JP2004361402A - Ｘ線及びｃｔ画像検出器 - Google Patents

Abstract

【課題】 Ｘ線断層撮影又はコンピュータ断層撮影システム等で使用可能な画像検出器を提供する。
【解決手段】 Ｘ線検出器（４００）は、予め選択された湾曲半径（４０２）に基づいて湾曲したガラス層（４１４）と、該ガラス層上に形成された光受容体（４１０）と、予め選択された湾曲半径（４０２）に基づいて湾曲したバッキング層（４０４）とを含む。バッキング層（４０４）は、ガラス層（４１４）を支持する。別の実施形態において、Ｘ線検出器は、光受容体と周辺部内に層間接続点とを含み、周辺部で界接する光受容体層を含む。
【選択図】 図４

Description

本発明は一般に、医用イメージング・システムの分野に関する。詳細には、本発明は、例えばＸ線断層撮影又はコンピュータ断層撮影システム用の画像検出器に関する。

Ｘ線システムは、２次元の平面画像を作成し、一方、コンピュータ断層撮影（ＣＴ）システムは、「スライス」又は「断層」画像とも呼ばれる２次元の断面画像を作成する。Ｘ線システム、特に血管イメージングに用いられるものにおいてＣＴ様式の画像を得ることに対しての関心があるが、２つの形式のシステムに用いられる検出器は、かなり異なっている。その結果、以下に述べる理由により、Ｘ線検出器はＣＴイメージングに好適でなく、またＣＴ検出器はＸ線イメージングに適合しない。

Ｘ線検出器は、イメージ増強管として実装された検出器の場合においては、一般に平坦であるか又は平坦な形状に近い。従って、Ｘ線を吸収するシンチレータ結晶群は、Ｘ線源に対して種々の距離及び角度に位置している。例証として、平坦な検出器の中央に位置する画素は、Ｘ線源により近接しており、Ｘ線ビームを真っ直ぐに受け取る。検出器の周辺部に位置する画素は、わずかに減衰したＸ線ビームをある角度で受け取る。イメージ増強管を用いるＸ線検出器は、湾曲した入力面を有するが、湾曲の向きは、最適画質に望ましい向きとは反対である。（ビーム減衰を最小限にするために構造材料の使用をできる限り少なくしながら大気圧による崩壊を防止するために、真空管の入力面は患者の方向にドーム形を呈していなければならない）。

一方、ＣＴ検出器は、バルク状で扱いにくい構造フレームを用いて、幾何学的形状、一般的に円弧の形状に組み立てられる。この点において、ＣＴ検出器組立体は、半径が一定の円弧に近接するよう多面多角形を用いた平坦な検出器素子の円弧状のアレイとして組み立てられた。以前は、各ＣＴ検出器素子は、検出器素子の上側及び下側のみを通して信号を検出器素子の外にルーティングしていた（この場合の上及び下は、検出器の軸方向に平方な方向を指す）。素子の数が増大するにつれて、検出器の上縁部及び下縁部に沿ってワイヤ密度が大幅に増大した。その結果、少数の検出器素子を越えてＣＴ検出器の大きさ及び能力を拡大することが極めて困難となった。

検出器の形状の差異は、照射後に適用される画像処理ステップの差異につながる。幾つかのＸ線システムは、例えば、これらのビデオ画像取得構成要素にアナモルフィック光学素子の形態の幾何学的補正を施す。これらの光学素子は、イメージ増強管の逆の湾曲に起因する画像の歪みを矯正する。平坦なＸ線検出器の場合、中央部と比較して検出器の周辺部において画質の損失がある。画質の損失は、単一の周辺画素により全て検出されるべきＸ線光子が、ある角度をなしてこれらがシンチレータ材料の厚さを通過することにより、２つ又はそれ以上の画素上のシンチレータ材料を通過することにより生じる。その結果、画像に対する光子の提供は、ＣＴ検出器素子がそうであるように検出器の周辺部がＸ線源に対して垂直に配向された場合よりもより多くの画素の上に分配される（ぼかされる）。画像補正アルゴリズムでさえも、この幾何学的問題による画質劣化を完全には補償することができない。フラットパネルＸ線検出器の画像データがＣＴ画像再構成アルゴリズムと共に用いられる場合、この画質の損失は、このようにして取得されたＣＴ画像にも存在する。従って、２つの種類のシステムに対する検出器は極めて異なっており、例えば、ＣＴイメージングをＸ線システムに組み込むことを困難で煩雑なものとしている。

従って、上に記載した困難性及びこれまで経験された他の困難性を少なくとも部分的に克服する画像検出器に対する必要性が存在する。

１つの実施形態において、Ｘ線検出器は、予め選択された湾曲半径に基づいて湾曲したガラス層と、該ガラス層上に形成された光受容体と、予め選択された湾曲半径に基づいて湾曲したバッキング層とを含む。バッキング層は、ガラス層を支持する。

別の実施形態において、Ｘ線検出器は、周辺部で界接する光受容体層を含む。該光受容体層は、光受容体と周辺部内に層間接続点とを含む。更に、Ｘ線検出器は、光受容体層を支持するバッキング層を含む。該バッキング層は、予め選択された湾曲半径に基づいて湾曲しており、ルーティング接続点を含む。層間接続点とルーティング接続点との間の電気的接続が、光受容体層とバッキング層との間の電気的接続性を確立する。

本発明の他のシステム、方法、特徴、及び利点は、以下の図面及び詳細な説明を考察すれば、当業者には明らかとなるであろう。全てのこのような追加のシステム、方法、特徴、及び利点は、本説明に含まれ、本発明の範囲内にあり、且つ添付の特許請求の範囲により保護されることが意図される。

図中の構成要素は、必ずしも縮尺通りではなく、Ｘ線検出器の原理を図示することに重きを置いたものである。図において、同じ参照番号は、異なる図の全体を通じて同じ部品を示す。

最初に図１を参照すると、ＣＴイメージングのようなＸ線イメージング・システムにおける汎用用途、並びにＸ線イメージング・システムを備えた特定用途に好適なＸ線検出器１００が示されている。Ｘ線検出器１００は、光結合エポキシ１０６を介してシリコン結晶光受容体層１０４に取り付けられたシンチレータ層１０２を含む。シンチレータ層１０２は、タリウムドープされたＣｓＩシンチレータ、又はイリノイ州所在のＬｕｍｅｘ ｏｆ Ｐａｌａｔｉｎｅから入手可能なＬｕｍｅｘシンチレータとすることができる。予め選択された湾曲半径に基づいて湾曲したバッキング層１０８は、光受容体層１０４を支持する。

光受容体層１０４は、層間接続点１１０を含み、一方、バッキング層１０８は、ルーティング接続点１１２を含む。層間接続点１１０又はルーティング接続点１１２は、例を挙げれば、バンプ・パッド、フラット・パッド、ピン、レセプタクル、又は他の形式の信号接続性構造体とすることができる。電気的接続は、層間接続点１１０とルーティング接続点１１２との間の接触、はんだ付け、又は機械的接続により生じる。電気的接続は、これにより光受容体層１０４とバッキング層１０８との間に電気的接続性を確立する。バッキング層１０８内のバイア１１４は、光受容体層１０４から後続の導体１１６上の処理電子回路へ信号を搬送する。

更に、ワイヤ結合又は他の接続技術により、光受容体層１０４を信号処理回路１１８に接続することができる。次いで同一の接続技術により、信号処理回路１１８を導電ケーブル１２０に接続することができる。ケーブル１２０は、例えば、ＡＣＦ（異方導電性接着剤）結合により取り付けられたポリイミドフレックスケーブルとすることができる。支持フレーム１２２は、信号処理回路１１８を担持する。この点において、支持フレーム１２２は、Ｋｏｖａｒ（商標）材料のような鉄基合金で作ることができる。

１つの実施形態において、バッキング層１０８は、ポリイミド相互接続を有するセラミックのバッキング層である。代替的な実施形態において、バッキング層１０８は、相互接続層を有する金属のバッキング層である。例証として、バッキング層１０８は、絶縁フィルム（例えば、Ｋａｐｔｏｎ（商標）フィルムのようなポリイミド・フィルム）により絶縁された銅製の導電トレースを含む電気相互接続部を有するＫｏｖａｒ（商標）補強材で形成することができる。バッキング層１０８は、予め選択された湾曲半径に基づいて湾曲しており、例えば、湾曲に沿って複数のＸ線検出器を配列する、バルク状の、重く、扱いにくい機械的支持構造の代替物とすることができる。

以下により詳細に説明するように、バッキング層１０８がセラミック製の場合、セラミックがまだ焼成されない間（例えば「グリーン・テープ」の段階）に準備工程において幾つかの処置を講じることができる。例えば、ドリル機械は、ドリルでバイア１１４を開けることができる。更に、準備工程で、セラミック上において導電トレースが所望される場所にタングステン・インクを塗布することもできる。その後、セラミックは、予め選択された湾曲半径に基づく曲がった形状に固定され、次いで、セラミックが該湾曲を保持するように焼成される。

バッキング層１０８はまた、多層プリント回路基板を構成するのに適した工程を利用して互いに積み重ねられた複数の層で形成することもできる。１つの実施形態において、セラミックのバッキング層は、約１インチの８分の１の厚さで、１つ又はそれ以上を積層してバッキング層１０８を形成することができる。タングステン・インクがその後、内側層に対して電気的接続性を与えることができ、一方、外側層は、タングステン・インクの上に銅メッキの層を含むことができる。

バッキング層１０８は、１つのＸ線検出器モジュールを支持するサイズとすることができ、又は、図３を参照して以下に説明するように、バッキング層１０８は、複数のＸ線検出器モジュールを支持することができる。各Ｘ線検出器モジュールは、図１に示す構造の一部又は全部を含むことができる。従って、例えば、Ｘ線検出器モジュールは、シンチレータ層１０２と、光エポキシ１０６と、光受容体層１０４とを含むことができる。

別の実施形態において、Ｘ線検出器モジュールは、信号処理回路１１８と、ケーブル１２０と、支持フレーム１２２とを更に含むことができる。

光受容体層１０４は、シリコン基板上にフォトダイオード及び電界効果トランジスタ（ＦＥＴ）読み出し回路として形成することができる。次いで、シリコン基板とバッキング層１０８の両方の中にスルー・バイアを作ることができる。上述のように、電気的接続は、光受容体層１０４をバッキング層１０８に接続する。

より具体的には、図２を参照すると、光受容体層２００の裏側が示されている。参照番号２０２は、光受容体層２００の周辺部を示す。バッキング層１０８への接続のために層間接続点１１０が周辺部内部に形成されていることに留意されたい。換言すれば、電気的接続性は、周辺部２０２に沿ってだけではなく、光受容体層２００の領域全体にわたって利用できる。幾つかの利点により、電気的接続の長さがより短くなる点を含め、ノイズの減少、ルーティング密度の増大などがもたらされる。

次に図３を参照すると、Ｘ線検出器３００の断面図が示されている。Ｘ線検出器は、複数のバッキング層３０３上に支持された複数のＸ線検出器モジュール３０２を含む。詳細には、本実施例において、バッキング層３０３は、セラミック材料の３つの層３０４、３０６、及び３０８を含み、これらの各々が、信号トレース、バイア、及び他の形式の電気接続性ルーティングを含むことができる。

バッキング層は、予め選択された湾曲半径３１０に基づいて湾曲しており、且つＸ線検出器モジュール３０２を支持している。予め選択された湾曲半径３１０は、その開始点を、例えば、Ｘ線検出器３００を照射するために用いられるＸ線光子の照射源の位置に有し、その終端点をＸ線検出器３００がイメージング・システム内に配置されている位置に有することができる。

１つ又はそれ以上のＸ線検出器モジュール３０２とバッキング層３０４との間に配置されたポリマー層３１２が、Ｘ線検出器モジュール３０２の裏面３１４（一般的に平坦な表面）を予め選択された湾曲半径３１０に適合させている点にも留意されたい。すなわち、ポリマー層３１２により、湾曲した下に重なる層（例えばバッキング層３０４）が平坦な表面を支持することが可能になる。

或いは、バッキング層１０８は、特定のＸ線検出器モジュール３０２の平坦な裏面３１４を適合させるための多角形の平坦な表面３１６を含むことができる。多角形の平坦な表面３１６は、例えば、バッキング層３０４のセラミック材料の延長部分、又は、バッキング層３０４に取り付けられた別個に組み立てられた平坦な支持構造とすることができる。バッキング層３０３は、通常Ｘ線モジュールを湾曲に沿って固定するバルク状の重く、扱いにくい機械的支持構造に代わるものであることに留意されたい。

図３に示すＸ線検出器３００内には、湾曲の１つの軸が存在する。従って、バッキング層は円筒状部分である。しかしながら、他の実装形態において、バッキング層は、代わりに、２つの湾曲軸に沿って湾曲することができる。２つの等しい湾曲軸において、バッキング層及び結果として得られるＸ線検出器は、球状部分の形態を取る。２つの等しくない湾曲軸において、バッキング層及び結果として得られるＸ線検出器は、楕円形部分の形態を取る。システムの設計パラメータ及び検出器が構築される特定のイメージング・システムの要件により、１つ又はそれ以上の軸上の湾曲形状が決まる。

１つの実施形態においてＸ線検出器モジュール３０２は、従来のＣＴ検出器モジュールとすることができることに留意されたい。検出器モジュールは次いで、上述のように、ＣＴ検出器モジュールの支持に役立つポリマー層３１２、又は平坦な多角形面３１６によりバッキング層に取り付けられる。この実施形態において、ルーティング接続点１１２（及び内部信号ルーティング・トレース、バイア、など）はまた、既存のＣＴ検出器モジュールのアレイに対して有意な信号ルーティング機能を付加することができる。更なる利点は、通常は湾曲に沿ってＸ線モジュールを固定するバルク状の重く、扱いにくい機械的フレーム支持構造の排除又は実質的な軽減である。

次に、図４を参照すると、Ｘ軸及びＹ軸に沿って湾曲したＸ線検出器４００が示されている。湾曲の１つの半径は、参照番号４０２で示されている。上述のように、湾曲の中心は、Ｘ線エネルギの照射の焦点とすることができる。Ｘ線検出器４００において、バッキング層４０４は、幾つかの追加層を支持している。これらの層は、カバー層４０６と、シンチレータ層４０８と、光受容体層４１０とを含む。基板層４１２（例えば非晶質シリコン基板）が光受容体層４１０を支持しており、また薄いガラス層４１４及びガラス層４１４に対するポリマー支持層４１６も存在する。各層は、所与のＸ線イメージング・システムのシステム設計パラメータに基づいて定められた任意の幅及び長さを有することができる。
各層の厚さは、例証として、カバー層４０６に対しては０．５ｍｍ、シンチレータ層４０８に対しては０．４ｍｍから２ｍｍ、非晶質シリコン層及び他の活性電子層４１２に対しては０．１ｍｍから０．２ｍｍ、薄いガラス層４１４に対しては０．２ｍｍから０．３ｍｍ、及びポリマー支持層４１６に対しては０．５ｍｍから１ｍｍとすることができる。

薄いガラス層４１４は、亀裂又は破壊することなく湾曲半径に沿って撓むために十分な薄さである。そのため、薄いガラス層４１４は、例えば、より薄いポリマー層に結合された０．２ｍｍから０．３ｍｍの薄さのガラス層とすることができる。ポリマー支持層４１６は、取り扱い中にガラス層４１４を強固に保持するのに役立つ。

光受容体層４１０は、シンチレータ層４０８から光を受け取るフォトダイオードの活性マトリックスアレイとして実装することができる。換言すれば、光受容体層４１０は、フォトダイオードに結合された関連する読み出しトランジスタを有するフォトダイオード画素を含むことができる。この場合、光受容体層４１０の一方の軸は、読み出しトランジスタを作動させるための走査軸とみなすことができ、一方、他方の軸は、アナログ・デジタルコンバータを含む後続の処理回路への画素データを取得するためのデータ読み出し方向とみなすことができる。

図４に示すように、ケーブル（例えばポリイミドフレックスケーブル）４１８は、光受容体層４１０を処理電子回路に接続する。処理電子回路は、例証として、活性マトリックス走査モジュール４２０及び読み出しモジュール４２２を含むことができる。１つの実施形態において、ポリイミド層４２４は、読み出し電子回路を支持する。

バッキング層４０４がバイア４２６を含んでいることに留意されたい。バイア４２６は、処理電子回路につながっており、更に処理電子回路を出てバッキング層４０４内に入る信号伝播経路を形成する。バッキング層４０４は、１つ又はそれ以上の層を含むことができ、各層がルーティング・トレース、バイア、パッド、又は他の信号ルーティング機構を有し、処理電子回路からＸ線イメージング・システム内の後続の処理ブロックへ信号を導く複合ルーティング機能を提供することができる。ケーブル４２８は、後続の処理ブロックへの接続のために、バッキング層４０４につながることができる。

従って、バッキング層４０４は、Ｘ線検出器４００に対して別の次元のルーティング機能を提供する。換言すれば、Ｘ線検出器４００は、その周辺部の周りだけでケーブルに接続されることに限定されない。より高いルーティング密度及び柔軟性がもたらされる。

バッキング層４０４は、図１に関して上述のような形態を取って作製することができる。例えば、バッキング層４０４は、セラミックの１つ又はそれ以上の層とすることができ、又は、相互接続層を有する金属のバッキング層とすることができる。バッキング層４０４は、湾曲したガラス層４１４の背後で補強材として機能し、ガラス層４１４が湾曲半径を保持するのに役立つ。

カバー層４０６は、エポキシによりマトリックス結合されたアルミ箔の層を有するグラファイト・エポキシ・マトリックスとすることができる。従って、カバー層４０６は、薄くて強固な構造であり、更にアルミ箔により、Ｘ線を有意に減衰させることの無い密封シールが形成される。シンチレータ層４０８は、タリウムがドープされたＣｓＩ層とすることができる。任意選択的に、光学反射層をシンチレータ層４０８の最上部に形成することができる。光学反射層は、シンチレータ層４０８による光吸収を増大するために、例えば、任意選択的に二酸化チタンのような反射性コーティングを含む、銀又はアルミニウムのような反射性金属コーティングが上に堆積されたポリマー（例えばマイラー）の層を含むことができる。

図５に示すように、複数のＸ線検出器タイル５００が、より大きいＸ線検出器５０２を形成する。Ｘ線検出器タイル５００の各々を、例えば、別個のＸ線検出器４００として実装することができる。タイル５００を次いで任意の数だけ１つ又はそれ以上の軸に沿って配列し、より大きいＸ線検出器５０２を形成することができる。図５に示すように、２つのタイル５００がＸ軸上に配列され、２つのタイルがＹ軸上に配列されて、Ｘ線検出器５０２を形成する。

次に図６を参照すると、図１に示すＸ線検出器１００を作製する方法が要約されている。最初に、光受容体層が得られる（ステップ６０２）。光受容体層は、周辺部で界接し、光受容体及び周辺部内に層間接続点を含む。光受容体層は、例えば、シリコン結晶上に製作した複数のフォトダイオードとすることができる。

また、湾曲したバッキング層も得られる（ステップ６０４）。バッキング層は、上述のように、又は以下に図７に関して述べるように作製されたセラミック又は金属のバッキング層とすることができる。従って、湾曲したバッキング層は、ルーティング接続点と、任意選択的に光受容体層の周りにおける周辺部のみの接続を超える有意な信号ルーティング機能をもたらす内部接続トレースとを含む。

次に、光受容体層は、バッキング層に取り付けられて支持される（ステップ６０６）。このために、ポリマー層を光受容体層とバッキング層との間に配置することができる。或いは、バッキング層は、特定の光受容体層の平坦な裏面を適合させる多角形の平坦な表面を含むことができる。

次いで、光受容体層とバッキング層との間に電気的接続性が確立する（ステップ７０８）。例えば、層間接続点は、バッキング層上のルーティング接続点に接触し、又はこれと結合し、又はこれにはんだ付けすることができる。その後、追加の光受容体層を同様の方法でバッキング層に取り付けて、より大きいＸ線イメージング・アレイを形成することができる（ステップ６１０）。

次に図７を参照すると、図４に示すＸ線検出器４００を製作する方法が要約されている。薄いガラス層を、加工中の取り扱い及び最終製品を支持するポリマー層に結合する（ステップ７０２）。結果として得られる基板は、予め選択された品質仕様に適合することを保証するために原材料として試験可能である。その後、化学蒸着（ＣＶＤ）工程及びフォトリソグラフィック・マスキング工程により、ガラス面上に光検出体の電子層が作られる（ステップ７０４）。該電子層は、絶縁層又は設計指定の他の層のみならず、フォトダイオード、ＦＥＴ、及び電子画像獲得用の走査線とデータ線のマトリックスを含むことができる。薄いガラス層は堆積工程中に典型的には平坦な状態に保持され、その結果として既存のＣＶＤ工程及びフォトリソグラフィック・マスキング工程を用いて電子層を作ることができる点に留意されたい。得られたサブアセンブリは、品質管理の目的で試験可能である。

更に、バッキング構造体を製作する（ステップ７０６）。例えば、バッキング層をセラミックのバッキング層とする場合、セラミックがまだ可撓性の（「グリーン・テープ」）段階にあるときに、ドリル工程によりバッキング層を貫通するバイア用の穴を生成することができる。また、セラミックが焼成された後に金属トレースが所望される箇所には全て、金属化インク（例えばタングステン・インク）がこの段階でセラミック上に堆積される。バッキング層は次いで、Ｘ線検出器用の最終形態に対して所望される湾曲した形状に形成される。次いで、セラミックが焼成され、その後に、硬質の形態となる。次いで、金属化工程により、金属のスルー・バイア、並びにセラミック表面上の導電経路が形成される。複数の薄いバッキング層（説明されたように個々に準備された）を垂直に積層してバッキング層全体を形成することができる。バッキング層全体は、複数の積層された薄い層を含むことができる。

次に、可撓性の薄いガラス及びポリマー基板が、所望の幾何寸法の最終的なＸ線検出器形状に湾曲される（ステップ７０８）。１つの製作工程において、湾曲は、真空を用いてバッキング層（すでに所望の形状を有する）に押し付けて薄いガラス及びポリマー基板を引き、次いで薄いガラス及びポリマー基板をバッキング層に結合することにより達成することができる。この形状整形及び結合工程の間に薄いガラス及びポリマー基板をバッキング層に押しつけるのに役立つ真空の代わりに又はそれに加えてガス圧力を用いることができる。

本工程では、次に、追加の層を薄いガラス層の上に堆積することができる（ステップ７１０）。例えば、ＣＶＤ工程により、薄いガラス層の上にシンチレータ層、封止層などを堆積することができる。シンチレータ層は一般的に、薄いガラス層が湾曲された後に堆積され、その結果、シンチレータの脆弱な針形状の結晶（一般的にタリウムがドープされたＣｓＩ）が、破壊されないように、又は共に圧迫されて層間剥離が生じないようにする。

シンチレータ層及び任意の後続の層のＣＶＤが完了すると、検出器に嵌合するように湾曲されたカバーを、所定の位置に取り付けて結合する（ステップ７１２）。カバーは、Ｘ線検出器を封止して、シンチレータ層により湿気が吸収されるのを防止する。Ｘ線検出器は、このレベルにおいて試験可能である。検出器は次いで、フレックス回路接続により画像検出器組立体の残りの部分に接続することができる。この際に、データ読み出しモジュール及び走査モジュールをＸ線検出器の縁部に沿って取り付けることができる（ステップ７１４）。図５を参照して上述したように、次いで複数の個々のＸ線検出器タイルを１つ又はそれ以上の軸に沿って配列し、より大きい検出器を形成することができる（ステップ７１６）。

上述したＸ線検出器は、汎用Ｘ線イメージング・システムと共に用いるのに適している。これらは、例えば、検出器が固定され、放射線源が１８０度より有意に小さい円弧を通って移動する「部分的な」トモシンセシス、又は、完全な画像再構成のために典型的には少なくとも１８０度の大きい円弧を通って検出器と放射線源の両方が移動する完全断層撮影のいずれかのＣＴ再構成が可能なＸ線検出器に更に適している。

説明したＸ線検出器は、検出器構成要素、すなわち典型的には相互接続線を有するフォトダイオード及びＦＥＴ内外への電子信号の高密度ルーティングに対する必要性を満たす。薄いガラス層を用いる場合、ＡＣＦ結合又は従来のワイヤ結合を有するフレックス回路のようなエッジ接続技術を用いて信号を「ガラスから」取り出すことができる。従って、バッキング層は、セラミックを通してバイアを用いる機会を提供し、また、セラミック内の層中に導電トレースを作り実質的な信号ルーティングの柔軟性をもたらす機会をも提供する。

本発明の種々の実施形態を説明してきたが、当業者には、本発明の範囲内にある更に多くの実施形態及び実装形態が可能であることは明らかであろう。

湾曲したバッキング構造により支持されたシリコン結晶上の光受容体層を含むＸ線検出器の図。 層間接続点を有する光受容体層の裏側を示す図。 Ｘ線検出器の湾曲を示す図。 湾曲したバッキング構造により支持された非晶質シリコン層を含むＸ線検出器を示す図。 第１と第２の軸に沿った複数のＸ線検出器タイルの配列により形成されたＸ線検出器を示す図。 図１に示すＸ線検出器を製作する方法を示す図。 図４に示すＸ線検出器を製作する方法を示す図。

符号の説明

４００ Ｘ線検出器
４０２ 湾曲半径
４０４ バッキング層
４０６ カバー層
４０８ シンチレータ層
４１０ 光受容体層
４１２ 基板層
４１４ ガラス層

Claims (10)

1. 予め選択された湾曲半径（４０２）に基づいて湾曲したガラス層（４１４）と、
   前記ガラス層（４１４）上に形成された光受容体（４１０）と、
   前記ガラス層（４１４）を支持する、前記予め選択された湾曲半径（４０２）に基づいて湾曲したバッキング層（４０４）と、
   を備えるＸ線検出器（４００）。
2. 前記バッキング層（４０４）はセラミックのバッキング層である請求項１に記載のＸ線検出器（４００）。
3. 前記ガラス層（４１４）と前記バッキング層（４０４）との間に支持層（４１６）を更に備える請求項１に記載のＸ線検出器（４００）。
4. 前記バッキング層（４０４）は信号伝導体を更に備える請求項１に記載のＸ線検出器（４００）。
5. 前記バッキング層（４０４）は、複数の積層された薄い層（３０３）を含む請求項１に記載のＸ線検出器（４００）。
6. 前記ガラス層（４１４）は薄い可撓性のガラス層である請求項１に記載のＸ線検出器（４００）。
7. Ｘ線検出器（４００）であって、
   周辺部（２０２）で界接し、該周辺部内に光受容体と層間接続点（１１０）とを含む光受容体層（４１０）と、
   前記光受容体層を支持する、予め選択された湾曲半径に基づいて湾曲し且つルーティング接続点（１１２）を含むバッキング層（４０４）と、
   前記光受容体層と前記バッキング層との間に電気的接続性を確立するための、前記層間接続点と前記ルーティング接続点との間の電気的接続部と、
   を備えるＸ線検出器（４００）。
8. 前記バッキング層（４０４）は前記予め選択された湾曲半径に従うように配列された複数の個々の光受容体層を支持する請求項７に記載のＸ線検出器（４００）。
9. Ｘ線検出器を製作する方法であって、
   周辺部で界接し、且つ該周辺部内に光受容体と層間接続点とを備える光受容体層を得る段階（６０２）と、
   予め選択された湾曲半径に基づいて湾曲し且つルーティング接続点を備えるバッキング層を得る段階（６０４）と、
   前記光受容体層を前記バッキング層で支持する段階（６０６）と、
   前記層間接続点と前記ルーティング接続点との間に電気的接続を確立することにより前記光受容体層を前記バッキング層に接続する段階（６０８）と、
   を含む方法。
10. 光受容体層を得る前記段階（６０２）は、各々が層間接続点を備える複数の光受容体層を得る段階を含み、
    前記支持する段階（６０６）は、前記複数の光受容体層が前記予め選択された湾曲半径に従うように前記バッキング層で前記複数の光受容体層を支持する段階を含み、
    前記接続する段階（６０８）は、前記層間接続点と前記ルーティング接続点との間の電気的相互接続を通じて、前記複数の光受容体を前記バッキング層に接続する段階を含む請求項９に記載の方法。

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