JP2012136565A - 接着剤 - Google Patents

接着剤 Download PDF

Info

Publication number
JP2012136565A
JP2012136565A JP2010288065A JP2010288065A JP2012136565A JP 2012136565 A JP2012136565 A JP 2012136565A JP 2010288065 A JP2010288065 A JP 2010288065A JP 2010288065 A JP2010288065 A JP 2010288065A JP 2012136565 A JP2012136565 A JP 2012136565A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
adhesive
magnetic field
superparamagnetic particles
superparamagnetic
bonded
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010288065A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5659003B2 (ja
JP2012136565A5 (ja
Inventor
Takayuki Hatta
貴幸 八田
Satomi Fujioka
里美 藤岡
Yasutake Hirota
泰丈 廣田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ferrotec Material Technologies Corp
Original Assignee
Ferrotec Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ferrotec Corp filed Critical Ferrotec Corp
Priority to JP2010288065A priority Critical patent/JP5659003B2/ja
Publication of JP2012136565A publication Critical patent/JP2012136565A/ja
Publication of JP2012136565A5 publication Critical patent/JP2012136565A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5659003B2 publication Critical patent/JP5659003B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Abstract

【課題】接着対象を適切な位置関係で接着できなくなったり、接着対象周辺の美観を損ねてしまったりすることを防止する。
【解決手段】超常磁性粒子それぞれが分散されているため、接着に際して外部から磁場を印加することで、接着剤そのものを磁場の印加領域に保持させたり、磁場の印加領域を変位させることで接着剤そのものを移動させることができる。これにより、接着剤としての粘度を下げても、接着時に外部から磁場を印加しておくことで、重力により接着剤自体が流れる『液だれ』を防止できるため、接着対象を適切な位置関係で接着できなくなったり、接着対象周辺の美観を損ねてしまうことを防止できる。また、接着剤そのものを磁場が印加されている領域と共に移動させることができるため、微細な隙間において接着剤を浸透させるべき方向に磁場を印加することにより、その浸透をより適切かつ迅速に行うことができる。
【選択図】なし

Description

本発明は、接着剤に関する。
近年、微細な隙間に速やかに浸透できるように構成された接着剤として、特定の成分構成からなる接着剤が提案されている(特許文献1参照)。
特開2004−263048号
しかし、上記接着剤においては、微細な隙間への浸透を実現するために、反応性希釈剤を配合して粘度を下げることで浸透性を向上させているため(先行技術文献1の段落0016)、接着対象の位置関係によっては、重力により接着剤自体が流れる『液だれ』が発生してしまい、接着対象を適切な位置関係で接着できなくなったり、接着対象周辺の美観を損ねてしまったりする恐れがある。
本発明は、このような課題を解決するためになされたものであり、その目的は、接着対象を適切な位置関係で接着できなくなったり、接着対象周辺の美観を損ねてしまったりすることを防止するための技術を提供することである。
上記課題を解決するため第1の構成(請求項1)は、複数の超常磁性粒子それぞれを基材中に分散させてなる接着剤であって、前記超常磁性粒子それぞれは、少なくとも、該超常磁性粒子におけるニール緩和時間τnが、あらかじめ定められた交流磁界の周期Tよりも短くなる(τn<T)ように定められた粒径で形成されている。
このように構成された接着剤では、超常磁性粒子それぞれが分散されているため、接着に際して外部から磁場を印加することで、接着剤そのものを磁場が印加されている領域に保持させておいたり、磁場が印加されている領域を変位させることで接着剤そのものを移動させたりすることができる。
これにより、微細な隙間に浸透できるように接着剤としての粘度を下げたとしても、接着時に外部から磁場を印加しておくことで、重力により接着剤自体が流れる『液だれ』を防止できるため、接着対象を適切な位置関係で接着できなくなったり、接着対象周辺の美観を損ねてしまったりするといったことを防止できる。
また、接着剤そのものを磁場が印加されている領域と共に移動させることができるため、微細な隙間において接着剤を浸透させるべき方向に磁場を印加することにより、その浸透をより適切かつ迅速に行うことができる。
さらに、上記構成では、超常磁性粒子それぞれが分散されているため、接着剤として硬化した以降、超常磁性粒子自体の変位、つまりブラウン機構による磁化および消磁が制限される。そのため、超常磁性粒子の磁気応答は、粒子に内在する磁気モーメントの変位、つまりニール機構による磁化および消磁に依存する。
このとき、ニール機構により磁化および消磁するのに要する時間(緩和時間)τは、超常磁性粒子の粒径に応じて遅くなるが、超常磁性粒子それぞれは、少なくとも超常磁性粒子におけるニール緩和時間τnが、あらかじめ定められた交流磁界の周期Tよりも短くなる(τn<T)ように粒径が定められている。つまり、この交流磁界の周期Tが上記緩和時間τよりも短くなることはなく、この周期Tに磁気応答が追いつかなくなることがないため、結果的に磁気ヒステリシスを生じることはない。
よって、接着対象が所定の磁場環境下で使用されるものである場合には、その交流磁界の周期Tに応じて粒径を決定しておくことで、磁気ヒステリシスが生じなくなり、外部に影響を及ぼすような磁束を発生することがない。つまり、上記接着剤であれば、磁場環境下で使用される接着対象であっても使用することができるという点で汎用性が高い。
また、上記構成において、前記超常磁性粒子それぞれは、第2の構成(請求項2)のように、該超常磁性粒子の表面に非磁性のコーティング層が形成されている、とよい。
この構成であれば、超常磁性粒子それぞれに非磁性のコーティング層が形成されているため、この超常磁性粒子それぞれを基材中に分散させた際の両者の親和性を高めることができ、これにより、超常磁性粒子それぞれの位置関係を適切に維持することができる。
超常磁性粒子における粒径と緩和時間との関係を示すグラフ 異なる温度、異方性定数における超常磁性粒子の粒径と緩和時間との関係を示すグラフ
以下に本発明の実施形態を図面と共に説明する。
接着剤は、複数の超常磁性粒子それぞれを分散させてなるものであり、この超常磁性粒子それぞれの粒径は、磁気応答の速度に応じて定められている。
磁気応答は、粒子そのものが反転するブラウン機構、および、粒子における磁気スピンが反転するニール機構それぞれによるものであり、図1に示すように、その速度は、ブラウン機構およびニール機構それぞれにおいて反転が起こる時間(緩和時間)τで決まる。
この緩和時間τは、超常磁性粒子の粒径dに応じて長くなるが、ニール機構による緩和時間τnの方が、ブラウン機構による緩和時間τbに比べて粒径による変動幅が大きく、一定の粒径dthを超えるまで緩和時間τbより小さいが、粒径dthを超えた以降、緩和時間τbより大きくなる。つまり、粒径dthを超えなければ、ブラウン機構よりもニール機構における磁気応答の方が速く、ニール機構による磁気応答が優勢になる一方、粒径dthを超えると、ブラウン機構よりもニール機構による磁気応答の方が遅くなり、ブラウン機構による磁気応答が優勢になる。
また、ニール機構による緩和時間τnは、以下に示す式1により求められるものであり、定数(定数とみなせるものも含む)を除くと、温度T,異方性定数кおよび粒径Rに応じて決まる値になる。
図2に、この式1に基づき、複数の温度T(本実施形態では、―40℃(≒233K)、25℃(≒298K)、130℃(≒403K))それぞれにおける粒径Rに応じた緩和時間τnの変化を表したグラフ(同図(a))と、複数の異方性定数к(本実施形態では、30,41,50,60,70)それぞれにおける粒径Rに応じた緩和時間τnを表したグラフ(同図(b))と、を示す。なお、この例では、超常磁性粒子として酸化鉄系の材料を使用した場合における基準緩和時間τ0として10^(−9)secを使用している。
このグラフをみると、温度Tが高くなるほど、または、異方性定数кが小さくなるほど、同じ粒径Rに対する磁気応答(周波数応答)の性能が悪化することが分かる。また、粒径Rがある程度小さい領域になると、温度Tおよび異方性定数кの違いによる影響が少なくなっているため、この領域の粒径Rを採用すれば、外部環境の温度Tや異方性定数кこれらファクターの影響を受けないようにすることができる。
このような特性に照らし、本実施形態では、少なくとも、超常磁性粒子におけるニール緩和時間τnが、接着対象が使用される環境下(つまり接着剤としての硬化後)で印加される交流磁界の周期Tよりも短くなる(τn<T)ように超常磁性粒子の粒径が定められている。
また、超常磁性粒子それぞれは、接着剤としての硬化後、ブラウン機構による変位が制限(本実施形態では、抑止)されるように保持され、それぞれが直接または間接的に密着することになる。ここでいう「間接的に密着」とは、超常磁性粒子表面に被膜を形成したり、何らかの媒体を介在させた状態での密着のことである。
また、接着剤としての基材には、非磁性の部材として、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、シアノアクリレート樹脂などが用いられる。
なお、超常磁性粒子それぞれは、隣接する超常磁性粒子における超常磁性の特性を所定のしきい値以上損なってしまうことのない位置関係となっていればよく、その位置関係が維持される濃度を上限として基材中に分散さる。
こうして、超常磁性粒子を基材中に分散させる場合には、各超常磁性粒子の表面に非磁性のコーティング層を形成するなどの表面処理を施しておくことが、超常磁性粒子と基材との親和性を高めて安定的な分散を実現するために望ましい。このコーティング層としては、界面活性剤、酸化被膜、有機材料または非磁性の無機材料などを採用することが考えられる。
上記実施形態のような構成の接着剤では、超常磁性粒子それぞれが分散されているため、接着に際して外部から磁場を印加することで、接着剤そのものを磁場が印加されている領域に保持させておいたり、磁場が印加されている領域を変位させることで接着剤そのものを移動させたりすることができる。
これにより、微細な隙間に浸透できるように接着剤としての粘度を下げたとしても、接着時に外部から磁場を印加しておくことで、重力により接着剤自体が流れる『液だれ』を防止できるため、接着対象を適切な位置関係で接着できなくなったり、接着対象周辺の美観を損ねてしまったりするといったことを防止できる。
また、接着剤そのものを磁場が印加されている領域と共に移動させることができるため、微細な隙間において接着剤を浸透させるべき方向に磁場を印加することにより、その浸透をより適切かつ迅速に行うことができる。
さらに、上記構成では、超常磁性粒子それぞれが分散されているため、接着剤として硬化した以降、超常磁性粒子自体の変位、つまりブラウン機構による磁化および消磁が制限される。そのため、超常磁性粒子の磁気応答は、粒子に内在する磁気モーメントの変位、つまりニール機構による磁化および消磁に依存する。
このとき、ニール機構により磁化および消磁するのに要する時間(緩和時間)τは、超常磁性粒子の粒径に応じて遅くなるが、超常磁性粒子それぞれは、少なくとも超常磁性粒子におけるニール緩和時間τnが、あらかじめ定められた交流磁界の周期Tよりも短くなる(τn<T)ように粒径が定められている。つまり、この交流磁界の周期Tが上記緩和時間τよりも短くなることはなく、この周期Tに磁気応答が追いつかなくなることがないため、結果的に磁気ヒステリシスを生じることはない。
よって、接着対象が所定の磁場環境下で使用されるものである場合には、その交流磁界の周期Tに応じて粒径を決定しておくことで、磁気ヒステリシスが生じなくなり、外部に影響を及ぼすような磁束を発生することがない。つまり、上記接着剤であれば、磁場環境下で使用される接着対象であっても使用することができるという点で汎用性が高い。
また、上記実施形態では、超常磁性粒子それぞれに非磁性のコーティング層が形成されているため、この超常磁性粒子それぞれを基材中に分散させた際の両者の親和性を高めることができ、これにより、超常磁性粒子それぞれの位置関係を適切に維持することができる。

Claims (2)

  1. 複数の超常磁性粒子それぞれを基材中に分散させてなる接着剤であって、
    前記超常磁性粒子それぞれは、少なくとも、該超常磁性粒子におけるニール緩和時間τnが、あらかじめ定められた交流磁界の周期Tよりも短くなる(τn<T)ように定められた粒径で形成されている
    ことを特徴とする接着剤。
  2. 前記超常磁性粒子それぞれは、該超常磁性粒子の表面に非磁性のコーティング層が形成されている
    ことを特徴とする請求項1に記載の接着剤。
JP2010288065A 2010-12-24 2010-12-24 接着剤 Active JP5659003B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010288065A JP5659003B2 (ja) 2010-12-24 2010-12-24 接着剤

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010288065A JP5659003B2 (ja) 2010-12-24 2010-12-24 接着剤

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2012136565A true JP2012136565A (ja) 2012-07-19
JP2012136565A5 JP2012136565A5 (ja) 2014-01-09
JP5659003B2 JP5659003B2 (ja) 2015-01-28

Family

ID=46674256

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010288065A Active JP5659003B2 (ja) 2010-12-24 2010-12-24 接着剤

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5659003B2 (ja)

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61233074A (ja) * 1985-04-08 1986-10-17 Mazda Motor Corp 金属板接合部の隙間充填方法
JPH03252108A (ja) * 1990-02-28 1991-11-11 Tabuchi Denki Kk 磁性流体接着剤、その製造方法、使用方法および誘導電磁器
JPH0423893A (ja) * 1990-05-16 1992-01-28 Matsumoto Yushi Seiyaku Co Ltd 重合性磁性流体
JPH08508610A (ja) * 1994-01-27 1996-09-10 ロックタイト(アイルランド)リミテッド 2つの導体セットの間に異方性電導性の通路及び結合体を提供する組成物と方法
JP2005531928A (ja) * 2002-06-28 2005-10-20 モトローラ・インコーポレイテッド 磁性体を含む電子回路の磁気遮蔽
JP2005534720A (ja) * 2001-12-21 2005-11-17 ズステック・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト ナノ粒状調剤
JP2008231405A (ja) * 2007-03-19 2008-10-02 Toray Saehan Inc 異方性導電フィルム及びその接着方法
JP2009526879A (ja) * 2006-02-16 2009-07-23 エボニック レーム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ナノスケールの超常磁性ポリ(メタ)アクリラートポリマー
WO2009122511A1 (ja) * 2008-03-31 2009-10-08 株式会社フォスメガ 画像形成方法
JP2011119661A (ja) * 2009-11-09 2011-06-16 Ferrotec Corp 磁性部材および電子部品

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61233074A (ja) * 1985-04-08 1986-10-17 Mazda Motor Corp 金属板接合部の隙間充填方法
JPH03252108A (ja) * 1990-02-28 1991-11-11 Tabuchi Denki Kk 磁性流体接着剤、その製造方法、使用方法および誘導電磁器
JPH0423893A (ja) * 1990-05-16 1992-01-28 Matsumoto Yushi Seiyaku Co Ltd 重合性磁性流体
JPH08508610A (ja) * 1994-01-27 1996-09-10 ロックタイト(アイルランド)リミテッド 2つの導体セットの間に異方性電導性の通路及び結合体を提供する組成物と方法
JP2005534720A (ja) * 2001-12-21 2005-11-17 ズステック・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト ナノ粒状調剤
JP2005531928A (ja) * 2002-06-28 2005-10-20 モトローラ・インコーポレイテッド 磁性体を含む電子回路の磁気遮蔽
JP2009526879A (ja) * 2006-02-16 2009-07-23 エボニック レーム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ナノスケールの超常磁性ポリ(メタ)アクリラートポリマー
JP2008231405A (ja) * 2007-03-19 2008-10-02 Toray Saehan Inc 異方性導電フィルム及びその接着方法
WO2009122511A1 (ja) * 2008-03-31 2009-10-08 株式会社フォスメガ 画像形成方法
JP2011119661A (ja) * 2009-11-09 2011-06-16 Ferrotec Corp 磁性部材および電子部品

Also Published As

Publication number Publication date
JP5659003B2 (ja) 2015-01-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5765907B2 (ja) 磁性部材および電子部品
JP2019525851A5 (ja)
CN105552089B (zh) 基板结构及其柔性基板的贴附方法、剥离方法
EP1973119A3 (en) Anisotropic conductive film and adhesion method thereof
WO2011149274A3 (ko) 자기적으로 연결되고 수직 자기 이방성을 갖도록 하는 비정질 버퍼층을 가지는 자기 터널 접합 소자
RU2018145679A (ru) Способы получения слоев с эффектом
WO2008050045A3 (fr) Dispositif magnetique a aimantation perpendiculaire et a couche intercalaire compensatrice d'interactions
CN205451694U (zh) 柔性显示器及柔性基板载台装置
KR102137510B1 (ko) 정전척
WO2017137796A8 (ja) 接着性樹脂組成物、被着体接着方法、及び接着性樹脂フィルム
US20200299821A1 (en) Vapor deposition mask, method for producing vapor deposition mask, and method for producing organic semiconductor element
JP2018009049A5 (ja)
EP4435152A3 (en) Structures and methods for low temperature bonding
EP3466992A4 (en) RESIN COMPOSITION, LAMINATE, SEMICONDUCTOR WITH RESIN COMPOSITE LAYER, SUBSTRATE FOR ASSEMBLING A SEMICONDUCTOR WITH RESIN COMPOSITE LAYER AND SEMICONDUCTOR COMPONENT
JP5659003B2 (ja) 接着剤
WO2009014115A1 (ja) 電子部品用接着剤、半導体チップの積層方法及び半導体装置
KR102167222B1 (ko) 경화성 조성물
CN103426365B (zh) 可携式显示设备和组装该可携式显示设备的方法
MY172588A (en) Manufacturing method for magnetic recording medium and magnetic recording medium manufactured by said manufacturing method
PH12019501192A1 (en) Joining film and tape for wafer processing
CN112239569B (zh) 磁流变弹性体
WO2014093816A3 (en) Magnetically polarized photonic device
US20200024492A1 (en) Using magnetic fields to increase the bonding area of an adhesive joint
WO2014201900A1 (zh) 磁性挂钩
JP5490843B2 (ja) 低いヒステリシス特性を有する電空変換器

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131118

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20131209

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140421

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140513

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140707

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140819

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20141001

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20141111

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20141201

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5659003

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250