JP2012148228A - 流動層装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】粉粒体2を浮遊流動させながら被覆処理するための処理容器3、処理容器内に処理液を噴霧するために処理容器に設けられた処理液噴霧装置6、粉粒体を浮遊流動させるために処理容器に設けられた流動用ガス供給口7、および処理容器から排出された処理液中の有機溶媒を燃焼させて処理材を焼結するために処理容器の後流路に設けられた燃焼装置8を備えてなる流動層装置1。
【選択図】図3
Description
例えば、特許文献1には、流動層容器内で粉粒体を気体により浮遊流動させながら被覆処理を行う流動層装置において、流動層容器に、粉粒体の処理を行う処理室と、該処理室の上方に位置し、固気分離用のフィルター部が配され、該フィルター部を昇降移動させるフィルター昇降機構が設けられている流動層装置が記載されている。そして、具体例として処理材を含むスプレー液を噴霧して流動気体による浮遊流動下に粉粒体を被覆処理し、排気ダクトを通って液の蒸気および気体を外部にそのまま排気した例が示されているが、スプレー液中の有機溶媒を回収した例は示されていない。
1)前記燃焼装置が、有機溶媒蒸気に着火させるための着火源および有機溶媒が燃焼して生じる炎を閉じ込めるための火炎制御装置を備えてなる前記流動層装置。
2)前記流動用ガス供給口が不活性ガス供給口であり、前記燃焼装置が前記着火源である燃焼触媒層、有機溶媒蒸気を燃焼させるために必要な空気又は酸素を供給する支燃ガス供給装置、および燃焼温度を測定するための熱電対を備えてなる前記流動層装置。
3)前記流動用ガス供給口が不活性ガス供給口であり、前記燃焼装置が前記着火源である放電装置、有機溶媒蒸気を燃焼させるために必要な空気又は酸素を供給する支燃ガス供給装置、燃焼温度を測定するための熱電対、および有機溶媒が燃焼して生じる炎を一定領域に閉じ込めるための火炎制御装置を備えてなる前記流動層装置。
5)前記処理容器が、固体電池用活物質粒子にリチウムイオン伝導体を被覆するためのものである前記流動層装置。
従来の流動層装置10は、図1に示すように、粉粒体2を浮遊流動させながら被覆処理するための処理容器3、該処理容器内の底部に設けられて粉粒体2を回転させるために水平回転する回転盤4と該処理容器の下部に設けられて回転盤を回転駆動するモーターなどの回転盤駆動手段5、処理容器内に処理液を噴霧するために処理容器に設けられた処理液噴霧装置6、粉粒体2を浮遊流動させるために処理容器の下方に設けられた流動用ガス導入口7、処理された粉粒体の系外への排出を防止するためのフィルター30および気体排出口40を備えてなるものである。
また、このようにして被覆処理された粉粒体はそのままでは最終製品に適用できない場合があり、図2に示すように、焼結炉に入れて粉粒体に被覆された処理材を焼結される。その際、粉粒体を堆積して高温での焼結が行われるため、堆積物の内部と表面とでは温度にむらが生じ、得られる粉粒体に品質の均一性が確保されない場合がある。
前記第1の実施態様においては回転盤4と回転盤駆動手段5とを備えているが、流動用ガスのみによって粉粒体を浮遊流動させることも可能である。
また、本発明における流動用ガスとしては、特に制限はなく、不活性ガス、例えば窒素や空気、酸素などが挙げられる。
また、本発明における処理液の噴霧装置としては、一般的な液送ポンプと噴霧ノズルを組み合わせて使用し得る。
また、本発明の処理液噴霧装置に用いる気体(ガス)としては、処理液を噴霧させるために通常は噴出用ガス、例えば窒素などの不活性ガス又は空気が用いられる。
また、本発明において、前記処理容器への粉粒体の導入は、バッチ式に処理前に処理容器内に一度に加えられてもよくあるいは、粉粒体導入口(図示せず)を介して連続的又は逐次的に処理容器内に加えてもよい。前記の粉粒体をバッチ式に処理前に処理容器内に一度に加える場合、処理容器としては開閉可能な構造を有している必要があり、開閉部はシーリング部材、例えばオーリングによって処理容器の上部と下部とが粒体導入後は密閉され得る。
また、燃焼触媒層には、少なくとも1ヶ所に熱電対23が設置され、燃焼温度を測定する。
また、前記支燃ガス供給装置には、通常高い精度で支燃ガスを供給するためにマスフローコントローラが備えられ得る。
また、前記火炎制御装置としては、熱を奪うために高熱伝導性のステンレス等の金属で作製され、一般的にフレームアレスタ又は逆火防止装置と呼ばれるフィルター付の弁が挙げられる。前記フレームアレスタは通常着火源の前後に備えられ、炎は燃焼域内に閉じ込められる。フレームアレスタによって、運転状態が非定常状態となって大きな炎が形成されても、燃焼による炎が出口あるいは処理容器側に噴き出ることを防止し得る。
前記の後流路20の火炎制御装置の後の位置に、必要であればクーラーなどを設けて排出される粉粒体および気体を室温まで冷却してもよい。
前記の放電装置31としては、パルス放電や連続放電などが用いられ得る。
そして、前記支燃ガス供給装置には、通常高い精度で支燃ガスを供給するためにマスフローコントローラが備えられ得る。
そして、前記不活性ガス供給装置には、通常高い精度で不活性ガスを供給するためにマスフローコントローラが備えられ得る。
本発明の第4実施態様の流動層装置によれば、不活性ガスの使用量を大幅に低減し得るので特に好適である。
特に、熱電対で温度測定し、支燃ガス流量又は不活性ガス流量、特に支燃ガス流量にフィードバックすることにより、安定した燃焼温度を維持することが可能となり、品質の安定した焼結粉粒体を得ることができる。
2 粉粒体
3 処理容器
4 回転盤
5 回転盤駆動手段
6 処理液噴霧装置
7 流動用ガス導入口
8 燃焼装置
10 従来の流動層装置
20 後流路
21、41 燃焼触媒層
22、32 支燃ガス供給装置
23、33、43 熱電対
24、34、44 火炎制御装置
30 フィルター
31 放電装置
40 焼結粉粒体回収容器
41 不活性ガス供給装置
50 気体排出口
60 処理液貯蔵槽
Claims (6)
- 粉粒体を浮遊流動させながら被覆処理するための処理容器、処理容器内に処理液を噴霧するために処理容器に設けられた処理液噴霧装置、粉粒体を浮遊流動させるために処理容器に設けられた流動用ガス供給口、および処理容器から排出された処理液中の有機溶媒を燃焼させて処理材を焼結するために処理容器の後流路に設けられた燃焼装置を備えてなる流動層装置。
- 前記燃焼装置が、着火源および有機溶媒が燃焼して生じる炎を閉じ込めるための火炎制御装置を備えてなる請求項1に記載の流動層装置。
- 前記流動用ガス供給口が不活性ガス供給口であり、前記燃焼装置が前記着火源である燃焼触媒層、有機溶媒蒸気を燃焼させるために必要な空気又は酸素を供給する支燃ガス供給装置、および燃焼温度を測定するための熱電対を備えてなる請求項2に記載の流動層装置。
- 前記流動用ガス供給口が不活性ガス供給口であり、前記燃焼装置が前記着火源である放電装置、有機溶媒蒸気を燃焼させるために必要な空気又は酸素を供給する支燃ガス供給装置、燃焼温度を測定するための熱電対、および有機溶媒が燃焼して生じる炎を一定領域に閉じ込めるための火炎制御装置を備えてなる請求項1又は2に記載の流動層装置。
- 前記流動用ガス供給口が空気又は酸素供給口であり、前記燃焼装置が前記着火源である燃焼触媒層、燃焼温度が過度に上昇しないように制御するための不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置、燃焼温度を測定するための熱電対、および有機溶媒が燃焼して生じる炎を一定領域に閉じ込めるための火炎制御装置を備えてなる請求項1又は2に記載の流動層装置。
- 前記処理容器が、固体電池用活物質粒子にリチウムイオン伝導体を被覆するためのものである請求項1〜5のいずれか1項に記載の流動層装置。
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