JP2007206172A - 撮像系光学素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】撮像系を構成する光学素子の光学面に対して、少なくとも2面以上にλ=800〜1200nmにおける反射率の最大値が30%以上である赤外線カットコートが形成されていることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
撮像系を構成する光学素子の光学面に対して、少なくとも2面以上にλ=800〜1200nmにおける反射率の最大値が30%以上である赤外線カットコートが形成されていることを特徴とする。
撮像系を構成する光学素子のうち、少なくとも1面はガラス基板に赤外線カットコートを形成したものであることを特徴とする。
撮像系を構成する光学素子のうち、少なくとも1面はプラスチックフィルムに赤外線カットコートを形成したものであることを特徴とする。
撮像系を構成する光学素子のうち、少なくとも1面は撮像レンズに赤外線カットコートを形成したものであることを特徴とする。
撮像系を構成する光学素子のうち、少なくとも2面は撮像レンズに赤外線カットコートを形成したものであることを特徴とする。
赤外線カットコートが形成された撮像レンズの素材はプラスチックであることを特徴とする。
設計波長をλ0、低屈折率層の屈折率をnL、低屈折率層の膜厚をdL、高屈折率層の屈折率をnH、高屈折率層の膜厚をdH、空気側から順番に第1層目、第2層目…と数えることとした場合、赤外線カットコートが以下の条件を満たす層構成であることを特徴とする。
800nm≦λ0≦1200nm
1.3≦nL≦1.6
1.8≦nH≦2.3
第1層目は0.08λ0≦nLdL≦0.17λ0
第2層目は0.2λ0≦nHdH≦0.3λ0
第3層目は0.2λ0≦nLdL≦0.3λ0
第4層目は0.2λ0≦nHdH≦0.3λ0であることを特徴とする。
第5層目は0.2λ0≦nLdL≦0.3λ0であることを特徴とする。
第6層目は0.2λ0≦nHdH≦0.3λ0であることを特徴とする。
第7層目は0.2λ0≦nLdL≦0.3λ0であることを特徴とする。
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撮像系全体としては赤外領域での透過率をいかに0%に近づけるか、もしくは所定のCCD、CMOS感度に影響のないレベルまで透過率を低減させるかが重要となる。
複数の面に赤外線カットコートが設けられる場合の撮像系全体の赤外領域(800〜1200nm)の透過率は以下の方法で求めることができる。赤外線カットコートが4面に形成されており、それぞれの赤外領域の反射率をx1、x2、x3、x4と仮定すると、透過率≒(1−x1)(1−x2)(1−x3)(1−x4)であらわされる。たとえば、x1=x2=x3=x4=0.6(反射率60%)とすれば、透過率≒(1−0.6)4=0.0256であり、透過率は約2.6%まで低減される。実際は面内部の多重反射もあり、この数値よりも少し高い透過率になってしまう場合も考えられるが、おおよその透過率は上記計算式により得られる。
実施例1に係る光学系を図2を参照して説明する。
CCDに入射する赤外線をカットするため、プラスチックフィルム基板上に高屈折率樹脂(n=1.8)と低屈折率樹脂(n=1.5)を交互に80層積層した赤外線カットフィルタIRCFを設けた。反射特性を図3に示す。プラスチックフィルムの赤外線カットフィルタは高屈折率樹脂と低屈折率樹脂の屈折率差を大きくすることができないため、赤外線をカットできる帯域を広くとることができず、λ=800〜1200nmの範囲をカバーしきれない。
実施例2に係る光学系を図5を参照して説明する。
CCDに入射する赤外線をカットするため、λ=800〜1200nmにおける反射率の最大値が30%以上である赤外線カットコートIRC1及びIRC2を形成したプラスチックレンズである第1レンズL1と赤外線カットコートIRC3及びIRC4を形成したプラスチックレンズである第2レンズL2とを組み合わせた撮像系を用いた。赤外線カットコートIRC1〜IRC4は、プラスチックレンズ上にTiO2を主成分とする材料とSiO2を主成分とする材料とを交互に8層積層することで形成した。第1レンズL1及び第2レンズL2それぞれの片面の反射率特性を図6に示す。図6に示すように、第1レンズL1と第2レンズL2のそれぞれの面は、可視光域のλ=400〜700nmにおいて、十分な反射防止性能を有している。また、λ=800〜1200nmにおける反射率の最大値は60%程度と、通常の赤外線カットフィルタとしては十分な性能を持ち合わせていないものの、4面に図6の特性を有する赤外線カットフィルタIRC1〜IRC4を形成することで、可視光に対する十分な反射防止性能を有しながら、λ=800〜1200nmにおいて高い反射率を有する光学系を構成し、CCDへ赤外線が入射するのを防ぐことができる。
実施例3に係る光学系を図7を参照して説明する。
CCDの赤外線をカットするため、プラスチックフィルム基板上に高屈折率樹脂(n=1.8)と低屈折率樹脂(n=1.5)を交互に80層積層した赤外線カットフィルタIRCFを設けた。反射特性を図3に示す。プラスチックフィルムタイプの赤外線カットフィルタは高屈折率樹脂と低屈折率樹脂の屈折率差を大きくとることができないため、赤外線をカットできる帯域を広くとることができず、λ=800〜1200nmの範囲をカバーしきれない。
そこで、補助的にλ=800〜1200nmにおける反射率の最大値が30%以上である赤外線カットコートIRC1及びIRC2を形成したプラスチックレンズである第1レンズL1と赤外線カットコートIRC3及び反射防止コートARCを形成したプラスチックレンズである第2レンズL2とを組み合わせた撮像系を用いた。プラスチックレンズ上にTiO2を主成分とする材料とSiO2を主成分とする材料を交互に8層積層することで形成した。赤外線カットコートが形成されたレンズ面の反射率特性は実施例2と同様であり、図6に示される。図6に示すように、可視光域のλ=400〜700nmにおいては十分な反射防止性能を有している。また、λ=800〜1200nmにおける反射率の最大値は60%程度と、通常のIRカットフィルタとしては、十分な性能を持ち合わせていないものの、図6の特性を有する赤外線カットコートを3面に設けるとともに、図3の特性を有するプラスチックフィルムタイプの赤外線カットフィルタIRCFと組み合わせることで、λ=800〜1200nmの反射率を高く設定できる。上述のように、実施例3によれば、撮像系レンズの第1面、第2面、第3面の3面に図6の特性を有する赤外線カットコートIRC1〜IRC3を形成し、プラスチックフィルムタイプの赤外線カットフィルタIRCFと組み合わせることで、可視光に対する十分な反射防止性能を有しながら、λ=800〜1200nmにおいて高い反射率を有する光学系を構成し、CCDへ赤外線が入射するのを防ぐことができた。なお、レンズの第4面には図8に示す、通常の反射防止コートARCを施した。その層構成を表1に示す。
(赤外線カットコート1)
撮像系レンズの片面に、可視領域では反射防止膜として機能し、赤外領域では赤外線カットフィルタとして機能するコーティングを撮像系レンズの光学面に形成した。詳しくは、低屈折率材料のSiO2を主成分とする材料と高屈折率材料のTiO2を主成分とする材料とを交互に6層積層して形成した。成膜方法としては、真空蒸着法を採用したが、スパッタ、塗布等の別の方法を採用してもよい。表2に層構成を、図9に得られた撮像系レンズの片面の反射率特性を示す。また、空気側(撮像系レンズ最上面)から第1層、第2層…と順番に数えることとする。
設計波長をλ0=1000nmとして、第1層目は低屈折率材料のSiO2を0.128λ0、第2層目は高屈折率材料のTiO2を0.261λ0、第3層目は低屈折率材料のSiO2を0.279λ0、成膜した。この層構成のうち、反射防止膜としての機能を担うのは主に第1層目、第4層目、第5層目及び第6層目であり、赤外線カットフィルタとしての機能を担うのは主に第2層目と第3層目である。特に、第2層目と第3層目は赤外線波長λ0=1000nmにおいて約0.25λ0となるように設計している。
このような構成にすることで、可視光波長λ1=500nmにはおいて約0.5λ1となり、光学薄膜としては不在層とみなせ、可視領域の反射防止性能を阻害することはない。一方、赤外線波長λ0=1000nmにおいては約0.25λ0となり、光学薄膜として反射膜の基本構造を有するため、赤外領域の反射率を高めることができる。
撮像系レンズの片面に、可視領域では反射防止膜として機能し、赤外領域では赤外線カットフィルタとして機能するコーティングを撮像系レンズの光学面に形成した。詳しくは、低屈折率材料のSiO2を主成分とする材料と高屈折率材料のTiO2を主成分とする材料とを交互に6層積層して形成した。成膜方法としては、真空蒸着法を採用したが、スパッタ、塗布等の別の方法を採用してもよい。表3に層構成を、図10に得られた撮像系レンズの片面の反射率特性を示す。また、空気側(撮像系レンズ最上面)から第1層、第2層…と順番に数えることとする。
設計波長をλ0=1000nmとして、第1層目は低屈折率材料のSiO2を0.130λ0、第2層目は高屈折率材料のTiO2を0.260λ0、第3層目は低屈折率材料のSiO2を0.253λ0、第4層目は高屈折率材料のTiO2を0.271λ0、成膜した。この層構成のうち、反射防止膜としての機能を担うのは主に第1層目、第4層目、第5層目及び第6層目であり、赤外線カットフィルタとしての機能を担うのは主に第2層目、第3層目及び第4層目である。特に、第2層目、第3層目及び第4層目は赤外線波長λ0=1000nmにおいて約0.25λ0となるように設計している。
このような構成にすることで、可視光波長λ1=500nmにはおいて約0.5λ1となり、光学薄膜としては不在層とみなせ、可視領域の反射防止性能を阻害することはない。一方、赤外線波長λ0=1000nmにおいては約0.25λ0となり、光学薄膜として反射膜の基本構造を有するため、赤外領域の反射率を高めることができる。
撮像系レンズの片面に、可視領域では反射防止膜として機能し、赤外領域では赤外線カットフィルタとして機能するコーティングを撮像系レンズの光学面に形成した。詳しくは、低屈折率材料のSiO2を主成分とする材料と高屈折率材料のTiO2を主成分とする材料とを交互に8層積層して形成した。成膜方法としては、真空蒸着法を採用したが、スパッタ、塗布等の別の方法を採用してもよい。表4に層構成を、図11に得られた撮像系レンズの片面の反射率特性を示す。また、空気側(撮像系レンズ最上面)から第1層、第2層…と順番に数えることとする。
設計波長をλ0=1000nmとして、第1層目は低屈折率材料のSiO2を0.130λ0、第2層目は高屈折率材料のTiO2を0.260λ0、第3層目は低屈折率材料のSiO2を0.259λ0、第4層目は高屈折率材料のTiO2を0.274λ0、第5層目は低屈折率材料のSiO2を0.285λ0、成膜した。この層構成のうち、反射防止膜としての機能を担うのは主に第1層目、第6層目、第7層目及び第8層目であり、赤外線カットフィルタとしての機能を担うのは主に第2層目、第3層目、第4層目及び第5層目である。特に、第2層目、第3層目、第4層目及び第5層目は赤外線波長λ0=1000nmにおいて約0.25λ0となるように設計している。
このような構成にすることで、可視光波長λ1=500nmにはおいて約0.5λ1となり、光学薄膜としては不在層とみなせ、可視領域の反射防止性能を阻害することはない。一方、赤外線波長λ0=1000nmにおいては約0.25λ0となり、光学薄膜として反射膜の基本構造を有するため、赤外領域の反射率を高めることができる。
撮像系レンズの片面に、可視領域では反射防止膜として機能し、赤外領域では赤外線カットフィルタとして機能するコーティングを撮像系レンズの光学面に形成した。詳しくは、低屈折率材料のSiO2を主成分とする材料と高屈折率材料のTiO2を主成分とする材料とを交互に8層積層して形成した。成膜方法としては、真空蒸着法を採用したが、スパッタ、塗布等の別の方法を採用してもよい。表5に層構成を、図12に得られた撮像系レンズの片面の反射率特性を示す。また、空気側(撮像系レンズ最上面)から第1層、第2層…と順番に数えることとする。
設計波長をλ0=1000nmとして、第1層目は低屈折率材料のSiO2を0.133λ0、第2層目は高屈折率材料のTiO2を0.258λ0、第3層目は低屈折率材料のSiO2を0.257λ0、第4層目は高屈折率材料のTiO2を0.256λ0、第5層目は低屈折率材料のSiO2を0.257λ0、第6層目は高屈折率材料のTiO2を0.280λ0、成膜した。この層構成のうち、反射防止膜としての機能を担うのは主に第1層目、第7層目及び第8層目であり、赤外線カットフィルタとしての機能を担うのは主に第2層目、第3層目、第4層目、第5層目及び第6層目である。特に、第2層目、第3層目、第4層目、第5層目及び第6層目は赤外線波長λ0=1000nmにおいて約0.25λ0となるように設計している。
このような構成にすることで、可視光波長λ1=500nmにはおいて約0.5λ1となり、光学薄膜としては不在層とみなせ、可視領域の反射防止性能を阻害することはない。一方、赤外線波長λ0=1000nmにおいては約0.25λ0となり、光学薄膜として反射膜の基本構造を有するため、赤外領域の反射率を高めることができる。
撮像系レンズの片面に、可視領域では反射防止膜として機能し、赤外領域では赤外線カットフィルタとして機能するコーティングを撮像系レンズの光学面に形成した。詳しくは、低屈折率材料のSiO2を主成分とする材料と高屈折率材料のTiO2を主成分とする材料とを交互に10層積層して形成した。成膜方法としては、真空蒸着法を採用したが、スパッタ、塗布等の別の方法を採用してもよい。表6に層構成を、図13に得られた撮像系レンズの片面の反射率特性を示す。また、空気側(撮像系レンズ最上面)から第1層、第2層…と順番に数えることとする。
設計波長をλ0=1000nmとして、第1層目は低屈折率材料のSiO2を0.136λ0、第2層目は高屈折率材料のTiO2を0.272λ0、第3層目は低屈折率材料のSiO2を0.268λ0、第4層目は高屈折率材料のTiO2を0.277λ0、第5層目は低屈折率材料のSiO2を0.264λ0、第6層目は高屈折率材料のTiO2を0.267λ0、第7層目は低屈折率材料のSiO2を0.287λ0、成膜した。この層構成のうち、反射防止膜としての機能を担うのは主に第1層目、第8層目、第9層目及び第10層目であり、赤外線カットフィルタとしての機能を担うのは主に第2層目、第3層目、第4層目、第5層目、第6層目及び第7層目である。特に、第2層目、第3層目、第4層目、第5層目、第6層目及び第7層目は赤外線波長λ0=1000nmにおいて約0.25λ0となるように設計している。
このような構成にすることで、可視光波長λ1=500nmにはおいて約0.5λ1となり、光学薄膜としては不在層とみなせ、可視領域の反射防止性能を阻害することはない。一方、赤外線波長λ0=1000nmにおいては約0.25λ0となり、光学薄膜として反射膜の基本構造を有するため、赤外領域の反射率を高めることができる。
撮像系レンズの片面に、可視領域では反射防止膜として機能し、赤外領域では赤外線カットフィルタとして機能するコーティングを撮像系レンズの光学面に形成した。詳しくは、低屈折率材料のSiO2を主成分とする材料と高屈折率材料のTiO2を主成分とする材料とを交互に10層積層して形成した。成膜方法としては、真空蒸着法を採用したが、スパッタ、塗布等の別の方法を採用してもよい。表7に層構成を、図14に得られた撮像系レンズの片面の反射率特性を示す。また、空気側(撮像系レンズ最上面)から第1層、第2層…と順番に数えることとする。
設計波長をλ0=1000nmとして、第1層目は低屈折率材料のSiO2を0.125λ0、第2層目は高屈折率材料のTiO2を0.274λ0、第3層目は低屈折率材料のSiO2を0.267λ0、第4層目は高屈折率材料のTiO2を0.269λ0、第5層目は低屈折率材料のSiO2を0.267λ0、第6層目は高屈折率材料のTiO2を0.264λ0、第7層目は低屈折率材料のSiO2を0.267λ0、第8層目は高屈折率材料のTiO2を0.284λ0、成膜した。この層構成のうち、反射防止膜としての機能を担うのは主に第1層目、第9層目及び第10層目であり、赤外線カットフィルタとしての機能を担うのは主に第2層目、第3層目、第4層目、第5層目、第6層目、第7層目及び第8層目である。特に、第2層目、第3層目、第4層目、第5層目、第6層目、第7層目及び第8層目は赤外線波長λ0=1000nmにおいて約0.25λ0となるように設計している。
このような構成にすることで、可視光波長λ1=500nmにはおいて約0.5λ1となり、光学薄膜としては不在層とみなせ、可視領域の反射防止性能を阻害することはない。一方、赤外線波長λ0=1000nmにおいては約0.25λ0となり、光学薄膜として反射膜の基本構造を有するため、赤外領域の反射率を高めることができる。
L2 第2レンズ
S 絞り
CP カバープレート
Claims (12)
- 撮像系を構成する光学素子の光学面に対して、少なくとも2面以上にλ=800〜1200nmにおける反射率の最大値が30%以上である赤外線カットコートが形成されていることを特徴とする撮像系光学素子。
- 撮像系を構成する光学素子のうち、少なくとも1面はガラス基板に赤外線カットコートを形成したものであることを特徴とする請求項1に記載の撮像系光学素子。
- 撮像系を構成する光学素子のうち、少なくとも1面はプラスチックフィルムに赤外線カットコートを形成したものであることを特徴とする請求項1に記載の撮像系光学素子。
- 撮像系を構成する光学素子のうち、少なくとも1面は撮像レンズに赤外線カットコートを形成したものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の撮像系光学素子。
- 撮像系を構成する光学素子のうち、少なくとも2面は撮像レンズに赤外線カットコートを形成したものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の撮像系光学素子。
- 赤外線カットコートが形成された撮像レンズの素材はプラスチックであることを特徴とする請求項4又は5に記載の撮像系光学素子。
- 設計波長をλ0、低屈折率層の屈折率をnL、低屈折率層の膜厚をdL、高屈折率層の屈折率をnH、高屈折率層の膜厚をdH、空気側から順番に第1層目、第2層目…と数えることとした場合、赤外線カットコートが以下の条件を満たす層構成であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の撮像系光学素子。
800nm≦λ0≦1200nm
1.3≦nL≦1.6
1.8≦nH≦2.3
第1層目は0.08λ0≦nLdL≦0.17λ0
第2層目は0.2λ0≦nHdH≦0.3λ0
第3層目は0.2λ0≦nLdL≦0.3λ0 - 第4層目は0.2λ0≦nHdH≦0.3λ0であることを特徴とする請求項7に記載の撮像系光学素子。
- 第5層目は0.2λ0≦nLdL≦0.3λ0であることを特徴とする請求項8に記載の撮像系光学素子。
- 第6層目は0.2λ0≦nHdH≦0.3λ0であることを特徴とする請求項9に記載の撮像系光学素子。
- 第7層目は0.2λ0≦nLdL≦0.3λ0であることを特徴とする請求項10に記載の撮像系光学素子。
- 第8層目は0.2λ0≦nHdH≦0.3λ0であることを特徴とする請求項11に記載の撮像系光学素子。
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