JPS5842001A - プラスチツク光学部品の反射防止膜 - Google Patents
プラスチツク光学部品の反射防止膜Info
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- JPS5842001A JPS5842001A JP56140115A JP14011581A JPS5842001A JP S5842001 A JPS5842001 A JP S5842001A JP 56140115 A JP56140115 A JP 56140115A JP 14011581 A JP14011581 A JP 14011581A JP S5842001 A JPS5842001 A JP S5842001A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、反射防止膜を有するプラスチック光学部品に
関するものである。
関するものである。
従来種々の光学部品の表面にMgF2の単層膜やCa
F2 、その他の蒸着基板と屈折率の異々る物質を交互
に蒸着し反射防止膜を作成するいくつかの方法が提案さ
れている。しかしこれらの反射防止膜をプラスチックス
に蒸着した場合、反射防止膜は密着性が低く耐湿性、耐
擦傷性が悪いという欠点があった。
F2 、その他の蒸着基板と屈折率の異々る物質を交互
に蒸着し反射防止膜を作成するいくつかの方法が提案さ
れている。しかしこれらの反射防止膜をプラスチックス
に蒸着した場合、反射防止膜は密着性が低く耐湿性、耐
擦傷性が悪いという欠点があった。
本発明はかかる欠点を除去したものであり、透明プラス
チック光学部品上に反射防止効果、耐久性共に優れた反
射防止膜を提供することにある。
チック光学部品上に反射防止効果、耐久性共に優れた反
射防止膜を提供することにある。
すなわち、本発明はプラスチック光学部品の表面にアル
キルトリアルコキシシランの部分加水分解縮合物から成
る硬化膜層を形成し、その上に第1層としてS io+
AIhOs * C602及びTho+ から選・ば
れた少々くとも1種のλ/2(λ=400 nm〜70
0nm)の膜厚の薄膜を真空蒸着により形成し又は形成
せず第2層としてMgF2友びSiO2から選ばれた1
種のλ/4(λ=40071m〜700nm )の膜厚
の薄膜を真空蒸着により形成したことを特徴とするプラ
スチック光学部品の反射防止膜である。
キルトリアルコキシシランの部分加水分解縮合物から成
る硬化膜層を形成し、その上に第1層としてS io+
AIhOs * C602及びTho+ から選・ば
れた少々くとも1種のλ/2(λ=400 nm〜70
0nm)の膜厚の薄膜を真空蒸着により形成し又は形成
せず第2層としてMgF2友びSiO2から選ばれた1
種のλ/4(λ=40071m〜700nm )の膜厚
の薄膜を真空蒸着により形成したことを特徴とするプラ
スチック光学部品の反射防止膜である。
本発明に使用するアルキルトリアルコキシシランの部分
加水分解縮合物としては一般式R81(OR)3で示さ
れる有機−素化合物(但り、 Rは炭素数がt−iの炭
化水素基であり、R′は炭素数1〜4の炭化水素基又は
フェニル基である)の部分加水分解縮合物である。
加水分解縮合物としては一般式R81(OR)3で示さ
れる有機−素化合物(但り、 Rは炭素数がt−iの炭
化水素基であり、R′は炭素数1〜4の炭化水素基又は
フェニル基である)の部分加水分解縮合物である。
具体的にはメチルトリメトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、エチルトリエトキシシラン、イソプロビル
ト1)メトキシシラン、メチルトリエトキシシン、フェ
ニルトリエトキシ7ランなどをあげることができる。加
水分解縮合は少量の酸触媒の存在下に水とアルコールの
ごとき混合溶媒中で行うことができる。
キシシラン、エチルトリエトキシシラン、イソプロビル
ト1)メトキシシラン、メチルトリエトキシシン、フェ
ニルトリエトキシ7ランなどをあげることができる。加
水分解縮合は少量の酸触媒の存在下に水とアルコールの
ごとき混合溶媒中で行うことができる。
このようにして得たアルキルトリアルコキシシランの部
分加水分解縮合物を主体とする塗料には硬化触媒として
アルカリ金属水酸化物、亜リン酸又はリン酸のアルカリ
金属塩、第4級アンモニウム化合物、環式アミジン又は
その塩などtJ″−加えられる。特に好ましいのは1.
8ジアザビシクロ(5゜4.0)ウンデセン−7などの
環式アミジン又はその塩、又は第4級アンニウム化・イ
ドロオキサイドなどの第4級アンニウム化合物などであ
る。またゲル化防止や密着性の向上のために、例えばギ
酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸を加えることが望ま
しい。更に少量の表面平滑剤、紫外線吸収剤などを加え
てもよい。このようにして得たアルキルトリアルコキシ
シランの部分加水分解縮合物を主体とする塗料にプラス
チック光学部品を浸漬、スプレーなどの塗装方法により
塗布加熱硬化させることにより硬化膜層を形成する。膜
厚としては1〜20μ仏が適当である。
分加水分解縮合物を主体とする塗料には硬化触媒として
アルカリ金属水酸化物、亜リン酸又はリン酸のアルカリ
金属塩、第4級アンモニウム化合物、環式アミジン又は
その塩などtJ″−加えられる。特に好ましいのは1.
8ジアザビシクロ(5゜4.0)ウンデセン−7などの
環式アミジン又はその塩、又は第4級アンニウム化・イ
ドロオキサイドなどの第4級アンニウム化合物などであ
る。またゲル化防止や密着性の向上のために、例えばギ
酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸を加えることが望ま
しい。更に少量の表面平滑剤、紫外線吸収剤などを加え
てもよい。このようにして得たアルキルトリアルコキシ
シランの部分加水分解縮合物を主体とする塗料にプラス
チック光学部品を浸漬、スプレーなどの塗装方法により
塗布加熱硬化させることにより硬化膜層を形成する。膜
厚としては1〜20μ仏が適当である。
本発明はアルキルトリアルコキシシランの加水分解縮合
物を主体とした塗膜をコーティングした後、第1層とし
てS io、 Adz 03 、 CeO2及びThO
2より選ばれた1種を真空蒸着により該金属酸化物膜を
厚さλ/2(λ=400rLm〜7oonm)に蒸着す
る。
物を主体とした塗膜をコーティングした後、第1層とし
てS io、 Adz 03 、 CeO2及びThO
2より選ばれた1種を真空蒸着により該金属酸化物膜を
厚さλ/2(λ=400rLm〜7oonm)に蒸着す
る。
次に第2層としてMgFz又は5iOzのλ/4(λ=
400 nm〜7oonm)厚の膜を真空蒸着により蒸
着する。
400 nm〜7oonm)厚の膜を真空蒸着により蒸
着する。
第1層は反射防止効果及び表面硬度などの特性の向上に
つながるが、必ずしも必要でない。
つながるが、必ずしも必要でない。
蒸着工程は市販の真空蒸着装置を使用して真空度lXl
0 トール以下の条件で行うことができる。
0 トール以下の条件で行うことができる。
適用できるプラスチックとしては透明なものであれば良
いが、例えばポリメチルメタクリレ−士、ポリカーボネ
ート、CR−39などがあげられる。
いが、例えばポリメチルメタクリレ−士、ポリカーボネ
ート、CR−39などがあげられる。
以下実施例に基づいて本発明の詳細な説明する5、実施
例−l ポリメチルメタクリレート(三菱レイ5ン■製アクリペ
ツ)VH)を厚味2關、直径801AR。
例−l ポリメチルメタクリレート(三菱レイ5ン■製アクリペ
ツ)VH)を厚味2關、直径801AR。
曲率半径781mの平服レンズに射出成形したものをメ
チルトリエトキシシランの部分加水分解縮合物(オーニ
ング・イリノイズ社ガラスレジン、)及び硬化触媒とし
て1Bジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7の
フェノール塩及び酢酸を含むコーテイング液に浸漬塗装
し、加熱硬化し、膜厚4〜5μのコーティングレンズを
得た。
チルトリエトキシシランの部分加水分解縮合物(オーニ
ング・イリノイズ社ガラスレジン、)及び硬化触媒とし
て1Bジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7の
フェノール塩及び酢酸を含むコーテイング液に浸漬塗装
し、加熱硬化し、膜厚4〜5μのコーティングレンズを
得た。
このレンズの表面に真空蒸着装置(日本真空技術■製E
BS−1OA)によりlOトールでMgF+を厚味14
0fimに蒸着した。
BS−1OA)によりlOトールでMgF+を厚味14
0fimに蒸着した。
得られたレンズを次のような特性試験を行い結果を表−
11表−2に示した。
11表−2に示した。
1 可視光線透過・率
分光光度計で波長400〜700nmの透過率を測定
2、表面蒸着膜の密着性
クロスハツチビールテストを行い、剥れのまったくない
もの・・・・・・○、一部剥れるもの・・・・・・・・
・△、全部剥れるもの・・・・・・と表示3、60℃温
水浸漬後の密着性 60℃の温水に3hr浸漬後、クロスハツチピールテス
トを行い、上記と同じ規準で表示実施例−2 実施例−1,と同様にしてポリメチルメタクリレート製
レンズにメチルトリエトキシシランの部分加水分解縮合
物及び硬化触媒としてテトラエチルアンモニウムハイド
ロオキサイド及び酢酸を含む塗料をコーティングして加
熱硬化後、第1層としてA−g203 膜厚280n
mに真空蒸着し、第2層としてMgF2を膜厚140n
mに真空蒸着したレンズを得た。評価結果を表−1、表
−2に示した。
もの・・・・・・○、一部剥れるもの・・・・・・・・
・△、全部剥れるもの・・・・・・と表示3、60℃温
水浸漬後の密着性 60℃の温水に3hr浸漬後、クロスハツチピールテス
トを行い、上記と同じ規準で表示実施例−2 実施例−1,と同様にしてポリメチルメタクリレート製
レンズにメチルトリエトキシシランの部分加水分解縮合
物及び硬化触媒としてテトラエチルアンモニウムハイド
ロオキサイド及び酢酸を含む塗料をコーティングして加
熱硬化後、第1層としてA−g203 膜厚280n
mに真空蒸着し、第2層としてMgF2を膜厚140n
mに真空蒸着したレンズを得た。評価結果を表−1、表
−2に示した。
実施例−3
実施例−2に於いて第1層のAl3zO3の代りにSi
Oを使用した他は実施例−2と同様に行った。評価結果
を表−11表−2に示した。
Oを使用した他は実施例−2と同様に行った。評価結果
を表−11表−2に示した。
実施例−4
実施例−2に於いて第1層のA&03を使用した他は実
施例−2と同様に行った。評価結果を表−1、表−2に
示した。
施例−2と同様に行った。評価結果を表−1、表−2に
示した。
比較例−1゜
ポリメチルメタクリレート樹脂レンズをそのま\評価し
た。
た。
比較例−2
実施例−1に於いてメチルトリエトキシシランの部分加
水分解縮合物を含む塗料をコーティングせずにポリメチ
−ルメタクリレート樹月旨レンズに直接MgFzを10
−’)−/しで蒸着した。
水分解縮合物を含む塗料をコーティングせずにポリメチ
−ルメタクリレート樹月旨レンズに直接MgFzを10
−’)−/しで蒸着した。
手続補正書(自発)
昭和56年1z月1日
特許庁長官 島 1)春 樹 殿
L 事件の表示 昭和56年特許願第1401.15
号2 発明の名称 プラスチック光学部品の反射防止
膜3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 明細書の特許請求の範囲の欄及び発明の詳細な説明の欄 5、補正の内容 (11明細書の特許請求の範囲を添付別紙のとおりとす
る。
号2 発明の名称 プラスチック光学部品の反射防止
膜3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 明細書の特許請求の範囲の欄及び発明の詳細な説明の欄 5、補正の内容 (11明細書の特許請求の範囲を添付別紙のとおりとす
る。
λ/2若しくはλ/4(λ=400算m〜」(1)明細
書第4頁913行「厚さλ/2(λ=400TLm〜」
を次のように補正。「厚さλ/2若しくはλ/4(λ二
400rLnt〜」 (1)明細書第6頁10行「全部剥れるもの・・・・・
・と表示」を次のように補正。「全部剥れるもの・・・
×4と表示」 (1111BiilE 7.i 10行r(7)Ag2
03Jを次のように補正。[にCe0zJ 2、特許請求の範囲 プラスチック光学部品の表面にアルキルトリアルコキシ
7ラン部分加水分解縮合物から成る硬化膜層を形成し、
その上に第1層としてS io。
書第4頁913行「厚さλ/2(λ=400TLm〜」
を次のように補正。「厚さλ/2若しくはλ/4(λ二
400rLnt〜」 (1)明細書第6頁10行「全部剥れるもの・・・・・
・と表示」を次のように補正。「全部剥れるもの・・・
×4と表示」 (1111BiilE 7.i 10行r(7)Ag2
03Jを次のように補正。[にCe0zJ 2、特許請求の範囲 プラスチック光学部品の表面にアルキルトリアルコキシ
7ラン部分加水分解縮合物から成る硬化膜層を形成し、
その上に第1層としてS io。
A6203eCe02及びTh0z から選ばれた少な
くとも1種のλ/2若しくはλ/4(λ=400ルm〜
7(10nm)の膜厚の薄膜を真空蒸着により形成した
ことを特徴とするプラスチック光学部品の反射防止膜。
くとも1種のλ/2若しくはλ/4(λ=400ルm〜
7(10nm)の膜厚の薄膜を真空蒸着により形成した
ことを特徴とするプラスチック光学部品の反射防止膜。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 プラスチック光学部品の表面にアルキルトリアルコキシ
シラン部分加水分解縮合物から成る硬化膜層を形成し、
その上に第1層としてSin。 A lh 03 、 Ce 02及びTha2 から選
ばれた少なくとも1種のλ/2(λ=44)Onm〜7
00 nm )の膜厚の薄膜を真空蒸着により形成し、
又は形成せずに第2層としてMgFz及びSiO2から
選ばれた1種のλ/4(λ=400nm〜700nm)
の膜厚の薄膜を真空蒸着により形成した仁とを特徴とす
るプラスチック光学部品の反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56140115A JPS5842001A (ja) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | プラスチツク光学部品の反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56140115A JPS5842001A (ja) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | プラスチツク光学部品の反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5842001A true JPS5842001A (ja) | 1983-03-11 |
Family
ID=15261258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56140115A Pending JPS5842001A (ja) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | プラスチツク光学部品の反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5842001A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1981
- 1981-09-04 JP JP56140115A patent/JPS5842001A/ja active Pending
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