JP2004330136A - 液状膜の乾燥方法、有機ｅｌパネルの製造方法、電気光学パネルの製造方法及び電子機器の製造方法、並びに液状膜の乾燥装置、電気光学パネル、電気光学装置及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】膜厚分布を均一化させることのできる、液状膜の乾燥方法を提供する。
【解決手段】（ａ） 基板（１）上に液状膜（５１）を形成するステップと、（ｂ） 前記基板に形成された前記液状膜を加熱することにより前記液状膜を乾燥させて薄膜を形成するステップとを備え、前記（ｂ）は、前記薄膜の膜厚が均一となるように前記液状膜の各部位に対する加熱温度が異なるように行う。前記（ｂ）は、前記液状膜の前記各部位の乾燥速度に応じて前記各部位に対する加熱温度が異なるように行うことができる。また、前記（ｂ）は、前記液状膜の前記各部位の溶媒の蒸気圧に応じて前記各部位に対する加熱温度が異なるように行うことができる。
【選択図】 図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、液状膜の乾燥方法、有機ＥＬパネルの製造方法、電気光学パネルの製造方法及び電子機器の製造方法、並びに液状膜の乾燥装置、電気光学パネル、電気光学装置及び電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電子機器に用いられるデバイスの構成要素として、各種材料からなる薄膜がある。このような薄膜を形成する技術として、いわゆるインクジェット塗布法（液滴吐出法）を用いて基板上に液状膜を形成する技術が提案されている。
【０００３】
インクジェット塗布法により形成される液状膜には、様々なものがある。その一つに、電気光学パネル（液晶表示装置や有機ＥＬパネル）の製造に必要な、フォトレジスト膜やオーバーコート膜（平坦化膜）や配向膜のような基板全面に亘って一様に塗布されるいわゆるベタ膜や、カラーフィルタや有機ＥＬ材料（正孔注入材料、発光材料インクを含む）のような各画素内に層を形成するための膜が含まれる。また、インクジェット塗布法は、電気光学パネルの製造以外で必要なフォトレジスト膜などの液状膜など、工業用に広く適用可能である。
【０００４】
インクジェット塗布法により、基板全面又は画素に形成された液状膜は、その膜の形成後に、ホットプレートや赤外線を用いて乾燥させ、液状膜中に含まれる溶媒を蒸発させることが行われる。ここでの乾燥とは、いわゆるポストベイク（本焼き）ではなく、仮焼きとしての乾燥を意味している。
【０００５】
【特許文献１】
特開２０００−３２３２７６号公報
【特許文献２】
特開平８−３１４１４８号公報
【特許文献３】
特開２００１−１７０５４６号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、本発明者らがインクジェット塗布法の工業用用途への適用に向けて鋭意努力した結果、インクジェット塗布法により塗布された液状膜が上記乾燥工程を経て乾燥したときの乾燥ムラについて、以下に示す知見が得られた。
【０００７】
図８及び図９に示すように、塗布工程において、基板１の全面に亘って均一な膜厚の面状の液状膜（例えば、レジスト膜のようなベタ膜）５１が形成された場合、その後の乾燥工程における、面状の液状膜５１の乾燥具合は、符号５１ｅで示す液状膜５１の端部（基板１の端部側）の乾燥速度が速く、符号５１ｃで示す液状膜５１の中央付近５１ｃの乾燥速度が遅い。
【０００８】
面状の液状膜５１の端部５１ｅ以外の領域（中央付近５１ｃ）は、その周囲に液状膜５１が存在するのに際し、端部５１ｅの周囲（基板１から離間する側の側方）には、液状膜が存在しない。よって、面状の液状膜５１の端部５１ｅ側は、相対的に溶媒の蒸気圧が低くなり、乾燥速度が速くなる。これに対し、中央付近５１ｃは、相対的に溶媒が蒸発し難い。
【０００９】
インクジェット塗布法では、液滴吐出ヘッドが例えば図１０の矢印に示すように基板１に対して相対的に移動する（主走査方向）。矢印に付された符号（１），（２），（３）…（ｎ−１），（ｎ）の数字は、液滴吐出ヘッドが基板１上を走査する順番を示している。なお、主走査方向に直交する方向が副走査方向である。
図１１は、図１０の符号（１）で示す一回の走査により形成されたライン状の液滴を示している。図１２は、複数回の走査（１），（２），（３），…（ｎ）により塗布されるライン状の液滴５１−１，５１−２，５１−３，…５１−ｎを示している。
【００１０】
図１１に示すように、液滴５１−１は、走査方向に沿うライン状に塗布され、図１２に示すように、複数回の走査により塗布される液滴５１−１，５１−２，５１−３，…５１−ｎがつながって面状の液状膜が形成される。
【００１１】
図１１に示すように、塗布された１ライン分の液滴５１−１は、本来、液滴ラインの延在方向と直交する方向の両端側５１−ｅから乾燥する。１ラインの液滴の中でも、両端部５１−１ｅ以外の領域（中央付近５１−１ｃ）は、その周囲に液体が存在するのに際し、両端部５１−１ｅの周囲（中央付近５１−１ｃから離間する側の側方）には液体が存在しない。よって、液状膜５１の端側５１−ｅ側は、相対的に溶媒の蒸気圧が低くなり、乾燥速度が速くなる。これに対し、中央付近５１−１ｃは、相対的に溶媒が蒸発し難い。
【００１２】
図１２は、図１０に示すような順番（（１），（２），（３），…（ｎ−１），（ｎ））でヘッドが移動したときに形成される液滴のラインを示す側面図である。上記のように、ライン５１−１が形成された直後は、その両端部（図１１の符号５１−１ｅ，図１２では符号５１−１ｒ，５１−１ｌで示す）の乾燥速度が速いが、次のヘッドの走査（図１０の符号（２））で、液滴ライン５１−１に一部（右側の端部５１−１ｒ）が接触するように液滴ライン５１−２が形成される。その結果、液滴ライン５１−１の右側の端部５１−１ｒは、液滴ライン５１−２で覆われることになり、その乾燥速度が抑制される。液滴ライン５１−２が形成された直後は、その右側端部５１−２ｒの周囲に液滴（液状膜）が存在しないため、乾燥速度が速いが、次の走査（（３））で形成される液滴ライン５１−３によって覆われるため、その時点でその乾燥速度が抑制される。
【００１３】
最初の液滴ライン５１−１の左側端部５１−ｌは、ヘッドの走査が図１の符号（１），（２），（３）…の順に進行しても、その部分が他の液滴で覆われることは無いから、その乾燥速度が抑制されることが無い。また、最後の走査（図１の符号（ｎ））で形成される液滴ライン５１−ｎの右側端部５１−ｎｒについても、それが液滴で覆われることはないから、その部分の乾燥速度が抑制されることは無い。
【００１４】
また、図１０における走査方向の基端側と終端側に対応する液状膜５１の端部５１ｅ−ｆ，５１ｅ−ｂは、その周囲（基板１から離間する側の側方）に液体が無いから乾燥速度が相対的に速い。
以上のことから、基板１の端部側に対応する液状膜５１の端部側５１ｅ（５１−１ｌ，５１−ｎｒ，５１ｅ−ｂ，５１ｅ−ｆ）は、乾燥速度が相対的に速くなり、乾燥工程での乾燥ムラにつながる。
【００１５】
液状膜５１の端部側５１ｅの乾燥が相対的に速いことが原因で膜厚ムラが生じる。膜厚ムラは、液状膜５１が電気光学パネル用である場合には、表示（発光）特性の低下につながったり、フォトレジストである場合には、露光ムラにつながる。また、基板端部の表示（発光）特性が悪くなるので、ディスプレイとしての品質の低下につながる。
【００１６】
図１３は、全面に液状膜５１が塗布された基板１を示す平面図である。液滴吐出ヘッドは、図１０と同様に、図１３において、上から下に向かうと共に（１），（２），（３）‥（ｎ−１），（ｎ）の順に移動し、その結果、符号５１ａで示す部分が最初に塗布され、符号５１ｂで示す部分が最後に塗布されることになる。よって、面状の液状膜５１の乾き具合（乾燥工程に入る前の塗布工程中における乾き具合）は、符号５１ａで示す部分が最初に乾き、符号５１ｂで示す部分が最後まで乾かないこととなる。即ち、塗布されてから乾燥工程に入る前までの時間が、符号５１ｂで示す部分の方が符号５１ａで示す部分に比べて短いため、符号５１ｂで示す部分の膜厚は、符号５１ａで示す部分に比べて膜厚が厚くなることがある。この膜厚ムラもまた、表示（発光特性）の低下につながったり、露光ムラの原因となる。
【００１７】
上記の問題は、特に、例えばテレビの電気光学パネルに用いられる１ｍ四方以上の大面積の基板上に液状膜が形成される場合に顕著である。
【００１８】
本発明の目的は、膜厚分布を均一化させることのできる、液状膜の乾燥装置及び乾燥方法を提供することである。
本発明の他の目的は、膜厚分布を均一化させるべく、基板上に塗布された液状膜が乾燥するときの乾燥ムラを最小限に抑えることのできる、液状膜の乾燥装置及び乾燥方法を提供することである。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
本発明の液状膜の乾燥方法は、（ａ） 基板上に液状膜を形成するステップと、（ｂ） 前記基板に形成された前記液状膜を加熱することにより前記液状膜を乾燥させて薄膜を形成するステップとを備え、前記（ｂ）は、前記薄膜の膜厚が均一となるように前記液状膜の各部位に対する加熱温度が異なるように行う。
【００２０】
本発明の液状膜の乾燥方法において、前記（ｂ）は、前記液状膜の前記各部位の乾燥速度に応じて前記各部位に対する加熱温度が異なるように行う。
【００２１】
本発明の液状膜の乾燥方法において、前記（ｂ）は、前記液状膜の前記各部位の溶媒の蒸気圧に応じて前記各部位に対する加熱温度が異なるように行う。
【００２２】
本発明の液状膜の乾燥方法において、前記（ｂ）は、前記液状膜のうち前記基板の外周側に位置する前記部位に対する前記加熱温度を相対的に低く設定し、前記液状膜のうち前記基板の中央側に位置する前記部位に対する前記加熱温度を相対的に高く設定する。
【００２３】
本発明の液状膜の乾燥方法において、前記（ａ）における前記液状膜は、液滴吐出法により液滴を吐出する液滴吐出ヘッドが前記基板上を相対的に複数回移動することによって形成される複数のライン状の前記液滴から形成し、前記液滴吐出ヘッドは、前記ライン状の液滴の乾燥ムラが抑制されるように前記複数のライン状の液滴の一部が互いに接触するように移動する。
【００２４】
本発明の液状膜の乾燥方法において、前記（ｂ）は、前記液状膜の前記各部位の膜厚に応じて前記各部位に対する加熱温度が異なるように行う。
【００２５】
本発明の液状膜の乾燥方法において、前記（ｂ）は、前記液状膜のうち膜厚が相対的に厚い前記部位に対する前記加熱温度を相対的に高く設定し、前記液状膜のうち膜厚が相対的に薄い前記部位に対する前記加熱温度を相対的に低く設定して行う。
【００２６】
本発明の液状膜の乾燥方法において、前記（ａ）は、液滴吐出法により液滴を吐出する液滴吐出ヘッドが前記基板上を主走査方向及び副走査方向に相対的に移動することによって前記液状膜を形成し、前記（ｂ）は、前記液状膜のうち前記液滴吐出ヘッドから相対的に早い時間に吐出された液滴によって形成された前記部位の前記加熱温度を相対的に低く設定し、前記液状膜のうち前記液滴吐出ヘッドから相対的に遅い時間に吐出された液滴によって形成された前記部位の前記加熱温度を相対的に高く設定して行う。
【００２７】
本発明の液状膜の乾燥方法において、前記（ａ）は、スピンコート法により前記基板上に前記液状膜を形成し、前記（ｂ）は、前記液状膜の外周側の前記部位の加熱温度を相対的に高く設定し、前記液状膜の中央側の前記部位の前記加熱温度を相対的に低く設定して行う。
【００２８】
本発明の液状膜の乾燥方法において、前記（ｂ）における前記加熱は、独立して発熱量を制御可能であり、共通の中心位置を有し前記基板の輪郭と概ね相似形となるようにそれぞれ配設された複数の電熱線を用いて行われる。
【００２９】
本発明の液状膜の乾燥方法において、前記（ｂ）における前記加熱は、前記基板の辺に平行に配設された複数の赤外線ランプを用いて行われる。
【００３０】
本発明の液状膜の乾燥方法において、前記（ｂ）は、前記液状膜の各部位に対する加熱温度が異なるように加熱する第１ステップと、前記液状膜に対して均一な加熱温度で加熱する第２ステップとを有している。
【００３１】
本発明の液状膜の乾燥方法において、前記（ａ）で形成される前記液状膜は、フォトレジスト膜、電気光学パネルの製造に必要な、オーバーコート膜、配向膜、カラーフィルタ、有機ＥＬ材料のうちのいずれかである。
【００３２】
本発明の有機ＥＬパネルの製造方法は、正孔注入層と発光層を、陽極および陰極で挟持した構造の有機ＥＬパネルの製造方法であって、（ｃ） 基板上の所定の領域に正孔注入材料を含むインク組成物を液滴吐出方式により塗布して正孔注入層を形成するステップと、（ｄ） 発光材料を含むインク組成物を液滴吐出方式により塗布して発光層を形成するステップと、（ｅ） 前記正孔注入層及び前記発光層の少なくともいずれか一方を加熱することにより乾燥させて薄膜を形成するステップとを備え、 前記（ｅ）は、前記薄膜の膜厚が均一となるように前記正孔注入層及び前記発光層の少なくともいずれか一方の各部位に対する加熱温度が異なるように行う。
【００３３】
本発明の電子機器の製造方法は、上記本発明の有機ＥＬパネルの製造方法で製造された有機ＥＬパネルに実装部品を実装して電子機器を製造するステップを備えている。
【００３４】
本発明の電気光学パネルの製造方法は、（ｆ） 基材にカラーフィルタ材料の液状膜を塗布するステップと、（ｇ） 前記カラーフィルタの液状膜を乾燥させて前記カラーフィルタの薄膜を形成するステップと、（ｈ） 前記カラーフィルタの上へ保護膜材料の液状膜を塗布するステップと、（ｉ） 前記保護膜材料の液状膜を乾燥させて前記保護膜材料の薄膜を形成するステップと、（ｊ） 前記カラーフィルタの液状膜及び記保護膜材料の液状膜の少なくともいずれか一方を乾燥させるときに、前記薄膜の膜厚が均一となるように前記液状膜の各部位に対する加熱温度が異なるように前記液状膜を加熱するステップとを備えている。
【００３５】
本発明の電子機器の製造方法は、上記本発明の電気光学パネルの製造方法で製造された電気光学パネルに実装部品を実装して電子機器を製造するステップを備えている。
【００３６】
本発明の液状膜の乾燥装置は、基板に形成された液状膜を加熱して薄膜を形成する液状膜の乾燥装置であって、前記薄膜の膜厚が均一となるように前記液状膜の各部位に対する加熱温度が異なるように前記液状膜を加熱可能である。
【００３７】
本発明の液状膜の乾燥装置において、独立して発熱量を制御可能であり、共通の中心位置を有し前記基板の輪郭と概ね相似形となるようにそれぞれ配設された複数の電熱線を備えている。
【００３８】
本発明の液状膜の乾燥装置において、前記基板の互いに接する２辺のそれぞれに平行に配設された複数の赤外線ランプを備えている。
【００３９】
本発明の電気光学パネルは、基板と、前記基板に形成され、乾燥後の膜厚が均一となるように前記基板に形成された液状膜の各部位に対して異なる加熱温度で加熱乾燥されてなる薄膜とを備えている。
【００４０】
本発明の電気光学装置は、上記本発明の電気光学パネルを備えている。
【００４１】
本発明の電子機器は、上記本発明の電気光学装置を備えている。
【００４２】
本発明は、基板上に塗布された液状膜が形成された後にその液状膜を乾燥させる際に、乾燥速度又は膜厚に応じた温度分布をもつように加熱して乾燥後の膜厚分布の均一化を図るものである。前記基板または前記液状膜の乾燥温度を部分的に制御することにより実現される。液状体は、インクジェットで吐出されたものであることができる。
【００４３】
【発明の実施の形態】
以下、この発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施の形態における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの或いは実質的に同一のものが含まれる。なお、本発明に係る電気光学パネルとしては、例えば有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネルや液晶表示パネルやＤＭＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｍｉｃｒｏｍｉｒｒｏｒ Ｄｅｖｉｃｅ）表示パネルが挙げられる。
【００４４】
（実施の形態１）
本実施形態は、インクジェット塗布法により形成される液状膜の乾燥に対して広く適用可能である。上述したように、インクジェット塗布法により形成される液状膜には、様々なものがある。その一つに、電気光学パネル（液晶表示装置や有機ＥＬパネル）の製造に必要な、フォトレジスト膜（１μｍ程度）やオーバーコート膜（１０μｍ以下）や配向膜のような基板全面に亘って一様に塗布されるいわゆるベタ膜や、カラーフィルタや有機ＥＬ材料（発光材料インク：ベイク後は、数十ｎｍ）のような各画素内に層を形成するための膜が含まれる。また、インクジェット塗布法は、電気光学パネルの製造以外で必要なフォトレジスト膜などの液状膜など、工業用に広く適用可能である。本実施形態は、これらの液状膜に対して、広く適用することが可能である。
【００４５】
インクジェット塗布法により形成される液状膜の中でも、有機ＥＬ材料は、特に溶媒の比率が高いため、その溶媒の乾燥ムラや乾燥後の膜厚のムラが大きな問題となり易い。そこで、以下では、有機ＥＬ材料の液状膜を例にとって説明する。
【００４６】
この技術は、有機ＥＬ素子を形成する有機物からなる正孔注入材料、ならびに有機物からなる発光材料を溶媒に溶解または分散させたインク組成物（発光材料インク）を、インクジェットから吐出させて例えば透明電極が形成され画素を構成する基板上に塗布し、正孔注入層ならびに発光層を形成する方法である。
【００４７】
図２に示すように、基板１には、予め陰極（ＩＴＯ電極）２、バンク（隔壁）３、カソードセパレータ４を形成する。この基板１を薄膜形成装置のステージに設置する（図３）。
【００４８】
図３に示すように、薄膜形成装置１０は、図２に示すように有機ＥＬ表示要素が形成された基板１の表面に例えば有機ＥＬ材料等の塗布液１１を吐出する液滴吐出ヘッド１２を有する液滴吐出手段１３と、液滴吐出ヘッド１２と基板１との位置を相対的に移動させる移動手段１４と、液滴吐出手段１３及び移動手段１４を制御する制御手段１５とを具備してなるものである。
【００４９】
移動手段１４は、ステージ１６上に載置された基板１の上方に、液滴吐出ヘッド１２を下方側に向けて支持すると共に移動自在のステージ１８によりＸ軸方向に移動自在のヘッド支持部１７と、上方の液滴吐出ヘッド１２に対して基板ステージ１６と共に基板をＹ軸方向に移動させるステージ駆動部１９とから構成されている。
【００５０】
ヘッド支持部１７は、液滴吐出ヘッド１２を基板１に対してその鉛直軸方向（Ｚ軸）に任意の移動速度で移動可能且つ位置決め可能な例えばリニアモータ等の機構と、鉛直軸を中心に液滴吐出ヘッド１２を回転させることによって下方の基板１に対して任意な角度に設定可能なステッピングモータ等の機構とを備えたものである。
【００５１】
ステージ駆動部１９は、鉛直軸を中心に基板ステージ１６を回転させて上方の液滴吐出ヘッド１２に対して任意な角度に設定可能なθ軸ステージ２０と、基板ステージ１６とを液滴吐出ヘッド１２に対して水平方向（Ｙ方向）に移動させ且つ位置決めするステージ２１とを備えている。なお、θ軸ステージ２０は、ステッピングモータ等から構成され、ステージ２１はリニアモータ等から構成されている。
【００５２】
吐出手段１３は、液滴吐出ヘッド１２とこれにチューブ２２を介して接続されたタンク２３とを備えている。タンク２３は塗布液１１を貯留し、チューブ２２を介してこの塗布液１１を液滴吐出ヘッド１２に供給するものとなっている。塗布液１１としては、有機ＥＬ材料が用いられることができる。このような構成によって液滴吐出手段１３は、タンク２３に貯留された塗布液１１を液滴吐出ヘッド１２から吐出し、これを基板１上に塗布するようにしている。液滴吐出ヘッド１２は、例えばピエゾ素子によって液室を圧縮し、その圧力で液滴（液状材料）を吐出させるものであり、一列又は複数列に配列された複数のノズル（ノズル孔）を有している。
【００５３】
この液滴吐出ヘッド１２の構成の一例について図４、図５を参照して説明する。図４、図５に示すように、液滴吐出ヘッド１２は、例えばステンレス製のノズルプレート３１と振動版３２とを備え、仕切り部材（リザーバプレート）３３を介して両者を接合したものである。ノズルプレート３３と振動板３２との間には、仕切り部材によって複数の空間３４と液溜まり３５とが形成されている。各空間３４と液溜まり３５の内部は液状材料（図示せず）で満たされており、各空間３４と液溜まり３５とは供給口３６を介して連通したものとなっている。また、ノズルプレート３１には、各空間３４から液状材料１１を噴射するための微小孔のノズル３７が形成されている。一方、振動板３２には、液溜まり３５に塗布液１１を供給するための孔３７ａが形成されている。
【００５４】
振動板３２の空間に対向する面と反対側の面上には、図４、図５に示すように、圧電素子（ピエゾ素子）３８が接合されている。この圧電素子３８は、図５に示すように一対の電極３９，３９の間に位置し、通電するとこれが外側に突出するように撓曲するようになっている。そして、このような構成のもとに圧電素子３８が接合されている振動板３２は、圧電素子３８と一体になって同時に外側へ撓曲するようになっており、これによって空間３４の内部容積が増大するようになっている。したがって、空間３４内に増大した容積分に相当する液状材料が液溜まり３５から供給口３６を介して流入する。また、このような状態から圧電素子３８への通電を解除すると、圧電素子３８と振動板１３とは共に元の形状に戻る。したがって、空間３４も元の容積に戻ることから、空間内部の塗布液１１の圧力が上昇し、ノズル３７から基板１に向けて液状材料の噴霧状液滴が吐出される。
【００５５】
なお、液滴吐出ヘッド１２の方式としては、上述したような圧電素子を用いたピエゾジェットタイプ以外の方式でもよく、超音波モータ，リニアモータ等により、振動を付与し、またはタンク内に圧力を印加することにより、上記微小穴から塗布液１１である液晶を射出させるようにしてもよい。ここで、タンク内の液晶は、前もって脱泡処理されていることが望ましい。尚、液滴吐出ヘッド１３は、タンク内の液晶ないしは液晶と低粘性揮発性液体の混合物を加熱して、該物質の膨張・発泡により、微小穴から液晶を射出させる、所謂バブルジェット（Ｒ）方式として構成されていてもよい。
【００５６】
上記制御手段１５は、装置全体の制御を行うマイクロプロセッサ等のＣＰＵや、各種信号の入出力機能を有するコンピュータ等によって構成されたものであり、図３に示したように、液滴吐出手段１３及び移動手段１４にそれぞれ電気的に接続されたことにより、液滴吐出手段１３による吐出動作、及び移動手段１４による移動動作の少なくとも一方、本実施の形態では両方を制御するものとなっている。
そして、このような構成により、液状吐出液の吐出条件を調整し、形成する薄膜の塗布量を制御するようにしている。
【００５７】
すなわち、制御手段１５は、上記塗布量を制御する機能として、基板に対する液状吐出液の吐出間隔を調整する制御機能と、１ドットあたりの液状吐出液の吐出量を調整する制御機能と、ノズルの配列方向と移動機構による移動方向との角度（θ）を調整する制御手段と、基板上を複数の領域に分けて各領域に吐出条件を設置する制御機能とを備えている。
【００５８】
さらに、制御手段１５は、上記吐出間隔を調整する制御機構として、基板１と液滴吐出ヘッド１２との相対的な移動の速度を調整して吐出間隔を調整する制御機能と、移動手段における吐出の時間間隔を調整して吐出間隔を調整する制御機能と、複数のノズルのうち同時に塗布液を吐出させるノズルを任意に設定して吐出間隔を調整する機能とを備えている。
【００５９】
上記構成に代えて、液滴吐出ヘッド１２にＸ軸、Ｙ軸に移動する手段を持たせてもよいし、ステージ１６，２０又は２１にＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸に移動する手段を持たせてもよい。
【００６０】
上述したように、図２に示す基板１をステージ１６に設置し、指定された画素内に発光材料インク（例えば赤）を液滴吐出ヘッド１２から吐出し、発光層を形成する。この際、制御手段（ＰＣ）１５に予め一滴当たりの重量と一画素当たりの塗布量のデータを入力しておくことで、液滴吐出ヘッド１２からの吐出を制御する。本例では、一滴当たりの重量を８ｎｇとし、一画素当たりの塗布量を１６０ｎｇとした。これにより、塗布工程が終了し、次の乾燥工程に移行する。
【００６１】
次に、第１の実施形態における乾燥工程について説明する。
乾燥工程では、上記塗布工程において、ステージ１６上において液滴が塗布された基板１がそのままステージ１６上において乾燥させられ、液滴中に含まれる溶媒を蒸発させる。図１０を参照して上述したように、基板１の端部側に対応する液状膜５１の端部側５１ｅ（５１−１ｌ，５１−ｎｒ，５１ｅ−ｂ，５１ｅ−ｆ）は、乾燥速度が相対的に速いので、乾燥工程では乾燥ムラが生じないように工夫が必要である。
【００６２】
ステージ１６の下部には、図１に示すホットプレート２４が設けられている。ホットプレート２４には、複数本の電熱線（熱電対）２５ａ、２５ｂ、２５ｃが配されている。それらの電熱線２５ａ、２５ｂ、２５ｃは、中心位置Ｐを同じくし、ホットプレート２４と概ね相似形の矩形状に配されている。複数の電熱線２５ａ、２５ｂ、２５ｃは、同じ種類（性能）を有し、長さのみが異なるものであることができる。
【００６３】
複数の電熱線２５ａ、２５ｂ、２５ｃのそれぞれは、互いに接続されること無く別々に制御手段１５に接続されている。これにより、制御手段１５から各電熱線２５ａ、２５ｂ、２５ｃに流す電流は、独立して制御可能とされている。制御手段１５は、ホットプレート２４の中心位置Ｐにより近い電熱線２５ａに相対的に大きな電流が流れるようにし、中心位置Ｐから離間したホットプレート２４の外周側の電熱線２５ｃに相対的に小さな電流が流れるように制御する。これにより、制御手段１５は、電熱線２５ａの温度＞電熱線２５ｂの温度＞電熱線２５ｃの温度、の関係が成立するように制御する。
【００６４】
この制御により、ホットプレート２４の中心位置Ｐの近傍（中心部）を７０℃にし、ホットプレート２４の外周部を５０℃にして５分間加熱する。その５分間の間は、それぞれ温度を７０℃、５０℃の一定に維持する。これにより、ステージ１６上の基板１を乾燥させて、発光層（赤）を得た。発光層（緑）、発光層（青）についても同様に、塗布、乾燥を行った。
【００６５】
その後、真空蒸着法により、陽極（Ｃａ）を形成し、封止を行い、有機ＥＬディスプレイを得た。なお、インクジェット塗布法を用いて有機ＥＬ素子を製造する方法については、特開２０００−３２３２７６号公報に記載されている。
【００６６】
図１４を参照して、有機ＥＬ素子の製造方法について説明する。
図１４は、３色のフルカラー有機ＥＬ素子の製造工程を示したものである。透明基板２０４は、支持体であると同時に光を取り出す面として機能する。従って、透明基板２０４は、光の透過特性や熱的安定性を考慮して選択される。透明基板材料としては、例えばガラス基板、透明プラスチック等が挙げられるが、耐熱性に優れることからガラス基板が好ましい。
【００６７】
まず、透明基板２０４上に、画素電極２０１、２０２，２０３を形成した。形成方法としては、フォトリソグラフィー、真空蒸着、スパッタリング法、パイロゾル法等が挙げられるが、フォトリソグラフィーによることが好ましい。画素電極としては透明画素電極が好ましく、透明画素電極を構成する材料としては、酸化スズ膜、ＩＴＯ膜、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物膜等が挙げられる。
【００６８】
次に、隔壁（バンク）２０５を感光性ポリイミドで形成し、上記の各透明画素電極間を埋めた。これによりコントラストの向上、発光材料の混色の防止、画素と画素との間から光漏れ等を防止することができる。
【００６９】
隔壁２０５を構成する材料としては、ＥＬ材料の溶媒に対し耐久性を有する材料であれば特に限定されない。また、隔壁２０５は、上記材料にカーボンブラック等を混入してブラックレジストとしてもよい。この隔壁２０５の形成方法としては、例えばフォトリソグラフィー等が挙げられる。
【００７０】
正孔注入層（更に正孔輸送層）用インク組生物を塗布する直前に、上記基板の酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プラズマ処理を行った。
【００７１】
次に、正孔注入層用インクをインクジェット装置２０９のヘッド２１０から吐出し、各電極２０１，２０２，２０３上にパターニング塗布を行った。塗布後、真空中（１ｔｏｒｒ）、室温、２０分という条件で溶媒を除去し、その後、大気中、上記ホットプレート上で上記の時間熱処理を行い、正孔注入層２２０を形成した。本例では、各画素とも共通の正孔注入層を形成したが、場合によっては各発光層毎で発光層に適した正孔注入材料（または正孔輸送材料）を用いて形成してもよい。
【００７２】
さらに、赤色発光層用インク組成物、緑色発光層組成物、青色発光層組成物をインクジェット方式により正孔注入層２２０上を介して画素電極２０１、２０２、２０３上にパターニング状に塗布した。塗布後、所定の条件で溶媒を除去し、続けて窒素雰囲気中、１５０℃、４時間の熱処理にて共役化させ赤色発光層２０６、緑色発光層２０７、青色発光層２０８を形成した。膜厚は５０ｎｍであった。熱処理により共役化した発光層は溶媒に不溶である。
【００７３】
最後に、陰極（対向電極）２１３を形成した。陰極２１３としては、金属薄膜電極が好ましく、陰極を構成する金属としては、例えばＭｇ、Ａｇ、Ａｌ、Ｌｉ等が挙げられる。このような陰極２１３は、蒸着法およびスパッタ法等により形成することができる。さらに、陰極２１３の上に保護膜を形成してもよい。
【００７４】
上記のように、第１実施形態では、液滴吐出法を用いた有機ＥＬディスプレイの製造方法において、液滴吐出ヘッド１２から基板１に発光材料インクを吐出する塗布工程と、発光材料インクに含まれる溶媒を蒸発させ発光層を形成する乾燥工程とを有し、上記乾燥工程は、基板１の中心部の温度よりも基板１の外周部の温度が低くなるように制御される。図１０を参照して上述したように、本来、基板１の端部（外周部）側に対応する液状膜５１の端部側５１ｅは、乾燥速度が相対的に速いが、基板１の中心部の温度よりも基板１の外周部の温度が低くなるように制御されることにより、基板１全体の乾燥ムラを無くすことができ、これにより、膜厚ムラを抑制することができる。
【００７５】
上記第１実施形態では、複数の電熱線２５ａ、２５ｂ、２５ｃは、矩形状に形成されたが、これに代えて、複数の電熱線２５ａ、２５ｂ、２５ｃは、ホットプレート２４と同じ中心位置Ｐを有する同心円状に形成されることができる。基板１は、同心円状に温度分布がついた加熱状態の下で乾燥する。
【００７６】
また、上記第１実施形態では、複数の電熱線２５ａ、２５ｂ、２５ｃは、同じ種類の電熱線が用いられ、それらに流れる電流を制御手段１５で制御することで、中心側の電熱線２５ａの温度よりも外周側の電熱線２５ｃの温度が低くなるように制御した。これに代えて、複数の電熱線２５ａ、２５ｂ、２５ｃとして、それぞれ種類（性能）を異なるものを使用して、中心側の電熱線２５ａの発熱量が相対的に大きく、外周側の電熱線２５ｃの発熱量が相対的に低くなるようにすることができる。
【００７７】
さらに、上記第１実施形態では、電熱線２５ａ、２５ｂ、２５ｃが設けられたホットプレート（熱伝導性の良い板）２４の板厚は均一であり、加熱源である電熱線２５ａ、２５ｂ、２５ｃの熱量を変えることで、基板１に対して温度分布を持たせた加熱を行うこととしている。これに代えて、所望の温度分布に対応するようにホットプレート２４の板厚に変化を持たせることで、基板１に伝わる熱量を変えて、基板１に対して温度分布を持たせた加熱を行うことができる。
【００７８】
第１実施形態は、スピンコート法により形成した液状膜の均一な膜厚形成のための乾燥についても有効である。スピンコート法では、図６に示すように、遠心力により液状膜１０２を形成するため、基板１０１の端部側１０１ａの膜厚が中央部１０１ｂに比べて厚くなる。この場合には、膜厚の厚い基板１０１の端部側１０１ａの温度が中央部１０１ｂに比べて高くなるように温度分布を持たせる。この温度制御は、制御手段１５が電熱線２５ａ、２５ｂ、２５ｃの温度分布が上記例と逆（電熱線２５ａの温度＜電熱線２５ｂの温度＜電熱線２５ｃの温度）になるように行えばよい。これにより、乾燥後の膜厚は、基板１０１全面に亘って均一とすることができる。上記のホットプレートを用いても、このような温度分布を容易に持たせることができる。
【００７９】
（実施の形態２）
次に、第２の実施形態について説明する。
第２実施形態では、乾燥工程のみが上記第１実施形態と異なるため、その相違点のみを説明する。
【００８０】
第２実施形態の乾燥工程では、上記塗布工程において、ステージ１６上において液滴が塗布された基板１が減圧チャンバー（図示せず）内に設けられた乾燥装置で乾燥させられ、液滴中に含まれる溶媒を蒸発させる。
【００８１】
図７は、第２実施形態で用いられる乾燥装置を示している。その乾燥装置は、赤外線ランプ３１が網の目状に配置され、各ランプ３１単位もしくはランプ３１をグループ分けしてグループ単位でランプ３１に流す電流を制御できるようにされている。各ランプ３１は、制御手段１５に接続されている。乾燥装置の各ランプ３１は、基板１に形成された液状膜に対向する位置に設けられ、各ランプ３１からは、基板１の塗布面側に赤外線が照射される構成とされている。同図に示すように、１本の赤外線ランプ３１は、それぞれ基板１（または基板１における液状膜の形成領域）の長手方向または短手方向の長さ程度の長さを有している。
【００８２】
基板１を減圧チャンバー内に設置した後、チャンバー内を約１Ｔｏｒｒに減圧しながら、基板１の外周部が５０℃、中心部が７０℃となるように制御手段１５によってランプ光量を調整して加熱した。このようにして、発光層（赤）を作成した。発光層（緑）、発光層（青）も同様に塗布、乾燥を行った。さらに、真空蒸着法により、陽極（Ｃａ）を形成し、封止を行い、有機ＥＬディスプレイを得た。
【００８３】
図１０を参照して上述したように、本来、基板１の端部（外周部）側に対応する液状膜５１の端部側５１ｅは、乾燥速度が相対的に速いが、第２実施形態においては、ランプ３１の光量を制御して、基板１の中心部の温度よりも基板１の外周部の温度が低くなるようにすることにより、基板１全体の乾燥ムラを無くすことができ、これにより、膜厚ムラを抑制することができる。
【００８４】
第２実施形態で用いる赤外線ランプによる乾燥方法は、スピンコート法により形成した液状膜の均一な膜厚形成のための乾燥についても有効である。上述したように、スピンコート法による液状膜の乾燥に際しては、温度分布を上記と逆にする。
【００８５】
第２実施形態で用いる赤外線ランプによる乾燥方法は、第１実施形態で用いる電熱線による方法に比べて以下のような長所がある。
【００８６】
電熱線が設けられたホットプレート（金属板）は、一旦、ある温度分布で温度が上昇すると、次にその温度分布を変えたい場合には、そのホットプレートの温度が全面に亘って概ね均一な温度まで下がった後でなければ、温度分布を変更させることはできない。これでは、時間がかかり好ましくない。これに対し、赤外線ランプでは、出力（電流）を変えれば、比較的短時間で異なる温度分布に変えることができる。
【００８７】
例えば、図１３に示すように、基板１に面状のレジスト膜５１をインクジェット塗布法で形成する場合に、矢印で示す方向に液滴吐出ヘッドを走査させ、かつ矢印に付された符号の数字の順番に液滴吐出ヘッドを走査させたとする（塗布工程）。
【００８８】
この場合、基板１の一端側１ａの液滴に比べて他端側１ｂの液滴は、乾燥工程に入るまでの時間が長いため、他端側１ｂのレジスト膜５１の膜厚の方が厚い。そこで、赤外線ランプを用いて、最初、他端側１ｂが一端側１ａに比べて高温となるような温度分布を形成し、それにより、基板１の全面に亘りレジスト膜５１の膜厚が概ね均一となった所定時間後は、基板１の全面に亘って同じ温度となるような温度分布に変えることができる。このように、赤外線ランプは、短時間で加熱温度を変えるときに適している。
【００８９】
なお、上記実施形態では、温度プロファイルを持たせた加熱を行う加熱（乾燥）手段として、ホットプレート（電熱線）と、赤外線ランプを用いた例を説明したが、本発明の加熱（乾燥）手段としては、これらに限定されるものではない。基板１に対して局所的な温度制御が可能な加熱手段であれば、特に限定されない。例えば、加熱手段としてマイクロ波を用い、その照射量を変えることで、温度プロファイルを持たせた乾燥を行うことができる。
【００９０】
ここで、「局所的な温度制御が可能」とは、例えば、特に工夫すること無く温風による乾燥を行った場合には、基板１に対し温度分布を持たせた乾燥を行うことが難しいので、これらは本発明に適さないという意味である。
【００９１】
本実施形態で述べた温度分布を持たせた乾燥は、本焼き（ポストベイク）の前に行われる仮焼きであり、仮焼きで均一な膜厚が形成された後の本焼きでは、温度分布を持たせる必要が無いので、温風乾燥により均一な乾燥を行う。
【００９２】
上記では、主として有機ＥＬ材料を用いて説明したが、上述したように、本発明は、基板に形成された液状膜であって、液状膜の形成後に乾燥させるものであれば、広い適用することができる。その液状膜の種類によらず、基板上に形成された液状膜には、乾燥時に上記のような問題が生じるため、液状膜の種類によらず、本実施形態による解決手段は有効である。
【００９３】
（本発明の適用対象）
本発明に係る電気光学パネルが適用できる電子機器としては、携帯電話機の他に、例えば、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｄｉｇｉｔａｌ Ａｓｓｉｓｔａｎｔｓ）と呼ばれる携帯型情報機器や携帯型パーソナルコンピュータ、パーソナルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末機等、電気光学装置である電気光学パネルを用いる機器が挙げられる。したがって、これらの電子機器における電気的接続構造であっても、本発明が適用可能であることはいうまでもない。
【００９４】
以上説明した各実施形態においては、いずれもパッシブマトリクス型の電気光学パネルを例示してきたが、本発明の電気光学装置としては、アクティブマトリクス型の電気光学パネル（例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）をスイッチング素子として備えた電気光学パネル）にも同様に適用することができる。また、実施例に記載の有機ＥＬ表示パネルだけでなく、無機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動表示装置、電界放出表示装置、ＬＥＤ（ライトエミッティングダイオード）表示装置などのように、複数の画素毎に表示状態を制御可能な各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することができる。さらには、マトリックス状に形成された発光素子の前面にカラーフィルタ基板が配置される電気光学パネルに対しても本発明を適用できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施形態に係る液状膜の乾燥装置を示す平面図。
【図２】第１実施形態に係る液状膜の乾燥装置に適用される基板を示す側面図。
【図３】第１実施形態で使用される液滴吐出装置を示す説明図。
【図４】図３の液滴吐出ヘッドを示す説明図。
【図５】図３のインクジェット方式の部分を示す側断面図。
【図６】第１実施形態で適用可能な他の基板を示す側面図。
【図７】第１実施形態に係る液状膜の乾燥装置を示す平面図。
【図８】従来の乾燥方法における乾燥状態を説明するための平面図。
【図９】図８の側面図。
【図１０】従来の乾燥方法における乾燥状態を説明するための他の平面図。
【図１１】図１０において、１回目の主走査が行われたときの液滴の乾燥状態を示す側面図。
【図１２】図１０において、複数回の主走査が行われたときの液滴の乾燥状態を示す側面図。
【図１３】従来の乾燥方法における乾燥状態を説明するための更に他の平面図。
【図１４】公知の有機ＥＬ素子の製造工程を示す工程図。
【符号の説明】
１ 基板、 １５ 制御手段、 ２４ ホットプレート、 ２５ａ、２５ｂ、２５ｃ 電熱線、 ３１ 赤外線ランプ

Claims (23)

1. （ａ） 基板上に液状膜を形成するステップと、
   （ｂ） 前記基板に形成された前記液状膜を加熱することにより前記液状膜を乾燥させて薄膜を形成するステップとを備え、
   前記（ｂ）は、前記薄膜の膜厚が均一となるように前記液状膜の各部位に対する加熱温度が異なるように行う
   液状膜の乾燥方法。
2. 請求項１記載の液状膜の乾燥方法において、
   前記（ｂ）は、前記液状膜の前記各部位の乾燥速度に応じて前記各部位に対する加熱温度が異なるように行う
   液状膜の乾燥方法。
3. 請求項１または２に記載の液状膜の乾燥方法において、
   前記（ｂ）は、前記液状膜の前記各部位の溶媒の蒸気圧に応じて前記各部位に対する加熱温度が異なるように行う
   液状膜の乾燥方法。
4. 請求項２または３に記載の液状膜の乾燥方法において、
   前記（ｂ）は、前記液状膜のうち前記基板の外周側に位置する前記部位に対する前記加熱温度を相対的に低く設定し、前記液状膜のうち前記基板の中央側に位置する前記部位に対する前記加熱温度を相対的に高く設定する
   液状膜の乾燥方法。
5. 請求項１から４のいずれか１項に記載の液状膜の乾燥方法において、
   前記（ａ）における前記液状膜は、液滴吐出法により液滴を吐出する液滴吐出ヘッドが前記基板上を相対的に複数回移動することによって形成される複数のライン状の前記液滴から形成し、
   前記液滴吐出ヘッドは、前記ライン状の液滴の乾燥ムラが抑制されるように前記複数のライン状の液滴の一部が互いに接触するように移動する
   液状膜の乾燥方法。
6. 請求項１記載の液状膜の乾燥方法において、
   前記（ｂ）は、前記液状膜の前記各部位の膜厚に応じて前記各部位に対する加熱温度が異なるように行う
   液状膜の乾燥方法。
7. 請求項６記載の液状膜の乾燥方法において、
   前記（ｂ）は、前記液状膜のうち膜厚が相対的に厚い前記部位に対する前記加熱温度を相対的に高く設定し、前記液状膜のうち膜厚が相対的に薄い前記部位に対する前記加熱温度を相対的に低く設定して行う
   液状膜の乾燥方法。
8. 請求項６または７に記載の液状膜の乾燥方法において、
   前記（ａ）は、液滴吐出法により液滴を吐出する液滴吐出ヘッドが前記基板上を主走査方向及び副走査方向に相対的に移動することによって前記液状膜を形成し、
   前記（ｂ）は、前記液状膜のうち前記液滴吐出ヘッドから相対的に早い時間に吐出された液滴によって形成された前記部位の前記加熱温度を相対的に低く設定し、前記液状膜のうち前記液滴吐出ヘッドから相対的に遅い時間に吐出された液滴によって形成された前記部位の前記加熱温度を相対的に高く設定して行う
   液状膜の乾燥方法。
9. 請求項６または７に記載の液状膜の乾燥方法において、
   前記（ａ）は、スピンコート法により前記基板上に前記液状膜を形成し、
   前記（ｂ）は、前記液状膜の外周側の前記部位の加熱温度を相対的に高く設定し、前記液状膜の中央側の前記部位の前記加熱温度を相対的に低く設定して行う
   液状膜の乾燥方法。
10. 請求項１から９のいずれか１項に記載の液状膜の乾燥方法において、
    前記（ｂ）における前記加熱は、独立して発熱量を制御可能であり、共通の中心位置を有し前記基板の輪郭と概ね相似形となるようにそれぞれ配設された複数の電熱線を用いて行われる
    液状膜の乾燥方法。
11. 請求項１から９のいずれか１項に記載の液状膜の乾燥方法において、
    前記（ｂ）における前記加熱は、前記基板の辺に平行に配設された複数の赤外線ランプを用いて行われる
    液状膜の乾燥方法。
12. 請求項１から９及び１１のいずれか１項に記載の液状膜の乾燥方法において、
    前記（ｂ）は、
    前記液状膜の各部位に対する加熱温度が異なるように加熱する第１ステップと、
    前記液状膜に対して均一な加熱温度で加熱する第２ステップと
    を有している
    液状膜の乾燥方法。
13. 請求項１から１２のいずれか１項に記載の液状膜の乾燥方法において、
    前記（ａ）で形成される前記液状膜は、フォトレジスト膜、電気光学パネルの製造に必要な、オーバーコート膜、配向膜、カラーフィルタ、有機ＥＬ材料のうちのいずれかである
    液状膜の乾燥方法。
14. 正孔注入層と発光層を、陽極および陰極で挟持した構造の有機ＥＬパネルの製造方法であって、
    （ｃ） 基板上の所定の領域に正孔注入材料を含むインク組成物を液滴吐出方式により塗布して正孔注入層を形成するステップと、
    （ｄ） 発光材料を含むインク組成物を液滴吐出方式により塗布して発光層を形成するステップと、
    （ｅ） 前記正孔注入層及び前記発光層の少なくともいずれか一方を加熱することにより乾燥させて薄膜を形成するステップとを備え、
    前記（ｅ）は、前記薄膜の膜厚が均一となるように前記正孔注入層及び前記発光層の少なくともいずれか一方の各部位に対する加熱温度が異なるように行う
    有機ＥＬパネルの製造方法。
15. 請求項１４記載の有機ＥＬパネルの製造方法で製造された有機ＥＬパネルに実装部品を実装して電子機器を製造するステップを備えた電子機器の製造方法。
16. （ｆ） 基材にカラーフィルタ材料の液状膜を塗布するステップと、
    （ｇ） 前記カラーフィルタの液状膜を乾燥させて前記カラーフィルタの薄膜を形成するステップと、
    （ｈ） 前記カラーフィルタの上へ保護膜材料の液状膜を塗布するステップと、
    （ｉ） 前記保護膜材料の液状膜を乾燥させて前記保護膜材料の薄膜を形成するステップと、
    （ｊ） 前記カラーフィルタの液状膜及び記保護膜材料の液状膜の少なくともいずれか一方を乾燥させるときに、前記薄膜の膜厚が均一となるように前記液状膜の各部位に対する加熱温度が異なるように前記液状膜を加熱するステップと
    を備えた電気光学パネルの製造方法。
17. 請求項１６記載の電気光学パネルの製造方法で製造された電気光学パネルに実装部品を実装して電子機器を製造するステップを備えた電子機器の製造方法。
18. 基板に形成された液状膜を加熱して薄膜を形成する液状膜の乾燥装置であって、
    前記薄膜の膜厚が均一となるように前記液状膜の各部位に対する加熱温度が異なるように前記液状膜を加熱可能である
    液状膜の乾燥装置。
19. 請求項１８記載の液状膜の乾燥装置において、
    独立して発熱量を制御可能であり、共通の中心位置を有し前記基板の輪郭と概ね相似形となるようにそれぞれ配設された複数の電熱線を備えた
    液状膜の乾燥装置。
20. 請求項１８記載の液状膜の乾燥装置において、
    前記基板の互いに接する２辺のそれぞれに平行に配設された複数の赤外線ランプを備えた
    液状膜の乾燥装置。
21. 基板と、
    前記基板に形成され、乾燥後の膜厚が均一となるように前記基板に形成された液状膜の各部位に対して異なる加熱温度で加熱乾燥されてなる薄膜と
    を備えた電気光学パネル。
22. 請求項２１記載の電気光学パネルを備えた電気光学装置。
23. 請求項２２記載の電気光学装置を備えた電子機器。

Images