JP2000512703A - クライオポンプのパージおよび低真空化による再生方法、クライオポンプおよび制御装置 - Google Patents
クライオポンプのパージおよび低真空化による再生方法、クライオポンプおよび制御装置Info
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. クライオポンプの再生方法であって、 クライオポンプにガスパージを施すためにパージバルブを開き、クライオポン プからガスを放出するために周囲の温度よりも十分に上回る高温にクライオポン プ面を昇温させる工程と、 前記高温よりも十分に低い温度にクライオポンプを冷却する工程と、 前記パージバルブを閉じる工程と、 このパージバルブが閉じた状態で低温を維持しつつクライオポンプを低真空化 し、低真空化テストを実施する工程とを備えたクライオポンプの再生方法。 2. 請求項1において、前記冷却工程が、 前記ガスパージを施し続け、クライオポンプを前記低温に冷却している間に低 真空化用ポンプに接続された低真空化用バルブを開く工程を備えたクライオポン プの再生方法。 3. 請求項2において、前記クライオポンプの冷凍機を起動することにより前 記クライオポンプを前記低温に冷却するクライオポンプの再生方法。 4. 請求項2において、前記高温下で前記ガスパージを施している間に低真空 化用バルブが開かれるクライオポンプの再生方法。 5. 請求項4において、前記高温は約330Kであり、前記低温はほぼ周囲の 温度であるクライオポンプの再生方法。 6. 請求項4において、さらに、前記クライオポンプが前記低真空化テストに 合格しない時には、パージと低真空化をクライオポンプに同時に施し、次に再び 前記パージバルブを閉じ、クライオポンプを低真空化して低真空化テストを実施 する工程を備えたクライオポンプの再生方法。 7. 請求項6において、前記低真空化テストに合格しない場合のクライオポン プのパージおよび低真空化は、低温においてのみ行われるクライオポンプの再生 方法。 8. 請求項7において、前記低温下でのパージおよび低真空化は、クライオポ ンプの冷凍機を起動しながら行われるクライオポンプの再生方法。 9. 請求項8において、前記高温は約330Kであり、前記低温はほぼ周囲の 温度であるクライオポンプの再生方法。 10. 請求項1において、さらに、 前記パージガスを高温下で供給している間に低真空化用ポンプに接続された低 真空化用バルブを開く工程を備えたクライオポンプの再生方法。 11. 請求項10において、前記クライオポンプがその冷凍機により低温に冷 却され、ほぼ周囲の温度に維持されるクライオポンプの再生方法。 12. 請求項11において、前記クライオポンプがほぼ周囲の温度に冷却され る際に、前記パージバルブが開状態に維持され、前記低真空化用バルブが開状態 に維持されているクライオポンプの再生方法。 13. クライオポンプの再生方法であって、 ガスパージによりクライオポンプをパージする工程と、 クライオポンプを低真空排気する工程と、 クライオポンプが適切に低真空化されたことをテストする工程と、 クライオポンプがテストに合格しない場合には、 クライオポンプにパージと低真空化同時に施し、 パージを停止し、再びクライオポンプを低真空化してテストを行う工程とを 備えたクライオポンプの再生方法。 14. 請求項13において、前記クライオポンプのパージおよび低真空化がほ ぼ周囲の温度下で行われるクライオポンプの再生方法。 15. 請求項13において、前記パージおよび低真空化の間にクライオポンプ の冷凍機が起動されるクライオポンプの再生方法。 16. クライオポンプの再生方法であって、 クライオポンプのクライオポンプ面を周囲の温度よりも十分に高い温 度にまで昇温させ、クライオポンプにガスパージを施すためにパージバルブを開 き、パージガスを高温下で供給している間に低真空化用ポンプに接続された低真 空化用バルブを開く工程と、 パージバルブおよび低真空化用バルブを開いた状態に保ちつつクライオポンプ の冷凍機を起動し、クライオポンプをほぼ周囲の温度レベルの低温にまで冷却す る工程と、 パージバルブを閉じ、クライオポンプをベース圧力に低真空排気するためにク ライオポンプを低温に維持しつつ低真空化用バルブを開状態に維持する工程と、 クライオポンプを低真空排気しつつ低真空化テストを実施し、クライオポンプ がテストに合格しない場合には低真空化用バルブを開状態に保ちつつパージバル ブを再び開くことにより、クライオポンプを低温下で再パージし低真空化する工 程とを備えたクライオポンプの再生方法。 17. クライオポンプチャンバと、 このクライオポンプチャンバにパージガスを施すための高温パージガスバルブ と、 前記クライオポンプチャンバを低真空化用ポンプに接続するための低真空化用 バルブと、 クライオポンプにガスパージを施すためにパージバルブを開き、クライオポ ンプからガスを放出するために周囲の温度よりも十分に高い温度にクライオポン プを昇温させ、 クライオポンプを前記高温よりも十分に低い温度にまで冷却し、低温を維持 しつつクライオポンプを低真空化し、低真空化テストを実施することにより再生 処理を制御するようにプログラミングされた前記パージガスバルブおよび前記低 真空化用バルブをコントロールするための電子制御装置とを備えたクライオポン プ。 18. 請求項17において、前記制御装置は、 パージガスを供給し続け、クライオポンプを低温に冷却している間に 低真空化用ポンプに接続された低真空化用バルブを開き、 真空ポンプとして十分に低い圧力にクライオポンプを低真空化するために低真 空化用バルブを開状態に維持している間にパージバルブを閉じるようにプログラ ミングされているクライオポンプ。 19. 請求項18において、前記制御装置は、前記クライオポンプの冷凍機を 起動することによりクライオポンプを低温に冷却するクライオポンプ。 20. 請求項18において、前記制御装置は、前記ガスパージが高温において 実施されている間に前記低真空化用バルブを開くクライオポンプ。 21. 請求項20において、前記高温はほぼ330Kであり、前記低温はほぼ 周囲の温度であるクライオポンプ。 22. 請求項20において、前記クライオポンプが低真空化テストに合格しな い場合に、前記制御装置が前記クライオポンプにパージと低真空化を同時に実施 し、次に再びパージバルブを閉じ、クライオポンプを低真空化して低真空化テス トを行うクライオポンプ。 23. 請求項22において、前記クライオポンプが低真空化テストに合格しな い場合に、前記制御装置が低温下でのみ前記クライオポンプをパージし、低真空 化するクライオポンプ。 24. 請求項23において、前記制御装置は前記クライオポンプの冷凍機を起 動させつつ前記低温下でパージと低真空化を行うクライオポンプ。 25. 請求項24において、前記高温はほぼ330Kであり、前記低温はほぼ 周囲の温度であるクライオポンプ。 26. 請求項17において、前記制御装置は、高温下で前記パージガスを供給 している間に低真空化用ポンプに接続された低真空化用バルブを開くようにプロ グラミングされているクライオポンプ。 27. 請求項26において、前記制御装置は、前記クライオポンプの 冷凍機により前記クライオポンプを低温に冷却し、ほぼ周囲の温度の低温に維持 するようにプログラミングされているクライオポンプ。 28. 請求項27において、前記制御装置は、クライオポンプがほぼ周囲の温 度に冷却される時に、前記パージバルブを開状態に維持し、又前記低真空化用バ ルブを開状態に維持するようにプログラミングされているクライオポンプ。 29. クライオポンプチャンバと、 このクライオポンプチャンバにパージガスを供給するための高温パージガスバ ルブと、 前記クライオポンプチャンバを低真空化用ポンプに接続するための低真空化用 バルブと、 クライオポンプをパージするためにパージバルブを開き、 クライオポンプを低真空排気するための低真空化用バルブを開き、 クライオポンプの低真空化が適切に行われたか否かをテストし、クライオポ ンプがこのテストに合格しない場合には、 パージガスバルブおよび低真空化用バルブを同時に開くことによりクライ オポンプをパージおよび低真空化し、 パージガスバルブを閉じ、再び低真空排気を行い、クライオポンプをテス トすることにより再生処理を制御するようにプログラミングされた前記パージガ スバルブおよび低真空化用バルブをコントロールするための電子制御装置とを備 えたクライオポンプ。 30. 請求項29において、前記制御装置は、前記クライオポンプの周囲の温 度下でのパージと低真空化をコントロールするクライオポンプ。 31. 請求項29において、前記制御装置は、前記パージと低真空化の間にク ライオポンプの冷凍機を起動させるクライオポンプ。 32. クライオポンプの再生をコントロールするようにプログラミングされた 電子制御装置であって、 クライオポンプにガスパージを施すためにパージバルブを開き、クラ イオポンプからガスを放出するためにクライオポンプを周囲の温度よりも十分に 上回る高温にまで昇温させるための第1の手段と、 クライオポンプを前記高温よりも十分に低い温度に冷却し、クライオポンプを 低真空化し、低真空化テストを実施する間この低温を維持する第2の手段とを備 えた電子制御装置。 33. 請求項32において、前記第2の手段は、 前記パージガスを供給し続け、クライオポンプを前記低温に冷却している間に 低真空化用ポンプに接続された低真空化用バルブを開く手段と、 クライオポンプを排気のための十分に低い圧力にまで低真空化するために低真 空化用バルブを開状態に維持しつつパージバルブを閉じる手段とを備えた電子制 御装置。 34. 請求項33において、前記制御装置は、ガスパージが高温下で行われて いる間に低真空化用バルブを開く電子制御装置。 35. 請求項34において、前記クライオポンプが低真空化テストに合格しな い場合に、前記制御装置は前記クライオポンプにパージと低真空化を同時に施し 、次に再びパージバルブを閉じ、クライオポンプを低真空化して低真空化テスト を行う電子制御装置。 36. 請求項35において、前記クライオポンプが低真空化テストに合格しな い場合に、前記制御装置が低温下でのみ前記クライオポンプをパージして低真空 化を行う電子制御装置。 37. 請求項36において、前記制御装置は前記クライオポンプの冷凍機を起 動させつつ前記低温下でパージと低真空化を行うな電子制御装置。 38. 請求項32において、前記パージガスを高温下で供給している間に低真 空化用ポンプに接続された低真空化用バルブを開くようにプログラミングされて いる電子制御装置。 39. 請求項38において、前記クライオポンプの冷凍機により前記クライオ ポンプを低温に冷却し、ほぼ周囲の温度である低温に維持する ようにプログラミングされた電子制御装置。 40. 請求項39において、前記クライオポンプがほぼ周囲の温度に冷却され る時に、前記パージバルブを開状態に維持し、前記低真空化用バルブを開状態に 維持するようにプログラミングされた電子制御装置。 41. クライオポンプ再生をコントロールするようにプログラミングされた電 子制御装置であって、 クライオポンプをパージするためにパージガスバルブを開く手段と、 クライオポンプを低真空排気するための低真空化用ポンプを開く手段と、 低真空化が適切に行われたか否かを確かめるためにクライオポンプをテストし 、クライオポンプがこのテストに合格しない場合には、 クライオポンプをパージおよび低真空化するためにパージガスバルブおよび 低真空化用バルブを同時に開き、 パージガスバルブを閉じ、再びクライオポンプを低真空化してテストする手 段とを備えた電子制御装置。 42. 請求項41において、前記制御装置は、パージおよび低真空化の間にク ライオポンプ冷凍機を起動させる電子制御装置。
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012237293A (ja) * | 2011-05-13 | 2012-12-06 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | クライオポンプシステム、クライオポンプのための再生方法 |
| JP2015175342A (ja) * | 2014-03-18 | 2015-10-05 | 住友重機械工業株式会社 | クライオポンプ、及びクライオポンプの再生方法 |
| JP2017083171A (ja) * | 2011-03-04 | 2017-05-18 | ブルックス オートメーション インコーポレイテッド | ヘリウム管理制御システム |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6327863B1 (en) | 2000-05-05 | 2001-12-11 | Helix Technology Corporation | Cryopump with gate valve control |
| US7091882B2 (en) | 2001-05-29 | 2006-08-15 | Terion, Incorporated | Automated exchange for determining availability of assets shareable among entities |
| US6510697B2 (en) | 2001-06-07 | 2003-01-28 | Helix Technology Corporation | System and method for recovering from a power failure in a cryopump |
| US7127901B2 (en) * | 2001-07-20 | 2006-10-31 | Brooks Automation, Inc. | Helium management control system |
| EP1649166B1 (en) | 2003-06-27 | 2007-02-28 | Helix Technology Corporation | Integration of automated cryopump safety purge |
| US7997089B2 (en) * | 2003-11-28 | 2011-08-16 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Method and apparatus for regeneration water |
| US7297055B2 (en) * | 2004-03-16 | 2007-11-20 | Raytheon Company | Vacuum-insulating system and method for generating a high-level vacuum |
| US7194867B2 (en) * | 2004-03-19 | 2007-03-27 | Brooks Automation, Inc. | Integrated rough/purge/vent (RPV) valve |
| US7228687B2 (en) * | 2004-08-12 | 2007-06-12 | Vat Holding Ag | Valve device |
| KR100706818B1 (ko) * | 2005-11-07 | 2007-04-12 | 박병직 | 크라이오 펌프 |
| US20090038319A1 (en) * | 2007-08-08 | 2009-02-12 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Cryopanel and Cryopump Using the Cryopanel |
| EP2310681A4 (en) * | 2008-07-01 | 2017-04-12 | Brooks Automation, Inc. | Method and apparatus for providing temperature control to a cryopump |
| WO2011075110A1 (en) * | 2008-11-19 | 2011-06-23 | Brooks Automation, Inc. | Process chamber with intergrated pumping |
| JP5846966B2 (ja) * | 2012-03-01 | 2016-01-20 | 住友重機械工業株式会社 | クライオポンプ及びその再生方法 |
| US9186601B2 (en) * | 2012-04-20 | 2015-11-17 | Sumitomo (Shi) Cryogenics Of America Inc. | Cryopump drain and vent |
| JP6124626B2 (ja) * | 2013-03-12 | 2017-05-10 | 住友重機械工業株式会社 | クライオポンプ及びその再生方法 |
| JP6351525B2 (ja) | 2015-03-04 | 2018-07-04 | 住友重機械工業株式会社 | クライオポンプシステム、クライオポンプ制御装置、及びクライオポンプ再生方法 |
| JP7455040B2 (ja) * | 2020-10-05 | 2024-03-25 | 住友重機械工業株式会社 | クライオポンプおよびクライオポンプの再生方法 |
| JP2024085232A (ja) * | 2022-12-14 | 2024-06-26 | 住友重機械工業株式会社 | クライオポンプおよびクライオポンプ再生方法 |
| US20240292568A1 (en) * | 2023-02-27 | 2024-08-29 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Cryogenic Platform |
| US20260028975A1 (en) * | 2024-07-29 | 2026-01-29 | Applied Materials, Inc. | Protective coatings for cryogenic pump components in process chambers |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2949092A1 (de) * | 1979-12-06 | 1981-06-11 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Kryopumpe |
| US4356810A (en) * | 1981-02-17 | 1982-11-02 | William J. Ferlin | Plural burner gas cooker |
| US4514204A (en) * | 1983-03-21 | 1985-04-30 | Air Products And Chemicals, Inc. | Bakeable cryopump |
| US4718240A (en) * | 1985-03-01 | 1988-01-12 | Helix Technology Corporation | Cryopump regeneration method and apparatus |
| JPS62502276A (ja) * | 1985-03-01 | 1987-09-03 | ヘリックス・テクノロジ−・コ−ポレ−ション | 低温ポンプの再生方法および装置 |
| EP0250613B1 (de) * | 1986-06-23 | 1991-07-17 | Leybold Aktiengesellschaft | Kryopumpe und Verfahren zum Betrieb dieser Kryopumpe |
| JPS6312890A (ja) * | 1986-07-03 | 1988-01-20 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | クライオポンプの始動及び再生方法 |
| US5157928A (en) * | 1988-09-13 | 1992-10-27 | Helix Technology Corporation | Electronically controlled cryopump |
| US4918930A (en) * | 1988-09-13 | 1990-04-24 | Helix Technology Corporation | Electronically controlled cryopump |
| JPH04504454A (ja) * | 1989-04-07 | 1992-08-06 | ヘリツクス・テクノロジー・コーポレーシヨン | 圧力逃がし弁とそれを使用したクライオポンプ |
| JP2574586B2 (ja) * | 1990-11-19 | 1997-01-22 | ライボルト アクチエンゲゼルシヤフト | クライオポンプを再生する方法及びこの方法を実施するのに適したクライオポンプ |
| JPH04326943A (ja) * | 1991-04-25 | 1992-11-16 | Hitachi Ltd | 真空排気システム及び排気方法 |
| DE9111236U1 (de) * | 1991-09-10 | 1992-07-09 | Leybold AG, 6450 Hanau | Kryopumpe |
| US5228299A (en) * | 1992-04-16 | 1993-07-20 | Helix Technology Corporation | Cryopump water drain |
| US5375424A (en) * | 1993-02-26 | 1994-12-27 | Helix Technology Corporation | Cryopump with electronically controlled regeneration |
| GB2300885B (en) * | 1993-02-26 | 1997-09-24 | Helix Tech Corp | Cryogenic vacuum pump with electronically controlled regeneration |
| US5513499A (en) * | 1994-04-08 | 1996-05-07 | Ebara Technologies Incorporated | Method and apparatus for cryopump regeneration using turbomolecular pump |
| US5517823A (en) * | 1995-01-18 | 1996-05-21 | Helix Technology Corporation | Pressure controlled cryopump regeneration method and system |
-
1997
- 1997-02-12 JP JP53346397A patent/JP4297975B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1997-02-12 GB GB9820453A patent/GB2325707B/en not_active Expired - Fee Related
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- 1997-05-02 US US08/848,973 patent/US5862671A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017083171A (ja) * | 2011-03-04 | 2017-05-18 | ブルックス オートメーション インコーポレイテッド | ヘリウム管理制御システム |
| US10113781B2 (en) | 2011-03-04 | 2018-10-30 | Brooks Automation, Inc. | Helium management control system |
| US10900699B2 (en) | 2011-03-04 | 2021-01-26 | Edwards Vacuum Llc | Helium management control system |
| JP2012237293A (ja) * | 2011-05-13 | 2012-12-06 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | クライオポンプシステム、クライオポンプのための再生方法 |
| JP2015175342A (ja) * | 2014-03-18 | 2015-10-05 | 住友重機械工業株式会社 | クライオポンプ、及びクライオポンプの再生方法 |
| US10156228B2 (en) | 2014-03-18 | 2018-12-18 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Cryopump and method for regenerating the cryopump |
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