JP2003075615A - 一体型光学構造を有する多軸干渉計と偏菱形組立体の製造方法 - Google Patents
一体型光学構造を有する多軸干渉計と偏菱形組立体の製造方法Info
- Publication number
- JP2003075615A JP2003075615A JP2002162878A JP2002162878A JP2003075615A JP 2003075615 A JP2003075615 A JP 2003075615A JP 2002162878 A JP2002162878 A JP 2002162878A JP 2002162878 A JP2002162878 A JP 2002162878A JP 2003075615 A JP2003075615 A JP 2003075615A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rhomboid
- interferometer
- measurement
- assembly
- beam splitter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02001—Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties
- G01B9/02007—Two or more frequencies or sources used for interferometric measurement
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02001—Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties
- G01B9/02002—Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties using two or more frequencies
- G01B9/02003—Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties using two or more frequencies using beat frequencies
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J9/02—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/04—Prisms
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
- G01B2290/70—Using polarization in the interferometer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
用偏菱形アセンブリをより容易に製造する手段を提供す
る。 【解決手段】ガラスプレートを切断することによって偏
菱形アセンブリを製造する。ガラスプレートはそれらの
間のコーティングによって互いに接着される。切断の角
度は例えば45°であり、切断によって生じた表面は光
学的な許容誤差範囲内で仕上げられる。これらの光学表
面により、偏菱形アセンブリを、多軸干渉計の偏光ビー
ムスプリッタ(PBS)のような光学部品に直接取り付け
ることができる。さらに、測定ビームの分離間隔を広げ
る1/4波長板、キューブコーナー反射鏡、及び偏菱形
部品などの部品をPBSに取り付けて、コンパクトで熱的
に安定な一体型ビーム光学系を作製することができる。
基準ビーム用の1/4波長板に反射性コーティングや他
の基準反射鏡を配置することによって、基準ビームの全
ビーム経路を一体型構造内に保持することができる。
Description
有する多軸干渉計と偏菱形組立体(rhomboid assembl
y)の製造方法に関する。
をそれぞれが干渉計の各軸に対する幾つかの入力ビーム
に分割する。入力ビーム間の間隙は干渉計の幾何学的形
状に依存し、1または複数の計測対象物体の縦揺れと横
揺れの判定に十分な間隙をもった計測ビームを供給しな
ければならない。一般に、物体を正確に測定するには、
計測ビームは大抵の場合数秒未満の小さな角度公差内で
互いに平行でなければならない。
リッタは、干渉計内で個別の入力光ビームを生成するこ
とができる。シャープレートビームスプリッタは、基本
的には2つの平行面を有するガラス板である。光ビーム
は、シャープレートビームスプリッタの第1の面に入射
し、一部が第2の面を透過する。ビームの透過部分は、
第1の入力ビームを形成する。内部反射部分は、その後
1回以上シャープレートビームスプリッタの内面で反射
を繰り返した後、第2の面を出て第2の入力ビームを形
成する。2つの入力ビームは平行のままであるが、それ
はシャープレートビームスプリッタの面が高精度に平行
かつ平坦に仕上げてあるからである。
は、より大きな間隙をビーム間に得るのに一般により厚
くかつ長いガラスプレートを必要とする点にある。従っ
て、シャープレートビームスプリッタは、大きくなりす
ぎて幾つかの用途には使用できない場合がある。
(以下、偏菱形/プリズム組立体と記載する)は、ビー
ムを分離した2つの平行ビームに分割することのできる
別の光学システムである。偏菱形/プリズム組立体は一
般に、偏菱形要素(ここでは、偏菱形部品)とこの偏菱
形部品に取り付けたプリズムを含む。一つの入力系で
は、プリズムの第1の表面に垂直に入射するビームが偏
菱形部品とプリズムの間の境界面で一部反射される。被
反射部分はプリズムから出て、第1のビームを形成す
る。透過分は偏菱形部品を長さ沿いに進み、プリズムと
の境界面に対し平行な偏菱形部品の面で反射し、第1の
ビームに平行な第2のビームとして偏菱形部品から出
る。偏菱形部品の厚さではなく長さが、ビーム間の間隙
を決定する。従って、偏菱形/プリズム組立体は、ビー
ム間隙を大きくするのに厚さを増さなければならないと
いうことはなく、それ故にシャープレートビームスプリ
ッタに付随する大きさの問題を有しない。
体の欠点は、個々の偏菱形構成部品とプリズム構成部品
からのこれらの組立体の製造において、個々の構成部品
を非常に高精度に製作する必要があることと、プリズム
を偏菱形部品に接着するプロセスが同様に正確でなけれ
ばならないことにある。これらの困難さ、特に偏菱形面
とプリズム部品面との間の精密な角度要件は、出射ビー
ムが数秒の角度内で平行でなければならないときに偏菱
形/プリズム組立体の製造上の問題となる。
リッタ及び/又は偏菱形/プリズム組立体を、偏光ビー
ムスプリッタ(PBS)、1または複数の基準ミラー、
及び他の光学要素(ここでは、光学部品)と共に剛体ベ
ース上に取り付けることができる。PBSのような個別
の構成部品及び整列配置された基準ミラーを保持するベ
ースは、安定した干渉計による計測を確保すべく物理的
かつ熱的に安定な材料で出来ていなければならない。
別に組み付けることの不利益は、たとえ取付構造が安定
な材料で出来ている場合でも、取付構造の熱膨張による
計測の不安定性が依然として生ずる点にある。
ば、偏菱形アセンブリ(以下、偏菱形組立体と記載す
る)の製造は、1以上の面上に光学コーティングを通常
有する平行なガラスプレートから始める。切断、研磨、
及び艶出しの前に平行板を互いに接着し、偏菱形組立体
の追加の光学面を形成する。部品をしっかりと取り付け
た後に構成部品の光学面が形成されるため、偏菱形組立
体の構成部品は互いに自動的に整合され、前もって形成
された個別の構成部品を取り付けるときに遭遇するよう
な問題は生じない。このように製造される偏菱形組立体
は、シャープレートビームスプリッタに関連する大きさ
の問題を解決し、また、3以上の個別のビームを提供す
るために拡張することができる。加えて、この製造方法
は、同一の平行板から多数の個別の菱形組立体のバッチ
製造を可能にするものである。
ラスプレートの表面にコーティングを施し、第1のプレ
ートと第2のプレート間のコーティングによって第2の
プレートに第1のプレートを接着し、第1及び第2のガ
ラスプレートに鋭角に平行な切り込みを入れ(または切
断し)、得られた平行面の一部または全部を光学的許容
誤差内で仕上げることにより、偏菱形組立体を製造する
ものである。平行な切り込みを入れる前に、隣接するプ
レート対間に追加のコーティングを行うことによって1
以上の追加のガラスプレートを接着することができる。
平行な切り込みは全ての接着プレートを縦断しており、
得られる偏菱形組立体は互いに接着されたプレートの数
と同数の構成要素を含む。組立体の端を切断して仕上げ
ることで、偏菱形部品のうちの一つをプリズムに変える
ことができる。
処理光学構造に、1以上の偏菱形組立体と、一体化され
た全体構造に光学的に取り付けられる他の光学部品を含
ませることができる。個別部品を取り付けることで、光
学部品面の相対的な配向を維持する熱安定性を有するコ
ンパクトで軽量な機器構成がもたらされる。従って、一
体型ビーム処理光学系を備えるコンパクトな干渉計によ
り、測定(計測)安定性と多数の測定軸(以下では計測
軸と記載する)がもたらされる。
ーティングを、1/4波長板や偏光ビームスプリッタ
(PBS)に光学的に取り付けられた他の部品に直接配
置することにより、計測安定性を高めるものである。高
反射コーティングは、PBSに対し安定した位置と配向
を有する基準ミラーを形成する。このことで、PBSと
基準ミラー間で起こり得る相対運動がなくなり、別個の
基準ミラーの必要性がなくなる。
含む干渉計である。すなわち、入力ビームを基準ビーム
と計測ビームとに分割するよう配向されたPBSと、基
準ビームの経路内にあってPBSの面に光学的に取り付
けられた1/4波長板などの偏光切り替え部品と、偏光
切り替え部品上の反射コーティングである。この反射コ
ーティングは、基準ビームを反射し偏光切り替え部品を
介してPBS内へ戻す。リトロフレクタなどの他の部品
をPBSに光学的に取り付け、これにより計測ビームと
共に出力端までの基準ビームの全経路が、一体型ビーム
光学系構造の内部に収まるようにすることができる。
BSに光学的に取り付けられる第1の偏菱形組立体を含
む干渉計である。第1の偏菱形組立体は第1のビームを
受光し、第1のビームをPBSに向けられた多数の入力
ビームに分割する。干渉計はさらに、PBSに光学的に
取り付けられる第2の偏菱形組立体を含むことができ
る。第2の偏菱形組立体は、第2のビームを受光し、こ
の第2のビームを複数のビームに分割する。第2の偏菱
形組立体からのビームのうちの一つは、第1の偏菱形組
立体への第1のビーム入力である。通常、第1の偏菱形
組立体からのビームは、第1の軸に沿って互いに分離さ
れ、第2の偏菱形組立体からのビームは、第1の軸に垂
直な第2の軸に沿って互いに分離される。
に取り付けられる1以上の光学部品と第2の偏菱形組立
体を含むことができる。これらの光学部品はそれぞれ、
第2の偏菱形組立体からの他のビームのうちの一つを受
光し、1以上のビームをPBSへ向けて送る。これらの
光学部品はそれぞれ、例えば偏菱形部品かまたは別の偏
菱形組立体でもよい。
のを含む干渉計である。それらは、入力ビームを基準ビ
ームと計測ビームに分割するよう配向されたPBSと、
PBSに光学的に取り付けられ、PBSから計測ビーム
を受光するよう配置された偏菱形部品である。偏菱形部
品は計測ビームの位置をシフトして、計測反射器(測定
反射器:measurement reflector)の位置に合わせるも
のであり、この偏菱形部品がなかっとした場合にPBS
が収容することが可能な間隙よりも、大きな計測ビーム
間の間隙(分離距離)をもたらすことができる。通常、
干渉計はまた、基準ビームの経路用にPBSへの延長部
を含み、この延長部は、この延長部を通る基準ビームの
光路長が計測ビームの光路長に一致するような長さを有
する。延長部は、基準ビームの光路長を計測反射器内の
ガラスを横切る計測ビームの光路長に一致させるとき
に、追加的に或いは代替的に設けることができる。これ
らの延長部は、PBSまたはPBSに光学的に取り付け
られた個別部品の一部とすることができる。
同一の参照符号は、同様の又は同一の構成部分を示す。
本発明の一態様によれば、偏菱形組立体のための製造プ
ロセスにより、偏菱形部品やプリズム部品を個別に製造
したり、個別の偏菱形部品やプリズム部品を互いに接着
することなく、偏菱形組立体が製造される。代替的に
は、適切なコーティングを有する平行なガラスプレート
を互いに接着し、続いて切削(または切断)し、研削
し、研磨して幾つかの偏菱形組立体を形成する。各組立
体ごとに、切削(または切断)、研削及び研磨すること
によって、組立体の部品を精密に整列させ、干渉計の一
体型ビーム処理構造内のPBSといった別の光学部品に
接着するか、または光学的に接触(または連絡)させる
ことのできる平面を生成する。一体型ビーム処理構造は
さらに、干渉計の1以上の基準ビームの光路全体を包み
込むことができる。特に、一体型構造には、1/4波長
板や、複数の部品が一体型全体の一部として取り付けら
れるPBSに対して安定した構造を有する基準反射器な
どの部品を含めることができる。偏菱形組立体と一体型
構造により、多数の計測軸を有するコンパクトな干渉計
を作成するためのコンパクトなビーム光学系(光線光学
系)がもたらされる。
るのに2枚の光学ガラスプレートを用いる製造プロセス
を示す。
互いに接着される2枚の平行ガラスプレート110,1
20を示す。ガラスプレート110,120は、平行で
かつ平坦な主光学面112,114,122及び124
を有する。プレート110,120の厚みは、製作する
偏菱形組立体の所望の寸法に依存し、特に平行な出射ビ
ーム間の所望の間隙に依存する。ガラス製のプレート1
10,120は、好ましくは同一材料で出来ているのが
よいが、任意の種類の光学グレードガラスとすることも
できる。例えば、BK7や石英ガラス(fused silica)
で出来たガラスプレートは適しており、製造する偏菱形
組立体に所望の光学的特性をもたらすべく十分均質に作
ることができる。
枚は、プレート110と120の間の接着剤層にある主
面114或いは122上にビームスプリッタコーティン
グを有する。好適な実施形態では、ビームスプリッタコ
ーティングは、プレート110と120の間の接着剤層
を横断する前に入射ビームが当たる主面(例えば、ガラ
スプレート110の表面114)上にある。
れる偏菱形組立体の所望の性能ならびに挙動に依存する
特性を有する。特に、偏菱形組立体内での関連する入射
角度及び波長におけるビームスプリッタコーティングの
透過率ならびに反射率は、透過ビームと反射ビームとの
所望パワー比に依存する。極端な場合、ビームスプリッ
タコーティングは、入射ビームのほぼ100%を反射す
る高反射率、すなわち入射ビームの大半を透過させるほ
ど透明に近いものとすることができる。入力ビームを、
直交偏光を有する基準ビームと測定ビーム(以下では計
測ビームと記載する)に分離する干渉計の入力光学系に
用いる偏菱形組立体を作成するため、透過率と反射率は
入射ビームの偏光にはほぼ無関係であるべきである。適
切なビームスプリッタコーティングの設計は、使用する
光の波長と、反射パワーに対する透過パワーの所望比と
に決定的に依存する。一般に、この種のコーティング
は、屈折率の異なる2つ又は3つの異なる材料からなる
多層構造を含む。この種のコーティングの設計技術は、
当該技術分野では既知であり、従来のビームスプリッタ
コーティングを用いることができる。これらのコーティ
ングはまた、カリフォルニア州サンタクララのDominar
社を含むいくつかの製造元から市場を通じて入手するこ
とができる。
M−62型のような屈折率整合光学接着剤は、ガラスプ
レート110及び120の取り付けに適している。得ら
れる接着剤層の厚さは通常約10μmであるが、精密で
あるべき出射ビームの平行性を乱す楔角度を有する接着
層の形成を回避するよう、接着プロセスがプレート11
0及び120の表面を互いに平行に維持しなければなら
ない点を除き、厚さは重要ではない。本発明の一実施形
態は、接着及び/又は硬化プロセスの間にプレート11
0及び112の配向を正確に制御する際に干渉計を用い
る。
プレート110が、一方の端部においてプレート120
のエッジから距離D1だけ延出し、プレート120が、
反対側の端部においてプレート110のエッジから距離
D2だけ延出するように、プレート110と120をく
っつける。距離D1とD2により、続く切削プロセスか
ら余計な量の材料を減らすことができる。距離D1及び
D2は、一般に、個々のプレート110及び120の厚
さと切断角度に依存する。
るいくつかのブランク140を生成するために、プレー
ト110及び120の主面112,114,122及び
124に対して鋭角(典型的には45°)をなすよう形
成された平行でかつ平坦な切り込み130を図示するも
のである。光学部品製造用のダイヤモンド鋸や他の従来
の装置により平行な切り込み130を形成することがで
きる。各ブランク140ごとに、切り込み130から生
ずる少なくとも一つの面(一般には両面)は、光学的許
容誤差内に仕上げ(例えば、研磨及び艶出し)られる。
例えばスピンドルポリッシャや他の従来機器を用いる従
来の研磨及び艶出しにより、必要な仕上げを施すことが
でき、部品間の接着層に大きなダメージを与えることは
ない。各組立体140の新しく研磨された面は好ましく
は互いに平行であるが、研磨面がどの程度精密に平行で
あるかは一般に重要でない。
元のガラスプレート110及び120の幅に等しい幅W
を有する。ブランク140が十分に広いときには、平行
な切り込み132により各ブランク140を幾つかの別
々の偏菱形組立体150に分割することができる。切り
込み132から生ずる面は、一般に偏菱形組立体150
の光学面ではなく、従って研磨や艶出しを必要としな
い。各偏菱形組立体150の幅(すなわち切り込み13
2間の間隙)は、要求される構造強度または組立体の硬
度、組立体を通過する光ビーム径、及び、偏菱形組立体
が、複数の入力ビームを受け入れるよう設計されるとき
のビーム間隙といった要因に従って調整することができ
る。
よるエネルギー損失を低減させるために、一般に、空気
−ガラスのビーム境界面において要求される。従って、
偏菱形組立体の入力アパーチャ及び出力アパーチャは、
往々にして反射防止コーティングを必要とする。環境的
に堅牢な反射防止コーティングの製作には、通常、偏菱
形組立体内の埋め込まれた接着剤層の品質を劣化させ得
る高温処理プロセスが必要とされるため、偏菱形組立体
の形成後に反射防止コーティングを形成することは困難
である。本発明の一態様によれば、反射防止コーティン
グを有する光学部品を偏菱形組立体に接合(または接
着)することができる。この場合、入力ビームが偏菱形
組立体に入り、または、出力ビームが偏菱形組立体から
出る。偏菱形組立体に光学部品を接着することにより、
反射防止コーティングがもたらされ、偏菱形組立体を高
温にさらす必要がなくなる。
20から切断されて、接着された2つの偏菱形部品11
5及び125を含む偏菱形組立体150を通る代替ビー
ム経路を図示するものである。図1Dのビーム経路は、
元のビームB0から2つの平行な出射ビームB1及びB
2をもたらす。元のビームB0は、偏菱形組立体150
の表面142に垂直に入射し、反射防止コーティングを
有する光学部品160が面142上にあるので、面14
2からの反射が引き起こし得るビームB0からの光学的
パワーの損失が低減される。光学部品160は、光窓
(optical window)や、面142に垂直な方向へビーム
B0を再案内するプリズムや、ビームB0の空気−ガラ
ス境界面上に反射防止コーティングを有する任意の部品
とすることができる。反射防止コーティングをもたらす
光学部品160は、後述するように、偏菱形組立体15
0を、入力ビームを提供する組立体に取り付けたとき、
または、偏菱形組立体150からの出力ビームがガラス
内へ直接進入するときは不要である。
は、偏菱形部品115の面112において全反射を受け
る。面112に対する角度45°での切り込み130に
より、内部反射されたビームは、面142及び144と
平行に案内され、偏菱形部品115及び125間のビー
ムスプリッタコーティングへ垂線に対し45°で入射す
る。ビームスプリッタコーティングは、内部ビームの一
部を反射して出射ビームB1をもたらす。ビームB1
は、面144すなわち偏菱形部品115を垂直に出る。
ビームスプリッタコーティングを透過する内部ビーム
は、偏菱形部品125の面114で全反射され、面14
4に対して垂直に出る出射ビームB2を生成する。ビー
ムスプリッタコーティングの特性により、出射ビームB
1とB2の強度比が決定される。
15及び125は、45°と135°の内角をもった平
行四辺形の断面を有しており、プレート110の元々の
厚さは、入射ビームB0と出射ビームB1の間の間隙を
出射ビームB1とB2の間の間隙を
0’が、偏菱形組立体150’の面142に垂直に入射
し、部品115と125の間のビームスプリッタコーテ
ィングへ入射する。反射防止コーティングを有する光学
部品160’は、偏菱形組立体150’の入力アパーチ
ャに光学的に取り付けてある。ビームスプリッタコーテ
ィングを透過する元のビームB0’の一部が出射ビーム
B1を形成する。このビームは、光学部品160’を出
るビームと同一線上にある。第1のビームスプリッタコ
ーティングで反射されたビームは、面142に平行に進
んで、面124で全反射されて出射ビームB2を形成す
る。
B2が平行をなす精度は、主として面114と124と
が平行である精度に依存する。本発明の製造プロセスが
より高度に平行なビームB1及びB2を提供できるの
は、プレート110及び120を高い精度で平行にで
き、プレート110及び120のための接着プロセスを
正確に制御できるからである。対照的に、接着前に偏菱
形部品115及び125を形成するプロセスは、個々の
偏菱形部品における誤差と角度の違い、及び接着層に楔
角度を生じる接着誤差を被る。特に、個別の比較的小さ
な偏菱形部品を接着するときには、接着を正確に制御す
るのはより困難になる。
で切り込み130を施し、面142にビームを垂直に入
射させることで、面142への入力ビーム及び面144
からの出射ビームB1及びB2の屈折という厄介な問題
が避けられる。しかしながら、偏菱形部品の内角に対す
る他の角度、すなわち入射ビームの他の角度によって
も、平行な出射ビームをもたらすことができる。
るものとして、本発明による製造プロセスはまた、プリ
ズム部品を含む偏菱形組立体を製造することができる。
偏菱形組立体のプリズム部品を製造するために、図1F
で示す組立体150の端部において面142及び144
に垂直な切り込み134を形成することができる。切り
込み134は、偏菱形部品115をプリズム117に変
える。通常、切り込み134と新たに形成された面の仕
上げは、切り込み132(図1C)の前に行なうことが
できる。
直な入射ビームB0に代えて、図1Gに示すような製作
された偏菱形/プリズム組立体155は、偏菱形組立体
155の面142に平行に導かれた元のビームB0”を
受光することができる。従って、切り込み134から得
られる面を研削し、研磨して光学面を生成し、反射防止
コーティングを有する光学部品160”を面134に取
り付けて、空気−ガラス境界面での反射に起因する入射
ビームB0”のエネルギー損失を低減することができ
る。代替的には、偏菱形/プリズム組立体155は、面
142に垂直でかつビームスプリッタコーティングに直
接入射する元のビームB0’を受けることもできる。
プレートを結合して、軸に沿って任意の所望の間隙をあ
けて3以上の出射ビームを供給するように拡張すること
ができる。図2Aは、3枚の平行ガラスプレート21
0,220及び230が3枚のプレートの2つの境界面
(例えば、プレート210の面214とプレート220
の面224)におけるビームスプリッタコーティングに
よって接着される製造プロセスを図示するものである。
この接着プロセスは、プレート210,220及び23
0のうちの2枚を最初に接着し、その2つのプレート間
の接着剤が十分に硬化した後で、残りのプレートを接着
することによって最も簡単に制御される。プレート21
0,220及び230と、ビームスプリッタコーティン
グと、プレート210,220及び230を結合する接
着層の材料は、図1A〜1Fに関連して上述したものと
類似したものか又は同一のものである。
30は、図1B及び1Cに図示したのと同様の方法で切
断、研削及び研磨されて、図2Bに示すような3つの偏
菱形部品215,225及び235を含む偏菱形組立体
250などの偏菱形組立体が形成される。図2Bには、
元のビームB0から3つの出射ビームB1,B2及びB
3を生成するためのビーム経路も示されている。元のビ
ームB0が偏菱形部品215と225の間のビームスプ
リッタコーティングに直接入射するようにシフトされる
と、代替ビーム経路(図示せず)が生ずる。
部品217を含んでおり、図1Fに関連して上述した偏
菱形部品115の切断と同様にして偏菱形部品215を
切断することによって製作できる。プリズム部品217
を備えたことで、偏菱形組立体255は、元のビームB
0’から偏菱形組立体250の長さ沿いに案内される出
射ビームB1,B2及びB3を生成することができる。
は、ビームスプリッタコーティングの特性に依存する。
例えば、図2B及び2Cの元のビームB0またはB0’
から等強度の3つのビームB1,B2及びB3を生成す
るために、偏菱形部品225と215または217の間
の境界面におけるビームスプリッタコーティングが、入
射強度の1/3を反射し、入射強度の2/3を透過さ
せ、また偏菱形部品225と235の間の境界面におけ
るビームスプリッタコーディングは等しい反射率及び透
過率を有する。
255は、従来の製造方法を用いて互いに接着された、
隣接する偏菱形部品間またはプリズム部品間の境界面に
しばしば現れる段差や亀裂や他の不連続部分を蒙ること
のない平坦な光出力面144及び244を有する。従来
の製造方法を用いると、隣接した偏菱形部品やプリズム
部品の2つの角度の合計は正確には180°とならない
こと、及び/又は、接着中の部品間に相対的ねじれや並
進が生ずることが原因で出力面内に段差や亀裂を生ずる
ことがある。出力平面内に段差や亀裂がないことで、偏
菱形/プリズム組立体を光学的に接触させたり、また
は、屈折率整合光学接着剤で干渉計のPBSの入力表面
に直接接着することができる。このことにより、空気/
ガラス境界面(ここでの屈折のためにビームの平行性が
損なわれる場合がある)を排除し、双方を光学的に接触
又は接着するときに、偏菱形/プリズム組立体の出力面
やPBSの入力面に反射防止(AR)コーティングを設
ける必要がなくなる。
に取り付けられた偏菱形組立体310,320及び32
6を有する一体型ビーム光学系を含む7軸干渉計300
の斜視図及び正面図である。より詳しくは、偏菱形組立
体310は、偏菱形組立体320及び326の入力面に
直接取り付けられる。偏菱形組立体320及び326
は、PBS330に直接取り付けられる。
体310及び320に加え、7軸干渉計300の一体型
光学系には、PBS330の延長部335及び337
と、1/4波長板341,342,343,344,3
45,346,347A及び347Bと、コーナーキュ
ーブ(またはキューブコーナー)反射器361,36
2,363,364,365及び366と、1/4波長
板371,372,373,374,375,376及
び377と、PBS330に直接又は間接に取り付けら
れた偏菱形部品397A及び397Bが含まれている。
基準反射器には、各1/4波長板371,372,37
3,374,375,376及び377上に高反射(H
R)コーティング381,382,383,384,3
85,386及び387が実装される。
接触を介して互いに光学的に取り付けることができる。
この場合、個々の部品の光学的に平滑な面は、光学的接
着剤を必要とすることなく互いに分子結合する。代替的
には、屈折率整合光学的接着剤により一部の部品または
部品全てを光学的に取り付けることもできる。これらの
部品全てを光学的に取り付けることで、様々な部品を個
別に取り付ける必要のないコンパクトな一体型ビーム光
学系構造がもたらされる。コンパクトなことに加えて、
ビーム光学系は非常に安定している。なぜなら、熱膨張
や組み付けプレートのそりによる部品の相対的な配向の
変化がないからである。
光学部品の機能を、図3A,3Bと図4A,4B,4C
及び4Dを参照してさらに詳しく説明する。図4A,4
B,4C及び4Dに示すビーム経路及び構造における計
測ビーム及び入力ビームは、図3A及び3Bの構造から
の計測ビーム及び入力ビームの配向とは異なる配向を有
している。具体的には、図3A及び3Bは、計測ビーム
がまず最初にPBSコーティング332を通過し、入力
ビームがPBS330に入る面とは反対側のPBS33
0側から出射する構成を示すものである。対照的に、図
4A,4B,4C及び4Dは、計測ビームがまず最初に
PBSコーティング332で反射され、入力ビームがP
BS330に入る面に隣接するPBS330の側から出
射する構成を示すものである。
は、入力ビームINを4つの平行ビームに分割するのに
役立つ4つの偏菱形部品311,312,313及び3
14を含んでいる。偏菱形組立体310の入力アパーチ
ャに取り付けられた光学部品315は、入力ビームIN
の反射によるエネルギー損失を低減する反射防止コーテ
ィングを有するプリズムである。プリズム315は、入
力ビームINの光源位置に従って配向されており、図3
Aでは、それはたまたまPBS330の一方の側にあ
る。代替的には、プリズム315の配向を変えるか、ま
たは異なる位置にあるビーム源に対してプリズム315
を光窓で置き換えることもできる。
は、入力ビームINを受け、干渉計300の個別の水平
面において用いられる4つのビーム間に垂直方向の間隙
を生成する。
面からの全反射により、入力ビームが偏菱形部品311
と312の間にある第1のビームスプリッタコーティン
グへ向けて送られる。第1のビームスプリッタコーティ
ングからの反射は、偏菱形組立体326に入射し、か
つ、干渉計300の7つの計測軸のうちの2つの軸の平
面内にあるビームを生成する。偏菱形組立体310の第
1のビームスプリッタコーティングを通過するビーム
は、入力ビームINの残留パワーを有しており、偏菱形
部品312と313の間にある第2のビームスプリッタ
コーティングへ入射する。
射エネルギーの一部を反射し、第2のビームスプリッタ
コーティングからの反射光はPBS330へ直接導かれ
る入力ビームを形成する。反射防止コーティングを有す
る光学部品325は、ビームが出る偏菱形組立体310
に取り付けられる。PBS330の背面には、偏菱形組
立体310の第2のビームスプリッタコーティングから
反射されるビームの空気−ガラス境界面の領域内に反射
防止コーティングがある(PBS330上の反射防止コ
ーティングは選択された領域内にだけあり、偏菱形組立
体320及び326のような部品がPBS330に光学
的に接触する領域を回避している)。偏菱形組立体32
0及び326と同じ厚さを有するガラス塊が、偏菱形組
立体310とPBS330の間の空隙を充填し、空気−
ガラス境界面を排除している。
偏菱形部品313と314の間にあり、第2のビームス
プリッタコーティングを透過した光を受け、入射エネル
ギーの一部を反射する。第3のビームスプリッタコーテ
ィングから反射された光は、偏菱形組立体320への第
1の入力ビームを形成する。偏菱形組立体320の第1
の入力ビームは、干渉計300の7つの計測軸のうちの
2つを含む別の平面に対するものである。第3のビーム
スプリッタコーティングを透過する光は、偏菱形組立体
310の端部において全反射され、偏菱形組立体320
への第2の入力ビームを形成する。偏菱形組立体320
の第2の入力ビームは、干渉計300の7つの計測軸の
うちの更に2つを含む平面に対するものである。
通る水平面内の2つの計測軸に関連する計測ビームと基
準ビームのビーム経路を示す。図示の如く、偏菱形組立
体310から偏菱形組立体320への入力ビームは、偏
菱形組立体320の部品間のビームスプリッタコーティ
ングへ入射する。図4Aには、ビームスプリッタコーテ
ィングを通ってPBS330内に入射する光から生ずる
ビームだけが示されている。図4Bには、ビームスプリ
ッタコーティングと偏菱形組立体320の端部からPB
S330へ反射された光から生ずるビームが示されてい
る。
PBSコーティング332へ入射する。このコーティン
グは、第1の直線偏光を有する光をほぼ100%反射す
るとともに、第1の直線偏光に直交する直線偏光を有す
る光をほぼ100%透過させる。PBSコーティング3
32からの反射光は、1/4波長板341を通過して計
測反射器(または計測反射鏡)350に入射する出射計
測ビームMB1Aを形成する。1/4波長板341は、
一体型ビーム光学系構造の一部としてPBS330に取
り付けられる。
波長板は、1/4波長板の異なる直交軸に沿った偏光を
有するビーム成分が異なる速度で進行するところの複屈
折材料からなるプレートである。1/4波長板の厚さに
より、1/4波長板へ入射する波長を有する直線偏光し
た光の直交成分間に90°の位相シフトが生じる。入射
ビームの直線偏光は1/4波長板の軸に対し45°をな
しており、1/4波長板を透過することでビームの偏光
は直線偏光から円偏光に変化する。反射後に、円偏光の
光は1/4波長板を通って戻り、元の直線偏光に対し直
交する偏光を有する直線偏光ビームとして出射する。
測ビームMB1Aを反射してビームMB1A’として直
接戻すように位置合わせされた平面ミラーである(図4
A,4B,4C及び4Dでは、重複するビームMB1A
やMB1A’などのビームは、図を見やすくするために
互いに分離したものとして示されている)。
ェーハ段(ウェーハステージ)のような構造(図示せ
ず)上に搭載されている。計測反射器350の移動が計
測ビームMB1A’内にドップラーシフトを引き起こ
し、これにより計測ビームMB1A’の周波数は計測ビ
ームMB1Aの周波数とは異なったものとなる。
4波長板341を横断し、PBSコーティング332が
透過させる偏光でもって1/4波長板341を出る。計
測ビームMB1A’はこうしてPBSコーティング33
2を通過し、コーナーキューブ反射器361の軸からあ
る量だけオフセットしてコーナーキューブ反射器361
へ入射する。コーナーキューブ反射器361はリトロフ
レクタ(retroflector)であり、従って、反射計測ビー
ムMB1Bを計測ビームMB1A’に対し平行に保つ。
軸から外れて計測ビームMB1A’が入射することで、
反射計測ビームMB1Bはコーナーキューブ反射器36
1の軸からの計測ビームMB1A’のオフセットの約2
倍だけ計測ビームMB1A’から変位する。
グ332を透過する偏光を有しており、計測反射器35
0に達する前に、PBSコーティング332と1/4波
長板341を通過する。1/4波長板341は、計測ビ
ームMB1Bが計測ビームMB1B’として計測反射器
350から反射される前に、計測ビームMB1Bの偏光
を円偏光に変える。計測反射器350からの反射によ
り、計測反射器350の速度に従う更なるドップラーシ
フトが生ずる。
41を通過し、円偏光から直線偏光への変化を受ける。
1/4波長板341を2回通過することにより、直線偏
光は実際上90°回転する。従って、PBSコーティン
グ332は、計測ビームMB1B’を反射して、出力ビ
ームOB1の計測成分MBOUTを提供する。
ビームINからの光は、基準ビームRB1Aを形成す
る。基準ビームRB1Aは、PBS330から1/4波
長板371内へ進入し、1/4波長板371の背面にあ
って基準反射器として作用する高反射コーティング38
1にて反射される。こうして生じた反射ビームRB1
A’は、PBSコーティング332に入射する前に、1
/4波長板371を通って戻る。1/4波長板371の
2回の横断により、直線偏光が90°だけ変化し、PB
Sコーティング332が基準ビームRB1A’をコーナ
ーキューブ反射器361に反射し、これにより、変位さ
れた平行基準ビームRBI1が生成される。PBSコー
ティング332は、基準ビームRBI1を反射して基準
ビームRB1Bを生成する。
準ビームRB1Bは、1/4波長板371を横切り、高
反射コーティング381で反射され、基準ビームRB1
B’として戻る。1/4波長板371の2回の横断から
生ずる90°の偏光の変化により、基準ビームRB1
B’はPBSコーティング332を通過して、出力ビー
ムOB1の基準成分RBOUTとしてPBS330から
出る。
し、計測ビームMB1B’に対応する計測ビームMBO
UTからの光と、一つの直交偏光を有し、基準ビームR
B1B’に対応する基準ビームRBOUTからの光が含
まれる。ビームMBOUTとRBOUTは、干渉計を出
てレンズアセンブリ(レンズ組立体。図示せず)へ向か
う。レンズアセンブリにおいて、ビームMBOUTとR
BOUTは、レンズと各ビームの直線偏光に対し45°
をなす直線偏光子とを通過する。直線偏光子から出る
と、ビームは、干渉して計測信号を生成し、従来の電子
システム(図示せず)が、計測信号の位相をレーザーか
らの基準信号の位相と比較し、計測ビームMB1Aに関
連する軸に沿った計測反射器350の相対変位を計測す
る。
を防止するために温度変化に反応してはならない。本発
明の一態様では、1/4波長板371は、PBS330
に光学的に接触しており、高反射コーティング381
は、1/4波長板371の真上にある。代替的には、高
反射コーティング381は、1/4波長板371に光学
的に取り付けられる任意の基準反射器と置き換えること
ができる。基準反射器(例えば、高反射コーティング3
81)を偏光切り替え部品(例えば、1/4波長板37
1)に対して光学的に取り付けること、及び、偏光切り
替え部品をPBS330に対して光学的に取り付けるこ
とにより、それらの配向が固定されて、基準反射器の安
定性が改善され、同時にまた個別の基準ミラー基板及び
組み付けの必要性がなくなる。
る第2の計測軸についての干渉計300内のビームを示
すものである。図4Bでは、偏菱形組立体320は、入
力ビームINの位置をシフトさせるよう働く。その結
果、計測ビームMB2A,MB2A’,MB2B及びM
B2B’と基準ビームRB2A,RB2A’,RB2B
及びRB2B’は、それらの個々の相手方、すなわち、
計測ビームMB1A,MB1A’,MB1B及びMB1
B’と基準ビームRB1A,RB1A’,RB1B及び
RB1B’に対してシフトさせられる。部品342,3
62,372及び382は、対応する部品341,36
1,371及び381とほぼ同一であり、対応する部品
について上述したのと同じやり方で、シフトされたビー
ムに対するシフト及び作用に従って位置決めされる。従
って、その動作の詳細な説明はここでは繰り返さない。
菱形組立体320に対し2つの入力ビームを供給し、こ
れらの入力ビームは互いに垂直にオフセットする。干渉
計300の第3及び第4の計測軸に対する計測ビームと
出力ビームは、第1及び第2の計測軸に対して同一のビ
ーム経路を有するが、部品343,363,373及び
383と、部品344,364,374及び384をそ
れぞれ横断する。
及び4Bに図示した計測軸とは、計測軸及び計測反射器
355の位置が異なる。具体的には、第5の計測軸は、
PBS330の側面の中央側に位置し、この第5の計測
軸は、計測反射器355としてリトロフレクタ(例え
ば、コーナーキューブ)を採用している。たとえリトロ
フレクタが正確に整列配置されていないときでも、リト
ロフレクタで反射されたビームは入射ビームに対し平行
である。従って、計測反射器355は、写真平版(フォ
トリソグラフィー)装置用の投射(映写)レンズのよう
な装置に配置することができるが、この場合は、計測反
射器355を整列配置するためにそれにアクセスするこ
とは容易ではないであろう。
を介してPBS330へ入力したビームの一部が、PB
Sコーティング332で反射して、計測ビームMB5A
を形成する。計測ビームMB5Aは、1/4波長板34
5を横切り、図4Cの実施形態ではコーナーキューブで
ある計測反射器355で反射する。計測ビームMB5A
はコーナーキューブ355の軸からオフセットしてい
て、これにより反射計測ビームMB5Bは、計測ビーム
MB5Aからオフセットする。計測ビームMB5Bは、
1/4波長板345を横切って、PBSコーティング3
32を透過する偏光を有するものとなる。計測ビームM
B5Bは、計測ビームMB5Aと同一直線上にある反射
ビームをもたらすコーナーキューブ365で反射する。
PBSコーティング332を再度通過した後、計測ビー
ムは1/4波長板345を通過し、計測反射器355で
反射され、1/4波長板345を通って戻り、PBSコ
ーティング332で反射して出力ビームOB5の一部を
形成する。
ム入力の一部は、基準ビームRB5Aを形成する。基準
ビームRB5Aは、1/4波長板375の表面上にある
高反射コーティング385から反射される前に、延長部
335と1/4波長板375を通過する。反射された基
準ビームは、1/4波長板375と延長部335を通っ
て戻り、PBSコーティング332で反射される。次
に、基準ビームは、コーナーキューブ365で反射さ
れ、PBSコーティングで再び反射され、二度目に高反
射コーティング385で反射される前に延長部335と
1/4波長板385を横断する。高反射コーティング3
85からの基準ビームの2回目の反射は、1/4波長板
385と延長部335とPBSコーティング332を横
断して、出力ビームOB5の一部となるビームをもたら
す。
準ビームは、延長部335を4回通過し、これにより、
ガラスを通る計測ビームの経路長が増える。延長部33
5は、PBS330に光学的に取り付けられ、好ましく
は基準反射器355と同じ材料で出来たものがよい。代
替的には、延長部335はPBS330を形成するガラ
スの一部とすることもできる。本発明の一態様によれ
ば、延長部335の大きさは、ガラス製の延長部335
を含む基準ビームの光路長が、ガラス製の基準反射器3
55を含む計測ビームの光路長に一致するような大きさ
である。
0の第6及び第7の計測軸を含む平面を示すものであ
る。これらの軸については、偏菱形組立体310の第1
のビームスプリッタコーティングで反射された光が、偏
菱形組立体326へ入射する。偏菱形組立体326は、
第6の軸についてのビームを透過させ、第7の計測軸に
対する適切な入射ポイントにビームをシフトする。図3
A及び3Bの実施形態において、偏菱形組立体326及
び320は、偏菱形組立体310からの入力ビームを反
対方向に水平にシフトさせる。
BS330の中央に位置するが、この第6の計測軸は、
コーナーキューブに代わる平面ミラーである計測反射器
356にて反射する。従って、計測ビームMB6A及び
MB6Bは、ガラス製の計測反射器356を通過する追
加の光路長を持たず、基準ビームRB6A及びRB6B
は、PBS330の延長部を必要としない。高反射コー
ティング386を有する1/4波長板376は、従っ
て、直接PBS 330に取り付けられる。
る計測ビームよりも広い間隙を有する計測ビームMB7
A及びMB7Bを用いる。本発明の一態様によれば、干
渉計300は、偏菱形部品397A及び397Bを用い
て計測ビームMB7AとMB7Bとの間の距離を延長す
る。PBS 330に延長部337を追加することによ
り、基準ビームRB7AとRB7Bに対する光路長と、
計測ビームMB7AとMB7Bの光路長が等しくなる。
対照的に、従来の干渉計は、要求される計測ビーム間の
間隙を収容するのに十分な寸法を有する偏光ビームスプ
リッタを用いてきた。偏菱形部品397A及び397B
と延長部337の使用は、PBS330の全体サイズを
効果的に低減し、これにより、干渉計の寸法と重量が低
減され、PBS用の十分均質な屈折率を有する大型部品
やガラスを入手する困難さが低減される。
ング332が反射する偏光を有する入力ビームの一部
が、計測ビームMB7Aを形成し、PBSコーティング
332が透過する偏光を有する入力ビームの一部が、基
準ビームRB7Aを形成する。計測ビームMB7Aは、
偏菱形部品397Aに入射し、これによって、計測ビー
ムMB7Aが計測反射器357へ向かう途中で1/4波
長板347Aを通過する前に、計測ビームMB7Aは横
方向に変位させられる。
4波長板347Aと偏菱形部品397AとPBSコーテ
ィング332を通過し、コーナーキューブ反射器366
へ入射する。コーナーキューブ反射器366は、計測ビ
ームMB7BをPBS330の反対側エッジまで変位さ
せるのに十分大きい。計測ビームMB7Bの経路は、偏
菱形部品397Bと1/4波長板347Bを通り抜けて
計測反射器357まで達しており、計測反射器357か
らの反射ビームMB7B’は、1/4波長板347Bと
偏菱形部品397Bを通って戻り、PBSコーティング
332で反射し、出力ビームOB7の一部を形成する。
7Aに到達して高反射コーティング387Aで反射する
前に、延長部337を横断する。反射された基準ビーム
RB7A’は、1/4波長板377Aと延長部337を
通って戻り、PBSコーティング332で反射して、計
測ビームMB7A’と同じ経路に沿ってコーナーキュー
ブ366に入る。変位した基準ビームRB7Bは、コー
ナーキューブ反射器366を出て、PBSコーティング
332で反射し、延長部337と1/4波長板377B
を横切ってから高反射コーティング387Bで反射す
る。次に、反射された基準ビームRB7B’は、計測ビ
ームMB7B’が出力ビームOB7の一部となる前に、
1/4波長板377Bと延長部337とPBSコーティ
ング332を横切る。
る基準ビームの光路長が、偏菱形部品397A及び39
7Bと計測反射器357内の任意のガラスとを通る計測
ビームの光路長に等しくなるように選択される。同じ光
路長を有することで、(そうでない場合には、光学部品
の温度に伴う熱膨張及び屈折率の変化から生じうるであ
ろう)計測ビームと基準ビームの相対的な光路長の変化
が回避される。本発明の代替実施形態では、延長部33
7は、PBS330に光学的に接触(または連絡)する
個別のガラス部品でもよく、または、PBS330を形
成する同じガラスの一部でもあってもよい。
とMB7Bの分離幅を広くすることで、第6の計測軸に
対する計測ビームMB6AとMB6Bを、計測ビームM
B7AとMB7Bの間に収容することができる。本発明
の一態様によれば、干渉計は同じ水平面にあって同一線
上に中心を有する2つの計測軸に対して同じコーナーキ
ューブ366を用いる。延長部337は、第7の計測軸
と同じ平面にある第6の計測軸についての1/4波長板
376を収容するために切り抜き(cutout)部分を有し
ている。図4Dでは、第6及び第7の計測軸は、計測反
射器356及び357用に平面ミラーを用いている。し
かしながら、計測反射器としてのコーナーキューブの使
用は、上述したように、計測ビームに対してガラス内に
追加の光路長をもたすであろう。延長部337の切り抜
き部分を延長して、1/4波長板376とPBS330
の間の延長部を収容することができる。
は、任意の数の軸を有する干渉計に適用することができ
る。例えば、特定の水平面にさらなる計測軸を追加する
ために、水平偏菱形組立体320または326を、より
多くの偏菱形部品を有する組立体で置き換えて、所望位
置により多数の入力ビームを提供することができる。水
平面内に唯一の計測軸を有するようにするために、個別
の偏菱形部品または部品間に高反射コーティングを有す
る偏菱形組立体は、入力ビームをPBS内への所望の入
力位置に水平にシフトさせることができ、あるいは、オ
フセットなしで入力ビームを透過させる部品で偏菱形組
立体320または326を置き換えて、偏菱形組立体3
10からPBS330へ直接ビームを導くことができ
る。1以上の計測軸を含む水平面の数を増減させるため
に、偏菱形組立体310を、部品数のより多いかまたは
少ない組立体で置き換えることができる。
の対象物の相対的な位置及び配向を決定し、冗長的な計
測値を提供して信頼性を改善することができる。加え
て、本明細書に開示したコンパクトな一体型構造は、空
間が制限された環境下で用いることができる。かかる特
徴は、例えば写真平版(フォトリソグラフィー)装置の
ような複雑な環境において強く望まれるものである。
る干渉計システム500を例示するブロック図である。
干渉計システム500は、一体型干渉計光学系520へ
入力ビームINを供給するレーザーヘッド510を備え
る。一体型干渉計光学系520は、図3A及び3Bに図
示した本発明の実施形態や本発明の他の実施形態に従う
ものとすることができる。しかしながら、図5には計測
軸のうちの1つだけが示してある。
10は、アジレント・テクノロジーズ(Agilent Techno
logies)社から市場を通じて入手可能なレーザーヘッド
の5517製品群からのものである。レーザーヘッド5
10は、2周波(数)ヘリウム−ネオンレーザー512
を含む。2つの周波数f1及びf2からなるレーザービ
ームの出力は、レーザー512において軸方向の磁場を
印加することで生ずる。周波数f1とf2は互いに近接
しているが、逆方向の円偏光を有するビーム内にある。
レーザーヘッド510は、円偏光ビームを、周波数f1
を有する直線偏光ビームと周波数f2を有する直線偏光
ビームに変換する。これら2つのビームは直交する直線
偏光を有する。光検出器514とレーザー同調回路51
6は、周波数を安定させるためにレーザー512を同調
させる。レーザーヘッド510内の光検出器518は、
2つのビームの一部を受信して合成し、2つのビームの
うなり周波数f1−f2において電気的な基準信号を生
成する。
ムOUTは、上述した計測ビームと基準ビームからの一
部分MBOUTとRBOUTを含む。計測ビームの部分
MBOUTは、計測ミラー530の相対運動に従ってド
ップラーシフトを受けており、周波数f1±Δf1を有
する。基準ビームの部分RBOUTは、周波数f2を有
する。
レント・テクノロジーズ(AgilentTechnologies)社か
ら入手可能なE1709受光器とすることができ、これ
は一体型干渉計光学系520からの出力ビームOUTを
受光する。受光器540は、ビームの部分MBOUT及
びRBOUTを結合して、周波数f1−f2±Δf1を
有する電気信号を生成する。従って、より大きな相対速
度を計測するシステムは、大きな周波数差(f1−f
2)を必要とし、このため、f1−f2±Δf1は最小
値よりも大きくなる。
0は、光検出器518及び受光器540からの電気信号
を処理し、出力ビームOUTに関連する計測軸に対する
相対運動計測値を求める。位置変換電子回路は、計測を
行うのに周波数または位相情報に頼るので、計測値は強
度変動によって引き起こされるエラーに比較的影響を受
けにくい。
たが、この説明は、本発明の例示に過ぎず、本発明を限
定するものとして捉えるべきではない。具体的に言う
と、2つの異なる周波数を有する光を使用するシステム
における一体型干渉計の光学系の例を説明したが、この
一体型光学系は、他のタイプの干渉計にも適するもので
ある。開示した実施形態の特徴を様々に適用し、また、
組み合わせることは、特許請求の範囲に規定された本発
明の範囲内にある。
の組み合わせからなる例示的な実施態様を示す。 1.偏菱形組立体の製造方法において、第1のガラスプ
レートの主面にコーティングを施すステップであって、
該第1のプレートが平行でかつ平坦な2つの主面を有す
ることからなる、ステップと、前記第1のプレートと第
2のプレート間のコーティングによって前記第1のプレ
ートを前記第2のプレートに接着するステップと、前記
第1及び第2のガラスプレートの主面に対して鋭角に、
それらのプレートを貫通する平行に切り込みを入れ、ま
たは、平行に切断して、1以上のブランクを形成するス
テップであって、各ブランクが2つの切り込みまたは切
り口に対応する平行面を有することからなる、ステップ
と、前記1以上のブランクの平行面の少なくとも一つの
面を仕上げて、光学品質の平坦面を形成するステップと
を含む、方法。 2.前記第2のプレートの主面上に第2のコーティング
を形成するステップと、前記第2のプレートと第3のガ
ラスプレート間の第2のコーティングによって前記第2
のプレートを前記第3のプレートに接着するステップを
さらに含み、前記平行な切り込みまたは切り口によって
前記第1、第2及び第3のプレートが切断されることか
らなる、上項1の方法。 3.前記ブランクの1つを該ブランクの平行面に垂直に
切断するステップと、前記平行面に垂直に切断すること
によって生成された面を光学品質に仕上げるステップを
さらに含む、上項1の方法。 4.前記ブランクの一つを該ブランクの平行面に垂直に
切断するステップは、該ブランク内の偏菱形部品をプリ
ズムに変えることからなる、上項3の方法。 5.前記コーティングは、前記ブランク内で使用される
場合に、該コーティングに入射する光の偏光とは実質的
に無関係である透過率及び反射率を有する、上項1の方
法。 6.前記鋭角が45°である、上項1の方法。 7.前記平行面を通って入力されるビームに対応する位
置において、前記平行面の一つに光学部品を取り付ける
ステップをさらに含み、該光学部品が反射防止コーティ
ングを有することからなる、上項1の方法。 8.前記光学部品が光窓である、上項7の方法。 9.前記光学部品がプリズムである、上項7の方法。 10.偏光ビームスプリッタと、前記偏光ビームスプリ
ッタに光学的に取り付けられた第1の偏菱形組立体であ
って、第1の入力ビームを受光して該第1の入力ビーム
を前記偏光ビームスプリッタへ向かう複数のビームに分
割するよう配向された第1の偏菱形組立体とを備える干
渉計。 11.前記偏光ビームスプリッタに光学的に取り付けら
れた第2の偏菱形組立体をさらに備えており、該第2の
偏菱形組立体は第2の入力ビームを受光し、該第2のビ
ームを複数のビームに分割するよう配向されており、該
第2の偏菱形組立体からのビームのうちの一つが、前記
第1の偏菱形組立体への第1の入力ビームである、上項
10の干渉計。 12.前記第1の偏菱形組立体から前記偏光ビームスプ
リッタ内に導かれる複数のビームは、第1の軸に沿って
互いに分離し、前記第2の偏菱形組立体からの複数のビ
ームは、前記第1の軸に垂直な第2の軸に沿って互いに
分離することからなる、上項11の干渉計。 13.前記偏光ビームスプリッタ及び前記第2の偏菱形
組立体に光学的に取り付けられた光学部品をさらに備
え、該光学部品が前記第2の偏菱形組立体から1以上の
ビームを受光し、1以上のビームを前記偏光ビームスプ
リッタ内へ導くことからなる、上項12の干渉計。 14.前記光学部品が偏菱形部品から構成される、上項
13の干渉計。 15.前記光学部品は第3の偏菱形組立体を構成し、該
第3の偏菱形組立体は、前記第2の偏菱形組立体からの
第3の入力ビームを受光して、該第3の入力ビームを前
記偏光ビームスプリッタへ向かう複数のビームに分割す
るよう配向される、上項13の干渉計。 16.干渉計の第1の計測軸に対して、入力ビームを基
準ビームと計測ビームに分割するよう配向された偏光ビ
ームスプリッタと、前記偏光ビームスプリッタの面に光
学的に取り付けられ、前記基準ビームの経路内にある偏
光切り替え要素と、前記偏光切り替え要素に光学的に取
り付けられた基準反射器であって、基準ビームを反射し
て、前記偏光切り替え要素を介して前記偏光ビームスプ
リッタ内に戻すように配置される基準反射器とを備える
干渉計。 17.前記基準反射器は、前記偏光切り替え要素上の反
射コーティングである、上項16の干渉計。 18.前記偏光ビームスプリッタに光学的に取り付けら
れたリトロフレクタをさらに備え、該リトロフレクタ
は、前記基準反射器にて反射された基準ビームを受光す
るとともに、計測対象である物体上の計測反射器から反
射された計測ビームをその反射後に受光することからな
る、上項16の干渉計。 19.前記リトロフレクタは、干渉計の第2の計測軸に
関する第2の基準ビームと第2の計測ビームをさらに受
光するように配置される、上項18の干渉計。 20.前記偏光ビームスプリッタに光学的に取り付けら
れた第1の偏菱形組立体をさらに備え、前記第1の偏菱
形組立体は、第1のビームを受光して該第1のビームを
前記偏光ビームスプリッタへ向かう複数のビームに分割
するように配向され、該複数のビームが前記入力ビーム
を含むことからなる、上項16の干渉計。 21.前記偏光ビームスプリッタに光学的に取り付けら
れて、前記偏光ビームスプリッタから計測ビームを受光
するように配置された偏菱形部品をさらに備え、該偏菱
形部品は、計測反射器に対応する位置にシフトさせるこ
とからなる、上項16の干渉計。 22.前記偏光ビームスプリッタに対する延長部をさら
に備え、該延長部の長さは、該延長部を通る前記基準ビ
ームの光路長と前記計測ビームの光路長とが一致するよ
うな長さであることからなる、上項16の干渉計。 23.入力ビームを第1の基準ビームと第1の計測ビー
ムとに分割するよう配向された偏光ビームスプリッタ
と、前記偏光ビームスプリッタに光学的に取り付けられ
て、該偏光ビームスプリッタからの前記第1の計測ビー
ムを受光するよう配置された偏菱形要素であって、前記
第1の計測ビームを計測反射器に対応する位置へシフト
させる偏菱形要素とを備える干渉計。 24.前記偏光ビームスプリッタに対する第1の延長部
をさらに備え、該第1の延長部の長さは、該第1の延長
部を通る前記第1の基準ビームの光路長と前記第1の計
測ビームの光路長とが一致するような長さであることか
らなる、上項23の干渉計。 25.前記偏光ビームスプリッタに対する第2の延長部
をさらに備え、前記偏光ビームスプリッタは、第2の入
力ビームを第2の基準ビームと第2の計測ビームに分割
し、前記第2の延長部の長さは、該第2の延長部を通る
前記第2の基準ビームの光路長と前記第2の計測ビーム
の光路長とが一致するような長さであることからなる、
上項24の干渉計。 26.前記第2の延長部の長さが、第2の計測反射器の
ガラスを通る第2の計測ビームの光路長と一致する、上
項25の干渉計。
を切断することによって偏菱形アセンブリを製造する方
法に関連する。ガラスプレートはそれらの間のコーティ
ングによって互いに接着される。切断の角度は例えば4
5°であり、切断によって生じた表面は光学的な許容誤
差範囲内で仕上げられる。これらの光学表面により、偏
菱形アセンブリを、多軸干渉計の偏光ビームスプリッタ
(PBS)のような光学部品に直接取り付けることができ
る。さらに、測定ビームの分離間隔を広げる1/4波長
板、キューブコーナー反射鏡、及び偏菱形部品のような
部品をPBSに取り付けて、コンパクトで熱的に安定な一
体型ビーム光学系を作製することができる。基準ビーム
用の1/4波長板に反射性コーティングや他の基準反射
鏡を配置することによって、基準ビームの全ビーム経路
を一体型構造内に保持することができる。偏菱形部品に
よって測定ビーム間の分離間隔を広げるときには、PBS
に付加した延長部により、基準ビームと測定ビームの光
路長を一致させることができる。
り容易に製造することができる。また、本発明によれ
ば、測定安定性に優れた光干渉計が得られる。
プレートから偏菱形組立体を形成する製造プロセス中に
形成される構造を示す図である。
プレートから偏菱形組立体を形成する製造プロセス中に
形成される構造を示す図である。
プレートから偏菱形組立体を形成する製造プロセス中に
形成される構造を示す図である。
ビーム経路を示す図である。
ビーム経路を示す図である。
形成するための他の切り込みを示す図である。
体の代替ビーム経路を示す図である。
体の代替ビーム経路を示す図である。
体を形成する製造プロセス中になされた切り込みを示す
図である。
とそのビーム経路を示す図である。
形組立体の側面とそのビーム経路を示す図である。
図である。
図である。
の選択された水平断面内における選択されたビーム経路
を示す図である。
の選択された水平断面内における選択されたビーム経路
を示す図である。
の選択された水平断面内における選択されたビーム経路
を示す図である。
の選択された水平断面内における選択されたビーム経路
を示す図である。
ロック図である。
Claims (26)
- 【請求項1】偏菱形組立体の製造方法において、 第1のガラスプレートの主面にコーティングを施すステ
ップであって、該第1のプレートが平行でかつ平坦な2
つの主面を有することからなる、ステップと、 前記第1のプレートと第2のプレート間のコーティング
によって前記第1のプレートを前記第2のプレートに接
着するステップと、 前記第1及び第2のガラスプレートの主面に対して鋭角
に、それらのプレートを貫通する平行な切り込みを入れ
て、1以上のブランクを形成するステップであって、各
ブランクが2つの切り込みに対応する平行面を有するこ
とからなる、ステップと、 前記1以上のブランクの平行面の少なくとも一つの面を
仕上げて、光学品質の平坦面を形成するステップとを含
む、方法。 - 【請求項2】前記第2のプレートの主面上に第2のコー
ティングを形成するステップと、 前記第2のプレートと第3のガラスプレート間の第2の
コーティングによって前記第2のプレートを前記第3の
プレートに接着するステップをさらに含み、 前記平行な切り込みによって前記第1、第2及び第3の
プレートが切断されることからなる、請求項1の方法。 - 【請求項3】前記ブランクの1つを該ブランクの平行面
に垂直に切断するステップと、 前記平行面に垂直に切断することによって生成された面
を光学品質に仕上げるステップをさらに含む、請求項1
の方法。 - 【請求項4】前記ブランクの一つを該ブランクの平行面
に垂直に切断するステップは、該ブランク内の偏菱形部
品をプリズムに変えることからなる、請求項3の方法。 - 【請求項5】前記コーティングは、前記ブランク内で使
用される場合に、該コーティングに入射する光の偏光と
は実質的に無関係である透過率及び反射率を有する、請
求項1の方法。 - 【請求項6】前記鋭角が45°である、請求項1の方
法。 - 【請求項7】前記平行面を通って入力されるビームに対
応する位置において、前記平行面の一つに光学部品を取
り付けるステップをさらに含み、該光学部品が反射防止
コーティングを有することからなる、請求項1の方法。 - 【請求項8】前記光学部品が光窓である、請求項7の方
法。 - 【請求項9】前記光学部品がプリズムである、請求項7
の方法。 - 【請求項10】偏光ビームスプリッタと、 前記偏光ビームスプリッタに光学的に取り付けられた第
1の偏菱形組立体であって、第1の入力ビームを受光し
て該第1の入力ビームを前記偏光ビームスプリッタへ向
かう複数のビームに分割するよう配向された第1の偏菱
形組立体とを備える干渉計。 - 【請求項11】前記偏光ビームスプリッタに光学的に取
り付けられた第2の偏菱形組立体をさらに備えており、
該第2の偏菱形組立体は第2の入力ビームを受光し、該
第2のビームを複数のビームに分割するよう配向されて
おり、該第2の偏菱形組立体からのビームのうちの一つ
が、前記第1の偏菱形組立体への第1の入力ビームであ
る、請求項10の干渉計。 - 【請求項12】前記第1の偏菱形組立体から前記偏光ビ
ームスプリッタ内に導かれる複数のビームは、第1の軸
に沿って互いに分離し、前記第2の偏菱形組立体からの
複数のビームは、前記第1の軸に垂直な第2の軸に沿っ
て互いに分離することからなる、請求項11の干渉計。 - 【請求項13】前記偏光ビームスプリッタ及び前記第2
の偏菱形組立体に光学的に取り付けられた光学部品をさ
らに備え、該光学部品が前記第2の偏菱形組立体から1
以上のビームを受光し、1以上のビームを前記偏光ビー
ムスプリッタ内へ導くことからなる、請求項12の干渉
計。 - 【請求項14】前記光学部品が偏菱形部品から構成され
る、請求項13の干渉計。 - 【請求項15】前記光学部品は第3の偏菱形組立体を構
成し、該第3の偏菱形組立体は、前記第2の偏菱形組立
体からの第3の入力ビームを受光して、該第3の入力ビ
ームを前記偏光ビームスプリッタへ向かう複数のビーム
に分割するよう配向される、請求項13の干渉計。 - 【請求項16】干渉計の第1の計測軸に対して、入力ビ
ームを基準ビームと計測ビームに分割するよう配向され
た偏光ビームスプリッタと、 前記偏光ビームスプリッタの面に光学的に取り付けら
れ、前記基準ビームの経路内にある偏光切り替え要素
と、 前記偏光切り替え要素に光学的に取り付けられた基準反
射器であって、基準ビームを反射して、前記偏光切り替
え要素を介して前記偏光ビームスプリッタ内に戻すよう
に配置される基準反射器とを備える干渉計。 - 【請求項17】前記基準反射器は、前記偏光切り替え要
素上の反射コーティングである、請求項16の干渉計。 - 【請求項18】前記偏光ビームスプリッタに光学的に取
り付けられたリトロフレクタをさらに備え、該リトロフ
レクタは、前記基準反射器にて反射された基準ビームを
受光するとともに、計測対象である物体上の計測反射器
から反射された計測ビームをその反射後に受光すること
からなる、請求項16の干渉計。 - 【請求項19】前記リトロフレクタは、干渉計の第2の
計測軸に関する第2の基準ビームと第2の計測ビームを
さらに受光するように配置される、請求項18の干渉
計。 - 【請求項20】前記偏光ビームスプリッタに光学的に取
り付けられた第1の偏菱形組立体をさらに備え、前記第
1の偏菱形組立体は、第1のビームを受光して該第1の
ビームを前記偏光ビームスプリッタへ向かう複数のビー
ムに分割するように配向され、該複数のビームが前記入
力ビームを含むことからなる、請求項16の干渉計。 - 【請求項21】前記偏光ビームスプリッタに光学的に取
り付けられて、前記偏光ビームスプリッタから計測ビー
ムを受光するように配置された偏菱形部品をさらに備
え、該偏菱形部品は、計測反射器に対応する位置にシフ
トさせることからなる、請求項16の干渉計。 - 【請求項22】前記偏光ビームスプリッタに対する延長
部をさらに備え、該延長部の長さは、該延長部を通る前
記基準ビームの光路長と前記計測ビームの光路長とが一
致するような長さであることからなる、請求項16の干
渉計。 - 【請求項23】入力ビームを第1の基準ビームと第1の
計測ビームとに分割するよう配向された偏光ビームスプ
リッタと、 前記偏光ビームスプリッタに光学的に取り付けられて、
該偏光ビームスプリッタからの前記第1の計測ビームを
受光するよう配置された偏菱形要素であって、前記第1
の計測ビームを計測反射器に対応する位置へシフトさせ
る偏菱形要素とを備える干渉計。 - 【請求項24】前記偏光ビームスプリッタに対する第1
の延長部をさらに備え、該第1の延長部の長さは、該第
1の延長部を通る前記第1の基準ビームの光路長と前記
第1の計測ビームの光路長とが一致するような長さであ
ることからなる、請求項23の干渉計。 - 【請求項25】前記偏光ビームスプリッタに対する第2
の延長部をさらに備え、前記偏光ビームスプリッタは、
第2の入力ビームを第2の基準ビームと第2の計測ビー
ムに分割し、前記第2の延長部の長さは、該第2の延長
部を通る前記第2の基準ビームの光路長と前記第2の計
測ビームの光路長とが一致するような長さであることか
らなる、請求項24の干渉計。 - 【請求項26】前記第2の延長部の長さが、第2の計測
反射器のガラスを通る第2の計測ビームの光路長と一致
する、請求項25の干渉計。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/876,531 US6542247B2 (en) | 2001-06-06 | 2001-06-06 | Multi-axis interferometer with integrated optical structure and method for manufacturing rhomboid assemblies |
| US09/876531 | 2001-06-06 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007210643A Division JP4870630B2 (ja) | 2001-06-06 | 2007-08-13 | 干渉計 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003075615A true JP2003075615A (ja) | 2003-03-12 |
| JP4320385B2 JP4320385B2 (ja) | 2009-08-26 |
Family
ID=25367940
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002162878A Expired - Lifetime JP4320385B2 (ja) | 2001-06-06 | 2002-06-04 | 偏菱形組立体の製造方法 |
| JP2007210643A Expired - Lifetime JP4870630B2 (ja) | 2001-06-06 | 2007-08-13 | 干渉計 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007210643A Expired - Lifetime JP4870630B2 (ja) | 2001-06-06 | 2007-08-13 | 干渉計 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6542247B2 (ja) |
| EP (3) | EP1619525A1 (ja) |
| JP (2) | JP4320385B2 (ja) |
| TW (1) | TW578012B (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006060229A (ja) * | 2004-08-23 | 2006-03-02 | Asml Netherlands Bv | 偏光ビームスプリッタ装置、干渉計モジュール、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 |
| JP2006308594A (ja) * | 2005-04-29 | 2006-11-09 | Agilent Technol Inc | 低い非線形誤差の変位測定干渉計 |
| JP2010503897A (ja) * | 2006-09-14 | 2010-02-04 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ビームスプリッタ機器及びシステム |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6876451B1 (en) | 2000-08-25 | 2005-04-05 | Zygo Corporation | Monolithic multiaxis interferometer |
| AU2002320323A1 (en) * | 2001-07-06 | 2003-01-21 | Zygo Corporation | Multi-axis interferometer |
| DE10317387B4 (de) * | 2002-04-18 | 2007-05-24 | Agilent Technologies, Inc. (n.d.Ges.d.Staates Delaware), Palo Alto | Kompakte Strahlzurückverfolgungsoptikeinrichtung zum Eliminieren eines Strahlauseinanderlaufens |
| US7327466B2 (en) * | 2003-11-03 | 2008-02-05 | Zygo Corporation | Multi-corner retroreflector |
| US7538890B2 (en) * | 2004-06-07 | 2009-05-26 | Fujinon Corporation | Wavefront-measuring interferometer apparatus, and light beam measurement apparatus and method thereof |
| US20060017933A1 (en) * | 2004-07-23 | 2006-01-26 | Schluchter W C | Heterodyne laser interferometer with porro prisms for measuring stage displacement |
| US7212290B2 (en) * | 2004-07-28 | 2007-05-01 | Agilent Technologies, Inc. | Differential interferometers creating desired beam patterns |
| US7426021B2 (en) * | 2004-11-29 | 2008-09-16 | Expo Electro- Optical Engineering Inc. | Interferometric optical analyzer and method for measuring the linear response of an optical component |
| US7330272B2 (en) * | 2005-04-29 | 2008-02-12 | Agilent Technologies, Inc. | Discrete quarter wave plates for displacement measuring interferometers |
| US7372577B1 (en) * | 2005-05-31 | 2008-05-13 | Lockheed Martin Corporation | Monolithic, spatially-separated, common path interferometer |
| US7561278B2 (en) * | 2005-10-18 | 2009-07-14 | Zygo Corporation | Interferometer using integrated retarders to reduce physical volume |
| US20090135430A1 (en) * | 2007-11-26 | 2009-05-28 | Miao Zhu | Systems and Methods for Reducing Nonlinearity in an Interferometer |
| US7948194B2 (en) * | 2008-02-15 | 2011-05-24 | Intersil Americas Inc. | Waveform current monitor using RDSon of low-side bridge FET |
| CN102147505B (zh) * | 2010-02-08 | 2015-06-03 | 菲尼萨公司 | 增强型多体式光学设备 |
| RU2455669C1 (ru) * | 2010-10-21 | 2012-07-10 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Сибирская государственная геодезическая академия" (ГОУВПО "СГГА") | Оптический резонатор |
| DE102012201393A1 (de) | 2012-02-01 | 2013-08-01 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Positionsmesseinrichtung und Anordnung mit mehreren Positionsmesseinrichtungen |
| KR20150024416A (ko) | 2012-06-27 | 2015-03-06 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 광학 컴포넌트 어레이 |
| JP5767684B2 (ja) * | 2013-11-15 | 2015-08-19 | 株式会社フジクラ | 導光装置、製造方法、及び、ldモジュール |
| DE102017204550A1 (de) * | 2017-03-20 | 2018-09-20 | Robert Bosch Gmbh | Senderoptik für ein LiDAR-System, LiDAR-System und Arbeitsvorrichtung |
| CN111442715B (zh) * | 2020-03-02 | 2021-09-07 | 哈尔滨工业大学 | 基于一体式二次分光组件的外差激光干涉仪 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB232602A (ja) * | 1900-01-01 | |||
| JPS57158804A (en) * | 1981-03-27 | 1982-09-30 | Olympus Optical Co Ltd | Optical path splitting prism and its production |
| JPS59136604A (ja) * | 1983-01-26 | 1984-08-06 | Agency Of Ind Science & Technol | 多重光路レ−ザ−干渉計 |
| GB2153546A (en) * | 1984-02-02 | 1985-08-21 | Pilkington Perkin Elmer Ltd | Optical filtering devices |
| US4802765A (en) * | 1986-06-12 | 1989-02-07 | Zygo Corporation | Differential plane mirror having beamsplitter/beam folder assembly |
| US4784490A (en) * | 1987-03-02 | 1988-11-15 | Hewlett-Packard Company | High thermal stability plane mirror interferometer |
| KR920010621B1 (ko) * | 1988-09-12 | 1992-12-12 | 후지쓰 가부시끼가이샤 | 광학부품용기재와그의제조방법및그를사용한광학제품 |
| DE9013557U1 (de) * | 1990-09-27 | 1990-12-06 | Mesacon Gesellschaft für Meßtechnik mbH, 44227 Dortmund | Optisches Gerät, insbesondere zur Messung der Geschwindigkeit einer bewegten Oberfläche mittels eines von einem Laser ausgehenden Meßlichtstrahls |
| JP2639312B2 (ja) * | 1993-07-27 | 1997-08-13 | 佐野富士光機株式会社 | プリズムアセンブリの製造方法 |
| JP3374573B2 (ja) * | 1995-02-20 | 2003-02-04 | 松下電器産業株式会社 | 光ピックアップ及び光ガイド部材 |
| TW401530B (en) * | 1996-03-12 | 2000-08-11 | Seiko Epson Corp | Polarized light separation device, method of fabricating the same and projection display apparatus using the polarized light separation device |
| JP3486516B2 (ja) * | 1996-07-25 | 2004-01-13 | セイコーエプソン株式会社 | 光学素子 |
| JP4006855B2 (ja) * | 1998-10-30 | 2007-11-14 | エプソントヨコム株式会社 | 光学デバイスの製造方法 |
-
2001
- 2001-06-06 US US09/876,531 patent/US6542247B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-02-28 EP EP05023421A patent/EP1619525A1/en not_active Withdrawn
- 2002-02-28 EP EP02004648A patent/EP1265081A3/en not_active Withdrawn
- 2002-02-28 EP EP05023422A patent/EP1621848A1/en not_active Withdrawn
- 2002-03-05 TW TW091104012A patent/TW578012B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-06-04 JP JP2002162878A patent/JP4320385B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2007
- 2007-08-13 JP JP2007210643A patent/JP4870630B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006060229A (ja) * | 2004-08-23 | 2006-03-02 | Asml Netherlands Bv | 偏光ビームスプリッタ装置、干渉計モジュール、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 |
| JP2006308594A (ja) * | 2005-04-29 | 2006-11-09 | Agilent Technol Inc | 低い非線形誤差の変位測定干渉計 |
| JP2010503897A (ja) * | 2006-09-14 | 2010-02-04 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ビームスプリッタ機器及びシステム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW578012B (en) | 2004-03-01 |
| US20020191191A1 (en) | 2002-12-19 |
| US6542247B2 (en) | 2003-04-01 |
| EP1265081A2 (en) | 2002-12-11 |
| JP2007316669A (ja) | 2007-12-06 |
| EP1265081A3 (en) | 2004-07-28 |
| JP4320385B2 (ja) | 2009-08-26 |
| JP4870630B2 (ja) | 2012-02-08 |
| EP1619525A1 (en) | 2006-01-25 |
| EP1621848A1 (en) | 2006-02-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4870630B2 (ja) | 干渉計 | |
| US6806960B2 (en) | Compact beam re-tracing optics to eliminate beam walk-off in an interferometer | |
| JPS63228003A (ja) | 干渉計 | |
| JP2004239905A (ja) | コンパクトな多軸干渉計 | |
| CN117470092A (zh) | 基于双平行平板镜的多点激光测量装置及方法 | |
| CN117470090A (zh) | 一种高精度激光干涉仪及其测量方法 | |
| JP2007052022A (ja) | 物体を測定するためのシステム及び垂直変位を測定するための方法 | |
| US7212290B2 (en) | Differential interferometers creating desired beam patterns | |
| JP4262087B2 (ja) | 多軸干渉計 | |
| US7426039B2 (en) | Optically balanced instrument for high accuracy measurement of dimensional change | |
| JP2007147618A (ja) | モノリシック変位測定干渉計 | |
| JP4081317B2 (ja) | 波長較正用干渉測定装置 | |
| US20070109552A1 (en) | Optical interferometer | |
| JP2757072B2 (ja) | レーザー干渉測長計 | |
| EP0370071B1 (en) | Partly transparent mirror for a ring laser gyro | |
| US6864987B2 (en) | Interferometer having improved modulation depth and free-spectral range and method of manufacturing | |
| JPH0463305A (ja) | 偏光ビームスプリッタ及びレーザ干渉測長計 | |
| CN119123970B (zh) | 一种紧凑型四光束干涉仪、制造方法及测量方法 | |
| JP2002328005A (ja) | マルチビーム・レーザ干渉計及び積層型光学素子 | |
| WO2002046691A9 (en) | Monolithic corrector plate | |
| JPS59136604A (ja) | 多重光路レ−ザ−干渉計 | |
| US20060279740A1 (en) | Optically balanced instrument for high accuracy measurement of dimensional change | |
| JP2712509B2 (ja) | 反射膜の特性測定装置 | |
| CN121594748A (zh) | 一种准单片高精度五自由度干涉仪 | |
| JPS6281503A (ja) | 導波型光変位センサ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060523 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20060823 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20060828 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061122 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070213 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20070322 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20070327 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070813 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081028 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090126 |
|
| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20090305 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090331 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090427 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4320385 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120612 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120612 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130612 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |