JP2007182365A

JP2007182365A - 電極被覆用無鉛ガラス

Info

Publication number: JP2007182365A
Application number: JP2006308023A
Authority: JP
Inventors: Toshihiro Takeuchi; 俊弘竹内; Satoru Fujimine; 哲藤峰
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2005-12-09
Filing date: 2006-11-14
Publication date: 2007-07-19
Anticipated expiration: 2026-11-14
Also published as: JP5018032B2

Abstract

【課題】化学的耐久性に優れ、ＰＤＰ背面基板の電極被覆に用いることが可能な電極被覆用無鉛ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２２５〜５５％、Ｂ_２Ｏ_３４〜２５％、ＺｎＯ５〜３０％、Ａｌ_２Ｏ_３０〜１０％、ＴｉＯ_２０〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ０〜１７％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ０〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３０〜２５％、ＣｏＯ＋ＣｕＯ＋ＣｅＯ_２＋ＳｎＯ_２０〜３％、から本質的になり、Ａｌ_２Ｏ_３を含有する場合Ｂ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３が２６モル％以下であり、ＴｉＯ_２、Ｎａ_２ＯまたはＫ_２Ｏを含有する場合（ＴｉＯ_２＋４モル％）≧（Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）である電極被覆用無鉛ガラス。
【選択図】なし

Description

本発明は、ガラス基板上に形成された銀、ＩＴＯ（スズがドープされた酸化インジウム）、酸化スズ、酸化亜鉛、アルミニウム、クロムなどの電極を絶縁被覆するのに好適な電極被覆用無鉛ガラス、およびプラズマディスプレイ装置（以下、ＰＤＰという。）の製造に用いられる隔壁付きガラス基板の製造方法に関する。

近年、薄型の平板型カラー表示装置が注目を集めている。このような表示装置では画像を形成する画素における表示状態を制御するために各画素に電極が形成される。このような電極としては銀、ＩＴＯ、酸化スズ、アルミニウム、クロムなどが用いられている。

前記表示装置の表示面として使用されるガラス基板の表面に形成される電極は、精細な画像を実現するために細い線状に加工される。そして各画素を独自に制御するためには、このような微細に加工された電極相互の絶縁性を確保する必要がある。ところが、ガラス基板の表面に水分が存在する場合やガラス基板中にアルカリ成分が存在する場合、このガラス基板の表面を介して若干の電流が流れることがある。このような電流を防止するには、電極間に絶縁層を形成することが有効である。このような絶縁層を形成する絶縁材料としては種々のものが知られているが、なかでも、信頼性の高い絶縁材料であるガラス材料が広く用いられている。多くの場合、前記被覆用絶縁層は焼結性、絶縁性などの点から鉛を含有するガラスが用いられている。

電極被覆用ガラスには、先に述べたような電気絶縁性の他に、典型的には、軟化点（Ｔｓ）が４５０〜６００℃であること、５０〜３５０℃における平均線膨張係数（α）が６０×１０^−７〜９０×１０^−７／℃であること、等が求められており、種々のガラスが従来提案されている。
近年は鉛を含有しないガラスが望まれており、たとえば、質量百分率表示で、Ｂ_２Ｏ_３３４．０％、ＳｉＯ_２４．４％、ＺｎＯ４９．９％、ＢａＯ３．９％、Ｋ_２Ｏ７．８％、からなる電極被覆用ガラスが開示されている（特許文献１参照）。

最近大型平面カラーディスプレイ装置として期待されているＰＤＰにおいては、表示面として使用される前面基板、背面基板および隔壁によりセルが区画形成されており、そのセル中でプラズマ放電を発生させることにより画像が形成される。前記前面基板及び背面基板の表面には電極が形成されており、この電極をプラズマから保護するために、プラズマ耐久性に優れたガラスにより前記電極を被覆する必要がある。

このような電極被覆に用いられるガラスは、通常はガラス粉末にして使用される。たとえば、前記ガラス粉末に必要に応じてフィラー等を添加した上で樹脂、溶剤等と混合してガラスペーストとしこれを電極が形成されているガラス基板に塗布後焼成する、前記ガラス粉末に樹脂、さらに必要に応じて無機酸化物フィラーを混合して得られたペーストを電極が形成されているガラス基板上に塗布、乾燥後に焼成する、スラリーをグリーンシートに成形しこれを電極が形成されているガラス基板上にラミネート後焼成する、等の方法によって前記電極を被覆する。

ＰＤＰでは背面基板上の電極を被覆した絶縁層（電極被覆ガラス層）の上に隔壁を形成する。隔壁の形成方法は様々なものが提案されており、その一つとしてエッチング法が知られている。
エッチング法では隔壁用ペーストを絶縁層の上に塗布、焼成して隔壁形成用ガラス層を形成した後、隔壁形成に不必要な部分をパターニングにより露出させ、酸等にて選択的に除去することで隔壁の形成を行う（特許文献２参照）。

エッチング法では、酸等によって隔壁形成用ガラス層を侵食することで隔壁区画を形成するため、その過程で、隔壁の下に位置する電極被覆ガラス層の一部も酸等にさらされる。このため、エッチング法に用いる電極被覆材料は化学的耐久性が強いことが求められる。

特開２００２−２４９３４３号公報特開２０００−９５５４２号公報

エッチング法に用いられる電極被覆ガラス層としては鉛含有ガラスが使用されているが、これを鉛に含有しないものにしようとすると化学的耐久性が低下してエッチング時に電極被覆ガラス層が侵食されやすくなる問題があった。
本発明は、化学的耐久性に優れ、ＰＤＰ背面基板の電極被覆に用いることが可能な電極被覆用無鉛ガラスの提供を目的とする。

本発明は、下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２２５〜５５％、Ｂ_２Ｏ_３４〜２５％、ＺｎＯ５〜３０％、Ａｌ_２Ｏ_３０〜１０％、ＴｉＯ_２０〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ０〜１７％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ０〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３０〜２５％、ＣｏＯ＋ＣｕＯ＋ＣｅＯ_２＋ＳｎＯ_２０〜３％、から本質的になり、Ａｌ_２Ｏ_３を含有する場合Ｂ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３が２６モル％以下であり、ＴｉＯ_２、Ｎａ_２ＯまたはＫ_２Ｏを含有する場合（ＴｉＯ_２＋４モル％）≧（Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）である電極被覆用無鉛ガラス（以下、第１のガラスということがある。）を提供する。

また、下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２２５〜５５％、Ｂ_２Ｏ_３４〜２５％、ＺｎＯ５〜３０％、Ａｌ_２Ｏ_３０〜１０％、ＴｉＯ_２２〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ０〜１７％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ０〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３０〜２５％、ＣｏＯ＋ＣｕＯ＋ＣｅＯ_２＋ＳｎＯ_２０〜３％、から本質的になり、Ａｌ_２Ｏ_３を含有する場合Ｂ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３が２６モル％以下である電極被覆用無鉛ガラス（以下、第２のガラスということがある。）を提供する。
また、前記電極被覆用無鉛ガラスの粉末と、その粉末１００質量部に対して０．１〜４０質量部の割合の無機酸化物粉末とを含有するガラスセラミックス組成物を提供する。

また、ＰＤＰの製造に用いられる隔壁付きガラス基板の製造方法であって、ガラス基板上に形成された電極を前記電極被覆用無鉛ガラスによって被覆し、その電極を被覆したガラスの上にエッチング法によって隔壁を形成する隔壁付きガラス基板の製造方法を提供する。

また、ＰＤＰの製造に用いられる隔壁付きガラス基板の製造方法であって、ガラス基板上に形成された電極を前記ガラスセラミックス組成物を含有するグリーンシートまたは同ガラスセラミックス組成物を含有するガラスペーストによって被覆して焼成し、そのグリーンシートまたはガラスペーストの焼成体の上にエッチング法によって隔壁を形成する隔壁付きガラス基板の製造方法を提供する。

本発明によれば、エッチング法を用いた隔壁形成を行うときの電極被覆に用いられるガラスを鉛を含有しないものにできる。

本発明の電極被覆用無鉛ガラス（以下、本発明のガラスという。）は通常、粉末状にして使用される。
たとえば、本発明のガラスの粉末、または本発明のガラスの粉末に光学特性、電気特性もしくは色調調整のため無機酸化物フィラーを添加したガラスセラミックス組成物を、印刷性を付与するための有機ビヒクル等を用いてガラスペーストとし、ガラス基板上に形成された電極上に前記ガラスペーストを塗布、焼成して電極を被覆する。
なお、有機ビヒクルとはエチルセルロース等のバインダをα−テルピネオール等の有機溶剤に溶解したものである。また、ガラスペーストに限らず先に述べたようなグリーンシート法を用いて電極を被覆してもよい。

ＰＤＰにおいては、本発明のガラスは銀電極の被覆に好適に使用される。
本発明のガラスを用いたＰＤＰの製造は、たとえば交流方式のものであれば次のようにして行われる。
パターニングされた透明電極およびバス線（典型的には銀線）をガラス基板の表面に形成し、その上に透明電極被覆用ガラスの粉末をガラスペースト法またはグリーンシート法によって塗布・焼成してガラス層を形成し、最後に保護膜として酸化マグネシウムの層を形成して前面基板とする。

一方、パターニングされたアドレス用電極を別のガラス基板の表面に形成し、その上に本発明のガラス粉末または本発明のガラス粉末と無機酸化物粉末との混合物（ガラスセラミックス組成物）をガラスペーストとしたものを塗布・焼成してガラス層またはガラス含有層（以下、これをもガラス層ということがある。）を形成し、その上にエッチング法やサンドブラスト法等にて隔壁を形成する。
エッチング法にて隔壁を形成する場合、従来の電極被覆用無鉛ガラスでは浸食が生じやすかったが、本発明のガラスを用いることによりその問題はなくなる、または軽減される。

隔壁を形成して隔壁付きガラス基板とした後、さらに蛍光体層を印刷・焼成して背面基板とする。なお、前記ガラス層を形成するのにガラスペーストを使用せず、グリーンシート法等を用いてもよい。
前面基板と背面基板の周縁にシール材をディスペンサで塗布し、前記透明電極と前記アドレス用電極が対向するように組み立てた後、焼成してＰＤＰとする。そしてＰＤＰ内部を排気して、放電空間（セル）にＮｅやＨｅ−Ｘｅなどの放電ガスを封入する。
なお、上記の例は交流方式のものであるが、本発明のガラスは直流方式のものにも適用できる。

本発明のガラスのＴｓは４５０〜６００℃であることが好ましい。６００℃超では、通常使用されているガラス基板（ガラス転移点：５５０〜６２０℃）が焼成時に変形するおそれがある。

前記ガラス基板としては通常、αが８０×１０^−７〜９０×１０^−７／℃のものが用いられる。したがってこのようなガラス基板と膨張特性をマッチングさせ、ガラス基板のそりや強度の低下を防止するためには、本発明のガラスまたは本発明のセラミックス組成物の焼成体のαは好ましくは６０×１０^−７〜９０×１０^−７／℃、より好ましくは７０×１０^−７〜８５×１０^−７／℃である。
本発明のガラスは、Ｔｓが４５０〜６００℃、αが６０×１０^−７〜９０×１０^−７／℃であることが好ましい。

本発明のガラスの２５０℃における比抵抗（ρ）は１０^９Ωｃｍ以上であることが好ましい。１０^９Ωｃｍ未満では電気絶縁不良が起こるおそれがある。

次に、本発明のガラスの組成についてモル百分率表示を用いて説明する。
ＳｉＯ_２は化学的耐久性を向上させる成分であり、必須である。ＳｉＯ_２が２５％未満では化学的耐久性が低下し、好ましくは３０％以上、より好ましくは３５％以上である。ＳｉＯ_２が５５％超ではＴｓが高くなり、好ましくは５０％以下、より好ましくは４８％以下である。

Ｂ_２Ｏ_３はＳｉＯ_２ほどにはＴｓを上げずにガラスを安定化させることができる成分であり、必須である。Ｂ_２Ｏ_３が４％未満ではＴｓが高くなり、好ましくは６％以上、より好ましくは８％以上である。Ｂ_２Ｏ_３が２５％超では化学的耐久性が低下し、好ましくは２０％以下、より好ましくは１８％以下である。

ＺｎＯはＴｓを低下させる成分であり、必須である。ＺｎＯが５％未満ではＴｓが高くなり、好ましくは９％以上、より好ましくは１１％以上である。ＺｎＯが３０％超では化学的耐久性が低下し、また、焼成時に結晶が析出しやすくなり、好ましくは２８％以下、より好ましくは２７％以下、特に好ましくは２６％以下、典型的には２４％以下である。

Ａｌ_２Ｏ_３は必須ではないが、ガラスを安定化させるために１０％まで含有してもよい。Ａｌ_２Ｏ_３が１０％超ではＴｓが高くなり、好ましくは８％以下、より好ましくは５％以下である。
Ａｌ_２Ｏ_３を含有する場合その含有量は１％以上であることが好ましい。
また、その場合Ｂ_２Ｏ_３およびＡｌ_２Ｏ_３の含有量合計Ｂ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３は２６％以下である。これが２６％超では化学的耐久性が低下する。

第１のガラスにおいては、ＴｉＯ_２は必須ではないが、化学的耐久性を向上させる目的で１０％まで含有してもよく、その場合の含有量は典型的には２％以上である。ＴｉＯ_２が１０％超ではガラスが失透しやすくなり、好ましくは８％以下、より好ましくは７％以下である。
第２のガラスにおいては、ＴｉＯ_２は化学的耐久性を向上させる成分であり、必須である。ＴｉＯ_２は典型的には３％以上、好ましくは３．２％以上である。ＴｉＯ_２が１０％超ではガラスが失透しやすくなり、好ましくは８％以下、より好ましくは７％以下である。

Ｌｉ_２Ｏは必須ではないが、Ｔｓを低下させる効果を有し１７％まで含有してもよい。Ｌｉ_２Ｏが１７％超ではαが大きくなりすぎ、好ましくは１５％以下、典型的には１３％以下である。Ｌｉ_２Ｏを含有する場合その含有量は２％以上であることが好ましい。Ｌｉ_２Ｏが２％未満ではＴｓを低下させる効果が小さく、好ましくは４％以上である。
Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏはいずれも必須ではないが、Ｔｓを低下させるため、いずれか一方または両者を合計で１０％までの範囲で含有してもよい。Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが１０％超では化学的耐久性が低下し、またはαが大きくなりすぎ、好ましくは８％以下、より好ましくは７％以下、典型的には６％以下である。

第１のガラスにおいては、化学的耐久性を向上させるために、ＴｉＯ_２、Ｎａ_２ＯまたはＫ_２Ｏを含有する場合においてＴｉＯ_２含有量に４モル％を加算した値はＮａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計以上とされる。たとえば、ＴｉＯ_２を含有せずＮａ_２ＯまたはＫ_２Ｏを含有する場合にはＮａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏは４％以下とされる。（ＴｉＯ_２＋２％）が（Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）以上であることが好ましい。
第１のガラスにおいてＴｓを低下させたい場合には、ＴｉＯ_２は含有しないようにするか２％未満の範囲で含有するようにすることが好ましい。

Ｂｉ_２Ｏ_３は必須ではないがＴｓを低下させるために２５％まで含有してもよい。Ｂｉ_２Ｏ_３が２５％超ではαが高くなるおそれがあり、好ましくは２０％以下、より好ましくは１５％以下である。Ｂｉ_２Ｏ_３を含有する場合その含有量は１％以上であることが好ましい。Ｂｉ_２Ｏ_３が１％未満ではＴｓを低下させる効果が小さい。

ＣｏＯ、ＣｕＯ、ＣｅＯ_２およびＳｎＯ_２はいずれも必須ではないが、これら成分の１以上を含有する場合、これら４成分の含有量の合計は３％以下である。
ＣｏＯ、ＣｕＯおよびＣｅＯ_２は銀発色現象を抑制したい等の場合に好適な成分であり、これら成分の１以上を合計で２％まで含有してもよい。
ＳｎＯ_２は耐候性を上げたい等の場合に好適な成分であり、２％まで含有してもよい。

第２のガラスにおいては、典型的には、ＳｉＯ_２が３０〜５０％、Ｂ_２Ｏ_３が６〜２０％、ＺｎＯが９〜２８％、Ａｌ_２Ｏ_３が０〜８％、ＴｉＯ_２が２〜８％、Ｌｉ_２Ｏが２〜１７％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが０〜８％であり、また、Ｂｉ_２Ｏ_３を１％以上含有する場合の典型的な態様として、ＳｉＯ_２が３５〜４８％、Ｂ_２Ｏ_３が８〜１８％、ＺｎＯが１１〜２６％、Ａｌ_２Ｏ_３が０〜５％、ＴｉＯ_２が２〜７％、Ｌｉ_２Ｏが４〜１５％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが０〜６％、Ｂｉ_２Ｏ_３が１〜１５％であるものが挙げられる。
第２のガラスは化学的耐久性をより向上させたい場合に好適な態様である。

本発明のガラスは本質的に上記成分からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を含有してもよい。そのような成分を含有する場合、それらの含有量の合計は、好ましくは１０％以下、より好ましくは７％以下である。
前記その他の成分としてはガラスの安定化等を目的とするＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ等が例示される。ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯまたはＢａＯを含有する場合これら成分の含有量の合計は５％以下であることが好ましい。
なお、本発明のガラスはＰｂＯを含有しないし、Ｓｂ_２Ｏ_３も含有しないことが好ましい。

表のＳｉＯ_２からＢａＯまでの欄にモル百分率表示で示す組成となるように、原料を調合して混合し、１２００〜１３５０℃の電気炉中で白金ルツボを用いて１時間溶融し、薄板状ガラスに成形した後、ボールミルで粉砕し、ガラス粉末を得た。なお、表のＢ＋Ａｌの欄にはＢ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３を示す。
例１〜９は実施例、例１０〜１９は比較例である。

これらガラス粉末について、軟化点Ｔｓ（単位：℃）、前記平均線膨張係数α（単位：１０^−７／℃）を以下に述べるようにして測定した。結果を表に示す。
Ｔｓ：８００℃までの範囲で示差熱分析計を用いて測定した。
α：ガラス粉末を加圧成形後、Ｔｓより３０℃高い温度で１０分間焼成して得た焼成体を直径５ｍｍ、長さ２ｃｍの円柱状に加工し、熱膨張計で５０〜３５０℃の平均線膨張係数を測定した。

また、例１〜１９の各ガラス粉末７０ｇとチタニア粉末１０ｇを有機ビヒクル２０ｇと混練してガラスペーストを作製した。なお、有機ビヒクルは、α−テルピネオールにエチルセルロースを質量百分率表示で１２％溶解して作製した。
次に、大きさ５０ｍｍ×７５ｍｍ、厚さ２．８ｍｍのガラス基板を用意した。なお、前記ガラス基板は、質量百分率表示組成が、ＳｉＯ_２５８％、Ａｌ_２Ｏ_３７％、Ｎａ_２Ｏ４％、Ｋ_２Ｏ６．５％、ＭｇＯ２％、ＣａＯ５％、ＳｒＯ７％、ＢａＯ７．５％、ＺｒＯ_２３％、であり、またガラス転移点が６２６℃、αが８３×１０^−７／℃、であるガラスからなる。

上記ガラス基板の５０ｍｍ×５０ｍｍの部分に前記ガラスペーストを均一にスクリーン印刷後、１２０℃で１０分間乾燥した。これらガラス基板を昇温速度１０℃／分で温度がＴｓに達するまで加熱し、さらにその温度をＴｓに１０分間保持して焼成した。このようにしてガラス基板上に形成されたガラス層の厚さは１０〜１５μｍであった。
ガラス基板上に前記ガラス層が形成された試料について、化学的耐久性を以下に述べるようにして測定した。結果を表に示す。

化学的耐久性：４２℃に保持した３．０質量％の硝酸溶液に前記試料を９０秒浸漬し、浸漬前後での膜厚の減少の程度により化学的耐久性を評価した。好ましい耐久性を有しているものを○、膜厚減少が生じていて耐久性が劣るものを△、焼成膜自体が消失しており極めて劣るものを×、と表記した。なお、前記評価において好ましい耐久性を有しているものの中で浸漬時間を１８０秒にしても焼成膜面の性状変化が認められなかったものは高い耐久性を有するものとして◎と表記した。

ＰＤＰの背面基板の電極被覆および背面基板に利用できる。

Claims

下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２２５〜５５％、Ｂ_２Ｏ_３４〜２５％、ＺｎＯ５〜３０％、Ａｌ_２Ｏ_３０〜１０％、ＴｉＯ_２０〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ０〜１７％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ０〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３０〜２５％、ＣｏＯ＋ＣｕＯ＋ＣｅＯ_２＋ＳｎＯ_２０〜３％、から本質的になり、Ａｌ_２Ｏ_３を含有する場合Ｂ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３が２６モル％以下であり、ＴｉＯ_２、Ｎａ_２ＯまたはＫ_２Ｏを含有する場合（ＴｉＯ_２＋４モル％）≧（Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）である電極被覆用無鉛ガラス。
ＳｉＯ_２が３０〜５０モル％、Ｂ_２Ｏ_３が６〜２０モル％、ＺｎＯが９〜２７モル％、ＴｉＯ_２が０〜８モル％、Ｌｉ_２Ｏが２〜１５モル％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが０〜８モル％である請求項１の電極被覆用無鉛ガラス。
下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２２５〜５５％、Ｂ_２Ｏ_３４〜２５％、ＺｎＯ５〜３０％、Ａｌ_２Ｏ_３０〜１０％、ＴｉＯ_２２〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ０〜１７％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ０〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３０〜２５％、ＣｏＯ＋ＣｕＯ＋ＣｅＯ_２＋ＳｎＯ_２０〜３％、から本質的になり、Ａｌ_２Ｏ_３を含有する場合Ｂ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３が２６モル％以下である電極被覆用無鉛ガラス。
ＳｉＯ_２が３０〜５０モル％、Ｂ_２Ｏ_３が６〜２０モル％、ＺｎＯが９〜２７モル％、ＴｉＯ_２が２〜８モル％、Ｌｉ_２Ｏが２〜１５モル％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが０〜８モル％である請求項３の電極被覆用無鉛ガラス。
ＴｉＯ_２が３．２モル％以上である請求項３または４の電極被覆用無鉛ガラス。
Ｂｉ_２Ｏ_３を１〜１５モル％含有する請求項１〜５のいずれかの電極被覆用無鉛ガラス。
ＳｉＯ_２が３５〜４８モル％、Ｂ_２Ｏ_３が８〜１８モル％、ＺｎＯが１１〜２７モル％、Ｌｉ_２Ｏが２〜１５モル％である請求項６の電極被覆用無鉛ガラス。
請求項１〜７のいずれかの電極被覆用無鉛ガラスの粉末と、その粉末１００質量部に対して０．１〜４０質量部の割合の無機酸化物粉末とを含有するガラスセラミックス組成物。
無機酸化物粉末が、ＴｉＯ_２、ＺｎＯ、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、Ｐ_２Ｏ_５、Ｆｅ_２Ｏ_３、ＭｎＯ_２、Ｃｒ_２Ｏ_３およびＣｏ_２Ｏ_３からなる群から選ばれた１種以上の無機酸化物の粉末である請求項８のガラスセラミックス組成物。
プラズマディスプレイ装置の製造に用いられる隔壁付きガラス基板の製造方法であって、ガラス基板上に形成された電極を請求項１〜７のいずれかの電極被覆用無鉛ガラスによって被覆し、その電極を被覆したガラスの上にエッチング法によって隔壁を形成する隔壁付きガラス基板の製造方法。
プラズマディスプレイ装置の製造に用いられる隔壁付きガラス基板の製造方法であって、ガラス基板上に形成された電極を請求項８または９のガラスセラミックス組成物を含有するグリーンシートまたは同ガラスセラミックス組成物を含有するガラスペーストによって被覆して焼成し、そのグリーンシートまたはガラスペーストの焼成体の上にエッチング法によって隔壁を形成する隔壁付きガラス基板の製造方法。