転写紙表面から突出することになる。インクは，刷込み工程の間に 定まる寸法の堆積物が延びたり，捻れたり，変化することを実質的に防止するよ うに構成されている。しかし，ステンシルが引き戻されるとき，貫通孔の側壁と 堆積インク４５の間を摩擦して生じる引っ掛かり要素が存在し得る。これは堆積 物の一部を若干上方に持ち上がったもので有り得る。これが生じても，後で取り 除かれる。即ち，図案が陶磁器に付着され，その陶磁器がインクのその表面への 熔融の為に窯内で焼き上げた後に取り除かれる。熔融過程の間，３次元堆積物の 外縁が自然に丸まる。 浮き彫り刷込み工程の完了後，転写紙１３の少なくともインク刷込み領域の表 面は，覆い膜４６（図９）でコーティングされ，第１図案の２次元インク付着物 １９と３次元堆積物４５の上面に連続する層が形成されている。覆い膜４６は， 透明で好ましくは無色であるが有色でも良く，転写紙表面に図案の総てを一時的 に定着する連続的媒質を形成する。覆い膜４６は相対的に強靭な柔軟性有機ポリ マーから形成され，その素材はその目的のために使用されるものとして業界で良 く知られている。覆い膜は，その被覆後，典型的には華氏８０°−１２０°の範 囲の相対的に低い温度で，乾燥される。 図案を食卓皿１０の様な物品に付着する際，個々の刷込み図案は刷込み転写紙 から切り離される。即ち，各刷込み転写紙は水中に，典型的には華氏７０°−９ ０°の温度で１，２分浸けられる。これによってガム層１４が軟化し，この段階 で柔軟性覆い膜４６により形を損なわず保持されている移し絵全体が下側の転写 紙から遊離する。移し絵は皿１０の表面に転写され，適切な位置に置かれる。次 いで，移し絵は軟質のスクィージで押されられ，移し絵の下から除残留水が去さ れる。ガム層の残留物は皿表面に対する一時的な接着剤として役立つ。 転写の完了後，然るべく装飾された陶磁器は，高温で，典型的にはほぼ華氏１ ４００°−１５００°の温度で１０−３０分間焼き上げられる。焼き上げ過程の 間，移し絵の有機成分は燃焼し，セラミック成分のみ残り，それが陶磁器の表面 に熔融する。熔融過程に於いて，浮き彫り刷込み堆積物に生じた引っ掛かり縁部 は滑らかになり，丸みを帯びる。 本発明に依る浮き彫り刷込み付着を利用して複数の色の浮き彫り堆積物を使用 することが望まれる場合は，図１０及び１１に概略する特殊改良ステンシルを利 用すると便利である。図１０に例示するプラスチックシートのステンシル５０は ，複数の第１の貫通孔５１と複数の第２の窪み５２を含んで形成されている。窪 みはステンシル底面５３に開口し，ステンシル上面５５近くの内奥面５４まで延 びている。貫通孔５１の総ては或る一つの色の浮き彫り装飾が望まれるべき堆積 物の為の位置に対応して設けられ，下向きに開口する窪み５２の総ては別の色の 浮き彫り堆積堆積物５６が既に転写紙５７に刷込まれている位置に対応して設け られている。 図１０に示す方法では浮き彫り装飾物の刷込みは２つの段階で実施される。最 初の段階では図５に示すタイプの標準のステンシルを採用することができ，その ステンシルに設けられた貫通孔の総てに対応する位置に図１０の窪み５２が設け らる。この段階では，第１の色の浮き彫り堆積物５６の総てが転写紙に刷り込ま れる。次の段階で図１０のステンシル５０が採用される。既存の浮き彫り堆積物 ５６が窪み５２内に受け入れられ，第２の色の新しい堆積物が貫通孔５１を介し て前述した態様で転写紙に刷込み堆積されることになる。 図１１は，複数の色の浮き彫り刷込み物を陶磁器に付着する為のもう一つの構 成を示している。図１１の構成に於いて，様々な形態のステンシルを採用し得る が，その中には，図６及び７のステンシルや，ステンシルの上面全体を覆い被さ る極めて大きな網目のスクリンを利用するステンシルを含む。図１１の構成に於 いて，浮き彫り刷込み段階で堆積されるべき色の数だけステンシルを用意するこ とができる。２色の刷込みを仮定して，図１１に参照番号６０で示すタイプのス テンシルが２つ用意され，各ステンシルには複数の貫通孔６１，６２にを介して 同一のデザインが形成されている。２つの色の内１つの色の堆積物の為の貫通孔 ６２の総ては，適当な接着テープ６３によって覆われている。接着テープ６３も ステンシルを構成している。他方のステンシルは，貫通孔６２を開放したままで ，貫通孔６１の総てをテープ６３で覆い貼付して用意されている。 図１１のステンシルに関して採用される工程は図１０に関連して説明したもの と同じである。第１のステンシルは，テープで覆われていない貫通孔６１を介し て１つの色を刷込むために採用されている。テープで覆われた貫通孔６２と並ぶ 領域はインクから免れる。次の付着段階で，貫通孔６１がテープで覆われると共 に貫通孔６２が露出する第２のステンシルを用いられるが，既に堆積した浮き彫 り要素は貫通孔６１に受け入れられ，他方第２の色のインクが貫通孔６２を介し てステンシル・シート６４上に堆積される。 限られた刷込み区間のため，図１１の構成は１つのステンシルを用いて実施で き，テープで覆われる貫通孔６２の組み合わせを変えることで限られた区間で刷 込むことができ，その後貫通孔６２からテープを取り除き，貫通孔６１にテープ を覆うことによって同一ステンシルを再構成することができる。 産業上の利用可能性 本発明の方法は，初めて生産の基礎を半自働にして浮き彫り装飾陶磁器製品を 製造することを可能にし，図案の３次元状浮き彫り要素はスクリン刷込み工程に より転写紙に刷込まれた後，転写紙によって陶磁器製品に転写付着される。陶磁 器製品に対して２次元状第１図案要素を転写工程によって付着することが長年行 われてきたけれども，３次元状浮き彫り要素を設けるのに労働集約的なコスト高 の手作業方法に頼ることが常に必要と考えられてきた。実を持つ茂木の様な単純 な浮き彫り装飾でさえ，３０以上もの木彫り要素（つまり，実）の個々の堆積物 が存在し得，過去に於いては一度に１つずつ正確に，かつ堆積物の大きさ，形状 や質を考慮しながら設置していた。本発明の方法では，浮き彫り特長の総てが一 回のスクリン刷込みストロークで以て効果的に付与され得る。 本発明の方法に於いて，浮き彫り刷込みに使用されるインクの構成は，インク の流動抵抗特質と関連して重要である。該インクは，公知のスクリン印刷工程と 対比して極めて濃密なものでなければならず，一般素材で言えばピーナツバター に匹敵する。刷込み工程の間および後で，またインクがその後の乾燥過程で固化 して定着する前に，引力作用によって該インクが流動しないし，捻れない。 濃密で重い浮き彫り用インクがスクリン上面で大きな抵抗を受けることなく強 制的に通過せしめられ得る貫通孔を備えて形成された浮き彫り用ステンシルを用 意することは，本発明の方法にとって重要である。適切厚みのシート状プラスチ ック又はシート状金属の浮き彫り用ステンシルを採用することによって最も有利 に成し遂げられる。その適切厚みは，０．０１５”乃至０．０６０”の範囲で， 場合によってはその範囲より大きくても良く，ステンシルを機械加工して直な側 壁の窄まりの無い貫通孔を設けることによって浮き彫り図案特徴が付与される。 とりわけ有利な方法の一つでは，シート状ステンシルは，強く張られたスクリ ンによってのみステンシル周縁が支持されている。ステンシルの全表面は，露出 状態に置かれ，極めて粘着質の浮き彫り用インクを貫通孔内に最も効果的に進入 させて下の転写紙表面に適切に接触させるのに便宜を与える。本発明のもう一つ の好ましい形態に於いて，シート状ステンシルの上面全体は強く張られたスクリ ンによって支持されるが，スクリンはステンシルの貫通孔の真上領域が取り払う ようにしている。この結果，貫通孔はスクリンとステンシルの組合わせ物に形成 される。スクリンの網目が充分に大きい場合には，スクリンはそのままステンシ ルの貫通孔の上に置くことができる。但し，結果の信頼性が低くなる恐れがある 。然るべき場合，ステンシルそれ自体は，感光性ポリマーを用いて直接−間接法 を介して形成することができる。 本発明の方法に於いて，スクリンが跳ね戻りや持ち上がる以前に於ける堆積浮 き彫りインクが転写し表面に留まる標準的滞留時間を増加することによって有利 さが実現される。部分的には，スクィジー要素の速度を大きく減速することによ って，またスクリンを転写紙表面近くに配置してスクリンの”離反接触角度”を 最小化することによっても有利さが実現される。滞留時間を増加することによっ て，ステンシルが戻されるときに，浮き彫りインクが下の転写紙に充分に留まっ て接合する機会が増大する。 本発明の方法は，同目的の為の慣用的な二次元状刷込みの厚みの１００倍もの 厚みの浮き彫り特徴のスクリン刷込みを容易に実現することができる。又，これ 迄コスト高であるが必要とされた一連の手作業を事実上除去することによって， 陶磁器製品の浮き彫り装飾に於いて顕著にコストを低減することができる。 本発明の方法は，二次元状の第一図案と三次元状の浮き彫り図案の両方を含む 移し絵の刷り込みに関連して説明したが，先に第一図案を手でまたは別の転写紙 により物品に付着した後，浮き彫り特徴のみを転写紙に刷り込み，転写紙を介し て装飾すべき物品に複数の浮き彫り特徴を転写することは，本発明の範囲内であ る。 本発明の具体的な形態は、開示の明確な趣旨から逸脱することなしに変更し得 るので、代表的なものに過ぎないと理解されるべきである。従って発明の全範囲 を決定するに際して以下に示す請求項を参照すべきである。

【手続補正書】 【提出日】１９９９年８月２０日（１９９９．８．２０） 【補正内容】 明細書 スクリン印刷法による陶磁器製品の浮彫り装飾方法 技術分野 本発明は，土器や磁器や陶器を含む陶磁器，セラミックタイル等の陶磁器製品 の浮き彫り形成技術に関する。 本発明の背景 陶磁器製品の装飾に関する公知技術の一つに転写紙使用のものが在る。望まれ る図案は，典型的には特殊なセラミックインクを使用してスクリン印刷法によっ て，転写紙に対して付着される。この様に転写紙に刷込まれた図案は，その後公 知の慣用的方法によって陶磁器製品の表面に転写されて装飾，固着される。次い で，被転写図案を有する陶磁器製品は窯の中で高温度で焼き上げられ，セラミッ クインクが陶磁器製品の表面上に永久に融合する。 上記の目的のために利用される慣用のスクリン印刷技術は，相対的に複雑で正 確な図案を陶磁器に定着することが可能であるが，この様に設けられた図案は， 転写紙に付着されたインク層が極めて薄いので，本質的に２次元平面である。 数多くの高品位の陶磁器製品に対して，３次元の立体特徴，即ち浮き彫りを第 一次図案全体に与えることが望まれる。過去に於いては，その様な浮き彫り要素 を陶磁器の第一次図案に施すのに，ペイントブラシやその他の手段を用いて作業 者の手作業によって実施され，陶磁器表面上に予め定着された第一次図案に対し て望ましく粘着性のセラミックインクを累積させるようにしていた。陶磁器表面 から突出している手作輩添着インクは，三次元立体特徴を保つために乾燥させら れる。次いで，被装飾陶磁器製品は窯の中で焼かれ，当該インクは陶磁器製品に 対して周知の態様で熔着する。手作業添着図案要素は，例え熔着後であっても， 隆起特徴のほとんどを保ち，仕上がり図案に望ましい三次元立体つまり浮き彫り 特徴を提供する。 上記した従来の方法によって提供される浮き彫り図案の仕上がり結果は最終製 品の外観に関して大いに満足行くものであるけれども，極めて労働集約的な方法 であって，熟練者を必要とするものである。加えて，ある種の図案では，デザイ ナーは一つの陶磁器に対して数多くの箇所に浮き彫り特徴を適用しようと望むが ，浮き彫り用インクを手作業により添着する毎に間違う恐れが在り，またコスト 上割高になる可能性が在る。 その様な多箇所への浮き彫り特徴の適用を低い生産コストで実施することが求 められて来たにも拘わらず，これまで業界は，浮き彫り特徴の上記した手作業に よる添着に頼ることなく，陶磁器製品の浮き彫り装飾を製造上の基礎に定立する ための実り有る方法を開発してこなかった。 発明の開示 本発明に依れば，相対的に高速で，精度の高いスクリン印刷技法を利用して， 手作業による添着の必要性を全く無くして，陶磁器製品の浮き彫り装飾を成し遂 げることの出来る新規かつ大幅に改善された方法が提供される。全般的に，本発 明の新しい方法のとりわけ有利な形態の一つは，初期の準備段階で二次元平面の 第一図案が従来通り慣用的スクリン印刷法を用いて周知の技法によってスクリン 印刷して準備しておき，その後で，浮き彫り装飾が特別でユニークなスクリン印 刷工程によって同一転写紙に付着される。この工程は，先にスクリン印刷された 第一図案と正確に見当合わせした所定箇所で転写紙表面に濃密で流動抵抗性のセ ラミックインクを付着する工程である。この改善されたスクリン印刷の最後の工 程に於いて，特別の技法が採用され，濃密で通常流動抵抗性質を有するニュート ン流動型の，即ち揺変性のセラミックインクを転写紙表面に堆積させる。浮き彫 り堆積物の厚みは第一図案よりも実質的にかなり突出している。各スクリン印刷 工程の後でインクは乾燥され，更に最終（浮き彫り）印刷及び乾燥の後に覆い膜 が転写紙の図案全体に被される。この後者の工程は，業界では慣用的作業で，転 写紙の表面から図案を被装飾陶磁器製品の表面に転写する間，図案全体をありの まま維持するのに役立つ。 場合によっては，装飾すべき物品に対して一層個性を与える為に手作業塗布技 法によって，又は別の転写紙によって第一図案を物品に設けることが望まれ得る 。この様な場合，浮き彫り特徴のみを転写紙に付着すればよく，物品上に一回の 工程で済ますことが出来る。この点，一つの図案に関する浮き彫り要素は濃密で 粘着性のインクの多数の堆積物により構成し得る。又，顕著な生産コストの低減 および労働節減が，本発明の諸原理に基づき転写紙を介して浮き彫り特徴を付与 することで実現され得る。 本発明の上記した又は他の特長及び利点を一層理解するには，本発明の好まし い実施例および作業の下記の詳細な説明、及び添付図面を参照すべきである。 図面の簡単な説明 図１は、本発明の方法による装飾に適したタイプの陶磁器の被装飾皿を示す代 表図である。 図２は、平坦な図案を転写紙に刷込み付着する為の慣用的スクリン印刷のスク リンを部分的にを示す概略斜視図である。 図３は、図２のスクリンに於ける図案要素の構成を示す拡大部分断面図である 。 図４は、予め付着された第一図案と見当合わせして浮き彫り装飾を転写紙に刷 込み付着する為に本発明の方法で使用される好ましい形態のスクリンを部分的に 簡略化して示す代表的斜視図である。 図５は、図４のスクリンの拡大部分断面図である。 図６は、浮き彫り装飾特徴を適用するのに本発明の方法に於いて利用され得る 改良形態のスクリンの部分的拡大断面図である。 図７は、図６のスクリンの平面図である。 図８は、本発明の諸原理に基づき浮き彫り図案要素を転写紙表面に刷込み付着 するのを示す為の拡大断面図である。 図９は、本発明に従って第１図案および浮き彫り要素を刷込んだ後、装飾対象 の陶磁器製品の表面に転写する前に於ける転写紙の拡大部分断面図である。 図１０は、浮き彫り要素を多色刷込む為の改良形態の加工ステンシルを示す拡 大部分断面図である。 図１１は、多色浮き彫り刷込みに使用される為に改良された浮き彫り用ステン シルの拡大部分断面図である。 発明を実施するための最良の形態 図面を参照して説明すると，参照番号１０（図１）は，図案要素１１と浮き彫 り要素１２から成る装飾が施された陶磁器の食器類の代表的物品を示す。第１図 案要素１１を皿１０表面に設ける代表的な方法では，適切なセラミックインクの 図案が転写紙表面に対して，典型的に関係業界で良く知られたスクリン印刷法に よって付着される。本発明以前では，転写紙による移し絵付加装飾は，多くの目 的に適した実質平坦な２次元特長を有していた。しかし，高品位な装飾効果が望 まれる場合は，デザイナーは３次元状の浮き彫り特徴を第１図案に付け加えるこ とを選択することが在る。図１の具体例に於いて，転写紙から転写された第１図 案１１は常緑樹を例示するが，デザイナーは常緑樹の第１図案それ自体と異なる 色で，かつ３次元特徴として容易に見分けらる共に触覚上区別し得る充分な高さ だけ皿１０の表面から外方に突出する３次元状浮き彫り要素１２を数多く配置す ることによって装飾度を高めることを望む。 これ迄に実施されてきた方法では，第１図案要素１１を転写紙から陶磁器の物 品１０に転写した後，比較的濃密なセラミックインクを皿表面に累積することの 出来るペイントブラシや他の適当な手道具によって，浮き彫り図案要素１２が個 々に第１図案上に適切に置かれた。最良な環境下でもその様な浮き彫り装飾は労 働集約的な仕事で，熟練者の注意を集中する努力を必要とする。デザイナーの要 求を満たすために，或いは場合によって完成品に於いて望ましくない結果をもた らすことになり得る相違する色のインク同士の接触を回避するために，浮き彫り 要素を第１図案と正確に見当合わせして配置しなければならない場合には，作業 はより困難になる。 装飾工程の完了の後，陶磁器製品１０は窯の中で高温度で焼き上げられて，イ ンクのセラミック成分が物品１０に熔着して，永久的図案を形成する。 本発明に依って初めて，浮き彫り要素１２を直接に転写紙表面にスクリン印刷 を介して付着することが可能になり，転写され得る図案の一体的な１部となり得 る。これによって，２次元の第１図案要素と３次元の浮き彫り要素を含む図案全 体を単一の転写紙として一回の操作で物品１０に付着することが出来る。容易に 見て取れるように，長らく求められてきた本目的の実現化は，これまで必要とし た多大の労力およびコスト高の手作業を省けるだけでなく，同時に第１図案要素 と浮き彫り図案要素の正確な見当あわせを保障し，物品毎に図案の整合性を提供 することが出来，必要要件であるが確実に図案要素の重なりを回避することが出 来る。 本発明の実施に当たり，概して従来のフラットベッド型のスクリン印刷装置を 採用できる。この種装置は当業者にとってよく知られ，そのメーカーから容易に 入手できる。米国特許No．３，７９５，１８９はその種フラットベッド型印刷装 置の一形態の１例である。 本発明に依る有利な方法に於いて，第一図案と浮き彫り図案は一枚の転写紙１ ３（図９）の表面に別工程で刷込まれる。尚，転写紙を以下で水滑動紙（ウォー タ・スライド・ペーパ）と称することもある。本目的のために利用される水滑動 転写紙は一般に良く知られており，商業上入手し得る。この種の用紙の適合する タイプはブリテインズ社（Ｂｒｉｔａｉｎｓ）からブランド名デカフラット（Ｄ ｅｃａｆｌａｔ）及びツィンカルＩＩ（Ｔｗｉｎｃａｌ ＩＩ）で販売され，ま たホフマン・エンゲルマン社（Ｈｏｆｆｍａｎ ＆Ｅｎｇｅｌｍａｎ）からメタ （Ｍｅｔａ）２０００，メタ １９０およびダックス（ＤＵＸ）の名で販売され ている。これらの用紙は，複数の刷込み工程に於いて正確な見当合わせを可能に する湿度で広範囲の温度に対して，寸法上安定し，防カール性（捲き上がり抵抗 性）を有する。当該用紙はセラミック装飾インクと親和するガム表面コーテイン グ１４で形成されている。転写紙を水分に浸したとき，ガム成分は軟化して，転 写紙上の図案が下側に位置する転写紙用紙から分離するのを可能にし，又陶磁器 表面に図案を初期固着するのに役立つ。 全体的に２次元の第１図案を転写紙に付着する初期の刷込み工程は，従来のス クリン印刷技法を用いて行われる。典型的には細かい網目のステンレス・スチー ルまたはポリエステルのスクリン１６がスクリン枠１５（図２）に取り付けられ ている。慣用的には，スクリン布は２７５−４００の網目で，典型的にほぼ０． ００１０乃至０．００１４インチ（０．０２５乃至０．０３５ｍｍ）の範囲の糸 径並びに０．００２２乃至０．００２６インチ（０．０５５乃至０．０６５ｍｍ ）の全体厚みを有する。スクリンはスクリン枠１５に引っ張られて維持されてい る。典型的には１６−３２Ｎ／ｃｍの引張り力が採用されている。 刷込みステンシル１７（図３）はスクリン１６の下側に形成され，感光性ポリ マーが従来の方法を用いてスクリン１６の下表面に被膜されて成る（直接法）。 或いは前以て形成された感光性ポリマーのフィルムをスクリンに，接着剤として 同じ素材を薄く塗布して接合しても良い（直接−間接法）。何れの場合もスクリ ン１６とステンシル１７の総厚みは典型的には０．００２５乃至０．００５０イ ンチ（０．０６２５乃至０．１２５ｍｍ）の範囲である。感光性ポリマーは，強 力な光りの下で露光され所望第１図案の”ポジチブ”が形成される。ポジチブは ポリマーと接した状態で保持される。ポリマーの感光部は水不溶性に化し，他方 非感光部は水溶性のままである。次いで，高圧の水スプレーを被って水溶性の区 域が除去されて，ステンシルが具体的化される。 典型的な業務的工程では，図２に於いて番号１８で包括的に示す印刷スクリン は，一つの刷込み工程で転写紙に複数の図案が刷込まれるように図案１９を複数 個反復したものを含む。 第１図案の刷込みの為の上記した慣用的方法は，比較的複雑で込み入った質の 第１図案の刷込みを考慮している。第１図案１９の刷込み後，転写紙は運搬され ，ヒータを通過せしめられ，付着インクを乾燥，固定させる。本発明の方法では ，インクは，媒質，フリットおよび染料の混合物によって形成されたセラミック インクである。初期工程の乾燥に於いてインクは，後の追加的刷込み工程で転写 紙を処理できるように単にある程度乾燥されるに過ぎない。 第１図案が異なる色要素から成る場合に於いては，望むらくば複数の慣用的ス クリン印刷工程を転写紙１３に対し適用しても良い。 本発明に依れば，最終工程は，濃密で流動抵抗性のセラミックインクの３次元 状浮き彫り特徴をスクリン印刷による付着することから成り，転写紙表面から顕 著に突出するように第１図案の厚み以上の厚みで転写紙表面上に浮き彫り要素を 正確に堆積することができる。 図４は，浮き彫り図案要素の付着の為に使用されるスクリン及びステンシルの 好ましい形態を示す。慣用的印刷工程で使用されたのとほぼ同等のスクリン枠３ ０が備えつけられている。浮き彫り用ステンシル３１が硬質で滑らかで平らな板 状の形態で提供され，ステンレス・スチールやニッケル又は真鍮等の金属，或る いは高密度ポリエチレン，ポリエステル，スチレンやマイラー（商標名）等の構 成プラスチックから形成される。浮き彫り用ステンシルは，典型的には０．０１ ５乃至０．０６０インチ（０．３７５乃至０．７５ｍｍ）の範囲の厚みで，場合 によっては０．１２５インチ（３．１７５ｍｍ）の厚みで提供され，転写紙に付 着すべき浮き彫り要素を形成する貫通孔３２が表面複数箇所に設けられている。 図４では，参照番号３３によって特定される第１図案を破線で示すが，単に第１ 図案との浮き彫り要素３２の見当合わせを示しているに過ぎない。しかし，第１ 図案は前以て転写紙に付着されており，浮き彫り用ステンシル３１は第１図案の 付着に何ら関与していない。 先行する刷込み工程の場合に於ける如く，ステンシル３１は浮き彫り図案要素 の複数の反復を含めることが出来る。勿論，これらの反復は，第１図案要素の刷 込みに関し採用され，スクリンに形成された反復に対応する。貫通孔３２は，典 型的にはコンピュター化工作機械を用いて，正確に位置決め及び切削して精密加 工によってステンシル３１に好ましく形成される。場合によっては，貫通孔３２ は金属の浮き彫り用ステンシル３１にエッチング加工を施して形成することが出 来る。この様な場合，フォトレジストのエマルジョンがステンシルプレート上に 被覆され，その上に図線が写真的に細密に転写される。非保護表面区域を腐食す るの酸性水溶液が用いられ，所望位置に所望形状の貫通孔３２が提供される。貫 通孔３２の機械加工形成の方が大抵の場合好まれ，多くの場合図５に示す如く側 壁が直に延びる貫通孔を確保するために必要とされる。エッチング加工は，概し て所定厚み範囲の薄い方の下限近くの厚みのステンシルに備なえて使用されるの に限られ，とりわけ，厚めのステンシルに対しては，貫通孔内部が若干狭搾し， 回避しなければならないほぼ鼓状の形状に成る傾向がある。貫通孔は，刷込み後 転写紙から分離させる際に流動抵抗インクの堆積物を持ち上げる傾向を回避する ために，下方向に細まるっていてはいけない。 浮き彫り用ステンシル３１に必要な総ての貫通孔３２を形成するための処理を 施した後，図４に示す如くステンシルの外周縁３４は例えば適切なエポキシ樹脂 接着剤３８等によってスクリン３６の内縁部３５に接着固定されている。スクリ ン３６と浮き彫り用ステンシル３１を接合した後，スクリンは枠３０の下側に， 強い引っ張り力で，例えば１５−３０Ｎ／ｃｍで固着される。典型的には，スク リン３６の布は，スクリンが枠３０に引っ張られて取り付けられる迄，手を加え ず，その後，スクリンの中央部が切断されて，浮き彫り用ステンシルの上面を露 出させて，図４に示す構成に形成する。 図６乃至７に示す如く浮き彫り用ステンシルとスクリンを組み合わせるもう一 つ別の方法は，金属の浮き彫り用ステンシル３１の全表シート面を覆って，貫通 孔３２を形成しながら，スクリンとステンシルを同時に機械加工することである 。 図５乃至７に示す２つの態様のステンシルに於いて，ステンシルの顕著な特徴 は，浮き彫り刷込みインクの通過用孔がステンシルを厚み方向に完全に貫通し， かつステンシル装着スクリンによって重ね置かれないことである。これによって ，極めて濃密な流動抵抗性浮き彫り刷込みインクが貫通孔に進入し，刷込まれる べき転写紙と接触することが可能になる。 図５乃至７に示す何れの形態のステンシルも，従来の２次元状第１図案の為に 採用された極めて細かい網目のスクリンを使用する必要は無い。６０−９０の網 目構成のステンレス・スチール又はポリエステルのスクリンが適しており且つ望 ましく，典型的には０．００８乃至０．０１０インチ（０．２乃至０．２５ｍｍ ）の範囲の厚みを有する。図６乃至７に示した別形態のステンシルの場合，スク リンの厚みがステンシルの総厚みの１部を構成し，他方図５に示す形態のステン シルに於いてステンシルの総厚みはステンシル３１の厚みである。 限られた環境では，極めて粗い網目のスクリンを採用することが可能で，この 場合，スクリンは下のステンシルの貫通孔開口部上に留まる。これに関し，網目 が充分に広ければ，或る種インクや或る種図案に関して，非常に大きい網目のス クリンにインクを通過せしめることは受容される。この様な場合，既に説明した 直接−間接法，つまり感光性ポリマー・シートをスクリンの下側に感光性ポリマ ーの接着剤で接着して，ステンシルを構成することが可能である。概して，この 方法は所定の厚み範囲の薄い方の下限近くの厚みの浮き彫り用刷込みステンシル の形成に限られよう。 本発明の方法で採用されたセラミックインクは，公知の商業上入手可能な成分 から形成され，ケルデック アー・ゲー（Ｃｅｒｄｅｃ ＡＧ，ドイツ，フラン クフルト）やクックソン マットヘイ（Ｃｏｏｋｓｏｎ Ｍａｔｔｈｅｙ，アメ リカ，ペンシルベニア，ダウンイングトン）の製造元から入手可能である。採用 したインクは，媒質，フリットおよび顔料の混合物で，個々の混合物は仕事によ って変わる。これらセラミックインクの慣用的スクリン印刷のためには，インク は，細かい網目のスクリンを通って容易に流動可能な相対的に低い粘性に成るよ うに調合される。他方，本発明に依る浮き彫り刷込み工程を実施するために，イ ンクは，極めて濃密で粘着質のものであって，主観的にはピーナツバターの粘度 を有するものであると言えよう。より客観的には，百万ｃｐｓを充分に越える粘 性を有するように形成される。インクの各成分は十二分に掻き混ぜられて，ロー ラ間で粉砕され，均一の細かい粒子サイズ（Ｈｅｇｍａｎ １−２）にされてい る。 本発明に依る浮き彫り刷込み工程で使用されるセラミックインクは，流動抵抗 性を有し，しかもステンシルの貫通孔を強制的に通過せしめられなければ成らな い。この為，このインクを利用するスクリン印刷工程は，慣用的工程と異なった 様に実施されなければならない。ほぼ一致した結果が得られるように，浮き彫り 刷込みのために用意されるスクリンは，図５に示す如くステンシルの上面が刷込 まられるべき区域で完全に露出しているタイプのものか，図６及び７に示す如く ステンシルの貫通孔開口部がインクの無障壁な通過を許容するようにスクリン及 びステンシルそれ自体に形成されているタイプのものでなければならない。これ は図３に示す形態のステンシルと対照的である。しかし，場合によっては，普通 にない大き目の網目のスクリンを用いて，流動抵抗性浮き彫り刷込みインクをス クリンに強制的に通過させ，ステンシルの貫通孔内に進入させることができる。 浮き彫り刷込み工程の為の特殊インク及びステンシルの利用に加えて，スクリ ン印刷工程を改良した態様で実施していることも有利な点である。慣用的スクリ ン印刷に於いては，平らな棒をスクリン面上方で水平に移動させて，インクをス クリン一面に均一の層として拡散させる。次いで，スクィージ要素をスクリン上 面に対して下向きに押し当て，スクリン表面上を長手方向に引き摺る。強く張ら れたスクリンは通常，転写紙の刷込み面より上方に離間して配置されている。し かしながら，スクィージの下向きの押力は，スクリンの一部区域を一時的に下方 向に歪曲し，刷込み面と接触させる一方，インクをスクリンを通って流動させ， 下のステンシルの貫通孔内に進入させ，刷込むべき表面に達せしめる。スクィー ジ要素は通常，１秒につき例えば１２−２４インチ（３０．４８−６０．９６ｃ ｍ）の相対的に速い速度で移動する。スクリンを強く張る構成であるため，スク リンの歪曲区域は，スクィージの通過によりインクを転写紙表面上に残し去った 後，ほぼ瞬時に転写紙表面から元に戻る。 本発明の方法に於いては，浮き彫り用インクの極めて濃密で流動抵抗性の特質 のため，ステンシルが転写紙から離れ戻る以前に，インクと転写紙の間の接触時 間間隔を大きめに設けることが望ましい。これは，慣用的作業を改良することに よって実現される。図８を参照して，ステンシル３１は，強く張られてスクリン によって保持されているが，浮き彫り図案で刷込まれるべき転写紙４０の表面よ り若干上方位置で，通常支持されている。スクリン印刷機の一部を形成する支持 ベッド４１が転写紙の下に横たわり，印着過程の間，転写紙を支持している。 スクィージ要素４２は，７０−８０の範囲のデュロメータ（硬質係数）を有す る弾性材からなり，下端部が角状に形成され，好ましくは垂線に対して１０−１ ５°の角度で若干傾斜して配置される。スクィージは，ステンシル表面に沿って 図８の左側へ向かって進行させられている間，ステンシル３１の表面に対して相 当な下向きの力で押し付けるように配置される。 スクィージ４２の進行に先立って分散バー（図示せず）でステンシルの表面全 体がインクの層に掻き均される。スクィージが進行するにつれて，ステンシルは 転写紙４０の表面に向かって下向きに歪曲する。又，スクィージの進行面に沿っ て積もった濃密セラミックインク４４は貫通孔３２に進入せしめられ，転写紙の 上面と接触せしめられる。 本発明による方法に於いては，慣用のセラミックインクの刷込みに関して１秒 につき１２−２４インチ（３０．４８−６０．９６ｃｍ）の範囲の進行速度と比 較して，例えば１秒につき０．３乃至３インチ（０．７６２乃至７．６２ｃｍ） の範囲の著しく減速した速度でスクィージ４２を移動させることが望ましい。加 えて，スクリン印刷機は，歪曲していないステンシルの底面と転写紙４０の上面 との間に通常より著しく微小のクリアランスを有するように調整させられている 。これによって，ステンシルは，図８に概略的に示すようにスクィージの通過後 ステンシルが転写紙から持ち揚がるのを遅らせる傾向にある通常よりも浅い角度 で，転写紙に対し押圧される。この構成は，スクィージの通過後，転写紙の多く ても１−２インチ（２．５４−５．０８ｃｍ）に対してステンシルの”停滞時間 ”を与えるようにするものである。この停滞時間は，スクィージ自体のより緩や かな移動と関連して，図８に参照番号４５で示すインク堆積物に対して，ステン シル貫通孔３２内に進入して転写紙表面と確実に接合するのに通常よりも極めて 大きな時間を提供する。この結果，ステンシルを持ち上げたとき堆積物が転写紙 に留まる。 浮き彫り用刷込みインクの流動抵抗特質のため，刷込み堆積物は，ステンシル の総厚み分が転写紙表面から突出することになる。インクは，刷込み工程の間に 定まる寸法の堆積物が延びたり，捻れたり，変化することを実質的に防止するよ うに構成されている。しかし，ステンシルが引き戻されるとき，貫通孔の側壁と 堆積インク４５の間を摩擦して生じる引っ掛かり要素が存在し得る。これは堆積 物の一部を若干上方に持ち上がったもので有り得る。これが生じても，後で取り 除かれる。即ち，図案が陶磁器に付着され，その陶磁器がインクのその表面への 熔融の為に窯内で焼き上げた後に取り除かれる。熔融過程の間，３次元堆積物の 外縁が自然に丸まる。 浮き彫り刷込み工程の完了後，転写紙１３の少なくともインク刷込み領域の表 面は，覆い膜４６（図９）でコーティングされ，第１図案の２次元インク付着物 １９と３次元堆積物４５の上面に連続する層が形成されている。覆い膜４６は， 透明で好ましくは無色であるが有色でも良く，転写紙表面に図案の総てを一時的 に定着する連続的媒質を形成する。覆い膜４６は相対的に強靭な柔軟性有機ポリ マーから形成され，その素材はその目的のために使用されるものとして業界で良 く知られている。覆い膜は，その被覆後，典型的には華氏８０°−１２０°（ほ ぼ摂氏１２．４°−３４．７°）の範囲の相対的に低い温度で，乾燥される。 図案を食卓皿１０の様な物品に付着する際，個々の刷込み図案は刷込み転写紙 から切り離される。即ち，各刷込み転写紙は水中に，典型的には華氏７０°−９ ０°（ほぼ摂氏６．９°−１８．０°）の温度で１，２分浸けられる。これによ ってガム層１４が軟化し，この段階で柔軟性覆い膜４６により形を損なわず保持 されている移し絵全体が下側の転写紙から遊離する。移し絵は皿１０の表面に転 写され，適切な位置に置かれる。次いで，移し絵は軟質のスクィージで押されら れ，移し絵の下から除残留水が去される。ガム層の残留物は皿表面に対する一時 的な接着剤として役立つ。 転写の完了後，然るべく装飾された陶磁器は，高温で，典型的にはほぼ華氏１ ４００°−１５００°（ほぼ摂氏７４５．８°−８０１．３°）の温度で１０− ３０分間焼き上げられる。焼き上げ過程の間，移し絵の有機成分は燃焼し，セラ ミック成分のみ残り，それが陶磁器の表面に熔融する。熔融過程に於いて，浮き 彫り刷込み堆積物に生じた引っ掛かり縁部は滑らかになり，丸みを帯びる。 本発明に依る浮き彫り刷込み付着を利用して複数の色の浮き彫り堆積物を使用 することが望まれる場合は，図１０及び１１に概略する特殊改良ステンシルを利 用すると便利である。図１０に例示するプラスチックシートのステンシル５０は ，複数の第１の貫通孔５１と複数の第２の窪み５２を含んで形成されている。窪 みはステンシル底面５３に開口し，ステンシル上面５５近くの内奥面５４まで延 びている。貫通孔５１の総ては或る一つの色の浮き彫り装飾が望まれるべき堆積 物の為の位置に対応して設けられ，下向きに開口する窪み５２の総ては別の色の 浮き彫り堆積堆積物５６が既に転写紙５７に刷込まれている位置に対応して設け られている。 図１０に示す方法では浮き彫り装飾物の刷込みは２つの段階で実施される。最 初の段階では図５に示すタイプの標準のステンシルを採用することができ，その ステンシルに設けられた貫通孔の総てに対応する位置に図１０の窪み５２が設け らる。この段階では，第１の色の浮き彫り堆積物５６の総てが転写紙に刷り込ま れる。次の段階で図１０のステンシル５０が採用される。既存の浮き彫り堆積物 ５６が窪み５２内に受け入れられ，第２の色の新しい堆積物が貫通孔５１を介し て前述した態様で転写紙に刷込み堆積されることになる。 図１１は，複数の色の浮き彫り刷込み物を陶磁器に付着する為のもう一つの構 成を示している。図１１の構成に於いて，様々な形態のステンシルを採用し得る が，その中には，図６及び７のステンシルや，ステンシルの上面全体を覆い被さ る極めて大きな網目のスクリンを利用するステンシルを含む。図１１の構成に於 いて，浮き彫り刷込み段階で堆積されるべき色の数だけステンシルを用意するこ とができる。２色の刷込みを仮定して，図１１に参照番号６０で示すタイプのス テンシルが２つ用意され，各ステンシルには複数の貫通孔６１，６２にを介して 同一のデザインが形成されている。２つの色の内１つの色の堆積物の為の貫通孔 ６２の総ては，適当な接着テープ６３によって覆われている。接着テープ６３も ステンシルを構成している。他方のステンシルは，貫通孔６２を開放したままで ，貫通孔６１の総てをテープ６３で覆い貼付して用意されている。 図１１のステンシルに関して採用される工程は図１０に関連して説明したもの と同じである。第１のステンシルは，テープで覆われていない貫通孔６１を介し て１つの色を刷込むために採用されている。テープで覆われた貫通孔６２と並ぶ 領域はインクから免れる。次の付着段階で，貫通孔６１がテープで覆われると共 に貫通孔６２が露出する第２のステンシルを用いられるが，既に堆積した浮き彫 り要素は貫通孔６１に受け入れられ，他方第２の色のインクが貫通孔６２を介し てステンシル・シート６４上に堆積される。 限られた刷込み区間のため，図１１の構成は１つのステンシルを用いて実施で き，テープで覆われる貫通孔６２の組み合わせを変えることで限られた区間で刷 込むことができ，その後貫通孔６２からテープを取り除き，貫通孔６１にテープ を覆うことによって同一ステンシルを再構成することができる。 産業上の利用可能性 本発明の方法は，初めて生産の基礎を半自働にして浮き彫り装飾陶磁器製品を 製造することを可能にし，図案の３次元状浮き彫り要素はスクリン刷込み工程に より転写紙に刷込まれた後，転写紙によって陶磁器製品に転写付着される。陶磁 器製品に対して２次元状第１図案要素を転写工程によって付着することが長年行 われてきたけれども，３次元状浮き彫り要素を設けるのに労働集約的なコスト高 の手作業方法に頼ることが常に必要と考えられてきた。実を持つ茂木の様な単純 な浮き彫り装飾でさえ，３０以上もの木彫り要素（つまり，実）の個々の堆積物 が存在し得，過去に於いては一度に１つずつ正確に，かつ堆積物の大きさ，形状 や質を考慮しながら設置していた。本発明の方法では，浮き彫り特長の総てが一 回のスクリン刷込みストロークで以て効果的に付与され得る。 本発明の方法に於いて，浮き彫り刷込みに使用されるインクの構成は，インク の流動抵抗特質と関連して重要である。該インクは，公知のスクリン印刷工程と 対比して極めて濃密なものでなければならず，一般素材で言えばピーナツバター に匹敵する。刷込み工程の間および後で，またインクがその後の乾燥過程で固化 して定着する前に，引力作用によって該インクが流動しないし，捻れない。 濃密で重い浮き彫り用インクがスクリン上面で大きな抵抗を受けることなく強 制的に通過せしめられ得る貫通孔を備えて形成された浮き彫り用ステンシルを用 意することは，本発明の方法にとって重要である。適切厚みのシート状プラスチ ック又はシート状金属の浮き彫り用ステンシルを採用することによって最も有利 に成し遂げられる。その適切厚みは，０．０１５乃至０．０６０インチ（０．３ ８乃至１．５２ｍｍ）の範囲で，場合によってはその範囲より大きくても良く， ステンシルを機械加工して直な側壁の窄まりの無い貫通孔を設けることによって 浮き彫り図案特徴が付与される。 とりわけ有利な方法の一つでは，シート状ステンシルは，強く張られたスクリ ンによってのみステンシル周縁が支持されている。ステンシルの全表面は，露出 状態に置かれ，極めて粘着質の浮き彫り用インクを貫通孔内に最も効果的に進入 させて下の転写紙表面に適切に接触させるのに便宜を与える。本発明のもう一つ の好ましい形態に於いて，シート状ステンシルの上面全体は強く張られたスクリ ンによって支持されるが，スクリンはステンシルの貫通孔の真上領域が取り払う ようにしている。この結果，貫通孔はスクリンとステンシルの組合わせ物に形成 される。スクリンの網目が充分に大きい場合には，スクリンはそのままステンシ ルの貫通孔の上に置くことができる。但し，結果の信頼性が低くなる恐れがある 。然るべき場合，ステンシルそれ自体は，感光性ポリマーを用いて直接−間接法 を介して形成することができる。 本発明の方法に於いて，スクリンが跳ね戻りや持ち上がる以前に於ける堆積浮 き彫りインクが転写し表面に留まる標準的滞留時間を増加することによって有利 さが実現される。部分的には，スクィジー要素の速度を大きく減速することによ って，またスクリンを転写紙表面近くに配置してスクリンの”離反接触角度”を 最小化することによっても有利さが実現される。滞留時間を増加することによっ て，ステンシルが戻されるときに，浮き彫りインクが下の転写紙に充分に留まっ て接合する機会が増大する。 本発明の方法は，同目的の為の慣用的な二次元状刷込みの厚みの１００倍もの 厚みの浮き彫り特徴のスクリン刷込みを容易に実現することができる。又，これ 迄コスト高であるが必要とされた一連の手作業を事実上除去することによって， 陶磁器製品の浮き彫り装飾に於いて顕著にコストを低減することができる。 本発明の方法は，二次元状の第一図案と三次元状の浮き彫り図案の両方を含む 移し絵の刷り込みに関連して説明したが，先に第一図案を手でまたは別の転写紙 により物品に付着した後，浮き彫り特徴のみを転写紙に刷り込み，転写紙を介し て装飾すべき物品に複数の浮き彫り特徴を転写することは，本発明の範囲内であ る。 本発明の具体的な形態は、開示の明確な趣旨から逸脱することなしに変更し得 るので、代表的なものに過ぎないと理解されるべきである。従って発明の全範囲 を決定するに際して以下に示す請求項を参照すべきである。 請求の範囲 １．（ａ）第１厚みのセラミックインクの第１図線部から成る実質２次元状の第 １装飾図案を転写紙に付着すること， （ｂ）第２浮き彫り図案をスクリン印刷法により前記転写紙の上面に堆積するこ と， （ｃ）前記第２図案は，少なくとも０．０１５インチ（０．３７５ｍｍ）の厚み のスクリン印刷ステンシルを用いて，濃密で流動抵抗性のセラミックインクの刷 込み堆積物によって０．０１５インチ（０．３７５ｍｍ）以上の厚みに形成され ていること， （ｄ）前記第２図案のセラミックインクを乾燥すること， （ｅ）前記第１図案と第２図案とを前記転写紙から陶磁器製品に転写すること， （ｆ）前記陶磁器を加熱して，前記セラミックインクを陶磁器に熔着し，陶磁器 上に外方に突出する永久的浮き彫り図案を形成すること， から成る陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 ２．（ａ）第１厚みのセラミックインクの第１図線部から成る実質２次元状の第 １装飾図案を転写紙に付着すること， （ｂ）第２浮き彫り図案をスクリン印刷法により前記転写紙の上面に堆積するこ と， （ｃ）前記第２図案は，濃密で流動抵抗性のセラミックインクの刷込み堆積物に よって少なくとも０．０１５インチ（０．３７５ｍｍ）の厚みに形成されている こと， （ｄ）前記第２図案のセラミックインクは，百万ｃｐｓを越える粘性を有するよ うに構成されていること， （ｅ）前記第２図案のセラミックインクを乾燥すること， （ｆ）前記第１図案と第２図案とを前記転写紙から陶磁器製品に転写すること， （ｇ）前記陶磁器を加熱して，前記セラミックインクを陶磁器に熔着し，陶磁器 上に永久的浮き彫り図案を形成すること， から成る陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 ３．前記ステンシルはシート状金属またはシート状プラスチックから成る請求項 １の押出し陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 ４．図案形成貫通孔が前記ステンシルに機械加工によって設けられ，実質的に下 方向に窄まっていないことから成る請求項３の陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 ５．前記ステンシルは，強く張られたスクリンに取り付けられ，１５−３０Ｎ／ ｃｍの張力の下で保持されていることから成る請求項３の陶磁器製品の浮き彫り 装飾方法。 ６．（ａ）前記ステンシルは上面全体が前記スクリンの仮面に接合されているこ と， （ｂ）前記ステンシルに於ける貫通孔が前記スクリンにも形成されていること， から成る請求項４の陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 ７．（ａ）第１厚みのセラミックインクの第１図線部から成る実質２次元状の第 １装飾図案を転写紙に付着すること， （ｂ）第２浮き彫り図案をスクリン印刷法により前記転写紙の上面に堆積するこ と， （ｃ）前記第２図案は，濃密で流動抵抗性のセラミックインクの刷込み堆積物に よって０．０１５インチ（０．３７５ｍｍ）以上の厚みに形成されていること， （ｄ）前記第２図案のセラミックインクを乾燥すること， （ｅ）前記第１図案と第２図案とを前記転写紙から陶磁器製品に転写すること， （ｆ）前記陶磁器を加熱して，前記セラミックインクを陶磁器に熔着し，陶磁器 上に永久的浮き彫り図案を形成すること， （ｇ）前記第２図案のセラミックインクは，少なくとも０．０１５インチ（０． ３７５ｍｍ） の厚みのシート状金属またはシート状プラスチックから成る刷込み ス テンシルを用いて，付着されること， （ｈ）前記ステンシルは，強く張られたスクリンに取り付けられ，１５−３０Ｎ ／ｃｍの張力の下で保持されていること， （ｉ）図案形成貫通孔が前記ステンシルに機械加工によって設けられていること ， （ｊ）前記ステンシルは上面全体が前記スクリンの仮面に接合されていること， （ｋ）前記ステンシルに於ける貫通孔が前記スクリンにも形成されていること， から成る陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 ８．（ａ）図案形成貫通孔が前記ステンシルに機械加工によって設けられること ，及び （ｂ）前記貫通孔が実質的に下方向に窄まっていないこと， から成る請求項１の陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 ９．（ａ）前記流動抵抗性セラミックインクは，前記ステンシルの表面上を移動 する弾性スクィージによって，前記貫通孔を強制的に通過せしめられること， （ｂ）前記スクィージは１秒に付きほぼ３インチ（７．６２ｃｍ）以下の速度で 前進させられること， から成る請求項１の陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 １０．（ａ）前記ステンシルは，強く張られたスクリンに取り付けられているこ と， （ｂ）スクリンは，前記転写紙の上面に対して近くに間隔を置いて配置され，よ って刷込み過程の間，前記ステンシル上をスクィージが前進して変位するとき， 前記ステンシルと前記転写紙上面との間にほぼ２インチ（５．０８ｃｍ）の接触 長さが設けられること， から成る請求項９の陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 １１．（ａ）転写紙を用意すること， （ｂ）スクリン印刷法により，突出浮き彫り図案を前記転写紙の上面に堆積する こと， （ｃ）前記浮き彫り図案は，濃密で流動抵抗性のセラミックインクの刷込み堆積 物によって０．０１５インチ（０．３７５ｍｍ）以上の厚みに形成されているこ と， （ｄ）前記浮き彫り図案のセラミックインクを乾燥すること， （ｅ）前記浮き彫り図案を前記転写紙から陶磁器製品に転写すること， （ｆ）前記陶磁器を加熱して，前記セラミックインクを陶磁器に熔着し，陶磁器 上に外方に突出する永久的浮き彫り図案を形成すること， から成る陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 １２．（ａ）転写紙を用意すること， （ｂ）スクリン印刷法により，突出浮き彫り図案を前記転写紙の上面に堆積する こと， （ｃ）前記浮き彫り図案は，濃密で流動抵抗性のセラミックインクの刷込み堆積 物によって０．０１５インチ（０．３７５ｍｍ）以上の厚みに形成されているこ と， （ｄ）前記浮き彫り図案のセラミックインクを乾燥すること， （ｅ）前記浮き彫り図案を前記転写紙から陶磁器製品に転写すること， （ｆ）前記陶磁器を加熱して，前記セラミックインクを陶磁器に熔着し，陶磁器 上に外方に突出する永久的浮き彫り図案を形成すること， （ｇ）前記浮き彫り図案のセラミックインクは，百万ｃｐｓを越える粘性を有す るように構成されていること， （ｈ）前記浮き彫り図案のセラミックインクは，少なくとも０．０１５インチ（ ０．３７５ｍｍ） の厚みで窄まっていない図案形成貫通孔を備える刷込みステン シルを用いて，付着されること， から成る陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 １３．（ａ）前記流動抵抗性セラミックインクは，前記ステンシルの表面上を移 動する弾性スクィージによって，前記貫通孔を強制的に通過せしめられること， （ｂ）前記スクィージは１秒に付きほぼ３インチ（７．６２ｃｍ）以下の速度で 前進させられること， から成る請求項１２の陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 １４．（ａ）前記ステンシルは，強く張られたスクリンに取り付けられているこ と， （ｂ）スクリンは，前記転写紙の上面に対して近くに間隔を置いて配置され，よ って刷込み過程の間，前記ステンシル上をスクィージが前進して変位するとき， 前記ステンシルと前記転写紙上面との間にほぼ２インチ（５．０８ｃｍ）の接触 長さが設けられること， から成る請求項１３の陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 １５．（ａ）前記ステンシルはシート状金属またはシート状プラスチックから成 ること， （ｂ）図案形成貫通孔が前記ステンシルに機械加工によって設けられていること （ｃ）前記ステンシルは，強く張られたスクリンに取り付けられ，１５−３０Ｎ ／ｃｍの張力の下で保持されていること， から成る請求項１２の陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 １６．（ａ）前記強く張られたスクリンは，中央部に開口部を有し，該開口部が 内周縁によって取り囲まれていること， （ｂ）前記ステンシルの外周縁が前記スクリンの内周縁に接合されていること， （ｃ）前記外周縁によって接合された前記ステンシルの領域に図案形成貫通孔が 配置されていること， から成る請求項１５の陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 １７．（ａ）前記ステンシルは，その全体が前記スクリン下面に接合されている こと， （ｂ）前記ステンシルの図案形成貫通孔が前記スクリンにも形成されていること から成る請求項１５の陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 １８．請求項１の方法によって製造された装飾陶磁器製品。 １９．請求項１１の方法によって製造された装飾陶磁器製品。 ２０．請求項２の方法によって製造された装飾陶磁器製品。 ２１．請求項１２の方法によって製造された装飾陶磁器製品，

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．（ａ）第１厚みのセラミックインクの第１図線部から成る実質２次元状の第 １装飾図案を転写紙に付着すること， （ｂ）第２浮き彫り図案をスクリン印刷法により前記転写紙の上面に堆積するこ と， （ｃ）前記第２図案は，少なくとも０．０１５インチの厚みのスクリン印刷ステ ンシルを用いて，濃密で流動抵抗性のセラミックインクの刷込み堆積物によって ０．０１５インチ以上の厚みに形成されていること， （ｄ）前記第２図案のセラミックインクを乾燥すること， （ｅ）前記第１図案と第２図案とを前記転写紙から陶磁器製品に転写すること， （ｆ）前記陶磁器を加熱して，前記セラミックインクを陶磁器に熔着し，陶磁器 上に外方に突出する永久的浮き彫り図案を形成すること， から成る陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 ２．（ａ）第１厚みのセラミックインクの第１図線部から成る実質２次元状の第 １装飾図案を転写紙に付着すること， （ｂ）第２浮き彫り図案をスクリン印刷法により前記転写紙の上面に堆積するこ と， （ｃ）前記第２図案は，濃密で流動抵抗性のセラミックインクの刷込み堆積物に よって０．０１５インチの厚みに形成されていること， （ｄ）前記第２図案のセラミックインクは，百万ｃｐｓを越える粘性を有するよ うに構成されていること， （ｅ）前記第２図案のセラミックインクを乾燥すること， （ｆ）前記第１図案と第２図案とを前記転写紙から陶磁器製品に転写すること， （ｇ）前記陶磁器を加熱して，前記セラミックインクを陶磁器に熔着し，陶磁器 上に永久的浮き彫り図案を形成すること， から成る陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 ３．前記ステンシルはシート状金属またはシート状プラスチックから成る請求項 １の押出し陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 ４．図案形成貫通孔が前記ステンシルに機械加工によって設けられ，実質的に下 方向に窄まっていないことから成る請求項３の陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 ５．前記ステンシルは，強く張られたスクリンに取り付けられ，１５−３０Ｎ／ ｃｍの張力の下で保持されていることから成る請求項３の陶磁器製品の浮き彫り 装飾方法。 ６．（ａ）前記ステンシルは上面全体が前記スクリンの仮面に接合されているこ と， （ｂ）前記ステンシルに於ける貫通孔が前記スクリンにも形成されていること， から成る請求項４の陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 ７．（ａ）第１厚みのセラミックインクの第１図線部から成る実質２次元状の第 １装飾図案を転写紙に付着すること， （ｂ）第２浮き彫り図案をスクリン印刷法により前記転写紙の上面に堆積するこ と， （ｃ）前記第２図案は，濃密で流動抵抗性のセラミックインクの刷込み堆積物に よって ０．０１５インチ以上の厚みに形成されていること， （ｄ）前記第２図案のセラミックインクを乾燥すること， （ｅ）前記第１図案と第２図案とを前記転写紙から陶磁器製品に転写すること， （ｆ）前記陶磁器を加熱して，前記セラミックインクを陶磁器に熔着し，陶磁器 上に永久的浮き彫り図案を形成すること， （ｇ）前記第２図案のセラミックインクは，少なくとも０．０１５インチの厚み のシート状金属またはシート状プラスチックから成る刷込みステンシルを用いて ，付着されること， （ｈ）前記ステンシルは，強く張られたスクリンに取り付けられ，１５−３０Ｎ ／ｃｍの張力の下で保持されていること， （ｉ）図案形成貫通孔が前記ステンシルに機械加工によって設けられていること ， （ｊ）前記ステンシルは上面全体が前記スクリンの仮面に接合されていること， （ｋ）前記ステンシルに於ける貫通孔が前記スクリンにも形成されていること， から成る陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 ８．（ａ）図案形成貫通孔が前記ステンシルに機械加工によって設けられること ，及び （ｂ）前記貫通孔が実質的に下方向に窄まっていないこと， から成る請求項１の陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 ９．（ａ）前記流動抵抗性セラミックインクは，前記ステンシルの表面上を移動 する弾性スクィージによって，前記貫通孔を強制的に通過せしめられること， （ｂ）前記スクィージは１秒に付きほぼ３インチ以下の速度で前進させられるこ と， から成る請求項１の陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 １０．（ａ）前記ステンシルは，強く張られたスクリンに取り付けられているこ と， （ｂ）スクリンは，前記転写紙の上面に対して近くに間隔を置いて配置され，よ って刷込み過程の間，前記ステンシル上をスクィージが前進して変位するとき， 前記ステンシルと前記転写紙上面との間にほぼ２インチの接触長さが設けられる こと， から成る請求項９の陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 １１．（ａ）転写紙を用意すること， （ｂ）スクリン印刷法により，突出浮き彫り図案を前記転写紙の上面に堆積する こと， （ｃ）前記浮き彫り図案は，濃密で流動抵抗性のセラミックインクの刷込み堆積 物によって０．０１５インチ以上の厚みに形成されていること， （ｄ）前記浮き彫り図案のセラミックインクを乾燥すること， （ｅ）前記浮き彫り図案を前記転写紙から陶磁器製品に転写すること， （ｆ）前記陶磁器を加熱して，前記セラミックインクを陶磁器に熔着し，陶磁器 上に外方に突出する永久的浮き彫り図案を形成すること， から成る陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 １２．（ａ）転写紙を用意すること， （ｂ）スクリン印刷法により，突出浮き彫り図案を前記転写紙の上面に堆積する こと， （ｃ）前記浮き彫り図案は，濃密で流動抵抗性のセラミックインクの刷込み堆積 物によって０．０１５インチ以上の厚みに形成されていること， （ｄ）前記浮き彫り図案のセラミックインクを乾燥すること， （ｅ）前記浮き彫り図案を前記転写紙から陶磁器製品に転写すること， （ｆ）前記陶磁器を加熱して，前記セラミックインクを陶磁器に熔着し，陶磁器 上に外方に突出する永久的浮き彫り図案を形成すること， （ｇ）前記浮き彫り図案のセラミックインクは，百万ｃｐｓを越える粘性を有す るように構成されていること， （ｈ）前記浮き彫り図案のセラミックインクは，少なくとも０．０１５インチの 厚みで窄まっていない図案形成貫通孔を備える刷込みステンシルを用いて，付着 されること， から成る陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 １３．（ａ）前記流動抵抗性セラミックインクは，前記ステンシルの表面上を移 動する弾性スクィージによって，前記貫通孔を強制的に通過せしめられること， （ｂ）前記スクィージは１秒に付きほぼ３インチ以下の速度で前進させられるこ と， から成る請求項１２の陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 １４．（ａ）前記ステンシルは，強く張られたスクリンに取り付けられているこ と， （ｂ）スクリンは，前記転写紙の上面に対して近くに間隔を置いて配置され，よ って刷込み過程の間，前記ステンシル上をスクィージが前進して変位するとき， 前記ステンシルと前記転写紙上面との間にほぼ２インチの接触長さが設けられる こと， から成る請求項１３の陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 １５．（ａ）前記ステンシルはシート状金属またはシート状プラスチックから成 ること， （ｂ）図案形成貫通孔が前記ステンシルに機械加工によって設けられていること ， （ｃ）前記ステンシルは，強く張られたスクリンに取り付けられ，１５−３０Ｎ ／ｃｍの張力の下で保持されていること， から成る請求項１２の陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 １６．（ａ）前記強く張られたスクリンは，中央部に開口部を有し，該開口部が 内周縁によって取り囲まれていること， （ｂ）前記ステンシルの外周縁が前記スクリンの内周縁に接合されていること， （ｃ）前記外周縁によって接合された前記ステンシルの領域に図案形成貫通孔が 配置されていること， から成る請求項１５の陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 １７．（ａ）前記ステンシルは，その全体が前記スクリン下面に接合されている こと， （ｂ）前記ステンシルの図案形成貫通孔が前記スクリンにも形成されていること ， から成る請求項１５の陶磁器製品の浮き彫り装飾方法。 １８．請求項１の方法によって製造された装飾陶磁器製品。 １９．請求項１１の方法によって製造された装飾陶磁器製品。 ２０．請求項２の方法によって製造された装飾陶磁器製品。 ２１．請求項１２の方法によって製造された装飾陶磁器製品。