JP2003283077A - 金属配線回路板 - Google Patents

金属配線回路板

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JP2003283077A
JP2003283077A JP2002077876A JP2002077876A JP2003283077A JP 2003283077 A JP2003283077 A JP 2003283077A JP 2002077876 A JP2002077876 A JP 2002077876A JP 2002077876 A JP2002077876 A JP 2002077876A JP 2003283077 A JP2003283077 A JP 2003283077A
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Japan
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film
mol
metal wiring
polyimide
circuit board
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Application number
JP2002077876A
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English (en)
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Takahisa Ono
隆央 大野
Tsutomu Nakamura
勤 中村
Jirou Sadanobu
治朗 定延
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Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 金属配線回路板を提供する。 【解決手段】 p−フェニレンジアミン成分が80モル
%を超え100モル%以下であるジアミン成分と、ピロ
メリット酸が80モル%を超え100モル%以下である
テトラカルボン酸成分とから実質的になるポリイミドか
らなり、そしてヤング率がいずれも10GPaを超える
直交する2方向がフィルム面内に存在することを特徴と
するポリイミドフィルムからなる金属配線回路板。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、表面に金属配線を
施してなる可撓性の印刷回路またはテープ自動化接合
(Tape Automated Bonding)テープ(TABテープ)用の
高弾性率、低熱膨張係数、低吸湿率、良好なケミカルエ
ッチング性を有するポリイミドフィルムからなる金属配
線板、および金属配線回路板に好適なポリイミドフィル
ムの製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】TABテープは基材である耐熱性フィル
ムの表面上に極細金属配線を施し、基材に集積回路チッ
プ(IC)を搭載するための「窓」が開口されており、更
にTABテープのい両端近傍にはTABテープを精密に
送るためのスプロケットが設けられており、ICをTA
Bテープに鑽孔された「窓」に填め込み、TABテープの
表面に施された金属配線と接合した後、ICを搭載した
TABテープを電気機器配線用の印刷回路に接合するこ
とにより、ICを電子回路に実装する工程を自動化し、
工程を簡素化することにより生産性を向上させるととも
に、ICを実装された電子機器の電気特性を改良するた
めに使用される。
【0003】TABテープには耐熱性基材フィルムの表
面に、ポリエステルベース、アクリルベース、エポキシ
ベース或いはポリイミドベース等の接着剤を介して導電
性の金属箔を積層する三層構造のものと、耐熱性基材フ
ィルムの表面に、接着剤を介することなく直接導電性の
金属層を積層する二層構造のものとが使用されている。
【0004】TABテープの基材フィルムには耐熱性が
要求され特にICとTABテープ上の金属配線との接合
やICを搭載したTABテープと電子機器配線用の印刷
回路との接合の時に基材フィルムにかかるハンダ溶接等
の高温に耐えられえるようにポリイミドフィルムが使用
される。
【0005】ポリイミドフィルムと金属箔または金属層
とを積層し、金属箔または金属層をケミカルエッチング
して金属配線を形成する際に、受ける熱によるポリイミ
ドフィルムと金属との寸法変化の違いによるTABテー
プの変形が大きいと、ICを搭載する時やICを搭載し
たTABテープを電子機器配線用の印刷回路に接合する
時に作業性を著しく阻害したり時にはその作業を不能な
らしめることになるため、ポリイミドフィルムの熱膨張
係数を金属と近似せしめてTABテープの変形を小さく
することが求められる。
【0006】またポリイミドフィルムの吸湿率を小さく
することにより作業環境の湿度変化によるTABテープ
の寸法変化を小さくすることが金属配線の細密化、金属
配線への歪み負荷軽減および搭載されたICの歪み負荷
軽減のためには重要であり、基材であるポリイミドフィ
ルムの高弾性率が要求される。
【0007】また更に基材であるポリイミドフィルムに
「窓」を形成する時に、機械的なパンチが使用されている
が、「窓」の仕上げ精度を上げたり、その形状を複雑にし
たり、さらには、「窓」の部分に迫り出した「フィンガー」
と呼ばれる金属配線を形成することによりIC搭載の作
業性と金属配線とICとの接合精度を向上できることか
らポリイミドフィルムをケミカルエッチングして「窓」を
形成する方法が採用されるようになり、ケミカルエッチ
ング性に優れたポリイミドフィルムへの要望が高まって
いる。
【0008】特開平5−148458号公報には、3,
3',4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
物、ピロメリット酸二無水物、フェニレンジアミン及び
ジアミノジフェニルエーテルから成る、ポリアミド酸か
ら製造された共重合ポリイミドフィルムが提案され、更
に共重合ポリアミド酸フィルムを化学転化法により、ケ
ミカルエッチング性に優れたポリイミドフィルムとする
方法が提案されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的はその表
面に金属配線を施してなる可撓性の印刷回路またはテー
プ自動化接合(Tape Automated Bonding)テープ(TAB
テープ)用の金属配線板基材に適した、高弾性率、低熱
膨張係数、低吸湿膨張係数、低吸水率を有し、さらにア
ルカリエッチング性に優れた共重合ポリイミドフィル
ム、その製造方法およびそれを基材としてなる金属配線
回路板を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、従来の
技術では実現できなかった高配向化による機械的性質、
特にヤング率の改善されたポリイミドフィルムを基材と
してその表面に金属配線を施してなる可撓性の印刷回路
またはテープ自動化接合(Tape Automated Bonding)テ
ープ(TABテープ)用の金属配線板を特徴とするもので
ある。
【0011】本発明によれば、本発明の上記目的および
利点は、第1に、p−フェニレンジアミン成分が80モ
ル%を超え100モル%以下そしてp−フェニレンジア
ミンとは異なる芳香族ジアミン成分が0モル%以上20
モル%未満からなるジアミン成分と、ピロメリット酸が
80モル%を超えそしてピロメリット酸とは異なる芳香
族テトラカルボン酸成分が0モル%以上20モル%未満
からなるテトラカルボン酸成分とから実質的になるポリ
イミドからなり、そしてヤング率がいずれも10GPa
を超える直交する2方向がフィルム面内に存在すること
を特徴とするポリイミドフィルムによって達成される。
【0012】本発明によれば、本発明の上記目的および
利点は、第2に、(1)p−フェニレンジアミン成分が
80モル%を超え100モル%以下であるジアミン成分
と、ピロメリット酸が80モル%を超え100モル%以
下であるテトラカルボン酸成分とから実質的になるポリ
アミック酸と、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンおよび
1,3−ジメチルイミダゾリジノンよりなる群から選ば
れる少なくとも一種からなる溶媒とからなる溶液を調整
し、
【0013】(2)上記溶媒から選ばれる少なくとも一
種にジシクロヘキシルカルボジイミドもしくは無水酢酸
と有機アミン化合物を溶解してなるイソイミド化溶液中
に、上記工程(1)で調製した溶液を支持体上に流延し
て得られたフィルムを該支持体と一緒に浸漬してポリア
ミック酸の少なくとも一部がポリイソイミドに変換され
たゲル状フィルムを形成し;
【0014】(3)得られたゲル状フィルムを支持体か
ら分離し、必要に応じ洗浄した後、二軸延伸し、次いで
【0015】(4)得られた二軸延伸フィルムを、必要
に応じ洗浄して溶媒を除去した後、熱処理に付して二軸
配向ポリイミドフィルムを形成する、ことを特徴とする
ポリイミドフィルムの製造法によって達成される。
【0016】発明の好ましい様態を以下に示す。本発明
の適応するポリイミドフィルムについて先ず説明する。
【0017】本発明を構成するポリパラフェニレンピロ
メリットイミド系フィルムはp−フェニレンジアミン成
分が80モル%を超え100モル%以下そしてp−フェ
ニレンジアミンとは異なる芳香族ジアミン成分が0モル
%以上20モル%未満からなるジアミン成分と、ピロメ
リット酸が80モル%を超えそしてピロメリット酸とは
異なる芳香族テトラカルボン酸成分が0モル%以上20
モル%未満からなるテトラカルボン酸成分とから実質的
になるポリイミドからなる。
【0018】ポリイミドを構成するジアミン成分は、p
−フェニレンジアミン単独、あるいはp−フェニレンジ
アミンおよびそれと異なる芳香族ジアミンとの組合せか
らなる。
【0019】p−フェニレンジアミンと異なる芳香族ジ
アミン成分としては、例えばm−フェニレンジアミン、
1,4−ジアミノナフタレン、1,5−ジアミノナフタ
レン、1,8−ジアミノナフタレン、2,6−ジアミノ
ナフタレン、2,7−ジアミノナフタレン、2,6−ジ
アミノアントラセン、2,7−ジアミノアントラセン、
1,8−ジアミノアントラセン、2,4−ジアミノトル
エン、2,5−ジアミノ(m−キシレン)、2,5−ジ
アミノピリジン、2,6−ジアミノピリジン、3,5−
ジアミノピリジン、2,4−ジアミノトルエンベンジジ
ン、3,3’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジクロ
ロベンジジン、3,3’−ジメチルベンジジン、3,
3’−ジメトキシベンジジン、2,2’−ジアミノベン
ゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,
3’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミ
ノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニル
エーテル、3,3’−ジアミノジフェニルメタン、4,
4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ
ジフェニルメタン、3,4’−ジアミノジフェニルスル
ホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,
3’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,4’−ジア
ミノジフェニルスルフィド、4,4’−ジアミノジフェ
ニルスルフィド、4,4’−ジアミノジフェニルチオエ
ーテル、4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テ
トラメチルジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノ−
3,3’,5,5’−テトラエチルジフェニルエーテ
ル、4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テトラ
メチルジフェニルメタン、1,3−ビス(3−アミノフ
ェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノ
キシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)
ベンゼン、2,6−ビス(3−アミノフェノキシ)ピリ
ジン、1,4−ビス(3−アミノフェニルスルホニル)
ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェニルスルホニ
ル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノフェニルチオ
エーテル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェニ
ルチオエーテル)ベンゼン、4,4’−ビス(3−アミ
ノフェノキシ)ジフェニルスルホン、4,4’−ビス
(4−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン、ビス
(4−アミノフェニル)アミンビス(4−アミノフェニ
ル)−N−メチルアミンビス(4−アミノフェニル)−
N−フェニルアミンビス(4−アミノフェニル)ホスフ
ィンオキシド、1,1−ビス(3−アミノフェニル)エ
タン、1,1−ビス(4−アミノフェニル)エタン、
2,2−ビス(3−アミノフェニル)プロパン、2,2
−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス
(4−アミノ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、
4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、
ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホ
ン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ス
ルホン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]エーテル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル]メタン、ビス[3−メチル−4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル]メタン、ビス[3−クロロ−4
−(4−アミノフェノキシ)フェニル]メタン、ビス
[3,5−ジメチル−4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル]メタン、1,1−ビス[4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル]エタン、1,1−ビス[3−メチル
−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エタン、
1,1−ビス[3−クロロ−4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル]エタン、1,1−ビス[3,5−ジメチ
ル−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エタン、
2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]プロパン、2,2−ビス[3−メチル−4−(4−
アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス
[3−クロロ−4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]プロパン、2,2−ビス[3,5−ジメチル−4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2
−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ブタ
ン、2,2−ビス[3−メチル−4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル]ブタン、2,2−ビス[3,5−ジ
メチル−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ブタ
ン、2,2−ビス[3,5−ジブロモ−4−(4−アミ
ノフェノキシ)フェニル]ブタン、1,1,1,3,
3,3−ヘキサフルオロ−2,2−ビス(4−アミノフ
ェニル)プロパン、1,1,1,3,3,3−ヘキサフ
ルオロ−2,2−ビス[3−メチル−4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル]プロパン等およびそれらのハロ
ゲン原子あるいはアルキル基による芳香核置換体が挙げ
られる。
【0020】ジアミン成分において、p−フェニレンジ
アミンおよびそれと異なる芳香族ジアミンとの組合せの
場合、p−フェニレンジアミンは、全ジアミン成分に基
づき、80モル%を超える割合、好ましくは90モル%
を超える割合すなわちそれと異なる芳香族ジアミンが2
0モル%未満、好ましくは10モル%未満からなる。
【0021】また、ポリイミドを構成するテトラカルボ
ン酸成分は、ピロメリット酸単独、あるいはピロメリッ
ト酸およびそれと異なる芳香族テトラカルボン酸との組
合せからなる。
【0022】ピロメリット酸と異なる芳香族テトラカル
ボン酸成分としては、例えば1,2,3,4−ベンゼン
テトラカルボン酸二無水物、2,3,5,6−ピリジン
テトラカルボン酸二無水物、2,3,4,5−チオフェ
ンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3’,
3,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、
3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカル
ボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテト
ラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’−ビフェニ
ルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−p
−テルフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,
3,3’−p−テルフェニルテトラカルボン酸二無水
物、2,3,3’,4’−p−テルフェニルテトラカル
ボン酸二無水物、1,2,4,5−ナフタレンテトラカ
ルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラ
カルボン酸二無水物、1,2,6,7−ナフタレンテト
ラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテ
トラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレン
テトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−アントラ
センテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−アン
トラセンテトラカルボン酸二無水物、1,2,6,7−
フェナンスレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,
7,8−フェナンスレンテトラカルボン酸二無水物、
1,2,9,10−フェナンスレンテトラカルボン酸二
無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸
二無水物、2,6−ジクロロナフタレン−1,4,5,
8−テトラカルボン酸二無水物、2,7−ジクロロナフ
タレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、
2,3,6,7−テトラクロロナフタレン−1,4,
5,8−テトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−
テトラクロロナフタレン−2,3,6,7−テトラカル
ボン酸二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニ
ル)エーテル二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)エーテル二無水物、ビス(2,3−ジカルボキ
シフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボ
キシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3−ジカル
ボキシフェニル)スルホン二無水物、ビス(3,4−ジ
カルボキシフェニル)スルホン二無水物、1,1−ビス
(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、
1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン
二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニ
ル)プロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)プロパン二無水物、2,6−ビス
(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ピリジン二無水
物、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2,2
−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無
水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ジメチル
シラン二無水物等が挙げられる。
【0023】テトラカルボン酸成分において、ピロメリ
ット酸およびそれと異なる芳香族テトラカルボン酸との
組合せの場合、ピロメリット酸は、全テトラカルボン酸
成分に基づき、80モル%を超える割合、好ましくは9
0モル%を超える割合すなわちそれと異なる芳香族テト
ラカルボン酸が20モル%未満、好ましくは10モル%
未満からなる。
【0024】ジアミン成分がp−フェニレンジアミン単
独であり、テトラカルボン酸成分がピロメリット酸単独
であるポリイミドからなる本発明のフィルムは、より好
ましいヤング率を発現する。
【0025】上記フィルムに対し製造方法を詳述する。
本発明の製造法は下記の工程(1)〜(4)からなる。
【0026】(1)ポリアミック酸の溶媒中溶液を調製
し、ここでポリアミック酸はp−フェニレンジアミンが
80モル%を超え100モル%以下そしてp−フェニレ
ンジアミンとは異なる芳香族ジアミン成分が0モル%以
上20モル%未満からなるジアミン成分と、ピロメリッ
ト酸が80モル%を超えそしてピロメリット酸とは異な
る芳香族テトラカルボン酸成分が0モル%以上20モル
%未満からなるテトラカルボン酸成分からなり、そして
溶媒はN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチ
ルアセトアミド、N−メチルピロリドンおよび1,3−
ジメチルイミダゾリジノンよりなる群から選ばれる少な
くとも一種からなる。; (2)上記溶媒から選ばれる少なくとも一種にジシクロ
ヘキシルカルボジイミドもしくは無水酢酸と有機アミン
化合物を溶解してなる溶液中に、上記工程(1)で調製
した溶液を支持体上に流延して得られたフィルムを該支
持体と一緒に浸漬してゲル状フィルムを形成し、もしく
はあらかじめ上記工程(1)で調製した溶液に無水酢酸
と有機アミン化合物を混合し支持体上に流延してゲル状
フィルムを形成し、 (3)得られたゲル状フィルムを支持体から分離し、必
要に応じ洗浄した後、二軸延伸し、次いで (4)得られた二軸延伸フィルムを、拘束下で乾燥し、
非拘束下で熱処理に付して二軸配向ポリイミドフィルム
を形成する。
【0027】工程(1)では、ポリアミック酸の溶媒中
溶液が調製される。ポリアミック酸は、上記の如きジア
ミン成分とテトラカルボン酸成分からなる。ジアミン成
分を構成するp−フェニレンジアミンと異なる芳香族ジ
アミンおよびピロメリット酸と異なる芳香族テトラカル
ボン酸としては、ポリイミドについて前記したと同じ具
体例を挙げることができる。ポリアミック酸のジアミン
成分は、p−フェニレンジアミン単独からなるかあるい
はp−フェニレンジアミンおよび上記の如きそれと異な
る芳香族ジアミンとの組合せからなる。後者の組合せの
場合、p−フェニレンジアミンは、全ジアミン成分に基
づき、80モル%を超える割合、好ましくは90モル%
を超える割合すなわちそれと異なる芳香族ジアミンが2
0モル%未満、好ましくは10モル%未満からなる。
【0028】また、ポリアミック酸のテトラカルボン酸
成分は、ピロメリット酸単独からなるかあるいはピロメ
リット酸および上記の如きそれと異なる芳香族テトラカ
ルボン酸との組合せからなる。後者の組合せの場合、ピ
ロメリット酸は、全テトラカルボン酸成分に基づき、8
0モル%を超える割合、好ましくは90モル%を超える
割合すなわちそれと異なる芳香族テトラカルボン酸が2
0モル%未満、好ましくは10モル%未満からなる。
【0029】また、ポリアミック酸を製造する際、これ
らのジアミンと酸無水物は、ジアミン対酸無水物のモル
比として好ましくは0.90〜1.10、より好ましく
は0.95〜1.05で、用いることが好ましい。
【0030】このポリアミック酸の末端は封止されるこ
とが好ましい。末端封止剤を用いて封止する場合、その
末端封止剤としては、例えば無水フタル酸およびその置
換体、ヘキサヒドロ無水フタル酸およびその置換体、無
水コハク酸およびその置換体、アミン成分としてはアニ
リンおよびその置換体が挙げられる。
【0031】溶媒としては、N,N−ジメチルホルムア
ミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロ
リドンおよび1,3−ジメチルイミダゾリジノンが用い
られる。これらの溶媒は、単独であるいは2種以上組合
せて使用することができる。
【0032】工程(1)によれば、好ましくは、固形分
濃度0.5〜30重量%、より好ましくは2〜15重量
%のポリアミック酸の溶媒中溶液が調製される。
【0033】次いで、工程(2)において、上記工程
(1)で調製した溶液を支持体上に流延して得られたフ
ィルムを支持体と一緒に、反応凝固溶液中に浸漬する。
【0034】上記工程(1)で得られた溶液を支持体上
に流延するには、一般に知られている湿式ならびに乾湿
式成形方法等のいかなる製膜方法を用いてもよい。この
製膜方法としてはダイ押し出しによる工法、アプリケー
ターを用いたキャスティング、コーターを用いる方法な
どが例示される。ポリアミック酸の流延に際して支持体
として金属性のベルト、キャステイングドラムなどを用
いることができる。またポリエステルやポリプロピレン
のような有機高分子フィルム上に流延しそのまま縮合剤
溶液に導入することもできる。これらの工程は低湿度雰
囲気下で行うことが好ましい。浸漬溶液は工程(1)で
用いたと同じ溶媒から選ばれる溶媒の少なくとも1種に
ジシクロヘキシルカルボジイミドもしくは無水酢酸と有
機アミン化合物を溶解せしめて調製される。
【0035】浸漬溶液中のヘキシルカルボジイミドもし
くは無水酢酸と有機アミン化合物の濃度は特定するもの
ではないが、反応を十分に進行させるためには、好まし
くは0.5重量%以上99重量%以下である。また反応
温度は、特に規定するものではないが、浸漬溶液の凝固
点以上、沸点以下の温度を用いることができる。用いら
れる有機アミン化合物は無水酢酸とポリアミック酸の反
応触媒として働くものであり、例えばトリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロ
ピルエチルアミン、トリエチレンジアミンといった三級
脂肪族アミン;N,N−ジメチルアニリン、1,8−ビ
ス(N,N−ジメチルアミノ)ナフタレンの如き芳香族
アミン、ピリジンおよびその誘導体、ピコリンおよびそ
の誘導体、ルチジン、キノリン、イソキノリン、1,8
−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン、N,N−
ジメチルアミノピリジンの如き複素環式化合物を用いる
ことができる。このなかで経済性からはピリジンおよび
ピコリンが好ましい。またトリエチレンジアミンおよび
N,N−ジメチルアミノピリジンは無水酢酸との組合せ
において、極めて高いイミド基分率が実現可能であり、
水に対する耐性の高いゲルフィルムを与えることから好
ましく用いられる。この際有機アミン化合物の無水酢酸
に対する量としては特に既定するものではないが、0.
5モル%以上より好ましくは10モル%以上である。
【0036】またあらかじめ上記工程(1)で得られた
溶液中に無水酢酸と有機アミン化合物を溶解した溶液を
上述製膜方法を用いて実施しても構わない。有機アミン
化合物に関しては上述同様である。この場合の無水酢酸
と有機アミン化合物の濃度は特定するものではないが、
反応を十分に進行させるためにはポリアミック酸のアミ
ド基に対し、当モル以上が好ましい。また反応温度は、
特に規定するものではないが、浸漬溶液の凝固点以上、
沸点以下の温度を用いることができる。
【0037】工程(3)では、工程(2)で得られた未
延伸ゲル状フィルムを支持体から分離したのち二軸延伸
に付す。二軸延伸は、未延伸フィルムを支持体から分離
したのち、洗浄してから行っても、未洗浄のまま行って
もよい。洗浄には、例えば工程(1)で用いられた溶媒
と同様の溶媒が用いられる。
【0038】延伸は、縦横それぞれの方向に1.1〜
6.0倍の倍率で行うことができる。延伸温度は、特に
限定するものではないが、溶剤が揮発し延伸性が低下し
ない程度であればよく、例えば−20℃〜+80℃が好
ましい。なお、延伸は逐次あるいは同時二軸延伸のいず
れの方式で行ってもよい。延伸は溶剤中、空気中、不活
性雰囲気中、また低温加熱した状態でもよい。
【0039】工程(3)で二軸延伸に付すゲル状フィル
ムは300〜5,000%の膨潤度を持つことが好まし
い。これにより高い延伸倍率が得られる。300%以下
では延伸性が不十分であり、5,000%以上ではゲル
の強度が低下しハンドリングが困難となる。
【0040】工程(4)では、工程(3)で得られた二
軸延伸フィルムを乾燥し、ついで非拘束下で熱処理に付
して二軸配向ポリイミドフィルムを形成する。
【0041】乾燥方法としては熱風加熱、真空加熱、赤
外線加熱、マイクロ波加熱の他、熱板、ホットロールを
用いた接触による加熱などが例示できる。この際段階的
に温度をあげることでイミド化を進行させることが好ま
しい。
【0042】この乾燥は定長ないし緊張下に室温以上の
温度で実施することが好ましい。生産性を考慮した場合
より高温であるほうが好ましいが、フィルム表面性を向
上させる点では250℃以下がより好ましい。時間は特
に限定しないがフィルム中残存溶媒量が10重量%以下
を達成する必要がある。この場合寸法変化をさらに下げ
る方法として5%以下がさらに好ましい。このとき10
重量%より大きくなると配向緩和が大きくなり、実用に
耐える弾性率を達成することが難しい。
【0043】熱処理方法としては熱風加熱、真空加熱、
赤外線加熱、マイクロ波加熱の他、熱板、ホットロール
を用いた接触による加熱などが例示できる。この際段階
的に温度をあげることでイミド化を進行させることが好
ましい。
【0044】この熱処理は非拘束下300〜550℃の
温度で実施することが好ましい。もちろん拘束下、緊張
下で実施しても構わない。
【0045】
【実施例】以下、実施例により本発明方法をさらに詳し
く具体的に説明する。ただしこれらの実施例は本発明の
範囲を何ら限定するものではない。
【0046】ポリアミック酸の対数粘度は、NMP中ポ
リマー濃度0.5g/100mlで35℃で測定したも
のである。
【0047】膨潤度は膨潤した状態と乾燥した状態の重
量の比から算出した。すなわち、乾燥状態の重さを
W1、膨潤時の重さをW2とした場合 膨潤度=( W2 / W1 − 1) × 100 として算出した。
【0048】強伸度、弾性率測定は50mm×10mm
のサンプルを用い、引張り速度5mm/minで行いオ
リエンテックUCT−1Tによって測定を行ったもので
ある。
【0049】寸法変化(収縮率)については乾燥後フィ
ルムの縦DM1、横DT1の寸法を測定し、熱処理後の同一位
置の縦DM2、横DT2を測定し、以下の計算式で算出した。
【0050】収縮率=(1−(DM2×DT2)/(DM
1×DM2))×100 フィルム中残存溶媒量についてはTGAによる100℃
以上300℃以下の範囲における重量減少率をポリマー
対比で算出した。
【0051】吸湿率は25℃で68%RHに調湿した密
閉容器中に72時間置いた後、乾燥状態との重量差を百
分率(%)で求める。
【0052】アルカリエッチング速度はポリイミドフィ
ルムの一表面を容積比80/20のエタノール/水中の
1Nの水酸化カリウム溶液に40℃で120分間接触さ
せた前後のフィルム厚さをミツトヨ製のLITEMAT
IC型厚み計で測定して求める。
【0053】[実施例1]温度計・攪拌装置および原料投
入口を備えた反応容器に、窒素雰囲気下モレキュラーシ
ーブスで脱水したN−メチル−2−ピロリドン(NM
P)910mlを入れ、さらにパラフェニルジアミン1
9.9gを加えた後に完全に溶解し、その後、氷浴下冷
却した。この冷却したジアミン溶液に無水ピロメリット
酸二無水物40.1gを添加し一時間反応させ、さらに
室温下2時間反応後、アニリン0.011gを添加しさ
らに30分反応させた。得られたポリアミック酸溶液の
対数粘度は4.12であった。このポリアミック酸溶液
を、ガラス基板上に厚み1.0mmのドクターブレード
を用いてキャストし、NMP800ml、無水酢酸60
0mlおよびピリジン300mlからなる脱水縮合浴に
導入し10分間浸漬してゲル化させた。その後ガラス基
板から剥離しゲル状フィルムを得た。このゲル状フィル
ムのイミド基分率は43%であった。
【0054】得られたゲルフィルムをNMPに室温下1
5分浸漬させた後、両端をチャックで固定し、室温下2
軸方向に各1.9倍に5mm/secの速度で同時ニ軸
延伸した。延伸開始時のゲルフィルムの膨潤度は1,8
10%であった。
【0055】延伸後のゲルフィルムを枠固定し熱風送風
式オーブンを用い160℃から200℃に段階的に温度
を上昇し、10min間乾燥し、枠を外して熱風循環式
オーブンを用い450℃で熱処理を行い、ポリイミドフ
ィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの厚みは9
μm、面内の直交する二方向に測定した引張り弾性率は
17.5GPaおよび15.8GPa、引張り強度は
0.38GPaおよび0.34GPa、伸度は5.5%
および5.3%であった。また、厚み方向の屈折率nz
=1.583、密度は1.512g/cm3であった。
このときの乾燥後フィルム中の残存溶媒量は1.5%で
あった。熱膨張係数は−4.5/−4.2ppm、吸湿率
は3.2%であり、アルカリエッチング性は良好であっ
た。
【0056】
【発明の効果】この発明により面内の機械的性質のバラ
ンスのとれた高ヤング率ポリイミドフィルムを安価な設
備で実現する製造方法が可能となり、可撓性の印刷回路
またはテープ自動化接合(Tape Automated Bonding)テ
ープ(TABテープ)用の金属配線板基材に適した高弾性
率、低熱膨張係数、低吸湿率を有し、さらにアルカリエ
ッチング性に優れたポリイミドフィルムを提供できた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // B29K 79:00 B29K 79:00 B29L 7:00 B29L 7:00 C08L 79:08 C08L 79:08 (72)発明者 定延 治朗 山口県岩国市日の出町2番1号 帝人株式 会社岩国研究センター内 Fターム(参考) 4F071 AA60 AF02 AF10 AF20 AF62 AG01 AG05 AH13 BA02 BB02 BB08 BC01 4F100 AB01A AK49B AK49K BA02 BA07 GB43 JK07B JM10B YY00B 4F210 AA40 AG01 AH36 AR06 AR12 AR20 QA08 QC07 QD01 QD32 QG01 QG17 QW14 QW17 4J043 PA02 PA04 PA15 QB31 RA35 SA06 SB01 SB02 TA14 TB01 TB02 UA121 UA122 VA012 VA021 VA101 YB31 ZB50

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 p−フェニレンジアミン成分が80モル
    %を超え100モル%以下であるジアミン成分と、ピロ
    メリット酸が80モル%を超え100モル%以下である
    テトラカルボン酸成分とから実質的になるポリイミドか
    らなり、そしてヤング率がいずれも10GPaを超える
    直交する2方向がフィルム面内に存在することを特徴と
    するポリイミドフィルムからなる金属配線回路板。
  2. 【請求項2】 ジアミン成分がp−フェニレンジアミン
    単独であり、テトラカルボン酸成分がピロメリット酸単
    独であるポリイミドからなる請求項1に記載のポリイミ
    ドフィルムからなる金属配線回路板。
  3. 【請求項3】 ヤング率がいずれも12GPaを超える
    直交する二方向がフィルム面内に存在する請求項1〜2
    のいずれか1項に記載のポリイミドフィルムからなる金
    属配線回路板。
  4. 【請求項4】 ポリイミドのイミド基分率が95%以上
    である請求項1〜3のいずれか1項に記載のポリイミド
    フィルムからなる金属配線回路板。
  5. 【請求項5】 フィルム面に垂直な方向の屈折率nzと
    フィルムの密度dとの間に下記関係式(1)、(2)お
    よび(3)が成立する請求項1〜4のいずれか1項に記
    載のポリイミドフィルムからなる金属配線回路板。 1.61>nz>1.55 …(1) 1.57>d>1.46 …(2) 2.0d−1.33>nz>1.5d−0.77 …(3)
  6. 【請求項6】 一方向における引張り強度が0.3GP
    a以上である請求項1〜5のいずれか1項に記載のポリ
    イミドフィルムからなる金属配線回路板。
  7. 【請求項7】 (1)p−フェニレンジアミン成分が8
    0モル%を超え100モル%以下であるジアミン成分
    と、ピロメリット酸が80モル%を超え100モル%以
    下であるテトラカルボン酸成分とから実質的になるポリ
    アミック酸と、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
    −ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンおよび
    1,3−ジメチルイミダゾリジノンよりなる群(A)か
    ら選ばれる少なくとも一種からなる溶媒とからなる溶液
    を調整し、(2)上記(A)から選ばれる少なくとも一
    種の溶媒にジシクロヘキシルカルボジイミド、もしくは
    無水酢酸と有機アミン化合物を溶解してなるイソイミド
    化溶液中に、上記工程(1)で調製した溶液を支持体上
    に流延して得られたフィルムを該支持体と一緒に浸漬し
    てポリアミック酸の少なくとも一部がポリイソイミドに
    変換されたゲル状フィルムを形成し;(3)得られたゲ
    ル状フィルムを支持体から分離し、必要に応じ洗浄した
    後、二軸延伸し、次いで(4)得られた二軸延伸フィル
    ムを、必要に応じ洗浄して溶媒を除去した後、熱処理に
    付して二軸配向ポリイミドフィルムを形成する、ことを
    特徴とするポリイミドフィルムからなる金属配線回路板
    の製造法。
  8. 【請求項8】 (1)p−フェニレンジアミン成分が8
    0モル%を超え100モル%以下であるジアミン成分
    と、ピロメリット酸が80モル%を超え100モル%以
    下であるテトラカルボン酸成分とから実質的になるポリ
    アミック酸と、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
    −ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンおよび
    1,3−ジメチルイミダゾリジノンよりなる群(A)か
    ら選ばれる少なくとも一種からなる溶媒とからなる溶液
    を調整し、(2)上記(A)から選ばれる少なくとも一
    種の溶媒にジシクロヘキシルカルボジイミド、もしくは
    無水酢酸と有機アミン化合物を溶解してなるイソイミド
    化溶液中に、上記工程(1)で調製した溶液を支持体上
    に流延して得られたフィルムを該支持体と一緒に浸漬し
    てポリアミック酸の少なくとも一部がポリイソイミドに
    変換されたゲル状フィルムを形成し;(3)得られたゲ
    ル状フィルムを支持体から分離し、必要に応じ洗浄した
    後、二軸延伸し、次いで(4)得られた二軸延伸フィル
    ムを、必要に応じ洗浄して溶媒を除去した後、熱処理に
    付して二軸配向ポリイミドフィルムを形成する、ことを
    特徴とする金属配線回路板に好適なポリイミドフィルム
    の製造法。
  9. 【請求項9】 工程(2)においてジシクロヘキシルカ
    ルボジイミドを用い、ゲル状フィルムのイソイミド基分
    率が90%以上である請求項8に記載のポリイミドフィ
    ルムの製造法。
  10. 【請求項10】 工程(2)において無水酢酸と有機ア
    ミン化合物を用い、ゲル状フィルムのイミド基分率とイ
    ソイミド基分率をあわせたものが20%〜100%であ
    る請求項8に記載のポリイミドフィルムの製造法。
  11. 【請求項11】 工程(3)で二軸延伸に付すゲル状フ
    ィルムが300〜5,000%の膨潤度を有する請求項
    8〜10のいずれか1項に記載のポリイミドフィルムの
    製造法。
  12. 【請求項12】 工程(4)の熱処理を定長ないし緊張
    下に300〜550℃の温度で実施する請求項8〜11
    のいずれか1項に記載のポリイミドフィルムの製造法。
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