JP2013257599A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2013257599A5
JP2013257599A5 JP2013207679A JP2013207679A JP2013257599A5 JP 2013257599 A5 JP2013257599 A5 JP 2013257599A5 JP 2013207679 A JP2013207679 A JP 2013207679A JP 2013207679 A JP2013207679 A JP 2013207679A JP 2013257599 A5 JP2013257599 A5 JP 2013257599A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
objective system
lens element
mangin mirror
assembly
light energy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013207679A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5905430B2 (ja
JP2013257599A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from US10/646,073 external-priority patent/US8675276B2/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2013257599A publication Critical patent/JP2013257599A/ja
Publication of JP2013257599A5 publication Critical patent/JP2013257599A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5905430B2 publication Critical patent/JP5905430B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Claims (11)

  1. 対物系であって、
    1個または複数個の合焦レンズ素子を含み、入射光エネルギを受け取り合焦光エネルギを出射するように構成された合焦レンズ素子集合体であって、各合焦レンズ素子の直径が100mm未満である合焦レンズ素子集合体と、
    1個または複数個の視野レンズ素子を含む視野レンズ素子集合体であって、各視野レンズ素子の直径が100mm未満であり、各視野レンズ素子が、前記合焦光エネルギを受け取り、中間光エネルギを出射するように構成された視野レンズ素子集合体と、
    平坦面を有する1個または複数個のマンジャンミラー素子を含むマンジャンミラー集合体であって、各マンジャンミラー素子の直径が100mm未満であり、各マンジャンミラー素子が、前記中間光エネルギを受け取り、制御光エネルギを浸漬媒を介して標本に向け出射するように構成され、当該マンジャンミラー集合体が、前記視野レンズ素子集合体と前記標本との間に配置され、前記1個または複数個のマンジャンミラー素子の平坦面が前記浸漬媒に隣接し、当該マンジャンミラー集合体の前記1個または複数個のマンジャンミラー素子が2個の反射面を含むマンジャンミラー集合体と、を備え、
    各合焦レンズ素子及び各視野レンズ素子は、同じ単一のガラス素材から形成され、前記マンジャンミラー集合体、視野レンズ素子集合体及び合焦レンズ素子集合体の全ての構成要素は、受け取る光エネルギの軸線に沿って整列され、前記マンジャンミラー集合体において、前記1個または複数個のマンジャンミラー素子の2個の反射面は、前記受け取る光エネルギの軸線に沿って非ゼロ距離の離れた鏡面であり、
    266nmから436nmの波長の光エネルギを受け取って画像生成を行うよう構成された、対物系。
  2. 請求項1記載の対物系であって、その視野サイズが0.15mmの対物系。
  3. 請求項1記載の対物系であって、そのNA値が1.2となるよう構成された対物系。
  4. 請求項1記載の対物系であって、使用している各レンズ素子の直径が25mm未満の対物系。
  5. 請求項1記載の対物系であって、通常動作時におけるフランジ対物距離が少なくとも45mmの顕微鏡にて使用される対物系。
  6. 請求項5記載の対物系であって、通常動作時におけるフランジ対物距離が少なくとも100mmの顕微鏡にて使用される対物系。
  7. 請求項1記載の対物系であって、第2のガラス素材から形成された別のレンズ素子を少なくとも1つさらに備える対物系。
  8. 請求項1記載の対物系であって、浸漬媒が水、油、またはシリコーンゲルである対物系。
  9. 請求項1記載の対物系であって、球面収差、軸方向色収差及び収差色変化が最小になるよう構成された対物系。
  10. 請求項1記載の対物系であって、前記1個又は複数個のマンジャンミラー素子が、合焦レンズ素子集合体にて発生する収差が補償されるよう球面収差、軸方向色収差及び収差色変化を発生させる対物系。
  11. 請求項1記載の対物系であって、多色波面収差最悪値が0.037波長になるよう構成された対物系。
JP2013207679A 2003-08-22 2013-10-02 広帯域顕微鏡用カタジオプトリック結像系 Expired - Lifetime JP5905430B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/646,073 2003-08-22
US10/646,073 US8675276B2 (en) 2003-02-21 2003-08-22 Catadioptric imaging system for broad band microscopy

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012145016A Division JP2012212166A (ja) 2003-08-22 2012-06-28 広帯域顕微鏡用カタジオプトリック結像系

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2013257599A JP2013257599A (ja) 2013-12-26
JP2013257599A5 true JP2013257599A5 (ja) 2014-07-17
JP5905430B2 JP5905430B2 (ja) 2016-04-20

Family

ID=38156745

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006524719A Pending JP2007514179A (ja) 2003-08-22 2004-08-18 広帯域顕微鏡用カタジオプトリック結像系
JP2012145016A Pending JP2012212166A (ja) 2003-08-22 2012-06-28 広帯域顕微鏡用カタジオプトリック結像系
JP2013207679A Expired - Lifetime JP5905430B2 (ja) 2003-08-22 2013-10-02 広帯域顕微鏡用カタジオプトリック結像系

Family Applications Before (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006524719A Pending JP2007514179A (ja) 2003-08-22 2004-08-18 広帯域顕微鏡用カタジオプトリック結像系
JP2012145016A Pending JP2012212166A (ja) 2003-08-22 2012-06-28 広帯域顕微鏡用カタジオプトリック結像系

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8675276B2 (ja)
EP (1) EP1664885B1 (ja)
JP (3) JP2007514179A (ja)
WO (1) WO2005022204A2 (ja)

Families Citing this family (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW538256B (en) * 2000-01-14 2003-06-21 Zeiss Stiftung Microlithographic reduction projection catadioptric objective
US7672043B2 (en) * 2003-02-21 2010-03-02 Kla-Tencor Technologies Corporation Catadioptric imaging system exhibiting enhanced deep ultraviolet spectral bandwidth
US7884998B2 (en) * 2003-02-21 2011-02-08 Kla - Tencor Corporation Catadioptric microscope objective employing immersion liquid for use in broad band microscopy
US7307783B2 (en) * 2003-02-21 2007-12-11 Kla-Tencor Technologies Corporation Catadioptric imaging system employing immersion liquid for use in broad band microscopy
EP2722703A3 (en) 2003-05-06 2014-07-23 Nikon Corporation Projection optical system, and exposure apparatus and exposure method
US7348575B2 (en) 2003-05-06 2008-03-25 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US8208198B2 (en) 2004-01-14 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective
US6961186B2 (en) * 2003-09-26 2005-11-01 Takumi Technology Corp. Contact printing using a magnified mask image
US7466489B2 (en) 2003-12-15 2008-12-16 Susanne Beder Projection objective having a high aperture and a planar end surface
JP5102492B2 (ja) 2003-12-19 2012-12-19 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 結晶素子を有するマイクロリソグラフィー投影用対物レンズ
US7463422B2 (en) 2004-01-14 2008-12-09 Carl Zeiss Smt Ag Projection exposure apparatus
US20080151365A1 (en) 2004-01-14 2008-06-26 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
JP5420821B2 (ja) 2004-01-14 2014-02-19 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 反射屈折投影対物レンズ
US7215431B2 (en) * 2004-03-04 2007-05-08 Therma-Wave, Inc. Systems and methods for immersion metrology
WO2005098504A1 (en) 2004-04-08 2005-10-20 Carl Zeiss Smt Ag Imaging system with mirror group
KR101213831B1 (ko) 2004-05-17 2012-12-24 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 중간이미지를 갖는 카타디옵트릭 투사 대물렌즈
DE102005002710A1 (de) * 2005-01-19 2006-07-27 Linos Photonics Gmbh & Co. Kg Optisches System
EP2187251B1 (en) * 2005-03-31 2016-06-01 KLA-Tencor Technologies Corporation Small ultra-high NA catadioptric objective using a Mangin mirror
US20070141362A1 (en) * 2005-12-19 2007-06-21 Elkins Casey L Composition for coating substrate to prevent sticking
US7633689B2 (en) * 2007-07-18 2009-12-15 Asml Holding N.V. Catadioptric optical system for scatterometry
JP5634989B2 (ja) * 2008-06-17 2014-12-03 ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation 対物光学系および試料検査装置
US20110143287A1 (en) * 2009-09-14 2011-06-16 Nikon Corporation Catadioptric system, aberration measuring apparatus, method of adjusting optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP5479206B2 (ja) 2010-04-28 2014-04-23 キヤノン株式会社 反射屈折光学系及びそれを有する撮像装置
JP5627476B2 (ja) * 2011-01-19 2014-11-19 キヤノン株式会社 反射屈折光学系及びそれを有する撮像装置
JP5656682B2 (ja) * 2011-02-22 2015-01-21 キヤノン株式会社 反射屈折光学系及びそれを有する撮像装置
WO2012170916A2 (en) * 2011-06-10 2012-12-13 Canon Kabushiki Kaisha Optical system with catadioptric optical subsystem
JP5836686B2 (ja) * 2011-07-28 2015-12-24 キヤノン株式会社 反射屈折光学系及びそれを有する撮像装置
JP5868063B2 (ja) 2011-08-05 2016-02-24 キヤノン株式会社 撮像装置
US8908294B2 (en) * 2012-05-18 2014-12-09 Canon Kabushiki Kaisha Catadioptric optical system with high numerical aperture
US9329373B2 (en) * 2013-02-13 2016-05-03 Canon Kabushiki Kaisha Catadioptric optical system with multi-reflection element for high numerical aperture imaging
DE102013105586B4 (de) 2013-05-30 2023-10-12 Carl Zeiss Ag Vorrichtung zur Abbildung einer Probe
DE102014113827A1 (de) 2014-09-24 2016-03-24 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Vorrichtung zur Abbildung einer Probe
CN107505692B (zh) * 2017-09-26 2020-04-10 张家港中贺自动化科技有限公司 一种折反射式物镜
CN108873289B (zh) * 2018-09-04 2024-02-09 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 显微物镜光学系统及光学设备
DE102019115931A1 (de) * 2019-06-12 2020-12-17 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Optische Anordnung für ein Mikroskop
WO2024207246A1 (zh) * 2023-04-04 2024-10-10 瑞声光学解决方案私人有限公司 成像系统

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5510172B2 (ja) * 1975-02-14 1980-03-14
DE2655041C2 (de) 1976-12-04 1982-04-15 Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim Immersionsobjektiv zum Gebrauch mit mehreren optisch verschiedenen Immersionsmitteln
JPS56147038A (en) 1980-04-18 1981-11-14 Hitachi Ltd Pretreatment for supravital stained specimen and automatic classifying apparatus using said pretreating method
GB9008261D0 (en) * 1990-04-11 1990-06-13 Ares Serono Res & Dev Ltd Method of improving assay sensitivity
US5031976A (en) * 1990-09-24 1991-07-16 Kla Instruments, Corporation Catadioptric imaging system
US6512631B2 (en) * 1996-07-22 2003-01-28 Kla-Tencor Corporation Broad-band deep ultraviolet/vacuum ultraviolet catadioptric imaging system
US6064517A (en) 1996-07-22 2000-05-16 Kla-Tencor Corporation High NA system for multiple mode imaging
US5717518A (en) 1996-07-22 1998-02-10 Kla Instruments Corporation Broad spectrum ultraviolet catadioptric imaging system
US5999310A (en) 1996-07-22 1999-12-07 Shafer; David Ross Ultra-broadband UV microscope imaging system with wide range zoom capability
US5825043A (en) * 1996-10-07 1998-10-20 Nikon Precision Inc. Focusing and tilting adjustment system for lithography aligner, manufacturing apparatus or inspection apparatus
WO2000039623A1 (en) 1998-12-25 2000-07-06 Nikon Corporation Reflection refraction image-forming optical system and projection exposure apparatus comprising the optical system
DE10004396B4 (de) * 2000-02-02 2004-05-06 Corning Incorporated Immersionsmittel, Kopplungsanordnung und Kopplungsverfahren für Lichtwellenleiter
US6362923B1 (en) 2000-03-10 2002-03-26 Kla-Tencor Lens for microscopic inspection
JP2002083766A (ja) 2000-06-19 2002-03-22 Nikon Corp 投影光学系、該光学系の製造方法、及び前記光学系を備えた投影露光装置
US6842298B1 (en) * 2000-09-12 2005-01-11 Kla-Tencor Technologies Corporation Broad band DUV, VUV long-working distance catadioptric imaging system
JP3985937B2 (ja) * 2001-07-10 2007-10-03 オリンパス株式会社 蛍光用顕微鏡対物レンズ
US6785051B2 (en) * 2001-07-18 2004-08-31 Corning Incorporated Intrinsic birefringence compensation for below 200 nanometer wavelength optical lithography components with cubic crystalline structures
JP4066079B2 (ja) 2001-11-26 2008-03-26 株式会社ニコン 対物レンズ及びそれを用いた光学装置
JP5370837B2 (ja) 2008-07-14 2013-12-18 戸仁子 柴野 斜形仕切り部付きバッグ

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2014130375A5 (ja)
JP2013033283A5 (ja)
JP2007531060A5 (ja)
JP2011519062A5 (ja)
JP2009536373A5 (ja)
TW200802185A (en) Optics for an extended depth of field
JP2013242565A5 (ja)
WO2013093459A3 (en) Chormatic confocal metrological apparatus
JP2019074631A5 (ja)
JP2010529516A5 (ja)
CN104035194A (zh) 用于显微镜的浸没物镜和其应用
JP2017215491A5 (ja)
CN104813214B (zh) 一种近红外激光聚焦镜头及激光印刷设备
CN104317065B (zh) 一种双波长激光准直光学系统
JP2019090919A5 (ja)
JP2014048342A5 (ja)
TWI491916B (zh) 成像鏡頭
RU2631538C1 (ru) Объектив для ближней ИК-области спектра
RU2386155C1 (ru) Светосильный объектив
CN103430076A (zh) 成像透镜和使用该成像透镜的显微镜装置
CN105242353B (zh) 光纤聚焦镜组
US9946066B1 (en) Optics for diffraction limited focusing inside transparent media
CN104297916A (zh) 一种大口径折反变焦系统焦距扩展的方法
Shrestha et al. Multi-element meta-lens systems for imaging
RU2678957C1 (ru) Широкоугольный светосильный инфракрасный объектив