JP2001509727A

JP2001509727A - 液体分配システム

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Publication number: JP2001509727A
Application number: JP51620196A
Authority: JP
Inventors: ザンズッチ，ピーター，ジェイ．; チェルクリ，サチャン，シー．; マクブライド，スターリング，イー．; デマーズ，ロバート，アール．; リヴァイン，エアロン，ダブリュー．
Original assignee: サーノフコーポレイション
Priority date: 1994-11-10
Filing date: 1995-11-09
Publication date: 2001-07-24
Anticipated expiration: 2015-11-09
Also published as: JP3398749B2; WO1996015576A1; DE69533554D1; AU705351B2; CA2204912C; AU4152396A; ATE277450T1; EP0791238A1; EP0791238B1; KR100314996B1; US5846396A; KR970707627A; EP0791238A4; DE69533554T2; CA2204912A1

Abstract

(57)【要約】本発明は、種々の合成、診断および薬物スクリーニング反応を行う場合も含め、多くの意味で有用な液体分配システムを提供する。分配システムは、アルファリザーバ（２００Ａ）およびベータリザーバ（２００Ｂ）、平行で隣接する第１および第２のフィーダーチャネル（２１１Ａ−２１１Ｂ）の第１のセットと、第１および第２のフィーダーチャネル（２１１Ａ−２１１Ｂ）から離れていて、平行で隣接する第３および第４のフィーダーチャネル（２１１Ｃ−２１１Ｄ）の第２のセットを含み、ここで、（ａ）第１（２１１Ａ）および第３（２１１Ｃ）フィーダーチャネルは、第２（２１１Ｂ）および第４フィーダーチャネル（２１１Ｄ）の上方または下方に位置しかつベータリザーバとは独立した第１のコネクターチャネル（２１１Ａ）を介してアルファリザーバ（２００Ａ）に接続され、（ｂ）第２（２１１Ｂ）および第４フィーダーチャネル（２１１Ｄ）は、第１および第３フィーダーチャネル（２１１Ａ及び２１１Ｃ）の上方または下方に位置しかつアルファリザーバ（２００Ａ）とは独立した第２のコネクターチャネルを介してベータリザーバに接続している。前記分配システムは微細スケール分配システムであることが望ましい。液体分配システム中に流れを制御するための種々の特定のメカニズムが記載されている。

Description

【発明の詳細な説明】液体分配システム本発明は、種々の合成、診断および薬物スクリーニング反応を行う場合も含めた、多くの意味で有用な、液体を操作する方法およびシステムに関する。さらに詳しくは、本発明は、試薬液体の汚染またはクロス汚染を抑制しつつ、これらの液体を分配するための、層状アレイを一体化するシステムおよび方法に関する。最近、多数の学術文献が、微細スケールの化学反応に伴う問題に焦点を当てている。これらの文献は、微細チャネルを生成させるためにエッチングを施したウェーハサイズの固体支持体で、かかる反応を行う可能性を検討している。この微細スケールのリアクターシステムは、搬送可能なデバイス内で少量の試薬を使用して、多数の診断または薬物スクリーニング検定を行えるので、供給コストおよび廃棄コストを削減する。本来、提供されていない新規の薬物を開発するためのメカニズムのことを、「合理的」薬物デザインと呼んでいる。このプロセスによって、結晶学的に決定される生物学的マクロ分子の構造、およびこれらのマクロ分子と相互作用をすることが知られている薬理学的薬剤構造を調べる。コンピューターワークステーションを使用し、前記マクロ分子と強力に相互作用する官能基の位置を適切にした、新しい薬理学的薬剤の設計ができるようになることが望まれていた。このアプローチが困難であることのひとつは、結晶学的構造決定に適する結晶を成長させることは、単調で時間のかかる経験的な科学だということである。多くの場合、（例えば、絨毛性ゴナドトロピンまたは他の糖蛋白質などの糖蛋白質ホルモンに関して）適当な結晶を成長させることができるかどうかは不明である。もうひとつの困難な点は、「デザイン」という語が持つ、順応性のある構築手段を化学的に提供しておらず：代わりに、化学的構築ブロックは、限定された結合の角度と長さを提供しているに過ぎない。例えば、それにより塩素基がマクロ分子における薬物結合ポケットの特別の部分に位置する構造的経路は多いかもしれない、他方、この基を位置付けるのに必要な補助的構造の利点または欠点を、「合理的に」評価するのが困難である。セット合せ化学は、所望の薬理学的活性を持つ化合物に関して選択するそれ自体の「革新的」プロセスを創り出すことを目指している。前記プロセスを革新的とする鍵は、大ファミリーの「突然変異体」の生成であり、この場合、いくつかの化学的関連性があるが明瞭に区別される化合物のファミリーを創り出すことである。合理的デザインの概念は、セット合せ方法によって開発すべき化合物のファミリーを選択することに利用し得る。セット合せ化学は、潜在的な薬理学的活性を有する新しいリーディングクラスの化合物を創り出すことを目指している。伝統的に、かかる糸口は薬理学的活性についての種々の植物または動物の抽出物をスクリーニングすることによって見い出されてきた。かかる抽出物を得るには単調な長い時間がかかり、潜在的に有用な化合物は非常に低濃度でしかない可能性があり、せいぜい、治療が求められる病気と無関係な、革新的な圧力で選択された化合物を含むに過ぎない。抽出物を同定した後、前記プロセスは有効成分の識別に関する情報をほとんど提供しない。セット合せ化学は、比較的限定されたセットの構築ブロック化学物質の順列によって大きな種々の化合物ファミリーを創り出すことを目指している。このセット合せ方法はひとつ以上の合成化合物を含有する同定可能なプールを創り出すのが好ましい。これらのプールは、成分化合物の化学的構造によって同定できる必要はないが、前記化合物を創り出す化学的プロトコルによって同定し得るべきである。次いで、これらのプールを、薬理学的活性に相関すると信じられている検定でスクリーニングする。有望な結果を生じるプールをさらに調査して成分化合物を同定し、成分化合物のうちのどれが、結果の原因であるかを識別する。セット合せプールにおいて有効化合物を同定するのに使用される追跡調査プロトコルは、セット合せ方法を含み得る。例えば、有望なプールは、まず、相互に反応しない化合物Ａ、ＢおよびＣと、相互に反応しないが化合物Ａ、ＢまたはＣと反応する化合物Ｄ、ＥおよびＦの混合物の反応に由来し得る。第２に、得られた化合物は化合物Ｇ、ＨおよびＩと反応させる。前記プールにおける有効な化合物の可能な同一性を狭くするために、Ａ−Ｄ、Ａ−Ｅ、Ａ−Ｆ、Ｂ−Ｄ、Ｂ−Ｅ、Ｂ−Ｆ、Ｃ−Ｄ、Ｃ−ＥおよびＣ−Ｆ生成物を、セット合せ化学によって別々に生成でき、Ｇ、ＨおよびＩの混合物と別々に反応させることができる。このステップの後、一般に、スクリーニング検定において活性なサブ・プールは、より限定されたファミリーの化合物を含むであろう。一旦、有望な分子がセット合せ化学によって同定されると、同定された分子は、更なるセット合せ実験のデザインの助けとなる情報を提供する。セット合せ化学によって同定された有望な化合物のフルアレイは、従来の医薬化学努力を導くのに価値ある情報を提供できる。セット合せ化学を用いる分野で一般的なツールは、ポリペプチドを合成するためのよく知られたメリーフィールド法で使用される支持体のような、通常はガラスまたはポリマーの固体支持体に、第１の化学構築ブロックを取り付ける。この取り付けは、反応体および関連不純物を単に洗浄し去り、生成物を支持体から脱カップリングさせることによって生成物を素早く単離するメカニズムを提供する。セット合せ化学でミニチュア化が有用に使用される理由は：（ｉ）研究者は一般に、低濃度で薬理学的活性のある化合物を求め；（ｉｉ）候補分子の膨大な「革新的」分類を創り出すのに場合、手法の再現性を確立するために、好ましくは限定された人数の研究者の指示に従って、多数の反応を上手に文書化するのが好ましく；（ｉｉｉ）候補化合物の十分に多様なファミリーを創り出すための、従来スケールの膨大な合成化学複合体を創り出すのに費用がかり；そして（ｉｖ）標準的な反応スケールでセット合せ化学による生成物の検定か見込まれということによる関心の高まり；である。ミニチュア化により、ロボット制御装置を経済的に使用でき、再現性は更に向上する上記ウェハーサイズのデバイスはセット合せ化学に関して理想的であり、多数の合成化学反応を、少量の試薬だけを使用して、コンピューター制御下で行える。しかし、かかる微細スケールのデバイスを提唱する学術文献は、このスケールにおけるセット合せ化学を行うのに基本的な論点、例えば、いかにして、複雑な微細スケールデバイスを介して試薬をシャッフルし、複雑に分類される異なる反応を、前記デバイス中の非常に多数の微細スケール反応容器（例えば、１００ないし１００００）で起こさせつつ、有意なクロス汚染もなく達成する方法を、適切には処理していない。本発明は、これらの問題を解決できる微細スケールデバイスを提供する。発明の概要本発明は、種々の合成、診断および薬物スクリーニング反応を行う場合も含め、多くの意味で有用な液体分配システムを提供する。前記分配システムは、アルファリザーバおよびベータリザーバ、平行で隣接する第１および第２のフィーダーチャネルの第１のセットと、第１および第２のフィーダーチャネルから離れていて、平行で隣接する第３および第４のフィーダーチャネルの第２のセットを備え、ここで、（ａ）第１および第３フィーダーチャネルは、第２および第４フィーダーチャネルの上方または下方に位置しかつベータリザーバとは独立した第１のコネクターチャネルを介してアルファリザーバに接続され、（ｂ）第２および第４フィーダーチャネルは、第１および第３フィーダーチャネルの上方または下方に位置しかつアルファリザーバとは独立した第２のコネクターチャネルを介してベータリザーバに接続している。前記分配システムは微細スケール分配システムであることが望ましい。図面の簡単な説明図１は、４種類の液体のうち任意の液体で１００個の反応セルのうちの任意のセルをアドレスするためのチャネルのシステムを示す。図２は、本発明による分配プレートを示す。図３は、図１の分配プレートの一部の拡大図である。図４Ａは、第１の分配チャネルと緩衝液チャネルとの間のキャピラリーバリアを示す。図４Ｂは、第１の分配チャネルと緩衝液チャネルとの間のキャピラリーバリア、ならびに緩衝液チャネルと垂直チャネルとの間の別のキャピラリーバリアを示す。図５は、本発明の分配システムの、フィードスループレート、分配プレートおよび反応セルプレートを様々に切り取った図である。図６Ａは、分配チャネルを通るＥＷ軸に沿った断面図である。図６Ｂは、第１のリザーバを通るＥＷ軸に沿った断面図である。図７は、分配プレートの一部平面図である。図８は、本発明の液体分配システムで有用な電極ベースのポンプに動力を供給する電圧パルスパターンを示す。図９は、好ましい流動液体分配システムの液体分配システムを模式的に示す。図１０Ａおよび図１０Ｂは、好ましい流動液体分配システムの液体分配システムの断面図である。図１１は、好ましい流動液体分配システムのの液体分配システムの模式的平面図である。。図１２は、膨張弁液体分配システムの液体分配システムの平面図である。図１３Ａ−１３Ｃは、膨張弁液体分配システムの種々の実施例の断面図を示す。図１４は、電極ベースの液体分配システムの一部の平面図である。図１５Ａおよび１５Ｂ、は反応セルのデザインを示す。図１６Ａ−１６Ｄは、種々のキャピラリーバリアのデザインを示す。図１７は、プレートのフィールドアシスティッド結合を行うデバイスを示す。図１８Ａおよび１８Ｂは、電極ベースのポンプを有するチャネルデバイスを示す。図１９は、ハイドロロジック分配システムに関する液体分配デザインを示す。図２０は、ヒーターおよび熱電対を有する反応セルを示す。図２Ａおよび２１Ｂは、バルブのデザインを示す。定義以下の用語は下記に記載する意味を有する。＊アドレス可能なリザーバまたは他のチャネルからの液体を、反応セルまたはチャネルに向けることができる場合、反応セルまたはチャネルは、そのリザーバまたは別のチャネルによって「アドレス可能」である。＊隣接する「隣接する」とは、以下の状況で使用される：（ｉ）一方のプレートの第１構造が、同プレートの第２構造に隣接する、または他方のプレートに隣接する、ということは；第２構造のプレート上へ配置した第１構造の垂直突起が、第２構造上の第１構造に重なるか、または第２構造からの約２５０μｍ以内に実装されている場合である。（ｉｉ）２本以上のチャネルから成るグループが互いに隣接する、ということは：各チャネルが実質的に同一の水平面内にあって、グループ内の外側の２本の隣り合うチャネルに（上記（ｉ）で定義された意味で）隣接している場合である。好ましくは、第２構造のプレートへ配置した第１構造の垂直突起が、第２（構造）上の第１構造に重なるか、または第２構造から約１５０μｍ以内に実装されている場合、第１構造は第２構造に隣接している。＊キャピラリー寸法液体のキャピラリー流動に好適な寸法。通常は、キャピラリー寸法のチャネル幅は約１．５ｍｍ以下である。好ましくは、チャネル幅は約６００μｍ以下であるが、更に好ましくは約２５０μｍ以下であり、なお更に好ましくは約１５０μ ｍ未満である。＊キャピラリーバリア開口におけるメニスカスのようなエネルギーを最小化する液体表面の、チャネル内の液体による、形成に好都合なように設計されたより大きな空間へのチャネル開口を備えるチャネル中への流体流に対するバリア。好ましくは、キャピラリーバリアは、より大きな空間への開口直前のチャネルの垂直方向高さを増す堰を含む。＊接続された本発明の複数のチャネル、リザーバおよび反応セルは、それらの間の流れを可能とする経路があり、その経路が反応セルをリンクの一部として使用しない場合、「接続されている」。＊連続流チャネル流体がチャネルを通って連続的に流れることを可能とするオーバーフロー流出口を有するチャネル。＊直接に接続されたリザーバおよび水平チャネルは、それらが接続し、かつ（１）他のチャネルがそれらの間に介在しないか、または（２）唯一の垂直チャネルがそれらの間に介在する場合、「直接に接続されている」。＊膨張弁流体チャネルに随伴した膨張可能なチャンバのことで、このチャンバは、（ａ）液体分配システムの意図した作動温度の約１０℃以内の沸点を持つ気体または液体で満たされ、（ｂ）膨張可能なチャンバを加熱して液体を沸騰させるか、または気体を膨張させて前記膨張可能なチャンバの十分な膨張を引き起こして流体チャンバの断面を満たすための随伴加熱エレメントを有する。＊孔直径小穴を加工する技術はしばしば一端が他端よりも広い穴を生成する（例えば、約５０ミクロン広い）ので、本明細書で言及する穴直径は最も狭い直径をいう。＊水平、垂直、ＥＷ、ＮＳ分配システムの一部の向きの表示はデバイスを使用する場合の向きをいう。「ＥＷ軸」および「ＮＳ軸」の表示は図１、２、３および７を参照する場合のものであり、ＥＷ軸は右から左への向きであって、紙面の長軸に対して鉛直であり、また、ＮＳ軸は紙面の長軸に平行で、頂部から底部の向きである。＊独立した接続されていないチャネル、リザーバまたは反応セル。＊オフセットとする２セットのチャネルは、第１セットのかかるセットにおける何れのチャネルも、第２のセットの何れのチャネルにも隣接しない場合、「オフセットする」。＊オープンゾーンチャネルを通って流れる流体の流動誘導圧を減少させるために広くしたチャネルの領域。＊鉛直な分配プレートにおけるチャネルは、同一水平面へのそれらの垂直突起が鉛直であれば、たとえ元来別の水平面上に位置したとしても鉛直である。＊リザーバ文脈より異なる意味が明らかでなければ、「リザーバ」および「流体リザーバ」は、リザーバまたは流体リザーバに直接接続した（ときどきは単に「延長」といわれる）水平延長チャネルを含む。＊第２リザーバ、延長チャネルこれらの延長チャネルは、これらの延長チャネルから分岐し得る分配チャネルを含む。＊水平寸法のうちのひとつの実質的長さ分配プレートの主要水平寸法（例えば、図面に示したＥＷまたはＮＳ寸法）の少なくとも約７０％。＊Ｕ−給排液チャネル接続したチャネルまたはリザーバのうちの１つにおける液体レベルが、ハイドロロジック力のため他の接続したチャネルまたはリザーバにおける液体レベルに等しくなるように少なくとも２つのチャネルまたはリザーバを接続するように設計したチャネル。Ｕ−給排液チャネルは、普通、より高い面に位置したチャネルまたはリザーバをより低い面に位置したＵ−給排液チャネルの実質的に水平なチャネルセグメントで接続する垂直チャネルを有し、これらの垂直および垂直セグメントは一緒になってＵ−給排液チャネルを構成する。本発明におけるフィーダーチャネルは普通Ｕ−給排液チャネルである。詳細な説明本発明のひとつの態様は、分配プレートを備えるハイドロロジック液体分配システムであって、前記分配プレートは：共通の第１充填レベルを有する少なくとも２つの第１リザーバと；各第１リザーバに接続し、それから延びる少なくとも１つのフィーダーチャネルと；を備え、ここで、各フィーダーチャネルは水平フィーダーチャネルセグメントを有し、前記水平フィーダーチャネルセグメントの頂部は第１の充填レベルの下方にあり；更に、第１充填レベルと実質的に同一の高さに第２の充填レベルを有する各フィーダーチャネルに接続した、少なくとも１つの分配チャネルと；第１充填レベルに各第１リザーバ中の液体レベルを維持するための第１の液体レベル維持手段と；を備え、ここに、第１充填レベルまで各第１リザーバを充填した結果、接続されたフィーダーチャネルが充填され、かつ接続された分配チャネルが第２の充填レベルまで充填される。分配チャネルは、少なくとも１つのキャピラリーバリアを有するのが好ましい。分配プレートは、フィードスループレートに接続するのが好ましく、このフィードするプレートは分配プレート上方に係合してチャネルまたは導管を提供し、液体または電気リードを分配プレートまで通すことを可能としている。看脱可能な反応セルプレートは、分配プレートの下面に結合するのが好ましく、少なくとも２つのリザーバからの液体が分配プレートを介して分配し得る、ひとつ以上、より好ましくは２つ以上の反応セルを含む。反応セルプレートは、約１００以上の反応セルを収容するのが好ましく、各々は少なくとも２つのリザーバによりアドレス可能である。より好ましくは、反応セルプレートが、約１０００以上の反応セルを含み、各々は少なくとも２つのリザーバによりアドレス可能である。さらに好ましくは、反応セルプレートが、約１００００以上の反応セルを含み、各々は少なくとも２つのリザーバによりアドレス可能である。分配プレートは、好ましくは、多数の第１リザーバを有する。第１リザーバは、主要容器部分およびひとつ以上の第１リザーバ延長チャネルを有し、前記チャネルは分配プレートの水平寸法のうち１つの長さに実質的に沿って延びる。２つ以上のかかる延長された第１リザーバは、好ましくは、分配プレートのひとつの側面に沿って隣接し、平行に配置されてる。いくつかの実質例において、２つ以上のかかる平行で延長された第１リザーバから実質的な直線に沿って配置された２つ以上の反応セル（「直線状」反応セル）まで液体をリレー供給するのが好ましい。液体のこのリレー供給を達成するためには、好ましくは、第１フィーダーチャネルは、分配プレートの端部エッジに最も近い平行な第１リザーバから延び、かつ内部に位置した平行な第１リザーバの下部に延び、分離する一方で第１フィーダーチャネルに隣接しそれと平行な別のフィーダーチャネルはリザーバ中の液体の分離を維持するのに必要とされるよう、他の第１リザーバの下を通過する内部に位置した平行な第１リサーバから延びる。この好ましい実施例において、直線状反応セルの各々の位置に隣接して配置されるのは、かかる第１直線状の各々に対する１の分配チャネルであり、かかる分配チャネルの各々は平行なフィーダーチャネルの別の１つに接続している。かくして、反応セルの隣接して位置する分配チャネルは、分配チャネルの「束」を形成する。束になった分配チャネルの各チャネル内、および束になった分配チャネルの各チャネルから隣接反応セルに至る導管内に配置したポンプを使用して、別々の第１リザーバの各々からの液体を直線状反応セルのいずれかに分配することができる。各分配チャネルは、好ましくは、少なくとも１つのポンプを有し、これは好ましくは２または３の電極を備える。ポンプを適当な順序で作動させるには、本発明の分配システムは、好ましくは、各ポンプを制御するコントローラに接続させる。好ましい２つの電極ポンプは、好ましくは、圧送する液体を移動させるのに適したパルス電圧プログラムを適用することによって操作する。好ましくは、コントローラは、複数の液体の各々を移動させるのに適した、パルス長、電圧振幅、パルス形状および電圧極性のごときパラメータを表示するポンピングプログラムのデータベースを備えるデータ貯蔵デバイスを含む。本発明は、さらに、例えば、分析に影響を及ぼす化学合成または化学反応のための反応を行うのに適した、好ましい流動液体分配システムに関し、前記分配システムは、上流端と下流端を有する２つ本以上の連続流チャネルを備え、連続流チャネル、各々が上流端部および下流端を有し；各連続流チャネルに関し、オープンゾーンにおいてその連続流チャネルから離れて延長する分岐チャネルと；各連続流チャネルに関し、前記分岐チャネルの流入口の下流に位置するアルファコンストリクタと；を備え、ここに、液体が第１の端部から第２の端部に連続流チャネルの１つを通って流動する場合、アルファコンストリクタが作動していなければ、第１の比例量の流体が分岐チャネルに転じ、アルファコンストリクタが作動していれば、前記第１の比例量よりも大きい第２の比例量が分岐チャネルに流動する。好ましくは、分岐チャネル流入口は、その地点でオープンゾーンが始まる上流地点から約３００ミクロン内にある。好ましくは、分配システムは、少なくともひとつの分岐チャネルに対して、分配チャネルを通って流動を絞るためのベータコンストリクタを有する。もう１つの好ましい具体実施例において、分配システムは、それらに関連した分岐チャネルを介して少なくとも２つの連続流動チャネルがアドレス可能な緩衝液チャネルを有する。本発明は、加えて、反応セル、２つ本以上のフィーダーチャネル、各フィーダーチャネルを反応セルに接続するフィーダーチャネル用の別の導管および各導管用の膨張弁から構成される膨張弁液体分配システムに関し、前記膨張弁は、前記導管の断面を満たし、かつ流体流動を妨げる拡大状態、および前記導管を通っての流体流動を可能とする収縮状態を有する。好ましい実施例において、導管は２つ以上、好ましくは３つ以上の膨張弁を有し、これは接続されたフィーダーチャネルから反応セルヘ流体を圧送するのに共働して作動できる。本発明は、さらに、（ａ）各々はかかるフィーダーチャネルに接続したフィーダーチャネル流入口およびフィーダーチャネル流出口ならびに分配チャネルから構成され、各フィーダーチャネルはフィーダーチャネル流入口、フィーダーチャネル流出口および接続された分配チャネルを接続する三方分岐点を有し分配チャネルは反応セルと接続している１つ本以上の、好ましくは２つ本以上のフィーダーチャネル、、（ｂ）かかる三方分岐点の各々に対しての、フィーダーチャネル流入口またはフィーダーチャネル流出口中の第１の電極ベースのポンプ、および（ｃ）かかる三方分岐点に対しての、分岐点チャネル中の第２の電極ベースのポンプから構成される電極ベース液体分配システムに関連し、ここに、第１の電極ベースのポンプおよび第２の電極ベースのポンプに印加される電圧は、（ｉ）フィーダーチャネルのうちの１つ中の流体が、接続された分配チャネルへの実質的流動なしに、フィーダーチャネル流入口からフィーダーチャネルのフィーダーチャネル流出口に移動できるように、または（ｉｉ）実質的量の流動が接続された分配チャネルを介して進行するように選択できる。Ａ．基本的液体分配システム本発明は、複数の流体リザーバ２００との非常に多数の反応セル３５０にアドレスする方法に関する（図１および２参照）。図１において、リザーバ２００Ａ −２０００は、第１のコネクターチャネル２１１Ａ−２１１Ｄを介して、それぞれ、リザーバ延長チャネル２１２Ａ−２１２Ｄに接続される。第１のコネクターチャネル２１１Ａ−２１１Ｄの天井は延長チャネル２１２Ａ−２１２Ｄよりも低い水平面に位置し、それにより、例えば、リザーバ２００Ｂからの液体がリザーバ２００Ａに接続された延長チャネル２１２Ａへ漏出しないことを確実とする。各第１コネクターチャネル２１１Ａ−２１１Ｄは垂直チャネル（図示せず）を介して各リザーバ延長チャネル２１２Ａ−２１２Ｄに接続する。延長チャネル２１２Ａ−２１２Ｄに接続しているのは、第１、第２、第３および第４のフィーダーチャネル２１６Ａ−２１６Ｄの第１、第２、第３、第４および第５のセット２１３Ａ−２１３Ｅである。これらのフィーダーチャネルの天井は延長チャネル２１２Ａ−２１２Ｄの床の下の水平面に位置する。これらの延長チャネルを介して、４つの第１流体リザーバ２００Ａ−２００Ｄの各々からの流体は１００個の反応セル３５０のいずれかに隣接する位置に運ぶことができ、後記するポンプまたはバルブの制御下で、前記反応セルへ流体は移動できる。反応セル３５０は第１、第２、第３および第４のフィーダーチャネル２１６Ａ−２１６Ｄよりも低い水平面に位置することに注意されたい。非常に多数の反応セルが別々の流体リザーバによってアドレスできることによる他の幾何学は後記する。本出願で記載する他の分配システムの特徴は、いずれの小見出しにて記載されるかを問わず、本実施例に適用される。本発明の実施例を直交して合流するチャネルを参照して記載するが、他の角度も可能であることは当業者に理解されるであろう。本発明の好ましい実施例において、所定のリザーバ（例えば、第１の流体リザーバ２００）から所定の反応セル３５０への作動液速（すなわち、適当な流動誘導メカニズムが活性化された場合の液速）は約０.０１μｌ／分乃至１０ μｌ／分、より好ましくは約０.１μｌ／分乃至約０.３μｌ／分である。Ｂ．ハイドロロジック液体分配システムｉ．分配、フィードスルーおよび反応セルプレート普通、本発明の液体分配システムは、少なくとも３つのプレート、フィードスループレート３００、分配プレート３１０および反応セルプレート３２０から構成される。フィードスループレート３００は、普通、後記する方法のうちの１つを用いて分配プレート３１０に結合される。反応セルプレート３２０は、普通、分配プレート３１０の下面、または分配パ３１０および反応セルプレート３２０に介在する中間体プレート（図示せず）に移動可能に係合する。図２は、本発明による分配プレート３１０のレイアウトを示す。図３は図２のスケールによって明瞭でない特徴のいくつかをよく説明する分配プレート３１０の一部の拡大図である。普通、実線で示す構造は分配プレート３１０の頂部層に形成され、他方、点線で示す構造は分配プレート３１０の底部層に形成される。但し、図２では、反応セル３５０は実線のボックスによって示されるが、これらの構造は下部面に位置する。適当な場合は、垂直チャネルは分配プレート３１０の頂部における構造を底部におけるものと接続させる。便宜のために、図の頂部から底部への軸はＮＳ軸と命名し、他方、右側から左側への軸はＥＷ軸と命名する。図２の頂部には、４つの第１流体リザーバ２００Ａ、２００Ｂ、２００Ｃおよび２００Ｄがあり、各々は規定された充填レベルを有する。これらの第１流体リザーバ２００Ａ、２００Ｂ、２００Ｃおよび２００Ｄは、分配プレート３１０のＥＷ軸の実質的に全てに沿って延びる２つの第１リザーバ延長２１２を有する。第１リザーバ延長２１２の天井は、好ましくは、第１充填レベルと実質的に同一の高さである。５つの千鳥状位置Ａ１、Ｂ１、Ｃ１、Ｄ１およびＥ１では、第１リザーバ延長２１２のＥＷ軸に沿って、第１リザーバ延長２１２を、分配プレート３１０の底部層に形成された４つの第１水平フィーダーチャネルセグメント２１６と接続する４つの第１垂直チャネル（図５および６Ｂ）がある。各々の千鳥状位置Ａ１、Ｂ１、Ｃ１、Ｄ１またはＥ１には、別々の第１リザーバ延長２１２に接続した４つの隣接する第１水平フィーダーチャネルセグメント２１６は、ＮＳ軸に沿って、１０の位置Ａ２、Ｂ２、Ｃ２、Ｄ２、Ｅ２、Ｆ２、Ｇ２、Ｈ２、１２およびＪ２まで延びる。４つの隣接する水平フィーダーチャネルセグメント２１６の各々のかかるセットのコースに沿った各位置Ａ２、Ｂ２、Ｃ２、Ｄ２、Ｅ２、Ｆ２、Ｇ２、Ｈ２、１２およびＪ２は反応セル３５０の対に隣接する（図５および６Ｂ参照）。これらの位置Ａ２、Ｂ２、Ｃ２、Ｄ２、Ｅ２、Ｆ２、Ｇ２、Ｈ２、１２およびＪ２では、４つの隣接する第１の水平フィーダーチャネルセル２１６が、別々の第２の垂直チャネル（図４Ａ、４Ｂ、５および６Ａ参照）を介して、分配プレート３１０の頂部層に形成された４つの鉛直の第１分配チャネル２２２の各々に別々に接続される。第１の分配チャネル２２２の天井は、普通、実質的に第１の充填レベルの高さである第２の充填レベルを規定する。分配チャネルの充填レベル（例えば、第２充填レベル）は、それと、接続されたリザーバの充填レベル例えば、第１充填レベル）とが、前記チャネルの深さの約１０％以下だけ垂直に食い違えば、「実質的に」接続されたリザーバの充填レベルであり；たとえ、それらのレベルがさらに垂直に食い違っても、もしリザーバをその充填レベルまで充填した結果、接続された分配チャネルが充填され、かつ接続つれた分配チャネル中に流体が保持されること（例えば、図４Ａを参照して後記するキャピラリーバリアによる保持）となれば、それらはなお実質的に同一である。水平フィーダーチャネルセグメント２１６に接続した順に第２の垂直チャネル２２５に接続した、第１の垂直チャネル２１４のセット合せは、第１のフィーダーチャネル２１７（図では確認されない）を形成する。もし液体が第１の流体リザーバ２００における規定された第１レベルに維持されれば、実質的に同一のレベルが、第１のフィーダーチャネル２１７を介してその第１流体リザーバ２００に接続した第１分配チャネル２２２で維持されるであろう。この等化は、２つの接続した流体が同一レベルを求めるという原理のため、および、チャネルのサイズが許せばキャピラリー流動のために起こる。液体は第１の流体リザーバにおける規定されたレベルに維持される。示した実施例において、流体は、フィーダープレート３００におけるチャネルを通って流体リザーバ２００に供給され、前記流体リザーバを規定されたレベルまで充填する必要のないかかる流体はドレイン３８０を通って排出される。第１の開口３１８（図示せず）はフィードスループレート３００の底部層に形成されて、第１流体リザーバ２００およびドレイン３８０の間の液体接続または水門を生じる。普通、Wats on-Marlow，Inc.から入手可能なモデル番号２０５Ｕのマルチチャネルカセットポンプの使用によって、液体を第１リザーバ２００（ならびに第２液体リザーバ２１０および第３液体リザーバ２２０）に一定に圧送する。別法として、規定されたレベルは、第１リザーバ２００（または第２液体リザーバ２１０または第３液体リザーバ２２０）中の液体のレベルをモニターし、規定されたレベルを維持する必要がある場合、所定の液体リザーバに対しての液体の圧送を活性化することによって維持することができる。４つの隣接する第１分配チャネル２２２の各セットは、ＥＷ軸に沿って第１分配チャネル２２２の各々の側に位置した、２つの緩衝液チャネル２１８に隣接している。第１分配チャネル２２２の（いずれかのタイプのポンプの電極を表す記入した２本の点線によって図３に示された）第１ポンプを活性化することによって、液体をいずれかの第１分配２２２チャネルから隣接する緩衝液チャネル２１８に圧送することができる。この圧送によりさらに圧力が生じ、これは、第１分配チャネル２２２および緩衝液チャネル２１８を分離するキャピラリーバリア３７０（図４Ａ、４Ｂおよび５参照）を越えて液体を移動させる。各第１分配チャネル２２２、第２分配チャネル２２４または第３分配チャネル２２６および隣接する緩衝液チャネル２１８の間、および各緩衝液チャネル２１８およびその隣接する第３の垂直チャネル３９０（後記）の間には、ポンプが活性化されていない場合に液体流動を阻害するキャピラリーバリア３７０がある。第２の開口３６２（図４Ａおよび４Ｂ参照）がフィードスループレート３００の底部層に形成されて、第１チャネル２２２および緩衝液チャネル２１８の間に液体接続または水門を生じる。（１つのタイプのポンプの電極を表す２本の点線によって図３に示した）第２ポンプ３６１を用いて、緩衝液チャネル２１８から、反応セルプレート３２０中の反応セルと接続する第３の垂直チャネル３９０に液体を圧送することができる。フィードスループレート３００または分配プレート３１０の底部層にある第３の開口３６３（図４Ａおよび４Ｂ）は、緩衝液チャネル２１８および第３垂直チャネル３９０の間に液体接続または水門を生じるよう働く。図４Ａは、キャピラリーバリア３７０を示し、そこで、液体１１を含有する第１分配チャネル２２２とチャネル２１８または第３垂直チャネル３９０いずれかとの間の分岐点にてメニスカス３７１が形成される。第１分配チャネル２２２の緩衝液チャネル２１８への流出口に形成されたメニスカス３７１は、毛管力に由来し得る浸出のごとき、第１分配チャネル２２２からの浸出を阻害する傾向があろう。図４Ｂは、図２および３に示した分配システムの変形として、第１分配チャネル２２２および緩衝液チャネル２１８の間に分岐点における、そして緩衝液チャネル２１８および第３垂直チャネル３９０の間の分岐点における、キャピラリーバリア３７０を示す。また、第１ポンプ３６０を形成する第１電極３６０Ａおよび第２電極３６０Ｂ、およびポンプ３６１を形成する第３電極３６１Ａおよび第４電極３６１Ｂを示す。いくつかの実施例では、緩衝液チャネル２１８または第３垂直チャネル３９０の頂部のフィードスループレート３００を通って延びるベント（図示せず）がある。ＮＳ向きの水平フィーダーチャネルセグメント２１６の小さな破断図のみを図４Ａおよび４Ｂに示すことに注意されたい。普通、これらのチャネルは示した破断図から内方および外方に伸び、液体を他の反応セル３５０に分配するように位置させたさらなる第１分配チャネル２２２と接続する。分配プレート３１０の右側に沿って、１０個の流体リザーバ２１０があり、各々はＥＷ軸に沿って延びる第２のリザーバ延長２４０を有する。第２分配チャネル２２４は第２のリザーバ延長２４０から離れる「Ｌ」−延長を形成し、各々は別の緩衝液チャネル２１８に隣接して位置し、従って、各第２リザーバ延長２４０から離れて延びる１０本の第２分配チャネル２２４がある。各第２分配チャネル２２４は、第２分配チャネル２２４から隣接する緩衝液チャネル２１８に液体を移動させるポンプ３６０を有する。フィードスループレート３００の底部における第２開口（図示せず）は、第２分配チャネル２２４および緩衝液チャネル２１８の間に水門または液体接続の経路を供するように働く。前記したごとく、液体は緩衝液チャネル２１８から反応セルに移動する。各第２リザーバ２１０に隣接して、前記規定された第３充填レベルを維持するように働くドレイン３８０（図示せず）がある。図１６Ａ−１６Ｄに関連してＨ節に後記するごとく、キャピラリーバリア３７０と第２開口３６２および第３開口によって形成された水門は、セット合せバルブおよびポンプとして作用する。キャピラリーバリア３７０は反応セルへの流動を妨げ、この流動は、第１ポンプ３６０または第２ポンプ３１６がキャピラリーバリア３７０を克服するのに必要な過剰圧を供するまで毛管力によって与えられる。水門を狭くすると、流動を与える毛管力を増大させることができ、それによりキャピラリーバリア３７０を克服するのに必要な追加量の圧力を低下させることができる。キャピラリーバリア３７０の使用により、普通コントローラ１０によって制御される、第１ポンプ３６０または第２ポンプによって制御されるべき流動制御を可能とする。図１に示した分配プレートの底部エッジに沿って位置するのは、１０個の第３液体リザーバ２２０である。水平フィーダーチャネルセグメント２３０は、第４の垂直チャネル２２７を介して第３の液体リザーバ２２０および第３の分配チャネル２２６に接続される。第３分配チャネル２１８は、フィードスループレート３００中の開口３６２（図示せず）を介して液体を隣接緩衝液チャネル２１８に移動させることができる第１ポンプ３６０を有する。各第３リザーバ２２０に隣接して位置するのは、前記した規定された第４充填レベルを維持するように作動するドレイン３８０（図示せず）である。第３液体リザーバ２２０および接続された第３分配チャネル２２６は、第１液体リザーバ２００および第１分配チャネルと全く同様に作動する。当業者ならば、多数の別の第３流体リザーバ２２０が、緩衝液チャネル２１８に隣接して位置した多数の第３分配チャネル２２６を介して所定の緩衝液チャネル２１８と相互作用できることを認識するであろう。各第３リザーバ２２０に隣接して位置するのは、前記した規定された第３充填レベルを維持するように作動するドレイン３８０（図示せず）である。図５は、フィードスループレート３００、分配プレート３１０および反応セルプレート３２０の一部の透視図である。図６Ａは、第１分配チャネル２２２を通って切断するＥＷ軸に沿っての垂直断面図を示す。第１分配チャネル２２２の直下には４つの水平フィーダーチャネルセグメント２１６が見られ、そのうち１つのみが見える第２垂直チャネル２２５を介して第１分配チャネルに接続される。第１ポンプ３６０および第２ポンプ３６１の電極を接続するリード線３０３および３０４が示される。第３の垂直チャネル３９０は緩衝液チャネル２１８を、ドレイン３５５を有する反応セル３５０に接続させる。図６Ｂは第１液体リザーバ２００を通って切断するＥＷ軸に沿っての垂直断面図を示す。第１液体リザーバ延長２１２からは、各々が別の水平フィーダーチャネルセグメント２１６に接続する２つの第１垂直チャネル２１４が見られる。第１流体リザーバ２００のためのドレイン３８０は点線によって示される。示した分配システムにおいて、第１の流体リザーバ２００は第４の開口３０２を介してフィードスループレート３００の頂部に開口する。液体分配システムの作動は図７に関連して記載できる。液体は、第１、第２または第３流体リザーバ２００Ａ、２００Ｂ、２００Ｃ、２００Ｄ、２１０Ａまたは２２０Ａいずれかから、第３垂直チャネル３９０Ａに接続した第１反応セル３５０Ａ（図示せず）に分配される。もし「液体Ａ」が流体リザーバ２００Ａで第１流体レベルに維持されれば、液体Ａは接続した垂直チャネル２１４を通って接続した水平フィーダーチャネルセグメント２１６Ａ、２１６Ａ２、２１６Ａ３、２１６Ａ４および２１６Ａ５に、および接続した分配チャネル２２２Ａ１、２２２Ａ２等に流入する。第１分配チャネル２２２Ａ１からは、コントローラ１０（図示せず）の制御下にあるポンプ３６０Ａを用いて第１緩衝液チャネル２１８ＡＡに液体Ａが圧送される。第１緩衝液チャネル２１８ＡＡからは、コントローラ１０の制御下にあるポンプ３６１Ａを用いて第３垂直チャネル３９０Ａを介して液体Ａが第１反応セル３５０ＡＡに液体Ａが圧送される。本発明による分配プレート３１０が緩衝液チャネル２１８を用い、かつ緩衝液チャネル２１８が外部雰囲気へのベントを欠く場合は、液体を緩衝液チャネル２１８に圧送する第１ポンプの圧送速度および緩衝液チャネル２１８から反応セル３５０へ圧送する第２ポンプ３６１の圧送速度の関係は有利に操作できる。第１ポンプ３６０が、液体を、例えば、分配チャネル２２２Ａ１（図７）から移動させる場合、緩衝液チャネル２１８において圧力増加を生じさせて、これは分配チャネル２２２Ｂ１、２２２Ｃ１、２２２Ｄ１、２２４ＡＡおよび２２６ＡＡに対するキャピラリーバリアを通過する流動を阻止する。第２ポンプ３６１の対応する活性化の遅延の結果、維持されるクロス汚染阻止圧が生じる。緩衝液チャネル２１８はさらに隣接する反応セル３５０に対して意図しない試薬を含有する分配チャネルからのいずれの偶然のオーバーフローも希釈するように作動する。この希釈は、普通、隣接する反応セル３５０に対して意図した反応プロセスにおいて効果的な濃度下に反応試薬濃度を低下させる。示した実施例において、６つの溶液または溶媒の各々は、第１、第２および第３の流体リザーバ２００Ａ、２００Ｂ、２００Ｃ、２００Ｄ、２１０および２２０から１００個の反応セルの各々へ分配できることに注意されたい。１０個の第２流体リザーバの各々、または１０個の第３流体リザーバ２２０の各々は、流体リザーバによってアドレス可能な１０個の関連する反応セルで使用することを意図した別の溶液または溶媒を含有できる。４つの第１流体リザーバ２００Ａ、２００Ｂ、２００Ｃおよび２００Ｄの各々は１００個の反応セル３５０のいずれかにアドレスできる。さらなる柔軟性は、プロトコルの間に適当であれば、所定の流体リザーバに新しい溶液または溶媒をフラッシュすることによって利用可能である。緩衝液チャネル２１８は任意であることに注意されたい。緩衝液チャネル２１８は、分配チャネルの流出口（この流出口は好ましくはキャピラリーバリア３７０である）から適当な反応セル３５０への直接的導管を供することによって回避できる。流体リザーバ（例えば、第１、第２および第３流体リザーバ２００、２１０および２２０）は、普通、付着された延長チャネルの単純な拡大された（例えば、より広い）部分である。好ましくは、流体リザーバ中の液体は、流体リザーバの床およびその充填レベルの間の距離の±１０％内に維持する。リザーバ中への液体の補給は、規定されたスケジュールにより、またはコントローラ１０に供給されるセンサーデータに基づいて連続的または段階的であり得る。ドレイン３８０は外部ポンプ１５の使用によって添加されたいずれの過剰の流体も除去するように設計される。各充填レベルまで充填された流体リザーバは、好ましくは、約１ μｌ乃至約５μｌ、より好ましくは約２.５μｌの容量を有する。かくして、より好ましい実施例においては、流体リザーバ中の容量は、好ましくは、２.５μ ｌ±０.２５μｌであろう。典型的には、Wats on-Marlow，Inc.から入手可能なモデル番号２０５Ｕのマルチチャネルカセットポンプの使用によって、液体を毎秒１μｌの速度で送液できる。第２の画分のために、かかるポンプはリザーバに適当に再充填するように作動させるだけでよい。以上の議論は、フィードスループレート３００、分配プレート３１０および反応セルプレート３２０で形成された分配システムについて記載している。しかし、さらなるプレートが分配システムに便宜に組み込まれることができることは明らかである。例えば、中間プレート３３０は、好ましい具体例においては、分配プレート３１０の下面に永久結合され、分配プレート３１０と反応セルプレート３２０との間に介在させる。中間プレート３３０の使用により、分配システムを形成するチャンネルのデザインにより多くの柔軟性を与える。ｉｉ．ポンプ適当な寸法のいずれかの送液デバイスは、本発明の液体分配システムにおける内部の第１ポンプ３６０または第２ポンプ３１６として使用できる。かかるポンプは、Shoji et al.，「Fabrication of a Pump for Integrated Chemical Anal yzing Systems」，Electronics and Communications in Japan，Part 2，70:52- 59，1989 et al.，「Normally closed microvalve and pump fabricated on a S ilicon Wafer」，Sensors and Actuators，20:163-169，1989によって報告されたミクロエレクトロメカニカルシステム（ＭＥＭＳ）またはMoroney et al.，「 Ultrasonicaly Induced Microtransport」，Proc．MEMS，91:277-282，1991に記載された圧電ポンプを含む。しかし、好ましくは、第１のポンプ３６０および第２のポンプ３６１は可動部分を持たない。かかる第１のポンプ３６０または第２のポンプ３６１は電極ベースのポンプからなる。少なくとも２種類のかかる電極ベースのポンピングは、典型的には、「電気水力学ポンピング（ＥＨＤ）」および「電気浸透圧ポンピング（ＥＯ）」なる名の下に記載された。ＥＨＤポンピングは、Bart et al.，「ミクロファブリケーテイッド電気水力学ポンプ」、Senso rs and Actuators，A21-A23:193-197，1990およびRichter et al.，「ロマシンド電気水力学ポンプ」、Sensors and Actuators，A29:159-168，1991によって記載された。ＥＯポンプは、Dasgupta et al．「Electroosmosis:A Reliable Fluid Propulsion System for Flow Injection Analysis」Anal．Chem.,66;1792-1798, 1994によって記載された。モデル番号２０５Ｕ「Electroosmosis:A Reliable Fl uid Propulsion System for Flow Injection Analysis」Anal．Chem.,66;1792-17 98,1994のごとき適当な蠕動ポンプ。ＥＯポンピングは、水晶、ガラス等を含めた、多くの固体の表面が、塩、酸または塩基のごときイオン性物質の存在下で、正または負に荷電状態となるという原理を利用すると信じられている。荷電表面は、適当な導電率の溶液中で反対に荷電した対イオンを捕捉するであろう。電圧をかかる溶液に印加した結果、対イオンが反対に荷電した電極に移動し、同様に流体のバルクを動かす。容量流動速度は電流に比例し、流体中に生じた容量流動も印加された電圧に比例する。普通、キャピラリー寸法のチャネルにおいて、流動を行う電極はＥＨＤポンピングにおけるよりもさらに離しておくことができる。というのは、電極は力の適用にのみ関与し、ＥＨＯにおけるごとく、力が作用する電化を生じるものではないからである。ＥＯポンピングは、一般に、導電性溶液を圧送するのに適した方法として認識されている。ＥＨＯポンプは、普通、極端に低い導電率、例えば、１０-14乃至１０-9Ｓ／ｃｍの流体を移動させるのに適する。今回、後記するごとく、広い範囲の溶媒および溶液が、促進圧送ではなく適当な溶質を使用し、適当な電極間隔および幾何学を使用し、または電極を出力するための適当なパルス状または直流電圧を用いて圧送できることが判明した。液体分配システムで使用する第１ポンプ３６０および第２ポンプ３６１の電極は、好ましくは、約２５ミクロン乃至約１００ミクロン、より好ましくは約５０ミクロン乃至約７５ミクロンの直径を有する。好ましくは、チャネルの頂部から前記チャネルの深さの約５％乃至約９５％の深さまで、より好ましくは前記チャネルの深さの約２５％から約５０％の深さまで電極は突出する。通常、その結果、流体と相互作用する素子として規定された電極は、約５ミクロン乃至約９５ミクロンの長さ、好ましくは、約２５ミクロン乃至約５０ミクロンの長さである。ポンプは、好ましくは、約１００ミクロン乃至約２５００ミクロン離した、より好ましくは約２５０ミクロン乃至約１０００ミクロン離した、さらにより好ましくは約１５０ミクロン乃至約２５０ミクロン離した（第１電極３６０Ａまたは第３電極３６１Ａのごとき）アルファ電極３６４および（第３電極３６０Ｂおよび第４電極３６１Ｂ１のごとき）ベータ電極３６５を含のが好ましい。電極の間隔は、それらがその関連する流体チャネルに突出する電極の中央地点から測定する。特に好ましい実施例において、ガンマ電極３６６（図示せず）を、アルファ電極３６４およびベータ電極３６５より離れた所から、約２００ミクロン乃至約５０００ミクロン、より好ましくは約５００ミクロン乃至約１５００ミクロン、なおより好ましくは約１０００ミクロン間隔を設ける。別の好ましい実施例において、ポンプは、約２００ミクロン乃至約５０００ミクロン、より好ましくは約５００ミクロン乃至約１５００ミクロン、なおさらに好ましくは約１０００ミクロン離れたガンマ電極３６６（図示せず）およびデルタ電極３６７からなる２つの追加の電極を有する。曲り部を有する流体チャネル中に電極を位置させる場合、流体チャネルの中央線を規定する線に沿って前記距離を測定する。相対的により低い導電率の流体を圧送する意味では、アルファ電極３６４およびベータ電極３６５にわたって電圧を印加し、他方、相対的により高い導電率の流体を圧送する意味では、ガンマ電極３６６と、アルファ電極、ベータ電極３６５またはデルタ電極のうちの１つとの間に電圧を誘導する。後者の状況は、普通、ＥＯポンピングで伝統的には圧送する溶媒に適用されるが、本発明はＥＨＤまたはＥＯポンピングの概念について発展させたいずれの理論にも限定されない。いずれの電極セット合せが所定の溶媒または溶液に適しているかを指示するいずれの確固する規則はない。代わりに、本明細書の開示に徴して適当なセット合せを経験的に決定できる。ポンプを直流モードで作動させる場合にアルファおよびベータ電極３６４および３６５をにわたって使用される電圧は、普通、約５０Ｖ乃至約２０００Ｖ、好ましくは約１００Ｖ乃至約７５０Ｖ、より好ましくは約２００Ｖ乃至約３００Ｖである。ポンプを直流モードで作動させる場合にガンマ電極３６６およびアルファ、ベータまたはデルタ極３６４、３６５または３６７にわたって使用される電圧は、普通、約５０Ｖ乃至約２０００Ｖ、好ましくは約１００Ｖ乃至約７５０Ｖ、より好ましくは約２００Ｖ乃至約３００Ｖである。ポンプをパルス状モードで作動させる場合にアルファおよびベータ電極３６４および３６５をにわたって使用される電圧は、普通、約５０Ｖ乃至約１０００Ｖ、好ましくは約１００Ｖ乃至約４００Ｖ、より好ましくは約２００Ｖ乃至約３００Ｖである。ポンプをパルス状モードで作動させる場合にガンマ電極３６６およびアルファ、ベータまたはデルタ極３６４、３６５または３６７をにわたって使用される電圧は、普通、約５０Ｖ乃至約１０００Ｖ、好ましくは約１００Ｖ乃至約４００Ｖ、より好ましくは約２００Ｖ乃至約３００Ｖである。好ましくは、電流に対するポンピングの比は、ポンプ３６０または３６１を過ぎて移動する１０００分子当たり、より好ましくはポンプ３６０または３６１を過ぎて移動する１００００分子当たり、なおより好ましくはポンプ３６０または３６１を過ぎて移動する１０００００分子当たり１個以下の電子が第１ポンプ３６０または第２ポンプ３６１に隣接する溶液に移動するようにする。電極−ベースの内部ポンピングシステムは、もし前記ポンプがパルス状電圧を電極間に印加することによって作動されるならば、複数ポンプ部位において液速が制御され、かつ比較的より複雑でない電子技術を持つ本発明の液体分配システムに一体化することができる。図８はパルスプロトコルの例を示し、ここに、電圧のパルス幅はτ1であってパルス間隔はτ2である。普通、τ1は約１μｓおよび約１ｍｓの間、好ましくは約０.１ｍｓおよび約１ｍｓの間である。普通、τ2 は約０.１μｓおよび約１０ｍｓの間、好ましくは約１ｍｓおよび約１０ｍｓの間である。パルス状電圧プロトコルは高密度エレクトロニクスへの一体化の容易性（これは、数千何百という数の１０００ののポンプをウェーハーサイズの装置にセットみ込むのを可能とする）、電極で起こる電解質の量の減少、電解質近くの熱対流の減少、およびより単純な装置を使用する能力を含めた、他の利点を付与すると考えられる。また、パルス状プロトコルは、図８に示したブロックパターンよりも複雑なパルス波幾何学を使用することもできる。適用することができるもう１つの手法は、普通等しく間隔を設けた多数の電極を使用すること、であり、まず電圧を第１および第２電極に適用を開始し、次いで第２および第３電極に適用を開始する等の時間的方法で隣接する電極の各対において電圧を誘導する進行波プロトコルを使用することである。かかる方法はFu hrら，J．Microelectrical System,1:141-145，1992に記載されている。進行波プロトコルは電界誘導流体流動を容易とする温度勾配および対応する導電率勾配を誘導できると考えられる。かかる温度勾配は、電極− ベースの第１ポンプ３６０および第２ポンプ３６１と一緒に電気ヒーターを位置させることによっても誘導することができる。理論に拘束されるつもりはないが、いくつかの理論的考え方がＥＨＯポンピングの機構で役割を演じていると考えられる。誘電体流体に作用する力は、によって説明され、ここで、Ｆは力密度、ｑは電荷密度、Ｅは適用される場、Ｐは分極ベクトル、εは誘電率およびρは質量密度である。式における項のうち第１項および第３項は流体のＥＨＤポンピングの面で最も重要であると考えられる。第１項（ｑＥ）は空間−荷電領域とのクーロン相互作用に関する。第３項（１／２Ｅ２▽ε）は誘電率の勾配に比例する誘電力に関する。低い場では、すなわち、電流が電圧に線形的に比例するオーム領域では、電界作用する電荷の第一義的源は、第一義的には添加物からのイオン、不純物からのイオンおよび流体中で分子の自己解離によって形成されるイオンによるものと考えられる。中程度の場、すなわち、オーム領域を超えて約２Ｖ／μｍまでの場では、電荷は第一義的には流体における解離および電解質プロセスによって形成されると考えられる。高い場では、電荷は、同電荷を注入する電極における注入プロセスによって決定されると考えられる。この適用の目的では、正（＋）の流動は負の電極の方向に流動すべきであり、負（−）の流動は正の電極の方向に流動すべきである。本発明の好ましい実施例において、コントローラ１０はデータを記憶するための装置を有し、多数の溶媒を圧送するのに適した電圧および極性の値を記憶する。実験結果は、（流体の方向のような）流体流動の特性が、電極から注入されあるいは誘導された荷電種を安定化し溶媒和する溶媒の能力によく相関する。流動の方向は正電荷または負イオンいずれかに溶媒和する溶媒の優先性によって決定されると考えられる。この溶媒和形成の選択性は、電場に引きづられる溶媒分子の大きな殻を意味すると考えられ、これは、第１ポンプ３６０または第２ポンプ３６１に場が印加適用された場合に、流体の運動を生起する。例えば、正の電荷の好ましい溶媒和はアノードからカソード（すなわち、正の方向）への流体流動の優先性に相関する。溶媒についてのかかる溶媒和形成の優先性の程度は、水素結合を受け取りまたは供与する溶媒内の分子の能力に依存すると考えられる。本発明の１の態様において、そのポンピング挙動が末だ特徴付けられていない液体について、R．W．Taftおよび共同研究者(Kamletら，J．Org．Chem．48:2877-288 7，1983およびKamletら，Prog．Phys．Org．Chem.，13:485,1981)によって確立された線形溶媒和エネルギー関係を用いて評価された最初のポンピングパラメータをコントローラは貯蔵するであろう。これらの研究者は溶媒を以下のパラメータで範鴫分けした：π、その誘電特性によって電荷または双極子を安定化させる溶媒の能力：α、溶媒の水素結合供与能力：およびβ、溶媒の水素結合受容能力。これらのパラメータは前記引用のKamletらの出版物でより十分に定義されている。円断面の１ｍｍキャピラリー、４００Ｖの場によって供与された５００ミクロンの離隔距離を持つ、前記キャピラリーに５００ミクロンの深さまで鉛直に挿入された一対の５０ミクロンの棒状白金電極を用い、流動の方向をいくつかの溶媒につき測定した。流動の方向ならびにα、β、π、εおよび双極モーメント値は以下の通りである。 αおよびβ値は、負または正の荷電種を溶媒和する電場下における溶媒の能力を反映し、α−βの大きさは（−）流動に相関し、β−αの大きさは（＋）流動に相関すると考えられる。本発明の一の態様において、流体の流動の好ましい方向は、もし流体が、小さいがゼロではないαおよびβ値の差異を有し、使用する電極対が非対称場であれば、正または負の荷電種いずれかに対する作用力が増強されるように、流体の流動の好ましい方向は前記の予測のものとは逆にすることができる。かかる電極対は意図した流動の方向を示す鋭い点を持つアルファ電極３６４およびそれが位置するチャネルの壁を線で描くベータ電極３６５を有する。１ｍｍキャピラリー中に作製されたかかる電極−ベースのポンプは、電極に印加された電圧が流動または幾分弱い流動の（−）方向を示す場合、あるいは電極に印加された電圧が流動の（＋）方向を示す場合、アルファ電極３６４によって指示された方向に２−プロパノールを圧送するのに効果的であることが示された。液体の圧送パラメータは、電極−ベースのポンプを有し、高い角度であるキャピラリーに配された液体のプラグを用いて較正できる。もし前記プラグの位置をモニターするためにキャピラリーに光学デバイスを備えれば、上方圧送流動の速度および重力駆動の下方運動の速度を測定することができる。これらの速度およびキャピラリーの角度を用いて、液体に適用された圧力を計算することができる。（流体抵抗Ｒ＝（８・μ・ｌ）／πｒ4、ここに、μは速度を表し、ｌ＝流体プラグの長さである；圧力Ｐ＝ＲＡ（νup−νdown）、ここにＡ＝断面積）。また、ポンプの効率も計算できる（η＝（ｑ・ρ・Ｑ・NA）／ｍ・ｌ、ここに、ｑ＝ｅの電荷、ρ＝流体の密度、Ｑ＝流動速度＝νup・Ａ、ｍ＝流体の質量、およびｌ＝電流）。前記速度は、固定したＬＥＤおよび光学ディテクターを用いるプラグの前部または後部界面いずれかのの位置における多重単一点観察にて、あるいはＵＤＴSensors，Inc.，Hawthorne，CAから入手可能なＳＬ１５またはＳＣ１０ポジションセンサーのごとき光およびシリコンフォイダイオードポジションセンサーを用いる連続モードで測定することができる。後者の方法では、ポジションセンサーに接続した異なる増幅器で生じたシグナル間の関係は実験使用に先立って較正しなければならない。多数の溶媒についてのポンピングパラメータを以下のごとくに前記１ｍｍキャピラリーで測定した。ポンピングのもう１つの態様は、合理的場の強さにて圧送に対して抵抗性の流体は適当な増強添加剤を添加することによって電極−ベースのポンピングにより感受性とできるという観察である。好ましくは、流動増強添加剤は前記抵抗性流体と混和性であって、高圧Ｐ、高流動速度Ｑおよび良好な電気効率η（すなわち、電流の電子当たりの圧送される分子）にて圧送できる。一般に、流動増強添加剤は抵抗性流体の約０.０５％ｗ／ｗおよび約１０％ｗ／ｗの間、好ましくは０. １％ｗ／ｗおよび約５％ｗ／ｗの間、より好ましくは約０.１％ｗ／ｗおよび約１％ｗ／ｗの間である。四塩化炭素およびシクロヘキサンは、２０００Ｖの電圧にて前記したキャピラリーに位置させた電極ポンプを用いて圧送されない。流動促進添加剤として０.５％ｗ／ｗのアセトンまたはメタノールを添加することによって、これらの流体は共に１０００Ｖで圧送できる。いくつかの場合、所望の方向に強力に圧送する流動促進添加剤をそれと混合することによって、液体の好ましい流動方向を逆とするのが望ましい。すべての場合において、添加剤は、その圧送特性およびその化学適合性または液体分配システムで達成されることが求められる他のプロセスに基づいて選択される。本発明の電極−ベースのポンプは、前記ポンプを望まない流動に逆らわせるよう作動することによって、ある方向での流動に抵抗するバルブとして作動させることができる。電極−ベースのポンプを出力させるためには、例えば、シフトレジスター、ラッチ、ゲートおよびＤＭＯＳトランジスターのごときスイッチングデバイスからなるひとつ以上のデジタル励振器は簡便なエレクトロニクスを可能とし、従って、各チャネルにおける流体流動を独立して制御することができる。好ましくは、各デジタル励振器は、各々が別の電極−ベースのポンプの圧送速度を制御するのに使用できる多重スイッチングデバイスに接続される。本出願に記載する他の分配システムの特徴は、それらがいずれの小見出し下で記載されるかに拘わらず、本実施例に適用できる。Ｃ．好ましい流動流体分配システム複数のミクロスケール反応セルが多数の反応流体によって別々にアドレス可能であり、連続的流動システムを用いる分配システムのもう１つの実施例が図９に模式的に示される。本出願に記載した他の分配システムの特徴は、それらがいずれの小見出し下で記載されるかに拘わらず、本実施例に適用できる。図９は、第１の連続流動チャネル４００Ａ、第２の連続流動チャネル４００Ｂ、第３の連続流動チャネル４００Ｃおよび第４の連続流動チャネル４００Ｄを示し、各連続流動チャネルは、上流端部Ｕおよび下流端部Ｄを有する。流体は、１以上の外部ポンプ１７１の助けを借りて第１乃至第４連続流体チャネル４００Ａ −４００Ｄを通じて押される。電極−ベースのポンプであり得る第３ポンプ（図示せず）は、第１乃至第４連続流動チャネル４００Ａ−４００Ｄ内にさらに圧送を供することができる。第１乃至第４連続流動チャネル４００Ａ−４００Ｄの上流端部における狭くなったゾーン４０１Ａ−４０１Ｄは第１の断面領域を有する。第１乃至第４連続流動チャネル４００Ａ−４００Ｄの下流端部におけるオープンゾーン４０２Ａ−４０２Ｄは、第１断面面積よりも大きい第２断面面積を有する。オープンゾーン４０２Ａ−４０２Ｄの上流端部には、各々、第１分岐チャネル４１０Ａ、第２分岐チャネル４１０Ｂ、第３分岐チャネル４１０Ｃおよび第４分岐チャネル４１０Ｄがある。これらの分岐チャネル４１０Ａ−４１０Ｄの各々は、好ましくは、オープンゾーン４０２Ａ−４０２Ｄのそれよりも小さい断面面積を有し、各々は緩衝液チャネル４４０に流入する。オープンゾーン４０２Ａ− ４０２Ｄには、各々、第１アルファコンストリクター４２０ＡＡ、第２アルファコンストリクター４２０ＡＢ、第３アルファコンストリクター４２０ＡＣ、および第４アルファコンストリクター４２０ＡＤがある。アルファコンストリクターのごときコンストリクターは、熱、電磁波または圧力により作動する微細加工バルブまたはトランスデューサー、流動−ブロッキングモードで作動する電極−ベースのポンプ、または当前記分野で認識されているもう１つのコンストリクターであり得る。コンストリクターはチャネルの位置で流動を減少させるように、あるいは好ましくは流動を停止させるように作動する。連続流動チャネル４００Ａ−４００Ｄの下流流出口は、第１のドレイン４３１Ａおよび第２のドレイン４３１Ｂを接続する共通バイパス４３０に接続する。分岐チャネル４１０Ａ−４１０Ｃは、各々、第１ベータコンストリクター４２０ＢＡ、第２ベータコンストリクター４２０ＢＢ、第３ベータコンストリクター４２０ＢＣおよび第４のベータコンストリクター４２０ＢＤを有する。緩衝液チャネル４４０から、反応セル導管４４２、第１緩衝液オーバーフロー４４１Ａおよび第２緩衝液オーバーフロー４４１Ｂが延びる。反応セル導管４４２はガンマコンストリクター４２０を有する。第１および第２緩衝液オーバーフロー４４１Ａおよび４４１Ｂは、各々、第１デルタコンストリクター４２０ＤＡおよび第２デルタコンストリクター４２０ＤＢを有する。「液体Ａ」が第１接続流動チャネル４００Ａを通り、かつ第１アルファコンストリクター４２０ＡＡが作動されていない場合、液体Ａは、比較的狭い分岐チャネル４１０Ａを通る流動よりもむしろ比較的大きい断面面積を有する第１連続流動チャネル４００Ａの開口部分を介して共通バイパス４３０に流動する傾向がある。第１ベータコンストリクター４２０ＢＡは、分岐チャネル４１０Ａにおける流動に抵抗しあるいはそれをブロックするように作動でき、さらに共通バイパス４３０へのより大きな流動を確実とする。液体Ａを反応セル４３０に向けるには、第１アルファコンストリクター４２０ＡＡを作動させ、一方、第１ベータコンストリクター４２０ＢＡは作動させず、その結果、第１分岐チャネル４１０Ａへの大きな流動が得られる。液体Ａの緩衝液チャネル４４０への侵入の結果、反応セル導管４４２または第１もしくは第２緩衝液オーバーフロー４４１Ａまたは４４１Ｂを通ってのオーバーフローの速度に応じて、第２乃至第４分岐チャネル４１０Ｂ−４１０Ｄにおいて上方圧力が適用される。この圧力は、第２、第３または第４連続流動チャネル４００Ｂ−４００Ｄからの流体でのクロス汚染を阻害するのに使用できる。全てのコンストリクター４２０は、好ましくは、それらの各チャネル、特に第１乃至第４のベータコンストリクター４２０ＢＡ乃至４２０ＢＤおよびガンマコンストリクター４２０Ｃにおける液体流動を停止するように作動できる。図１０Ａは、流動を分岐チャネル４１０Ａに向けるよう作動する連続流動チャネル４００Ａの断面図を示し、一方、図１０Ｂは流動を共通バイパス４３０に向けるように作動する連続流動チャネル４００Ａを示す。反応セル３５０および反応セルドレイン３５５も示す。図１１は、どのようにして第１乃至第４連続流動チャネル４００Ａ−４００Ｄが、第１乃至第４主要フィードチャネル４７０−４７０Ｄを有するより大きなグリッドに接続できるかを示す。第１乃至第４主要フィードチャネル４７０−Ａ− ４７０Ｄは、第１乃至第４連続流動チャネル４００Ａ−４００Ｄよりも高いまたは低い水平面に位置し、２セットのチャネルを相互に接続させる。ひとつの好適な実施例において、第１乃至第４連続流動チャネル４００Ａ−４００Ｄの各々の流入口は、第１乃至第４主要フィードチャネル４７０Ａ−４７０Ｄから流体を吸引するのを容易とする第３ポンプ４６０（図示せず）を有する。Ｄ．膨張弁液体分配システム膨張弁液体分配システムは、反応セル、２つ以上のフィーダーチャネル、各フィーダーを反応セルに接続する別々の導管、および各導管用の膨張弁を有し、ここに、前記膨張弁は導管の断面を満たし、かつ導管を通っての流体流動を妨げる拡大状態、および導管を通っての流体流動を可能とする縮小状態を有する。この実施例は、分配システムが好ましくはガラスまたはシリコンベースの材料ではなくむしろプラスチックで作製されている点で他の実施例とは異なる。好ましいプラスチックはポリエチレン、ポリプロピレン、液晶エンジニアリングプラスチック、フッ化ポリビリンデンおよびポリテトラフルオロエチレンを含む。低水分蒸気透過率を持つプラスチツク（例えば、ポリエチレン、フッ化ポリビリンデンおよびポリテトラフルオロエチレン）が特に好ましい。ポリエチレンおよびポリエチレンテレフタレートのごときポリエステルのラミネートのごときラミネートもその蒸気バリア特性で好ましい。本実施例のチャネルまたは導管は、好ましくは、製造方法を記載する第Ｉ節で後記するごときである。しかしながら、本実施例は、より大きなチャネルおよび反応セルのごときより大きなスケール特徴にて容易に使用できる。本出願で記載する他の分配システムの特徴は、いずれの小見出しの下で記載されるかに拘わらず本実施例に適用できる。図１２は、各々、第１乃至第８主要供給チャネル５８０Ａ乃至５８０Ｄを有する模式図を示す。第５主要供給チャネル５８０Ａは第１アルファフィーダーチャネル５７０Ａ１、第２アルファフィーダーチャネル５７０Ａ２等に接続する。また、第６乃至第８主要供給チャネル５８０Ｂ乃至５８０Ｄは、各々、フィーダーチャネルに接続される。第２フルアァフィーダーチャネル５７０Ａ２、第２ベータフィーダーチャネル５７０Ｂ２、第２ガンマフィーダーチャネル５７０Ｃ２および第２デルタフィーダーチャネル５７０Ｄ２に焦点を当てると、これらは各々が、多数のアルファ分配チャネル５００Ａ、ベータ分配チャネル５００Ｂ、ガンマブチャネル５００Ｃおよびデルタ分配チャネル５００Ｄにそれぞれ接続される。例えば、第２アルファフィーダーチャネル５７０Ａ２は、第１１アルファ分配チャネル５００Ａ１１、第１２アルファ分配チャネル５００Ａ１２等に接続される。４つの分配チャネル５００のセット、例えば、第１１アルファ分配チャネル５００Ａ１１、第１１ベータ分配チャネル５００Ｂ１１、第１１ガンマ分配チャネル５００Ｃ１１、および第１１デルタ分配チャネル５００Ｄ１１は所定の反応セル３５０、例えば、反応セル３５０に接続される。以下に記載の通り、各分配チャネル５００は膨張弁を有し、これは、分配チャネル５００を介して接続した反応セル３５０へのフィーダーチャネル５７０からの流れをブロックするように駆動できる。１つの好ましい実施例において、主要供給チャネル５８０およびフィーダーチャネル５７０における流体は、上流ポンプおよび下流圧力リリース弁を用いて一定の圧力に維持される。図１３Ａは、第１１アルファ分配チャネル５００Ａ１１を通る断面を示す。分配システムを形成する３つのプレート、つまり第１プレート５９１、第２プレート５９２および第３プレート５９３を示す。第２のアルファフィーダーチャネル５７０Ａ２、第２ベータフィーダーチャネル５７０Ｂ２、第２ガンマフィーダーチャネル５７０Ａ２および第２デルタフィーダーチャネル５７０Ｄ２は、第１プレート５９１を形成するのに使用される成形プロセスで形成できる。第１１アルファ分配チャネル５００Ａ１１は、一義的には第１プレート５９１の部分で形成され、第２プレート５９２はこれらのプロセスを形成するのに使用される成形プロセスの間に形成できる。第２アルファフィーダーチャネル５７０Ａ２に接続する第１１アルファ部分のチャネル５００Ａ１１は、レーザー穴加工などのドリル加工プロセスを用いて形成できる。反応セル３５０Ｂ１に接続する第１１アルファ部分チャネル５００Ａ１１の一部５０２Ａ１１（図１３Ｂ参照）は、普通、第２プレート５９２の成形の間に形成される。膨張弁５８０は、炭化水素エラストマー、アクリロニトリルベースのエラストマーまたはポリウレタンフィルムのごとき低弾性のエラストマーフィルム５８１を含み、そのフィルムは天然ラテックスフィルム、エチレン−プロピレンゴムおよびアクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体フィルムを含む。エラストマーフィルムは、例えば、熱硬化性アクリル、ポリ尿素またはポリスルフィド接着剤のごとき接着剤を用いて基材に結合させることができ、あるいはそれは加熱圧縮結合または超音波ウェルディングによって結合させることができる。エラストマーフィルム５８１は、空気またはアルゴンのごときガスで、あるいはフレオンまたはもう１つの冷媒のごとき低沸点液体で充填された流体チャンバー５８２を覆う。流体チャンバー５８２の十分近くには、好ましくは、コントローラ１０によって制御される加熱素子５８３がある。前記加熱素子５８３は流体チャンバー５８２中のガスまたは液体を加熱するよう機能して、膨張弁５８０の膨張を引き起こす。反応セル３５０Ｂ１はドレイン３５５Ｂ１を有する。加熱素子５８３は、電気抵抗ヒーターおよび、Davis Sarnoff Research Cente r，Princeton，NJから入手可能な吸収端発光ダイオードレーザーアレイまたはLa serMax Inc.，Rochester，NYから入手可能な１３００ｎｍまたは１５９０ｎｍレーザーのごとき赤外線ダイオードレーザーを含む赤外線源を含めた当前記分野で知られた、任意の数の加熱デバイスであってもよい。もし加熱素子５８３が赤外線源であれば、加熱素子５８３および流体チャンバー５８３の間に介在する物質は、好ましくは、加熱素子５８３からの赤外線の少なくとも約５０％、より好ましくは８０％を透過させる。図１３Ｂは、第１１アルファ分配チャネル５００Ａ１１の切断図の比較バージョンであり、ここに、膨張弁５８０は異なる位置にある。図１３Ｃは、好ましい実施例の切断図を示し、そこでは、第１１アルファ分配チャネルは第１膨張弁５８０Ａ、第２膨張弁５８０Ｂおよび第３膨張弁５８０Ｃを有する。これらの３つの弁は順次作動させて圧送力を生じ、反応セル３５０Ｂ１へ流体を移動させる。例えば、第１の時点で、第１１分配チャネル５００Ａ１１に液体を充填し、第１膨張弁５８０Ａを膨張させる。第２の時点で、第１の膨張弁５８０Ａは膨張したままにしておき、第２膨張弁５８０５８０Ｃは膨張を開始し、液体を反応セル３５０Ｂ１に押しやる。第３の時点で、第２膨張弁５８０Ｂは膨張したままにし、第１膨張弁５８０Ａは収縮を開始し、液体を第２アルファフレオンチャネルから吸って、膨張弁によって予め占有された容量を充填する。また、第３の時点で、第３膨張弁５８０Ｃは膨張を開始し、液体を反応セル３５０Ｂ１に流す。第４の時点で、第３膨張弁５８０Ｃは膨張されたままで、第２膨張弁５８０Ｂは収縮を開始し、ほぼ同時に第１膨張弁５８０Ａは膨張を開始する。第５の時点で、第１膨張弁５８０Ａは膨張し、一方、他の２つの膨張弁５８０Ｂおよび５８０Ｃは収縮し、新しいポンピングサイクル状態にセットする。Ｅ．電極ベースの液体分配システム図１４は、いかにして多数のフィーダーチャネル、例えば、各々、アルファ乃至デルタフィーダーチャネル６７０Ａ乃至６７０Ｄからのチャネルを所定の反応セル３５０に接続する第５垂直チャネル６２８に接続できるか、を示す電極ベースの液体分配システムの液体分配システムの平面図を示す。図１４において、アルファフィーダーチャネル６７０Ａ、ベータフィーダーチャネル６７０Ｂ、ガンマフィーダーチャネル６７０Ｃおよびデルタフィーダーチャネル６７０は、各々、アルファ第１分配チャネル６２２Ａ、アルファ第２分配チャネル６２４Ａ、ベータ第２分配チャネル６２４Ｂ、およびベータ第１分配チャネル６２２Ｂに接続する。アルファ第１分配チャネル６２２Ａ、アルファ第２分配チャネル６２４Ａ、ベータ第２分配チャネル６２４Ｂ、およびベータ第１分配チャネル６２２Ｂは、各々、アルファ第１電極ベースのポンプ６６０Ａ、ベータ第１電極ベースのポンプ６６０Ｂ、ガンマ第１電極ベースのポンプ６６０Ｃおよびデルタ第１電極ベースのポンプ６６０Ｄを有する。アルファ第１分配チャネル６２２Ａは、アルファ第２コネクターチャネル６２３Ａおよびアルファ第３コネクターチャネル６２５Ａを介して第５垂直チャネル６２８に接続する。ベータ第１分配チャネル６２２Ｂは、ベータ第２コネクターチャネル６２３Ｂおよびベータ第３コネクターチャネル６２５Ｂを介して第５垂直チャネル６２８に接続する。アルファ第２およびベータ第２コネクターチャネル６２３Ａおよび６２３Ｂは、各々、それらの接続したアルファ第１分配チャネル６２２Ａおよびベータ第１分配チャネル６２２Ｂよりも低い面にあることに注意されたい。アルファ第２分配チャネル６２４Ａおよびベータ第２分配チャネル６２４Ｂは、各々、第５垂直チャネル６２Ｂに直接接続している。アルファ、ベータ、ガンマおよびデルタフィーダーチャネル６７０Ａ−６７０Ｄの「Ｎ」部（図中に示す）は、各々、「フィーダーチャネル流入口」のことであり、他方、「Ｓ」部は「フィーダーチャネル流出口」のことである。アルファ、ベータ、ガンマおよびデルタフィーダーチャネル６７０Ａ−６７０Ｄの流入口は、各々、アルファ第２電極ベースのポンプ６６７Ａ、ベータ第２電極ベースのポンプ６６７Ｂ、ガンマ第２電極ベースのポンプ６６７Ｃおよびデルタ第２電極ベースのポンプ６６７Ｄを有する。アルファ、ベータ、ガンマおよびデルタフィーダーチャネル６７０Ａ−６７０Ｄの流出口は、各々、アルファ第３電極ベースのポンプ６６８Ａ、ベータ第３電極ベースのポンプ６６８Ｂ、ガンマ第３電極ベースのポンプ６６８Ｃおよびデルタ第３電極ベースのポンプ６６８Ｄを有する。（フィーダーチャネル流入口、フィーダーチャネル流出口および分配チャネルから構成される）三方分岐（ジャンクション）を形成するチャネルにおける３つの電極ベースのポンプを作動するために印加する電圧は、分岐チャネルへの流れを許容するか、あるいは分配チャネルへの流動をブロックするように調整できる。好ましくは、各三方分岐において、分岐に最も近い第１電極ベースのポンプ６６０、第２電極ベースのポンプ６６７および第３電極ベースのポンプの各電極は共通の電圧源またはアースに接続される。好ましい実施例において、例えば第５垂直チャネル６３８との４つの分岐（番号付けせず）に位置するキャピラリーバリアを用いて、意図しない第５垂直チャネル６２８への流動を制限することができる。もう１つの好ましい実施例において、アルファおよびベータ第１分配チャネル６２２Ａおよび６２２Ｂ、ならびにアルファおよびベータ第２分配チャネル６２４Ａおよび６２４Ｂは、特に分配チャネルにおける第１電極ベースのポンプ６６０が望まない流動に抗して圧送するように作動する場合、分配チャネル６２２または６２４を通る流れがフィーダーチャネル６７０を通る流れよりも好都合でないように、それらがフィーダーチャネル６７０に接続する狭いチャネル幅を有する。好ましくは、１本以上の分配チャネル（例えば、アルファ第１分配チャネル６２２Ａ）は、接続するフィーダーチャネル６７０の幅の約５０％以下である三方分岐との開口におけるチャネル幅を有し、より好ましくは前記幅は接続するフィーダーチャネル６７０の幅の約４０％以下である。本出願に記載する他の分岐システムの特徴は、どの小見出しでそれらが記載されるかに拘わらず、本実施例に適用される。Ｆ．コントローラコントローラ１０は、普通、電子プロセッサーである。しかし、それはタイマー、スイッチ、ソレノイド等から構成されるより単純なデバイスであり得る。コントローラ１０の重要な特徴は、それが第１ポンプ３６０および第２ポンプ３１６の駆動ならびに、所望により、外部ポンプ１７１の駆動を指示することである。薄膜トランジスタ回路（図示せず）を液体分配システムに形成して、アレイを通って液体を移動させるように、リード線および電極を介してウェルに対して出力を提供し、また、それらをコントローラ１０のごとき駆動手段と接続することができる。例えば、ピンは、コントローラ１０に接続される論理回路によってアドレス可能な成形基材であり得る。Ｇ．反応セルおよび反応セルプレート反応セル３５０は、普通、反応セルプレート３２０の上方層中に形成された窪みである。反応セル３５０へのドレイン３５５は反応セル３５０の底部にて開口でき、かかる場合、排液は接続されたチャネルからの負圧によって力学的に制御される。別法として、図１５Ａに示すごとく、ドレイン３５５は反応セル３５０に隣接し得て、反応セル３５０の床の高さよりも大きい高さにて開口し得る。図１５Ａにおいて、ドレイン３５５は水門３１５によって反応セルに接続される。この場合、反応セルの容積に対する実質的容積であるが、絶対的量が非常に小さいフラッシング容量を反応セル３５０を通して通過させて、先に反応セル３５０に向けられた所定の反応体の全てを除去する。更なる代替として、図１５Ｂに示すように、反応セル３５０を、各々、アルファドレインポンプ３５７Ａおよびベータドレインポンプ３５７Ｂを有し、電極ベースのポンプであり得る、アルファ第１水平ドレインチャネル３５６Ａおよびベータ第１水平ドレインチャネル３５６Ｂに接続する。各々、アルファおよびベータ第１水平ドレインチャネル３５６Ａおよび３５６Ｂは、アルファおよびベータ第２水平ドレインチャネル３５９Ａおよび３５９Ｂに接続された、アルファ垂直ドレインチャネル３５８Ａおよびベータ垂直ドレインチャネル２５８Ｂに接続できる。アルファおよびベータ第２水平ドレインチャネル３５９Ａおよび３５９Ｂはアルファドレイン３５５Ａおよびベータドレイン３５５Ｂへ開口する。アルファおよびベータポンプ３５７は、適切には前記ポンプを作動させて反応セル３５５を排液させるコントローラ１０の制御下で作動する。この後者の排液構造はキャピラリーバリア３７０の形態を含む。アルファおよびベータポンプ３５７Ａおよび３５７Ｂが電極ベースのポンプである場合、一流動が反応セル３５０を排液するように一方を作動させ、＋流動が反応セル３５０を排液するように他方を作動させることができる。このようにして、反応セル３５０における液体の流動優先性が何であれ、一方の排液メカニズムは流体を反応セル３５０から押し出し、他方は単に限定量の流体を反応セル３５０に押し込み、正味の排液効果を生じる。反応セル３５０が制御可能に排液できるもう１つの方法は、第２の実施例を参照して前記のコンストリクターのうちの１つのように、コンストリクターを有する流出口チャネルを有する底部ドレイン３５５を使用することである。ドレインは任意である。というのは、使用によっては、反応セル２５０に移動する液体の量は反応セルの容積末満だからである。しかし、もしドレインが存在しなければ、ベントが必要である。反応セル３５０のためのベントは、他の意味で適当である。反応セルプレートは、例えば、２の表面が平滑に機械加工されることを保証し、２のプレートを一緒にプレスすることによって次のより高いプレートに可逆的に結合させることができる。あるいは、例えば、テフロン、ポリエチレンまたは（天然ゴム、ＡＢＳゴム、またはポリウレタンエラストマーフィルムのごとき）エラストマーフィルムガスケットのような変形可能なガスケットをプレート間に介在させる。ガスケットに対してプレートを接着させる１つの方法は、底部プレートおよびガスケットを貫通して穿孔した多数の真空ホールを有し、これらの位置に真空をかけることである。一般に、シールは、真空を形成するのに使用するポンプが最初の真空形成後に閉じられるように十分とすべきである。ガスケットは好ましくは約０.０×５ミル乃至約１ミル、より好ましくは約０.１ミル乃至約０.３ミルの厚さである。反応セルプレート３２０の底部を出る流体は、例えば、捕獲パンで簡単に収集されるか、あるいは焼結ガラス、ガラスウール、または繊維材料のごとき多孔性基材に拡散させることができる。代替として、第５プレート３４０を反応セルの下面に付着させ、前記プレートに、流体をサンプリングできる個々の収集リザーバに反応セル２５０の流出口を接続させるチャネルを設ける。例えば、第５プレート３４０は反応セルプレート３２０よりも広く、また、収集リザーバは、反応セルプレート３２０によって被覆されない領域において第５プレート３４０の頂部表面に位置させる。好ましくは、液体分配システムの反応セル３５０で行われる合成プロセスは、 Merryfiledが固相ペプチド合成技術に導入した場合に彼によって使用されたスチレン−ジビニルベンゼン共重合体(Merryfiled，J．Am．Chem．Soc．85:2149,196 3；Baranyら,「固相合成における最近の進歩」、Innovation and Perspective in Solid Phase Synthesis:Peptides，Polypeptides and Oligonucleotides，Roger Epton編，第２回国際シンポジウム，１９９１年８月２７−３１日の収集論文， Canterbury，イングランド，第２９頁も参照)のごとき、普通、「ビーズ」という不溶性支持体上で起こる。これらの支持体は、普通、誘導体化させて、予期される生成物の第１形成ブロックを可逆的に付着させることができる「ハンドル」を供する。ペプチド合成分野においては、適当な支持体は、Bachem．Bioscience， Inc.，King of Prussia，PAから入手可能なｐ−アルコキシベンジルアルコール樹脂（「Wang」またはＰＡＭ樹脂）、Advanced Chermtech.，Lousille，K.Y.から入手可能に置換された２−クロロトリチル樹脂およびPerSeptive Biosystems，F ramingham,MA、またはRapp Polymere，ドイツ国から商品名TentaGelで入手可能なポリエチレングリコールグラフト化ポリスチレン樹脂を含む。ホスホトリエステルアプローチ(Dhristodoulou，「オリゴ核酸塩合成:ホスホトリエステルアプローチ」Protocols for Oligonucleotide Conjugate，S．Agrawal編，Humana Press ，N.J.，1994参照)によって、ホスホルアミダイトアプローチ(Beaucage,「オリゴデオキシヌクレオチド合成:ホスホルアミダイトアプローチ」Protocols for Olig odeoxynucleotide Synthesis，S．Agrawal編，Humana Press，J.J.，1994参照) によって、Ｈ−ホスホネートアプロー(Froehler，Oligodeoxynucleotide Synthe sis;H-phosphonate Approach」，Protocols for Oligonucleotide Conjugates，S ．Agrawal編，Hymana Press，N.J.,1994参照)によって、またはシリル−ホスホルアミダイト方法(DamhaおよびOgivie，「オリゴデオキシヌクレオチド合成:シリル−ホスホルアミダイト方法」Protocols for Oligodeoxynucleotide Conjugates ，S．Agrawal編，Jumara Press，N.J.,1994参照)によって、ポリスチレンビーズのごとき同様の固相支持体をオリゴ核酸塩の合成で使用することもできる。オリゴ核酸塩合成用の適当な支持体はApplied Biosystems，Foster City，CAから入手可能な制御された多孔性ガラス（ｃｐｇ）およびポリスチレン支持体を含む。 Gordenら，J．Medicinal Chem.，37:1385-1401,1994によって記載されているごとく、有機ポリマー多様性のためのオリゴカルバメート合成で説明されているように、固体支持体を他の小分子およびポリマー有機合成で使用することもできる。好ましくは、反応セル３５０は矩形であり、水平寸法は約４００ミクロン乃至約１２００ミクロン、より好ましくは約５００ミクロン乃至約１０００ミクロン、なおさらに好ましくは約６４０ミクロン、深さは約２００ミクロン乃至約４００ミクロンである。ビーズを反応セル３５０で使用する場合は、反応セル３５０の深さは、好ましくは、ビーズの膨潤した寸法よりも少なくとも約５０ミクロン大きい。普通固相合成におけるごとくに使用される支持体ビーズは、普通、約５０ミクロンおよび約２５０ミクロンの間の直径、約０.１ミリモル／ｇおよび約１.６ミリモル／ｇの間の反応部位容量を有する。普通、約１および約１０の間のかかるビーズを反応セル３５０に負荷して、反応セル３５０当たり約１ナノモルおよび約１０ナノモルの間の所望の容量を供する。最近、ビーズを膨潤させるのに使用する溶媒および個々のビーズ間のサイズのバラツキに応じて、約２００ミクロンおよび約４００ミクロンの間の範囲の直径を有するものが利用可能となり、ビーズ当たり約５ナノモルおよび約２０ナノモルの間の反応性部位容量が利用可能となった。望ましい反応性部位の官能基はハロゲン、アルコール、アミンおよびカルボン酸基を含む。これらの大きいビーズでは、好ましくは、１のビードのみを各反応セル３５０に負荷する。固体支持体を生成させるもう１つのオプションは、合成することが求められる化合物の第１形成ブロックに可逆的にカップリングさせることができるように、反応セル３５０の底部を直接誘導体化させることである。これを行うのに使用する化学は、制御多孔性ガラス（ｃｐｇ）ビーズおよびポリマービーズを誘導体化するのに使用されるものと同一または同様であり得る。普通、このプロセスにおける第１工程は、支持体上にヒドロキシル基（もし支持体上に既に存在しなければ）、またはアミノ基を生じるものである。もしヒドロキシル基が存在するまたは生成されれば、それらは普通、例えば、ガンマ−アミノプロピルトリエチキシシランと反応させることによってアミノ基に変換される。環式酸無水物、重合したアルキレンオキサイドとの反応および当前記分野で公知の他の方法にて、柔軟性接続基をアミノ基に負荷させることができる。かかる方法の例はFieldsら,「合成ペプチド:使用者のガイド」，W．H.Freeman and Co.，Salt Lake City，UT,199 1)に記載されている。反応性部位を生成させる方法は、反応セルプレート３２０をプラスチックで作製する場合については、アンモニアまたは水の存在下でグロー放電してＮＨ2基を生成することによって生じたもののごとき、反応性プラズマへの反応セル３５０の底部の暴露を含む。かかる手法は「ポリマーの修飾」，CarraherおよびTsud a編，American Chem．Soc.，Washington，D.C.，1980に記載されている。ガラス、セラミックスまたはポリマー基材で有用なもう１つの方法は、低温で蒸着してヒドロキシル官能基を生成することによる一酸化ケイ素でのフィルムの蒸着である。ガラス表面はヒドロキシル官能基を露出するために、アルカリ、例えば、水または水／アルコール混合液中のＫＯＨまたはＮａＯＨ溶液で処理することができる。化学蒸着によって生成された非熱処理ホウケイ酸ガラスのコーティングを含めた非熱処理ホウケイ酸ガラス表面は、例えば、水に溶解させたフッ化水素酸でエッチングして、ホウ素が豊富な領域を溶解させ、このプロセスは大きな表面積を持つ多孔質構造を生じさせることができる。この多孔質構造はアルカリで処理してヒドロキシル基を露出させることができる。かかる表面上の反応性部位置換の程度は、好ましくは、ｃｍ2当たり少なくとも８３ナノモル、より好ましくはｃｍ2当たり１２４ナノモル（これは、少なくとも約０.３１ナノモルの５００ミクロン×５００ミクロン反応セル３５０の置換を意味する）、なおより好ましくは。ｃｍ2当たり少なくとも約２５６ナノモルである。固体支持体としての反応セル３５０の底部を用いる前記方法は、反応セル３５０の底部の表面面積を増加させる方法によって補足することができる。１の方法は、例えば、ＳｉＯxの加熱蒸気による一酸化ケイ素の柱状構造を生じさせることである。もう１つのかかる方法は、反応セル生地に、不織布ガラスまたはプラスチック（好ましくは、繊維状ガラスまたはポリプロピレン繊維）生地を挿入し、前記生地をプラズマ処理して反応性部位を生じさせることである。もう１つの方法は、スピン−オンガラスを使用することで、これは、加熱酸化によってｓｉｌ−セスキオキサンのラダー構造からほとんど化学量論的ＳｉＯ2 の薄層を生じさせる。ゾル−ゲルのプロセスは、まず、混合したアルコール＋水中でポリマー有機金属構造を形成させ、次いで、注意深く乾燥し焙焼することによって有機金属出発物質からガラス−様セット成を生じさせる。前記ゾル−ゲル系を臨界的温度および溶液の圧力を越えて乾燥すると、エアロゲルが得られる。エアロゲルは、ガラスと同様であるが（例えば、ＳｉＯ2）極端な多孔質微細構造を有する化学セット成を有する。その密度は比較的低く、ある場合には、約１乃至約３パーセントの固体セット成を有し、残りは空気である。Ｈ．キャピラリーバリアキャピラリーバリアは図４Ａおよび４Ｂを参照して記載した。しかしながら、前記したよりも複雑な設計的考慮が、ある場合には、キャピラリーバリアの設計に影響する。ある場合には、第２開口２６２または第３開口３６３によって形成される水門を狭くして、流動に対するインピーダンス（すなわち、流動に対する摩擦抵抗）を減少させ、適当には、関連する第１ポンプ３６０または第２ポンプ３６１を活動化させた場合、適当な流動速度に到達させるのが望ましい。そのように狭くするのは、図１６Ａの水門を図１６Ｄの狭くした水門と比較することによって説明される。この設計変更が生じ得る問題は、より狭いチャネルがキャピラリー力を増大させ、それにより、チャネル開路の効率を限定することである。かくして、１の好ましい実施例において、図１６Ｂおよび１６Ｃに示すごとく、チャネル開路は、さらに、１以上の上方向きの鋭いエッジ３６９を含む。より好ましくは、チャネル開路は２以上の上方向きの鋭いエッジ３６９を含む。図１６Ｂでは、開口３６２の部分３６２Ａはより深く切断されて第１プレート３００となって、上方向きの鋭いエッジ３６９の作動に有用な開口空間を生じる。Ｉ．プレート、チャネル、リザーバおよび反応セル本発明の液体分配システムは、デバイスで行うべき化学的プロセスで使用されることが求められる化学薬品に対して抵抗性または抵抗性とした支持体材料で構築することができる。前記した実施例の全てについて、好ましい支持体材料は、ガラス、石英ガラス、水晶、シリコンウエーハまたは適当なプラスチックのごとき、約５０ミクロンおよび約２５０ミクロンの間の断面寸法を有するチャネルを形成できる微細加工がそれ自体しやすいことが示されたものであろう。ガラス、水晶およびシリコンおよびプラスチック支持体材料は、好ましくは、シリコン化剤のごとき適当な処理剤で処理し、これは、蛋白質または核酸のごとき生物学的分子に結合する反応性部位を含めた、材料上の反応性部位を最小化する。前記したごとく、膨張弁液体分配システムは、好ましくは、プラスチックで構築する。比較的密に充填した電気デバイスを要する実施例において、適当なプラスチックのごとき非導電性支持体材料が好ましい。Corning GlassCo.，Corning，NYより入手可能なコーニングホウケイ酸ガラスおよびコーニング７７４０ホウケイ酸ガラスは好ましいガラスである。本発明の液体分配システムは、好ましくは、チャネル、リザーバおよび反応セルがその上に形成される材料の別々のプレートから構成され、これらのプレートは後で接続させて液体分配システムを形成する。本発明のこの態様は、ハイドロロジック液体分配システムに関して幾分詳細に記載する。好ましくは、反応セルプレート、例えば、反応セルプレート３２０は底部プレートであって、可逆的にスタック中の次のプレートに接続される。好ましくは２個乃至３個のプレートからなる分配システムを形成する他のプレートは好ましくは永久的に接続させる。この接続は、例えば、接着剤またはガラス−ガラス加熱結合のごとき技術を用いて行うことができる。プレートを永久接続する１つの好ましい方法は、まず、一般に、約５０ミクロンおよび約５００ミクロンの間、より好ましくは約７５ミクロンおよび約１２５ミクロンの間の厚みを有するガラス釉薬の層を前記プレートにコートすることである。前記厚みは、実質量のチャネル構造が釉薬層に形成されることをもくろむものである。他の場合には、釉薬は、一般に、約１ミクロンおよび約１００ミクロンの間、より好ましくは約１０ミクロンおよび約２５ミクロンの間の厚みを有する。これらの方法は、好ましくは、ガラスプレートを結合させるために適用される。後記するごとく、釉をかけたプレートを処理してチャネル、リザーバまたは反応セルを生成させる。釉をかけたプレートを、好ましくは釉をかけていないもう１つのプレートに対して位置させ、２つのプレートを釉薬の軟化温度以上であるがプレートの釉をかけていない部分の軟化温度未満の温度に加熱する。ガラスプレートを永久結合させるもう１つの好ましい方法は、フィールド・アシステッド（field assisted）加熱結合方法を用いる。今回、フィールド・アシステッド（field assisted）加熱結合を用いるガラス−ガラスシーリングは、もしフイールド・アシスト結合材料を結合すべきプレートの間に置けば、ガラスの低導電率にも拘わらず可能であることが判明した。１つのガラスプレートの頂部または底部表面に、フィールド・アシスト結合材料を適用する。好ましくは、前記フィールド・アシスト結合材料層は約５０ｎｍおよび約１０００ｎｍ、より好ましくは約１５０ｎｍおよび約５００ｎｍの間の厚みを有する。前記フィールド・アシスト結合材料は、本明細書に記載する方法を用いてガラス基材を結合できる材料である。好ましくは、フィールド・アシスト結合材料はシリコンまたはシリカである。より好ましくは、フィールド・アシスト結合材料はシリコンである。フィールド・アシスト結合材料は、例えば、化学蒸着によって、あるいはスパッタリングプロセスによってプレートに適用することができ、そこでは、カソードを希ガス放電からの正イオンでボンバードした時にカソードから表面分子を放出させ、前記表面分子は近くの基材に衝突しそれと結合する。本発明によると、約１５０ｎｍおよび約５００ｎｍ厚みの間のシリコン層が、約２０Å層のごとき、シリコンオキサイドの外方表面層を生成することが期待できる条件下で（しかし、シーリングプロセスは本層の不存在下で効果的であると考えられる）、ガラスプレートに結合された。後述の方法を用い、コートしたプレートを必要に応じて処理して、チャネル、リザーバまたは反応セルを生じさせる。別法として、フィールド・アシスト結合材料でのコーティングに先立ってプレートをかく処理する。次いで、コートしたプレートを、好ましくはコートされていない、図１７に示したもののごときフィールド・アシスト結合デバイス７００中に置いたもう１つのプレートに対して位置させる。前記フィールド・アシスト結合デバイス７００は加熱プレートのごとき加熱デバイス７１０を有する。前記フィールド・アシスト結合デバイス７００は、さらに、シリコン層７６０が適用されている、第１プレート７４０および第２プレート７５０を横切って電圧を印加するのを可能とする電極７２０およびアース７３０を有する。矢印７７０は電場の向きを示す。一般に、フィールド・アシステッド結合は通常の雰囲気下で行う。プレートを、適当な電場をプレートを横切って加える場合に結合プロセスを加速するのに効果的な温度とする。理論に拘束されるつもりはないが、ガラスプレート７４０に適用されたカソードおよび高温によって引き起こされた（ナトリウムイオンのごとき）イオンのより大きな交換部位移動度のセット合せが、カソードが適用されたものと反対の第１ブラスプレート７４０の面上のイオン欠乏を引き起こすと考えられる。前記イオン欠乏は第１ガラス基材７４０の底部表面に表面電荷を引き起こすと考えられ、これは第２基材７５０に対して強力な局在化した静電引力の形成に関係する。このプロセスが基材間の強力な結合を生じるのは明らかであり、これは、第１ガラス基材７４０のシリカと第２ガラス基材７５０上にコートされたシリコンの間の化学結合の形成によるものと考えられる。好ましくは、温度を約２００℃乃至約６００℃、より好ましくは約３００℃乃至約４５０℃とする。プロセスの間に、普通約２００Ｖ乃至約２５００Ｖ、好ましくは約５００Ｖ乃至約１５００Ｖの間の電圧を、第１ガラスプレート７４０および第２ガラスプレート７５０を横切って印加する。印加する前記電圧は、最も適切には、ガラスプレートの厚みに応じて変化させる。前記電圧は第１ガラスプレート７４０および第２ガラスプレート７５０（前記プレートのうちの１つに適用されたシリコン層７６０を含む）を引いて密着させる。普通、ガラスプレートの平面寸法に応じて、気密シーリングを数分乃至１時間内に達成する。適当なシーリングを達成するのに要する時間は、とりわけ、プレートの平滑性、電場の強さ、温度およびプレートの寸法で変化する。プレート間の結合は、普通、視覚的に明らかである。というのは、それは、プレート間の界面の消失および観察者が２のプレートのより薄い寸法を通して見た場合に観察できる結合領域における灰色の形成によって達成されるからである。前記方法を用いて、ガラス基材をもう１つのガラス基材におよび第２のガラス基材に同時に結合させることができる。当業者ならば、熱プレートを加熱助力結合のための加熱を供するものとして説明したが、オーブンを含めた他の加熱デバイスを使用することもできることを認識するであろうし、また、可能ならば、結合すべき基材の熱膨張係数に適合させるのが望ましいことを認識するであろう。流体分配システムのリザーバ、反応セル、水平チャネルおよび他の構造は以下の手法によって製作できる。例えば、フィードスループレート３００、分配プレート３１０、反応セルプレート３２０または中間プレート３３０のうちの１つを構成するプレートは、前記プレートを後続のエッチから保護するために、蒸発またはスパッタリングによるごとく公知の方法で、順次、第１の約５００Åの厚みの薄いクロム層および約２０００オングストローム厚みの第２の金フィルムで両面をコートする。Hoechst-Celanese Corp.，Bridgewater，NJのDynakem ＥＰＡのごとき２ミクロン層のフォトレジストをスピンコートし、適当にはMRS Techno logy，Inc.，Acton，MAから入手可能なＭＲＳ４５００パネルステッパーを使用し、前記フォトレジストを、マスクを用い、または四角または矩形イメージを用いて露光する。現像して開口をレジスト層中に形成させ、前記レジストを加熱して溶媒を除去した後、２５ｍｌの水中のヨウ化カリウム４グラムおよびヨウ素（Ｉ2）１グラムの標準エッチを用いて、開口における金層をエッチングで除去する。次いで、KTI Chemicals，Inc.，Sunnyvale ，CAのＫＴＩ Chrome Etchなどの酸クロムエッチを用いて、下部のクロム層を別にエッチングする。次いで、前記プレートを、１４：２０：６６の容量比のＨＦ−ＮＨ3−Ｈ2Ｏの超音波浴中でエッチングする。超音波浴でのこのエッチの使用により、種々の構造についての垂直側壁を生じる。エッチングは、所望のエッチング深さが得られるまで継続する。垂直チャネルは、普通、レーザーアブレーションによって形成される。分配システムの実施例の種々の水平チャネルは、普通、約５０ミクロン乃至約２５０ミクロン、好ましくは約５０ミクロン乃至約１００ミクロン、より好ましくは約５０ミクロン乃至約８０ミクロンの深さを有する。水平チャネルの幅および垂直チャネルの直径は、普通、約５０ミクロン乃至約２００ミクロン、より好ましくは約１００ミクロン乃至約２００ミクロン、より好ましくは約１２０ミクロン乃至約１５０ミクロンである。Ｊ．電極ベースのポンプの製作多くの実施例において、本発明の液体分配システムは、前記液体分配システムを通って流体を圧送するための多数の電極の形成を必要とする。これらの電極は、一般に、液体分配システムの頂部ガラスプレートに製造する。普通、電極の各対は、近くに配置する（例えば、５０乃至２５０ミクロン離す）。電極の直径は、好ましくは約２５ミクロン乃至約１５０ミクロン、より好ましくは約５０ミクロン乃至約７５ミクロンで製作する。好ましい実施例では、液体分配システムは１００００の反応セル３５０を有し、各々の反応セル３５０は６−１０の関連する電極ベースのポンプを有する。かくして、液体分配システムは約２０００００乃至約３０００００電極を必要とし得る。大量生産技術を用いてかかる構造体を作製するには、順次の方法ではなく、並行して電極を形成する必要がある。電極を形成する好ましい方法は、それを通って電極が突出するプレート（例えば、フィードスループレート３００）中にホールを形成し、前記ホールに金属の薄いフイルムインク（すなわち、いわゆる「ヴァイア・インク（via ink）」、これは所定の温度で焼結して、焼結温度末満に冷却した際に、電気伝導性固体となる塊を形成する材料である）を充填し、次いで、プレートおよびインク充填物を焼いて、前記インクを、やはり液体の漏出に対してホールをシールする良好な導体に変換することを含む。また、前記方法は、片面にプレートを通って突出する電極の部分を生成して流体チャネル中の液体に突出する電極を供し、また、他面に電気的制御を付着させるための接触点を供する。例えば、エキシマレーザーを用いてホウケイ酸ガラスの５００ミクロン厚みのプレートにホールをドリル加工する。次いで、市販のInjection Via-fill Machi ne(Pacific Trinetics Model #VF-1000，San Marcos，CA)を用い、５０および１５０ミクロンの間の直径を有するホールを濃厚な薄膜インクを充填する。予期せぬことに、加熱処理したインクがホールの側面に接着するように、かかる高アスペクト比のホールを充填するように機能するのに十分なヴァイア・インクの処方を選択するだけで、加熱処理プロセスの間にひびがはいらず、また流体流動に抗してホールをシールすることが判明した。高アスペクト比ホールを通ってシールされた導電性導管をかく形成するのに重要である１つのパラメータは、十分に微細な寸法を有するヴァイア・インク用の金属粉末およびガラス端末成分を選択することである。１つの適当な処方は：12-507 Ａｕ粉末(Technic Inc.，Woonsoke t，RI)、８９.３％ｗ／ｗ；F-92ガラス(O．HoEel Co.，Carnegie，PA)、５.７％ｗ／ｗ；１５％ｗ／ｗエチルセルロースN-300(N-300，Aqualon，Wilimington，D E)in TexanolTM(２，２，２−トリメチル−１，３−ペンタンジオールのモノイソブタレートエステル，Eastman Chemical Products，Kingsport，TN)、２.４ｗ／ｗ；１５％ｗ／ｗ Elvacite 2045TM（ポリイソブチルメタクリレート）in Te rpinol T-318(混合した第三級テルペンアルコール類、Hercules Inc.，Wiliming ton，DE)、２.１％ｗ／ｗ；およびDuomeen TDOTM(Ｎ−獣脂アルキルトリメチレンジアミンオレエート，Akzo Chemicals，Chicago，IL)、０.５％ｗ／ｗを用いる。Technic，Inc.からの金粉末は、０.９ミクロンの平均粒径を有する。もう１つの適当な処方は：Ａｇ粉末Ｑ粉末(Metz，South Plainfiled，NJ)、８０．８％ｗ／ｗ；F-92ガラス(O．Hommel Co.，Carnegie，PA)、５.２％ｗ／ｗ；VC-１樹脂(３７％ｗ／ｗ Terpineol Ｔ−３１８、５５．５％ｗ／ｗブチルカルビトール、７．５％ｗ／ｗエチルセルロースN-300，Aqualon，Wilimington，DE)、３．７％ｗ／ｗ；１５％ｗ／ｗエチルセルロースN-300 in TexanolTM，４．０％ｗ／ｗ)；１５％ｗ／ｗ Elvacite 2045TM（ポリイソブチルメタクリレート）in Ter pineol T-318、４.１％ｗ／ｗ；Duomeen TDOTM、０.６％ｗ／ｗ；およびTerpine ol、１．６％ｗ／ｗを用いる。これらの処方はまず５５０℃で加熱処理して高アスペクト比導電性導管を形成した。ガラスまたは金属粉末のサイズが増加すると、ヴァイア・インク中の有機物の量を減少させることによって、良好な充填特性（クラッキングの欠如、液体に対する良好なシーリング、良好なホールの側面への接着）がしばしば得ることができる。ヴァイア・インクをプレート中のホールに挿入するのに使用するデバイスは、普通、プレート中の開口に対応する開口を持つ金属ステンシルを含む。ヴァイア・インクをプレート上に位置させたステンシルの上方に塗布し、ブラダーデバイスを使用して前記インクを圧縮してそれをホールに充填する。充填後、ヴァイア・インク−充填ホールを持つプレートを後述の更なる加工のために取り出す。充填に先立ち、例えば、インク−充填プレートを１乃至５分間オーブン（例えば、１００℃）に入れることによって、有機成分の多くを蒸発させる。好ましくは、約４５０℃乃至約７００℃、より好ましくは約５００℃乃至約５５０℃の温度で加熱処理を行う。しかしながら、適当な加熱温度の上方限界は第一義的には処理すべきプレートが曲がり始まる温度によって決定される。従って、いくつかのタイプのプレートでは、かなり高温が考えられる。加熱処理後にガラスの上方および下方に突出する導電性材料があることを保証するために、所望の突出の長さに等しい厚みの防食層でプレートをコートすることができる。防食層はプレートにホールが形成される前後に適用することができる。もし前であれば、ホールはガラスプレートおよび防食層双方を通って形成される。もし後であれば、（ａ）プレートの１の側面から他の側面にかけてガス圧力差（この圧力差はホールを覆う防食材料を吹き払って清澄とする）を生成することによって、防食層を通っての対応する開口を生じさせることができるか、あるいは（ｂ）少なくとも頂部防食層を通ってのかかる開口は、インクの圧力が防食層を通ってホールへと押すことによって生成する（無害量の防食層材料をホールに残す）。適当な防食層は加熱処理プロセスの間に焼いてなくする。防食層はプレートを、例えば、Terpineol T-318TMまたはTexanolTMに溶解させたエチルセルロース樹脂(例えば、Ethyl Cellulose N-300，Aqualone，Wilmington，DE)の５−１５ｗ／ｗ％混合物、またはTerpineol T-318TM中のElvacite 2045TMの５− ５０％ｗ／ｗ混合物でコーティングして作製できる。加熱処理後、電極の表面は、ニッケル、銀、金、白金、ロジウム等のごとき強化メッキ金属であり得る。標準的な電解メッキおよび／または無電解メッキ浴およびその技術を用いて、析出を行うことができる。好ましくは、エッチングされた開口を含有すべきプレートが電極を有するように加工される場合、エッチングをまず行い、続いて防食層をコーティングし、電極ホールを形成する。製造の別法において、各ポンプに対して、２以上の金属線、例えば、１−１０ミル直径の金または白金線をおよそ、例えば１５０ミクロン離してチャネル壁中の開口に挿入する。ガラスマトリックス中の微粉砕金属粒子で作製された通常の金または白金ヴァイア充填インクによって前記線をチャネル中にシールする。開口の外側の前記線のベースの回りにヴァイア充填インクを適用した後、ヴァイア充填インクガラスの流動温度を超える温度までチャネルを加熱し、前記線およびチャネルの間に優れたシールを供する。ホールをシールするのに使用するヴァイアインクは、例えば、ハンダまたは接着剤で置き換えることができる。Ｉ．その他の特徴特定のウェルの温度をモニターしあるいは変化させるべき場合において、図２０を参照してさらに後記するごとく、前記ウェルを加熱しまたは冷却する手段を前記ウェルに形成させる。この例における第１ウェル３６はその底部表面にスズ酸化物またはインジウムスズ酸化物のごとき適当な金属酸化物の薄膜５７を析出している。前記薄膜５７はウェル３６の端部または外方エッジへの電気伝導性金属結合５８によって結合される。スズ酸化物コーティング５７はウェル３６用のヒーター素子として働く。ウェル３６の側面は、適当にはクロメル−アルメル合金で作製した、表面バイメタル膜５９を有し、これは、電流源がスズ酸化物コーティング５７およびリード線５８に適用された場合にウェル中の温度を測定するための熱電対を形成する。示した裏側に析出させた電極５６を介してウェル３６に印加した電圧はウェル中の温度を調節する。印加した電流の量は、リード６０を介して測定した温度に応答してコントローラ１０によって調製できる。液体分配システムのいくつかの応用において、有意な蒸気圧を反応セル３５０中で発生させて、分配プレート３１０中への逆圧を引き起こすことができる。かくして、Jermanら「マイクロ波技術の理解」，Sensors，1994年，26-36頁によって記載されているごとく、バイメタル材料により形成された予備成形バルブ７０（図２１Ａ参照）を第３垂直チャネル３９０中に位置させることができる。これらの材料は熱膨張不一致を有する。反応セル３５０における温度が低い場合、ボールバルブ６２をその通常の位置に入れ、流体のウェル３６への自由流動を可能とする（図２１Ａ参照）。ウェル３６中の温度が上昇するにつれて、ボールバルブ６２はより冷たい位置（図２１Ｂ）に移動し、第３垂直チャネル３９０をブロックして反応セル３５０を隔離し、それにより、流体が第１ウェル３６へ通過しまたそこからの通過を妨げる。別法として、水晶またはポリテトラフルオロエチレンポリマーで作製されたベアリングのごときベアリングを有する通常のチェックバルブを用いて、反応セル３５０を隔離することができる。流体流動を前記チェックバルブによって確立された方向と反対にする能力を有するのが重要である場合、前記チェックバルブは絶縁または磁性ベアリング有することができ、これは、極端に印加された静電気場または磁場でかかる逆流動を可能とするように移動できる。例例１−簡便な電極ベースのポンプで圧送する液体先に、第Ｂｉｉ節に記載の２つの電極−ポンプ付きの１ｍｍキャピラリを用いて、以下の溶媒を含め、多数の液体をテストした。特に指示のない限り、０.１ＭにおいてＮＭＰ中の以下の溶液をテストした。ピペリジン（２０％ｖ／ｖ）を除き、全て０.１ＭにてＤＭＦ中の以下の溶液をテストした。＊「Ｐ」の前の方向表示（「＋」または「−」）は、図８に従い、パルス電圧プログラムを用いて流れが達成されたことを示す。ここで、τ１＝０.１−１ｍｓであってτ ２＝３.０−１０ｍｓである。 δこの表および以下の表における「δＮ．Ｄ.」は、溶質が溶媒と不混和性であるか、あるいは目視観察によりそれが分解されたことが示唆されることを示す。特に指示のない限り０.１ＭにてＤＣＭ中の以下の溶液をテストした。＊「Ｐ」の前の方向表示（「＋」または「−」）は、図８に従い、パルス電圧プログラムを用いて流れが達成されたことを示す。ここで、τ1＝０.１−１ｍｓであってτ２＝３.０−１０ｍｓである。全て０.１Ｍにてメタノール中の以下の溶液をテストした。＊「Ｐ」の前の方向表示（「＋」または「−」）は、図８に従い、パルス電圧プログラムを用いて流れが達成されたことを示す。ここで、τ１＝０.１−１ｍｓであってτ２＝３.０−１０ｍｓである。例２電極ポンプベースの好ましい流動システム２１１Corningガラス(Corning Glass Co.，Corning，NY)の２インチ×２インチ×２０ミルのプレート上にチャネルシステムを製作して、特定電極ベースのポンプに印加する電圧を制御することによって、所望の流路に切替えスイッチできることを確認した。図１８Ａおよび１８Ｂに示すように、第１チャネル８０４（２６００μｍ長×１５０μｍ幅×１００μｍ深さ）、第２チャネル８０５（５５０μｍ長×１００μｍ幅×１００μｍ深さ）、第３チャネル８０６（８００μｍ長×２７５μｍ幅×１００μｍ深さ）、第４チャネル８０７（２００μｍ長×１００μｍ幅×１００μｍ深さ）、第５チャネル８０８（５５０μｍ長×１００μ ｍ幅×１００μｍ深さ）および第６チャネル８０９（２５００ｍ長×１５０μｍ幅×１００μｍ深さ）を、チャネルプレート８１０（図示せず）上に製作した。また、チャネルプレート８１０上に、第１ウェル８００Ａ、第２ウェル８００Ｂおよび第３ウェル８００Ｃを製作し、これらを前記チャネルで接続した。電極プレート８２０を重ね、フィールド・アシステッド加熱結合によってチャネルプレート８１０にシールした。電極プレート８２０は、第１ウェル８００Ａおよび第２ウェル８００Ｂ（図示せず）への開口を有するものであった。第３ウェル８００Ｃは、中央ドレイン８５５を含むものであった。電極プレート８２０は、更に、２５μｍのワイヤを挿入して製作した白金電極を含むものであった。この電極は、第１白金電極８０１Ａ、第２白金電極８０１Ｂ、第３白金電極８０１Ｃ、第４白金電極８０２Ａ、第５白金電極８０２Ｂ、第３白金電極８０２Ｃ、およびガンマ電極ベースのポンプ８０３を備える２つの電極を含んでいた。第１白金電極８０１Ａ、第２白金電極８０１Ｂ、第３白金電極８０１Ｃは、アルファ電極ベースのポンプ８０１を形成し、他方、第４白金電極８０２Ａ、第５白金電極８０２Ｂ、第６白金電極８０２Ｃは、ベータ電極ベースのポンプ８０２を形成した。図１８Ａは、第３ウェル８００Ｃをバイパスしつつ、第１ウェル８００Ａから第２ウェル８００Ｂへ流れるメタノールを示す。これは、アルファ電極ベースのポンプ８０１に１６０Ｖを印加して行った。図１８Ｂは、第１ウェル８００Ａをバイパスしつつ、第２ウェル８００Ｂから第３ウェル８００Ｃへ流れるメタノールを示す。これは、ベータ電極ベースのポンプ８０２に２００Ｖを、ガンマ電極ベースのポンプ８０３に１００Ｖを、アルファ電極ベースのポンプ８０１に１２０Ｖを印加して行ったが、ベータおよびガンマ電極ベースのポンプ８０２および８０３における極性は、第３ウェル８００Ｃへの流入に好都合であり、アルファ電極ベースのポンプ８０１における極性は第１ウェル８００Ａからの流入に好都合である。例３−キャピラリーバリアを通す電極ベースの圧送図１９は、ハイドロロジック液体分配システムに従って製作された試作の液体分配システムを示す。この分配システムは、Corning ７７４０ガラス、Corning Glass，Inc.，NYの３つのプレートで構成し、これらプレートは、頂部プレート９１０、中間プレート９２０および底部プレート９３０となった。中間プレート９２０の頂部は、既に述べたように、シリコンで被覆した。頂部プレート９１０に、レーザー孔加工により、それぞれの直径が７５μｍの、第１ホール９０１Ａ、第２ホール９０１Ｂ、第３ホール９０２Ａ、、第４ホール９０２Ｂ、第５ホール９０３Ａ、第６ホール９０３Ｂ、第７ホール９０４Ａおよび第８ホール９０４Ｂを形成した。第１および第２ホール９０１Ａおよび９０１Ｂを用いて、第１の電極ベースのポンプのモデル９６１を形成した。第３および第４ホール９０２Ａおよび９０２Ｂを用いて、第２試作品電極ベースのポンプ９６２を形成した。第５および第６ホール９０３Ａおよび９０３Ｂを用いて、第３の電極ベースの試作ポンプ９６３を形成した。第７および第８ホール９０４Ａおよび９０４Ｂを用いて、第４の電極ベースのポンプの試作モデル９６４を形成した。第１乃至第４の電極ベースの試作ポンプ９６１−９６４の各々における電極は、２００μｍだけ離した。エッチングによって、アルファ開口９０５、ベータ開口９０６およびガンマ開口９０７を頂部プレート９１０の下面に形成した。レーザー孔加工によって、各々１５０μｍの直径を持つ、第９ホール９０８および第１０ホール９０９を、上方プレート９１０を貫通して形成した。中間プレート９２０に、第１試作品チャネル９１１（セグメント９１１Ａ−９１１Ｄから構成される）および第２試作品チャネル９１２（セグメント９１２Ａ −９１２Ｄから構成される）を形成した。第１および第２試作品チャネル９１１および９１２は、８０μｍの深さと、１５０μｍの幅を有していた。これらの２つの試作品チャネル９１１および９１２に、第９ホール９０８および第１０ホールを各々設けた。第１反応セルアクセスホール９１３および第２反応セルアクセスホール９１４（各々、１５０μｍの直径）を、中間プレート９２０を貫通してレーザー孔加工した。中間プレート９２０の下面に、デルタ開口９１５を形成した。このデルタ開口９１５は、反応セル９５０を第１および第２試作品ドレインホール９２１および９２２に反応セル９５０を接続する。底部プレート９３０に、反応セル９５０はエッチングにより形成した。第１試作品ドレインホール９２１および第２試作品ドレインホール９２２を底部プレート９２０を貫通して孔加工した。頂部プレート９１０および中間プレート９２０は、フィールドアシステッド加熱結合によって一緒に結合した。メタノールを第１試作品チャネル９１１に導入した場合、前記液体は、アルフア開口９０５における構造によって形成されたキャピラリーバリアによって、反応セルアクセスホール９１３への流動が停止された。それに対応して、ベータ開口９０６における構造によって形成されたキャピラリーバリアは、メタノールが反応セルアクセスホール９１４に流入するのを妨げる。いずれかの経路による反応セルアクセスホール９１３または９１４への流動も、適当なポンプを駆動することによって開始できた。例えば、メタノールを第１試作品チャネル９１１を通して圧送するために、第１試作品電極ベースのポンプ９０１および第２試作品電極ベースのポンプ９０２に２００Ｖを印加することによって付勢された。試作品チャネル９１１を通る流れが観察された。実施例４−オリゴ核酸塩のセット合せ合成この合成は、ホスホルアミダイト方法によって、配列（５’乃至３’）：ＧＧＡＧＣＣＡＴＡＧＧＡＣＧＡＧＡＧを有する保護されたオリゴ核酸塩をその上に合成した多数のポリスチレンビーズで開始した。オリゴ核酸塩合成方法についてのさらなる記載については、例えば、Caruthersら，Methods in Enzymology 211:3-20,1992参照。Bacham B ioscience(King of Prussia，PA)から入手可能な官能基化ポリスチレンビーズを、４×４反応セルを有するミクロスケール液体分配システムの各々に挿入する。液体分配システムは４つの第１リザーバ、リザーバ−１、リザーバ−２、リザーバ−３およびリザーバ−４を有し、その各々は、４×４アレイのうちのいずれかの反応セルにアドレスできる。前記液体分配システムは４つの第２リザーバ、リザーバ−５、リザーバ−６、リザーバ−７およびリザーバ−８を有し、その各々は、所定の列に沿った４つの反応セル（すなわち、ＥＷ軸に沿って配列した反応セル）にアドレスできる。さらに、液体分配システムは４つの第３リザーバ、リザーバ−９、リザーバ−１０、リザーバ−１１およびリザーバ−１２を有し、その各々は、対応するカラムにおける４つの反応セル（すなわち、ＮＳ軸に沿った反応セル）のいずれかにアドレス可能である。以下のプロセスエ程を実施する：１．分配システムにおける反応セルの各々をリザーバ−１からのアセトニトリルで洗浄する。２．リザーバ−２からのジクロロメタン中の３％トリクロロ酢酸（ＴＣＡ）を全ての反応セルを通して圧送する。この溶液はビーズ上のオリゴ核酸塩の５’末端におけるジメトキシトリチル保護基を除去するのに効果的である。３．液体分配システムにおける全ての反応セルに再度リザーバ−１からのアセトニトリルをフラッシュする。４．リザーバ−５に接続した４つの反応セルにアセトニトリル中の０.１Ｍ保護アデニンホスホルアミダイトの混合物を添加する。この添加は、リザーバ−５に接続した４の反応セル中のオリゴ核酸塩の５’末端に保護されたアデノシン基を結合させるのに効果的である。リザーバ−５に接続した４の反応セルに、アセトニトリル中の０.１Ｍ保護シトシンホスホルアミダイトの混合物を添加する。この添加は、リザーバ−６に接続した４の反応セル中のオリゴ核酸塩の５’末端に保護されたシトシン基を結合させるのに効果的である。リザーバ−７に接続した４の反応セルに、アセトニトリル中の０.１Ｍ保護グアノシンホスホルアミダイトの混合物を添加する。この添加は、リザーバ−７に接続した４の反応セル中のオリゴ核酸塩の５’末端に保護されたグアノシン基を結合するのに効果的である。リザーバ−８に接続した４の反応セルに、アセトニトリル中の０.１Ｍの保護されたチミジンホスホルアミダイトを添加する。この添加は、リザーバ−７に接続した４の反応セル中のオリゴ核酸塩の５’末端に保護されたチミジン基を結合するのに効果的である。５．反応セルをリザーバ−１からの反応セルからのアセトニトリルで洗浄する。６．反応セルをリザーバ−３からの無水酢酸：２，６−ルチジン：テトラヒドロフラン１：１：８でフラッシュする。この溶液は添加したモノマーと反応しないいずれのオリゴ核酸塩鎖もキャップ付加するのに効果的である。７．反応セルにジクロロメタン中の１.１Ｍテトラブチルペルオキシドでフラッシュする。この工程は、あたらしく付加されたモノマーをオリゴ核酸塩に接続するホスファイトトリエステルをホスフェートトリエステルまで酸化するのに効果的である。８．工程１−３を反復する。９．リザーバ−９に接続した４の反応セルに、アセトニトリル中の０.１Ｍの保護されたアデニンホスホルアミダイトの混合物を添加する。この添加は、リザーバ−９に接続した４の反応セル中のオリゴ核酸塩の５’末端に保護されたアデノシン基を結合させるのに効果的である。リザーバ−１０に接続した４の反応セルに、アセトニトリル中の０.１Ｍ保護シトシンホスホルアミダイトの混合物を添加する。この添加は、リザーバ−１０に接続した４の反応セル中のオリゴ核酸塩の５’末端に保護されたシトシン基を結合させるのに効果的である。リザーバ −１１に接続した４の反応セルに、アセトニトリル中の０.１Ｍの保護グアノシンホスホルアミダイトの混合物を添加する。この添加は、リザーバ−１１に接続した４の反応セル中のオリゴ核酸塩の５’末端に保護されたグアノシン基を結合するのに効果的である。リザーバ−１２に接続した４の反応セルに、アセトニトリル中の０.１Ｍの保護されたチミジンホスホルアミダイトを添加する。この添加は、リザーバ−１２に接続した４の反応セル中のオリゴ核酸塩の５’末端に保護されたチミジン基を結合するのに効果的である。前記に概説したプロセスは、各々が５’末端に区別されるジヌクレオチド配列を持つ、１６の別々のオリゴ核酸塩を創製するのに効果的である。同様の合成方法を適用して、ペプチドおよび潜在的に薬理活性を有するものおよび診断もしくは他の分析応用に有用なものを含めた、種々のセット合せ分子を創り出すことができる。

【手続補正書】特許法第１８４条の４第４項【提出日】平成８年５月６日（１９９６．５．６）【補正内容】（オリジナルクレーム1-40を、補正クレーム1-60に置き換える）１．分配システムであって、アルファリザーバおよびベータリザーバと、平行でかつ隣接する第１および第２フィーダーチャネルの第１のセットおよび前記第１および前記第２フィーダーチャネルからオフセットした平行でかつ隣接する第３および第４フィーダーチャネルの第２のセットを含み、（ａ）前記第１および前記第３フィーダーチャネルは、前記第２および前記第４フィーダーチャネルの上方または下方に位置しかつベータリザーバとは独立した第１コネクターチャネルによってアルファリザーバに接続され、（ｂ）前記第２および前記第４フィーダーチャネルは、前記第１および前記第３フィーダーチャネルの上方または下方に位置しかつアルファリザーバとは独立した第２コネクターチャネルによりベータリザーバに接続されている、分配システム。２．前記第１および前記第２フィーダーチャネルが、各々２個以上の反応セルの第１のセットに接続され、かつ前記第３および前記第４フィーダーチャネルが、各々２個以上の反応セルの第２のセットに接続された請求の範囲第１項記載の分配システム。３．前記第１および前記第２フィーダーチャネルのセットのフィーダーチャネルが、相互に平行である請求の範囲第２項記載の分配システム。４．液体分配システムであって、前記液体分配システムは（ａ）分配プレートを含み、前記分配プレートが、共通の第１充填レベルを有する少なくとも２つの第１リザーバと、前記各フィーダーチャネルは水平フィーダーチャネルセグメントを有し、前記水平フィーダーチャネルセグメントの頂部は前記第１充填レベルの下方にある、前記第１リザーバの各々に接続されて、そこから延びる少なくとも１本のフィーダーチャネルと、前記各フィーダーチャネルに接続し、かつ前記第１充填レベルと実質的に同じ高さの第２充填レベルを有する少なくとも１本の分配チャネルと、前記第１充填レベルまで前記各第１リザーバを充填することにより、前記接続されたフィーダーチャネルが充填され、前記接続された分配チャネルを第２充填レベルまで充填する、前記各第１リザーバの液体レベルを前記第１充填レベルに維持するための第１液体レベル維持手段とを含む液体分配システム。５．前記分配プレートにおいて、前記少なくとも２個の第２リザーバの各々からの１本のフィーダーチャネルが、他方と互いに平行に隣接する請求の範囲第４項記載の分配システム。６．前記平行なフィーダーチャネルの各々が、前記平行なフィーダーチャネルの水平フィーダーチャネルセグメントに鉛直に位置する別の分配チャネルに接続され、かつ接続された前記各分配チャネルが、他方と互いに平行に隣接する請求の範囲第５項記載の分配システム。７．前記分配プレートに、少なくとも４つの第１リザーバと、少なくとも２セットの平行に隣接するフィーダーチャネルとを備え、前記各セットにおける各フィーダーチャネルは別のリザーバに接続され、平行に隣接したフィーダーチャネルは、隣接し鉛直な分配チャネルの少なくとも２セットに接続する請求の範囲第６項記載の分配システム。８．前記分配プレートにおいて、前記第１リザーバに接続する前記水平フィーダーチャネルセグメント互いに実質的に平行であり、前記分配プレートは１つ以上の前記第２リザーバを備え、前記各第２リザーバは第３充填レベルを有し、前記各分配プレートは、更に、前記各第２リザーバにおける液体レベルを前記第３充填レベルに維持する第２液体レベル維持手段と、頂部が前記第３充填レベルと実質的に同じ高さである第２リザーバ延長チャネルとを備える、請求の範囲第４項記載の分配システム。９．前記第２リザーバ延長チャネルが、水平フィーダーチャネルセグメントに対して実質的に鉛直であって、１本以上の前記第２リザーバ延長チャネルが、各々、少なくとも１の水平フィーダーチャネルセグメントの上方を横切る、請求の範囲第８項記載の分配システム。１０．さらに、１本以上の緩衝液チャネルを備え、少なくとも１本の前記緩衝液チャネルが、少なくとも２本の前記第１分配チャネルと少なくとも１本の前記第２リザーバ延長チャネルとに隣接して配置される請求の範囲第９項記載の分配システム。１１．さらに、（ｂ）コントローラと、（ｃ）フィードスループレートを通って第１リザーバまで延びる供給チャネルと、フィードスループレートを通って延びるリードを備える分配プレートの頂部に取り付けた前記フィードスループレートとを含み、前記分配プレートは、前記フィードスループレートを通って延びるリードによって前記コントローラに接続された、前記各分配チャネルにおけるポンプを備える請求の範囲第４項記載の分配システム。１２．さらに、（ｄ）分配プレートの下方に位置決め可能な１つ以上の反応セルを有する反応ウェルプレートを含み、前記分配プレートが、ポンプを制御して液体を前記分配チャネルから前記反応セルまで移動させることができる導管を備える請求の範囲第１１項記載の分配システム。１３．前記第１液体レベル維持手段が、前記第１充填レベルを超える液体を排出する前記各第１リザーバに接続されたオーバーフロー放出チャネルを備える請求の範囲第１１項記載の分配システム。１４．前記分配プレート内の各ポンプが、第１電極と第２電極を備え、前記コントローラが前記ポンプにパルス電圧を送ることにより、圧送を引き起こす、請求の範囲第１１項記載の分配システム。１５．前記コントローラは、１種類以上の液体を圧送するための圧送プログラムのデータベースを備える電気データ貯蔵デバイスを備える、請求の範囲第１４項記載の分配システム。１６．１個以上のポンプが、更に、第３電極を備え、３個の電極ポンプのために、前記コントローラは（ｉ）第１および第２電極を横切るパルス電圧を送ることができる、または（ｉｉ）第１および第３電極を横切るパルス電圧を送ることができる、請求の範囲第１４項記載の分配システム。１７．（ａ）リザーバと、（ｂ）キャピラリーバリアを有する前記リザーバによってアドレス可能なチャネルと；を備える液体分配システム。１８．前記キャピラリーバリアが堰を備える請求の範囲第１７項記載の液体分配システム。１９．前記キャピラリーバリアが１つ以上の上方向きの鋭いエッジを備える、請求の範囲第１７項記載の液体分配システム。２０．さらに、キャピラリーバリアを通る流体を圧送するためのチャネルに関連するポンプを備える、請求の範囲第１項記載の液体分配システム。２１．さらに、反応ウエルと、キャピラリーバリアの流出口から反応ウエルへの導管とを備える、請求の範囲第２０項記載の液体分配システム。２２．前記ポンプが電極ベースポンプである、請求の範囲第２１項記載の液体分配システム。２３．流体分配システムであって、１本以上の連続流チャネルを含み、前記各連続流チャネルは、上流端と下流端とを有し、前記連続流チャネルは前記下流端にオープンゾーンを有し、さらに、前記各連続流チャネルのために、前記オープンゾーンの前記連続流チャネルから離れて延びる分岐チャネルと、前記各連続流チャネルのために、前記分岐チャネル流入口の下流に配置したオープンゾーン内の流れを制限するためのアルファコンストリクタとを含み、液体が連続流チャネルのひとつを通って上流端から下流端に流れる場合は、アルファコンストリクタが作動していなければ、第１の比例量の流体が分岐チャネルへと転じ、アルファコンストリクタが作動していれば、前記第１の比例量よりも大きい第２の比例量が分岐チャネルへ流入する、液体分配システム。２４．さらに、少なくとも１本の分岐チャネル用に、前記分岐チャネルを通る流れを制限するベータコンストリクタを備える、請求の範囲第２３項記載の分配システム。２５．前記システムが２本以上の連続流チャネルを有し、さらに、関係する分岐チャネルを介し、少なくとも２本の連続流チャネルによってアドレス可能な緩衝液チャネルを備える、請求の範囲第２３項記載の分配システム。２６．さらに、反応セルを含み、前記緩衝液チャネルが、反応セル導管およびオーバーフロー導管に接続する、請求の範囲第２５項記載の分配システム。２７．前記反応セル導管がガンマコンストリクタを有し、前記オーバーフロー導管がデルタコンストリクタを有する、請求の範囲第２６項記載の分配システム。２８．分配システムであって、反応セルと、２本以上のフィーダーチャネルと、前記各フィーダーチャネルを、反応セルに接続するための別の導管と、各導管のための膨張弁とを含み、前記膨張弁は、前記導管の断面を満たして、前記導管を通る流体流を妨げる膨張状態と、前記導管を通って流体が流れるのを許容する収縮状態とを有する、分配システム。２９．さらに、少なくとも約２個のセルを備え、前記各セルは、バブル膨張弁をそれぞれが有する導管を介して２本以上のフィーダーチャネルによって個別にアドレス可能である、請求の範囲第２８項記載の分配システム。３０．少なくとも１の導管が、２個以上の膨張弁を有する、請求の範囲第２８項記載の分配システム。３１．少なくとも１本の導管が、前記接続したフィーダーチャネルから前記反応セルへの液体圧送に共働して作動できる３個以上の膨張弁を有する、請求の範囲第３０記載の分配システム。３２．液体分配システムであって、各々がフィーダーチャネル流入口およびフィーダーチャネル流出口と、かようなフィーダーチャネルに接続された分配チャネルとで作られた１本以上の前記フィーダーチャネルを含み、前記各フィーダーチャネルが、フィーダーチャネル流入口と、フィーダーチャネル流出口と、接続された分配チャネルとに接続する三方ジャンクションを有し、前記分配チャネルは反応セルと接続し、さらに、かかる各三方ジャンクションのための、前記フィーダーチャネル流入口における、またはフィーダーチャネル流出口における第１電極ベースのポンプと、かかる各三方ジャンクションのための、前記分配チャネルにおける第２電極ベースのポンプとを含み、第１電極ベースのポンプと前記第２電極ベースのポンプに印加された電圧は、（ａ）フィーダーチャネルのうちの１つのフィーダーチャネル内の液体が、接続した分配チャネルへの第１の流量で以って、前記フィーダーチャネルの前記フィーダーチャネル流入口から前記フィーダーチャネルの前記フィーダーチャネル流出口に移動され得るように、または（ｂ）前記第１の流量よりも多い第２の流量が、前記接続した分配チャネルを介して進行するように選択される、液体分配システム。３３．少なくとも１つのかかる三方ジャンクションのために、前記フィーダーチャネル流入口または前記フィーダーチャネル流出口の何れかが第１電極ベースポンプを欠いていても、第３電極ベースのポンプが存在する、請求の範囲第３２項記載の分配システム。３４．１本以上の分配チャネルがキャピラリーバリアを有する、請求の範囲第３２項記載の分配システム。３５．前記三方分岐点での１本以上の前記分配チャネルの開口の幅は、前記接続したフィーダーチャネルの幅の約５０％以下である、請求の範囲第３２項記載の分配システム。３６．検定に関与する化学合成または化学反応のための反応を行うのに適した液体分配システムであって、反応セルと、前記反応セルに接続したチャネルと、第１電極、第２電極および第３電極を備えるチャネル中に設けたポンプを備える、液体分配システム。３７．前記第１電極と前記第２電極とは、約１００ミクロンと２５００ミクロンの間で離間し、前記第３電極と、前記第１または前記第２電極のうち最も近いものとの間隔が約１００ミクロンと１０００ミクロンの間である、請求の範囲第３６項記載の分配システム。３８．前記第１電極と前記第２電極とは、約２５０ミクロンと１０００ミクロンの間で離間し、前記第３電極と、前記第１または前記第２電極のうちの最も近いものとの間隔が約２５０ミクロンと１０００ミクロンの間である、請求の範囲第３６項記載の分配システム。３９．さらに、ポンプの作動を制御するコントローラを含み、前記コントローラーがポンプ内の任意の電極対を作動させることができる、請求の範囲第３６項記載の分配システム。４０．前記コントローラは、１種類以上の液体のための圧送プロトコルを貯蔵する情報貯蔵手段を含み、前記各液体の貯蔵されたプロトコルは、前記プロトコルの液体を圧送するために適切なポンプ電極対の指定を含む、請求の範囲第３９項記載の分配システム。４１．電極ベースのポンプが第１電極と第２電極を備え、前記第１電極と前記第２電極の直径は約２５ミクロンから約１００ミクロンであり、前記両電極は、約１００ミクロンから約２５００ミクロン離間する、電極ベースのポンプ。４２．前記ポンプが、キャピラリ寸法の流体チャネル内に位置する、請求の範囲第４１項記載の電極ベースのポンプ。４３．前記第１電極と前記第２電極が、約１５０ミクロン乃至約１０００ミクロン離間する、請求の範囲第４２項記載の電極ベースのポンプ。４４．前記第１電極と前記第２電極が、約２５０ミクロン乃至約１０００ミクロン離間する、請求の範囲第４２項記載の電極ベースのポンプ。４５．前記第１電極と前記第２電極が、約１５０ミクロン乃至約２５０ミクロン離間する、請求の範囲第４２項記載の電極ベースのポンプ。４６．第１電極、第２電極および第３電極を備える、電極ベースのポンプ。４７．前記ポンプが、キャピラリ寸法である流体チャネル内に位置する、請求の範囲第項４６に記載の電極ベースのポンプ。４８．前記第１電極と前記第２電極は、約１００ミクロン乃至約２５００ミクロン離間し、前記第３電極は、前記第１電極から約２００ミクロン乃至約５０００ミクロン離間するとともに前記第２電極のより近くにある、請求の範囲第４７項記載の電極ベースのポンプ。４９．前記第３電極は、前記第１電極から約５００ミクロン乃至約１５００ミクロン離間する、請求の範囲第４８項記載の電極ベースのポンプ。５０．さらに、第４電極を備える、請求の範囲第４７項記載の電極ベースのポンプ。５１．前記第３電極と前記第４電極は、約２００ミクロン乃至約５０００ミクロン離間する、請求の範囲第５０項記載の電極ベースのポンプ。５２．前記第１電極と前記第２電極は、前記第３電極と前記第４電極との間に位置決めされる、請求の範囲第５１項記載の電極ベースのポンプ。５３．前記第１電極と前記第２電極は、約１００ミクロン乃至約１５００ミクロン離間する、請求の範囲第５１項記載の電極ベースのポンプ。５４．前記第３電極と前記第４電極は、約５００ミクロン乃至約１５００ミクロン離間する、請求項５１に記載の電極ベースのポンプ。５５．液体の界面動電圧送パラメータを変更する方法であって、（ａ）圧送圧力、圧送流量、添加剤による電気的効率、に基づいて圧送添加剤を選択するステップと、（ｂ）前記圧送添加剤を前記液体と混合して、（ｉ）改良された、圧送圧力、圧送流量、または電気的効率を有する、または（ｉｉ）圧送添加剤のない状態で、前記液体の方向とは反対方向への圧送を優先する、混合物を得るステップとを有する、液体の界面動電圧送パラメータを変更する方法。５６．得られた前記混合物が、前記液体とは反対の流れ優先性を有する、請求の範囲第５５項記載の方法。５７．得られた前記混合物が、改良された圧送圧力、圧送流量または電気的効率を有する、請求の範囲第５５項記載の方法。５８．前記圧送添加剤が、混合物の約０.０５％ｗ／ｗ乃至約１０％ｗ／ｗである、請求の範囲第５５項記載の方法。５９．前記圧送添加剤が、混合物の約０.１％ｗ／ｗ乃至約５％ｗ／ｗである、請求の範囲第５８項記載の方法。６０．前記圧送添加剤が、混合物の約０.１％ｗ／ｗ乃至約１％ｗ／ｗである、請求の範囲第５９項記載の方法。【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項【提出日】平成８年６月５日（１９９６．６．５）【補正内容】１０．さらに、１本以上の緩衝液チャネルを備え、少なくとも１本の前記緩衝液チャネルが、少なくとも２本の前記第１分配チャネルと少なくとも１本の前記第２リザーバ延長チャネルとに隣接して配置される請求の範囲第９項記載の分配システム。１１．さらに、（ｂ）コントローラと、（ｃ）フィードスループレートを通って第１リザーバまで延びる供給チャネルと、フィードスループレートを通って延びるリードを備える分配プレートの頂部に取り付けた前記フィードスループレートとを含み、前記分配プレートは、前記フィードスループレートを通って延びるリードによって前記コントローラに接続された、前記各分配チャネルにおけるポンプを備える請求の範囲第４項記載の分配システム。１２．さらに、（ｄ）分配プレートの下方に位置決め可能な１つ以上の反応セルを有する反応ウェルプレートを含み、前記分配プレートが、ポンプを制御して液体を前記分配チャネルから前記反応セルまで移動させることができる導管を備える請求の範囲第１１項記載の分配システム。１３．前記第１液体レベル維持手段が、前記第１充填レベルを超える液体を排出する前記各第１リザーバに接続されたオーバーフロー放出チャネルを備える請求の範囲第１１項記載の分配システム。１４．前記分配プレート内の各ポンプが、第１電極と第２電極を備え、前記コントローラが前記ポンプにパルス電圧を送ることにより、圧送を引き起こす、請求の範囲第１１項記載の分配システム。１５．前記コントローラは、１種類以上の液体を圧送するための圧送プログラムのデータベースを備える電気データ貯蔵デバイスを備える、請求の範囲第１４項記載の分配システム。１６．１個以上のポンプが、更に、第３電極を備え、３個の電極ポンプのために、前記コントローラは（ｉ）第１および第２電極を横切るパルス電圧を送ることができる、または（ｉｉ）第１および第３電極を横切るパルス電圧を送ることができる、請求の範囲第１４項記載の分配システム。１７．（ａ）リザーバと、（ｂ）キャピラリーバリアを有する前記リザーバによってアドレス可能なチャネルと；を備える液体分配システム。１８．前記キャピラリーバリアが堰を備える請求の範囲第１７項記載の液体分配システム。１９．前記キャピラリーバリアが１つ以上の上方向きの鋭いエッジを備える、請求の範囲第１７項記載の液体分配システム。２０．さらに、キャピラリーバリアを通る流体を圧送するためのチャネルに関連するポンプを備える、請求の範囲第１項記載の液体分配システム。２１．さらに、反応ウエルと、キャピラリーバリアの流出口から反応ウエルへの導管とを備える、請求の範囲第２０項記載の液体分配システム。２２．前記ポンプが電極ベースポンプである、請求の範囲第２１項記載の液体分配システム。２３．流体分配システムであって、１本以上の連続流チャネルを含み、前記各連続流チャネルは、上流端と下流端とを有し、前記連続流チャネルは前記下流端にオープンゾーンを有し、さらに、前記各連続流チャネルのために、前記オープンゾーンの前記連続流チャネルから離れて延びる分岐チャネルと、前記各連続流チャネルのために、前記分岐チャネル流入口の下流に配置したオープンゾーン内の流れを制限するためのアルファコンストリクタとを含み、液体が連続流チャネルのひとつを通って上流端から下流端に流れる場合は、アルファコンストリクタが作動していなければ、第１の比例量の流体が分岐チャネルへと転じ、アルファコンストリクタが作動していれば、前記第１の比例量よりも大きい第２の比例量が分岐チャネルへ流入する、液体分配システム。２４．さらに、少なくとも１本の分岐チャネル用に、前記分岐チャネルを通る流れを制限するベータコンストリクタを備える、請求の範囲第２３項記載の分配システム。２５．前記システムが２本以上の連続流チャネルを有し、さらに、関係する分岐チャネルを介し、少なくとも２本の連続流チャネルによってアドレス可能な緩衝液チャネルを備える、請求の範囲第２３項記載の分配システム。２６．さらに、反応セルを含み、前記緩衝液チャネルが、反応セル導管およびオーバーフロー導管に接続する、請求の範囲第２５項記載の分配システム。２７．前記反応セル導管がガンマコンストリクタを有し、前記オーバーフロー導管がデルタコンストリクタを有する、請求の範囲第２６項記載の分配システム。２８．分配システムであって、反応セルと、２本以上のフィーダーチャネルと、前記各フィーダーチャネルを、反応セルに接続するための別の導管と、各導管のための膨張弁とを含み、前記膨張弁は、前記導管の断面を満たして、前記導管を通る流体流を妨げる膨張状態と、前記導管を通って流体が流れるのを許容する収縮状態とを有する、分配システム。２９．さらに、少なくとも約２個のセルを備え、前記各セルは、バブル膨張弁をそれぞれが有する導管を介して２本以上のフィーダーチャネルによって個別にアドレス可能である、請求の範囲第２８項記載の分配システム。３０．少なくとも１の導管が、２個以上の膨張弁を有する、請求の範囲第２８項記載の分配システム。３１．少なくとも１本の導管が、前記接続したフィーダーチャネルから前記反応セルへの液体圧送に共働して作動できる３個以上の膨張弁を有する、請求の範囲第３０記載の分配システム。３２．液体分配システムであって、各々がフィーダーチャネル流入口およびフィーダーチャネル流出口と、かようなフィーダーチャネルに接続された分配チャネルとで作られた１本以上の前記フィーダーチャネルを含み、前記各フィーダーチャネルが、フィーダーチャネル流入口と、フィーダーチャネル流出口と、接続された分配チャネルとに接続する三方ジャンクションを有し、前記分配チャネルは反応セルと接続し、さらに、かかる各三方ジャンクションのための、前記フィーダーチャネル流入口における、またはフィーダーチャネル流出口における第１電極ベースのポンプと、かかる各三方ジャンクションのための、前記分配チャネルにおける第２電極ベースのポンプとを含み、第１電極ベースのポンプと前記第２電極ベースのポンプに印加された電圧は、（ａ）フィーダーチャネルのうちの１つのフィーダーチャネル内の液体が、接続した分配チャネルへの第１の流量で以って、前記フィーダーチャネルの前記フィーダーチャネル流入口から前記フィーダーチャネルの前記フィーダーチャネル流出口に移動され得るように、または（ｂ）前記第１の流量よりも多い第２の流量が、前記接続した分配チャネルを介して進行するように選択される、液体分配システム。３３．少なくとも１つのかかる三方ジャンクションのために、前記フィーダーチャネル流入口または前記フィーダーチャネル流出口の何れかが第１電極ベースポンプを欠いていても、第３電極ベースのポンプが存在する、請求の範囲第３２項記載の分配システム。３４．１本以上の分配チャネルがキャピラリーバリアを有する、請求の範囲第３２項記載の分配システム。３５．前記三方分岐点での１本以上の前記分配チャネルの開口の幅は、前記接続したフィーダーチャネルの幅の約５０％以下である、請求の範囲第３２項記載の分配システム。３６．検定に関与する化学合成または化学反応のための反応を行うのに適した液体分配システムであって、反応セルと、前記反応セルに接続したチャネルと、第１電極、第２電極および第３電極を備えるチャネル中に設けたポンプを備える、液体分配システム。３７．前記第１電極と前記第２電極とは、約１００ミクロンと２５００ミクロンの間で離間し、前記第３電極と、前記第１または前記第２電極のうち最も近いものとの間隔が約１００ミクロンと１０００ミクロンの間である、請求の範囲第３６項記載の分配システム。３８．前記第１電極と前記第２電極とは、約２５０ミクロンと１０００ミクロンの間で離間し、前記第３電極と、前記第１または前記第２電極のうちの最も近いものとの間隔が約２５０ミクロンと１０００ミクロンの間である、請求の範囲第３６項記載の分配システム。３９．さらに、ポンプの作動を制御するコントローラを含み、前記コントローラーがポンプ内の任意の電極対を作動させることができる、請求の範囲第３６項記載の分配システム。４０．前記コントローラは、１種類以上の液体のための圧送プロトコルを貯蔵する情報貯蔵手段を含み、前記各液体の貯蔵されたプロトコルは、前記プロトコルの液体を圧送するために適切なポンプ電極対の指定を含む、請求の範囲第３９項記載の分配システム。４１．電極ベースのポンプが第１電極と第２電極を備え、前記第１電極と前記第２電極の直径は約２５ミクロンから約１００ミクロンであり、前記両電極は、約１００ミクロンから約２５００ミクロン離間する、電極ベースのポンプ。４２．前記ポンプが、キャピラリ寸法の流体チャネル内に位置する、請求の範囲第４１項記載の電極ベースのポンプ。４３．前記第１電極と前記第２電極が、約１５０ミクロン乃至約１０００ミクロン離間する、請求の範囲第４２項記載の電極ベースのポンプ。４４．前記第１電極と前記第２電極が、約２５０ミクロン乃至約１０００ミクロン離間する、請求の範囲第４２項記載の電極ベースのポンプ。４５．前記第１電極と前記第２電極が、約１５０ミクロン乃至約２５０ミクロン離間する、請求の範囲第４２項記載の電極ベースのポンプ。４６．第１電極、第２電極および第３電極を備える、電極ベースのポンプ。４７．前記ポンプが、キャピラリ寸法である流体チャネル内に位置する、請求の範囲第項４６に記載の電極ベースのポンプ。４８．前記第１電極と前記第２電極は、約１００ミクロン乃至約２５００ミクロン離間し、前記第３電極は、前記第１電極から約２００ミクロン乃至約５０００ミクロン離間するとともに前記第２電極のより近くにある、請求の範囲第４７項記載の電極ベースのポンプ。４９．前記第３電極は、前記第１電極から約５００ミクロン乃至約１５００ミクロン離間する、請求の範囲第４８項記載の電極ベースのポンプ。５０．さらに、第４電極を備える、請求の範囲第４７項記載の電極ベースのポンプ。５１．前記第３電極と前記第４電極は、約２００ミクロン乃至約５０００ミクロン離間する、請求の範囲第５０項記載の電極ベースのポンプ。５２．前記第１電極と前記第２電極は、前記第３電極と前記第４電極との間に位置決めされる、請求の範囲第５１項記載の電極ベースのポンプ。５３．前記第１電極と前記第２電極は、約１００ミクロン乃至約１５００ミクロン離間する、請求の範囲第５１項記載の電極ベースのポンプ。５４．前記第３電極と前記第４電極は、約５００ミクロン乃至約１５００ミクロン離間する、請求項51に記載の電極ベースのポンプ。５５．液体の界面動電圧送パラメータを変更する方法であって、（ａ）圧送圧力、圧送流量、添加剤による電気的効率、に基づいて圧送添加剤を選択するステップと、（ｂ）前記圧送添加剤を前記液体と混合して、（ｉ）改良された、圧送圧力、圧送流量、または電気的効率を有する、または（ｉｉ）圧送添加剤のない状態で、前記液体の方向とは反対方向への圧送を優先する、混合物を得るステップとを有する、液体の界面動電圧送パラメータを変更する方法。５６．得られた前記混合物が、前記液体とは反対の流れ優先性を有する、請求の範囲第５５項記載の方法。５７．得られた前記混合物が、改良された圧送圧力、圧送流量または電気的効率を有する、請求の範囲第５５項記載の方法。５８．前記圧送添加剤が、混合物の約０.０５％ｗ／ｗ乃至約１０％ｗ／ｗである、請求の範囲第５５項記載の方法。５９．前記圧送添加剤が、混合物の約０.１％ｗ／ｗ乃至約５％ｗ／ｗである、請求の範囲第５８項記載の方法。６０．前記圧送添加剤が、混合物の約０.１％ｗ／ｗ乃至約１％ｗ／ｗである、請求の範囲第５９項記載の方法。６１．少なくとも１つの試薬を反応セル中に圧送するための電極ベースのポンプを使用することを含む、反応セルを有する液体分配システム中で合成プロセスを実施する方法。６２．合成プロセスが、小分子、高分子有機化合物、オリゴヌクレオチド又はペプチドを合成するために使用される請求の範囲第６１項記載の方法。６３．試薬が、カルボン酸、カルボジイミド、スルファミド、アミン、アルコール、ピリジン、アゾジカルボキシレートカルバゾール、アゾベンゼン、アミノＮ −オキシド、１，４−ベンゾキノン又はアンモニウムパールテネートである請求の範囲第６１項記載の方法。６４．合成プロセスが、固体支持を使用して実施される請求の範囲第６１項記載の方法。【手続補正書】【提出日】平成１０年１２月２２日（１９９８．１２．２２）【補正内容】請求の範囲１．液体分配システムであって、（ａ）液体源と、（ｂ）前記液体源からの液体を複数の流出口に向けるための、キャピラリーディメンションの流体チャンネルのネットワークを含む基板と、（ｃ）前記基板に組み込まれ、前記液体源からの液体を流出口へ選択的に圧送する、各流出口のためのポンプと、および（ｄ）１つまたはそれ以上のウェルを有し、各ウェルを流出口に整列するために分配プレートの下に取り外し可能に位置決めできるウェルプレートとを備える液体分配システム。２．２つまたはそれ以上の液体源から複数の場所へ液体を選択的に分配する液体分配システムであって、前記システムは、（ａ）液体源と、（ｂ）前記各液体源のための、前記場所の１つへの少なくとも１つの流出口、および前記流出口の外への流れを妨げる各流出口のためのキャピラリーバリアを有し、前記液体源によりアドレス可能なキャピラリーディメンションのチャンネルと、（ｃ）前記キャピラリーバリアを通過した液体を圧送する、各流出口のためのマイクロポンプとを備え、前記ポンプは選択的に動作可能であり、前記ポンプの動作に依存して第１の前記液体源または第２の前記液体源からの液体を少なくとも１つの前記場所が受けることができる液体分配システム。３．前記液体分配システムは、前記場所の１つに各々整列できる複数のウエルを備え、液体は前記複数の液体源から複数のチャネルを介して複数のウエルに選択的に運ばれる請求項２に記載の液体分配システム。４．前記チャネルは基板上に配置され、および／または前記マイクロポンプは基板上に配置され、および／または前記マイクロポンプは電極ベースポンプであり、および／または反応セルは、前記基板の下に取り外し可能に位置決めできるプレート上に配置される請求項３に記載の液体分配システム。５．液体分配システムであって、第１の基板上に配置された複数の液体流入口およびキャピラリーディメンションのチャネルと、チャネルの流出口に各々整列可能な複数のウエルであって、液体は前記複数の液体流入口から複数のチャネルを介して複数のウエルに選択的に運ばれ、第２の基板であって、前記第１の基板の上面は前記第２の基板の底面にシールされており、前記第２の基板を貫通して延びる複数の電気的導管と、および前記電気的導管に接続された複数のマイクロポンプであって、前記ポンプは例えば電気的導管からの２つの電極突出部を各々含む液体分配システム。６．少なくとも１つの試薬を反応セル中に圧送するための電極ベースのポンプを使用することを含む、反応セルを有する液体分配システム中で合成プロセスを実施する方法。７．試薬が、カルボン酸、カルボジイミド、スルファミド、アミン、アルコール、ピリジン、アゾジカルボキシレート、カルバゾール、アゾベンゼン、アミノＮ−オキシド、１，４−ベンゾキノンまたはアンモニウムパールテネートである請求項６に記載の液体分配システム。８．合成プロセスが、固体支持を使用して実施される請求項６に記載の液体分配システム。９．アルファ液体源、ベータ液体源およびキャピラリーディメンションのチャネルのシステムを含む基板内に形成される液体分配システムであって、前記システムは、平行でかつ隣接する第１および第２キャピラリーフィーダーチャネルの第１セットと、前記第１および第２フィーダーチャネルからオフセットした平行でかつ隣接する第３および第４キャピラリーフィーダーチャネルの第２セットとを含み、（ａ）前記第１および前記第３フィーダーチャネルは、前記第２および前記第４フィーダーチャネルの上方または下方に位置しかつ前記ベータ液体源とは独立した第１キャピラリーコネクターチャネルによってアルファ液体源に接続され、および（ｂ）前記第２および前記第４のフィーダーチャネルは、前記第１および前記第３フィーダーチャネルの上方または下方に位置しかつ前記アルファ液体源とは独立した第２のキャピラリーコネクターチャネルにより前記ベータ液体源に接続され、前記アルファ液体源が液体で充填されると、前記第１および第２フィーダーチャネルは、前記第１コネクターチャネルを介して毛管現象により液体で充填され、かつ前記ベータ液体源が液体で充填されると、前記第３および第４フィーダーチャネルは、前記第２コネクターチャネルを介して毛管現象により液体で充填される液体分配システム。１０．前記基板は、ガラス、溶融シリカ、石英、シリコンウェハまたはプラスチックである請求項９に記載の液体分配システム。１１．液体を２つまたはそれ以上の場所に向ける液体分配システムであって、（ａ）各々頂部および底部を有する３つまたはそれ以上のプレートを備え、このプレートは、（ｉ）第１プレートおよび第２プレート、および（ｉｉ）分配基板を画成し、各分配基板は頂部から底部に結合された１つまたはそれ以上の分配プレートを含み、前記分配基板の頂部は前記第１プレートの底部に結合され、前記分配基板の底部は第３プレートの頂部に結合され、前記分配基板は、少なくとも２つの第１液体源と、前記第１液体源から延びかつ結合されるキャピラリーディメンションの少なくとも１つの第１フィーダーチャネルセグメントであって、各第１フィーダーチャネルセグメントは前記分配基板のジャンクションおよび前記第２プレートに沿って形成され、および各フィーダーチャネルに接続され、かつ前記分配基板のジャンクションおよび前記第１プレートに沿って形成された、キャピラリーディメンションの少なくとも１つの分配チャネルとを備え、各々の第１液体源に液体を充填し、これにより前記接続された第１フィーダーチャネルセグメントおよび接続された分配チャネルに毛管現象によって液体が充填され、前記第１フィーダーチャネルセグメントおよび接続された分配チャネルを介して、前記場所は前記液体源によってアドレスされる液体分配システム。１２．前記分配基板において、少なくとも４つの第１液体源と、少なくとも２セットの平行でかつ隣接するフィーダーチャネルとを備え、前記各セットにおける各フィーダーチャネルは別々の液体源に接続され、各セットの平行でかつ隣接するフィーダーチャネルは少なくとも２セットの隣接しかつ鉛直な分配チャネルに接続される請求項１１に記載の液体分配システム。１３．（ｂ）前記プレートに取り付けられ、前記チャネルを通って流れる液体の流れを調節するマイクロポンプと、（ｃ）前記マイクロポンプを制御するコントローラーとを備え、前記第１プレートはフィードスループレートであり、このフィードスループレートは、フィードスループレートを通って前記第１液体源に延びる供給チャネルと、前記フィードスループレートを通って延びる電気リードとを含み、前記マイクロポンプは各分配チャネルに配置され、かつ前記フィードスループレートを通って延びる電気リードによって前記コントローラーに接続されている請求項１１に記載の液体分配システム。１４．液体分配システムであって、各々フィーダーチャネルおよび分配チャネルに接続されたフィーダーチャネル流入口およびフィーダーチャネル流出口を各々備えたキャピラリーディメンションの１つまたはそれ以上のフィーダーチャネルであって、前記各フィーダーチャネルは、フィーダーチャネル流入口、フィーダーチャネル流出口および接続された分配チャネルに接続する三方ジャンクションを有し、前記分配チャネルは反応セルと接続し、さらに、かかる各三方ジャンクションのための、前記フィーダーチャネル流入口における、またはフィーダーチャネル流出口における第１電極ベースのポンプと、かかる各三方ジャンクションのための、前記分配チャネルにおける第２電極ベースのポンプとを含み、前記第１電極ベースのポンプと前記第２電極ベースのポンプに印加される電圧は、（ａ）前記フィーダーチャネルのうちの１つのフィーダーチャネル内の液体が、接続した分配チャネルへの第１の流量で、前記フィーダーチャネルの前記フィーダーチャネル流入口から前記フィーダーチャネルの前記フィーダーチャネル流出口に移動され得るように、または（ｂ）前記第１の流量よりも多い第２の流量が、前記接続した分配チャネルを介して進行するように選択される、液体分配システム。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号０８／４８３，３３１ (32)優先日平成７年６月７日(1995．6．7) (33)優先権主張国米国（ＵＳ） (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ)，ＡＭ，ＡＵ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＮ，ＣＺ，ＥＥ，ＦＩ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＴ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＮ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＺ，ＶＮ (72)発明者マクブライド，スターリング，イー. アメリカ合衆国ニュージャージー州ローレンスヴィルフィールドクレストコート 4124 (72)発明者デマーズ，ロバート，アール. アメリカ合衆国ニュージャージー州クランブリーエヴァンズドライヴ 26 (72)発明者リヴァイン，エアロン，ダブリュー. アメリカ合衆国ニュージャージー州ローレンスヴィルスプリングウッドドライヴ６【要約の続き】バに接続している。前記分配システムは微細スケール分配システムであることが望ましい。液体分配システム中に流れを制御するための種々の特定のメカニズムが記載されている。

Claims

【特許請求の範囲】１．分配システムであって、アルファリザーバおよびベータリザーバと、平行でかつ隣接する第１および第２フィーダーチャネルの第１のセットおよび前記第１および前記第２フィーダーチャネルからオフセットした平行でかつ隣接する第３および第４フィーダーチャネルの第２のセットを含み、（ａ）前記第１および前記第３フィーダーチャネルは、前記第２および前記第４フィーダーチャネルの上方または下方に位置しかつベータリザーバとは独立した第１コネクターチャネルによってアルファリザーバに接続され、（ｂ）前記第２および前記第４フィーダーチャネルは、前記第１および前記第３フィーダーチャネルの上方または下方に位置しかつアルファリザーバとは独立した第２コネクターチャネルによりベータリザーバに接続されている、分配システム。２．前記第１および前記第２フィーダーチャネルが、各々２個以上の反応セルの第１のセットに接続され、かつ前記第３および前記第４フィーダーチャネルが、各々２個以上の反応セルの第２のセットに接続された請求の範囲第１項記載の分配システム。３．前記第１および前記第２フィーダーチャネルのセットのフィーダーチャネルが、相互に平行である請求の範囲第２項記載の分配システム。４．液体分配システムであって、前記液体分配システムは（ａ）分配プレートを含み、前記分配プレートが、共通の第１充填レベルを有する少なくとも２つの第１リザーバと、前記各フィーダーチャネルは水平フィーダーチャネルセグメントを有し、前記水平フィーダーチャネルセグメントの頂部は前記第１充填レベルの下方にある、前記第１リザーバの各々に接続されて、そこから延びる少なくとも１本のフィーダーチャネルと、前記各フィーダーチャネルに接続し、かつ前記第１充填レベルと実質的に同じ高さの第２充填レベルを有する少なくとも１本の分配チャネルと、前記第１充填レベルまで前記各第１リザーバを充填することにより、前記接続されたフィーダーチャネルが充填され、前記接続された分配チャネルを第２充填レベルまで充填する、前記各第１リザーバの液体レベルを前記第１充填レベルに維持するための第１液体レベル維持手段とを含む液体分配システム。５．前記分配プレートにおいて、前記少なくとも２個の第２リザーバの各々からの１本のフィーダーチャネルが、他方と互いに平行に隣接する請求の範囲第４項記載の分配システム。６．前記平行なフィーダーチャネルの各々が、前記平行なフィーダーチャネルの水平フィーダーチャネルセグメントに鉛直に位置する別の分配チャネルに接続され、かつ接続された前記各分配チャネルが、他方と互いに平行に隣接する請求の範囲第５項記載の分配システム。７．前記分配プレートに、少なくとも４つの第１リザーバと、少なくとも２セットの平行に隣接するフィーダーチャネルとを備え、前記各セットにおける各フィーダーチャネルは別のリザーバに接続され、平行に隣接したフィーダーチャネルは、隣接し鉛直な分配チャネルの少なくとも２セットに接続する請求の範囲第６項記載の分配システム。８．前記分配プレートにおいて、前記第１リザーバに接続する前記水平フィーダーチャネルセグメント互いに実質的に平行であり、前記分配プレートは１つ以上の前記第２リザーバを備え、前記各第２リザーバは第３充填レベルを有し、前記各分配プレートは、更に、前記各第２リザーバにおける液体レベルを前記第３充填レベルに維持する第２液体レベル維持手段と、頂部が前記第３充填レベルと実質的に同じ高さである第２リザーバ延長チャネルとを備える、請求の範囲第４項記載の分配システム。９．前記第２リザーバ延長チャネルが、水平フィーダーチャネルセグメントに対して実質的に鉛直であって、１本以上の前記第２リザーバ延長チャネルが、各々、少なくとも１の水平フィーダーチャネルセグメントの上方を横切る、請求の範囲第８項記載の分配システム。１０．さらに、１本以上の緩衝液チャネルを備え、少なくとも１本の前記緩衝液チャネルが、少なくとも２本の前記第１分配チャネルと少なくとも１本の前記第２リザーバ延長チャネルとに隣接して配置される請求の範囲第９項記載の分配システム。１１．さらに（ｂ）コントローラと、（ｃ）フィードスループレートを通って第１リザーバまで延びる供給チャネルと、フィードスループレートを通って延びるリードを備える分配プレートの頂部に取り付けた前記フィードスループレートとを含み、前記分配プレートが、前記フィードスループレートを通って延びるリードによって前記コントローラに接続された、前記各分配チャネルにおけるポンプを備える請求の範囲第４項記載の分配システム。１２．さらに（ｄ）分配プレートの下方に位置決め可能な１つ以上の反応セルを有する反応ウェルプレートを含み、前記分配プレートが、ポンプを制御して液体を前記分配チャネルから前記反応セルまで移動させることができる導管を備える請求の範囲第１１項記載の分配システム。１３．前記第１液体レベル維持手段が、前記第１充填レベルを超える液体を排出する前記各第１リザーバに接続されたオーバーフロー放出チャネルを備える請求の範囲第１１項記載の分配システム。１４．前記分配プレート内の各ポンプが、第１電極と第２電極を備え、前記コントローラが前記ポンプにパルス電圧を送ることにより、圧送を引き起こす請求の範囲第１１項記載の分配システム。１５．前記コントローラが、１種類以上の液体を圧送するための圧送プログラムのデータベースを備える電気データ貯蔵デバイスを備える請求の範囲第１４項記載の分配システム。１６．１個以上のポンプが、更に、第３電極を備え、３個の電極ポンプのために、前記コントローラは（ｉ）第１および第２電極を横切るパルス電圧を送ることができる、または（ｉｉ）第１および第３電極を横切るパルス電圧を送ることができる請求の範囲第１４項記載の分配システム。１７．（ａ）リザーバと、（ｂ）キャピラリーバリアを有する前記リザーバによってアドレス可能なチャネルと；を備える液体分配システム。１８．前記キャピラリーバリアが堰を備える請求の範囲第１７項記載の液体分配システム。１９．前記キャピラリーバリアが１つ以上の上方向きの鋭いエッジを備える請求の範囲第１７項記載の液体分配システム。２０．さらにキャピラリーバリアを通る流体を圧送するためのチャネルに関連するポンプを備える請求の範囲第１項記載の液体分配システム。２１．さらに反応ウエルと、キャピラリーバリアの流出口から反応ウエルへの導管とを備える請求の範囲第２０項記載の液体分配システム。２２．前記ポンプが電極ベースポンプである請求の範囲第２０項記載の液体分配システム。２３．流体分配システムであって、１本以上の連続流チャネルを含み、前記各連続流チャネルが、上流端と下流端とを有し、前記連続流チャネルは前記下流端にオープンゾーンを有し、さらに、前記各連続流チャネルのために、前記オープンゾーンの前記連続流チャネルから離れて延びる分岐チャネルと、前記各連続流チャネルのために、前記分岐チャネル流入口の下流に配置したオープンゾーン内の流れを制限するためのアルファコンストリクタとを含み、液体が連続流チャネルのひとつを通って上流端から下流端に流れる場合は、アルファコンストリクタが作動していなければ、第１の比例量の流体が分岐チャネルへと転じ、アルファコンストリクタが作動していれば、前記第１の比例量よりも大きい第２の比例量が分岐チャネルへ流入する、液体分配システム。２４．さらに、少なくとも１本の分岐チャネル用に、前記分岐チャネルを通る流れを制限するベータコンストリクタを含む請求の範囲第２３項記載の分配システム。２５．前記システムが２本以上の連続流チャネルを有し、さらに、関係する分岐チャネルを介し、少なくとも２本の連続流チャネルによってアドレス可能な緩衝液チャネルを含む請求の範囲第２３項記載の分配システム。２６．さらに、反応セルを含み、前記緩衝液チャネルが、反応セル導管およびオーバーフロー導管に接続する請求の範囲第２５項に記載の分配システム。２７．前記反応セル導管がガンマコンストリクタを有し、前記オーバーフロー導管がデルタコンストリクタを有する請求の範囲第２６項記載の分配システム。２８．分配システムであって、反応セルと、２本以上のフィーダーチャネルと、前記各フィーダーチャネルを、反応セルに接続するための別の導管と、各導管のための膨張弁とを含み、前記膨張弁は、前記導管の断面を満たして、前記導管を通る流体流を妨げる膨張状態と、前記導管を通って流体が流れるのを許容する収縮状態とを有する分配システム。２９．さらに、少なくとも約２個のセルを備え、前記各セルは、バブル膨張弁をそれぞれが有する導管を介して２本以上のフィーダーチャネルによって個別にアドレス可能である、請求の範囲第２８項記載の分配システム。３０．少なくとも１の導管が、２個以上の膨張弁を有する請求の範囲第２８項記載の分配システム。３１．少なくとも１本の導管が、前記接続したフィーダーチャネルから前記反応セルへの液体圧送に共働して作動できる３個以上の膨張弁を有する請求の範囲第３０項記載の分配システム。３２．液体分配システムであって、各々がフィーダーチャネル流入口およびフィーダーチャネル流出口と、かようなフィーダーチャネルに接続された分配チャネルとで作られた１本以上の前記フィーダーチャネルを含み、前記各フィーダーチャネルが、フィーダーチャネル流入口と、フィーダーチャネル流出口と、接続された分配チャネルとに接続する三方ジャンクションを有し、前記分配チャネルは反応セルと接続し、さらに、かかる各三方ジャンクションのための、前記フィーダーチャネル流入口における、またはフィーダーチャネル流出口における第１電極ベースのポンプと、かかる各三方ジャンクションのための、前記分配チャネルにおける第２電極ベースのポンプとを含み、第１電極ベースのポンプと前記第２電極ベースのポンプに印加された電圧は、（ａ）フィーダーチャネルのうちの１つのフィーダーチャネル内の液体が、接続した分配チャネルへの第１の流量で以って、前記フィーダーチャネルの前記フィーダーチャネル流入口から前記フィーダーチャネルの前記フィーダーチャネル流出口に移動され得るように、または（ｂ）前記第１の流量よりも多い第２の流量が、前記接続した分配チャネルを介して進行するように選択される、液体分配システム。３３．少なくとも１つのかかる三方ジャンクションのために、前記フィーダーチャネル流入口または前記フィーダーチャネル流出口の何れかが第１電極ベースポンプを欠いていても、第３電極ベースのポンプが存在する、請求の範囲第３２項記載の分配システム。３４．１本以上の分配チャネルがキャピラリーバリアを有する請求の範囲第３２項記載の分配システム。３５．前記三方分岐点での１本以上の前記分配チャネルの開口の幅は、前記接続したフィーダーチャネルの幅の約５０％以下である請求の範囲第３２項記載の分配システム。３６．検定に関与する化学合成または化学反応のための反応を行うのに適した液体分配システムであって、反応セルと、前記反応セルに接続したチャネルと、第１電極、第２電極および第３電極を備えるチャネル中に設けたポンプを備える液体分配システム。３７．前記第１電極と前記第２電極とは、約１００ミクロンと２５００ミクロンの間で離間し、前記第３電極と、前記第１または前記第２電極のうち最も近いものとの間隔が約１００ミクロンと１０００ミクロンの間である請求の範囲第３６項記載の分配システム。３８．前記第１電極と前記第２電極とは、約２５０ミクロンと１０００ミクロンの間で離間し、前記第３電極と、前記第１または前記第２電極のうちの最も近いものとの間隔が約２５０ミクロンと１０００ミクロンの間である請求の範囲第３６項記載の分配システム。３９．さらに、ポンプの作動を制御するコントローラを備え、前記コントローラーがポンプ内の任意の電極対を作動させることができる請求の範囲第３６項記載の分配システム。４０．前記コントローラは、１種類以上の液体のための圧送プロトコルを貯蔵する情報貯蔵手段を備え;前記各液体の貯蔵されたプロトコルは、前記プロトコルの液体を圧送するために適切なポンプ電極対の指定を含む請求の範囲第３９項記載の分配システム。