JP2003192557A - 遮蔽剤の相乗混合物をベースにした抗日光化粧品用組成物及びその用途 - Google Patents

遮蔽剤の相乗混合物をベースにした抗日光化粧品用組成物及びその用途

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JP2003192557A
JP2003192557A JP2002356709A JP2002356709A JP2003192557A JP 2003192557 A JP2003192557 A JP 2003192557A JP 2002356709 A JP2002356709 A JP 2002356709A JP 2002356709 A JP2002356709 A JP 2002356709A JP 2003192557 A JP2003192557 A JP 2003192557A
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、化粧品的に許容可能なビヒクルに、少なくと
も： (ａ)第１の遮蔽剤として、１０ｎｍ〜５μｍの範囲の粒
子径を有する一の不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤；及び(ｂ)第
２の遮蔽剤として、一の特定のアミノ置換２-ヒドロキ
シベンゾフェノン誘導体；を含有せしめてなることを特
徴とする、特に皮膚及び／又は毛髪を光保護するために
局所使用される新規の化粧品用又は皮膚用組成物に関す
る。これら２つの遮蔽剤を組み合わせることにより、付
与される保護ファクターＵＶ-ＡＰＰＤに関して相乗効
果が得られる。また本発明は、紫外線の影響から、皮膚
及び毛髪を保護するためのそれらの用途にも関する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】本発明は、化粧品的に許容可能なビヒクル
中に、少なくとも： (ａ)第１の遮蔽剤として、１０ｎｍ〜５μｍの範囲の粒
子径を有する一の不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤；及び(ｂ)第
２の遮蔽剤として、一の特定のアミノ置換２-ヒドロキ
シベンゾフェノン誘導体；を含有せしめてなることを特
徴とする、特に皮膚及び／又は毛髪を光保護するために
局所使用される新規の化粧品用又は皮膚用組成物に関す
る。これら２つの遮蔽剤を組み合わせることにより、付
与される保護ファクターＵＶ-ＡＰＰＤに関して相乗効
果が得られる。また本発明は、紫外線の影響から、皮膚
及び毛髪を保護するためのそれらの用途にも関する。
【０００２】２８０ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線
によりヒトの表皮は褐色化し、ＵＶ-Ｂ線の名称で知ら
れている２８０と３２０ｎｍの間の波長の光線により、
皮膚は自然なサンタン状態の形成に有害なサンバーン状
態となったり紅斑が形成されることが知られており；よ
って、このＵＶ-Ｂ線は遮蔽しなければならない。ま
た、３２０と４００ｎｍの間の波長を持ち、皮膚を褐色
化するＵＶ-Ａ線も皮膚に悪い変化を引き起こすおそれ
があることが知られており、敏感肌又は頻繁に太陽光線
にさらされている皮膚の場合は特にしかりである。ＵＶ
-Ａ線は、特に、皮膚の弾性を喪失させ、しわを出現せ
しめ、結果として時期尚早の老化に導く原因となるもの
である。ＵＶ-Ａ線は紅斑反応の惹起を促進したり、あ
る個人においてはこの反応を悪化させ、光毒性又は光ア
レルギー反応の原因にもなりうる。よって、ＵＶ-Ａ線
もまた遮蔽することが望ましい。
【０００３】皮膚の光(ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ)保護
を意図した多数の化粧品用組成物が、現在までに提供さ
れている。抗日光組成物の効力は、ＵＶ遮蔽剤を用いな
い場合の紅斑形成閾値に達するまでに必要なＵＶ線の線
量に対する、ＵＶ遮蔽剤を用いた場合の紅斑形成閾値に
達するまでに必要なＵＶ線の線量の比率を数学的に表し
たものである日光保護ファクター(ＳＰＦ)により、一般
的に表される。よってこのファクターは、その生物学的
作用の範囲がＵＶ-Ｂ領域を中心としている紅斑に対す
る保護効果に関連しており、従ってこのＵＶ-Ｂ線に対
する保護性を記述するものである。
【０００４】皮膚に対するＵＶ-Ａ線の影響と、ＵＶ-Ｂ
及び／又はＵＶ-Ａ線を吸収可能な遮蔽剤を組み合わせ
て含有する多くの組成物の開発に鑑みて、ＵＶ-Ａ線に
対する保護性を評価するための特定の方法が開発されて
いる。ＵＶ-Ａ線に対する保護性の特徴付けには、皮膚
をＵＶ-Ａ線に暴露して２〜４時間後に観察される皮膚
の色調を測定するＰＰＤ(持続性色素暗色化：Persisten
t Pigment Darkening)法が特に推奨され使用されてい
る。この方法は、1996年、製品のＵＶ-Ａ表示のための
公式なテスト手順として日本化粧品工業協会(Japanese
Cosmetic Industry Association：ＪＣＩＡ)に採用さ
れ、欧州及び合衆国の試験研究所において頻繁に使用さ
れている[日本化粧品工業協会技術報告。ＵＶＡ保護効
果のための測定規格(Measurement Standards for UVA p
rotection efficacy)、1995年、11月21日発行、1996年1
月1日から有効]。日光保護ファクターＵＶ-ＡＰＰＤ(Ｕ
Ｖ-ＡＰＰＤＰＦ)は、ＵＶ遮蔽剤を用いない場合の色素
沈着閾値に達するまでに必要なＵＶ-Ａ線の線量(ＭＰＰ
Ｄｎｐ)に対する、ＵＶ遮蔽剤を用いた場合の色素沈着
閾値に達するまでに必要なＵＶ-Ａ線の線量(ＭＰＰ
Ｄｐ)の比率を数学的に表したものである。 ＵＶ-ＡＰＰＤＰＦ＝(ＭＰＰＤｐ)／(ＭＰＰＤｎｐ)
【０００５】これら抗日光組成物は、かなり多くの場
合、水中油型エマルション(すなわち、分散させる水性
連続相と分散させられた油性非連続相とからなる化粧品
的に許容可能なビヒクル)の形態であり、有害な紫外線
を選択的に吸収可能な一又は複数の従来からの親油性及
び／又は親水性の有機遮蔽剤を種々の濃度で含有してな
るもので、これらの遮蔽剤(及びその量)は、所望の日光
保護ファクターに従って選択される。アミノ置換２-ヒ
ドロキシベンゾフェノン誘導体をベースとする抗日光組
成物は、欧州特許出願公開第１０４６３９１号及び独国
特許第１００１２４０８号において知られている。
【０００６】実際、上述した光保護の分野において多く
の研究を行ったところ、本出願人は、予期しないこと
に、また驚くべきことに、従来技術でそれ自体は既に知
られている２つの特定のサンスクリーン剤を明確に定ま
った範囲内の割合で組み合わせることで、その顕著な相
乗効果のために、顕著に改善され、使用される遮蔽剤の
何れかだけで得られるよりもとにかく高い日光保護ファ
クターＵＶ-ＡＰＰＤを示す抗日光組成物が得られるこ
とを見出した。この発見が、本発明の基礎を形成する。
【０００７】よって、本発明の主題事項の一つは、化粧
品的に許容可能なビヒクルに： (ａ)第１の遮蔽剤として、１０ｎｍ〜５μｍの範囲の粒
子径を有する少なくとも一の不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤；
及び(ｂ)第２の遮蔽剤として、以下に記載する式(Ｉ)の
少なくとも一のアミノ置換２-ヒドロキシベンゾフェノ
ン誘導体；を含有せしめてなることを特徴とする、特に
皮膚及び／又は毛髪を光保護するための、局所使用され
る新規の化粧品用組成物を提供することにある。本発明
の他の主題事項は、太陽光線等の紫外線から、皮膚及び
／又は毛髪を保護することを意図した化粧品用組成物の
調製における、このような組成物の使用にある。本発明
の他の主題事項は、付与される日光保護ファクターＵＶ
-ＡＰＰＤに関して相乗効果を生じせしめる目的で、１
０ｎｍ〜５μｍの範囲の粒子径を有する少なくとも一の
不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤を含有し、太陽光線等の紫外線
から、皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した化
粧品用又は皮膚科学的組成物の調製における、以下に記
載する式(Ｉ)のアミノ置換２-ヒドロキシベンゾフェノ
ン誘導体の使用にある。
【０００８】本発明の趣意では、「不溶性のＵＶ遮蔽
剤」とは、水中での溶解度が０．１重量％未満で、流動
パラフィン、脂肪アルコールベンゾアート及び脂肪酸ト
リグリセリド等、例えばダイナミット・ノーベル(Dynami
t Nobel)社から販売されているミグリオール(Miglyol)
(登録商標)８１２といった大多数の有機溶媒中における
溶解度が１重量％未満である任意の有機又は無機ＵＶ遮
蔽剤を意味するものと理解される。溶媒中に過剰の固体
を懸濁させて平衡にした溶液中の生成物の量として７０
℃で定義されるこの溶解度は、実験室で容易に評価する
ことができる。本発明の他の特徴、側面及び利点は、以
下の詳細な記載を読むことにより、明らかになるであろ
う。
【０００９】一般的に、不溶性のＵＶ遮蔽剤及びアミノ
置換２-ヒドロキシベンゾフェノン誘導体は、付与され
る日光保護ファクターＵＶ-ＡＰＰＤに関して相乗効果
を生じるような割合で前記組成物中に存在する。本発明
の不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤は、１０〜５μｍ、より好ま
しくは１０ｎｍ〜２μｍ、特に２０ｎｍ〜２μｍで変わ
る平均粒子径を有する。本発明の不溶性の有機ＵＶ遮蔽
剤は、特に乾燥状態又は溶剤媒質中での粉砕、篩い分
け、噴霧化(アトマイゼーション)、微粉化(マイクロナ
イゼーション)又は噴霧(スプレー)法のような任意の適
切な手段により所望の粒状形態にすることができる。微
粒化形態の本発明に係る不溶性の有機遮蔽剤は、特にこ
のようにして得られた粒子の化粧品処方物中における分
散性の改善を可能にする適切な界面活性剤の存在下で粗
い粒子形態の不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤を粉砕する方法に
より得ることができる。
【００１０】不溶性の有機遮蔽剤の微粉化法の一例は、
本明細書の一体部分を構成する英国特許出願公開第２３
０３５４９号及び欧州特許出願公開第８９３１１９号に
開示されている。これらの文献において使用されている
粉砕装置はエアジェットミル、ビードミル(bead mil
l)、振動ミル又はハンマーミルであり、好ましくは、高
速攪拌又はインパクトミル、特にロータリービードミ
ル、バイブレーティングミル、チューブミル又はロッド
ミルとできる。
【００１１】この特定の方法によれば、ｎが８〜１６の
整数であり、ｘが(Ｃ６Ｈ１０Ｏ５)単位の平均重合度で
１．４〜１．６まで変化する構造ＣｎＨ２ｎ＋１Ｏ(Ｃ
６Ｈ １０Ｏ５)ｘＨを有するアルキルポリグルコシドが
上記遮蔽剤の粉砕のための界面活性剤として使用され
る。これらは、構造ＣｎＨ２ｎ＋１Ｏ(Ｃ６Ｈ１０Ｏ５)
ｘＨを有する化合物のＣ１−Ｃ１２エステル、特に、蟻
酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、スルホコハク酸、クエ
ン酸又は酒石酸のようなＣ１−Ｃ１２カルボン酸を、グ
ルコシド単位(Ｃ６Ｈ１０Ｏ５)上の一又は複数のフリー
のＯＨ官能基と反応させることにより得られるエステル
から選択することができる。上記界面活性剤は、一般に
微粒化された不溶性遮蔽剤に対して１〜５０重量％、よ
り好ましくは５〜４０重量％の範囲の濃度で使用され
る。
【００１２】本発明の不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤は、オキ
サルアニリド(oxalanilide)タイプ、トリアジンタイ
プ、ベンゾトリアゾールタイプ；ビニルアミドタイプ；
シンナムアミド(cinnamamide)タイプ；一又は複数のベ
ンザゾール及び／又はベンゾフラン又はベンゾチオフェ
ン基を有するタイプ又はインドールタイプ；アリールビ
ニレンケトンタイプ；フェニレンビス(ベンゾオキサジ
ノン)誘導体タイプ；又はアクリロニトリルアミド、ス
ルホンアミド又はカルバマート誘導体タイプの有機ＵＶ
遮蔽剤から特に選択されうる。本発明で使用される意味
においては、ベンザゾールなる用語は、ベンゾチアゾー
ル、ベンゾオキサゾール及びベンゾイミダゾールを同時
に含む。
【００１３】本発明オキサルアニリドタイプのＵＶ遮蔽
剤としては、次の構造： ［上式中、Ｔ１、Ｔ'１、Ｔ２及びＴ'２は同一又は異な
っており、水素原子、Ｃ １-Ｃ８アルキル基又はＣ１-Ｃ
８アルコキシ基を示す］に相当するものを挙げることが
できる。これらの化合物は国際公開９５／２２９５９号
に開示されている。例としては、それそれ次の構造： を持つチバガイギー社(Ciba-Geigy)から販売されている
商品であるティニュビン(Tinuvin)３１５及びティニュ
ビン３１２が挙げられる。
【００１４】また、本発明のトリアジンタイプの不溶性
のＵＶ遮蔽剤としては、次の式(２)： ［上式中、Ｔ３、Ｔ４及びＴ５は独立して、フェニル、
フェノキシ又はピロロであり、ここでフェニル、フェノ
キシ又はピロロ基は、ＯＨ、Ｃ１-Ｃ１８アルキル又は
Ｃ１-Ｃ１８アルコキシ、Ｃ１-Ｃ１８カルボキシアルキ
ル、Ｃ５-Ｃ８シクロアルキル、メチルベンジリデンシ
ョウノウ基、Ｔ６がＣ１-Ｃ１８アルキルかシンナミル
で、ｎは０又は１である-(ＣＨ=ＣＨ)ｎ(ＣＯ)-ＯＴ６
基から選択される１、２又は３の置換基で置換される
か、又は未置換である］に相当するものを挙げることが
できる。これらの化合物は、国際公開９７／０３６４２
号、英国特許第２２８６７７４号、欧州特許第７４３３
０９号、国際公開９８／２２４４７及び英国特許第２３
１９５２３号(本明細書の一体部分を形成する)に開示さ
れている。
【００１５】本発明に係るトリアジンタイプのＵＶ遮蔽
剤としては、またベンザルマロナート及び／又はフェニ
ルシアノアクリラート基を担持する不溶性ｓ-トリアジ
ン誘導体、例えば欧州特許出願公開第０７９０２４３号
(本明細書の一体部分を形成する)に開示されたものを挙
げることができる。特に、トリアジンタイプの不溶性の
ＵＶ遮蔽剤として、次の化合物： − ２,４,６-トリス(ジエチル-４'-アミノベンザルマ
ロナート)-ｓ-トリアジン、 − ２,４,６-トリス(ジイソプロピル-４'-アミノベン
ザルマロナート)-ｓ-トリアジン、 − ２,４,６-トリス(ジメチル-４'-アミノベンザルマ
ロナート)-ｓ-トリアジン、 − ２,４,６-トリス(エチル-α-シアノ-４-アミノシン
ナマート)-ｓ-トリアジン、を挙げることができる。
【００１６】本発明に係るトリアジンタイプのＵＶ遮蔽
剤としては、またベンゾトリアゾール及び／又はベンゾ
チアゾール基を担持する不溶性ｓ-トリアジン誘導体、
例えば国際公開９８／２５９２２号(本明細書の内容の
一体部分を形成する)に開示されたものを挙げることが
できる。 これらの化合物のなかでも、特に： − ２,４,６-トリス［(３'-ベンゾトリアゾール-２-イ
ル-２'-ヒドロキシ-５'-メチル)フェニルアミノ］-ｓ-
トリアジン、 − ２,４,６-トリス［(３'-ベンゾトリアゾール-２-イ
ル)-２'-ヒドロキシ-５'-tert-オクチル)フェニルアミ
ノ］-ｓ-トリアジン、を挙げることができる。
【００１７】本発明に係るベンゾトリアゾールタイプの
不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤としては、国際公開９５／２２
９５９号(本明細書の内容の一体部分を形成する)に開示
されたような次の式(３)： ［上式中、Ｔ７は水素原子又はＣ１-Ｃ１８アルキル基
を示し；Ｔ８及びＴ９は同一又は異なっており、フェニ
ルで置換されていてもよいＣ１-Ｃ１８アルキル基を示
す］のものを挙げることができる。
【００１８】式(３)の化合物の例としては、次の構造： を持つチバガイギー社から販売されている商品であるテ
ィニュビン３２８、３２０、３２４及び３５０が挙げら
れる。
【００１９】本発明に係るベンゾトリアゾールタイプの
不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤としては、米国特許第５６８７
５２１号、同第５３７３０３７号及び同第５３６２８８
１号に開示されている化合物、特に次の構造： を持つフェアマウントケミカル社(Fairmount Chemical)
からミキシム(Mixxim)ＰＢ３０の名称で販売されている
［２,４'-ジヒドロキシ-３-(２Ｈ-ベンゾトリアゾール-
２-イル)-５-(１,１,３,３-テトラメチルブチル)-２'-
(ｎ-オクトキシ)-５'-ベンゾイル］ジフェニルメタンを
挙げることができる。
【００２０】本発明に係るベンゾトリアゾールタイプの
不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤としては、次の構造： ［上式中、Ｔ１０及びＴ１１は同一又は異なっており、
Ｃ１-Ｃ４アルキル基、Ｃ５-Ｃ１２シクロアルキル基又
はアリール残基から選ばれる一又は複数の基で置換可能
なＣ１-Ｃ１８アルキル基を示す］を有するメチレンビ
ス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体を挙
げることができる。これらの化合物はそれ自体既知であ
り、米国特許第５２３７０７１号、同第５１６６３５５
号、英国特許出願公開第２３０３５４９号、独国特許第
１９７２６１８４号及び欧州特許出願公開第８９３１１
９号(本明細書の一体部分を形成する)に開示されてい
る。
【００２１】上記の式(４)において：Ｃ１-Ｃ１８アル
キル基は直鎖状又は分枝状であってよく、例えば、メチ
ル、エチル、ｎ-プロピル、イソプロピル、ｎ-ブチル、
イソブチル、tert-ブチル、tert-オクチル、ｎ-アミ
ル、ｎ-ヘキシル、ｎ-ヘプチル、ｎ-オクチル、イソオ
クチル、ｎ-ノニル、ｎ-デシル、ｎ-ウンデシル、ｎ-ド
デシル、テトラデシル、ヘキシルデシル又はオクタデシ
ルであり；Ｃ５-Ｃ１２シクロアルキル基は、例えばシ
クロペンチル、シクロヘキシル又はシクロオクチルであ
り；アリール基は例えばフェニル又はベンジルである。
【００２２】式(４)の化合物としては、次の構造を有す
るものが特に好適である： ２,２'-メチレンビス［６-(２Ｈ-ベンゾトリアゾール-
２-イル)-４-(１,１,３,３-テトラメチルブチル)フェノ
ール］なる命名の化合物(ａ)は、チバ・スペシャリティ
ー・ケミカルズ社(Ciba Specialty Chemicals)からチノ
ソーブ(Tinosorb)Ｍなる名称で微粒化された形態で販売
されている。また、２,２'-メチレンビス［６-(２Ｈ-ベ
ンゾトリアゾール-２-イル)-４-メチルフェノール］な
る命名の化合物(ｃ)は、フェアマウントケミカル社から
ミキシムＢＢ／２００の名称で固体状形態で販売されて
いる。
【００２３】ビニルアミドタイプの不溶性の有機遮蔽剤
としては、例えば国際公開９５／２２９５９号(本明細
書の内容の一体部分を形成する)に開示されたような次
の式の化合物： Ｔ１２-(Ｙ)ｒ-Ｃ(=Ｏ)-Ｃ(Ｔ１３)=Ｃ(Ｔ１４)-Ｎ(Ｔ１５)(Ｔ１６) (５) ［上式中、Ｔ１２は、ＯＨ、Ｃ１-Ｃ１８アルキル基、
Ｃ１-Ｃ８アルコキシ基、又は-Ｃ(=Ｏ)-ＯＴ１７基で、
Ｔ１７がＣ１-Ｃ１８アルキルであるものから選択され
る１、２又は３の置換基で置換されていてもよいフェニ
ル基、又はＣ１-Ｃ １８、好ましくはＣ１-Ｃ５アルキル
基であり；Ｔ１３、Ｔ１４、Ｔ１５及びＴ １６は同一又
は異なっており、Ｃ１-Ｃ１８、好ましくはＣ１-Ｃ５ア
ルキル基又は水素原子を示し；ＹはＮ又はＯであり、ｒ
は０又は１である］を挙げることができる。これらの化
合物としては、特に： − ４-オクチルアミノ-３-ペンテン-２-オン； − エチル-３-オクチルアミノ-３-ブテノアート； − ３-オクチルアミノ-１-フェニル-２-ブテン-１-オ
ン； − ３-ドデシルアミノ-１-フェニル-２-ブテン-１-オ
ン； を挙げることができる。
【００２４】本発明に係るシンナムアミドタイプの有機
遮蔽剤としては、国際公開９５／２２９５９号(本明細
書の内容の一体部分を形成する)に開示され、次の構
造： ［上式中、ＯＴ１８は、ヒドロキシル又はＣ１-Ｃ４ア
ルコキシ基、好ましくはメトキシ又はエトキシ基であ
り；Ｔ１９は、水素、Ｃ１-Ｃ４アルキル、好ましくは
メチル又はエチルであり；Ｔ２０は、-(ＣＯＮＨ)ｓ-フ
ェニル基で、ｓが０又は１であり、フェニル基が、Ｏ
Ｈ、Ｃ１-Ｃ１８アルキル、Ｃ１-Ｃ８アルコキシ、又は
Ｔ２１がＣ１-Ｃ１８アルキル、より好ましくはＴ２１
がフェニル、４-メトキシフェニル又はフェニルアミノ
カルボニル基である-Ｃ(=Ｏ)−ＯＴ２１基から選択され
る１、２又は３の置換基で置換されうるものである］に
相当する化合物を挙げることができる。
【００２５】例えば次の構造： を有する化合物のような米国特許第５８８８４８１号に
開示されたもののようなシンナムアミドダイマーを挙げ
ることもできる。
【００２６】ベンザゾールタイプの不溶性の有機遮蔽剤
としては、次の化合物： [上式中、各符号Ｘは独立して、酸素又は硫黄原子、又
はＮＲ２基を表し、各符号Ｚは独立して、窒素原子又は
ＣＨ基を表し、各符号Ｒ１は独立して、ＯＨ基、ハロゲ
ン原子、ケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は分枝
状のＣ１−８アルキル基、又は直鎖状又は分枝状のＣ
１−８アルコキシ基を表し、各数字ｍは独立して０、１
又は２であり、ｎは１〜４の整数であり、ｐは０又は１
に等しく、各数字ｑは独立して０又は１に等しく、各符
号Ｒ２は独立して、ケイ素原子を有していてもよい直鎖
状又は分枝状のＣ １−８アルキル基、ベンジル、又は水
素原子を表し、Ａは次の式： (上式中、ＷはＮ又はＣＨを示し；各符号Ｒ３は独立し
て、ハロゲン原子、又は直鎖状又は分枝状のＣ１−４ア
ルキル又はアルコキシ基、又はヒドロキシル基を表し、
Ｒ４は水素原子、又は直鎖状又は分枝状のＣ１−４アル
キル基を表し、ｃ＝０-４、ｄ＝０-３、ｅ＝０又は１及
びｆ＝０-２)から選択される結合価ｎを有する基を表
す]に相当するものを挙げることができる。
【００２７】これらの化合物は、特に独国特許第６７６
１０３号及びスイス国特許第３５０７６３号、米国特許
第５５０１８５０号、米国特許第５９６１９６０号、欧
州特許出願第０６６９３２３号、米国特許第５５１８７
１３号、米国特許第２４６３２６４号、論文J. Am. Che
m. Soc., 79, 5706-5708, 1957, 論文J. Am. Chem. So
c., 82, 609-611, 1960, 欧州特許出願第０９２１１２
６号及び欧州特許出願第７１２８５５号に開示されてい
る。
【００２８】式(７)の好ましい化合物の例として、２-
アリールベンザゾール、２-(ベンゾオキサゾール-２-イ
ル)-４-メチルフェノール、２-(１Ｈ-ベンゾイミダゾー
ル-２-イル)-４-メトキシフェノール又は２-(ベンゾチ
アゾール-２-イル)フェノールのファミリーを挙げるこ
とができ、これらの化合物は、例えばスイス国特許第３
５０７６３号に開示されている方法に従って調製するこ
とができる。式(７)の好ましい化合物の例として、２,
２'-ビスベンゾイミダゾール、５,５',６,６'-テトラメ
チル-２,２'-ビスベンゾイミダゾール、５,５'-ジメチ
ル-２,２'-ビスベンゾイミダゾール、６-メトキシ-２,
２'-ビスベンゾイミダゾール、２-(１Ｈ-ベンゾイミダ
ゾール-２-イル)-ベンゾチアゾール、２-(１Ｈ-ベンゾ
イミダゾール-２-イル)ベンゾオキサゾール及びＮ,Ｎ'-
ジメチル-２,２'-ビスベンゾイミダゾールのファミリー
を挙げることができ、これらの化合物は米国特許第５９
６１９６０号及び米国特許第２４６３２６４号に開示さ
れている手順に従って調製することができる。
【００２９】また、式(７)の好ましい化合物の例とし
て、フェニレンベンザゾール、１,４-フェニレンビス
(２-ベンゾオキサゾリル)、１,４-フェニレンビス(２-
ベンゾイミダゾリル)、１,３-フェニレンビス(２-ベン
ゾオキサゾリル)、１,２-フェニレンビス(２-ベンゾオ
キサゾリル)、１,２-フェニレンビス(ベンゾイミダゾリ
ル)、１,４-フェニレンビス(Ｎ-(２-エチルヘキシル)-
２-ベンゾイミダゾリル)及び１,４-フェニレンビス(Ｎ-
トリメチルシリルメチル-２-ベンゾイミダゾリル)のフ
ァミリーを挙げることができ、これらの化合物は、米国
特許第２４６３２６４号及び刊行物J. Am. Chem. Soc.,
82, 609(1960)及びJ. Am. Chem. Soc., 79, 5706-5708
(1957)に開示されている手順に従って調製することがで
きる。さらに、式(７)の好ましい化合物の例として、ベ
ンゾフラニルベンゾオキサゾール、２-(２-ベンゾフラ
ニル)ベンゾオキサゾール、２-(ベンゾフラニル)-５-メ
チルベンゾオキサゾール及び２-(３-メチル-２-ベンゾ
フラニル)ベンゾオキサゾールのファミリーを挙げるこ
とができ、これらの化合物は、米国特許第５５１８７１
３号に開示されている手順に従って調製することができ
る。
【００３０】式(８)の好ましい化合物として、例えば次
の式： に相当する、２,６-ジフェニル-１,７-ジヒドロベンゾ
[１,２-ｄ；４,５-ｄ']ジイミダゾール、又は２,６-ジ
スチリル-１,７-ジヒドロベンゾ[１,２-ｄ；４,５-ｄ']
ジイミダゾール、又は２,６-ジ(ｐ-tert-ブチルスチリ
ル)-１,７-ジヒドロベンゾ[１,２-ｄ；４,５-ｄ']ジイ
ミダゾールを挙げることができ、該化合物は欧州特許出
願第０６６９３２３号に従って調製することができる。
【００３１】式(９)の好ましい化合物として、次の式： の５,５'-ビス(２-フェニルベンゾイミダゾール)を挙げ
ることができ、その調製方法はJ. Chim. Phys., 64, 16
02(1967)に記載されている。ＵＶ線を遮蔽するこれらの
不溶性の有機化合物の中でも特に好ましいのは、２-(１
Ｈ-ベンゾイミダゾール-２-イル)ベンゾオキサゾール、
６-メトキシ-２,２'-ビスベンゾイミダゾール、２-(１
Ｈ-ベンゾイミダゾール-２-イル)ベンゾチアゾール、
１,４-フェニレンビス(２-ベンゾオキサゾリル)、１,４
-フェニレンビス(２-ベンゾイミダゾリル)、１,３-フェ
ニレンビス(２-ベンゾオキサゾリル)、１,２-フェニレ
ンビス(２-ベンゾオキサゾリル)、１,２-フェニレンビ
ス(２-ベンゾイミダゾリル)及び１,４-フェニレンビス
(Ｎ-トリメチルシリルメチル-２-ベンゾイミダゾリル)
である。
【００３２】アリールビニレンケトンタイプの不溶性の
有機遮蔽剤としては、次の式(１０)及び(１１)： [上式中：ｎ'＝１又は２、Ｂは、式(１０)においてｎ'
＝１の場合、又は式(１１)においては、次の式(ａ')な
いし(ｄ')から選択されるアリール基であり、式(１０)
においてｎ'＝２の場合、次の式(ｅ')ないし(ｈ')から
選択される基であり、 ここで、各符号Ｒ８は独立して、ＯＨ基、ハロゲン原
子、ケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は分枝状の
Ｃ１−６アルキル基、ケイ素原子を有していてもよい直
鎖状又は分枝状のＣ１−６アルコキシ基、直鎖状又は分
枝状のＣ１−５アルコキシカルボニル基、又はアミノ酸
官能基、又はケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は
分枝状のＣ１−６アルキルスルホンアミド基を表し、
ｐ'は０〜４の整数を表し、ｑ'は０又は１を表し、Ｒ５
は水素又はＯＨ基を表し、Ｒ６は水素、ケイ素原子を有
していてもよい直鎖状又は分枝状のＣ１−６アルキル
基、シアノ基、Ｃ１−６アルキルスルホニル基又はフェ
ニルスルホニル基を表し、Ｒ７は１又は２のＲ４基で置
換されていてもよく、二環(bicycle)を形成可能なフェ
ニル基、又はケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は
分枝状のＣ１−６アルキル基を表し、もしくはＲ６及び
Ｒ７は共同して、アミノ酸官能基、又はケイ素原子を有
していてもよい直鎖状又は分枝状のＣ１−８アルキルス
ルホンアミド基で置換されていてもよく、他のカルボニ
ルを含有可能で、一又は複数の窒素、硫黄及び酸素原子
が挿入されていてもよい一環、二環又は三環のＣ
２−１０炭化水素性(hydrocarbonaceous)残基を形成
し；但し、ｎ'＝１の場合、Ｒ６及びＲ７はショウノウ
環を形成しない]のいずれかに相当するものを挙げるこ
とができる。
【００３３】１０ｎｍ〜５μｍの平均粒子径を有し、Ｕ
Ｖ線を遮蔽し、不溶性であり、式(１０)においてｎ'＝
１の化合物の例としては、次の式のもの、例えば：−
日本国特許出願第０４１３４０４２号に開示されている
ようなスチリルケトンタイプの化合物、例えば１-(３,
４-ジメトキシフェニル)-４,４-ジメチルペント-１-エ
ン-３-オン： − ベンジリデンシネオールタイプの化合物、例えばE.
Marianiら, 16th IFSCCCongress, New York(1990)の論
文に記載されているもの、例えば１,３,３-トリメチル-
５-(４-メトキシベンジリデン)-２-オキサビシクロ[２.
２.２]オクタン-６-オン： − ベンジリデンクロマノンタイプの化合物、例えば日
本国特許出願第０４１３４０４３号に開示されているも
の、例えば３-(４-メトキシベンジリデン)-２,３,４ａ,
８ａ-テトラヒドロクロメン-４-オン； − ベンジリデンチオクロマノンタイプの化合物、例え
ば日本国特許出願第０４１３４０４３号に開示されてい
るもの、例えば３-(４-メトキシベンジリデン)-２,３,
４ａ,８ａ-テトラヒドロクロメン-４-チオン； − ベンジリデンキヌクリジノンタイプの化合物、例え
ば欧州特許出願第０５７６９７４号に開示されているも
の、例えば４-メトキシベンジリデン-１-アザビシクロ
[２.２.２]オクタン-３-オン： − ベンジリデンシクロアルカノンタイプの化合物、例
えば仏国特許出願第２３９５０２３号に開示されている
もの、例えば２-(４-メトキシベンジリデン)シクロペン
タノン及び２-(４-メトキシベンジリデン)シクロヘキサ
ノン： − ベンジリデンヒダントインタイプの化合物、例えば
日本国特許出願第０１１５８０９０号に開示されている
もの、例えば５-(３,４-ジメトキシベンジリデン)イミ
ダゾリジン-２,４-ジオン： − ベンジリデンインダノンタイプの化合物、例えば日
本国特許出願第０４１３４０４３号に開示されているも
の、例えば２-(４-メトキシベンジリデン)インダン-１-
オン； − ベンジリデンテトラロンタイプの化合物、例えば日
本国特許出願第０４１３４０４３号に開示されているも
の、例えば２-(４-メトキシベンジリデン)-３,４-ジヒ
ドロ-２Ｈ-ナフタレン-１-オン： − ベンジリデンフラノンタイプの化合物、例えば欧州
特許出願第０３９０６８３号に開示されているもの、例
えば４-(４-メトキシベンジリデン)-２,２,５,５-テト
ラメチルジヒドロフラン-３-オン： − ベンジリデンベンゾフラノンタイプの化合物、例え
ば日本国特許出願第０４１３４０４１号に開示されてい
るもの、例えば２-ベンジリデンベンゾフラン-３-オ
ン： − ベンジリデンインダンジオンタイプの化合物、例え
ば２-(３,５-ジ(tert-ブチル)-４-ヒドロキシベンジリ
デン)インダン-１,３-ジオン： − ベンジリデンベンゾチオフラノンタイプの化合物、
例えば日本国特許出願第０４１３４０４３号に開示され
ているもの、例えば２-ベンジリデンベンゾ[ｂ]チオフ
ェン-３-オン： − ベンジリデンバルビツール酸タイプの化合物、例え
ば５-(４-メトキシベンジリデン)-１,３-ジメチルピリ
ミジン-２,４,６-トリオン： − ベンジリデンピラゾロンタイプの化合物、例えば４
-(４-メトキシベンジリデン)-５-メチル-２-フェニル-
２,４-ジヒドロピラゾール-３-オン： − ベンジリデンイミダゾロンタイプの化合物、例えば
５-(４-メトキシベンジリデン)-２-フェニル-３,５-ジ
ヒドロイミダゾール-４-オン： − カルコンタイプの化合物、例えば１-(２-ヒドロキ
シ-４-メトキシフェニル)-３-フェニルプロペノン： − 仏国特許第２５０６１５６号公報に開示されている
ようなベンジリデノン化合物、例えば３-ヒドロキシ-１
-(２-ヒドロキシ-４-メトキシフェニル)-３-フェニルプ
ロペノン： を挙げることができる。
【００３４】１０ｎｍ〜５μｍの平均粒子径を有し、Ｕ
Ｖ線を遮蔽し、不溶性であり、式(１０)においてｎ'＝
２の化合物の例としては、次の式のもの、例えば：−
欧州特許第０６９３４７１号公報に開示されているよう
なフェニレンビス(メチリデンノルショウノウ)タイプの
化合物、例えば１,４-フェニレンビス{３-メチリデンビ
シクロ[２.２.１]-ヘプタン-２-オン}： − 仏国特許第２５２８４２０号公報に開示されている
ようなフェニレンビス(メチリデンショウノウ)タイプの
化合物、例えば１,４-フェニレンビス{３-メチリデン-
１,７,７-トリメチルビシクロ[２.２.１]ヘプタン-２-
オン}： 又は１,３-フェニレンビス{３-メチリデン-１,７,７-ト
リメチルビシクロ[２.２.１]ヘプタン-２-オン}： − フェニレンビス(メチリデンショウノウスルホンア
ミド)タイプの化合物、例えば仏国特許第２５２９８８
７号公報に開示されているもの、例えば１,４-フェニレ
ンビス{３,３'-メチリデンショウノウ-１０,１０'-エチ
ルスルホンアミド又は-(２-エチルヘキシル)スルホンア
ミド}： − E. Marianiら, 16th IFSCC Congress, New York(19
90)の論文に記載されているようなフェニレンビス(メチ
リデンシネオール)タイプの化合物、例えば１,４-フェ
ニレンビス{５-メチリデン-３,３-ジメチル-２-オキサ
ビシクロ[２.２.２]オクタン-６-オン}： − 欧州特許出願第０６９４５２１号に開示されている
ようなフェニレンビス(メチリデンケトトリシクロデカ
ン)タイプの化合物、例えば１,４-フェニレンビス(オク
タヒドロ-４,７-メタノ-６-インデン-５-オン)： − フェニレンビス(アルキレンケトン)タイプの化合
物、例えば日本国特許出願第０４１３４０４１号に開示
されているもの、例えば１,４-フェニレンビス(４,４-
ジメチルペント-１-エン-３-オン)： − 仏国特許出願第２６３８３５４号に開示されている
ようなフェニレンビス(メチリデンフラノン)タイプの化
合物、例えば１,４-フェニレンビス(４-メチリデン-２,
２,５,５-テトラメチルジヒドロフラン-３-オン)： − フェニレンビス(メチリデンキヌクリジノン)タイプ
の化合物、例えば欧州特許出願第０７１４８８０号に開
示されているもの、例えば１,４-フェニレンビス{２-メ
チリデン-１-アザビシクロ[２.２.２]オクタン-３-オ
ン}： を挙げることができる。
【００３５】式(１１)の化合物としては、次の式のも
の、例えば： − ビス(ベンジリデン)シクロアルカノンタイプの化合
物、例えば２,５-ジ(ベンジリデン)シクロペンタノン： − 日本国特許第０４２９０８８２号に開示されている
ようなγ-ピロンタイプの化合物、例えば２,６-ビス
(３,４-ジメトキシフェニル)ピラン-４-オン： を挙げることができる。
【００３６】アリールビニレンケトンタイプのＵＶ線を
遮蔽するこれらの不溶性有機化合物の中でも、式(１０)
においてｎ'＝２である化合物が特に好ましい。
【００３７】フェニレンビス(ベンゾオキサジノン)タイ
プの不溶性の有機遮蔽剤としては、次の式(１２)： [Ｒは次の式(ｅ'')ないし(ｈ'')： (上式中：各符号Ｒ９は独立して、アミノ酸官能基、又
はケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は分枝状のＣ
１−６アルキルスルホンアミド基、直鎖状又は分枝状の
Ｃ １−５アルコキシカルボニル基、ケイ素原子を有して
いてもよい直鎖状又は分枝状のＣ１−６アルコキシ基、
ケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は分枝状のＣ
１−６アルキル基、ハロゲン原子、ＯＨ基を表し、ｐ''
は０〜４の整数を表し、ｑ''は０又は１を表す)から選
択される二価の芳香族残基を表す]に相当するものを挙
げることができる。
【００３８】１０ｎｍ〜５μｍの平均粒子径を有し、Ｕ
Ｖ線を遮蔽し、不溶性である式(１２)の化合物の例とし
ては、次の誘導体： − ２,２'-ｐ-フェニレンビス(３,１-ベンゾオキサジ
ン-４-オン)、サイテック社(Cytec)からの市販品サイア
ソーブ(Cyasorb)ＵＶ-３６３８、 − ２,２'-(４,４'-ビフェニレン)ビス(３,１-ベンゾ
オキサジン-４-オン)、 − ２,２'-(２,６-ナフチレン)ビス(３,１-ベンゾオキ
サジン-４-オン)、を挙げることができる。
【００３９】アクリロニトリルアミド、スルホンアミド
又はカルバマート誘導体タイプの不溶性の有機遮蔽剤と
しては、次の式(１３)： [上式中：Ｒ１０は直鎖状又は分枝状のＣ１−８アルキ
ル基を表し、ｎ'''は０、１又は２であり、Ｘ２は式-
(Ｃ=Ｏ)-Ｒ１１-(Ｃ=Ｏ)-、-ＳＯ２-Ｒ１１-ＳＯ２-又
は-(Ｃ=Ｏ)-Ｏ-Ｒ１１-Ｏ-(Ｃ=Ｏ)-の二価の基を表し、
Ｙは-(Ｃ=Ｏ)-Ｒ１２又は-ＳＯ２Ｒ１３基を表し、Ｒ
１１は、酸素、窒素及びケイ素原子から選択される一又
は複数のヘテロ原子を炭素性鎖に含有可能で、一又は複
数のヒドロキシル置換基を担持可能な、直鎖状又は分枝
状で二価のＣ１-Ｃ３０アルキレン又はＣ３-Ｃ３０アル
ケニレン基、又は単結合を表し、Ｒ１２は-ＯＲ１４又
は-ＮＨＲ１４基を表し、Ｒ１３はＣ１-Ｃ４アルキル又
はアルコキシ基で置換されるか未置換のフェニル環又は
直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ３０アルキル基を表し、Ｒ
１４は、酸素、窒素及びケイ素原子から選択される一又
は複数のヘテロ原子を炭素性鎖に含有可能で、一又は複
数のヒドロキシル置換基を担持可能な、直鎖状又は分枝
状のＣ１-Ｃ３０アルキル又はＣ３-Ｃ３０アルケニル基
を表す]に相当するものを挙げることができる。
【００４０】シアノ置換基がパラ-アミノフェニル置換
基に対してシス位にある異性体のみが上述した式(１３)
で表わされるが、この式は、対応するトランス異性体を
も含むと理解すべきであり；２つの二重結合に対し、独
立して、シアノ及びパラ-アミノフェニル置換基は互い
にシス又はトランス立体配置であり得る。
【００４１】また、例として、次の式： の２-エチルヘキシル-２-シアノ-３-[４-(アセチルアミ
ノ)フェニル]アクリラートのダイマーを挙げることもで
きる。
【００４２】本発明に係る不溶性有機遮蔽剤の他の特定
のファミリーは、スルホン酸又はカルボン酸有機遮蔽剤
の多価金属塩(例えば、Ｃａ２＋、Ｚｎ２＋、Ｍ
ｇ２＋、Ｂａ２＋、Ａｌ３＋又はＺｒ４＋)、例えばベ
ンジリデンショウノウのスルホン化誘導体の多価金属
塩、例えば仏国特許出願公開第２６３９３４７号に開示
されているもの；ベンゾイミダゾールのスルホン化誘導
体の多価金属塩、例えば欧州特許出願公開第８９３１１
９号に開示されているもの；又はケイ皮酸誘導体の多価
金属塩、例えば日本国特許出願第８７１６６５１７号に
開示されているものである。国際公開９３／１０７５３
号、国際公開９３／１１０９５号及び国際公開９５／０
５１５０号に開示されたＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂに対
する有機遮蔽剤の金属又はアンモニウム又は置換アンモ
ニウム錯体を挙げることもまたできる。本発明の不溶性
のＵＶ遮蔽剤又は遮蔽剤類は、組成物の全重量に対し
て、好ましくは約１〜１０重量％、より詳細には約２〜
８重量％の範囲の全濃度で存在する。
【００４３】本発明のアミノ置換２-ヒドロキシベンゾ
フェノン誘導体は、次の式(Ｉ)： [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
原子、Ｃ１-Ｃ２０アルキル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル
基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルキル基又はＣ３-Ｃ１０シク
ロアルケニル基を示し；Ｒ１及びＲ２はそれらが結合し
ている窒素原子と共同して、５-又は６員環を形成可能
で；Ｒ３及びＲ４は同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ
２０アルキル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基、Ｃ３-Ｃ
１０シクロアルキル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルケニル
基、Ｃ１-Ｃ１２アルコキシ基、(Ｃ１-Ｃ２０)アルコキ
シカルボニル基、Ｃ１-Ｃ １２アルキルアミノ基、ジ(Ｃ
１-Ｃ１２)アルキルアミノ基、アリール基又はヘテロア
リールで、置換されていてもよいもの、又はカルボキシ
ラート基、スルホナート基又はアンモニウム残基から選
択される水溶性置換基を示し；Ｘは水素原子又はＣＯＯ
Ｒ５又はＣＯＮＲ６Ｒ７基を示し；Ｒ５、Ｒ６及びＲ７
は同一又は異なっており、水素原子、Ｃ１-Ｃ２０アル
キル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロ
アルキル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルケニル基、-(ＹＯ)
Ｏ-Ｚ基又はアリール基を示し；Ｙは-(ＣＨ２)２-、-
(ＣＨ２)３-、-(ＣＨ２)４-又は-ＣＨ-(ＣＨ３)-ＣＨ２
-を示し；Ｚは-ＣＨ２-ＣＨ３、-ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、
-ＣＨ２-ＣＨ２-ＣＨ２-ＣＨ３又は-ＣＨ(ＣＨ３)-ＣＨ
３を表し；ｍは０〜３で変化する整数であり；ｎは０〜
３で変化する整数であり；ｏは１〜２で変化する整数で
ある]に相当するものである。
【００４４】Ｃ１-Ｃ２０アルキル基としては、例え
ば：メチル、エチル、ｎ-プロピル、１-メチルエチル、
ｎ-ブチル、１-メチルプロピル、２-メチルプロピル、
１,１-ジメチルエチル、ｎ-ペンチル、１-メチルブチ
ル、２-メチルブチル、３-メチルブチル、２,２-ジメチ
ルプロピル、１-エチルプロピル、ｎ-ヘキシル、１,１-
ジメチルプロピル、１,２-ジメチルプロピル、１-メチ
ルペンチル、２-メチルペンチル、３-メチルペンチル、
４-メチルペンチル、１,１-ジメチルブチル、１,２-ジ
メチルブチル、１,３-ジメチルブチル、２,２-ジメチル
ブチル、２,３-ジメチルブチル、３,３-ジメチルブチ
ル、１-エチルブチル、２-エチルブチル、１,２,２-ト
リメチルプロピル、１-エチル-１-メチルプロピル、１-
エチル-２-メチルプロピル、ｎ-ヘプチル、ｎ-オクチ
ル、ｎ-ノニル、ｎ-デシル、ｎ-ウンデシル、ｎ-ドデシ
ル、ｎ-トリデシル、ｎ-テトラデシル、ｎ-ペンタデシ
ル、ｎ-ヘキサデシル、ｎ-ヘプタデシル、ｎ-オクタデ
シル、ｎ-ノナデシル又はｎ-イコシル(icosyl)を挙げる
ことができる。
【００４５】Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基としては、例え
ば：ビニル、ｎ-プロペニル、イソプロペニル、１-ブテ
ニル、２-ブテニル、１-ペンテニル、２-ペンテニル、
２-メチル-１-ブテニル、２-メチル-２-ブテニル、３-
メチル-１-ブテニル、１-ヘキセニル、２-ヘキセニル、
１-ヘプテニル、２-ヘプテニル、１-オクテニル又は２-
オクテニルを挙げることができる。Ｃ１-Ｃ１２アルコ
キシ基としては：メトキシ、エトキシ、ｎ-プロポキ
シ、ｎ-ブトキシ、ｎ-ペントキシ、１-メチルプロポキ
シ、３-メチルブトキシ、２,２-ジメチルプロポキシ、
１-メチル-１-エチルプロポキシ、オクトキシ、２-メチ
ルプロポキシ、１,１-ジメチルプロポキシ、ヘキソキ
シ、ヘプトキシ又は２-エチルヘキソキシを挙げること
ができる。
【００４６】Ｃ３-Ｃ１０シクロアルキル基としては、
例えば：シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、１-メチルシク
ロプロピル、１-エチルシクロプロピル、１-プロピルシ
クロプロピル、１-ブチルシクロプロピル、１-ペンチル
シクロプロピル、１-メチル-１-ブチルシクロプロピ
ル、１,２-ジメチルシクロプロピル、１-メチル-２-エ
チルシクロプロピル、シクロオクチル、シクロノニル又
はシクロデシルを挙げることができる。一又は複数の二
重結合を有するＣ３-Ｃ１０シクロアルケニル基として
は：シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテ
ニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル、１,
３-シクロヘキサジエニル、１,４-シクロヘキサジエニ
ル、シクロヘプテニル、シクロヘプタトリエニル、シク
ロオクテニル、１,５-シクロオクタジエニル、シクロオ
クタテトラエニル、シクロノネニル又はシクロデセニル
を挙げることができる。シクロアルキル又はシクロアル
ケニル基は、例えば塩素、フッ素又は臭素等のハロゲ
ン；シアノ；ニトロ；アミノ；Ｃ１-Ｃ４アルキルアミ
ノ；ジ(Ｃ１-Ｃ４)アルキルアミノ；Ｃ１-Ｃ４アルキ
ル；Ｃ１-Ｃ４アルコキシ；又はヒドロキシルから選択
される一又は複数(好ましくは１〜３)の置換基を有し得
る。それらは、そのフリーの結合価が水素又はＣ１-Ｃ
４アルキル基により占有され得る、１〜３のヘテロ原
子、例えば硫黄、酸素又は窒素をさらに有してもよい。
【００４７】アリール基は、好ましくは、例えば塩素、
フッ素又は臭素等のハロゲン；シアノ；ニトロ；アミ
ノ；Ｃ１-Ｃ４アルキルアミノ；ジ(Ｃ１-Ｃ４)アルキル
アミノ；Ｃ１-Ｃ４アルキル；Ｃ１-Ｃ４アルコキシ；又
はヒドロキシルから選択される一又は複数(好ましくは
１〜３)の置換基を有し得るフェニル又はナフチル環か
ら選択される。特に好ましくは、フェニル、メトキシフ
ェニル及びナフチルである。ヘテロアリール基は、一般
的に、硫黄、酸素又は窒素から選択される一又は複数の
ヘテロ原子を含有する。
【００４８】水溶性基は、例えばカルボキシラート又は
スルホナート基であり、特に、それらの生理学的に許容
可能なカチオンとの塩類、例えばアルカリ金属塩又はト
リアルキルアンモニウム塩、例えばトリ(ヒドロキシア
ルキル)アンモニウム又は２-メチルプロパン-１-オール
-２-アンモニウム塩である。さらに、アンモニウム基、
例えばアルキルアンモニウム、及びそれらの生理学的に
許容可能なアニオンとの塩の形態を挙げることもでき
る。Ｒ１及びＲ２基と窒素原子とで形成される５-又は
６員環の例としては、特にピロリジン又はピペリジンを
挙げることができる。アミノ基は、カルボニル基に対し
てオルト、メタ又はパラ位、好ましくはパラ位におい
て、ベンゼン環に結合可能である。
【００４９】式(Ｉ)の好ましい化合物のファミリーに
は、次の式(Ｉａ)： [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
原子、又はＣ１-Ｃ１２アルキル基を示すか、又はそれ
らが結合している窒素原子と共同して５-又は６員環を
形成し；ＸはＣＯＯＲ５又はＣＯＮＲ６Ｒ７基を示し；
Ｒ５は、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又はＣ３-Ｃ
６シクロアルキル基を示し；Ｒ６及びＲ７は同一又は異
なっており、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又はＣ
５-Ｃ６シクロアルキル基を示す]から選択されるものが
含まれる。式(Ｉａ)の特に好ましい化合物は：Ｒ１及び
Ｒ２が同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ４アルキル基、
特にエチルを示し；Ｒ５がＣ３-Ｃ８アルキル基を示
し；Ｒ６及びＲ７は同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ８
アルキル基を示す；ものである。
【００５０】式(Ｉ)の好ましい化合物の他のファミリー
には、次の式(Ｉｂ)： [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、Ｃ１-
Ｃ１２アルキル基を示すか、又はそれらが結合している
窒素原子と共同して５-又は６員環を形成する]から選択
されるものが含まれる。式(Ｉｂ)の化合物としては、特
に： − ４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシフェニル-フェニ
ルケトン、 − ４-ピロリジノ-２-ヒドロキシフェニル-フェニルケ
トン、 を挙げることができる。
【００５１】式(Ｉ)の特に好ましい化合物のファミリー
には、次の式(Ｉｃ)： [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
原子、又はＣ１-Ｃ８アルキル基を示すか、又はそれら
が結合している窒素原子と共同して５-又は６員環を形
成し；Ｒ５は、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又は
Ｃ３-Ｃ６シクロアルキル基を示す]から選択されるもの
が含まれる。式(Ｉｃ)の化合物としては： − ２-(４-ピロリジノ-２-ヒドロキシベンゾイル)ベン
ゾアート − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸メチル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸２-エチルヘキシル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸シクロヘキシル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸ｎ-ヘキシル − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
ベンゾアート − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸メチル − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸イソブチル を挙げることができる。特に好ましい式(Ｉ)の化合物
は、２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸ｎ-ヘキシルである。
【００５２】上述した式(Ｉ)の化合物はそれ自体公知で
あり、それらの構造及び合成は、欧州特許出願公開第１
０４６３９１号及び独国特許第１００１２４０８号(本
明細書の内容の一体部分を形成する)に開示されてい
る。本発明のアミノ置換２-ヒドロキシベンゾフェノン
誘導体は、組成物の全重量に対して、好ましくは０．１
〜２０重量％、より好ましくは０．１〜１５重量％、特
に０．５〜１０重量％の範囲の割合で、本発明の組成物
に存在している。
【００５３】本発明の組成物は、ＵＶ-Ａ及び／又はＵ
Ｖ-Ｂ領域に活性のある他の付加的な、水溶性又は脂溶
性の有機ＵＶ遮蔽剤(吸収剤)をさらに含有可能である。
付加的な有機ＵＶ遮蔽剤は、特にアントラニラート類；
ケイ皮酸誘導体；サリチル酸誘導体；化合物(ＩＩ)以外
のショウノウ誘導体；トリアジン誘導体、例えば米国特
許第４３６７３９０号、欧州特許第８６３１４５号、欧
州特許第５１７１０４号、欧州特許第５７０８３８号、
欧州特許第７９６８５１号、欧州特許第７７５６９８
号、欧州特許第８７８４６９号及び欧州特許第９３３３
７６号に開示されているもの；式(Ｉ)以外のベンゾフェ
ノン誘導体；β,β-ジフェニルアクリラート誘導体；ベ
ンゾトリアゾール誘導体；ベンザルマロナート誘導体；
ベンゾイミダゾール誘導体；イミダゾリン類；ビスベン
ゾアゾリル誘導体、例えば欧州特許第６６９３２３号及
び米国特許第２４６３２６４号に開示されているもの；
ｐ-アミノ安息香酸(ＰＡＢＡ)誘導体；メチレンビス(ヒ
ドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体、例えば
米国特許第５２３７０７１号、米国特許第５１６６３５
５号、英国特許第２３０３５４９号、独国特許第１９７
２６１８４号及び欧州特許第８９３１１９号に開示され
ているもの；遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン類、例え
ば特に国際公開第９３／０４６６５号に開示されている
もの；α-アルキルスチレンから誘導された二量体、例
えば独国特許出願第１９８５５６４９号に開示されてい
るもの；及び４,４-ジアリールブタジエン類、例えば欧
州特許第０９６７２００号、独国特許第１９７４６６５
４号、独国特許第１９７５５６４９号及び欧州特許出願
公開第１００８５８６号に開示されているものから選択
される。
【００５４】ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域に活性のあ
る付加的な有機遮蔽剤の例としては、ＩＮＣＩ名で以下
に示すものが挙げられる：パラ-アミノ安息香酸誘導体 ： − ＰＡＢＡ、 − エチルＰＡＢＡ、 − エチル-ジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、 − 特に、ＩＳＰ社から「エスカロール(Escalol)５０
７」の名称で販売されているエチルヘキシル-ジメチル
ＰＡＢＡ、 − グリセリルＰＡＢＡ、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌル(Uvinul)Ｐ２５」の名称
で販売されているＰＥＧ-２５-ＰＡＢＡ。
【００５５】サリチル酸誘導体： − ロナ(Rona)／ＥＭインダストリーから「ユーソレッ
クス(Eusolex)ＨＭＳ」の名称で販売されているホモサ
ラート(Homosalate)、 − ハーマンアンドレイマー社(Haarmann and Reimer)
から「ネオ・ヘリオパン(Neo Heliopan)ＯＳ」の名称で
販売されているサリチル酸エチルヘキシル、 − スケル社(Scher)から「ディプサル(Dipsal)」の名
称で販売されているジプロピレングリコールサリチラー
ト、 − ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパン
ＴＳ」の名称で販売されているＴＥＡサリチラート。
【００５６】ジベンゾイルメタン誘導体： − ホフマン-ラロシュ社(Hoffmann LaRoche)から「パ
ルソール(Parsol)1789」の商品名で販売されているブチ
ル-メトキシジベンゾイルメタン、 − イソプロピルジベンゾイルメタン。ケイ皮酸誘導体 ： − 特にホフマン-ラロシュ社から「パルソールＭＣ
Ｘ」の商品名で販売されているメトキシケイ皮酸エチル
ヘキシル、 − メトキシケイ皮酸イソプロピル、 − ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパン
Ｅ１０００」の商品名で販売されているメトキシケイ皮
酸イソアミル、 − シノキサート(Cinoxate)、 − ＤＥＡメトキシシンナマート、 − メチルケイ皮酸ジイソプロピル、 − グリセリル-エチルヘキサノアート-ジメトキシシン
ナマート。
【００５７】β,β-ジフェニルアクリラート誘導体： − 特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ５３９」の商品名
で販売されているオクトクリレン(Octocrylene)、 − 特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ３５」の商品名で
販売されているエトクリレン(Etocrylene)。ベンゾフェノン誘導体 ： − ＢＡＳＦ社から「ユビヌル４００」の商品名で販売
されているベンゾフェノン-１、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤ５０」の商品名で販売
されているベンゾフェノン-２、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭ４０」の商品名で販売
されているベンゾフェノン-３又はオキシベンゾン、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭＳ４０」の商品名で販
売されているベンゾフェノン-４、 − ベンゾフェノン-５、 − ノルクアイ社(Norquay)から「ヘリソーブ(Helisor
b)１１」の商品名で販売されているベンゾフェノン-
６、 − アメリカン・シアナミド社(American Cyanamid)社か
ら「スペクトラ-ソーブ(Spectra-Sorb)ＵＶ-２４」の商
品名で販売されているベンゾフェノン-８、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤＳ-４９」の商品名で
販売されているベンゾフェノン-９、 − ベンゾフェノン-１２。
【００５８】ベンジリデンショウノウ誘導体： − シメックス社(Chimex)から「メギゾリル(Mexoryl)
ＳＤ」の名称で製造されている３-ベンジリデンショウ
ノウ、 − メルク社(Merck)から「ユーソレックス６３００」
の名称で販売されている４-メチルベンジリデンショウ
ノウ、 − シメックス社から「メギゾリルＳＬ」の名称で製造
されているベンジリデンショウノウスルホン酸、 − シメックス社から「メギゾリルＳＯ」の名称で製造
されているメト硫酸ショウノウベンザルコニウム、 − シメックス社から「メギゾリルＳＷ」の名称で製造
されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンショ
ウノウ。フェニルベンゾイミダゾール誘導体 ： − 特にメルク社から「ユーソレックス２３２」の商品
名で販売されているフェニルベンゾイミダゾールスルホ
ン酸、 − ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパン
ＡＰ」の商品名で販売されているフェニルジベンゾイミ
ダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム。
【００５９】トリアジン誘導体： − チバ・スペシャリティー・ケミカルズから「チノソー
ブＳ」の商品名で販売されているアニソトリアジン、 − 特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＴ１５０」の商品名
で販売されているエチルヘキシルトリアゾン、 − シグマ３Ｖ社(Sigma 3V)から「ユバソーブ(Uvasor
b)ＨＥＢ」の商品名で販売されているジエチルヘキシル
ブタミドトリアゾン、 − ２,４,６-トリス(ジイソブチル-４'-アミノベンザ
ルマロナート)-ｓ-トリアジン。フェニルベンゾトリアゾール誘導体 ： − ロ−ディア・シミー社(Rhodia Chimie)から「シラト
リゾール(Silatrizole)」の名称で販売されているドロ
メトリゾール(Drometrizole)トリシロキサン、 − チバ・スペシャリティー・ケミカルズから「チノソー
ブＭ」の商品名で水性分散液におけるマイクロ化形態の
ものとして、もしくはフェアマウント・ケミカル社から
「ミキシムＢＢ／１００」の商品名で固体形態のものと
して販売されているメチレンビス(ベンゾトリアゾリル
テトラメチルブチルフェノール)。
【００６０】アントラニル誘導体： − ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパン
ＭＡ」の商品名で販売されているアントラニル酸メンチ
ル。イミダゾリン誘導体 ： − エチルヘキシル-ジメトキシベンジリデン-ジオキソ
イミダゾリン-プロピオナート。ベンザルマロナート誘導体 ： − ホフマン-ラロシュ社から「パルソールＳＬＸ」の
商品名で販売されているベンザルマロナート官能基を有
するポリオルガノシロキサン。４,４-ジアリールブタジエン誘導体： − １,１-ジカルボキシ(２,２'-ジメチル-プロピル)-
４,４-ジフェニルブタジエン、 − 及びそれらの混合物。
【００６１】特に好ましい溶解性の有機ＵＶ遮蔽剤は次
の化合物： − サリチル酸エチルヘキシル、 − オクトクリレン、 − メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、 − ブチルメトキシジベンゾイルメタン、 − フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、 − ベンゾフェノン-３、 − ベンゾフェノン-４、 − ベンゾフェノン-５、 − ４-メチルベンジリデンショウノウ、 − フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二
ナトリウム − アニソトリアジン、 − エチルヘキシルトリアゾン、 − ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、 − ２,４,６-トリス(ジイソブチル-４'-アミノベンザ
ルマロナート)-ｓ-トリアジン、 − ドロメトリゾールトリシロキサン、 − メチレンビス(ベンゾトリアゾリルテトラメチルブ
チルフェノール)、 − １,１-ジカルボキシ(２,２'-ジメチル-プロピル)-
４,４-ジフェニルブタジエン、 及びそれらの混合物、から選択される。
【００６２】さらに本発明の化粧品用組成物は、被覆又
は非被覆の金属酸化物の顔料又はナノ顔料類(一次粒子
の平均粒径：一般的に５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは
１０ｎｍ〜５０ｎｍ)、例えば、それ自体、ＵＶ光保護
剤としてよく知られている酸化チタン(アモルファス、
又はルチル及び／又はアナターゼ型の結晶)、酸化鉄、
酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔
料類をさらに含有してもよい。また、従来のコーティン
グ剤は、アルミナ及び／又はステアリン酸アルミニウム
である。このような、被覆又は非被覆の金属酸化物のナ
ノ顔料類は、特に、欧州特許出願公開第０５１８７７２
号及び欧州特許出願公開第０５１８７７３号に開示され
ている。また、本発明の組成物は、皮膚を人工的にサン
タン状態にする、及び／又は褐色にするための薬剤(自
己サンタン剤)、例えばジヒドロキシアセトン(ＤＨＡ)
をさらに含有してもよい。
【００６３】また本発明の組成物は、特に、脂肪物質、
有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、柔軟剤、
酸化防止剤、フリーラジカルに抗するための薬剤、乳白
剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、α-ヒドロ
キシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香
料、防腐剤、界面活性剤、抗炎症剤、サブスタンスＰア
ンタゴニスト、フィラー、ポリマー類、噴霧剤、塩基性
又は酸性化剤、着色料、又は化粧品、特にエマルション
の形態の抗日光組成物の製造において通常使用されてい
る任意の他の成分から選択される従来からの化粧品用ア
ジュバントをさらに含有してもよい。
【００６４】脂肪物質は油又はロウ又はそれらの混合物
からなり得る。「油」という用語は、周囲温度で液状の
化合物を意味すると理解される。「ロウ」という用語
は、周囲温度で固体又は実質的に固体であり、その融点
が一般的に３５℃を越える化合物を意味すると理解され
る。それらは脂肪酸、脂肪アルコール、及び直鎖状又は
環状の脂肪酸エステル類、例えば安息香酸、トリメリト
酸及びヒドロキシ安息香酸の誘導体を含み得る。油とし
ては、鉱物性油(流動パラフィン)；植物性油(スイート
アルモンド油、マカダミア油、クロフサスグリ種油又は
ホホバ油)；合成油、例えばペルヒドロスクワレン、脂
肪アルコール、脂肪酸又は脂肪エステル類(例えばファ
インテックス社(Finetex)から「フィンソルブ(Finsolv)
ＴＮ」の商品名で販売されているＣ１２-Ｃ１５安息香
酸アルキル、パルミチン酸オクチル、ラノリン酸イソプ
ロピル、カプリン酸／カプリル酸のものを含むトリグリ
セリド)、又はオキシエチレン化又はオキシプロピレン
化された脂肪エステル及びエーテル；シリコーン油(シ
クロメチコーン、ポリジメチルシロキサン又はＰＤＭＳ
類)；フッ化油；又はポリアルキレン類を挙げることが
できる。ロウ状化合物としては、パラフィンロウ、カル
ナウバロウ、ミツロウ又は硬化ヒマシ油を挙げることが
できる。有機溶媒としては、低級アルコール及びポリオ
ールを挙げることができる。もちろん、当業者であれ
ば、本発明の組成物に固有の有利な特性、特に相乗効果
が、考えられる添加により悪影響を受けないか、実質的
に受けないように留意して、これらの任意の付加的な化
合物及び／又はその量を選択するであろう。
【００６５】本発明の組成物は、当業者によく知られた
技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調
製のための技術により調製され得る。これらの組成物
は、特に、単一又は複合エマルション(Ｏ／Ｗ、Ｗ／
Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ)の形態、例えばクリー
ム、ミルク、ゲル又はクリームゲル、パウダー又は固体
状チューブの形態であってもよく、また、任意にエアゾ
ールとして包装されてもよく、フォーム又はスプレーの
形態で提供されてもよい。エマルションである場合、こ
のエマルションの水相は、公知の方法［バンガム(Bangh
am)、スタンディッシュ(Standish)及びワトキンス(Watk
ins)、J. Mol. Biol. 13, 238(1965)、仏国特許第２３
１５９９１号及び仏国特許第２４１６００８号］により
調製される非イオン性の小胞体分散液を含有してもよ
い。
【００６６】本発明の化粧品用組成物は、紫外線からヒ
トの表皮又は毛髪を保護するための組成物として、抗日
光組成物として又はメークアップ製品として使用するこ
とができる。本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からヒ
トの表皮を保護するため、あるいは抗日光組成物として
使用される場合、組成物は、脂肪物質又は溶媒に分散又
は懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又
はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形
態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリ
ームゲル、チューブ状固体、パウダー、スティック、エ
アゾールフォーム又はスプレーの形態で提供することが
できる。
【００６７】本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線から毛
髪を保護するために使用される場合、それは、シャンプ
ー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の
小胞体分散液の形態で提供することができ、また、例え
ばシャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後、パ
ーマネントウエーブ又は毛髪のストレート化処理の前、
処理中又は処理後に適用されてすすがれる組成物、スタ
イリング又はトリートメント用のローション又はスタイ
リング又はトリートメント用のゲル、ブロー乾燥又は毛
髪のセット用のローション又はゲル、又はパーマネント
ウエーブ処理、毛髪のストレート化、染色又は脱色のた
めの組成物を構成し得る。組成物が、まつげ、眉毛又は
皮膚用のメークアップ製品、例えば、表皮用トリートメ
ントクリーム、ファンデーション、チューブ状口紅、ア
イシャドウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライ
ナーとして使用される場合、それは、無水又は水性で固
体状又はペースト状の形態、例えば、水中油型又は油中
水型のエマルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸
濁液として提供され得る。
【００６８】指針として、水中油型エマルション型のビ
ヒクルを有する本発明の抗日光組成物において、水相
(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対し
て、一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０
重量％、油相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全組
成物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重
量％、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して０．５〜２
０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。
【００６９】以下に本発明を例証するための実施例を付
与するが、これに限定されるものではない。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ６１Ｋ 7/00 Ａ６１Ｋ 7/00 Ｒ Ｓ 7/02 7/02 Ｚ 7/06 7/06 7/075 7/075 7/48 7/48 Ｆターム(参考） 4C083 AB211 AB231 AB241 AC062 AC072 AC122 AC182 AC211 AC301 AC332 AC341 AC352 AC422 AC472 AC542 AC551 AC641 AC791 AC841 AC851 AC852 AC861 AC892 AC931 AD092 AD151 AD152 AD282 AD531 AD611 BB01 BB11 BB21 BB42 BB43 BB46 BB47 BB48 BB49 BB60 CC02 CC05 CC11 CC12 CC14 CC19 CC20 CC38 DD08 DD17 DD21 DD22 DD23 DD31 DD33 DD39 DD41 DD45 DD47 EE10 EE12 EE17 EE29

Claims (65)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 化粧品的に許容可能なビヒクル中に： (ａ)第１の遮蔽剤として、１０ｎｍ〜５μｍの範囲の粒
    子径を有する少なくとも一の不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤
    と、(ｂ)第２の遮蔽剤として、次の式(Ｉ)： [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
    原子、Ｃ１-Ｃ２０アルキル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル
    基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルキル基又はＣ３-Ｃ１０シク
    ロアルケニル基を示し；Ｒ１及びＲ２はまたそれらが結
    合している窒素原子と共同して５-又は６員環を形成可
    能で；Ｒ３及びＲ４は同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ
    ２０アルキル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基、Ｃ３-Ｃ
    １０シクロアルキル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルケニル
    基、Ｃ１-Ｃ１２アルコキシ基、(Ｃ１-Ｃ２０)アルコキ
    シカルボニル基、Ｃ１-Ｃ １２アルキルアミノ基、ジ(Ｃ
    １-Ｃ１２)アルキルアミノ基、アリール基又はヘテロア
    リールで、置換されていてもよいもの、又はカルボキシ
    ラート基、スルホナート基又はアンモニウム残基から選
    択される水溶性置換基を示し；Ｘは水素原子又はＣＯＯ
    Ｒ５又はＣＯＮＲ６Ｒ７基を示し；Ｒ５、Ｒ６及びＲ７
    は同一又は異なっており、水素原子、Ｃ１-Ｃ２０アル
    キル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロ
    アルキル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルケニル基、-(ＹＯ)
    Ｏ-Ｚ基又はアリール基を示し；Ｙは-(ＣＨ２)２-、-
    (ＣＨ２)３-、-(ＣＨ２)４-又は-ＣＨ-(ＣＨ３)-ＣＨ２
    -を示し；Ｚは-ＣＨ２-ＣＨ３、-ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、
    -ＣＨ２-ＣＨ２-ＣＨ２-ＣＨ３又は-ＣＨ(ＣＨ３)-ＣＨ
    ３を表し；ｍは０〜３で変化する整数であり；ｎは０〜
    ３で変化する整数であり；ｏは１〜２で変化する整数で
    ある]の少なくとも一のアミノ置換２-ヒドロキシベンゾ
    フェノン誘導体；を含有してなることを特徴とする、特
    に皮膚及び／又は毛髪の光保護のための、局所使用用化
    粧品用又は皮膚用組成物。
  2. 【請求項２】 前記第１及び第２の遮蔽剤が、付与され
    る日光保護ファクターＵＶ-ＡＰＰＤに関して相乗活性
    を生じる割合で組成物中に存在している請求項１に記載
    の組成物。
  3. 【請求項３】 不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤又は遮蔽剤類
    が、オキサルアニリドタイプ、トリアジンタイプ、ベン
    ゾトリアゾールタイプ；ビニルアミドタイプ；シンナム
    アミドタイプ；一又は複数のベンザゾール及び／又はベ
    ンゾフラン又はベンゾチオフェン基を有するタイプ又は
    インドールタイプ；アリールビニレンケトンタイプ；フ
    ェニレンビス(ベンゾオキサジノン)誘導体タイプ；又は
    アクリロニトリルアミド、スルホンアミド又はカルバマ
    ート誘導体タイプの有機ＵＶ遮蔽剤から選択される請求
    項１又は２に記載の組成物。
  4. 【請求項４】 オキサルアニリドタイプのＵＶ遮蔽剤
    が、次の式： ［上式中、Ｔ１、Ｔ'１、Ｔ２及びＴ'２は同一又は異な
    っており、水素原子、Ｃ １-Ｃ８アルキル基又はＣ１-Ｃ
    ８アルコキシ基を示す］のものである請求項３に記載の
    組成物。
  5. 【請求項５】 オキサルアニリドタイプのＵＶ遮蔽剤
    が、次の式： の化合物から選択される請求項４に記載の組成物。
  6. 【請求項６】 トリアジンタイプの不溶性のＵＶ遮蔽剤
    が、次の式： ［上式中、Ｔ３、Ｔ４及びＴ５は独立して、フェニル、
    フェノキシ又はピロロであり、ここでフェニル、フェノ
    キシ及びピロロ基は、ＯＨ、Ｃ１-Ｃ１８アルキル又は
    アルコキシ、Ｃ１-Ｃ１８カルボキシアルキル、Ｃ５-Ｃ
    ８シクロアルキル、メチルベンジリデンショウノウ基、
    Ｔ６がＣ１-Ｃ１８アルキルかシンナミルで、ｎが０又
    は１である-(ＣＨ=ＣＨ)ｎ(ＣＯ)-ＯＴ６基から選択さ
    れる１、２又は３の置換基で置換されていてもよい］の
    ものから選択される請求項３に記載の組成物。
  7. 【請求項７】 トリアジンタイプのＵＶ遮蔽剤が、ベン
    ザルマロナート及び／又はフェニルシアノアクリラート
    基を担持する不溶性ｓ-トリアジン誘導体から選択され
    る請求項３に記載の組成物。
  8. 【請求項８】 トリアジンタイプのＵＶ遮蔽剤が： − ２,４,６-トリス(ジエチル-４'-アミノベンザルマ
    ロナート)-ｓ-トリアジン、 − ２,４,６-トリス(ジイソプロピル-４'-アミノベン
    ザルマロナート)-ｓ-トリアジン、 − ２,４,６-トリス(ジメチル-４'-アミノベンザルマ
    ロナート)-ｓ-トリアジン、 − ２,４,６-トリス(エチル-α-シアノ-４-アミノシン
    ナマート)-ｓ-トリアジン、から選択される請求項７に
    記載の組成物。
  9. 【請求項９】 トリアジンタイプのＵＶ遮蔽剤が、ベン
    ゾトリアゾール及び／又はベンゾチアゾール基を担持す
    る不溶性ｓ-トリアジン誘導体から選択される請求項３
    に記載の組成物。
  10. 【請求項１０】 トリアジンタイプのＵＶ遮蔽剤が： − ２,４,６-トリス［(３'-ベンゾトリアゾール-２-イ
    ル)-２'-ヒドロキシ-５'-メチル)フェニルアミノ］-ｓ-
    トリアジン、 − ２,４,６-トリス［(３'-ベンゾトリアゾール-２-イ
    ル)-２'-ヒドロキシ-５'-tert-オクチル)フェニルアミ
    ノ］-ｓ-トリアジン、 から選択される請求項９に記載の組成物。
  11. 【請求項１１】 ベンゾトリアゾールタイプの不溶性の
    有機ＵＶ遮蔽剤が、次の式(３)： ［上式中、Ｔ７は水素原子又はＣ１-Ｃ１８アルキル基
    を示し；Ｔ８及びＴ９は同一又は異なっており、フェニ
    ルで置換されていてもよいＣ１-Ｃ１８アルキル基を示
    す］に相当するものである請求項３に記載の組成物。
  12. 【請求項１２】 式(３)の化合物が、次の式： の化合物から選択される請求項１１に記載の組成物。
  13. 【請求項１３】 不溶性のＵＶ遮蔽剤が、次の構造： を持つ［２,４'-ジヒドロキシ-３-(２Ｈ-ベンゾトリア
    ゾール-２-イル)-５-(１,１,３,３-テトラメチルブチ
    ル)-２'-(ｎ-オクトキシ)-５'-ベンゾイル］ジフェニル
    メタンである請求項３に記載の組成物。
  14. 【請求項１４】 ベンゾトリアゾールタイプの有機ＵＶ
    遮蔽剤が、次の構造： ［上式中、Ｔ１０及びＴ１１基は同一又は異なってお
    り、Ｃ１-Ｃ４アルキル基、Ｃ５-Ｃ１２シクロアルキル
    基又はアリール残基から選ばれる一又は複数の基で置換
    可能なＣ１-Ｃ１８アルキル基を示す］を有するメチレ
    ンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体
    から選択される請求項３に記載の組成物。
  15. 【請求項１５】 式(４)の化合物が、次の構造： を有する化合物からなる群から選択される請求項１４に
    記載の組成物。
  16. 【請求項１６】 ビニルアミドタイプの有機遮蔽剤が、
    次の式： Ｔ１２-(Ｙ)ｒ-Ｃ(=Ｏ)-Ｃ(Ｔ１３)=Ｃ(Ｔ１４)-Ｎ(Ｔ１５)(Ｔ１６) (５) ［上式中、Ｔ１２は、ＯＨ、Ｃ１-Ｃ１８アルキル基、
    Ｃ１-Ｃ８アルコキシ基、又は-Ｃ(=Ｏ)-ＯＴ１７基で、
    Ｔ１７がＣ１-Ｃ１８アルキルであるものから選択され
    る１、２又は３の置換基で置換されていてもよいフェニ
    ル基、又はＣ１-Ｃ １８、好ましくはＣ１-Ｃ５アルキル
    基であり；Ｔ１３、Ｔ１４、Ｔ１５及びＴ １６は同一又
    は異なっており、Ｃ１-Ｃ１８、好ましくはＣ１-Ｃ５ア
    ルキル基又は水素原子を示し；ＹはＮ又はＯであり、ｒ
    は０又は１である］に相当するものである請求項３に記
    載の組成物。
  17. 【請求項１７】 式(５)の化合物が： − ４-オクチルアミノ-３-ペンテン-２-オン； − エチル-３-オクチルアミノ-３-ブテノアート； − ３-オクチルアミノ-１-フェニル-２-ブテン-１-オ
    ン； − ３-ドデシルアミノ-１-フェニル-２-ブテン-１-オ
    ン； から選択される請求項１６に記載の組成物。
  18. 【請求項１８】 シンナムアミドタイプの有機遮蔽剤
    が、次の式： ［上式中、ＯＴ１８は、ヒドロキシル又はＣ１-Ｃ４ア
    ルコキシ基、好ましくはメトキシ又はエトキシ基であ
    り；Ｔ１９は、水素又はＣ１-Ｃ４アルキル、好ましく
    はメチル又はエチルであり；Ｔ２０は、-(ＣＯＮＨ)ｓ-
    フェニル基で、ｓが０又は１であり、フェニル基が、Ｏ
    Ｈ、Ｃ１-Ｃ１８アルキル、Ｃ１-Ｃ８アルコキシ、又は
    Ｔ２１がＣ１-Ｃ１８アルキルである-Ｃ(=Ｏ)−ＯＴ
    ２１基から選択される１、２又は３の置換基で置換可能
    なものである］に相当するものである請求項３に記載の
    組成物。
  19. 【請求項１９】 不溶性のＵＶ遮蔽剤がシンナムアミド
    ダイマーである請求項２に記載の組成物。
  20. 【請求項２０】 不溶性のＵＶ遮蔽剤が、次の構造： を有する化合物である請求項１９に記載の組成物。
  21. 【請求項２１】 ベンザゾールタイプの不溶性の有機遮
    蔽剤が、次の式(７)、(８)及び(９)： [上式中、各符号Ｘは独立して、酸素又は硫黄原子、又
    はＮＲ２基を表し、 各符号Ｚは独立して、窒素原子又はＣＨ基を表し、 各符号Ｒ１は独立して、ＯＨ基、ハロゲン原子、ケイ素
    原子を有していてもよい直鎖状又は分枝状のＣ１−８ア
    ルキル基、又は直鎖状又は分枝状のＣ１−８アルコキシ
    基を表し、 各数字ｍは独立して０、１又は２であり、 ｎは１〜４の整数を表し、 ｐは０又は１に等しく、 各数字ｑは独立して０又は１に等しく、 各符号Ｒ２は独立して、ケイ素原子を有していてもよい
    直鎖状又は分枝状のＣ １−８アルキル基、ベンジル基、
    又は水素原子を表し、Ａは次の式： (上式中、ＷはＮ又はＣＨを示し；各符号Ｒ３は独立し
    て、ハロゲン原子、又は直鎖状又は分枝状のＣ１−４ア
    ルキル又はアルコキシ基、又はヒドロキシル基を表し、 Ｒ４は水素原子、又は直鎖状又は分枝状のＣ１−４アル
    キル基を表し、ｃ＝０-４、ｄ＝０-３、ｅ＝０又は１及
    びｆ＝０-２)から選択される結合価ｎを持つ基を表す]
    の一つに相当するものから選択される請求項３に記載の
    組成物。
  22. 【請求項２２】 式(７)のベンザゾール化合物が、２-
    (ベンゾオキサゾール-２-イル)-４-メチルフェノール、
    ２-(１Ｈ-ベンゾイミダゾール-２-イル)-４-メトキシフ
    ェノール又は２-(ベンゾチアゾール-２-イル)フェノー
    ル、２,２'-ビスベンゾイミダゾール、５,５',６,６'-
    テトラメチル-２,２'-ビスベンゾイミダゾール、５,５'
    -ジメチル-２,２'-ビスベンゾイミダゾール、６-メトキ
    シ-２,２'-ビスベンゾイミダゾール、２-(１Ｈ-ベンゾ
    イミダゾール-２-イル)-ベンゾチアゾール、２-(１Ｈ-
    ベンゾイミダゾール-２-イル)ベンゾオキサゾール及び
    Ｎ,Ｎ'-ジメチル-２,２'-ビスベンゾイミダゾール、１,
    ４-フェニレンビス(２-ベンゾオキサゾリル)、１,４-フ
    ェニレンビス(２-ベンゾイミダゾリル)、１,３-フェニ
    レンビス(２-ベンゾオキサゾリル)、１,２-フェニレン
    ビス(２-ベンゾオキサゾリル)、１,２-フェニレンビス
    (ベンゾイミダゾリル)、１,４-フェニレンビス(Ｎ-(２-
    エチルヘキシル)-２-ベンゾイミダゾリル)及び１,４-フ
    ェニレンビス(Ｎ-トリメチルシリルメチル-２-ベンゾイ
    ミダゾリル)、２-(２-ベンゾフラニル)ベンゾオキサゾ
    ール、２-(ベンゾフラニル)-５-メチルベンゾオキサゾ
    ール及び２-(３-メチル-２-ベンゾフラニル)ベンゾオキ
    サゾールから選択される請求項２１に記載の組成物。
  23. 【請求項２３】 式(８)のベンザゾール化合物が、２,
    ６-ジフェニル-１,７-ジヒドロベンゾ[１,２-ｄ；４,５
    -ｄ']ジイミダゾール、２,６-ジスチリル-１,７-ジヒド
    ロベンゾ[１,２-ｄ；４,５-ｄ']ジイミダゾール、又は
    ２,６-ジ(ｐ-tert-ブチルスチリル)-１,７-ジヒドロベ
    ンゾ[１,２-ｄ；４,５-ｄ']ジイミダゾールから選択さ
    れる請求項２１に記載の組成物。
  24. 【請求項２４】 式(９)のベンザゾール化合物が５,５'
    -ビス(２-フェニルベンゾイミダゾール)である請求項２
    １に記載の組成物。
  25. 【請求項２５】 ベンザゾールタイプの不溶性のＵＶ遮
    蔽剤が、２-(１Ｈ-ベンゾイミダゾール-２-イル)ベンゾ
    オキサゾール、６-メトキシ-２,２'-ビスベンゾイミダ
    ゾール、２-(１Ｈ-ベンゾイミダゾール-２-イル)ベンゾ
    チアゾール、１,４-フェニレンビス(２-ベンゾオキサゾ
    リル)、１,４-フェニレンビス(２-ベンゾイミダゾリ
    ル)、１,３-フェニレンビス(２-ベンゾオキサゾリル)、
    １,２-フェニレンビス(２-ベンゾオキサゾリル)、１,２
    -フェニレンビス(２-ベンゾイミダゾリル)及び１,４-フ
    ェニレンビス(Ｎ-トリメチルシリルメチル-２-ベンゾイ
    ミダゾリル)から選択される請求項２１に記載の組成
    物。
  26. 【請求項２６】 アリールビニレンケトンタイプの不溶
    性の有機遮蔽剤が、次の式(１０)及び(１１)： [上式中：ｎ'＝１又は２、Ｂは、式(１０)においてｎ'
    ＝１の場合、又は式(１１)においては、次の式(ａ')な
    いし(ｄ')から選択されるアリール基であり、式(１０)
    においてｎ'＝２の場合、次の式(ｅ')ないし(ｈ')から
    選択される基であり、 ここで、各符号Ｒ８は独立して、ＯＨ基、ハロゲン原
    子、ケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は分枝状の
    Ｃ１−６アルキル基、ケイ素原子を有していてもよい直
    鎖状又は分枝状のＣ１−６アルコキシ基、直鎖状又は分
    枝状のＣ１−５アルコキシカルボニル基、又はアミノ酸
    官能基、又はケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は
    分枝状のＣ１−６アルキルスルホンアミド基を表し、 ｐ'は０〜４の整数を表し、 ｑ'は０又は１を表し、 Ｒ５は水素又はＯＨ基を表し、 Ｒ６は水素、ケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は
    分枝状のＣ１−６アルキル基、シアノ基、Ｃ１−６アル
    キルスルホニル基又はフェニルスルホニル基を表し、 Ｒ７は１又は２のＲ４基で置換されていてもよく、二環
    を形成可能なフェニル基、又はケイ素原子を有していて
    もよい直鎖状又は分枝状のＣ１−６アルキル基を表し、
    もしくはＲ６及びＲ７は共同して、アミノ酸官能基、又
    はケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は分枝状のＣ
    １−８アルキルスルホンアミド基で置換されていてもよ
    く、他のカルボニルを含有可能で、一又は複数の窒素、
    硫黄及び酸素原子が挿入されていてもよい一環、二環又
    は三環のＣ２−１０炭化水素性残基を形成し；但し、
    ｎ'＝１の場合、Ｒ６及びＲ７はショウノウ環を形成し
    ない]のいずれかに相当するものである請求項３に記載
    の組成物。
  27. 【請求項２７】 アリールビニレンケトン化合物が、式
    (１０)においてｎ'＝１に相当するものから選択される
    請求項２６に記載の組成物。
  28. 【請求項２８】 アリールビニレンケトン化合物が： − スチリルケトンタイプの化合物、 − ベンジリデンシネオールタイプの化合物、 − ベンジリデンクロマノンタイプの化合物、 − ベンジリデンチオクロマノンタイプの化合物、 − ベンジリデンキヌクリジノンタイプの化合物、 − ベンジリデンシクロアルカノンタイプの化合物、 − ベンジリデンヒダントインタイプの化合物、 − ベンジリデンインダノンタイプの化合物、 − ベンジリデンテトラロンタイプの化合物、 − ベンジリデンフラノンタイプの化合物、 − ベンジリデンベンゾフラノンタイプの化合物、 − ベンジリデンインダンジオンタイプの化合物、 − ベンジリデンベンゾチオフラノンタイプの化合物、 − ベンジリデンバルビツール酸タイプの化合物、 − ベンジリデンピラゾロンタイプの化合物、 − ベンジリデンイミダゾロンタイプの化合物、 − カルコンタイプの化合物、 − ベンジリデノンタイプの化合物、 から選択される請求項２７に記載の組成物。
  29. 【請求項２９】 アリールビニレンケトン化合物が： − １-(３,４-ジメトキシフェニル)-４,４-ジメチルペ
    ント-１-エン-３-オン − １,３,３-トリメチル-５-(４-メトキシベンジリデ
    ン)-２-オキサビシクロ[２.２.２]オクタン-６-オン − ３-(４-メトキシベンジリデン)-２,３,４ａ,８ａ-
    テトラヒドロクロメン-４-オン − ３-(４-メトキシベンジリデン)-２,３,４ａ,８ａ-
    テトラヒドロクロメン-４-チオン − ４-メトキシベンジリデン-１-アザビシクロ[２.２.
    ２]オクタン-３-オン − ２-(４-メトキシベンジリデン)シクロペンタノン及
    び２-(４-メトキシベンジリデン)シクロヘキサノン − ５-(３,４-ジメトキシベンジリデン)イミダゾリジ
    ン-２,４-ジオン − ２-(４-メトキシベンジリデン)インダン-１-オン − ２-(４-メトキシベンジリデン)-３,４-ジヒドロ-２
    Ｈ-ナフタレン-１-オン − ４-(４-メトキシベンジリデン)-２,２,５,５-テト
    ラメチルジヒドロフラン-３-オン − ２-ベンジリデンベンゾフラン-３-オン − ２-(３,５-ジ(tert-ブチル)-４-ヒドロキシベンジ
    リデン)インダン-１,３-ジオン − ２-ベンジリデンベンゾ[ｂ]チオフェン-３-オン − ５-(４-メトキシベンジリデン)-１,３-ジメチルピ
    リミジン-２,４,６-トリオン − ４-(４-メトキシベンジリデン)-５-メチル-２-フェ
    ニル-２,４-ジヒドロピラゾール-３-オン − ５-(４-メトキシベンジリデン)-２-フェニル-３,５
    -ジヒドロイミダゾール-４-オン − １-(２-ヒドロキシ-４-メトキシフェニル)-３-フェ
    ニルプロペノン − ３-ヒドロキシ-１-(２-ヒドロキシ-４-メトキシフ
    ェニル)-３-フェニルプロペノン から選択される請求項２８に記載の組成物。
  30. 【請求項３０】 アリールビニレンケトン化合物が、式
    (１０)においてｎ'＝２に相当するものから選択される
    請求項２６に記載の組成物。
  31. 【請求項３１】 アリールビニレンケトン化合物が： − フェニレンビス(メチリデンノルショウノウ)タイプ
    の化合物 − フェニレンビス(メチリデンショウノウ)タイプの化
    合物 − フェニレンビス(メチリデンショウノウスルホンア
    ミド)タイプの化合物 − フェニレンビス(メチリデンシネオール)タイプの化
    合物 − フェニレンビス(メチリデンケトトリシクロデカン)
    タイプの化合物 − フェニレンビス(アルキレンケトン)タイプの化合物 − フェニレンビス(メチリデンフラノン)タイプの化合
    物 − フェニレンビス(メチリデンキヌクリジノン)タイプ
    の化合物 から選択される請求項３０に記載の組成物。
  32. 【請求項３２】 アリールビニレンケトン化合物が： − １,４-フェニレンビス{３-メチリデンビシクロ[２.
    ２.１]ヘプタン-２-オン} − １,４-フェニレンビス{３-メチリデン-１,７,７-ト
    リメチルビシクロ[２.２.１]ヘプタン-２-オン}又は１,
    ３-フェニレンビス{３-メチリデン-１,７,７-トリメチ
    ルビシクロ[２.２.１]ヘプタン-２-オン} − １,４-フェニレンビス{３,３'-メチリデンショウノ
    ウ-１０,１０'-エチルスルホンアミド又は-(２-エチル
    ヘキシル)スルホンアミド} − １,４-フェニレンビス{５-メチリデン-３,３-ジメ
    チル-２-オキサビシクロ[２.２.２]オクタン-６-オン} − １,４-フェニレンビス(オクタヒドロ-４,７-メタノ
    -６-インデン-５-オン) − １,４-フェニレンビス(４,４-ジメチルペント-１-
    エン-３-オン) − １,４-フェニレンビス(４-メチリデン-２,２,５,５
    -テトラメチルジヒドロフラン-３-オン) − １,４-フェニレンビス{２-メチリデン-１-アザビシ
    クロ[２.２.２]オクタン-３-オン} から選択される請求項３１に記載の組成物。
  33. 【請求項３３】 アリールビニレンケトン化合物が式
    (１１)に相当し、 − ビス(ベンジリデン)シクロアルカノンタイプの化合
    物； − γ-ピロンタイプの化合物； から選択される請求項２６に記載の組成物。
  34. 【請求項３４】 アリールビニレンケトン化合物が式
    (１１)に相当し、 − ２,５-ジ(ベンジリデン)シクロペンタノン − ２,６-ビス(３,４-ジメトキシフェニル)ピラン-４-
    オン から選択される請求項３３に記載の組成物。
  35. 【請求項３５】 フェニレンビス(ベンゾオキサジノン)
    タイプの不溶性の有機遮蔽剤が、次の式(１２)： [Ｒは次の式(ｅ'')ないし(ｈ'')： (上式中：各符号Ｒ９は独立して、アミノ酸官能基、又
    はケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は分枝状のＣ
    １−６アルキルスルホンアミド基、直鎖状又は分枝状の
    Ｃ １−５アルコキシカルボニル基、ケイ素原子を有して
    いてもよい直鎖状又は分枝状のＣ１−６アルコキシ基、
    ケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は分枝状のＣ
    １−６アルキル基、ハロゲン原子、ＯＨ基を表し、 ｐ''は０〜４の整数を表し、 ｑ''は０又は１を表す)から選択される二価の芳香族残
    基を表す]に相当するものである請求項３に記載の組成
    物。
  36. 【請求項３６】 式(１２)の不溶性の化合物が： − ２,２'-ｐ-フェニレンビス(３,１-ベンゾオキサジ
    ン-４-オン)、 − ２,２'-(４,４'-ビフェニレン)ビス(３,１-ベンゾ
    オキサジン-４-オン)、 − ２,２'-(２,６-ナフチレン)ビス(３,１-ベンゾオキ
    サジン-４-オン)、 から選択される請求項３５に記載の組成物。
  37. 【請求項３７】 アクリロニトリルアミド、スルホンア
    ミド又はカルバマート誘導体タイプの不溶性の有機遮蔽
    剤が、次の式(１３)： [上式中：Ｒ１０は直鎖状又は分枝状のＣ１−８アルキ
    ル基を表し、 ｎ'''は０、１又は２であり、 Ｘ２は式-(Ｃ=Ｏ)-Ｒ１１-(Ｃ=Ｏ)-、-ＳＯ２-Ｒ１１-
    ＳＯ２-又は-(Ｃ=Ｏ)-Ｏ-Ｒ１１-Ｏ-(Ｃ=Ｏ)-の二価の
    基を表し、 Ｙは-(Ｃ=Ｏ)-Ｒ１２又は-ＳＯ２Ｒ１３基を表し、 Ｒ１１は、酸素、窒素及びケイ素原子から選択される一
    又は複数のヘテロ原子を炭素性鎖に含有可能で、一又は
    複数のヒドロキシル置換基を担持可能な、直鎖状又は分
    枝状で二価のＣ１-Ｃ３０アルキレン又はＣ３-Ｃ３０ア
    ルケニレン基、又は単結合を表し、 Ｒ１２は-ＯＲ１４又は-ＮＨＲ１４基を表し、 Ｒ１３はＣ１-Ｃ４アルキル又はアルコキシ基で置換さ
    れるか未置換のフェニル環又は直鎖状又は分枝状のＣ１
    -Ｃ３０アルキル基を表し、 Ｒ１４は、酸素、窒素及びケイ素原子から選択される一
    又は複数のヘテロ原子を炭素性鎖に含有可能で、一又は
    複数のヒドロキシル置換基を担持可能な、直鎖状又は分
    枝状のＣ１-Ｃ３０アルキル又はＣ３-Ｃ３０アルケニル
    基を表す]に相当するもの；及びそれらの異性体から選
    択される請求項３に記載の組成物。
  38. 【請求項３８】 不溶性の遮蔽剤が： の２-エチルヘキシル-２-シアノ-３-[４-(アセチルアミ
    ノ)フェニル]アクリラートのダイマーである請求項３７
    に記載の組成物。
  39. 【請求項３９】 不溶性のＵＶ遮蔽剤が、スルホン酸又
    はカルボン酸有機ＵＶ遮蔽剤の多価金属塩である請求項
    １又は２に記載の組成物。
  40. 【請求項４０】 不溶性のＵＶ遮蔽剤が、ベンジリデン
    ショウノウのスルホン化誘導体の多価金属塩；ベンゾイ
    ミダゾールのスルホン化誘導体の多価金属塩；又はケイ
    皮酸誘導体の多価金属塩から選択される請求項３９に記
    載の組成物。
  41. 【請求項４１】 不溶性のＵＶ遮蔽剤が、ＵＶ-Ａ及び
    ／又はＵＶ-Ｂに対する有機遮蔽剤の多価金属又はアン
    モニウム又は置換アンモニウム錯体である請求項１又は
    ２に記載の組成物。
  42. 【請求項４２】 不溶性のＵＶ遮蔽剤又は遮蔽剤類が、
    組成物の全重量に対して約１〜１０重量％の範囲の濃度
    で存在していることを特徴とする請求項１ないし４１の
    いずれか１項に記載の組成物。
  43. 【請求項４３】 不溶性のＵＶ遮蔽剤又は遮蔽剤類が、
    組成物の全重量に対して約２〜８重量％の範囲の濃度で
    存在していることを特徴とする請求項４２に記載の組成
    物。
  44. 【請求項４４】 式(Ｉ)の化合物又は化合物類が、次の
    式(Ｉａ)： [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
    原子又はＣ１-Ｃ１２アルキル基を示すか、又はそれら
    が結合している窒素原子と共同して５-又は６員環を形
    成し；ＸはＣＯＯＲ５又はＣＯＮＲ６Ｒ７基を示し；Ｒ
    ５は、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又はＣ３-Ｃ６
    シクロアルキル基を示し；Ｒ６及びＲ７は同一又は異な
    っており、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又はＣ５-
    Ｃ６シクロアルキル基を示す]のものから選択される請
    求項１ないし４３のいずれか１項に記載の組成物。
  45. 【請求項４５】 式(Ｉａ)の化合物は：Ｒ１及びＲ２が
    同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ４アルキル基、特にエ
    チルを示し；Ｒ５がＣ３-Ｃ８アルキル基を示し；Ｒ６
    及びＲ７が同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ８アルキル
    基を示す、ものである請求項４４に記載の組成物。
  46. 【請求項４６】 式(Ｉ)の化合物又は化合物類が、次の
    式(Ｉｂ)： [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、Ｃ１-
    Ｃ１２アルキル基を示すか、又はそれらが結合している
    窒素原子と共同して５-又は６員環を形成する]のものか
    ら選択される請求項１ないし４３のいずれか１項に記載
    の組成物。
  47. 【請求項４７】 式(Ｉｂ)の化合物が： − ４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシフェニル-フェニ
    ルケトン、 − ４-ピロリジノ-２-ヒドロキシフェニル-フェニルケ
    トン、 から選択される請求項４６に記載の組成物。
  48. 【請求項４８】 式(Ｉ)の化合物又は化合物類が、次の
    式(Ｉｃ)： [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
    原子又はＣ１-Ｃ８アルキル基を示すか、又はそれらが
    結合している窒素原子と共同して５-又は６員環を形成
    し；Ｒ５は、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又はＣ
    ３-Ｃ６シクロアルキル基を示す]のものから選択される
    請求項１ないし４３のいずれか１項に記載の組成物。
  49. 【請求項４９】 式(Ｉｃ)の化合物が： − ２-(４-ピロリジノ-２-ヒドロキシベンゾイル)ベン
    ゾアート − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸メチル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸２-エチルヘキシル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸シクロヘキシル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸ｎ-ヘキシル − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    ベンゾアート − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸メチル − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸イソブチル から選択される請求項４８に記載の組成物。
  50. 【請求項５０】 式(Ｉｃ)の化合物が、２-(４-ジエチ
    ルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)安息香酸ｎ-ヘキシ
    ルである請求項４９に記載の組成物。
  51. 【請求項５１】 アミノ置換２-ヒドロキシベンゾフェ
    ノン誘導体又は誘導体類が、組成物の全重量に対して
    ０．１重量％〜２０重量％の範囲の割合で組成物中に存
    在している請求項１ないし５０のいずれか１項に記載の
    組成物。
  52. 【請求項５２】 アミノ置換２-ヒドロキシベンゾフェ
    ノン誘導体又は誘導体類が、組成物の全重量に対して
    ０．１重量％〜１５重量％の範囲の割合で組成物中に存
    在している請求項５１に記載の組成物。
  53. 【請求項５３】 アミノ置換２-ヒドロキシベンゾフェ
    ノン誘導体又は誘導体類が、組成物の全重量に対して
    ０．５重量％〜１０重量％の範囲の割合で組成物中に存
    在している請求項５２に記載の組成物。
  54. 【請求項５４】 皮膚を人工的にサンタン状態にする、
    及び／又は褐色にするための少なくとも一の薬剤をさら
    に含有することを特徴とする請求項１ないし５３のいず
    れか１項に記載の組成物。
  55. 【請求項５５】 ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域に活性
    のある少なくとも一の溶解性の有機ＵＶ遮蔽剤をさらに
    含有していることを特徴とする請求項１ないし５４のい
    ずれか１項に記載の組成物。
  56. 【請求項５６】 溶解性の有機ＵＶ遮蔽剤が、アントラ
    ニラート類；ケイ皮酸誘導体；ジベンゾイルメタン誘導
    体；サリチル酸誘導体；ショウノウ誘導体；トリアジン
    誘導体；式(Ｉ)のもの以外のベンゾフェノン誘導体；
    β,β-ジフェニルアクリラート誘導体；ベンゾトリアゾ
    ール誘導体；ベンザルマロナート誘導体；ベンゾイミダ
    ゾール誘導体；イミダゾリン類；ビスベンゾアゾリル誘
    導体；ｐ-アミノ安息香酸(ＰＡＢＡ)誘導体；遮蔽ポリ
    マー類及び遮蔽シリコーン類；α-アルキルスチレンか
    ら誘導された二量体；４,４-ジアリールブタジエン類；
    及びそれらの混合物から選択される請求項５５に記載の
    組成物。
  57. 【請求項５７】 溶解性の有機ＵＶ遮蔽剤が： − サリチル酸エチルヘキシル、 − オクトクリレン、 − メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、 − ブチルメトキシジベンゾイルメタン、 − フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、 − ベンゾフェノン-３、 − ベンゾフェノン-４、 − ベンゾフェノン-５、 − ４-メチルベンジリデンショウノウ、 − フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二
    ナトリウム − アニソトリアジン、 − エチルヘキシルトリアゾン、 − ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、 − ２,４,６-トリス(ジイソブチル-４'-アミノベンザ
    ルマロナート)-ｓ-トリアジン、 − ドロメトリゾールトリシロキサン、 − メチレンビス(ベンゾトリアゾリルテトラメチルブ
    チルフェノール)、 − １,１-ジカルボキシ(２,２'-ジメチル-プロピル)-
    ４,４-ジフェニルブタジエン、及びそれらの混合物、か
    ら選択される請求項５６に記載の組成物。
  58. 【請求項５８】 被覆又は非被覆の金属酸化物の顔料又
    はナノ顔料をさらに含有していることを特徴とする請求
    項１ないし５７のいずれか１項に記載の組成物。
  59. 【請求項５９】 前記顔料又はナノ顔料が、被覆又は非
    被覆の酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウ
    ム又は酸化セリウム及びそれらの混合物から選択される
    ことを特徴とする請求項５８に記載の組成物。
  60. 【請求項６０】 脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非
    イオン性の増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、フリーラジカ
    ルに抗するための薬剤、乳白剤、安定剤、エモリエン
    ト、シリコーン類、α-ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿
    剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、界面活性
    剤、抗炎症剤、サブスタンスＰアンタゴニスト、フィラ
    ー、ポリマー類、噴霧剤、塩基性又は酸性化剤又は着色
    料から選択される少なくとも一の化粧品用アジュバント
    をさらに含有していることを特徴とする請求項１ないし
    ５９のいずれか１項に記載の組成物。
  61. 【請求項６１】 ヒトの表皮を保護するための組成物又
    は抗日光組成物であり、非イオン性の小胞体分散液、水
    中油型エマルション等のエマルション、クリーム、ミル
    ク、ゲル、クリームゲル、懸濁液、分散液、パウダー、
    チューブ状固体、フォーム又はスプレーの形態で提供さ
    れることを特徴とする請求項１ないし６０のいずれか１
    項に記載の組成物。
  62. 【請求項６２】 まつげ、眉毛又は皮膚をメークアップ
    するための組成物であり、無水又は水性、ペースト状又
    は固体状の形態、エマルション、懸濁液又は分散液の形
    態で提供されることを特徴とする請求項１ないし６１の
    いずれか１項に記載の組成物。
  63. 【請求項６３】 紫外線から毛髪を保護するための組成
    物であり、シャンプー、ローション、ゲル、エマルショ
    ン又は非イオン性の小胞体分散液の形態で提供されるこ
    とを特徴とする請求項１ないし６１のいずれか１項に記
    載の組成物。
  64. 【請求項６４】 太陽光線等の紫外線から、皮膚及び／
    又は毛髪を保護することを意図した化粧品用又は皮膚用
    組成物の調製における、請求項１ないし６１のいずれか
    １項に記載の組成物の使用。
  65. 【請求項６５】 １０ｎｍ〜５μｍの範囲の粒子径を有
    する少なくとも一の不溶性の有機遮蔽剤を含有し、太陽
    光線等の紫外線から皮膚及び／又は毛髪を保護すること
    を意図した化粧品用又は皮膚用組成物の調製における、
    付与される日光保護ファクターＵＶ-ＡＰＰＤに関して
    相乗効果を生じせしめるための、請求項１ないし６４の
    いずれか１項に記載された式(Ｉ)のアミノ置換２-ヒド
    ロキシベンゾフェノン誘導体の使用。
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