JP2002201964A5 - - Google Patents

Description

噴射問題の別の手法では、プレナム壁は十分に厚く作られ、必要な場所と角度で傾斜した通路に穴あけする。この解決は実施可能であるが、厚い壁のプレナムを用いることが必要であり、構造に必要以上の重量を付加することになる。さらに別の手法では、必要な通路を穴あけされたリングが、プレナム壁に溶接され、該壁の一部を形成している。この手法は実施可能であるが、溶接が必要とされるため、実施するのに費用がかかり、また必要以上の重量を付加することになる。通路の大きさ及び配向の変更は困難であり、リングを取り替えることが必要になる。
米国特許４，７００，５４４公報

Claims (11)

1. 外面（２６）をもつプレナム壁（２４）と、
   前記外面（２６）に平行な局部接線方向（２８）と、
   前記外面（２６）に垂直な局部垂線方向（３０）とを有するプレナム（２２）と、
   前記プレナム壁（２４）内のプレナム開口部（３４）と、
   前記プレナム開口部（３４）に重なる位置に配設された噴射器（３６）と、を備え、
   該噴射器（３６）は、前記プレナム壁（２４）に取り付けられた噴射器ブロック（３８）と、前記噴射器ブロック（３８）と前記プレナム壁（２４）との間の接合部（４０）と、前記噴射器ブロック（３８）を通って噴射器通路入口（４４）から噴射器通路出口（４６）へ延びる少なくとも一つの噴射器通路（４２）と、を含み、
   各々の前記噴射器通路出口（４６）は、前記局部垂線方向（３０）から離れ前記局部接線方向（２８）に向かう０度より大きい噴射角度で配向されている、ことを特徴とするガス噴射器システム（２０）。
2. 環状中心線（５６）と、
   外面（２６）をもつプレナム壁（２４）と、
   前記外面（２６）に平行な周方向の局部接線方向（２８）と、
   前記外面（２６）に垂直な局部垂線方向（３０）とを有する環状プレナム（５４）と、
   前記環状プレナム（５４）の周方向バンド（５５）に沿って間隔を置いて配設された、前記環状プレナム（５４）の壁内の複数のプレナム開口部（３４）と、
   各々が前記プレナム開口部（３４）の一つに重なる位置に配設されている複数の噴射器（３６）と、を含み、
   各々の該噴射器（３６）は、前記プレナム壁（２４）に取り付けられた噴射器ブロック（３８）と、前記噴射器ブロック（３８）と前記プレナム壁（２４）との間の接合部（４０）と、前記噴射器ブロック（３８）を通って噴射器通路入口（４４）から噴射器通路出口（４６）へ延びる少なくとも一つの噴射器通路（４２）と、を含み、
   各々の前記噴射器通路出口（４６）は、前記局部垂線方向（３０）から離れ前記周方向の局部接線方向（２８）に向かう０度より大きい噴射角度で配向されている、ことを特徴とするガス噴射器システム（２０）。
3. 前記プレナム（２２）が薄板金でできていることを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載のガス噴射器システム（２０）。
4. 前記噴射器通路（４２）がまっすぐであることを特徴とする、請求項１に記載のガス噴射器システム（２０）。
5. 前記噴射器通路（４２）は断面が円形であることを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載のガス噴射器システム（２０）。
6. 前記噴射器通路（４２）の断面の大きさが一定でないことを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載のガス噴射器システム（２０）。
7. 噴射角度が約５０度から約７０度までであることを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載のガス噴射器システム（２０）。
8. 接合部（４０）が蝋付けされた接合部（４０）であることを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載のガス噴射器システム（２０）。
9. 前記プレナム開口部（３４）は、面積が前記噴射器通路入口（４４）より大きいことを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載のガス噴射器システム（２０）。
10. ガス噴射器システム（２０）を製造する方法であって、噴射器通路入口（４４）から噴射器通路出口（４６）へ貫通して延びる噴射器通路（４２）を有する噴射器ブロック（３８）を製造する段階と、外面（２６）を有するプレナム壁（２４）と、該プレナム壁（２４）を貫通するプレナム開口部（３４）とを有するガスプレナム（２２）を設ける段階と、前記噴射器ブロック（３８）を、前記プレナム開口部（３４）の上に重なる位置で前記プレナム壁（２４）に取り付ける段階と、を含むことを特徴とする方法。
11. 前記製造する段階が、内部に設けられた噴射器通路と共に噴射器ブロックを鋳造する段階、を含むことを特徴とする、請求項９に記載の方法。