JP2012155190A - 光導波路の製造方法及びそれにより得られる光導波路、並びに光電気複合基板の製造方法及びそれにより得られる光電気複合基板 - Google Patents

Abstract

【課題】コアパタンの視認性を向上させた光導波路及び光電気複合基板の製造方法と、それらにより得られる光導波路及び光電気複合基板を提供する。
【解決手段】本発明は、略直方体形状の発色性のクラッド層１０、及び該発色性のクラッド層１０の上面又は下面に搭載された略直方体形状のコア層３０からなる略直方体形状部材を形成する第１の工程と、該略直方体形状部材の上面と側面を覆う上部クラッド層４０を形成する第２の工程とを含むことを特徴とする光導波路１及び光電気複合基板の製造方法、並びに、その方法によって製造されてなる光導波路１及び光電気複合基板である。
【選択図】図１

Description

本発明は、光導波路のコアパタンと同一パタンの発色性のクラッド層を有し、コアパタンを視認することが容易な光導波路又は光電気複合基板に関するものである。

情報容量の増大に伴い、幹線やアクセス系といった通信分野のみならず、ルータやサーバ内の情報処理にも光信号を用いる光インターコネクション技術の開発が進められている。具体的には、ルータやサーバ装置内のボード間あるいはボード内の短距離信号伝送に光を用いるために、電気配線板に光伝送路を複合した光電気複合基板の開発がなされている。光伝送路としては、光ファイバーに比べ、配線の自由度が高く、かつ高密度化が可能な光導波路を用いることが望ましく、中でも、加工性や経済性に優れたポリマー材料を用いた光導波路が有望である。

この光導波路としては、例えば、特許文献１に記載されているように下部クラッド上にコアパタン、上部クラッドを順次形成されてなる光導波路があった。しかし、このような製造方法による光導波路は、コアパタン、クラッド共に、どちらも光を良く通す目的があり透明な材料であることが多いため、実際に光導波路として、作製、加工を行う際にコアパタンがどこにあるのかの識別が非常に困難であった。このために導波路製造作業を行うときに、作業性が悪いという欠点があった。また、出来上がった光導波路に光ファイバーや半導体レーザーなどを接続させる際や各種光学素子を実装する際にも、コアがどこにあるのか判らず、非常に作業しにくいという欠点があった。
このような問題点を解決するための方法として、特許文献２に記載されているようにクラッドやコアの一方又は両方に着色する方法がある。しかし、この方法では、クラッドに着色した場合、コアパタンが有る部分と無い部分のクラッド厚み差による色の濃淡で見分ける必要があり、はっきりと境界部分を識別することが困難であった。また、コアに着色した場合には、着色された部分が光信号の導波部分であるため光伝搬損失の低下が懸念される。

特開２００４−３４１４５４ 特開平８−７５９３８

本発明は、前記の課題を解決するためなされたもので、コアパタンの視認性を向上させた光導波路及び光電気複合基板の製造方法と、それらにより得られる光導波路及び光電気複合基板を提供することを目的とする。

本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、発色するクラッド層をコアパタンの上下いずれかに配置することで、上記の課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
[１]略直方体形状の発色性のクラッド層、及び該発色性のクラッド層の上面又は下面に搭載された略直方体形状のコア層からなる略直方体形状部材を形成する第１の工程と、該略直方体形状部材の上面と側面を覆う上部クラッド層を形成する第２の工程とを含むことを特徴とする光導波路の製造方法、
[２]前記発色性のクラッド層が、１層以上の多層膜であり、該多層膜の少なくとも１層以上が発色性を有することを特徴とする[１]に記載の光導波路の製造方法、
[３]前記第１の工程が、基材上に感光性の前記発色性のクラッド層と感光性の前記コア層とを積層する工程（Ａ）と、工程（Ａ）の後、該発色性のクラッド層及び該コア層を同時にパタン露光し、次いで、該発色性のクラッド層の硬化していない部分及び該コア層の硬化していない部分を現像除去することによって、パタン化された該発色性のクラッド層及びパタン化された該コア層からなる前記略直方体形状部材を形成する工程（Ｂ）とを含むことを特徴とする[２]に記載の光導波路の製造方法。
[４]前記基材上に前記発色性のクラッド層を、接着層を介して積層することを特徴とする[３]に記載の光導波路の製造方法。
[５]前記第１の工程が、基材上に下部クラッド層を形成し、該下部クラッド層上に、感光性の前記コア層と感光性の前記発色性のクラッド層とを積層する工程（Ｃ）と、工程（Ｃ）の後、該発色性のクラッド層及び該コア層を同時にパタン露光し、次いで、該発色性のクラッド層の硬化していない部分及び該コア層の硬化していない部分を現像除去することによって、パタン化された該発色性のクラッド層及びパタン化された該コア層からなる前記略直方体形状部材を形成する工程（Ｄ）とを含むことを特徴とする[１]又は[２]に記載の光導波路の製造方法。
[６]前記第２の工程が、前記工程（Ｂ）又は（Ｄ）の後に、パタン化された前記略直方体形状部材側から前記上部クラッド層を積層する工程（Ｅ）を含むことを特徴とする[３]又は[５]に記載の光導波路の製造方法、
[７]前記第２の工程が、前記工程（Ｅ）後に、前記上部クラッド層をパタン露光してパタン化された該上部クラッド層を形成する工程（Ｆ）を含むことを特徴とする[６]に記載の光導波路の製造方法、
[８] [１]〜[７]のいずれかに記載の方法によって製造されてなる光導波路、
[９]前記光導波路が、光路変換ミラーを有してなる[８]に記載の光導波路、
[１０]電気配線板上に略直方体形状の発色性のクラッド層、及び該発色性のクラッド層の上面又は下面に搭載された略直方体形状のコア層からなる略直方体形状部材を形成する第１の工程と、該直方体形状部材の上面と側面を覆う上部クラッド層を形成する第２の工程とを含むことを特徴とする光電気複合基板の製造方法、
[１１]前記発色性のクラッド層が、１層以上の多層膜であり、該多層膜の少なくとも１層以上が発色性を有することを特徴とする[１０]に記載の光電気複合基板の製造方法、
[１２]前記第１の工程が、前記電気配線板上に感光性の前記発色性のクラッド層と感光性の前記コア層とを積層する工程（Ａ^*）と、工程（Ａ^*）の後、該発色性のクラッド層及び該コア層を同時にパタン露光し、次いで、該発色性のクラッド層の硬化していない部分及び該コア層の硬化していない部分を現像除去することによって、パタン化された該発色性のクラッド層及びパタン化された該コア層からなる前記略直方体形状部材を形成する工程（Ｂ^*）とを含むことを特徴とする[１０]に記載の光電気複合基板の製造方法、
[１３]前記電気配線板上に前記発色性のクラッド層を、接着層を介して積層することを特徴とする[１２]に記載の光電気複合基板の製造方法、
[１４]前記第１の工程が、前記電気配線板上に下部クラッド層を形成し、該下部クラッド層上に、感光性の前記コア層と感光性の前記発色性のクラッド層とを積層する工程（Ｃ^*）と、工程（Ｃ^*）の後、該発色性のクラッド層及び該コア層を同時にパタン露光し、次いで、該発色性のクラッド層の硬化していない部分及び該コア層の硬化していない部分を現像除去することによって、パタン化された該発色性のクラッド層及びパタン化された該コア層からなる前記略直方体形状部材を形成する工程（Ｄ^*）とを含むことを特徴とする[１０]に記載の光電気複合基板の製造方法、
[１５]前記第２の工程が、前記工程（Ｂ^*）又は（Ｄ^*）の後に、パタン化された前記コア層側から前記上部クラッド層を積層する工程（Ｅ^*）を含むことを特徴とする[１２]又は[１４]に記載の光電気複合基板の製造方法、
[１６]前記第２の工程が、前記工程（Ｂ^*）又は（Ｄ^*）の後に、パタン化された前記略直方体形状部材側から前記上部クラッド層を積層する工程（Ｅ^*）を含むことを特徴とする[１２]又は[１４]に記載の光電気複合基板の製造方法、
[１７] 前記第２の工程が、前記工程（Ｅ^*）後に、前記上部クラッド層をパタン露光してパタン化された該上部クラッド層を形成する工程（Ｆ^*）を含むことを特徴とする[１５]又は[１６]に記載の光導波路の製造方法、
[１８] [８]又は[９]に記載の光導波路と電気配線板とが複合化されてなる光電気複合基板、
[１９] [１２]〜[１７]のいずれかに記載の方法によって製造されてなる光電気複合基板、
[２０]前記光電気複合基板が、光路変換ミラーを有してなる[１９]に記載の光電気複合基板を提供するものである。

本発明の製造方法により、パタン化されたコア層の上下いずれかに発色性のクラッド層を有し、該クラッド層の発色によってコアパタンの位置を視認しやすい光導波路及び光電気複合基板が得られる。

本発明の光導波路の製造方法の一例を説明する図である。 本発明の光電気複合基板の製造方法の一例を説明する図である。 本発明の光導波路の製造方法の他の一例を説明する図である。

本発明の光導波路の製造方法は、略直方体形状の発色性のクラッド層、及び該発色性のクラッド層の上面又は下面に搭載された略直方体形状のコア層からなる略直方体形状部材を形成する第１の工程と、該略直方体形状部材の上面と側面を覆う上部クラッド層を形成する第２の工程とを含むことを特徴とする。
ここで、略直方体とは、「垂直断面が長方形又は台形の直方体」をいう。なお、立方形は長方形の特殊な形状をいい、長方形に含まれる。また、露光量や現像条件等によって、垂直断面における長方形の左右の辺又は台形の斜辺が曲線となる場合や、長方形又は台形の角が丸くなる場合もありえるが、この場合も広義に略直方体とする。さらに、コアパタンや下部クラッドパタンの厚みや幅が部分的に異なる場合でも、配線形成面に対して垂直且つ配線方向に対して垂直な断面が長方形又は台形であるため広義に略直方体とする。
また、発色とは、電磁放射線を物質が吸収することによって色を発現する現象のこととする。吸収した電磁放射線の光放出による発光でも、電磁放射線の一部を吸収し、吸収波長の補色に呈色しても、又はそれらの複合した場合でも良い。
発色の波長は検出可能な波長であればどの波長でも良く、紫外線から赤外線の範囲の電磁放射線であると良い。また、発色性のクラッド材が、照射した電磁放射線の全波長を吸収する場合は、発色性のクラッド材の周囲が、紫外線から赤外線の範囲の電磁放射線で発色すれば黒色の発色性のクラッド材を視認することができる。この場合、発色性のクラッド材が黒色に発色するとする。
さらに発色性のクラッド層という場合、発色性のクラッドパタンとその周囲の下部クラッド、上部クラッド、基材、電気配線板、接着層と識別できるクラッド層のことを指すこととする。

（光導波路及び光電気複合基板）
本発明の光導波路及び光電気複合基板の製造方法によって得られる光導波路及び光電気複合基板を説明する。
本発明により製造される光導波路１は、例えば、図１（ｄ）や図３（ｄ）に示すように、発色性を持たせるために発色剤を含有させたクラッド１１がコアパタン３１と同一パタンに形成されたものであり、図１（ｆ）や図３（ｅ）のようにパタン化された上部クラッド層４１を有したものや接着層７０を有したものであっても良い。また、本発明により製造される光電気複合基板２は、電気配線板６０と光導波路を複合化されたもので電気配線板６０上に光導波路１をビルドアップ形成したものである。更には図２（ｉ）に示すように電気配線板６０上に接着層７０を形成し、その上に、光導波路を形成したものであっても良く、接着層７０はクラッド層形成用材料を用いても良い。

光導波路の製造方法の第１工程
本発明の光導波路１の製造方法に係る第１工程は、基材５０上に感光性の前記発色性のクラッド層１０と感光性の前記コア層３０とを積層する工程（Ａ）と、工程（Ａ）の後、該発色性のクラッド層１０及び該コア層３０を同時にパタン露光し、次いで、該発色性の下部クラッド層１０の硬化していない部分及び該コア層３０の硬化していない部分を現像除去することによって、パタン化された該発色性のクラッド層１１及びパタン化された該コア層３１からなる前記略直方体形状部材を形成する工程（Ｂ）とを含むこと、又は基材５０上に下部クラッド層を形成し、該下部クラッド層上に、感光性の前記コア層３０と感光性の前記発色性のクラッド層１０とを積層する工程（Ｃ）と、工程（Ｃ）の後、該発色性のクラッド層１０及び該コア層３０を同時にパタン露光し、次いで、該発色性のクラッド層１０の硬化していない部分及び該コア層３０の硬化していない部分を現像除去することによって、パタン化された該発色性のクラッド層１１及びパタン化された該コア層３１からなる前記略直方体形状部材を形成する工程（Ｄ）とを含むことが好ましい。
また、必要に応じ、工程（Ａ）において、前記基材５０上に前記発色性のクラッド層１０を、接着層７０を介して積層しても良い。
以下、パタン化された発色性のクラッド層を「発色性のクラッドパタン」といい、パタン化されたコア層を「コアパタン」という。

光導波路の製造方法の第２工程
本発明に係る第１工程に続く第２工程は、前記第１工程中の工程（Ｂ）又は工程（Ｄ）の後に、前記コアパタン３１及び発色性のクラッドパタン１１からなる略直方体形状部材側から前記上部クラッド層４０を積層する工程（Ｅ）を含むことが好ましく、この工程（Ｅ）後に、前記上部クラッド層を全面露光して露光後の上部クラッド層を形成する工程（Ｆ₁）及び前記上部クラッド層をパタン露光してパタン化された該上部クラッド層を形成する工程（Ｆ₂）のいずれかの工程（Ｆ）を含むことがさらに好ましい。
以下、パタン化された上部クラッド層を「上部クラッドパタン」という。

本発明の光導波路の製造方法の各工程を、以下、図面に基づいて説明する。図１は、本発明の光導波路１の製造方法の一例を説明する図である。
工程（Ａ）
まず、図１（ａ）に示すように、基材５０となるキャリアフィルム５１の上面に所望により接着層７０となる接着補助クラッド７１を積層する。このとき接着層７０付きの基材５０を用いても良い。次に、接着補助クラッド７１の上面に発色性のクラッド層１０を積層する（図１（ｂ））。但し、キャリアフィルム５１と発色性のクラッド層１０に十分な接着性がある場合には、キャリアフィルム５１の上面に発色性のクラッド層１０を直接積層しても良い。発色性のクラッド層１０の積層方法は、特に限定されず公知の方法によれば良く、例えば、発色性のクラッド層１０形成用樹脂組成物の塗布又は発色性のクラッド層１０形成用樹脂フィルムのラミネートにより形成すれば良い。
次いで、図１（ｃ）に示すように、発色性のクラッド層１０の上面にコア層３０を積層する。コア層３０の積層方法は、特に限定されず公知の方法によれば良い。
工程（Ａ）の好ましい方法としては、例えば、発色性のクラッド層１０の形成材料をスピンコート等により基材５０又は接着層７０上に塗布し、プリベイクを行った後、発色性のクラッド層１０の上面にコア層３０の形成材料をスピンコート等によって塗布することにより形成できる。
また、発色性のクラッド層１０形成用樹脂フィルムとコア層３０形成用樹脂フィルム同士をラミネート等により貼り合わせて形成後、基材５０又は接着層７０の上面に貼り合わせたり、基材５０又は接着層７０の上面に発色性のクラッド層１０形成用樹脂フィルムとコア層３０形成用樹脂フィルムを順次貼り合わせたりしても良い。ここで、ラミネートに用いる発色性のクラッド層１０形成用樹脂フィルムの形成方法としては、例えば、発色性のクラッド層形成用樹脂組成物を溶媒に溶解して、キャリアフィルム５１に塗布し、溶媒を除去することにより容易に製造することができる。ラミネートに用いるコア層３０形成用樹脂フィルムも同様にコア層３０形成用樹脂組成物を溶媒に溶解して、キャリアフィルム５１に塗布し、溶媒を除去することにより容易に製造することができる。

工程（Ｂ）
次に、得られた発色性のクラッド層１０とコア層３０との積層体を同時にパタン露光し、次いで、発色性のクラッド層１０の硬化していない部分及びコア層３０の硬化していない部分を現像除去して、図１（ｄ）に示す、発色性のクラッドパタン１１付のパタン化されたコア層（コアパタン）３１からなる略直方体形状部材を形成する。
基材５０上に接着層７０として接着補助クラッド層７１を用いる場合は、通常、接着補助クラッド層７１はパタン露光されることなく基材５０上に残されるが、必要に応じてパタン露光しても良い。

工程（Ｃ）
まず、基材５０となるキャリアフィルム５１の上面に下部クラッド層２０を積層し、硬化する。このときの下部クラッド層２０は接着補助クラッド層７１を用いても良い。通常、この下部クラッド層２０はパタン露光されることなく基材５０上に残されるが、必要に応じてパタン露光し、下部クラッドパタンとしても良い。
次に、下部クラッド層２０の上面にコア層３０を積層する。コア層の積層方法は、特に限定されず公知の方法によれば良く、例えば、コア層３０形成用樹脂組成物の塗布又はコア層３０形成用樹脂フィルムのラミネートにより形成すれば良い。
次いで、コア層３０の上面に発色性のクラッド層１０を積層する。発色性のクラッド層１０の積層方法は、特に限定されず公知の方法によれば良い。
工程（Ｃ）の好ましい方法としては、例えば、コア層３０の形成材料をスピンコート等により下部クラッド層２０上に塗布し、プリベイクを行った後、コア層３０の上面に発色性のクラッド層１０の形成材料をスピンコート等によって塗布することにより形成できる。
また、発色性のクラッド層１０形成用樹脂フィルムとコア層３０形成用樹脂フィルム同士をラミネート等により貼り合わせて形成後、コア層３０側から下部クラッド層２０の上面に貼り合わせたり、下部クラッド層２０の上面にコア層３０形成用樹脂フィルムと発色性のクラッド層１０形成用樹脂フィルムを順次貼り合わせたりしても良い。ここで、ラミネートに用いる発色性のクラッド層１０形成用樹脂フィルム例えば、発色性のクラッド層１０形成用樹脂組成物を溶媒に溶解して、キャリアフィルム５１に塗布し、溶媒を除去することにより容易に製造することができる。ラミネートに用いるコア層３０形成用樹脂フィルムも同様にコア層３０形成用樹脂組成物を溶媒に溶解して、キャリアフィルム５１に塗布し、溶媒を除去することにより容易に製造することができる。

工程（Ｄ）
次に、得られたコア層３０と発色性のクラッド層１０との積層体を同時にパタン露光し、次いで、コア層３０の硬化していない部分及び発色性のクラッド層１０の硬化していない部分を現像除去して、発色性のクラッドパタン１１付きのコアパタン３１からなる略直方体形状部材を形成する。このときの現像除去方法としてはコア層３０と発色性のクラッド層１０を同一の現像液にてパタン化しても良く、コア層３０と発色性のクラッド層１０を異なる現像液を用いて段階的にパタン化しても良い。

工程（Ｅ）
次いで、図１（ｅ）に示すように、略直方体形状部材である発色性のクラッドパタン１１及びコアパタン３１を、工程（Ａ）の場合は、コアパタン側から、コアパタン３１の上面と側面、及び発色性のクラッドパタン１１の側面を覆って上部クラッド層４０を積層する。工程（Ｃ）の場合は発色性のクラッドパタン１１側から、発色性のクラッドパタン１１の上面と側面、及びコアパタン３１の側面を覆って上部クラッド層４０を積層する。本発明においては、上部クラッド層４０の形成方法は特に限定されず、例えば、上部クラッド層４０形成用樹脂組成物の塗布又は上部クラッド層形成用樹脂フィルムのラミネートにより形成すれば良い。
塗布による場合には、その方法は限定されず、例えば、後述する成分を含有する樹脂組成物を常法により塗布すれば良い。また、ラミネートに用いる上部クラッド層４０形成用樹脂フィルムは、例えば、上述のクラッド層形成用樹脂フィルムと同様に上部クラッド層４０形成用樹脂組成物を溶媒に溶解して、キャリアフィルム５１に塗布し、溶媒を除去することにより容易に製造することができる。図１（ｅ）は、このキャリアフィルム５１付きの上部クラッド層４０形成用樹脂フィルムを用いた場合を示す。また、所望により、上部クラッド層４０の表面保護等の目的で、上部クラッド層４０の上面にキャリアフィルム５１を貼着したままにしておいても良く、最終的に、基材５０、キャリアフィルム５１は除去しても良い。これらにより光導波路１が得られる。

工程（Ｆ）
前記工程（Ｅ）後に、前記上部クラッド層を全面露光して露光後の上部クラッド層４０を形成する工程（Ｆ₁）及び前記上部クラッド層４０をパタン露光してパタン化された該上部クラッド層４０を形成する工程（Ｆ₂）のいずれかの工程（Ｆ）を含むことがさらに好ましい。
本発明方法により得られた光導波路１は、図１（ｄ）に示すように、コアパタン３１と同一パタンで発色性のクラッドパタン１１が形成されるため、発色性のクラッドパタン１１の発色を検出することにより、コアパタン３１を視認することが可能となる。

本発明の光電気複合基板２は、上述の本発明方法により得られた光導波路１と電気配線板６０とを複合化することにより得られるが、電気配線板６０上に直接光導波路１を形成する方法が好ましい。
すなわち、本発明の好ましい光電気複合基板２の製造方法は、電気配線板６０上に略直方体形状の発色性のクラッド層１０、及び該発色性のクラッド層１０の上面又は下面に搭載された略直方体形状のコア層３０からなる略直方体形状部材を形成する第１の工程と、該略直方体形状部材の上面と側面を覆う上部クラッド層４０を形成する第２の工程とを含むことを特徴とする。

光電気複合基板の製造方法の第１工程
本発明の光電気複合基板２の製造方法に係る第１工程は、前記電気配線板６０上に感光性の前記発色性のクラッド層１０と感光性の前記コア層３０とを積層する工程（Ａ^*）と、工程（Ａ^*）の後、該発色性のクラッド層１０及び該コア層３０を同時にパタン露光し、次いで、該発色性のクラッド層１０の硬化していない部分及び該コア層３０の硬化していない部分を現像除去することによって、発色性のクラッドパタン１１及びコアパタン３１からなる前記略直方体形状部材を形成する工程（Ｂ^*）とを含むことが好ましく、又は電気配線板６０上に下部クラッド層２０を形成し、該下部クラッド層２０上に、感光性の前記コア層３０と感光性の前記発色性のクラッド層１０とを積層する工程（Ｃ^*）と、工程（Ｃ^*）の後、該発色性のクラッド層１０及び該コア層３０を同時にパタン露光し、次いで、該発色性のクラッド層１０の硬化していない部分及び該コア層３０の硬化していない部分を現像除去することによって、パタン化された該発色性のクラッド層１０及びパタン化された該コア層３０からなる前記略直方体形状部材を形成する工程（Ｄ^*）とを含むことが好ましい。
このときの現像除去方法としてはコア層３０と発色性のクラッド層１０を同一の現像液にてパタン化しても良く、コア層３０と発色性のクラッド層１０を異なる現像液を用いて段階的にパタン化しても良い。
また、必要に応じ、工程（Ａ^*）において、前記基材５０上に前記発色性のクラッド層１０を、接着層７０を介して積層しても良い。

光電気複合基板の製造方法の第２工程
本発明に係る第１工程に続く第２工程は、前記第１工程中の工程（Ｂ^*）又は工程（Ｄ^*）の後に、前記コアパタン３１側、又は前記コアパタン３１及び発色性のクラッドパタン１１からなる略直方体形状部材側から前記上部クラッド層４０を積層する工程（Ｅ^*）を含むことが好ましく、この工程（Ｅ^*）後に、前記上部クラッド層を全面露光して露光後の上部クラッド層を形成する工程（Ｆ₁ ^*）及び前記上部クラッド層をパタン露光してパタン化された該上部クラッド層を形成する工程（Ｆ₂ ^*）のいずれかの工程（Ｆ^*）を含むことがさらに好ましい。

本発明の光電気複合基板の製造方法の各工程を、以下、図面に基づいて説明する。図２は、本発明の光電気複合基板２の製造方法の一例を説明する図である。
工程（Ａ ^* ）〜（Ｄ ^* ）
図２に示す方法は、図１（ａ）に示すキャリアフィルム５１を電気配線板６０に変更したものであり、図１と同様に、電気配線板６０の上面に下部クラッド層２０を積層する。次に、下部クラッド層２０の上面にコアパタン３１と発色性のクラッドパタン１１からなる略直方体形状部材を形成し、図１と同様に、略直方体形状部材の上面と側面を上部クラッド層４０で覆い、さらに上部クラッドパタン４１を形成して光電気複合基板２が得られる。さらには図１（ａ）のキャリアフィルム５１を電気配線板６０として図１と同様に光導波路１を形成すれば図２（ｇ）の発色性のクラッドパタン１１とコアパタン３１の位置が入れ替わった光電気複合基板を得ることができる。本発明方法により得られた光電気複合基板２は、図２（ｇ）に示すように、コアパタン３１と同一パタンで発色性のクラッドパタン１１が形成されるため、発色性のクラッドパタン１１からの発色を検出することにより、コアパタン３１を視認することが可能となる。

以下、光導波路及び光電気複合基板の各構成部分について説明する。
（クラッド層）
以下、本発明で使用される発色性のクラッド層１０、下部クラッド層２０、上部クラッド層４０について説明する。下部クラッド層１０、上部クラッド層４０としては、クラッド層形成用樹脂組成物又はクラッド層形成用樹脂フィルムを用いることができる。発色性のクラッド層１０における発色性に関しては下部クラッド層１０及び上部クラッド層４０の組成に発色剤を付与することによって得られる。発色剤については（発色性のクラッド層の発色剤）の欄で後述する。
本発明で用いられるクラッド層形成用樹脂組成物としては、使用されるコア層３０より低屈折率で、光により硬化する樹脂組成物であれば特に限定されず、感光性樹脂組成物を好適に使用することができる。より好適にはクラッド層形成用樹脂組成物が、（ａ）キャリアポリマー、（ｂ）光重合性化合物及び（ｃ）光重合開始剤を含有する樹脂組成物により構成されることが好ましい。

ここで用いる（ａ）キャリアポリマーはクラッド層を形成し、該クラッド層の強度を確保するためのものであり、該目的を達成し得るものであれば特に限定されず、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、（メタ）アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン等、あるいはこれらの誘導体などが挙げられる。これらのキャリアポリマーは１種単独でも、また２種以上を混合して用いても良い。上記で例示したキャリアポリマーのうち、耐熱性が高いとの観点から、主鎖に芳香族骨格を有することが好ましく、特にフェノキシ樹脂が好ましい。また、３次元架橋し、耐熱性を向上できるとの観点からは、エポキシ樹脂、特に室温（２５℃）で固形のエポキシ樹脂が好ましい。さらに、後に詳述する（ｂ）光重合性化合物との相溶性が、クラッド層形成用樹脂組成物の透明性を確保するために重要であるが、この点からは上記フェノキシ樹脂及び（メタ）アクリル樹脂が好ましい。なお、ここで（メタ）アクリル樹脂とは、アクリル樹脂及びメタクリル樹脂を意味するものである。

フェノキシ樹脂の中でも、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物又はそれらの誘導体、及びビスフェノールＦ、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物又はそれらの誘導体を共重合成分の構成単位として含むものは、耐熱性、密着性及び溶解性に優れるため好ましい。ビスフェノールＡ又はビスフェノールＡ型エポキシ化合物の誘導体としては、テトラブロモビスフェノールＡ、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ化合物等が好適に挙げられる。また、ビスフェノールＦ又はビスフェノールＦ型エポキシ化合物の誘導体としては、テトラブロモビスフェノールＦ、テトラブロモビスフェノールＦ型エポキシ化合物等が好適に挙げられる。ビスフェノールＡ／ビスフェノールＦ共重合型フェノキシ樹脂の具体例としては、東都化成（株）製「フェノトートＹＰ−７０」（商品名）が挙げられる。

室温（２５℃）で固形のエポキシ樹脂としては、例えば、東都化学（株）製「エポトートＹＤ−７０２０、エポトートＹＤ−７０１９、エポトートＹＤ−７０１７」（いずれも商品名）、ジャパンエポキシレジン（株）製「エピコート１０１０、エピコート１００９、エピコート１００８」（いずれも商品名）などのビスフェノールＡ型エポキシ樹脂が挙げられる。

次に、（ｂ）光重合性化合物としては、光の照射によって重合するものであれば特に限定されず、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物や分子内に２つ以上のエポキシ基を有する化合物などが挙げられる。
分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物としては、（メタ）アクリレート、ハロゲン化ビニリデン、ビニルエーテル、ビニルピリジン、ビニルフェノール等が挙げられるが、これらの中で、透明性と耐熱性の観点から、（メタ）アクリレートが好ましい。
（メタ）アクリレートとしては、１官能性のもの、２官能性のもの、３官能性以上の多官能性のもののいずれをも用いることができる。なお、ここで（メタ）アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートを意味するものである。

分子内に２つ以上のエポキシ基を有する化合物としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂等の２官能又は多官能芳香族グリシジルエーテル、ポリエチレングリコール型エポキシ樹脂等の２官能又は多官能脂肪族グリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂等の２官能脂環式グリシジルエーテル、フタル酸ジグリシジルエステル等の２官能芳香族グリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等の２官能脂環式グリシジルエステル、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン等の２官能又は多官能芳香族グリシジルアミン、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート等の２官能脂環式エポキシ樹脂、２官能複素環式エポキシ樹脂、多官能複素環式エポキシ樹脂、２官能又は多官能ケイ素含有エポキシ樹脂などが挙げられる。これらの（ｂ）光重合性化合物は、単独で又は２種類以上組み合わせて用いることができる。

次に（ｃ）成分の光重合開始剤としては、特に制限はなく、例えば（ｂ）成分にエポキシ化合物を用いる場合の開始剤として、アリールジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、トリアリルセレノニウム塩、ジアルキルフェナジルスルホニウム塩、ジアルキル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム塩、スルホン酸エステルなどが挙げられる。

また、（ｂ）成分に分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物を用いる場合の開始剤としては、ベンゾフェノン等の芳香族ケトン、２−エチルアントラキノン等のキノン類、ベンゾインメチルエーテル等のベンゾインエーテル化合物、ベンゾイン等のベンゾイン化合物、ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体、２−メルカプトベンゾイミダゾール等のベンゾイミダゾール類、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド等のフォスフィンオキサイド類、９−フェニルアクリジン等のアクリジン誘導体、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−フェニルグリシン誘導体、クマリン系化合物などが挙げられる。また、ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン系化合物と３級アミン化合物とを組み合わせても良い。なお、クラッド層の透明性を向上させる観点からは、上記化合物のうち、芳香族ケトン及びフォスフィンオキサイド類が好ましい。
これらの（ｃ）光重合開始剤は、単独で又は２種類以上組み合わせて用いることができる。

（ａ）キャリアポリマーの配合量は、（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量中、５〜８０質量％とすることが好ましい。また、（ｂ）光重合性化合物の配合量は、（ａ）及び（ｂ）成分の総量中、９５〜２０質量％とすることが好ましい。
この（ａ）成分及び（ｂ）成分の配合量として、（ａ）成分が５質量％以上であり、（ｂ）成分が９５質量％以下であると、樹脂組成物を容易にフィルム化することができる。一方、（ａ）成分が８０質量％以下あり、（ｂ）成分が２０質量％以上であると、（ａ）キャリアポリマーを絡み込んで硬化させることが容易にでき、光導波路１を形成する際に、パタン形成性が向上し、かつ光硬化反応が十分に進行する。以上の観点から、この（ａ）成分及び（ｂ）成分の配合量として、（ａ）及び（ｂ）成分の総量中、（ａ）成分１０〜８５質量％、（ｂ）成分９０〜１５質量％がより好ましく、（ａ）成分２０〜７０質量％、（ｂ）成分８０〜３０質量％がさらに好ましい。
（ｃ）光重合開始剤の配合量は、（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．１〜１０質量部とすることが好ましい。この配合量が０．１質量部以上であると、光感度が十分であり、一方１０質量部以下であると、露光時に感光性樹脂組成物の表層での吸収が増大することがなく、内部の光硬化が十分となる。さらに、光導波路１として使用する際には、重合開始剤自身の光吸収の影響により伝搬損失が増大することもなく好適である。以上の観点から、（ｃ）光重合開始剤の配合量は、０．２〜５質量部とすることがより好ましい。

下部クラッド層２０の厚さに関しては、乾燥後の厚さで、５〜５００μｍの範囲が好ましい。５μｍ以上であると、光の閉じ込めに必要なクラッド厚さが確保でき、５００μｍ以下であると、膜厚を均一に制御することが容易である。
上部クラッド層４０の厚さに関しては、下部クラッド層２０の厚さと同一であっても異なっても良いが、略直方体形状部材を埋め込むために、上部クラッド層４０の厚さは、発色性のクラッド層１０の厚さ及びコア層３０の厚さを合計した厚さよりも厚くすることが好ましい。
発色性のクラッド層１０の厚さに関しては、接着層７０に下部クラッド層１０や接着補助用のクラッド層７１を用いる場合やコア層３０上に発色性のクラッド層１０を形成する場合には、厚みの制限はないが、乾燥後の厚さで、１〜５００μｍの範囲が好ましい。５００μｍ以下であると、膜厚を均一に制御することが容易である。また、基材５０や電気配線板６０上に直接発色性のクラッド層１０を形成する場合には、５μｍ以上であると、光の閉じ込めに必要なクラッド厚さが確保できる。また、コア層３０を露光する時の露光量において、発色性のクラッド層１０を硬化が可能な膜厚であれば良く、この観点から、発色性のクラッド層１０の厚さは、５〜５０μｍの範囲であることがより好ましい。

（発色性のクラッド層の発色剤）
発色性のクラッド層１０は、下部クラッド層２０及び上部クラッド層４０及び接着補助クラッド層７１の組成に発色剤を付与することによって得られる。発色剤には大きく分けて、光放出型、光吸収型、併用型がある。以下に発色性のクラッド層１０に発色性を付与させるための発色剤について説明する。
（光放出型の発色剤）
発色性のクラッドに導入する光放出型の発色剤の種類としては、特に制限されるものではないが、例えば、蛍光剤、りん光剤、蓄光剤、蛍光性又はりん光性の光重合開始剤、蛍光性又はりん光性の光増感剤、それらを２種類以上組み合わせたものなどが挙げられる。特に露光光源及びクラッドを発色させるために紫外線ランプを用いる場合には、蛍光剤、りん光剤、蓄光剤、蛍光性又はりん光性の光増感剤を用いることが好ましく、導入する光変換型の紫外線吸収剤量は、光伝搬損失に影響のない範囲であればよい。

（光吸収型の発色剤）
発色性のクラッドに導入する光吸収型の発色剤の種類としては、特に制限されるものではないが、熱エネルギー変換型の紫外線吸収剤、着色剤、それらを２種類以上組み合わせたものなどが挙げられる。熱エネルギー変換型の紫外線吸収剤の場合は、接着層、下部クラッド層、基材、電気配線板に、紫外線による発光性があれば、黒色に発色させることが可能となる。着色剤であれば、可視光領域のクラッドの発光や呈色によって位置を視認することができる。導入する光吸収型の発色剤の量は、光伝搬損失に影響のない範囲であればよい。
（併用型の発色剤）
前述した光放出型の発色剤と、光吸収型の発色剤を視認性の調整のために適宜組み合わせてもよく、導入する光放出型及び光吸収型の発色剤の量は、光伝搬損失に影響のない範囲であればよい。

（コア層形成用樹脂組成物及びコア層形成用樹脂フィルム）
コア層３０形成用樹脂組成物としては、コアパタン３１が下部クラッド層２０、接着補助用クラッド層７１、発色性のクラッド層１０、上部クラッド層４０より高屈折率であるように設計され、活性光線によりコアパタン３１を形成し得る樹脂組成物を用いることができ、感光性樹脂組成物が好適である。具体的には、前記クラッド層形成用樹脂組成物で用いたのと同様の樹脂組成物を用いることが好ましい。
塗布による場合には、方法は限定されず、前記樹脂組成物を常法により塗布すれば良い。

以下、ラミネートに用いるコア層３０形成用樹脂フィルムについて詳述する。
コア層３０形成用樹脂フィルムは、前記樹脂組成物を溶媒に溶解して下部クラッド層２０や発色性のクラッド層１０に塗布し、溶媒を除去することにより容易に製造することができる。ここで用いる溶媒としては、該樹脂組成物を溶解し得るものであれば特に限定されず、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の溶媒又はこれらの混合溶媒を用いることができる。樹脂組成物溶液中の固形分濃度は、通常３０〜８０質量％であることが好ましい。

コア層３０形成用樹脂フィルムの厚さについては特に限定されず、乾燥後のコア層３０の厚さが、通常は１０〜１００μｍとなるように調整される。該フィルムの厚さが１０μｍ以上であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバーとの結合において位置合わせトレランスが拡大できるという利点があり、１００μｍ以下であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバーとの結合において、結合効率が向上するという利点がある。以上の観点から、該フィルムの厚さは、さらに３０〜７０μｍの範囲であることが好ましい。

（キャリアフィルム）
クラッド層形成用樹脂フィルムの製造過程で用いられるキャリアフィルム５１は、その材料については特に限定されず、種々のものを用いることができる。例えば、ＦＲ−４基板、ポリイミド基板、半導体基板、シリコン基板やガラス基板等を用いることができ、可撓性があるフレキシブルな材質でも、非可撓性の固い材質のものであっても良い。
また、キャリアフィルム５１に可撓性を有する素材を用いることにより、フレキシブルな光電気複合部材を得ることができる。可撓性を有する素材の材料としては、特に限定されないが、柔軟性、強靭性を有するとの観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルサルファイド、ポリアリレート、液晶ポリマー、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなどが好適に挙げられる。
フィルムの厚さは、目的とする柔軟性により適宜変えて良いが、５μｍ〜１０ｍｍであることが好ましく、柔軟性を必要とする場合は、５〜２５０μｍであることが好ましい。５μｍ以上であると強靭性が得易いという利点があり、２５０μｍ以下であると十分な柔軟性が得られる。

前記キャリアフィルム５１の内、コア層３０又は各種クラッド層形成用樹脂組成物塗膜の製造過程で用いるキャリアフィルム５１は、また、後にコア層３０又は各種クラッド層形成用樹脂組成物塗膜を剥離することが容易であり、かつ、耐熱性及び耐溶剤性を有するとの観点から、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレンなどが好適に挙げられる。この場合のキャリアフィルム５１の厚さは、５〜５０μｍであることが好ましい。５μｍ以上であると、キャリアフィルム５１としての強度が得やすいという利点があり、５０μｍ以下であると、パタン形成時のマスクとのギャップが小さくなり、より微細なパタンが形成できるという利点がある。以上の観点から、塗膜の製造過程で用いるキャリアフィルム５１の厚さは１０〜４０μｍの範囲であることがより好ましく、１５〜３０μｍであることが特に好ましい。

（電気配線板）
本発明において用いられる電気配線板６０としては、特に限定されるものではなく、光電気複合基板２に用いられる種々の電気配線板６０を用いることができ、例えば、電気配線板用の絶縁基板や、絶縁基板に電気配線が形成されているものや、多層の配線板をであっても良い。また、電気配線板６０と発色性のクラッド層１０や下部クラッド層２０や上部クラッド層４０に接着力がない場合、電気配線板表面に物理的な粗化処理や化学的な接着用皮膜の形成を適宜行っても良い。また電気配線板６０上に接着層７０、例えば接着補助クラッド層７１を設けても良い。

（接着層)
電気配線板２や基材５０と、接着力の弱い発色性のクラッド層１０との接着する方法には、特に限定されないが、接着層７０を介して積層する場合には接着層として接着剤または接着フィルム材料を使用することができ、その材料としては、両面テープ、ホットメルト接着剤、ＵＶまたは熱硬化性着剤などが好適に挙げられる。
接着剤の材料としては、プリプレグ、ビルドアップ材、熱硬化接着剤、光硬化接着剤、それらを２種類以上組み合わせて積層したものなどが好適に挙げられる。光信号が接着層７０を透過する場合の接着には高い透過率の接着層７０が必要であり、その場合、接着層７０の材料としては、特に限定されないが、各種クラッド層又は３０形成用樹脂組成物、コア層３０形成用樹脂組成物又は後述する接着剤を使用することがより好ましい。
また、光信号が透過する部分の接着には高い透過率の接着剤または接着フィルムが必要であり、接着剤または接着フィルムの材料としては、特に限定されないが、（ＰＣＴ／ＪＰ２００８／０５４６５）に記載の接着フィルムや、発色性のクラッドパタンと識別できる接着補助クラッド層７１を使用することがより好ましい。
接着層７０の厚みは特に限定はないが、０．１〜１００μｍであることが好ましく、０．１〜５０μｍであることがより好ましい。

（接着層７０用接着剤）
接着層７０用接着剤としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、多官能エポキシ樹脂、アミン型エポキシ樹脂、アミン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂の１種又は２種以上（ｐ）と、多官能フェノール類（特に、ノボラック型あるいはレゾール型のフェノール系樹脂）、アミン類、イミダゾール化合物、酸無水物、有機リン化合物及びこれらのハロゲン化物、ポリアミド、ポリスルフィド、三フッ化ホウ素等の硬化剤の１種又は２種以上（ｑ）と、アクリル系共重合体、アクリルゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、シリコーンゴム等のゴム、シリコーン樹脂、シリコーン変性ポリアミドイミド等のシリコーン変性樹脂、ポリウレタン、ポリイミド、ポリイミドアミド等の高分子化合物の１種又は２種以上（ｒ）と、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、結晶質シリカ、非晶質シリカ、アクリロニトリルブタジエンゴムフィラー、シリコーンゴムフィラー等のフィラーの１種又は２種以上（ｓ）と、第三級アミン、イミダゾール類、第四級アンモニウム塩等の硬化促進剤の１種又は２種以上（ｔ）とを含む接着剤が好ましい。
（ｐ）成分と（ｑ）成分との配合量比はエポキシ当量と水酸基当量の当量比で０．７０／０．３０〜０．３０／０．７０となるのが好ましく、［｛（ｐ）成分＋（ｑ）成分｝／（ｒ）成分］配合量（質量部）比は０．２４〜１．０であることが好ましく、｛（ｐ）成分＋（ｑ）成分｝１００質量部に対して、（ｓ）成分１〜５０質量部、（ｔ）成分５．０質量部以下であることが好ましい。また、必要に応じ、シラン系、チタン系、アルミニウム系等のカップリング剤、イオン捕捉剤等を適宜配合しても良い。

（接着補助クラッド層）
接着層７０として用いられる接着補助クラッド層７１の材料は、特に限定されず、種々のものを用いることができるが、下部クラッド層２０、上部クラッド層４０、発色性の下部クラッド層１０形成用樹脂組成物が好ましい。
接着補助クラッド７１の厚みは特に限定されるものではないが、１〜５０μｍであると下部クラッド層１０又は下部クラッドパタン１１との十分な接着を確保することが出来る。

（電気配線板と光導波路の複合化方法)
電気配線板６０と光導波路１を複合化し光電気配線板２とする方法は、特に限定されるものではなく、種々の工法を用いることができる。例えば、あらかじめ作製した光導波路１と電気配線板６０を、接着層６０を介して貼り合わせる方法や、あらかじめ作製した電気配線板６０上にクラッド層やコア層３０を積層形成するビルドアップ形成方法や、あらかじめ作製した光導波路１上に電気配線６０をビルドアップ形成する方法などが挙げられる。

（下部クラッドパタン付きコアパタンの露光方法)
略直方体形状部材である下部クラッドパタン１１付きコアパタン３１の露光方法は、特に限定されるものはなく、露光部分がパタンとして残るネガ型や、未露光部分がパタンとして残るポジ型のどちらでも良く、使用するクラッド層形成用樹脂組成物及びコア層形成用樹脂組成物の性質によって決めて良い。しかし、発色性のクラッドパタン１１及びコアパタン３１を同時に露光する観点から、下部クラッド層１０とコア層３０は、ネガ型又はポジ型に統一する必要がある。

（上部クラッド層又は上部クラッドパタンの露光方法)
上部クラッド層４０又は上部クラッドパタン４１の露光方法は、特に限定されるものはなく、上部クラッド層４０の全面露光でも、上部クラッドパタン４１を形成するためのパタン露光でも良い。発色性のクラッドパタン１１とコアパタン３１間の接着力が弱い場合、コアパタン３１とコアパタン３１の間隙の上部クラッド層４０を一部除去するように上部クラッドパタン４１を形成することで、上部クラッド層４０の熱収縮による発色性のクラッドパタン１１とコアパタン３１間の剥離を抑制することができる。

以下に、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例によってなんら限定されるものではない。
〔クラッド層形成用樹脂フィルムの作製〕
（Ａ）ベースポリマーとして、フェノキシ樹脂（商品名：フェノトートＹＰ−７０、東都化成株式会社製）４８質量部、（Ｂ）光重合性化合物として、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート（商品名：ＫＲＭ−２１１０、分子量：２５２、旭電化工業株式会社製）５０質量部、（Ｃ）光重合開始剤として、トリフェニルスルホニウムヘキサフロロアンチモネート塩（商品名：ＳＰ−１７０、旭電化工業株式会社製）２質量部、有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４０質量部を広口のポリ瓶に秤量し、メカニカルスターラ、シャフト及びプロペラを用いて、温度２５℃、回転数４００ｒｐｍの条件で、６時間撹拌し、クラッド層形成用樹脂ワニスＡを調合した。その後、孔径２μｍのポリフロンフィルタ（商品名：ＰＦ０２０、アドバンテック東洋株式会社製）を用いて、温度２５℃、圧力０．４ＭＰａの条件で加圧濾過し、さらに真空ポンプ及びベルジャーを用いて減圧度５０ｍｍＨｇの条件で１５分間減圧脱泡し、クラッド層形成用樹脂ワニスＡを得た。
次に（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）１００質量部に対して、（Ｄ）発色剤（発光性の光増感剤）として（商品名：ＳＰ−１００、旭電化工業株式会社製）０．４質量部調合し、上記と同様の方法でクラッド層形成用樹脂ワニスＢを得た。
次に（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）１００質量部に対して、（Ｄ）発色剤（光吸収剤）として（商品名：ＬＡ−３６、（株）ＡＤＥＫＡ製）１．０質量部調合し、上記と同様の方法でクラッド層形成用樹脂ワニスＣを得た。
上記で得られたクラッド層形成用樹脂ワニスＡ、Ｂ、Ｃを、キャリアフィルム５１である離型ＰＥＴフィルム（商品名：ピューレックスＡ３１、帝人デュポンフィルム株式会社、厚さ：２５μｍ）に塗工機（マルチコーターＴＭ−ＭＣ、株式会社ヒラノテクシード製）を用いて塗布し、８０℃、１０分、その後１００℃、１０分乾燥し、次いで保護フィルムとして離型ＰＥＴフィルム（商品名：ピューレックスＡ３１、帝人デュポンフィルム株式会社、厚さ：２５μｍ）を離型面が樹脂側になるように貼り付け、クラッド層形成用樹脂フィルムＡ、Ｂ、Ｃを得た。このとき樹脂層の厚さは、塗工機のギャップを調節することで、任意に調整可能であり、本実施例では硬化後の膜厚が、発色性のクラッド層１０は１５μｍ、下部クラッド層２０は２５μｍ、上部クラッド層４０は７０μｍ、接着補助クラッド層７１は１５μｍとなるように調節した。
以下、実施例又は比較例中に使用する「発色性のクラッド層１０」という語句は、構造上、発色性を持たせるクラッド層部分に使用するクラッド層としての意味として使用する。

〔コア層形成用樹脂フィルムの作製〕
（Ａ）ベースポリマーとして、フェノキシ樹脂（商品名：フェノトートＹＰ−７０、東都化成株式会社製）２６質量部、（Ｂ）光重合性化合物として、９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（商品名：Ａ−ＢＰＥＦ、新中村化学工業株式会社製）３６質量部、及びビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（商品名：ＥＡ−１０２０、新中村化学工業株式会社製）３６質量部、（Ｃ）光重合開始剤として、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド（商品名：イルガキュア８１９、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）１質量部、及び１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（商品名：イルガキュア２９５９、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）１質量部、有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４０質量部を用いたこと以外は上記製造例と同様の方法及び条件でコア層形成用樹脂ワニスＤを調合した。その後、上記製造例と同様の方法及び条件で加圧濾過さらに減圧脱泡した。
上記で得られたコア層形成用樹脂ワニスＤを、ＰＥＴフィルム（商品名：コスモシャインＡ１５１７、東洋紡績株式会社製、厚さ：１６μｍ）の非処理面上に、上記製造例と同様な方法で塗布乾燥し、次いで保護フィルムとして離型ＰＥＴフィルム（商品名：ピューレックスＡ３１、帝人デュポンフィルム株式会社、厚さ：２５μｍ）を離型面が樹脂側になるように貼り付け、コア層形成用樹脂フィルムを得た。本実施例では硬化後の膜厚が５０μｍとなるよう、塗工機のギャップを調整した。

実施例１
〔光導波路の作製〕
ＰＥＴフィルムの基材５０上に接着層７０が形成された状態である上記で得られたクラッド層形成用樹脂ワニスＡを用いた接着補助クラッド層７１付きのキャリアフィルム５１のクラッド樹脂面に紫外線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ−１１７２）にて紫外線（波長３６５ｎｍ）を１．５Ｊ／ｃｍ²照射し、その後、８０℃で１２分間乾燥させた（図１（ａ）参照）。
次に上記で得られたクラッド層形成用樹脂ワニスＢを用いた発色性のクラッド層１０形成用樹脂フィルムの樹脂面を接着補助クラッド層７１上にロールラミネータ（日立化成テクノプラント株式会社製、ＨＬＭ−１５００）を用い圧力０．４ＭＰａ、温度５０℃、ラミネート速度０．２ｍ／ｍｉｎの条件で、ラミネートした（図１（ｂ）参照）。次いで、発色性のクラッド層１０形成用樹脂フィルムのキャリアフィルム５１であるＰＥＴフィルムを剥離し、発色性のクラッド層１０上にコア層３０形成用樹脂フィルムの樹脂面をロールラミネータ（日立化成テクノプラント株式会社製、ＨＬＭ−１５００）を用い圧力０．４ＭＰａ、温度５０℃、ラミネート速度０．２ｍ／ｍｉｎの条件で、ラミネートした（図１（ｃ）参照）。次に、幅５０μｍのネガ型フォトマスクを介し、上記紫外線露光機にて紫外線（波長３６５ｎｍ）を０．８Ｊ／ｃｍ²照射し、発色性のクラッドパタン１１とコアパタン３１を光硬化し、次いで８０℃で５分間露光後加熱を行った。その後、コア層３０形成用樹脂フィルムのキャリアフィルム５１であるＰＥＴフィルムを剥離し、現像液（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド＝７／３、質量比）を用いて、発色性のクラッド層１０及びコア層３０を現像し、発色性のクラッドパタン１１及びコアパタン３１を得た。続いて、洗浄液（イソプロパノール）を用いて洗浄し、１００℃で１０分間加熱乾燥した（図１（ｄ）参照）。次に、コアパタン３１側から３６５ｎｍの紫外光を用いた蛍光顕微鏡（倍率２００）にて発色性のクラッドパタン１１付きのコアパタン３１の視認性を確認した。その結果を表１に示す。
次に、クラッド層形成用樹脂ワニスＡを用いた上部クラッド層４０形成用樹脂フィルムを、真空加圧式ラミネータ（（株）名機製作所製、ＭＶＬＰ−５００）を用い、圧力０．４ＭＰａ、温度５０℃、加圧時間３０秒の条件にてラミネートした（図１（ｅ）参照）。次に、コアパタン形成用ネガ型フォトマスクと同様のパタンで、ライン幅のみを１５０μｍにした上部クラッドパタン用ネガ型フォトマスクを介し、コアパタン３１及び発色性のクラッドパタン１１の周囲５０μｍの部分が露光されるように紫外線（波長３６５ｎｍ）を３．０Ｊ／ｃｍ²照射し、次いで８０℃で１２分間露光後加熱を行った。その後、上部クラッド層４０形成用樹脂フィルムのキャリアフィルム５１であるＰＥＴフィルムを剥離し、現像液（イソプロパノール）を用いて、上部クラッド層４０を現像し、上部クラッドパタン４１とした。続いて、洗浄液（イソプロパノール）を用いて洗浄し、１００℃で１０分間加熱乾燥した。次に、１６０℃で１時間加熱処理することによって、上部クラッドパタン４１を硬化させ光導波路１を作製した（図１（ｆ）参照）。

（光路変換ミラーの形成）
得られた光導波路１の上部クラッドパタン４１側からダイシングソー（ＤＡＣ５５２、株式会社ディスコ社製）を用いて４５°のミラー部を形成した。
次に上部クラッドパタン４１側から３６５ｎｍの紫外光を用いた蛍光顕微鏡（倍率２００）にて発色性のクラッドパタン１１付きのコアパタン３１の視認性を確認した。その結果を表１に示す。

実施例２〜８
実施例１において、接着補助クラッド層７１、発色性のクラッド層１０、上部クラッド層４０に用いるワニスとして、表１に記載のワニスを用いた以外は同様にして光導波路１を作製した。実施例１と同様に現像後のコアパタン３１の視認性と上部クラッド形成後の視認性の確認結果を表１に示す。
なお、実施例７、８においてコアパタンは黒色発色であった。

実施例９
実施例１において、接着補助クラッド層７１にクラッド層形成用樹脂ワニスＢを用いた発色性のクラッド層１０をラミネートする前に、クラッド層形成用樹脂ワニスＡを用いた発色性のクラッド層をさらにラミネートし、２層の発色性のクラッド層１０にした以外は同様にして光導波路１を作製した。実施例１と同様に現像後のコアパタン３１の視認性と上部クラッド形成後の視認性の確認結果を表１に示す。

比較例１〜６
実施例１において、接着補助クラッド層７１、発色性のクラッド層１０、上部クラッド層４０に用いるワニスとして、表１に記載のワニスを用いた以外は同様にして光導波路１を作製した。実施例１と同様に現像後のコアパタン３１の視認性と上部クラッド形成後の視認性の確認結果を表１に示す。
また、比較例６では、発色性のクラッド層１０を形成しなかった。

実施例１０
（ＰＣＴ／ＪＰ２００８／０５４６５に記載の接着層の作製）
ＰＣＴ／ＪＰ２００８／０５４６５に記載の接着層７０を作製した。すなわち、（ａ）エポキシ樹脂としてＹＤＣＮ−７０３（東都化成株式会社製商品名、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ当量２１０）５５質量部、（ｂ）硬化剤としてミレックスＸＬＣ−ＬＬ（三井化学株式会社製商品名、フェノール樹脂、水酸基当量１７５、吸水率１．８質量％、３５０℃における加熱重量減少率４％）４５質量部、シランカップリング剤としてＮＵＣ Ａ−１８９（日本ユニカー株式会社製商品名、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン）１．７質量部とＮＵＣ Ａ−１１６０（日本ユニカー株式会社製商品名、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン）３．２質量部、（ｄ）フィラーとしてアエロジルＲ９７２（シリカ表面にジメチルジクロロシランを被覆し、４００℃の反応器中で加水分解させた、メチル基などの有機基を表面に有するフィラー、日本アエロジル株式会社製商品名、シリカ、平均粒径０．０１６μｍ）３２質量部からなる組成物に、シクロヘキサノンを加えて攪拌混合し、更にビーズミルを用いて９０分混練した。これに（ｃ）高分子化合物としてグリシジルアクリレート又はグリシジルメタクリレート３質量％を含むアクリルゴムＨＴＲ−８６０Ｐ−３（ナガセケムテックス株式会社製商品名、重量平均分子量８０万）を２８０質量部、及び（ｅ）硬化促進剤としてキュアゾール２ＰＺ−ＣＮ（四国化成工業株式会社製商品名、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール）を０．５質量部加え、攪拌混合、真空脱気した。この接着剤ワニスをキャリアフィルムとして厚さ７５μｍの離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（ピューレックスＡ３１）上に塗布し、１４０℃で５分間加熱乾燥して、次いで保護フィルムとして２５μｍの離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（ピューレックスＡ３１）を離型面が樹脂側になるように貼り付け、接着層７０を得た。
以下、上記接着層７０使用時は使用直前に保護フィルムを剥離した直後の状態であることを前提に記述する。

（電気配線板の作製）
基材５０である１５０ｍｍ角の片面銅箔付きポリイミド（商品名：ユピセルＮ、宇部日東化成工業株式会社製、銅箔厚さ：９μｍ、ポリイミド厚さ１２．５μｍ）の銅箔に感光性ドライフィルムレジスト（商品名：フォテック、日立化成工業株式会製、厚さ：２５μｍ）をロールラミネータ（日立化成テクノプラント株式会社製、ＨＬＭ−１５００）を用い圧力０．４ＭＰａ、温度１１０℃、ラミネート速度０．４ｍ／ｍｉｎの条件で貼り、次いで紫外線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ−１１７２）にて感光性ドライフィルムレジスト側から幅５０μｍのネガ型フォトマスクを介し、紫外線（波長３６５ｎｍ）を１２０ｍＪ／ｃｍ²照射し、未露光部分の感光性ドライフィルムレジストを３５℃の０．１〜５重量％炭酸ナトリウムの希薄溶液で除去した。その後、塩化第二鉄溶液を用いて、感光性ドライフィルムレジストが除去されむき出しになった部分の銅箔をエッチングにより除去し、３５℃の１〜１０重量％水酸化ナトリウム水溶液を用いて、露光部分の感光性ドライフィルムレジストを除去した（図２（ａ）参照）。

（絶縁被覆の形成）
次いで、カバーレイフィルム（商品名：ニカフレックスＣＩＳＧ、ニッカン工業株式会社製、ポリイミド厚さ：１２．５μｍ、接着剤厚さ：１５μｍ）を電気配線６１の両端部分（５．０ｍｍ）が露出するように型抜きし、圧力４．０ＭＰａ、温度１６０℃、加圧時間９０分の条件で真空プレスし、電気配線保護用の絶縁被覆を設けた。

（Ｎｉ／Ａｕめっきの形成）
その後、脱脂、ソフトエッチング、酸洗浄し、無電解Ｎｉめっき用増感剤（商品名：ＳＡ−１００、日立化成工業株式会社製）に２５℃で５分間浸漬後水洗し、８３℃の無電解Ｎｉめっき液（奥野製薬社製、ＩＣＰニコロンＧＭ−ＳＤ溶液、ｐＨ４．６）に８分間浸漬して３μｍのＮｉ被膜を形成し、その後、純水にて洗浄を実施した。
次に、置換金めっき液（１００ｍＬ；ＨＧＳ−５００及び１．５ｇ；シアン化金カリウム／Ｌで建浴）（商品名：ＨＧＳ−５００、日立化成工業株式会社製、）に８５℃で８分間浸漬し、Ｎｉ被膜上に０．０６μｍの置換金被膜を形成した。これにより、カバーレイフィルムのない電気配線部分が、Ｎｉ及びＡｕのめっき６２に被覆された電気配線板６０を得た（図２（ｂ）参照）。
次に基材５０のポリイミド面に、先に調整したＰＣＴ／ＪＰ２００８／０５４６５に記載の接着層７０の接着面をロールラミネータ（日立化成テクノプラント株式会社製、ＨＬＭ−１５００）を用い圧力０．４ＭＰａ、温度５０℃、ラミネート速度０．２ｍ／ｍｉｎの条件で、ラミネートした。
その後、紫外線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ−１１７２）にて上記の接着層７０に紫外線（波長３６５ｎｍ）を１Ｊ／ｃｍ²照射し、上記の接着層７０のキャリアフィルム５１であるＰＥＴフィルム（ピューレックスＡ３１）を剥離し、フレキシブル配線板を得た（図２（ｃ）参照）。

次に、上記で得られたクラッド層形成用樹脂ワニスＡを用いて作製した下部クラッド層２０形成用樹脂フィルムの保護フィルムである離型ＰＥＴフィルム（ピューレックスＡ３１）を剥離し、上記で得られたフレキシブル配線板上の接着層７０面に、上記と同様なラミネート条件で貼り付け、紫外線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ−１１７２）にて樹脂側から紫外線（波長３６５ｎｍ）を１．５Ｊ／ｃｍ²照射し、次いでキャリアフィルム５１である離型ＰＥＴフィルム（商品名：ピューレックスＡ３１、帝人デュポンフィルム株式会社、厚さ：２５μｍ）を剥がし、８０℃で１０分間加熱処理することにより、下部クラッド層２０を形成した（図２（ｄ）参照）。
次に、下部クラッド層２０上に、上記と同様なラミネート条件で、上記のコア層３０形成用樹脂フィルムをラミネートし、コア層３０を形成した（図２（ｅ）参照）。次にコア層３０のキャリアフィルム５１であるＰＥＴフィルムを剥離し、上記で得られたクラッド層形成用樹脂ワニスＢを用いて作製した発色性のクラッド層１０形成用樹脂フィルムを上記と同様なラミネート条件で、コア層３０上にラミネートした（図２（ｆ）参照）。

次に、幅５０μｍのネガ型フォトマスクを介し、上記紫外線露光機にて紫外線（波長３６５ｎｍ）を０．８Ｊ／ｃｍ²照射し、次いで８０℃で５分間露光後加熱を行った。その後、キャリアフィルムであるＰＥＴフィルムを剥離し、現像液（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド＝７／３、質量比）を用いて、発色性のクラッドパタン１１及びコアパタン３１を現像した。続いて、洗浄液（イソプロパノール）を用いて洗浄し、１００℃で１０分間加熱乾燥した（図２（ｇ）参照）。次に３６５ｎｍの紫外光を用いた蛍光顕微鏡（倍率２００）にて発色性のクラッドパタン１１付きのコアパタン３１の視認性を確認した。その結果を表２に示す。

次いで平板型ラミネータとして真空加圧式ラミネータ（株式会社名機製作所製、ＭＶＬＰ−５００）を用い、上部クラッド層４０としてクラッド層形成用樹脂ワニスＡを用いて作製した上記クラッド層形成用樹脂フィルムを、５００Ｐａ以下に真空引きした後、圧力０．４ＭＰａ、温度５０℃、加圧時間３０秒の条件にて加熱圧着した（図２（ｈ）参照）。
さらに、コアパタン形成用ネガ型フォトマスクと同様のパタンで、ライン幅のみを１５０μｍにした上部クラッドパタン用ネガ型フォトマスクを介し、コアパタン３１及び発色性のクラッドパタン１１の周囲５０μｍの部分が露光されるように紫外線（波長３６５ｎｍ）を３．０Ｊ／ｃｍ²照射し、次いで８０℃で１２分間露光後加熱を行った。その後、上部クラッド層４０形成用樹脂フィルムのキャリアフィルム５１であるＰＥＴフィルムを剥離し、現像液（イソプロパノール）を用いて、上部クラッド層４０を現像し、上部クラッドパタン４１とした。続いて、洗浄液（イソプロパノール）を用いて洗浄し、１００℃で１０分間加熱乾燥した。次に、１６０℃で１時間加熱処理することによって、上部クラッドパタン４１を硬化させ光電気複合基板２を作製した（図２（ｉ）参照）。

（光路変換ミラーの形成）
得られた光電気複合基板２の上部クラッドパタン４１側からダイシングソー（ＤＡＣ５５２、株式会社ディスコ社製）を用いて４５°のミラー部を形成した。
上部クラッドパタン４１側から３６５ｎｍの紫外光を用いた蛍光顕微鏡（倍率２００）にて発色性のクラッドパタン１１付きのコアパタン３１の視認性を確認した。その結果を表２に示す。

実施例１１〜１７
実施例１０において、下部クラッド層２０、発色性のクラッド層１０、上部クラッド層４０に用いるワニスとして、表２に記載のワニスを用いた以外は同様にして光電気複合基板２を作製した。実施例１０と同様に現像後のコアパタン３１の視認性と上部クラッド形成後の視認性の確認結果を表２に示す。
なお、実施例１６、１７においてコアパタンは黒色発色であった。

実施例１８
実施例１０において、下部クラッド層２０にクラッド層形成用樹脂ワニスＢを用いた発色性のクラッド層１０をラミネートする前に、クラッド層形成用樹脂ワニスＡを用いた発色性のクラッド層をさらにラミネートし、２層の発色性のクラッド層１０にした以外は同様にして光電気複合基板２を作製した。実施例１０と同様に現像後のコアパタン３１の視認性と上部クラッド形成後の視認性の確認結果を表２に示す。

比較例７〜１２
実施例１０において、下部クラッド層２０、発色性のクラッド層１０、上部クラッド層４０に用いるワニスとして、表２に記載のワニスを用いた以外は同様にして光電気複合基板２を作製した。実施例１０と同様に現像後のコアパタン３１の視認性と上部クラッド形成後の視認性の確認結果を表２に示す。
また、比較例１２では、発色性のクラッド層１０を形成しなかった。

実施例１９
〔光導波路の作製〕
上記で得られたクラッド層形成用樹脂ワニスＢを用いた発色性のクラッド層１０を、基材５０であるポリイミドフィルム（商品名；カプトンＥＮ、厚み２５μｍ）の上にロールラミネータ（日立化成テクノプラント株式会社製、ＨＬＭ−１５００）を用い圧力０．４ＭＰａ、温度５０℃、ラミネート速度０．２ｍ／ｍｉｎの条件で、ラミネートした（図３（ａ）参照）。次にキャリアフィルム５１であるＰＥＴフィルムを剥離し、発色性のクラッド層１０上にコア層３０形成用樹脂フィルムの樹脂面をロールラミネータ（日立化成テクノプラント株式会社製、ＨＬＭ−１５００）を用い圧力０．４ＭＰａ、温度５０℃、ラミネート速度０．２ｍ／ｍｉｎの条件で、ラミネートした（図３（ｂ）参照）。次に、幅５０μｍのネガ型フォトマスクを介し、上記紫外線露光機にて紫外線（波長３６５ｎｍ）を０．８Ｊ／ｃｍ²照射し、発色性のクラッドパタン１１とコアパタン３１を光硬化し、次いで８０℃で５分間露光後加熱を行った。その後、コア層３０形成用樹脂フィルムのキャリアフィルム５１であるＰＥＴフィルムを剥離し、現像液（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド＝７／３、質量比）を用いて、発色性のクラッド層１０及びコア層３０を現像し、発色性のクラッドパタン１１及びコアパタン３１を得た。
続いて、洗浄液（イソプロパノール）を用いて洗浄し、１００℃で１０分間加熱乾燥した（図３（ｃ）参照）。次に、コアパタン３１側から３６５ｎｍの紫外光を用いた蛍光顕微鏡（倍率２００）にて発色性のクラッドパタン１１付きのコアパタン３１の視認性を確認した。その結果を表３に示す。
次に、クラッド層形成用樹脂ワニスＡを用いた上部クラッド層４０形成用樹脂フィルムを、真空加圧式ラミネータ（（株）名機製作所製、ＭＶＬＰ−５００）を用い、圧力０．４ＭＰａ、温度５０℃、加圧時間３０秒の条件にてラミネートした（図３（ｄ）参照）。次に、紫外線（波長３６５ｎｍ）を３．０Ｊ／ｃｍ²照射し、キャリアフィルム５１であるＰＥＴフィルムを剥離した後、１６０℃で１時間加熱硬化を行い、光導波路１を作製した。（図３（ｅ）参照）。

（光路変換ミラーの形成）
得られた光導波路１の上部クラッド層４０側からダイシングソー（ＤＡＣ５５２、株式会社ディスコ社製）を用いて４５°のミラー部を形成した。
次に上部クラッド層４０側から３６５ｎｍの紫外光を用いた蛍光顕微鏡（倍率２００）にて発色性のクラッドパタン１１付きのコアパタン３１の視認性を確認した。その結果を表３に示す。

比較例１３
実施例１９において、発色性のクラッド層１０に用いるワニスとして、表３に記載のワニスを用いた以外は同様にして光導波路１を作製した。実施例１９と同様に現像後のコアパタン３１の視認性と上部クラッド形成後の視認性の確認結果を表３に示す。

本発明の製造方法により得られた光導波路、光電気複合部材は、各種光学装置、光インターコネクション等の幅広い分野に適用可能である。

１ 光導波路
２ 光電気複合基板
１０ 発色性のクラッド層
１１ パタン化された発色性のクラッド層（発色性のクラッドパタン）
２０ 下部クラッド層
３０ コア層
３１ パタン化されたコア層（コアパタン）
４０ 上部クラッド層
４１ パタン化された上部クラッド層（上部クラッドパタン）
５０ 基材
５１ キャリアフィルム
６０ 電気配線板
６１ 電気配線
６２ めっき
７０ 接着層
７１ 接着補助クラッド層

Claims (20)

1. 略直方体形状の発色性のクラッド層、及び該発色性のクラッド層の上面又は下面に搭載された略直方体形状のコア層からなる略直方体形状部材を形成する第１の工程と、該略直方体形状部材の上面と側面を覆う上部クラッド層を形成する第２の工程とを含むことを特徴とする光導波路の製造方法。
2. 前記発色性のクラッド層が、１層以上の多層膜であり、該多層膜の少なくとも１層以上が発色性を有することを特徴とする請求項１に記載の光導波路の製造方法。
3. 前記第１の工程が、基材上に感光性の前記発色性のクラッド層と感光性の前記コア層とを積層する工程（Ａ）と、工程（Ａ）の後、該発色性のクラッド層及び該コア層を同時にパタン露光し、次いで、該発色性のクラッド層の硬化していない部分及び該コア層の硬化していない部分を現像除去することによって、パタン化された該発色性のクラッド層及びパタン化された該コア層からなる前記略直方体形状部材を形成する工程（Ｂ）とを含むことを特徴とする請求項１に記載の光導波路の製造方法。
4. 前記基材上に前記発色性のクラッド層を、接着層を介して積層することを特徴とする請求項３に記載の光導波路の製造方法。
5. 前記第１の工程が、基材上に下部クラッド層を形成し、該下部クラッド層上に、感光性の前記コア層と感光性の前記発色性のクラッド層とを積層する工程（Ｃ）と、工程（Ｃ）の後、該発色性のクラッド層及び該コア層を同時にパタン露光し、次いで、該発色性のクラッド層の硬化していない部分及び該コア層の硬化していない部分を現像除去することによって、パタン化された該発色性のクラッド層及びパタン化された該コア層からなる前記略直方体形状部材を形成する工程（Ｄ）とを含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の光導波路の製造方法。
6. 前記第２の工程が、前記工程（Ｂ）又は（Ｄ）の後に、パタン化された前記略直方体形状部材側から前記上部クラッド層を積層する工程（Ｅ）を含むことを特徴とする請求項３又は５に記載の光導波路の製造方法。
7. 前記第２の工程が、前記工程（Ｅ）後に、前記上部クラッド層をパタン露光してパタン化された該上部クラッド層を形成する工程（Ｆ）を含むことを特徴とする請求項６に記載の光導波路の製造方法。
8. 請求項１〜７のいずれかに記載の方法によって製造されてなる光導波路。
9. 前記光導波路が、光路変換ミラーを有してなる請求項８に記載の光導波路。
10. 電気配線板上に略直方体形状の発色性のクラッド層、及び該発色性のクラッド層の上面又は下面に搭載された略直方体形状のコア層からなる略直方体形状部材を形成する第１の工程と、該直方体形状部材の上面と側面を覆う上部クラッド層を形成する第２の工程とを含むことを特徴とする光電気複合基板の製造方法。
11. 前記発色性のクラッド層が、１層以上の多層膜であり、該多層膜の少なくとも１層以上が発色性を有することを特徴とする請求項１０に記載の光電気複合基板の製造方法。
12. 前記第１の工程が、前記電気配線板上に感光性の前記発色性のクラッド層と感光性の前記コア層とを積層する工程（Ａ^*）と、工程（Ａ^*）の後、該発色性のクラッド層及び該コア層を同時にパタン露光し、次いで、該発色性のクラッド層の硬化していない部分及び該コア層の硬化していない部分を現像除去することによって、パタン化された該発色性のクラッド層及びパタン化された該コア層からなる前記略直方体形状部材を形成する工程（Ｂ^*）とを含むことを特徴とする請求項１０に記載の光電気複合基板の製造方法。
13. 前記電気配線板上に前記発色性のクラッド層を、接着層を介して積層することを特徴とする請求項１２に記載の光電気複合基板の製造方法。
14. 前記第１の工程が、前記電気配線板上に下部クラッド層を形成し、該下部クラッド層上に、感光性の前記コア層と感光性の前記発色性のクラッド層とを積層する工程（Ｃ^*）と、工程（Ｃ^*）の後、該発色性のクラッド層及び該コア層を同時にパタン露光し、次いで、該発色性のクラッド層の硬化していない部分及び該コア層の硬化していない部分を現像除去することによって、パタン化された該発色性のクラッド層及びパタン化された該コア層からなる前記略直方体形状部材を形成する工程（Ｄ^*）とを含むことを特徴とする請求項１０に記載の光電気複合基板の製造方法。
15. 前記第２の工程が、前記工程（Ｂ^*）又は（Ｄ^*）の後に、パタン化された前記コア層側から前記上部クラッド層を積層する工程（Ｅ^*）を含むことを特徴とする請求項１２又は１４に記載の光電気複合基板の製造方法。
16. 前記第２の工程が、前記工程（Ｂ^*）又は（Ｄ^*）の後に、パタン化された前記略直方体形状部材側から前記上部クラッド層を積層する工程（Ｅ^*）を含むことを特徴とする請求項１２又は１４に記載の光電気複合基板の製造方法。
17. 前記第２の工程が、前記工程（Ｅ^*）後に、前記上部クラッド層をパタン露光してパタン化された該上部クラッド層を形成する工程（Ｆ^*）を含むことを特徴とする請求項１５又は１６に記載の光導波路の製造方法。
18. 請求項８又は９に記載の光導波路と電気配線板とが複合化されてなる光電気複合基板。
19. 請求項１２〜１７のいずれかに記載の方法によって製造されてなる光電気複合基板。
20. 前記光電気複合基板が、光路変換ミラーを有してなる請求項１９に記載の光電気複合基板。

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