JP2009094355A - 紫外線照射方法およびこれを用いた装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】保護テープPTの表面には紫外線発生装置52により紫外線を照射する。それとは別に、紫外線発生装置52よりも紫外線強度の高い紫外線を照射銃54によりスポット径状にしてウエハエッジに照射する。このとき、ウエハエッジ部分の単位面積当たりの紫外線照射量が保護テープPTの貼付け面と均等になるように、制御装置56により紫外線強度と保持テーブル8の回転速度を制御する。
【選択図】図2
Description
前記保護テープ貼付け面と半導体ウエハの周縁部に紫外線を照射し、当該周縁部への紫外線の照射強度を保護テープ貼付け面よりも高くすることを特徴とする。
前記半導体ウエハの外周部位からウエハエッジに向けて紫外線ビームを局所的に照射するとともに、紫外線ビームと半導体ウエハとをウエハ周方向に相対移動させることを特徴とする。
保護テープが貼り付けられた半導体ウエハを載置保持する保持手段と、
載置保持された半導体ウエハの上方から保護テープ表面に紫外線を照射する主紫外線照射手段と、
保護テープの周縁部に、テープ表面に照射した紫外線よりも強度の高い紫外線を照射する補助紫外線照射手段とを備えたことを特徴とする。
前記補助紫外線照射手段を、前記半導体ウエハの外周部位からウエハエッジに向けて強度の高い紫外線ビームを局所的に照射する照射器で構成し、
照射器と半導体ウエハとをウエハ周方向に相対移動させる走査手段を備えたことを特徴とする。
前記照射器と紫外線発生装置とを光ファイバーで接続して構成したことを特徴とする。
前記照射器は、紫外線発光ダイオードで構成したことを特徴とする。
52 … 紫外線発生装置(主紫外線発生装置)
54 … 照射銃(補助紫外線発生装置)
56 … 制御装置
W … 半導体ウエハ
PT … 保護テープ
Claims (6)
- 半導体ウエハの表面に貼り付けられた紫外線硬化型の保護テープを剥離処理する前に、保護テープに紫外線を照射してその接着力を低減する紫外線照射方法において、
前記保護テープ貼付け面と半導体ウエハの周縁部に紫外線を照射し、当該周縁部への紫外線の照射強度を保護テープ貼付け面よりも高くする
ことを特徴とする紫外線照射方法。 - 請求項1に記載の紫外線照射方法において、
前記半導体ウエハの外周部位からウエハエッジに向けて紫外線ビームを局所的に照射するとともに、紫外線ビームと半導体ウエハとをウエハ周方向に相対移動させる
ことを特徴とする紫外線照射方法。 - 半導体ウエハの表面に貼り付けられた紫外線硬化型の保護テープを剥離処理する前に、保護テープに紫外線を照射してその接着力を低減する紫外線照射装置において、
保護テープが貼り付けられた半導体ウエハを載置保持する保持手段と、
載置保持された半導体ウエハの上方から保護テープ表面に紫外線を照射する主紫外線照射手段と、
保護テープの周縁部に、テープ表面に照射した紫外線よりも強度の高い紫外線を照射する補助紫外線照射手段とを備えた
ことを特徴とする紫外線照射装置。 - 請求項3に記載の紫外線照射装置において、
前記補助紫外線照射手段を、前記半導体ウエハの外周部位からウエハエッジに向けて強度の高い紫外線ビームを局所的に照射する照射器で構成し、
照射器と半導体ウエハとをウエハ周方向に相対移動させる走査手段を備えた
ことを特徴とする紫外線照射装置。 - 請求項4に記載の紫外線照射装置において、
前記照射器と紫外線発生装置とを光ファイバーで接続して構成した
ことを特徴とする紫外線照射装置。 - 請求項4に記載の紫外線照射装置において、
前記照射器は、紫外線発光ダイオードで構成した
ことを特徴とする紫外線照射装置。
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Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011091120A (ja) * | 2009-10-20 | 2011-05-06 | Csun Mfg Ltd | ウエハラミネーターリリースフィルム保護機構 |
| JP2011108978A (ja) * | 2009-11-20 | 2011-06-02 | Ushio Inc | 光照射装置 |
| JP2012156418A (ja) * | 2011-01-28 | 2012-08-16 | Lintec Corp | 板状部材の支持装置 |
| WO2022030556A1 (ja) * | 2020-08-07 | 2022-02-10 | 株式会社荏原製作所 | テープ貼り付けシステム、テープ貼り付け方法、テープ剥がしシステム、およびテープ剥がし方法 |
| JP2022044269A (ja) * | 2020-09-07 | 2022-03-17 | 株式会社ディスコ | 紫外線照射装置 |
| JP2023170500A (ja) * | 2022-05-19 | 2023-12-01 | リンテック株式会社 | 電磁波照射装置および電磁波照射方法 |
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Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP5412214B2 (ja) * | 2009-08-31 | 2014-02-12 | 日東電工株式会社 | 保護テープ剥離方法およびその装置 |
| KR102017086B1 (ko) * | 2012-07-27 | 2019-09-03 | 삼성디스플레이 주식회사 | 도너 기판 및 도너 기판을 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
| CN102788322A (zh) * | 2012-08-03 | 2012-11-21 | 无锡爱沃富光电科技有限公司 | Uv灯固定工装 |
| DE102014111744B4 (de) * | 2014-08-18 | 2022-01-05 | Infineon Technologies Ag | Baugruppe zum handhaben eines halbleiterchips und verfahren zum handhaben eines halbleiterchips |
| SG11201704977WA (en) * | 2015-01-14 | 2017-07-28 | Ev Group E Thallner Gmbh | Method and device for detaching a substrate from a substrate stack |
| KR101827479B1 (ko) * | 2016-08-09 | 2018-02-12 | 삼일테크(주) | 칩 분리장치 |
| US10693070B2 (en) * | 2017-08-08 | 2020-06-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Manufacturing method for electroluminescence device |
| CN107576681A (zh) * | 2017-09-11 | 2018-01-12 | 江苏天瑞仪器股份有限公司 | 一种用于具有多准直器设备的遮光部件 |
| KR102516339B1 (ko) * | 2018-04-06 | 2023-03-31 | 삼성전자주식회사 | 광 조사기용 덮개 구조물과 이를 구비하는 광 조사장치 및 이를 이용한 다이 접착 방법 |
| CN111380331A (zh) * | 2018-12-29 | 2020-07-07 | 中国科学院微电子研究所 | 一种微波干燥装置 |
| KR102258149B1 (ko) * | 2020-11-06 | 2021-05-28 | (주) 신신사 | 자외선 조사기에 의한 보호비닐 탈착시스템 |
| CN113960888A (zh) * | 2021-09-16 | 2022-01-21 | 江苏星浪光学仪器有限公司 | 一种用于滤波片的镀膜光刻方法 |
| JP2024136709A (ja) * | 2023-03-24 | 2024-10-04 | 株式会社東芝 | ヒートスタンプ及びヒートスタンプを用いた保護テープの剥離方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0562950A (ja) * | 1991-08-29 | 1993-03-12 | Nitto Denko Corp | 半導体ウエハへの保護テープ貼り付けおよび剥離方法 |
| JPH10233372A (ja) * | 1997-02-19 | 1998-09-02 | Nitto Denko Corp | 紫外線照射装置 |
| JP2006237504A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-07 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体チップ剥離装置およびそれを用いた半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05136248A (ja) * | 1991-11-15 | 1993-06-01 | Hitachi Ltd | 粘着テープの粘着力制御方法および装置 |
| KR100267155B1 (ko) * | 1996-09-13 | 2000-10-16 | 아끼구사 나오유끼 | 반도체 장치의 제조 방법 및 제조 장치 |
| KR101121495B1 (ko) * | 2003-05-12 | 2012-03-15 | 가부시키가이샤 토쿄 세이미쯔 | 판상부재의 분할방법 및 분할장치 |
| JP4592270B2 (ja) * | 2003-10-06 | 2010-12-01 | 日東電工株式会社 | 半導体ウエハの支持材からの剥離方法およびこれを用いた装置 |
| JP2005322683A (ja) * | 2004-05-06 | 2005-11-17 | Dainippon Printing Co Ltd | シート付ウエハの製造方法および製造装置 |
| JP4566195B2 (ja) * | 2004-07-22 | 2010-10-20 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
| JP2009275060A (ja) * | 2008-05-12 | 2009-11-26 | Nitto Denko Corp | 粘着シート、その粘着シートを使用した被着体の加工方法、及び粘着シート剥離装置 |
-
2007
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-
2008
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Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0562950A (ja) * | 1991-08-29 | 1993-03-12 | Nitto Denko Corp | 半導体ウエハへの保護テープ貼り付けおよび剥離方法 |
| JPH10233372A (ja) * | 1997-02-19 | 1998-09-02 | Nitto Denko Corp | 紫外線照射装置 |
| JP2006237504A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-07 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体チップ剥離装置およびそれを用いた半導体装置の製造方法 |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011091120A (ja) * | 2009-10-20 | 2011-05-06 | Csun Mfg Ltd | ウエハラミネーターリリースフィルム保護機構 |
| JP2011108978A (ja) * | 2009-11-20 | 2011-06-02 | Ushio Inc | 光照射装置 |
| JP2012156418A (ja) * | 2011-01-28 | 2012-08-16 | Lintec Corp | 板状部材の支持装置 |
| WO2022030556A1 (ja) * | 2020-08-07 | 2022-02-10 | 株式会社荏原製作所 | テープ貼り付けシステム、テープ貼り付け方法、テープ剥がしシステム、およびテープ剥がし方法 |
| JP2022030877A (ja) * | 2020-08-07 | 2022-02-18 | 株式会社荏原製作所 | テープ貼り付けシステム、テープ貼り付け方法、テープ剥がしシステム、およびテープ剥がし方法 |
| JP7618158B2 (ja) | 2020-08-07 | 2025-01-21 | 株式会社荏原製作所 | テープ貼り付けシステム、テープ貼り付け方法、テープ剥がしシステム、およびテープ剥がし方法 |
| US12564007B2 (en) | 2020-08-07 | 2026-02-24 | Ebara Corporation | Tape sticking system, tape sticking method, tape peeling system, and tape peeling method |
| JP2022044269A (ja) * | 2020-09-07 | 2022-03-17 | 株式会社ディスコ | 紫外線照射装置 |
| JP7584259B2 (ja) | 2020-09-07 | 2024-11-15 | 株式会社ディスコ | 紫外線照射装置 |
| US12288700B2 (en) | 2022-03-21 | 2025-04-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor manufacturing apparatus and method of manufacturing semiconductor device |
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