JP2014237707A - 単環ピリジン誘導体 - Google Patents
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Abstract
【課題】線維芽細胞成長因子(FGF)の受容体チロシンキナーゼであるFGF受容体(FGFR)阻害剤である新規化合物の提供。【解決手段】式(IA)で表されるピリジン誘導体又はその薬剤学的に許容される塩。(nは0〜2;Aはアリーレン基又はヘテロアリーレン基;Gは単結合、酸素原子又は−CH2−;Eは含窒素非芳香族へテロ環;R1はアルコキシ基、アルコキシアルコキシ基等;R2はH、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、含窒素非芳香族へテロ環式基等;R3はH、アルキル基、アルコキシ基等;R4はC1−6アルキル基;但し、Eがアゼチジン環であり、且つアゼチジン環の窒素原子上にR2又はR3が存在する場合には、当該R2又はR3はHでない)【選択図】なし
Description
本発明は、FGFR阻害作用を有する単環ピリジン誘導体またはその薬剤学的に許容される塩ならびにその医薬用途に関する。
本明細書において引用する文献は、その内容が参照として本明細書に取り込まれる。
FGF(線維芽細胞成長因子:fibroblast growth factor)は、細胞増殖、細胞遊走、細胞浸潤、細胞生存、分化誘導、創傷治癒、血管新生、など多彩な生理機能を制御する成長因子として知られている。
FGFは受容体チロシンキナーゼであるFGF受容体(FGFR:FGFR1、FGFR2、FGFR3、FGFR4)を介して、さまざまな生理機能を制御している。FGFRは細胞外ドメイン、膜貫通ドメインおよび細胞内チロシンキナーゼドメインの3種類から構成されている。FGFがFGFR細胞外ドメインと結合することで、受容体の二量体が形成される。その後、細胞内チロシンキナーゼが活性化された後、主にMAPK(mitogen-activated protein kinase)/ERK(extracellularsignal-regulated kinase)経路やPI3K(phosphatidylinositol3-kinase)/Akt経路を介して細胞内シグナルが伝達される。
FGFは受容体チロシンキナーゼであるFGF受容体(FGFR:FGFR1、FGFR2、FGFR3、FGFR4)を介して、さまざまな生理機能を制御している。FGFRは細胞外ドメイン、膜貫通ドメインおよび細胞内チロシンキナーゼドメインの3種類から構成されている。FGFがFGFR細胞外ドメインと結合することで、受容体の二量体が形成される。その後、細胞内チロシンキナーゼが活性化された後、主にMAPK(mitogen-activated protein kinase)/ERK(extracellularsignal-regulated kinase)経路やPI3K(phosphatidylinositol3-kinase)/Akt経路を介して細胞内シグナルが伝達される。
一方、FGF産生亢進、FGFR遺伝子増幅、FGFR過剰発現、FGFR融合蛋白形成、FGFR変異などに伴ってFGF/FGFRシグナル異常が誘発される結果、乳癌、膀胱癌、EMS(8p11 myeloproliferative syndrome)、胃癌、子宮内膜癌、前立腺癌等、さまざまな癌が引き起こされることが報告されている(非特許文献1)。さらに、FGF/FGFRシグナル異常を伴うがんとして、非小細胞肺癌、小細胞肺癌、卵巣癌、肉腫、大腸癌、メラノーマ、膠芽細胞腫、星状細胞腫または頭頸部癌(非特許文献2、3)、甲状腺癌(非特許文献4)、膵臓癌(非特許文献5、6)、肝臓癌(非特許文献7)、皮膚癌(非特許文献8)、腎癌(非特許文献9)、肺扁平上皮癌(非特許文献10、11、12)などが報告されている。
また、内皮細胞において、FGF/FGFRシグナルは、VEGF(vascular endothelial growth factor)/KDR(kinase-insertdomain-containing receptor)シグナルと並んで主要な血管新生シグナルでもあり、また癌間質細胞(繊維芽細胞)と癌細胞との相互作用にも関与が報告されている(非特許文献1)。
したがって、FGF/FGFRシグナルを標的とするFGFR阻害剤は、FGF/FGFRシグナル異常を伴う癌において、そのシグナル異常に対する抑制作用や血管新生シグナルの抑制作用などに基づく抗腫瘍剤として期待されている。最近になって、他のシグナルの交絡的影響(Confronting effect)を受け難いと考えられる選択的FGFR阻害剤、例えば、本発明に係る化合物とは構造上明らかに異なっている、FGFR1、FGFR2およびFGFR3の選択的FGFR阻害剤が報告されている。しかし、ヒトの抗腫瘍剤としての開発において、選択的FGFR阻害剤は、FGF/FGFRシグナルとVEGF/KDRシグナルの両者を同時に標的とする抗腫瘍剤に遅れを取っており、未だ、市販されていない(非特許文献13、14、特許文献1、2)。特許文献3には、ピリミジン誘導体が開示されているが、FGF/FGFRシグナルのシグナル異常に対する抑制作用は開示されていない。特許文献4には、VEGFおよびFGFにより誘導される血管新生を抑制するピリジン誘導体またはピリミジン誘導体が開示されている。しかしながら、これらの文献には本発明に係る化合物は開示されていない。
したがって、FGF/FGFRシグナルを標的とするFGFR阻害剤は、FGF/FGFRシグナル異常を伴う癌において、そのシグナル異常に対する抑制作用や血管新生シグナルの抑制作用などに基づく抗腫瘍剤として期待されている。最近になって、他のシグナルの交絡的影響(Confronting effect)を受け難いと考えられる選択的FGFR阻害剤、例えば、本発明に係る化合物とは構造上明らかに異なっている、FGFR1、FGFR2およびFGFR3の選択的FGFR阻害剤が報告されている。しかし、ヒトの抗腫瘍剤としての開発において、選択的FGFR阻害剤は、FGF/FGFRシグナルとVEGF/KDRシグナルの両者を同時に標的とする抗腫瘍剤に遅れを取っており、未だ、市販されていない(非特許文献13、14、特許文献1、2)。特許文献3には、ピリミジン誘導体が開示されているが、FGF/FGFRシグナルのシグナル異常に対する抑制作用は開示されていない。特許文献4には、VEGFおよびFGFにより誘導される血管新生を抑制するピリジン誘導体またはピリミジン誘導体が開示されている。しかしながら、これらの文献には本発明に係る化合物は開示されていない。
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本発明の課題は、これらの状況下、FGFR阻害作用を有する新たな化合物または、その薬剤学的に許容される塩、およびそれらを含有する医薬組成物を提供することである。
本発明者らは、上記事情に鑑み鋭意研究を重ねた結果、下記式(IA)で表される、新規な単環ピリジン誘導体(以下、本発明化合物(IA)という。)を合成することに成功し、これらの化合物が、FGFR1阻害作用、FGFR2阻害作用およびFGFR3阻害作用を有することを見出し、本発明を完成した。さらに、本発明化合物(IA)は、VEGF/KDRシグナルに対してFGF/FGFRシグナルを選択的に抑制する作用、特に、選択的なFGFR1、FGFR2またはFGFR3阻害作用を有することを見出した。
すなわち、本発明は、以下の[1]〜[26]を提供する。
[1]
式(IA)で表される化合物またはその薬剤学的に許容される塩。
式中、
nは、0〜2を表し;
Aは、C6−10アリーレン基またはC3−5ヘテロアリーレン基を表し;
Gは、単結合、酸素原子または−CH2−を表し;
Eは、C3−5含窒素非芳香族へテロ環式基を表し;
R1は、シアノ基、モノ−C1−6アルキルアミノ基、ジ−C1−6アルキルアミノ基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC2−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子もしくは1個の水酸基で置換されてもよいC1−6アルコキシ基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシC1−6アルキル基または1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシC1−6アルコキシ基を表し;
R2は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、下記S群から選ばれる1個の置換基で置換されていてもよいC2−6アシル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいヒドロキシC1−6アルキル基またはC3−5含窒素非芳香族へテロ環式基を表し;
R3は、水素原子、オキソ基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシ基を表し;
R4は、C1−6アルキル基を表す。ただし、Eがアゼチジン環であり、かつアゼチジン環の窒素原子上にR2またはR3が存在する場合には、当該R2またはR3は水素原子でない。
S群は、水酸基、モノ−C1−6アルキルアミノ基、ジ−C1−6アルキルアミノ基、C1−6アルコキシ基およびC3−5含窒素非芳香族へテロ環式基からなる群を表す。
[2]
式(IB)で表される、[1]に記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩。
式中、
nは、0〜2を表し;
Aは、C6−10アリーレン基またはC3−5ヘテロアリーレン基を表し;
Gは、単結合、酸素原子または−CH2−を表し;
Eは、C3−5含窒素非芳香族へテロ環を表し;
R1は、1〜3個のハロゲン原子もしくは1個の水酸基で置換されてもよいC1−6アルコキシ基または1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシC1−6アルコキシ基を表し;
R2は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいヒドロキシC1−6アルキル基またはC3−5含窒素非芳香族へテロ環式基を表し;
R3は、水素原子、オキソ基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシ基を表す。ただし、Eがアゼチジン環であり、かつアゼチジン環の窒素原子上にR2またはR3が存在する場合には、当該R2またはR3は水素原子でない。
[3]
式(IB)で表される、[1]に記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩。
式中、
nは、0〜2を表し;
Aは、C6−10アリーレン基またはC3−5ヘテロアリーレン基を表し;
Gは、単結合、酸素原子または−CH2−を表し;
Eは、C3−5含窒素非芳香族へテロ環を表し;
R1は、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシ基または1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシC1−6アルコキシ基を表し;
R2は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいヒドロキシC1−6アルキル基またはC3−5含窒素非芳香族へテロ環式基を表し;
R3は、水素原子、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシ基を表す。ただし、Eがアゼチジン環であり、かつアゼチジン環の窒素原子上にR2またはR3が存在する場合には、当該R2またはR3は水素原子でない。
[4]
Aが、C6−10アリーレン基である、[1]〜[3]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[5]
Gが、単結合または酸素原子である、[1]〜[4]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[6]
Aが、フェニレン基、チエニレン基、ピラゾリレン基またはピリジレン基であり;
Eが、アゼチジン環、ピロリジン環、ピペリジン環またはピペラジン環である、[1]〜[3]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[7]
Aが、フェニレン基であり;
Eが、アゼチジン環またはピペリジン環である、[1]〜[3]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[8]
Aが、フェニレン基であり;
Eが、ピペリジン環である、[1]〜[3]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[9]
nが、0であり;
Gが、単結合である、[6]〜[8]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[10]
R1が、C1−6アルコキシ基またはC1−6アルコキシC1−6アルコキシ基であり;
R2が、水素原子、水酸基、C1−6アルキル基、またはヒドロキシC1−6アルキル基であり;
R3が、水素原子である、[1]〜[9]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[11]
R1が、C1−6アルコキシC1−6アルコキシ基である、[1]〜[10]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[12]
式(II)
で表される、
R1が、C1−6アルコキシC1−6アルコキシ基であり;
R2が、水素原子、C1−6アルキル基またはヒドロキシC2−6アルキル基である、[1]〜[3]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[13]
式(III)
で表される、
R1が、C1−6アルコキシC1−6アルコキシ基であり;
R2が、C1−6アルキル基またはヒドロキシC2−6アルキル基である、[1]〜[3]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[14]
下記構造式で表される5−((2−(4−(1−エチルピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドまたはその薬剤学的に許容される塩、
[15]
下記構造式で表される6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−5−((2−(4−(1−メチルピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミドまたはその薬剤学的に許容される塩、
[16]
下記構造式で表される5−((2−(4−(1−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドまたはその薬剤学的に許容される塩、
[17]
下記構造式で表される6−(2−エトキシエトキシ)−5−((2−(4−(1−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドまたはその薬剤学的に許容される塩、
[18]
下記構造式で表される6−(2−エトキシエトキシ)−5−((2−(4−(1−エチルアゼチジン−3−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドまたはその薬剤学的に許容される塩、
[19]
[1]〜[18]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩を含有する医薬組成物、
[20]
[1]〜[18]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩を有効成分とする、胃癌治療剤、非小細胞肺癌、膀胱癌または子宮内膜癌治療剤、
[21]
[1]〜[18]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩の薬理学的有効量を投与して、胃癌治療剤、非小細胞肺癌、膀胱癌または子宮内膜癌を治療する方法、
[22]
[1]〜[18]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩を有効成分とする、非小細胞肺癌治療剤、
[23]
[1]〜[18]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩を有効成分とする、肺扁平上皮癌治療剤、
[24]
[1]〜[18]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩を有効成分とする、非小細胞肺癌治療のためのFGFR阻害剤、
[25]
胃癌治療剤、非小細胞肺癌、膀胱癌または子宮内膜癌治療剤としての使用のための、[1]〜[18]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[26]
胃癌治療剤、非小細胞肺癌、膀胱癌または子宮内膜癌治療剤の製造のための、[1]〜[18]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩の使用。
[1]
式(IA)で表される化合物またはその薬剤学的に許容される塩。
式中、
nは、0〜2を表し;
Aは、C6−10アリーレン基またはC3−5ヘテロアリーレン基を表し;
Gは、単結合、酸素原子または−CH2−を表し;
Eは、C3−5含窒素非芳香族へテロ環式基を表し;
R1は、シアノ基、モノ−C1−6アルキルアミノ基、ジ−C1−6アルキルアミノ基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC2−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子もしくは1個の水酸基で置換されてもよいC1−6アルコキシ基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシC1−6アルキル基または1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシC1−6アルコキシ基を表し;
R2は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、下記S群から選ばれる1個の置換基で置換されていてもよいC2−6アシル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいヒドロキシC1−6アルキル基またはC3−5含窒素非芳香族へテロ環式基を表し;
R3は、水素原子、オキソ基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシ基を表し;
R4は、C1−6アルキル基を表す。ただし、Eがアゼチジン環であり、かつアゼチジン環の窒素原子上にR2またはR3が存在する場合には、当該R2またはR3は水素原子でない。
S群は、水酸基、モノ−C1−6アルキルアミノ基、ジ−C1−6アルキルアミノ基、C1−6アルコキシ基およびC3−5含窒素非芳香族へテロ環式基からなる群を表す。
[2]
式(IB)で表される、[1]に記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩。
式中、
nは、0〜2を表し;
Aは、C6−10アリーレン基またはC3−5ヘテロアリーレン基を表し;
Gは、単結合、酸素原子または−CH2−を表し;
Eは、C3−5含窒素非芳香族へテロ環を表し;
R1は、1〜3個のハロゲン原子もしくは1個の水酸基で置換されてもよいC1−6アルコキシ基または1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシC1−6アルコキシ基を表し;
R2は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいヒドロキシC1−6アルキル基またはC3−5含窒素非芳香族へテロ環式基を表し;
R3は、水素原子、オキソ基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシ基を表す。ただし、Eがアゼチジン環であり、かつアゼチジン環の窒素原子上にR2またはR3が存在する場合には、当該R2またはR3は水素原子でない。
[3]
式(IB)で表される、[1]に記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩。
式中、
nは、0〜2を表し;
Aは、C6−10アリーレン基またはC3−5ヘテロアリーレン基を表し;
Gは、単結合、酸素原子または−CH2−を表し;
Eは、C3−5含窒素非芳香族へテロ環を表し;
R1は、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシ基または1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシC1−6アルコキシ基を表し;
R2は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいヒドロキシC1−6アルキル基またはC3−5含窒素非芳香族へテロ環式基を表し;
R3は、水素原子、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシ基を表す。ただし、Eがアゼチジン環であり、かつアゼチジン環の窒素原子上にR2またはR3が存在する場合には、当該R2またはR3は水素原子でない。
[4]
Aが、C6−10アリーレン基である、[1]〜[3]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[5]
Gが、単結合または酸素原子である、[1]〜[4]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[6]
Aが、フェニレン基、チエニレン基、ピラゾリレン基またはピリジレン基であり;
Eが、アゼチジン環、ピロリジン環、ピペリジン環またはピペラジン環である、[1]〜[3]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[7]
Aが、フェニレン基であり;
Eが、アゼチジン環またはピペリジン環である、[1]〜[3]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[8]
Aが、フェニレン基であり;
Eが、ピペリジン環である、[1]〜[3]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[9]
nが、0であり;
Gが、単結合である、[6]〜[8]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[10]
R1が、C1−6アルコキシ基またはC1−6アルコキシC1−6アルコキシ基であり;
R2が、水素原子、水酸基、C1−6アルキル基、またはヒドロキシC1−6アルキル基であり;
R3が、水素原子である、[1]〜[9]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[11]
R1が、C1−6アルコキシC1−6アルコキシ基である、[1]〜[10]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[12]
式(II)
で表される、
R1が、C1−6アルコキシC1−6アルコキシ基であり;
R2が、水素原子、C1−6アルキル基またはヒドロキシC2−6アルキル基である、[1]〜[3]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[13]
式(III)
で表される、
R1が、C1−6アルコキシC1−6アルコキシ基であり;
R2が、C1−6アルキル基またはヒドロキシC2−6アルキル基である、[1]〜[3]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[14]
下記構造式で表される5−((2−(4−(1−エチルピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドまたはその薬剤学的に許容される塩、
[15]
下記構造式で表される6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−5−((2−(4−(1−メチルピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミドまたはその薬剤学的に許容される塩、
[16]
下記構造式で表される5−((2−(4−(1−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドまたはその薬剤学的に許容される塩、
[17]
下記構造式で表される6−(2−エトキシエトキシ)−5−((2−(4−(1−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドまたはその薬剤学的に許容される塩、
[18]
下記構造式で表される6−(2−エトキシエトキシ)−5−((2−(4−(1−エチルアゼチジン−3−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドまたはその薬剤学的に許容される塩、
[19]
[1]〜[18]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩を含有する医薬組成物、
[20]
[1]〜[18]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩を有効成分とする、胃癌治療剤、非小細胞肺癌、膀胱癌または子宮内膜癌治療剤、
[21]
[1]〜[18]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩の薬理学的有効量を投与して、胃癌治療剤、非小細胞肺癌、膀胱癌または子宮内膜癌を治療する方法、
[22]
[1]〜[18]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩を有効成分とする、非小細胞肺癌治療剤、
[23]
[1]〜[18]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩を有効成分とする、肺扁平上皮癌治療剤、
[24]
[1]〜[18]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩を有効成分とする、非小細胞肺癌治療のためのFGFR阻害剤、
[25]
胃癌治療剤、非小細胞肺癌、膀胱癌または子宮内膜癌治療剤としての使用のための、[1]〜[18]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩、
[26]
胃癌治療剤、非小細胞肺癌、膀胱癌または子宮内膜癌治療剤の製造のための、[1]〜[18]のいずれか一つに記載の化合物またはその薬剤学的に許容される塩の使用。
本発明化合物(IA)またはその薬剤学的に許容される塩は、後述する薬理試験例における活性データに示されているように、FGFR1、FGFR2およびFGFR3阻害作用を有する。さらに、本発明化合物(IA)またはその薬剤学的に許容される塩は、KDRまたはHUVEC阻害作用と対比して、選択的なFGFR1、FGFR2またはFGFR3阻害作用を有する。したがって、本発明化合物(IA)またはその薬剤学的に許容される塩は、胃癌、肺扁平上皮癌を含む非小細胞肺癌、膀胱癌または子宮内膜癌治療剤としての利用可能性を有している。
以下に、本明細書において記載する記号、用語等の定義、本発明の実施の形態等を示して、本発明を詳細に説明する。
本明細書中においては、化合物の構造式が便宜上一定の異性体を表すことがあるが、本発明には化合物の構造上生じ得るすべての幾何異性体、不斉炭素に基づく光学異性体、立体異性体、回転異性体、互変異性体等の異性体および異性体混合物を含み、便宜上の式の記載に限定されるものではなく、いずれか一方の異性体でも混合物でもよい。したがって、本発明の化合物には、分子内に不斉炭素原子を有し光学活性体およびラセミ体が存在することがありうるが、本発明においては限定されず、いずれもが含まれる。しかしながら、異性体、ラセミ体、異性体混合物のうち、あるものは、他のものよりも活性を示す可能性があると理解されている。また、結晶多形が存在することもあるが同様に限定されず、いずれかの単一の結晶形であっても二以上の結晶形からなる混合物であってもよく、本発明化合物には非晶質体も含まれ、そして、本発明化合物には無水物と水和物等の溶媒和物とが包含される。
本発明には、本発明化合物(IA)の同位体標識された化合物またはその薬剤学的に許容される塩も含まれる。これは1つまたはそれ以上の原子が自然界に通常見出される原子質量か質量数と異なった原子質量か質量数を有する原子で置き換えられていること以外、式(IA)で表される化合物と同一である。本発明の化合物に組み入れることができる同位元素は、例えば、水素、炭素、窒素、酸素、リン、フッ素、ヨウ素、臭素および塩素の同位元素であり、2H、3H、11C、13C、14C、18F、35S、123I、125I等が含まれる。
同位体標識化合物、例えば、3Hおよび/または14Cなどの放射性同位元素が組み入れられた化合物は医薬および/または基質の組織分布アッセイに有用である。3Hと14Cはそれらの調製と検出の容易さのため有用と考えられている。同位元素11Cおよび18FはPET(陽電子放射断層撮影)で有用と考えられており、同位元素125IはSPECT(単光子放出コンピュータ断層撮影)で有用と考えられており、脳イメージングで有用可能性がある。2Hなどのより重い同位元素による置換は、より高い代謝的安定性による生体内半減期を増加または必要用量の減少等のある種の治療上の利点を生じさせ、それ故に、ある状況下では有用と考えられている。同位体標識化合物は容易に利用可能な同位体ラベルされた試薬を非同位体ラベルされた試薬の代わりに用いて、以下の図式および/または実施例に開示された手順を行うことによって一様に調製することができる。
本発明化合物(IA)は生理活性低分子化合物の標的タンパクを捕捉するためのケミカルプローブとすることができる。すなわち、本発明の化合物は、当該化合物の活性発現に必須な構造部分とは異なる部分に、J.Mass Spectrum.Soc.Jpn. Vol.51,No.5 2003,p492−498またはWO2007/139149等に記載の手法で標識基、リンカー等を導入することでアフィニティークロマトグラフィー、フォトアフィニティープローブ等に変換することができる。
ケミカルプローブに用いる標識基、リンカー等は、例えば以下の(1)〜(5)からなる群に示される基が挙げられる。
(1)光親和性標識基(例えば、ベンゾイル基、ベンゾフェノン基、アジド基、カルボニルアジド基、ジアジリジン基、エノン基、ジアゾ基、ニトロ基等)および化学親和性基(例えば、アルファー炭素原子がハロゲン原子で置換されたケトン基、カルバモイル基、エステル基、アルキルチオ基、α、β−不飽和ケトン、エステル等のマイケル受容体、オキシラン基等)等のタンパク質標識基、
(2)−S−S−、−O−Si−O−、単糖(グルコース基、ガラクトース基等)、二糖(ラクトース等)等の開裂可能なリンカー、および酵素反応で開裂可能なオリゴペプチドリンカー、
(3)ビオチン、3−(4,4−ジフルオロ−5,7−ジメチル−4H−3a,4a−ジアザ−4−ボラ−s−インダセン−3−イル)プロピオニル基等のフィッシングタグ基、
(4)125I、32P、3H、14Cなどの放射性標識基;フルオレセイン、ローダミン、ダンシル、ウンベリフェロン、7−ニトロフラザニル、3−(4,4−ジフルオロ−5,7−ジメチル−4H−3a,4a−ジアザ−4−ボラ−s−インダセン−3−イル)プロピオニル基等の蛍光標識基;ルシフェリン、ルミノール等の化学発光基;ランタノイド金属イオン、ラジウムイオン等の重金属イオン等の検出可能なマーカー、または
(5)ガラスビーズ、ガラスベット、マイクロタイタープレート、アガロースビーズ、アガロースベッド、ポリスチレンビーズ、ポリスチレンベッド、ナイロンビーズ、ナイロンベッド等の固相担体と結合させる基。
(1)光親和性標識基(例えば、ベンゾイル基、ベンゾフェノン基、アジド基、カルボニルアジド基、ジアジリジン基、エノン基、ジアゾ基、ニトロ基等)および化学親和性基(例えば、アルファー炭素原子がハロゲン原子で置換されたケトン基、カルバモイル基、エステル基、アルキルチオ基、α、β−不飽和ケトン、エステル等のマイケル受容体、オキシラン基等)等のタンパク質標識基、
(2)−S−S−、−O−Si−O−、単糖(グルコース基、ガラクトース基等)、二糖(ラクトース等)等の開裂可能なリンカー、および酵素反応で開裂可能なオリゴペプチドリンカー、
(3)ビオチン、3−(4,4−ジフルオロ−5,7−ジメチル−4H−3a,4a−ジアザ−4−ボラ−s−インダセン−3−イル)プロピオニル基等のフィッシングタグ基、
(4)125I、32P、3H、14Cなどの放射性標識基;フルオレセイン、ローダミン、ダンシル、ウンベリフェロン、7−ニトロフラザニル、3−(4,4−ジフルオロ−5,7−ジメチル−4H−3a,4a−ジアザ−4−ボラ−s−インダセン−3−イル)プロピオニル基等の蛍光標識基;ルシフェリン、ルミノール等の化学発光基;ランタノイド金属イオン、ラジウムイオン等の重金属イオン等の検出可能なマーカー、または
(5)ガラスビーズ、ガラスベット、マイクロタイタープレート、アガロースビーズ、アガロースベッド、ポリスチレンビーズ、ポリスチレンベッド、ナイロンビーズ、ナイロンベッド等の固相担体と結合させる基。
上記の(1)〜(5)からなる群より選択される標識基等を上記文献に記載の方法等に準じて本発明の化合物に導入して調製されるプローブは、新たな創薬ターゲットの探索等に有用な標識タンパクの同定のためのケミカルプローブとして用いることができる。
本明細書において使用する「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を意味する。
本明細書において使用する「ヘテロ原子」とは、窒素原子、硫黄原子または酸素原子を意味する。
本明細書において使用する「C1−6アルキル基」とは、炭素数1〜6個の脂肪族炭化水素から任意の水素原子を1個除いて誘導される一価の基である、炭素数1〜6個の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基を意味する。例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、1,1−ジメチルプロピル基、1,2−ジメチルプロピル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、1,1−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、1−エチルブチル基、2−エチルブチル基、1,1,2−トリメチルプロピル基、1,2,2−トリメチルプロピル基、1−エチル−1−メチルプロピル基、1−エチル−2−メチルプロピル基等が挙げられる。さらに具体的に例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等であり、好ましくは、メチル基、エチル基、イソプロピル基である。
本明細書において使用する「1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキル基」とは、上記C1−6アルキル基の任意の1〜3個の水素原子がハロゲン原子で置換されてもよい基を意味する。ハロゲン原子で置換される位置は特に限定されないが、具体的には例えば、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、モノクロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、2−クロロエチル基、2,2−ジクロロエチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、3−フルオロプロピル等である。置換されるハロゲン原子としては、具体的には例えば、フッ素原子、塩素原子などが好ましく、フッ素原子がより好ましい。
本明細書において使用する「C2−6アルキル基」とは、炭素数2〜6個の脂肪族炭化水素から任意の水素原子を1個除いて誘導される一価の基である、炭素数2〜6個の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基を意味する。例えば、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、1,1−ジメチルプロピル基、1,2−ジメチルプロピル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、1,1−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、1−エチルブチル基、2−エチルブチル基、1,1,2−トリメチルプロピル基、1,2,2−トリメチルプロピル基、1−エチル−1−メチルプロピル基、1−エチル−2−メチルプロピル基等が挙げられる。さらに具体的に例えば、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等であり、好ましくは、エチル基である。
本明細書において使用する「1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC2−6アルキル基」とは、上記C2−6アルキル基の任意の1〜3個の水素原子がハロゲン原子で置換されてもよい基を意味する。ハロゲン原子で置換される位置は特に限定されないが、具体的には例えば、2−フルオロエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2−ジクロロエチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、3−フルオロプロピル等である。置換されるハロゲン原子としては、具体的には例えば、フッ素原子、塩素原子などが好ましく、フッ素原子がより好ましい。
本明細書において使用する「ヒドロキシC1−6アルキル基」とは、上記C1−6アルキル基の任意の1個の水素原子が水酸基で置換された基を意味する。水酸基で置換される位置は特に限定されないが、具体的には例えば、ヒドロキシメチル基、2−ヒドロキシエチル基、1−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、1−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシ−2,2−ジメチルエチル基等である。好ましくは、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシ−2,2−ジメチルエチル基である。
本明細書において使用する「ヒドロキシC2−6アルキル基」とは、炭素数2〜6個の脂肪族炭化水素から任意の水素原子を1個除いて誘導される一価の基である炭素数2〜6個の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基の任意の1個の水素原子が、水酸基で置換された基を意味する。水酸基で置換される位置は特に限定されないが、具体的には例えば、2−ヒドロキシエチル基、1−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、1−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシ−2,2−ジメチルエチル基等である。好ましくは、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシ−2,2−ジメチルエチル基である。
本明細書において使用する「1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいヒドロキシC1−6アルキル基」とは、上記ヒドロキシC1−6アルキル基の任意の1〜3個の水素原子がハロゲン原子で置換されてもよい基を意味する。ハロゲン原子で置換される位置は特に限定されない。置換されるハロゲン原子としては、具体的には例えば、フッ素原子、塩素原子などが好ましく、フッ素原子がより好ましい。
本明細書において使用する「C1−6アルコキシ基」とは、前記定義の「C1−6アルキル基」の末端に酸素原子が結合した基であることを意味し、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、1−メチルブトキシ基、2−メチルブトキシ基、1,1−ジメチルプロポキシ基、1,2−ジメチルプロポキシ基、n−ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、1−メチルペンチルオキシ基、2−メチルペンチルオキシ基、3−メチルペンチルオキシ基、1,1−ジメチルブトキシ基、1,2−ジメチルブトキシ基、2,2−ジメチルブトキシ基、1,3−ジメチルブトキシ基、2,3−ジメチルブトキシ基、3,3−ジメチルブトキシ基、1−エチルブトキシ基、2−エチルブトキシ基、1,1,2−トリメチルプロポキシ基、1,2,2−トリメチルプロポキシ基、1−エチル−1−メチルプロポキシ基、1−エチル−2−メチルプロポキシ基等が挙げられ、さらに具体的に例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基等であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基である。
本明細書において使用する「1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシ基」とは、上記C1−6アルコキシ基の任意の1〜3個の水素原子がハロゲン原子で置換された基を意味する。ハロゲン原子で置換される位置は特に限定されないが、具体的には例えば、モノフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2−フルオロエトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、モノクロロメトキシ基、ジクロロメトキシ基、トリクロロメトキシ基、2−クロロエトキシ基、2,2−ジクロロエトキシ基、2,2,2−トリクロロエトキシ基、3−フルオロプロポキシ基等である。
本明細書において使用する「1個の水酸基で置換されてもよいC1−6アルコキシ基」とは、上記C1−6アルコキシ基の任意の1個の水素原子が水酸基で置換されてもよい基を意味する。水酸基で置換される位置は特に限定されないが、具体的には例えば、2−ヒドロキシエトキシ基、2−ヒドロキシプロピポキシ基、3−ヒドロキシプロポキシ基等が挙げられる。好ましくは、2−ヒドロキシエトキシ基である。
本明細書中において使用する「C1−6アルコキシC1−6アルコキシ基」とは、前記定義の「C1−6アルコキシ基」中の任意の1個の水素原子が前記定義の「C1−6アルコキシ基」で置換された基を意味し、具体的には例えば、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、n−プロポキシメトキシ基、2−メトキシエトキシ基、2−エトキシエトキシ基、3−メトキシプロポキシ基等が挙げられる。好ましくは、2−メトキシエトキシ基、2−エトキシエトキシ基、3−メトキシプロポキシ基である。
本明細書において使用する「1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシC1−6アルコキシ基」とは、上記C1−6アルコキシC1−6アルコキシ基の任意の1〜3個の水素原子がハロゲン原子で置換されてもよい基を意味する。ハロゲン原子で置換される位置は特に限定されないが、具体的には例えば、モノフルオロメトキシメトキシ基、ジフルオロメトキシメトキシ基、モノフルオロエトキシメトキシ基、ジフルオロエトキシメトキシ基、モノフルオロメトキシエトキシ基、トリフルオロメトキシエトキシ基、ジフルオロメトキシエトキシ基、モノフルオロエトキシエトキシ基、ジフルオロエトキシエトキシ基等が挙げられる。
本明細書中において使用する「C1−6アルコキシC1−6アルキル基」とは、前記定義の「C1−6アルキル基」中の任意の1個の水素原子が前記定義の「C1−6アルコキシ基」で置換された基を意味し、具体的には例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、n−プロポキシメチル基、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、3−メトキシプロピル基等が挙げられる。好ましくは、メトキシメチル基である。
本明細書において使用する「1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシC1−6アルキル基」とは、上記C1−6アルコキシC1−6アルキル基の任意の1〜3個の水素原子がハロゲン原子で置換されてもよい基を意味する。ハロゲン原子で置換される位置は特に限定されないが、具体的には例えば、モノフルオロメトキシメチル基、ジフルオロメトキシメチル基、モノフルオロエトキシメチル基、ジフルオロエトキシメチル基、モノフルオロメトキシエチル基、トリフルオロメトキシエチル基、ジフルオロメトキシエチル基、モノフルオロエトキシエチル基、ジフルオロエトキシエチル基等が挙げられる。
本明細書中において使用する「モノ−C1−6アルキルアミノ基」とは、アミノ基中の1個の水素原子が前記定義の「C1−6アルキル基」で置換された基を意味し、具体的には例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、sec−ブチルアミノ基、tert−ブチルアミノ基、n−ペンチルアミノ基、イソペンチルアミノ基、sec−ペンチルアミノ基、ネオペンチルアミノ基、1−メチルブチルアミノ基、2−メチルブチルアミノ基、1,1−ジメチルプロピルアミノ基、1,2−ジメチルプロピルアミノ基、n−ヘキシルアミノ基、イソヘキシルアミノ基、1−メチルペンチルアミノ基、2−メチルペンチルアミノ基、3−メチルペンチルアミノ基、1,1−ジメチルブチルアミノ基、1,2−ジメチルブチルアミノ基、2,2−ジメチルブチルアミノ基、1,3−ジメチルブチルアミノ基、2,3−ジメチルブチルアミノ基、3,3−ジメチルブチルアミノ基、1−エチルブチルアミノ基、2−エチルブチルアミノ基、1,1,2−トリメチルプロピルアミノ基、1,2,2−トリメチルプロピルアミノ基、1−エチル−1−メチルプロピルアミノ基、1−エチル−2−メチルプロピルアミノ基等が挙げられ、好ましくはメチルアミノ基等である。
本明細書中において使用する「ジ−C1−6アルキルアミノ基」とは、アミノ基中の2個の水素原子が、それぞれ同一のまたは異なる、前記定義の「C1−6アルキル基」で置換された基を意味し、具体的には例えば、N,N−ジメチルアミノ基、N,N−ジエチルアミノ基、N,N−ジ−n−プロピルアミノ基、N,N−ジ−イソプロピルアミノ基、N,N−ジ−n−ブチルアミノ基、N,N−ジ−イソブチルアミノ基、N,N−ジ−sec−ブチルアミノ基、N,N−ジ−tert−ブチルアミノ基、N−エチル−N−メチルアミノ基、N−n−プロピル−N−メチルアミノ基、N−イソプロピル−N−メチルアミノ基、N−n−ブチル−N−メチルアミノ基、N−イソブチル−N−メチルアミノ基、N−sec−ブチル−N−メチルアミノ基、N−tert−ブチル−N−メチルアミノ基等が挙げられ、好ましくはN,N−ジメチルアミノ基等である。
本明細書において用いる「C2−6アシル基」とは、炭素数が2〜6の脂肪族カルボン酸のカルボキシル基からOH基を除いた原子団からなる基を意味し、具体的には例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチロイル基等が挙げられる。
本明細書において用いる「オキソ基」とは、炭素原子または窒素原子上に酸素原子が結合した置換基を意味し、具体的には例えば、炭素原子上に酸素原子が結合した構造としてはカルボニル基、窒素原子上に酸素原子が結合した基としてはN−オキサイド等があげられる。
本明細書において使用する「C3−5へテロアリーレン基」とは、環を構成する炭素原子の数が3〜5であり、環を構成する原子中に1〜2個のヘテロ原子を含有するヘテロ芳香族化合物中の任意の2個の水素原子を除いて誘導される二価の基を意味し、具体的には例えば、フリレン基、チエニレン基、ピロリレン基、イミダゾリレン基、チアゾリレン基、ピラゾリレン基、オキサゾリレン基、イソオキサゾリレン基、イソチアゾリレン基、フラザニレン基、ピリジレン基、ピラジニレン基、ピリダジニレン基、ピリミジニレン基等が挙げられ、好ましくは、ピリジレン基、ピラゾリレン基、チエニレン基である。
本明細書において使用する「C3−5含窒素非芳香族ヘテロ環式基」とは、環を構成する炭素原子の数が3〜5であり、環を構成する原子中に1〜2個の窒素原子を含有する1価の非芳香族環式基を意味し、具体的には例えば、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピラゾリジニル基、イミダゾリジニル基、ピペリジニル基、ピペラジニル基、イソオキサゾリジニル基、イソチアゾリジニル基、モルホリニル基、チオモルホリニル基等が挙げられる。
本明細書において使用する「C3−5含窒素非芳香族ヘテロ環」とは、環を構成する炭素原子の数が3〜5であり、環を構成する原子中に1〜2個の窒素原子を含有する非芳香族環を意味し、具体的には例えば、アゼチジン環、ピロリジン環、ピラゾリジン環、イミダゾリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、イソオキサゾリジン環、イソチアゾリジン環、モルホリン環、チオモルホリン環等が挙げられる。
本明細書において使用する「C6−10アリーレン基」とは、炭素数6〜10の芳香族炭化水素中の任意の2個の水素原子を除いて誘導される二価の基をいい、具体的には例えば、フェニレン基、ナフチレン基、インデニレン基、アズレニレン基、ヘプタレニレン基等が挙げられ、好ましくはフェニレン基である。
nは、0〜2である。好ましくは0または1であり、より好ましくは0である。
Aは、C6−10アリーレン基またはC3−5ヘテロアリーレン基を表し、好ましくは、フェニレン基、チエニレン基、ピリジレン基またはピラゾリレン基であり、より好ましくは、フェニレン基である。
Gは、単結合、酸素原子または−CH2−を表し、好ましくは、単結合または酸素原子であり、より好ましくは、単結合である。
Eは、前記C3−5含窒素非芳香族ヘテロ環を表すが、具体的に例えば、アゼチジン環、ピロリジン環、ピペリジン環またはピペラジン環であり、好ましくは、アゼチジン環またはピペリジン環であり、より好ましくは、ピペリジン環である。
R1は、シアノ基、モノ−C1−6アルキルアミノ基、ジ−C1−6アルキルアミノ基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC2−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子もしくは1個の水酸基で置換されてもよいC1−6アルコキシ基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシC1−6アルキル基または1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシC1−6アルコキシ基を表す。好ましくは、C1−6アルコキシ基またはC1−6アルコキシC1−6アルコキシ基である。具体的に例えば、シアノ基、メチルアミノ基、N,N−ジメチルアミノ基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、モノフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2−フルオロエトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、3−フルオロプロポキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、n−プロポキシメチル基、エトキシメトキシ基、n−プロポキシメトキシ基、2−メトキシエトキシ基、2−エトキシエトキシ基、3−メトキシプロポキシ基、モノフルオロメトキシメトキシ基、ジフルオロメトキシメトキシ基、モノフルオロエトキシメトキシ基、ジフルオロエトキシメトキシ基、モノフルオロメトキシエトキシ基、ジフルオロメトキシエトキシ基、トリフルオロメトキシエトキシ基、モノフルオロエトキシエトキシ基、ジフルオロエトキシエトキシ基等が挙げられる。好ましくは、シアノ基、N,N−ジメチルアミノ基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、3−フルオロプロポキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、メトキシメチル基、2−メトキシエトキシ基、2−エトキシエトキシ基、3−メトキシプロポキシ基等が挙げられ、さらに、メトキシ基、2−メトキシエトキシ基、2−エトキシエトキシ基等が好ましく、2−メトキシエトキシ基、2−エトキシエトキシ基がより好ましい。
R2は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、S群から選ばれる1個の置換基で置換されていてもよいC2−6アシル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいヒドロキシC1−6アルキル基またはC3−5含窒素非芳香族へテロ環式基を表す。ここでS群は、水酸基、モノ−C1−6アルキルアミノ基、ジ−C1−6アルキルアミノ基、C1−6アルコキシ基およびC3−5含窒素非芳香族へテロ環式基からなる群を表す。好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、C1−6アルキル基またはヒドロキシC1−6アルキル基であり、より好ましくは、水素原子、水酸基、C1−6アルキル基またはヒドロキシC1−6アルキル基である。R2は、具体的に例えば、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、水酸基、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、モノクロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、2−クロロエチル基、2,2−ジクロロエチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、3−フルオロプロピル基、ヒドロキシメチル基、2−ヒドロキシエチル基、1−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、1−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシ−2,2−ジメチルエチル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ピペラジニル基等である。好ましくは、水素原子、フッ素原子、水酸基、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、ヒドロキシメチル基、2−ヒドロキシエチル基、1−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、1−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシ−2,2−ジメチルエチル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基等であり、より好ましくは、メチル基、エチル基、2−ヒドロキシエチル基である。
R3は、水素原子、オキソ基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシ基を表す。好ましくは、水素原子、C1−6アルキル基またはC1−6アルコキシ基である。具体的に好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基であり、より好ましくは、水素原子である。
R4は、C1−6アルキル基を表す。好ましくは、メチル基である。
ただし、Eがアゼチジン環であり、かつアゼチジン環の窒素原子上にR2またはR3が存在する場合には、当該R2またはR3は水素原子でない。また、R2およびR3は、それぞれ前記E上、すなわち前記C3−5含窒素非芳香族ヘテロ環上の任意の位置で置換する原子または基である。
上記式(V)中、R2は、水素原子、C1−6アルキル基またはヒドロキシC2−6アルキル基を表し、具体的には例えば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシ−2,2−ジメチルエチル基等である。好ましくは、メチル基、エチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシ−2,2−ジメチルエチル基である。
上記式(VI)中、R2は、C1−6アルキル基またはヒドロキシC2−6アルキル基を表し、具体的には例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシ−2,2−ジメチルエチル基等である。好ましくは、メチル基、エチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシ−2,2−ジメチルエチル基である。
本発明における化合物は、
5−((2−(4−(1−エチルピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド、
6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−5−((2−(4−(1−メチルピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド、
5−((2−(4−(1−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド、
6−(2−エトキシエトキシ)−5−((2−(4−(1−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド、
6−(2−エトキシエトキシ)−5−((2−(4−(1−エチルアゼチジン−3−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド等、またはこれらの薬剤学的に許容される塩であることが好ましい。
5−((2−(4−(1−エチルピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド、
6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−5−((2−(4−(1−メチルピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド、
5−((2−(4−(1−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド、
6−(2−エトキシエトキシ)−5−((2−(4−(1−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド、
6−(2−エトキシエトキシ)−5−((2−(4−(1−エチルアゼチジン−3−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド等、またはこれらの薬剤学的に許容される塩であることが好ましい。
本明細書において使用する「塩」としては、例えば、無機酸との塩、有機酸との塩、酸性アミノ酸との塩等が挙げられ、中でも薬剤学的に許容される塩が好ましい。そして、本発明に係る化合物の塩にはその薬剤学的に許容される塩の無水物と水和物等のその薬剤学的に許容される塩の溶媒和物とが包含される。
無機酸との塩の好ましい例としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸等との塩が挙げられ、有機酸との塩の好ましい例としては、例えば酢酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、クエン酸、乳酸、ステアリン酸、安息香酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等との塩が挙げられる。
酸性アミノ酸との塩の好ましい例としては、例えばアスパラギン酸、グルタミン酸等との塩が挙げられる。
本発明化合物(IA)またはその薬剤学的に許容される塩は、通常の方法により製剤化が可能であり、剤形としては、例えば、経口剤(錠剤、顆粒剤、散剤、カプセル剤、シロップ剤等)、注射剤(静脈内投与用、筋肉内投与用、皮下投与用、腹腔内投与用等)、外用剤(経皮吸収製剤(軟膏剤、貼付剤等)、点眼剤、点鼻剤、坐剤等)とすることができる。
経口用固形製剤を製造する場合には、本発明化合物(IA)またはその薬剤学的に許容される塩に、必要に応じて、賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑沢剤、着色剤等を添加し、常法により錠剤、顆粒剤、散剤、カプセル剤を製造することができる。また、錠剤、顆粒剤、散剤、カプセル剤等は、必要に応じて、皮膜コーティングを施してもよい。
賦形剤としては、例えば、乳糖、コーンスターチ、結晶セルロース等を、結合剤としては、例えば、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等を、崩壊剤としては、例えば、カルボキシメチルセルロースカルシウム、クロスカルメロースナトリウム等を、滑沢剤としては、例えば、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム等を、着色剤としては、例えば、酸化チタン等を、皮膜コーティング剤としては、例えば、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、メチルセルロース等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
これらの錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤等の固形製剤は、通常、0.001〜99.5重量%、例えば0.001〜90重量%等の本発明化合物(IA)またはその薬剤学的に許容される塩を含むことができる。
賦形剤としては、例えば、乳糖、コーンスターチ、結晶セルロース等を、結合剤としては、例えば、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等を、崩壊剤としては、例えば、カルボキシメチルセルロースカルシウム、クロスカルメロースナトリウム等を、滑沢剤としては、例えば、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム等を、着色剤としては、例えば、酸化チタン等を、皮膜コーティング剤としては、例えば、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、メチルセルロース等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
これらの錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤等の固形製剤は、通常、0.001〜99.5重量%、例えば0.001〜90重量%等の本発明化合物(IA)またはその薬剤学的に許容される塩を含むことができる。
注射剤(静脈内投与用、筋肉内投与用、皮下投与用、腹腔内投与用等)を製造する場合には、本発明化合物(IA)またはその薬剤学的に許容される塩に、必要に応じて、pH調整剤、緩衝剤、懸濁化剤、溶解補助剤、抗酸化剤、保存剤(防腐剤)、等張化剤等を添加し、常法により注射剤を製造することができる。また、凍結乾燥して、用時溶解型の凍結乾燥製剤としてもよい。
pH調整剤や緩衝剤としては、例えば、有機酸または無機酸および/またはその薬剤学的に許容される塩等を、懸濁化剤としては、例えば、メチルセルロース、ポリソルベート80、カルボキシメチルセルロースナトリウム等を、溶解補助剤としては、例えば、ポリソルベート80、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート等を、抗酸化剤としては、例えば、α−トコフェロール等を、保存剤としては、例えば、パラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安息香酸エチル等を、等張化剤としては、例えば、ブドウ糖、塩化ナトリウム、マンニトール等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
これらの注射剤は、通常、0.000001〜99.5重量%、例えば0.00001〜90重量%等の本発明化合物(IA)またはその薬剤学的に許容される塩を含むことができる。
pH調整剤や緩衝剤としては、例えば、有機酸または無機酸および/またはその薬剤学的に許容される塩等を、懸濁化剤としては、例えば、メチルセルロース、ポリソルベート80、カルボキシメチルセルロースナトリウム等を、溶解補助剤としては、例えば、ポリソルベート80、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート等を、抗酸化剤としては、例えば、α−トコフェロール等を、保存剤としては、例えば、パラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安息香酸エチル等を、等張化剤としては、例えば、ブドウ糖、塩化ナトリウム、マンニトール等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
これらの注射剤は、通常、0.000001〜99.5重量%、例えば0.00001〜90重量%等の本発明化合物(IA)またはその薬剤学的に許容される塩を含むことができる。
外用剤を製造する場合には、本発明化合物(IA)またはその薬剤学的に許容される塩に、基剤原料を添加し、必要に応じて、前記の例えば、保存剤、安定剤、pH調整剤、抗酸化剤、着色剤等を加えて、常法により、例えば、経皮吸収製剤(軟膏剤、貼付剤等)、点眼剤、点鼻剤、坐剤等を製造することができる。
使用する基剤原料としては、例えば、医薬品、医薬部外品、化粧品等に通常使用される各種原料を用いることが可能である。具体的には例えば、動植物油、鉱物油、エステル油、ワックス類、乳化剤、高級アルコール類、脂肪酸類、シリコン油、界面活性剤、リン脂質類、アルコール類、多価アルコール類、水溶性高分子類、粘土鉱物類、精製水等の原料を挙げることができる。
これらの外用剤は、通常、0.000001〜99.5重量%、例えば0.00001〜90重量%等の本発明化合物(IA)またはその薬剤学的に許容される塩を含むことができる。
使用する基剤原料としては、例えば、医薬品、医薬部外品、化粧品等に通常使用される各種原料を用いることが可能である。具体的には例えば、動植物油、鉱物油、エステル油、ワックス類、乳化剤、高級アルコール類、脂肪酸類、シリコン油、界面活性剤、リン脂質類、アルコール類、多価アルコール類、水溶性高分子類、粘土鉱物類、精製水等の原料を挙げることができる。
これらの外用剤は、通常、0.000001〜99.5重量%、例えば0.00001〜90重量%等の本発明化合物(IA)またはその薬剤学的に許容される塩を含むことができる。
本発明化合物(IA)またはその薬剤学的に許容される塩の投与量は、症状の程度、年齢、性別、体重、投与形態・塩の種類、疾患の具体的な種類等に応じて異なり、許容できない副作用を引き起こすことなく投与できる薬物の最大の用量を超えなければ限定されないが、通常、成人の場合は1日あたり経口投与で約30μg〜10g、例えば100μg〜5g、さらに例えば100μg〜1gを、注射投与で約30μg〜1g、例えば100μg〜500mg、さらに例えば100μg〜300mgをそれぞれ1回または数回に分けて投与する。
[一般合成方法]
本発明化合物(IA)の製造法について述べる。本発明化合物(IA)は、通常の有機合成手段を用いて合成することができるが、例えば本発明化合物(IA)のうち、化合物(1−1)、(1−2)、(1−3)、(1−4)、(1−5)、(1−6)、1−7)、(1−8)、(1−9)および(1−10)は、以下の[製造方法1]等に示す方法により合成することができる。本製造方法中、保護基を用いる場合には、例えばGreen’s PROTECTIVE GROUP IN ORGANIC CHEMISTRY fourth edition, JOHNWILEY& SONS, INC等に記載の、公知の保護基を適宜選択して導入し、公知の方法で適宜脱保護することが出来る。
本発明化合物(IA)の製造法について述べる。本発明化合物(IA)は、通常の有機合成手段を用いて合成することができるが、例えば本発明化合物(IA)のうち、化合物(1−1)、(1−2)、(1−3)、(1−4)、(1−5)、(1−6)、1−7)、(1−8)、(1−9)および(1−10)は、以下の[製造方法1]等に示す方法により合成することができる。本製造方法中、保護基を用いる場合には、例えばGreen’s PROTECTIVE GROUP IN ORGANIC CHEMISTRY fourth edition, JOHNWILEY& SONS, INC等に記載の、公知の保護基を適宜選択して導入し、公知の方法で適宜脱保護することが出来る。
[製造方法1−1]化合物(1−1)、(1−2)、(1−3)、(1−6)または(1−7)の製造方法
[上記式中、R1、R3(オキソ基を除く)、R4、A、E、Gおよびnは前記定義と同意義を意味する。R2a、R2bは、水素原子、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−5アルキル基または1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいヒドロキシC1−5アルキル基を意味する。R2c、R2dは、水素原子または1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−4アルキル基を意味する。R2eは1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいヒドロキシC1−6アルキル基を意味する。R2eが水酸基を有するとき、その水酸基は公知の適切な保護基で保護されていてもよい。X1は塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子、メタンスルホネート、p−トルエンスルホネートなどのスルホン酸エステル系の脱離基を意味する。R2fは、C1−6アルコキシ基で置換されていてもよいC1−5アルキル基を意味する。R2gは、水酸基、モノ−C1−6アルキルアミノ基、ジ−C1−6アルキルアミノ基で置換されていてもよいC1−5アルキル基を意味する。R2gが水酸基、モノ−C1−6アルキルアミノ基を有するとき、その水酸基、モノ−C1−6アルキルアミノ基は公知の適切な保護基で保護されていてもよい。]
[上記式中、R1、R3(オキソ基を除く)、R4、A、E、Gおよびnは前記定義と同意義を意味する。R2a、R2bは、水素原子、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−5アルキル基または1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいヒドロキシC1−5アルキル基を意味する。R2c、R2dは、水素原子または1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−4アルキル基を意味する。R2eは1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいヒドロキシC1−6アルキル基を意味する。R2eが水酸基を有するとき、その水酸基は公知の適切な保護基で保護されていてもよい。X1は塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子、メタンスルホネート、p−トルエンスルホネートなどのスルホン酸エステル系の脱離基を意味する。R2fは、C1−6アルコキシ基で置換されていてもよいC1−5アルキル基を意味する。R2gは、水酸基、モノ−C1−6アルキルアミノ基、ジ−C1−6アルキルアミノ基で置換されていてもよいC1−5アルキル基を意味する。R2gが水酸基、モノ−C1−6アルキルアミノ基を有するとき、その水酸基、モノ−C1−6アルキルアミノ基は公知の適切な保護基で保護されていてもよい。]
化合物(2)は、実施例中の製造例、[製造方法2]等に記載の方法を用いて製造することもできる。
化合物(2A)、(2B)、(2C)、(2D)および(2E)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。さらに、実施例中の製造例等に記載の方法を用いて製造することもできる。化合物(2A)は、その2量体〜多量体を用いることもできる。
化合物(2A)、(2B)、(2C)、(2D)および(2E)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。さらに、実施例中の製造例等に記載の方法を用いて製造することもできる。化合物(2A)は、その2量体〜多量体を用いることもできる。
[工程1−1−1]
本工程は、化合物(2)と化合物(2A)を還元剤存在下で反応させて化合物(1−1)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、エタノールなどのアルコール系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、酢酸などのカルボン酸系溶媒、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、水またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応に用いる還元剤としては水素化ほう素ナトリウム、シアノ水素化ほう素ナトリウム、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウムなどの金属水素錯化合物、ジボランまたはピリジン−ボラン錯体などの置換ボランを用いることができる。また、水素雰囲気下、パラジウム−炭素などの接触還元触媒を用いることもできる。化合物(2A)は化合物(2)に対して1当量から10当量用いることができ、好ましくは1当量から2当量用いる。還元剤は化合物(2)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは1当量から5当量用いる。本反応には酢酸などの酸を0当量から10当量加えることができる。反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分から24時間である。
本工程は、化合物(2)と化合物(2A)を還元剤存在下で反応させて化合物(1−1)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、エタノールなどのアルコール系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、酢酸などのカルボン酸系溶媒、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、水またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応に用いる還元剤としては水素化ほう素ナトリウム、シアノ水素化ほう素ナトリウム、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウムなどの金属水素錯化合物、ジボランまたはピリジン−ボラン錯体などの置換ボランを用いることができる。また、水素雰囲気下、パラジウム−炭素などの接触還元触媒を用いることもできる。化合物(2A)は化合物(2)に対して1当量から10当量用いることができ、好ましくは1当量から2当量用いる。還元剤は化合物(2)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは1当量から5当量用いる。本反応には酢酸などの酸を0当量から10当量加えることができる。反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分から24時間である。
[工程1−1−2]
本工程は、化合物(2)と化合物(2B)を反応させて化合物(1−2)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、エタノールなどのアルコール系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には塩基としてトリエチルアミンなどのアルキルアミン、ピリジンなどの芳香族アミン、炭酸カリウムなどの無機塩基などを用いることができる。化合物(2B)は化合物(2)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは1当量から10当量用いる。塩基は化合物(2)に対して0当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から200℃であり、反応時間は10分間から24時間である。
本工程は、化合物(2)と化合物(2B)を反応させて化合物(1−2)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、エタノールなどのアルコール系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には塩基としてトリエチルアミンなどのアルキルアミン、ピリジンなどの芳香族アミン、炭酸カリウムなどの無機塩基などを用いることができる。化合物(2B)は化合物(2)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは1当量から10当量用いる。塩基は化合物(2)に対して0当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から200℃であり、反応時間は10分間から24時間である。
[工程1−1−3]
本工程は、化合物(2)と化合物(2C)を反応させて化合物(1−3)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には塩基としてトリエチルアミンなどのアルキルアミン、ピリジンなどの芳香族アミン、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いることができる。化合物(2C)は化合物(2)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは1当量から3当量用いる。塩基は化合物(2)に対して1当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。R2eの水酸基が保護されているときは公知の方法により脱保護できる。
本工程は、化合物(2)と化合物(2C)を反応させて化合物(1−3)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には塩基としてトリエチルアミンなどのアルキルアミン、ピリジンなどの芳香族アミン、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いることができる。化合物(2C)は化合物(2)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは1当量から3当量用いる。塩基は化合物(2)に対して1当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。R2eの水酸基が保護されているときは公知の方法により脱保護できる。
[工程1−1−4]
本工程は、化合物(2)と化合物(2D)を反応させて化合物(1−6)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には塩基としてトリエチルアミンなどのアルキルアミン、ピリジンなどの芳香族アミン、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いることができる。化合物(2D)は化合物(2)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは1当量から3当量用いる。塩基は化合物(2)に対して1当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
本工程は、化合物(2)と化合物(2D)を反応させて化合物(1−6)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には塩基としてトリエチルアミンなどのアルキルアミン、ピリジンなどの芳香族アミン、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いることができる。化合物(2D)は化合物(2)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは1当量から3当量用いる。塩基は化合物(2)に対して1当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
[工程1−1−5]
本工程は、化合物(2)と化合物(2E)を縮合剤を用いて反応させ化合物(1−7)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には、O−(7−アザベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロりん酸塩、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩などの縮合剤を用いることができる。また、添加剤として1−ヒドロキシベンゾトリアゾールなどを用いることができる。本反応には塩基としてトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミンなどのアルキルアミン、4−ジメチルアミノピリジンなどの芳香族アミン、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いることができ、またはこれらの塩基を組み合わせて用いることができる。化合物(2E)は化合物(2)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは1当量から3当量用いる。縮合剤は化合物(2E)と同じ当量を用いることができ、塩基は化合物(2)に対して1当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。R2gが水酸基、モノ−C1−6アルキルアミノ基で保護されているときは公知の方法により脱保護できる。
本工程は、化合物(2)と化合物(2E)を縮合剤を用いて反応させ化合物(1−7)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には、O−(7−アザベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロりん酸塩、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩などの縮合剤を用いることができる。また、添加剤として1−ヒドロキシベンゾトリアゾールなどを用いることができる。本反応には塩基としてトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミンなどのアルキルアミン、4−ジメチルアミノピリジンなどの芳香族アミン、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いることができ、またはこれらの塩基を組み合わせて用いることができる。化合物(2E)は化合物(2)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは1当量から3当量用いる。縮合剤は化合物(2E)と同じ当量を用いることができ、塩基は化合物(2)に対して1当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。R2gが水酸基、モノ−C1−6アルキルアミノ基で保護されているときは公知の方法により脱保護できる。
[製造方法1−2]化合物(1−4)の製造方法
[上記式中、R1、R2、R3、R4、A、E、Gおよびnは前記定義と同意義を意味する。X2は塩素、臭素などのハロゲン原子、メタンスルホネート、p−トルエンスルホネートなどのスルホン酸エステルなどの脱離基を意味する。]
化合物(3)および(4)は、[製造方法3]、実施例中の製造例等に記載の方法を用いて製造することもできる。
化合物(3A)および(4−1)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。さらに、[製造方法6]、実施例中の製造例等に記載の方法を用いて製造することもできる。
[上記式中、R1、R2、R3、R4、A、E、Gおよびnは前記定義と同意義を意味する。X2は塩素、臭素などのハロゲン原子、メタンスルホネート、p−トルエンスルホネートなどのスルホン酸エステルなどの脱離基を意味する。]
化合物(3)および(4)は、[製造方法3]、実施例中の製造例等に記載の方法を用いて製造することもできる。
化合物(3A)および(4−1)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。さらに、[製造方法6]、実施例中の製造例等に記載の方法を用いて製造することもできる。
[工程1−2−1]
本工程は、化合物(4)と化合物(4−1)を反応させて化合物(3)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には塩基としてトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミンなどのアルキルアミン、4−ジメチルアミノピリジンなどの芳香族アミン、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いることができ、またはこれらの塩基を組み合わせて用いることができる。化合物(4−1)は化合物(4)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは2当量から3当量用いる。塩基は化合物(4)に対して1当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。本工程において、化合物(4−1)が2当量反応したジアシル体が生成することがあるが、そのまま次の反応に用いることができる。
本工程は、化合物(4)と化合物(4−1)を反応させて化合物(3)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には塩基としてトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミンなどのアルキルアミン、4−ジメチルアミノピリジンなどの芳香族アミン、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いることができ、またはこれらの塩基を組み合わせて用いることができる。化合物(4−1)は化合物(4)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは2当量から3当量用いる。塩基は化合物(4)に対して1当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。本工程において、化合物(4−1)が2当量反応したジアシル体が生成することがあるが、そのまま次の反応に用いることができる。
[工程1−2−2]
本工程は、化合物(3)と化合物(3A)を反応させて化合物(1−4)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には塩基としてトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミンなどのアルキルアミン、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いることができる。化合物(3A)は化合物(3)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは1当量から10当量用いる。塩基は化合物(3)に対して1当量から10当量用いることもできる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
本工程は、化合物(3)と化合物(3A)を反応させて化合物(1−4)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には塩基としてトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミンなどのアルキルアミン、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いることができる。化合物(3A)は化合物(3)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは1当量から10当量用いる。塩基は化合物(3)に対して1当量から10当量用いることもできる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
[製造方法1−3]化合物(1)または(1−5)の製造方法
[上記式中、R1、R2、R3、R4、A、E、Gおよびnは前記定義と同意義を意味する。X3は塩素、臭素などのハロゲン原子を意味する。Pro1はtert−ブトキシカルボニル基などの公知の窒素原子の保護基を意味する。]
化合物(4)は、実施例中の製造例、[製造方法3]等に記載の方法を用いて製造することもできる。
化合物(4−2)、(4−3)、(4−4)および(4−5)は、それぞれ市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。さらに、[製造方法5]、実施例中の製造例等に記載の方法を用いて製造することもできる。
[上記式中、R1、R2、R3、R4、A、E、Gおよびnは前記定義と同意義を意味する。X3は塩素、臭素などのハロゲン原子を意味する。Pro1はtert−ブトキシカルボニル基などの公知の窒素原子の保護基を意味する。]
化合物(4)は、実施例中の製造例、[製造方法3]等に記載の方法を用いて製造することもできる。
化合物(4−2)、(4−3)、(4−4)および(4−5)は、それぞれ市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。さらに、[製造方法5]、実施例中の製造例等に記載の方法を用いて製造することもできる。
[工程1−3−1または工程1−3−3]
本工程は、化合物(4)と化合物(4−2)または(4−4)を反応させて化合物(1)または(1−5)をそれぞれ得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には塩基としてトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミンなどのアルキルアミン、4−ジメチルアミノピリジンなどの芳香族アミン、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いることができ、またはこれらの塩基を組み合わせて用いることができる。化合物(4−2)または(4−4)は化合物(4)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは2当量から3当量用いる。塩基は化合物(4)に対して1当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。本工程において、化合物(4−2)または(4−4)が2当量反応したジアシル体が生成することがある。その場合は、さらにアンモニア、またはメチルアミン、ピペリジンなどの1級もしくは2級アルキルアミンで処理することにより、ジアシル体は、目的物であるモノアシル体へ変換することもできる。
工程1−3−3の場合は、続いて、公知の方法により窒素原子の保護基を外すことができる。例えば、Pro1がtert−ブトキシカルボニル基の場合、反応を阻害しない溶媒、例えばジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、メタノールなどのアルコール系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用い、トリフルオロ酢酸、塩酸などの酸を用いて脱保護することができる。
本工程は、化合物(4)と化合物(4−2)または(4−4)を反応させて化合物(1)または(1−5)をそれぞれ得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には塩基としてトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミンなどのアルキルアミン、4−ジメチルアミノピリジンなどの芳香族アミン、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いることができ、またはこれらの塩基を組み合わせて用いることができる。化合物(4−2)または(4−4)は化合物(4)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは2当量から3当量用いる。塩基は化合物(4)に対して1当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。本工程において、化合物(4−2)または(4−4)が2当量反応したジアシル体が生成することがある。その場合は、さらにアンモニア、またはメチルアミン、ピペリジンなどの1級もしくは2級アルキルアミンで処理することにより、ジアシル体は、目的物であるモノアシル体へ変換することもできる。
工程1−3−3の場合は、続いて、公知の方法により窒素原子の保護基を外すことができる。例えば、Pro1がtert−ブトキシカルボニル基の場合、反応を阻害しない溶媒、例えばジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、メタノールなどのアルコール系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用い、トリフルオロ酢酸、塩酸などの酸を用いて脱保護することができる。
[工程1−3−2または1−3−4]
本工程は、化合物(4)と化合物(4−3)または(4−5)を縮合剤を用いて反応させて化合物(1)または(1−5)をそれぞれ得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には、O−(7−アザベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロりん酸塩、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩などの縮合剤を用いることができる。また、添加剤として1−ヒドロキシベンゾトリアゾールなどを用いることができる。本反応には塩基としてトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミンなどのアルキルアミン、4−ジメチルアミノピリジンなどの芳香族アミン、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いることができ、またはこれらの塩基を組み合わせて用いることができる。化合物(4−3)または(4−5)は化合物(4)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは2当量から3当量用いる。縮合剤は化合物(4−3)または(4−5)と同じ当量を用いることができ、塩基は化合物(4)に対して1当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。本工程において、化合物(4−3)または(4−5)が2当量反応したジアシル体が生成することがある。その場合は、さらにアンモニア、またはメチルアミン、ピペリジンなどの1級もしくは2級アルキルアミンで処理することにより、ジアシル体は、目的物であるモノアシル体へ変換することもできる。R2が公知の保護基で保護されている場合は、公知の方法により保護基を外すことができる。
工程1−3−4の場合は、続いて、公知の方法により窒素原子の保護基を外すことができる。例えば、Pro1がtert−ブトキシカルボニル基の場合、反応を阻害しない溶媒、例えばジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、メタノールなどのアルコール系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用い、トリフルオロ酢酸、塩酸などの酸を用いて脱保護することができる。
本工程は、化合物(4)と化合物(4−3)または(4−5)を縮合剤を用いて反応させて化合物(1)または(1−5)をそれぞれ得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には、O−(7−アザベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロりん酸塩、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩などの縮合剤を用いることができる。また、添加剤として1−ヒドロキシベンゾトリアゾールなどを用いることができる。本反応には塩基としてトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミンなどのアルキルアミン、4−ジメチルアミノピリジンなどの芳香族アミン、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いることができ、またはこれらの塩基を組み合わせて用いることができる。化合物(4−3)または(4−5)は化合物(4)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは2当量から3当量用いる。縮合剤は化合物(4−3)または(4−5)と同じ当量を用いることができ、塩基は化合物(4)に対して1当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。本工程において、化合物(4−3)または(4−5)が2当量反応したジアシル体が生成することがある。その場合は、さらにアンモニア、またはメチルアミン、ピペリジンなどの1級もしくは2級アルキルアミンで処理することにより、ジアシル体は、目的物であるモノアシル体へ変換することもできる。R2が公知の保護基で保護されている場合は、公知の方法により保護基を外すことができる。
工程1−3−4の場合は、続いて、公知の方法により窒素原子の保護基を外すことができる。例えば、Pro1がtert−ブトキシカルボニル基の場合、反応を阻害しない溶媒、例えばジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、メタノールなどのアルコール系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用い、トリフルオロ酢酸、塩酸などの酸を用いて脱保護することができる。
[製造方法1−4]化合物(1−8)の製造方法
[上記式中、R1、R2、R4、A、E、Gおよびnは前記定義と同意義を意味する。]
化合物(1−1−1)は、実施例中の製造例、[製造方法1−1]等に記載の方法を用いて製造することもできる。
[上記式中、R1、R2、R4、A、E、Gおよびnは前記定義と同意義を意味する。]
化合物(1−1−1)は、実施例中の製造例、[製造方法1−1]等に記載の方法を用いて製造することもできる。
[工程1−4]
本工程は、化合物(1−1−1)と酸化剤を反応させて化合物(1−8)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、メタノール、t−ブタノールなどのアルコール系溶媒、酢酸などの有機酸またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には酸化剤として過酸化水素水、有機過酸化物、3−クロロパーオキシベンゾイック アシッドなどの有機過酸を用いることができる。酸化剤は化合物(1−1−1)に対して0.5当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
本工程は、化合物(1−1−1)と酸化剤を反応させて化合物(1−8)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、メタノール、t−ブタノールなどのアルコール系溶媒、酢酸などの有機酸またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には酸化剤として過酸化水素水、有機過酸化物、3−クロロパーオキシベンゾイック アシッドなどの有機過酸を用いることができる。酸化剤は化合物(1−1−1)に対して0.5当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
[製造方法1−5]化合物(1−10)の製造方法
[上記式中、R2、R4、A、E、Gおよびnは前記定義と同意義を意味する。mは2〜6の整数を意味する。]
化合物(1−9)は、実施例中の製造例、[製造方法1−1]、[製造方法1−2]、[製造方法1−3]等に記載の方法を用いて製造することもできる。
[上記式中、R2、R4、A、E、Gおよびnは前記定義と同意義を意味する。mは2〜6の整数を意味する。]
化合物(1−9)は、実施例中の製造例、[製造方法1−1]、[製造方法1−2]、[製造方法1−3]等に記載の方法を用いて製造することもできる。
[工程1−5]
本工程は、化合物(1−9)と三臭化ほう素を反応させて化合物(1−10)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒などを用いることができる。本反応に用いる三臭化ほう素は化合物(1−9)に対して1当量から10当量用いることができる。反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
本工程は、化合物(1−9)と三臭化ほう素を反応させて化合物(1−10)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒などを用いることができる。本反応に用いる三臭化ほう素は化合物(1−9)に対して1当量から10当量用いることができる。反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
[製造方法2]化合物(2)の製造方法
[上記式中、R1、R3、R4、A、E、Gおよびnは前記定義と同意義を意味する。X3は塩素、臭素などのハロゲン原子を意味する。Pro1はtert−ブトキシカルボニル基などの公知の窒素原子の保護基を意味する。]
化合物(4−6)および(4−7)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。さらに、実施例中の製造例等に記載の方法を用いて製造することもできる。また、化合物(4−6)は、[製造方法5]等の記載の方法を用いて製造することもできる。
[上記式中、R1、R3、R4、A、E、Gおよびnは前記定義と同意義を意味する。X3は塩素、臭素などのハロゲン原子を意味する。Pro1はtert−ブトキシカルボニル基などの公知の窒素原子の保護基を意味する。]
化合物(4−6)および(4−7)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。さらに、実施例中の製造例等に記載の方法を用いて製造することもできる。また、化合物(4−6)は、[製造方法5]等の記載の方法を用いて製造することもできる。
[工程2−1]
本工程は、化合物(4)と化合物(4−6)を反応させて化合物(2)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には塩基としてトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミンなどのアルキルアミン、4−ジメチルアミノピリジンなどの芳香族アミン、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いることができ、またはこれらの塩基を組み合わせて用いることができる。化合物(4−6)は化合物(4)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは2当量から3当量用いる。塩基は化合物(4)に対して1当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。本工程において、化合物(4−6)が2当量反応したジアシル体が生成することがある。その場合は、さらにアンモニア、またはメチルアミン、ピペリジンなどの1級もしくは2級アルキルアミンで処理することにより、ジアシル体は、目的物であるモノアシル体へ変換することもできる。続いて、公知の方法により窒素原子の保護基を外すことができる。例えば、Pro1がtert−ブトキシカルボニル基の場合、反応を阻害しない溶媒、例えばジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、メタノールなどのアルコール系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用い、トリフルオロ酢酸、塩酸などの酸を用いて脱保護することができる。
本工程は、化合物(4)と化合物(4−6)を反応させて化合物(2)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には塩基としてトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミンなどのアルキルアミン、4−ジメチルアミノピリジンなどの芳香族アミン、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いることができ、またはこれらの塩基を組み合わせて用いることができる。化合物(4−6)は化合物(4)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは2当量から3当量用いる。塩基は化合物(4)に対して1当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。本工程において、化合物(4−6)が2当量反応したジアシル体が生成することがある。その場合は、さらにアンモニア、またはメチルアミン、ピペリジンなどの1級もしくは2級アルキルアミンで処理することにより、ジアシル体は、目的物であるモノアシル体へ変換することもできる。続いて、公知の方法により窒素原子の保護基を外すことができる。例えば、Pro1がtert−ブトキシカルボニル基の場合、反応を阻害しない溶媒、例えばジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、メタノールなどのアルコール系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用い、トリフルオロ酢酸、塩酸などの酸を用いて脱保護することができる。
[工程2−2]
本工程は、化合物(4)と化合物(4−7)を反応させて化合物(2)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には、O−(7−アザベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロりん酸塩、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩などの縮合剤を用いることができる。また、添加剤として1−ヒドロキシベンゾトリアゾールなどを用いることができる。本反応には塩基としてトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミンなどのアルキルアミン、4−ジメチルアミノピリジンなどの芳香族アミン、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いることができ、またはこれらの塩基を組み合わせて用いることができる。化合物(4−7)は化合物(4)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは2当量から3当量用いる。塩基は化合物(4)に対して1当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。本工程において、化合物(4−7)が2当量反応したジアシル体が生成することがある。その場合は、さらにアンモニア、またはメチルアミン、ピペリジンなどの1級もしくは2級アルキルアミンで処理することにより、ジアシル体は、目的物であるモノアシル体へ変換することもできる。続いて、公知の方法により窒素原子の保護基を外すことができる。例えば、Pro1がtert−ブトキシカルボニル基の場合、反応を阻害しない溶媒、例えばジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、メタノールなどのアルコール系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用い、トリフルオロ酢酸、塩酸などの酸を用いて脱保護することができる。
本工程は、化合物(4)と化合物(4−7)を反応させて化合物(2)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には、O−(7−アザベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロりん酸塩、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩などの縮合剤を用いることができる。また、添加剤として1−ヒドロキシベンゾトリアゾールなどを用いることができる。本反応には塩基としてトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミンなどのアルキルアミン、4−ジメチルアミノピリジンなどの芳香族アミン、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いることができ、またはこれらの塩基を組み合わせて用いることができる。化合物(4−7)は化合物(4)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは2当量から3当量用いる。塩基は化合物(4)に対して1当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。本工程において、化合物(4−7)が2当量反応したジアシル体が生成することがある。その場合は、さらにアンモニア、またはメチルアミン、ピペリジンなどの1級もしくは2級アルキルアミンで処理することにより、ジアシル体は、目的物であるモノアシル体へ変換することもできる。続いて、公知の方法により窒素原子の保護基を外すことができる。例えば、Pro1がtert−ブトキシカルボニル基の場合、反応を阻害しない溶媒、例えばジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、メタノールなどのアルコール系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用い、トリフルオロ酢酸、塩酸などの酸を用いて脱保護することができる。
[製造方法3]化合物(4)の製造方法
[上記式中、R1、R4は前記定義と同意義を意味する。Pro2は、窒素原子の保護基、例えばアセチル基などを意味する。Pro3は、フェノール性酸素原子の保護基、例えばベンジル基などを意味する。X3は塩素、臭素などのハロゲン原子を意味する。]
化合物(7)、(8)、(9)、(10)および(11)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。さらに、実施例中の製造例に記載の方法を用いて製造することもできる。化合物(5)および(6)は、実施例中の製造例等に記載の方法を用いて製造することもできる。
化合物(5A)、(6A)および(11A)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。さらに、実施例中の製造例等に記載の方法を用いて製造することもできる。
[上記式中、R1、R4は前記定義と同意義を意味する。Pro2は、窒素原子の保護基、例えばアセチル基などを意味する。Pro3は、フェノール性酸素原子の保護基、例えばベンジル基などを意味する。X3は塩素、臭素などのハロゲン原子を意味する。]
化合物(7)、(8)、(9)、(10)および(11)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。さらに、実施例中の製造例に記載の方法を用いて製造することもできる。化合物(5)および(6)は、実施例中の製造例等に記載の方法を用いて製造することもできる。
化合物(5A)、(6A)および(11A)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。さらに、実施例中の製造例等に記載の方法を用いて製造することもできる。
[工程3−1]
本工程は、化合物(11)と化合物(11A)を反応させて化合物(10)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、エタノールなどのアルコール系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、アセトンなどのケトン系溶媒、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は化合物(11A)を化合物(11)に対して1当量から5当量用い、塩基として炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、水素化ナトリウム、ジイソプロピルエチルアミンなどを1当量から5当量加えることができる。添加物としてヨウ化ナトリウムやヨウ化カリウムを加えることもできる。反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
本工程は、化合物(11)と化合物(11A)を反応させて化合物(10)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、エタノールなどのアルコール系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、アセトンなどのケトン系溶媒、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は化合物(11A)を化合物(11)に対して1当量から5当量用い、塩基として炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、水素化ナトリウム、ジイソプロピルエチルアミンなどを1当量から5当量加えることができる。添加物としてヨウ化ナトリウムやヨウ化カリウムを加えることもできる。反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
[工程3−2]
本工程は、化合物(10)とニトロメタンを反応させて化合物(9)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、メタノールなどのアルコール系溶媒、酢酸などの有機酸系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応はニトロメタンを1当量から10当量用い、添加物として酢酸アンモニウム、エチレンジアミン−N,N’−二酢酸などを0.1当量から10当量加えることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から100時間である。
本工程は、化合物(10)とニトロメタンを反応させて化合物(9)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、メタノールなどのアルコール系溶媒、酢酸などの有機酸系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応はニトロメタンを1当量から10当量用い、添加物として酢酸アンモニウム、エチレンジアミン−N,N’−二酢酸などを0.1当量から10当量加えることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から100時間である。
[工程3−3]
本工程は、化合物(9)をニトロ化して化合物(8)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸などの有機酸系溶媒、硫酸またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は発煙硝酸、濃硝酸または硝酸を用い、添加物として無水酢酸などを加えることができる。本反応に用いる硝酸などは化合物(9)に対して1当量から100当量用いることができる。反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から100時間である。
本工程は、化合物(9)をニトロ化して化合物(8)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸などの有機酸系溶媒、硫酸またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は発煙硝酸、濃硝酸または硝酸を用い、添加物として無水酢酸などを加えることができる。本反応に用いる硝酸などは化合物(9)に対して1当量から100当量用いることができる。反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から100時間である。
[工程3−4]
本工程は、化合物(8)を環化して化合物(7)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、エタノールなどのアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、シクロヘキサンなどの炭化水素系溶媒、水またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は鉄、亜鉛などの重金属を用い、添加物として酢酸などの酸、塩化アンモニウムなどの塩、水酸化ナトリウムなどの塩基、シリカゲルなどの無機化合物またはこれらの混合物を加えることができる。本反応に用いる鉄などの重金属は化合物(8)に対して5当量から20当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
本工程は、化合物(8)を環化して化合物(7)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、エタノールなどのアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、シクロヘキサンなどの炭化水素系溶媒、水またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は鉄、亜鉛などの重金属を用い、添加物として酢酸などの酸、塩化アンモニウムなどの塩、水酸化ナトリウムなどの塩基、シリカゲルなどの無機化合物またはこれらの混合物を加えることができる。本反応に用いる鉄などの重金属は化合物(8)に対して5当量から20当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
[工程3−5]
本工程は、化合物(7)のPro3を脱保護して化合物(6)を得る工程である。Pro3は、公知の方法で脱保護することができ、例えばPro3がベンジルのとき、本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、エタノールなどのアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、酢酸、水またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は水素雰囲気下、触媒として、パラジウム−炭素などの接触還元触媒を用いることができる。水素の圧力は常圧から20気圧をかけることができ、触媒は化合物(7)に対して0.001当量から1当量用いることができる。また、塩酸などの酸を添加することができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
本工程は、化合物(7)のPro3を脱保護して化合物(6)を得る工程である。Pro3は、公知の方法で脱保護することができ、例えばPro3がベンジルのとき、本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、エタノールなどのアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、酢酸、水またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は水素雰囲気下、触媒として、パラジウム−炭素などの接触還元触媒を用いることができる。水素の圧力は常圧から20気圧をかけることができ、触媒は化合物(7)に対して0.001当量から1当量用いることができる。また、塩酸などの酸を添加することができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
[工程3−6]
本工程は、化合物(8)を環化して化合物(6)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、メタノールなどのアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、酢酸、水またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は水素雰囲気下、触媒として、パラジウム−炭素などの接触還元触媒を用いることができる。水素の圧力は常圧から20気圧をかけることができ、触媒は化合物(8)に対して0.001当量から1当量用いることができる。添加物として塩酸などの酸を加えることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
本工程は、化合物(8)を環化して化合物(6)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、メタノールなどのアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、酢酸、水またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は水素雰囲気下、触媒として、パラジウム−炭素などの接触還元触媒を用いることができる。水素の圧力は常圧から20気圧をかけることができ、触媒は化合物(8)に対して0.001当量から1当量用いることができる。添加物として塩酸などの酸を加えることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
[工程3−7]
本工程は、化合物(6)を化合物(6A)と反応させて化合物(5)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には塩基として、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウム tert−ブトキシドなどの塩基を用いることができる。塩基は化合物(6)に対して1当量から10当量用いることができ、好ましくは1当量から2当量用いる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。Pro2は、公知の方法で脱保護することができ、例えば、Pro2がアセチル基の場合、反応を阻害しない溶媒、例えばメタノールなどのアルコール系溶媒を用い、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシドなどの塩基を用いて脱保護することができ、もしくは、反応を阻害しない溶媒、例えば1,4−ジオキサンなどのエーテル系溶媒を用い、塩酸などの酸を用いて脱保護することができる。また、本工程は、化合物(6A)がPro2にて保護されていない化合物を用いて行うこともできる。
本工程は、化合物(6)を化合物(6A)と反応させて化合物(5)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には塩基として、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウム tert−ブトキシドなどの塩基を用いることができる。塩基は化合物(6)に対して1当量から10当量用いることができ、好ましくは1当量から2当量用いる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。Pro2は、公知の方法で脱保護することができ、例えば、Pro2がアセチル基の場合、反応を阻害しない溶媒、例えばメタノールなどのアルコール系溶媒を用い、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシドなどの塩基を用いて脱保護することができ、もしくは、反応を阻害しない溶媒、例えば1,4−ジオキサンなどのエーテル系溶媒を用い、塩酸などの酸を用いて脱保護することができる。また、本工程は、化合物(6A)がPro2にて保護されていない化合物を用いて行うこともできる。
[工程3−8]
本工程は、化合物(5)と化合物(5A)を反応させて化合物(4)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には塩基として水素化ナトリウム、カリウム tert−ブトキシドなどの塩基を用いることができる。化合物(5A)は化合物(5)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは1当量から2当量用いる。塩基は化合物(5)に対して1当量から2当量用いることができる。反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
本工程は、化合物(5)と化合物(5A)を反応させて化合物(4)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応には塩基として水素化ナトリウム、カリウム tert−ブトキシドなどの塩基を用いることができる。化合物(5A)は化合物(5)に対して1当量以上用いることができ、好ましくは1当量から2当量用いる。塩基は化合物(5)に対して1当量から2当量用いることができる。反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
[製造方法4]化合物(11−1)の製造方法
[上記式中、R1aは、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキル基または1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシC1−6アルキル基を表し、X3は臭素、ヨウ素などのハロゲン原子などの脱離基を意味する。]
化合物(12)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。
化合物(12A)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。
[上記式中、R1aは、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキル基または1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシC1−6アルキル基を表し、X3は臭素、ヨウ素などのハロゲン原子などの脱離基を意味する。]
化合物(12)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。
化合物(12A)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。
[工程4−1]
本工程は、化合物(12)と化合物(12A)を反応させて化合物(11−1)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、エタノールなどのアルコール系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は化合物(12A)を化合物(12)に対して0.5当量から1.5当量用い、添加物として炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、水素化ナトリウムなどの塩基を0.5当量から1.5当量加えることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から100時間である。
本工程は、化合物(12)と化合物(12A)を反応させて化合物(11−1)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、エタノールなどのアルコール系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は化合物(12A)を化合物(12)に対して0.5当量から1.5当量用い、添加物として炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、水素化ナトリウムなどの塩基を0.5当量から1.5当量加えることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から100時間である。
[製造方法5]化合物(4−2)、(4−4)または(4−6)の製造方法
[上記式中、R2、R3、A、E、Gおよびnは、前記定義と同意義を意味する。X3は塩素、臭素などのハロゲン原子、Pro1はtert−ブトキシカルボニル基などの公知の窒素原子の保護基を意味する。]
化合物(4−3)、(4−5)および(4−7)は、それぞれ市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。さらに、実施例中の製造例等に記載の方法を用いて、または[製造方法7]、[製造方法9]等に記載の方法に準じて製造することもできる。
[上記式中、R2、R3、A、E、Gおよびnは、前記定義と同意義を意味する。X3は塩素、臭素などのハロゲン原子、Pro1はtert−ブトキシカルボニル基などの公知の窒素原子の保護基を意味する。]
化合物(4−3)、(4−5)および(4−7)は、それぞれ市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。さらに、実施例中の製造例等に記載の方法を用いて、または[製造方法7]、[製造方法9]等に記載の方法に準じて製造することもできる。
[工程5−1、工程5−2または工程5−3]
本工程は、化合物(4−3)、(4−5)または(4−7)を反応させて化合物(4−2)、(4−4)または(4−6)をそれぞれ得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は塩化オキサリルなどの酸ハロゲン化物または塩化チオニルなどの無機ハロゲン化合物を化合物(4−3)、(4−5)または(4−7)に対して1当量から10当量用い、添加物としてベンゾトリアゾールなどの塩基を1当量から10当量加えることができる。また、触媒量のN,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどを加えることができる。反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
本工程は、化合物(4−3)、(4−5)または(4−7)を反応させて化合物(4−2)、(4−4)または(4−6)をそれぞれ得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は塩化オキサリルなどの酸ハロゲン化物または塩化チオニルなどの無機ハロゲン化合物を化合物(4−3)、(4−5)または(4−7)に対して1当量から10当量用い、添加物としてベンゾトリアゾールなどの塩基を1当量から10当量加えることができる。また、触媒量のN,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどを加えることができる。反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
[製造方法6]化合物(4−1)の製造方法
[上記式中、A、Gおよびnは、前記定義と同意義を意味する。mは、0または1を意味し、X3は塩素、臭素などのハロゲン原子を意味する。]
化合物(4AA)、(4AB)および(4B)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。また、実施例中の製造例等に記載の方法により製造することもできる。
[上記式中、A、Gおよびnは、前記定義と同意義を意味する。mは、0または1を意味し、X3は塩素、臭素などのハロゲン原子を意味する。]
化合物(4AA)、(4AB)および(4B)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。また、実施例中の製造例等に記載の方法により製造することもできる。
[工程6−1]
本工程は、化合物(4AA)を反応させて化合物(4AB)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、エタノールなどのアルコール系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は水素化ほう素ナトリウムなどの還元試薬を化合物(4AA)に対して1当量から10当量用いることができる。反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
本工程は、化合物(4AA)を反応させて化合物(4AB)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、エタノールなどのアルコール系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は水素化ほう素ナトリウムなどの還元試薬を化合物(4AA)に対して1当量から10当量用いることができる。反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
[工程6−2または6−3]
これらの工程は、化合物(4AB)または(4B)を反応させて化合物(4−1)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は塩化オキサリルなどの酸ハロゲン化物または塩化チオニルなどの無機ハロゲン化合物を化合物(4AB)または(4B)に対して1当量から10当量用い、添加物として触媒量のN,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどを加えることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
これらの工程は、化合物(4AB)または(4B)を反応させて化合物(4−1)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は塩化オキサリルなどの酸ハロゲン化物または塩化チオニルなどの無機ハロゲン化合物を化合物(4AB)または(4B)に対して1当量から10当量用い、添加物として触媒量のN,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどを加えることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
[製造方法7]化合物(4−3g)の製造方法
[上記式中、R2、R3、A、E、Gおよびnは、前記定義と同意義を意味する。X4は塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子もしくはメタンスルホネート、p−トルエンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネートなどのスルホン酸エステル系の脱離基を意味する。Pro4はエチル基などの公知のカルボン酸の保護基を意味する。]
化合物(4CB)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。また、実施例中の製造例等に記載の方法により製造することもできる。
化合物(4CA)または(4D)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。
[上記式中、R2、R3、A、E、Gおよびnは、前記定義と同意義を意味する。X4は塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子もしくはメタンスルホネート、p−トルエンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネートなどのスルホン酸エステル系の脱離基を意味する。Pro4はエチル基などの公知のカルボン酸の保護基を意味する。]
化合物(4CB)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。また、実施例中の製造例等に記載の方法により製造することもできる。
化合物(4CA)または(4D)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。
[工程7−1]
本工程は、化合物(4CA)にハロゲン化試薬を反応させて化合物(4CB)を得る、またはスルホン酸エステル化試薬を反応させて化合物(4CB)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、水またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。ハロゲン化反応は塩酸、臭化水素酸などのハロゲン化水素酸を過剰量用いることができる。その際に塩化亜鉛、臭化リチウムなどの無機塩化物、相関移動触媒などを用いることができる。また同反応はハロゲン化試薬として、三塩化りんなどのハロゲン化りん化合物を用いることができる。その際にN、N−ジメチルホルムアミドなどを作用させ、イミニウム塩として用いることもできる。また、トリフェニルホスフィンなどの有機りん化合物と四ハロゲン化炭素を組み合わせ、ハロゲン化試薬として用いることができる。また、塩化チオニルなどのハロゲン化試薬を用いることができる。その際、添加剤としてピリジンなどの塩基を用いることができる。ハロゲン化試薬の当量は1当量から10当量用いることができる。スルホン酸エステル化反応では、p−トルエンスルホニルクロリドなどのスルホン酸エステル化試薬を1当量から10当量用いることができ、添加剤としてトリエチルアミン、ピリジンなどの塩基を1当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
本工程は、化合物(4CA)にハロゲン化試薬を反応させて化合物(4CB)を得る、またはスルホン酸エステル化試薬を反応させて化合物(4CB)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、水またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。ハロゲン化反応は塩酸、臭化水素酸などのハロゲン化水素酸を過剰量用いることができる。その際に塩化亜鉛、臭化リチウムなどの無機塩化物、相関移動触媒などを用いることができる。また同反応はハロゲン化試薬として、三塩化りんなどのハロゲン化りん化合物を用いることができる。その際にN、N−ジメチルホルムアミドなどを作用させ、イミニウム塩として用いることもできる。また、トリフェニルホスフィンなどの有機りん化合物と四ハロゲン化炭素を組み合わせ、ハロゲン化試薬として用いることができる。また、塩化チオニルなどのハロゲン化試薬を用いることができる。その際、添加剤としてピリジンなどの塩基を用いることができる。ハロゲン化試薬の当量は1当量から10当量用いることができる。スルホン酸エステル化反応では、p−トルエンスルホニルクロリドなどのスルホン酸エステル化試薬を1当量から10当量用いることができ、添加剤としてトリエチルアミン、ピリジンなどの塩基を1当量から10当量用いることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
[工程7−2]
本工程は、化合物(4CB)に化合物(4D)を反応させて、化合物(4−3g)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応はトリエチルアミンなどの有機塩基、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いて縮合することもできる。化合物(4D)は化合物(4−CB)に対して1当量から10当量用い、塩基を0当量から10当量加えることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。Pro4は公知のカルボン酸の脱保護の方法により脱保護できる。
本工程は、化合物(4CB)に化合物(4D)を反応させて、化合物(4−3g)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応はトリエチルアミンなどの有機塩基、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いて縮合することもできる。化合物(4D)は化合物(4−CB)に対して1当量から10当量用い、塩基を0当量から10当量加えることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。Pro4は公知のカルボン酸の脱保護の方法により脱保護できる。
[製造方法8]化合物(4CB−1)の製造方法
[上記式中、Aおよびnは、前記定義と同意義を意味する。X3は、塩素、臭素などのハロゲン原子を意味する、X5は臭素、ヨウ素などのハロゲン原子を意味する。Pro4はエチル基などの公知のカルボン酸の保護基を意味する。]
化合物(4E)および(4F)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。
[上記式中、Aおよびnは、前記定義と同意義を意味する。X3は、塩素、臭素などのハロゲン原子を意味する、X5は臭素、ヨウ素などのハロゲン原子を意味する。Pro4はエチル基などの公知のカルボン酸の保護基を意味する。]
化合物(4E)および(4F)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。
[工程8−1]
本工程は、化合物(4E)に化合物(4F)を反応させて、化合物(4CB−1)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応はトリエチルアミンなどの有機塩基、炭酸カリウムなどの無機塩基を用いて縮合することができる。化合物(4F)は化合物(4E)に対して1当量から10当量用い、塩基を1当量から10当量加えることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。Pro4は公知のカルボン酸の脱保護の方法により脱保護することもできる。
本工程は、化合物(4E)に化合物(4F)を反応させて、化合物(4CB−1)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応はトリエチルアミンなどの有機塩基、炭酸カリウムなどの無機塩基を用いて縮合することができる。化合物(4F)は化合物(4E)に対して1当量から10当量用い、塩基を1当量から10当量加えることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。Pro4は公知のカルボン酸の脱保護の方法により脱保護することもできる。
[製造方法9]化合物(4−3b)、(4−5a)、(4−5b)、(4−5c)、(4−5d)、(4−5e)または(4−5f)の製造方法
[製造方法9−1]化合物(4−3b)の製造方法
[上記式中、R2、R3、A、Eは、前記定義と同意義を意味する。X6は塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子もしくはトリフルオロメタンスルホネートなどのスルホン酸エステル系の脱離基を意味する。Pro4はエチル基などの公知のカルボン酸の保護基を意味する。]
化合物(4GA)および(4GB)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。また、化合物(4GB)は、実施例中の製造例等に記載の方法により製造することもできる。
[上記式中、R2、R3、A、Eは、前記定義と同意義を意味する。X6は塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子もしくはトリフルオロメタンスルホネートなどのスルホン酸エステル系の脱離基を意味する。Pro4はエチル基などの公知のカルボン酸の保護基を意味する。]
化合物(4GA)および(4GB)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。また、化合物(4GB)は、実施例中の製造例等に記載の方法により製造することもできる。
[工程9−1−1]
本工程は、化合物(4GA)にハロゲン化試薬を反応させて化合物(4GB)を得る、またはスルホン酸エステル化試薬を反応させて化合物(4GB)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。ハロゲン化反応は五臭化りんなどのハロゲン化りんまたはトリフェニルホスフィンジブロミドなどのハロゲン化試薬を1当量から5当量用いることができる。スルホン酸エステル化反応では、トリフルオロメタンスルホン酸無水物などのスルホン酸エステル化試薬を1当量から5当量用いることができ、添加剤としてトリエチルアミン、ピリジンなどの塩基を1当量から10当量用いることができる。反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
本工程は、化合物(4GA)にハロゲン化試薬を反応させて化合物(4GB)を得る、またはスルホン酸エステル化試薬を反応させて化合物(4GB)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。ハロゲン化反応は五臭化りんなどのハロゲン化りんまたはトリフェニルホスフィンジブロミドなどのハロゲン化試薬を1当量から5当量用いることができる。スルホン酸エステル化反応では、トリフルオロメタンスルホン酸無水物などのスルホン酸エステル化試薬を1当量から5当量用いることができ、添加剤としてトリエチルアミン、ピリジンなどの塩基を1当量から10当量用いることができる。反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
[工程9−1−2]
本工程は、化合物(4GB)に化合物(4D)を反応させて、化合物(4−3b)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応はトリエチルアミンなどの有機塩基、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いて縮合することもできる。化合物(4D)は化合物(4GB)に対して1から10当量用い、塩基を0から10当量加えることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。また、本反応は銅などの重金属を加えることができ、パラジウムと有機りん配位子からなる有機金属触媒などを加えることもできる。Pro4は公知のカルボン酸の脱保護の方法により脱保護できる。
本工程は、化合物(4GB)に化合物(4D)を反応させて、化合物(4−3b)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応はトリエチルアミンなどの有機塩基、炭酸セシウムなどの無機塩基を用いて縮合することもできる。化合物(4D)は化合物(4GB)に対して1から10当量用い、塩基を0から10当量加えることができる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。また、本反応は銅などの重金属を加えることができ、パラジウムと有機りん配位子からなる有機金属触媒などを加えることもできる。Pro4は公知のカルボン酸の脱保護の方法により脱保護できる。
[製造方法9−2]化合物(4−5a)の製造方法
[上記式中、R2、R3、A、Eおよびnは、前記定義と同意義を意味する。Pro1はtert−ブトキシカルボニル基などの公知の窒素原子の保護基を意味する。Pro5はエチル基、ベンジル基などの公知のカルボン酸の保護基を意味する。]
化合物(4H)および(4I)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。
[上記式中、R2、R3、A、Eおよびnは、前記定義と同意義を意味する。Pro1はtert−ブトキシカルボニル基などの公知の窒素原子の保護基を意味する。Pro5はエチル基、ベンジル基などの公知のカルボン酸の保護基を意味する。]
化合物(4H)および(4I)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。
[工程9−2−1]
本工程は、化合物(4H)と化合物(4I)を反応させて化合物(4−5a)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は化合物(4H)を化合物(4I)に対して0.5当量から2当量用いることができる。本反応はアゾジカルボン酸ジイソプロピルなどのアゾジカルボン酸エステルおよびトリフェニルホスフィンを各々化合物(4H)と(4I)に対して1当量から5当量用いることができる。また、反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。Pro5は公知のカルボン酸の脱保護の方法により脱保護できる。
本工程は、化合物(4H)と化合物(4I)を反応させて化合物(4−5a)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は化合物(4H)を化合物(4I)に対して0.5当量から2当量用いることができる。本反応はアゾジカルボン酸ジイソプロピルなどのアゾジカルボン酸エステルおよびトリフェニルホスフィンを各々化合物(4H)と(4I)に対して1当量から5当量用いることができる。また、反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。Pro5は公知のカルボン酸の脱保護の方法により脱保護できる。
[製造方法9−3]化合物(4−5b)または(4−5c)の製造方法
[上記式中、R2、R3、AおよびEは、前記定義と同意義を意味する。X5は臭素、ヨウ素などのハロゲン原子を意味する。X7は臭素、ヨウ素などのハロゲン原子またはメタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネートなどのスルホン酸エステル系の脱離基を意味する。Mはほう酸エステルなどの脱離基を意味する。Pro1はtert−ブトキシカルボニル基などの公知の窒素原子の保護基を意味する。Pro5はエチル基、ベンジル基などの公知のカルボン酸の保護基を意味し、本反応では保護されていてもよく、保護されていなくともよい。]
化合物(4J)、(4K)および(4L)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。
[上記式中、R2、R3、AおよびEは、前記定義と同意義を意味する。X5は臭素、ヨウ素などのハロゲン原子を意味する。X7は臭素、ヨウ素などのハロゲン原子またはメタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネートなどのスルホン酸エステル系の脱離基を意味する。Mはほう酸エステルなどの脱離基を意味する。Pro1はtert−ブトキシカルボニル基などの公知の窒素原子の保護基を意味する。Pro5はエチル基、ベンジル基などの公知のカルボン酸の保護基を意味し、本反応では保護されていてもよく、保護されていなくともよい。]
化合物(4J)、(4K)および(4L)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。
[工程9−3−1]
本工程は、化合物(4J)と化合物(4K)を反応させて化合物(4−5b)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は化合物(4K)を化合物(4J)に対して0.5当量から2当量用いることができる。本反応は有機りん化合物を配位子とするパラジウム錯化合物を触媒として用いることができる。触媒の調整は反応系内で行うこともできる。本反応では亜鉛粉末を化合物(4J)に対して0.5当量から2当量用いることができる。また、添加剤としてハロゲン化銅、ジハロゲン化アルキル化合物、ハロゲン化有機ケイ素化合物などを加えることもできる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。Pro5は公知のカルボン酸の脱保護の方法により脱保護できる。
本工程は、化合物(4J)と化合物(4K)を反応させて化合物(4−5b)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は化合物(4K)を化合物(4J)に対して0.5当量から2当量用いることができる。本反応は有機りん化合物を配位子とするパラジウム錯化合物を触媒として用いることができる。触媒の調整は反応系内で行うこともできる。本反応では亜鉛粉末を化合物(4J)に対して0.5当量から2当量用いることができる。また、添加剤としてハロゲン化銅、ジハロゲン化アルキル化合物、ハロゲン化有機ケイ素化合物などを加えることもできる。反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。Pro5は公知のカルボン酸の脱保護の方法により脱保護できる。
[工程9−3−2]
本工程は、化合物(4J)と化合物(4L)を反応させて化合物(4−5c)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、1,4−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、エタノールなどのアルコール系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は化合物(4L)を化合物(4J)に対して0.5当量から2当量用いることができる。本反応は有機りん化合物を配位子とするパラジウム錯化合物を触媒として用いることができる。触媒の調整は反応系内で行うこともできる。本反応では炭酸ナトリウムなどの塩基を化合物(4J)に対して1当量から10当量用いることができる。また、反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
本工程は、化合物(4J)と化合物(4L)を反応させて化合物(4−5c)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、1,4−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、エタノールなどのアルコール系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は化合物(4L)を化合物(4J)に対して0.5当量から2当量用いることができる。本反応は有機りん化合物を配位子とするパラジウム錯化合物を触媒として用いることができる。触媒の調整は反応系内で行うこともできる。本反応では炭酸ナトリウムなどの塩基を化合物(4J)に対して1当量から10当量用いることができる。また、反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
[工程9−3−3]
本工程は、化合物(4−5c)の還元、脱保護を行い、化合物(4−5b)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、エタノールなどのアルコール系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は化合物(4−5c)をパラジウム−炭素などの接触還元触媒を0.001当量から1当量用いることができる。また、常圧から20気圧の水素雰囲気下にて行うことができる。また、反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。Pro5は公知のカルボン酸の脱保護の方法により脱保護できる。
本工程は、化合物(4−5c)の還元、脱保護を行い、化合物(4−5b)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、エタノールなどのアルコール系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は化合物(4−5c)をパラジウム−炭素などの接触還元触媒を0.001当量から1当量用いることができる。また、常圧から20気圧の水素雰囲気下にて行うことができる。また、反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。Pro5は公知のカルボン酸の脱保護の方法により脱保護できる。
[製造方法9−4]化合物(4−5d)または(4−5e)の製造方法
[上記式中、R3、AおよびEは、前記定義と同意義を意味する。X8はフッ素などのハロゲン原子を意味する。Pro1はtert−ブトキシカルボニル基などの公知の窒素原子の保護基を意味する。Pro4はエチル基などの公知のカルボン酸の保護基を意味し、本反応では保護されていてもよく、保護されていなくともよい。]
化合物(4−5c)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。また、実施例中の製造例等に記載の方法により製造することもできる。
[上記式中、R3、AおよびEは、前記定義と同意義を意味する。X8はフッ素などのハロゲン原子を意味する。Pro1はtert−ブトキシカルボニル基などの公知の窒素原子の保護基を意味する。Pro4はエチル基などの公知のカルボン酸の保護基を意味し、本反応では保護されていてもよく、保護されていなくともよい。]
化合物(4−5c)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。また、実施例中の製造例等に記載の方法により製造することもできる。
[工程9−4−1]
本工程は、化合物(4−5c)を反応させて化合物(4−5d)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒を用いることができる。本反応はボラン−メチルスルフィド錯体などのボラン錯化合物を化合物(4−5c)に対して1当量から2当量用いることができる。また、反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。続いて水酸化ナトリウム水溶液を1当量から10当量、過酸化水素水を1当量から10当量用いることで水酸基に導くことができる。また、反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
本工程は、化合物(4−5c)を反応させて化合物(4−5d)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒を用いることができる。本反応はボラン−メチルスルフィド錯体などのボラン錯化合物を化合物(4−5c)に対して1当量から2当量用いることができる。また、反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。続いて水酸化ナトリウム水溶液を1当量から10当量、過酸化水素水を1当量から10当量用いることで水酸基に導くことができる。また、反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
[工程9−4−2]
本工程は、化合物(4−5d)の水酸基をハロゲン置換して化合物(4−5e)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は化合物(4−5d)に[ビス−(2−メトキシエチル)−アミノ]−サルファー トリフルオリドなどのハロゲン化試薬を1当量から10当量用いることができる。また、反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。Pro4は公知のカルボン酸の脱保護の方法により脱保護できる。
本工程は、化合物(4−5d)の水酸基をハロゲン置換して化合物(4−5e)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は化合物(4−5d)に[ビス−(2−メトキシエチル)−アミノ]−サルファー トリフルオリドなどのハロゲン化試薬を1当量から10当量用いることができる。また、反応温度は0℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。Pro4は公知のカルボン酸の脱保護の方法により脱保護できる。
[製造方法9−5]化合物(4−5f)の製造方法
[上記式中、R2、R3、AおよびEは、前記定義と同意義を意味する。X7は臭素、ヨウ素などのハロゲン原子またはメタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネートなどのスルホン酸エステル系の脱離基を意味する。Pro1はtert−ブトキシカルボニル基などの公知の窒素原子の保護基を意味する。Pro4はエチル基などの公知のカルボン酸の保護基を意味し、本反応では保護されていてもよく、保護されていなくともよい。]
化合物(4−5b)および(4K)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。また、実施例中の製造例等に記載の方法により製造することもできる。
[上記式中、R2、R3、AおよびEは、前記定義と同意義を意味する。X7は臭素、ヨウ素などのハロゲン原子またはメタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネートなどのスルホン酸エステル系の脱離基を意味する。Pro1はtert−ブトキシカルボニル基などの公知の窒素原子の保護基を意味する。Pro4はエチル基などの公知のカルボン酸の保護基を意味し、本反応では保護されていてもよく、保護されていなくともよい。]
化合物(4−5b)および(4K)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。また、実施例中の製造例等に記載の方法により製造することもできる。
[工程9−5−1]
本工程は、化合物(4−5b)と化合物(4K)を反応させて化合物(4−5f)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は化合物(4K)を化合物(4−5b)に対して0.5当量から2当量用いることができる。また、水素化ナトリウム、カリウム tert−ブトキシドなどの塩基を化合物(4−5b)に対して1当量から5当量用いることができる。反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。Pro4は公知のカルボン酸の脱保護の方法により脱保護できる。
本工程は、化合物(4−5b)と化合物(4K)を反応させて化合物(4−5f)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。本反応は化合物(4K)を化合物(4−5b)に対して0.5当量から2当量用いることができる。また、水素化ナトリウム、カリウム tert−ブトキシドなどの塩基を化合物(4−5b)に対して1当量から5当量用いることができる。反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。Pro4は公知のカルボン酸の脱保護の方法により脱保護できる。
[製造方法10]化合物(4K)の製造方法
[上記式中、R2、R3およびEは、前記定義と同意義を意味する。X7は臭素、ヨウ素などのハロゲン原子またはメタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネートなどのスルホン酸エステル系の脱離基を意味する。Pro1はtert−ブトキシカルボニル基などの公知の窒素原子の保護基を意味する。]
化合物(5K)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。
[上記式中、R2、R3およびEは、前記定義と同意義を意味する。X7は臭素、ヨウ素などのハロゲン原子またはメタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネートなどのスルホン酸エステル系の脱離基を意味する。Pro1はtert−ブトキシカルボニル基などの公知の窒素原子の保護基を意味する。]
化合物(5K)は、市販品をそのまま用いることもでき、市販品から公知の方法で製造することもできる。
[工程10]
本工程は、化合物(5K)にハロゲン化試薬を反応させて化合物(4K)を得る、またはスルホン酸エステル化試薬を反応させて化合物(4K)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。ハロゲン化反応は五臭化りんなどのハロゲン化りんまたはトリフェニルホスフィンジブロミドなどのハロゲン化試薬を1当量から5当量用いることができる。スルホン酸エステル化反応では、メタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホン酸無水物などのスルホン酸エステル化試薬を1当量から5当量用いることができ、添加剤としてトリエチルアミン、ピリジンなどの塩基を1当量から10当量用いることができる。反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
本工程は、化合物(5K)にハロゲン化試薬を反応させて化合物(4K)を得る、またはスルホン酸エステル化試薬を反応させて化合物(4K)を得る工程である。本反応に用いる溶媒としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒またはこれらの混合溶媒などを用いることができる。ハロゲン化反応は五臭化りんなどのハロゲン化りんまたはトリフェニルホスフィンジブロミドなどのハロゲン化試薬を1当量から5当量用いることができる。スルホン酸エステル化反応では、メタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホン酸無水物などのスルホン酸エステル化試薬を1当量から5当量用いることができ、添加剤としてトリエチルアミン、ピリジンなどの塩基を1当量から10当量用いることができる。反応温度は−20℃から還流温度であり、反応時間は10分間から24時間である。
本発明に係る化合物は、例えば以下の製造例および実施例に記載した方法により製造することができる。ただし、これらは例示的なものであって、本発明に係る化合物は如何なる場合も以下の具体例に限定されるものではない。
製造例および実施例中、特に記載がない場合は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに使用している精製用シリカゲルとしては、Silica gel 60(Kanto Chemicals)またはPresep Silica Gel(WAKO)を用いた。また、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィーに使用している精製用シリカゲルは、NHシリカゲル(Fuji Silysia Chemical LTD.)またはHi−Flash Column Amino(YAMAZENE CORPORATION)、NHシリカゲルTLC(Thin Layer Chromatography)に使用している薄層板は、TLC Plates NH(20cm×20cm、Fuji Silysia Chemical LTD.)を用いた。
プロトン核磁気共鳴スペクトルの測定には、Varian Mercury 400、Varian Mercury Plus 400、Varian INOVA 500またはAvance 600 MHzspectrometer (Bruker)を用い、特に記載のない限り、400メガヘルツで測定した。プロトン核磁気共鳴スペクトルの化学シフトは、テトラメチルシランに対するδ単位(ppm)で記録され、カップリング定数はヘルツ(Hz)で記録されている。分裂パターンの略号は以下の通りである。s:シングレット、d:ダブレット、t:トリプレット、q:カルテット、quin:クインテット、spt:セプテット、m:マルチプレット、brs:ブロードシングレット。
マススペクトルの測定には、Waters Micromass ZQ 2000、Waters SQ Detector2またはThermo Fisher Scientific LCQを用いた。イオン化方法には、エレクトロスプレー法(ESI ; Electrospray ionization)を用いて測定した。
製造例および実施例中、市販されている化合物は、適宜、市販品を用いた。
以下の記載中「BOC」はtert−ブトキシカルボニルを、「T」はTertを意味する。
以下の記載中「BOC」はtert−ブトキシカルボニルを、「T」はTertを意味する。
[実施例1]6−メトキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例1−8に記載のtert−ブチル 4−(4−((4−((6−メトキシ−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレート(3.42g、5.70mmol)をジクロロメタン(45mL)に溶解させ、0℃でトリフルオロ酢酸(15mL)を加えた。室温にて60分間攪拌後、減圧濃縮し、残渣をジクロロメタン−トリエチルアミンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=97:3〜4:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、析出物をジエチルエーテルと酢酸エチルを用いて濾取洗浄し、標記化合物(2.61g、92%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.55-1.70 (2H, m), 1.78-1.88 (2H, m), 2.62-2.80 (3H, m), 3.06(3H, d, J=4.8 Hz), 3.15-3.24 (2H, m), 3.86 (3H, s), 5.52-5.61 (1H, m), 6.54 (1H,d, J=3.3 Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.7, 2.4 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.28-7.35(3H, m), 7.80 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.03 (1H, s), 8.10 (1H,d, J=5.9 Hz), 8.53 (1H, brs).
製造例1−8に記載のtert−ブチル 4−(4−((4−((6−メトキシ−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレート(3.42g、5.70mmol)をジクロロメタン(45mL)に溶解させ、0℃でトリフルオロ酢酸(15mL)を加えた。室温にて60分間攪拌後、減圧濃縮し、残渣をジクロロメタン−トリエチルアミンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=97:3〜4:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、析出物をジエチルエーテルと酢酸エチルを用いて濾取洗浄し、標記化合物(2.61g、92%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.55-1.70 (2H, m), 1.78-1.88 (2H, m), 2.62-2.80 (3H, m), 3.06(3H, d, J=4.8 Hz), 3.15-3.24 (2H, m), 3.86 (3H, s), 5.52-5.61 (1H, m), 6.54 (1H,d, J=3.3 Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.7, 2.4 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.28-7.35(3H, m), 7.80 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.03 (1H, s), 8.10 (1H,d, J=5.9 Hz), 8.53 (1H, brs).
出発物質のtert−ブチル 4−(4−((4−((6−メトキシ−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレートは以下の方法で合成した。
[製造例1−1](E)−2−(ベンジルオキシ)−1−メトキシ−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン
市販の3−ベンジルオキシ−4−メトキシベンズアルデヒド(30g、124mmol)を酢酸(100mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温で酢酸アンモニウム(10.8g、140mmol)、ニトロメタン(16.8mL、310mmol)を加え、130℃にて2時間20分加熱攪拌した。室温まで冷却後、析出物を濾取し、エタノールにて洗浄し、標記化合物(28.5g、81%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.95 (3H, s), 5.18 (2H, s), 6.93 (1H, d, J=8.1 Hz), 7.03 (1H,d, J=2.2 Hz), 7.17 (1H, dd, J=8.4, 2.2 Hz), 7.30-7.47 (6H, m), 7.91 (1H, d, J=13.5Hz).
市販の3−ベンジルオキシ−4−メトキシベンズアルデヒド(30g、124mmol)を酢酸(100mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温で酢酸アンモニウム(10.8g、140mmol)、ニトロメタン(16.8mL、310mmol)を加え、130℃にて2時間20分加熱攪拌した。室温まで冷却後、析出物を濾取し、エタノールにて洗浄し、標記化合物(28.5g、81%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.95 (3H, s), 5.18 (2H, s), 6.93 (1H, d, J=8.1 Hz), 7.03 (1H,d, J=2.2 Hz), 7.17 (1H, dd, J=8.4, 2.2 Hz), 7.30-7.47 (6H, m), 7.91 (1H, d, J=13.5Hz).
[製造例1−2](E)−1−(ベンジルオキシ)−2−メトキシ−4−ニトロ−5−(2−ニトロビニル)ベンゼン
製造例1−1に記載の(E)−2−(ベンジルオキシ)−1−メトキシ−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン(10g、35.1mmol)、酢酸(70mL)の混合物に、窒素雰囲気下、25℃にて69%硝酸(10mL、155mmol)を加え、40℃にて3時間攪拌した。反応混合物を氷にあけ、沈殿物を濾取後、エタノールで洗浄し、標記化合物(10.5g、91%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 4.02 (3H, s), 5.28 (2H, s), 6.93 (1H, s), 7.22 (1H, d, J=13.5Hz), 7.35-7.48 (5H, m), 7.75 (1H, s), 8.58 (1H, d, J=13.2 Hz).
製造例1−1に記載の(E)−2−(ベンジルオキシ)−1−メトキシ−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン(10g、35.1mmol)、酢酸(70mL)の混合物に、窒素雰囲気下、25℃にて69%硝酸(10mL、155mmol)を加え、40℃にて3時間攪拌した。反応混合物を氷にあけ、沈殿物を濾取後、エタノールで洗浄し、標記化合物(10.5g、91%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 4.02 (3H, s), 5.28 (2H, s), 6.93 (1H, s), 7.22 (1H, d, J=13.5Hz), 7.35-7.48 (5H, m), 7.75 (1H, s), 8.58 (1H, d, J=13.2 Hz).
[製造例1−3]6−メトキシ−1H−インドール−5−オール
製造例1−2に記載の(E)−1−(ベンジルオキシ)−2−メトキシ−4−ニトロ−5−(2−ニトロビニル)ベンゼン(9.4g、28.5mmol)をメタノール(300mL)に懸濁させた後、10%パラジウム−炭素(50%含水品)(3.09g)を加えて水素雰囲気下で3時間攪拌した。触媒をセライトを用いて濾過し、メタノールで洗浄した。濾液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:1〜3:7)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(2.12g、46%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.92 (3H, s), 5.45 (1H, s), 6.39-6.44 (1H, m), 6.88 (1H, s), 7.08(1H, t, J=2.9 Hz), 7.14 (1H, s), 7.95 (1H, brs).
製造例1−2に記載の(E)−1−(ベンジルオキシ)−2−メトキシ−4−ニトロ−5−(2−ニトロビニル)ベンゼン(9.4g、28.5mmol)をメタノール(300mL)に懸濁させた後、10%パラジウム−炭素(50%含水品)(3.09g)を加えて水素雰囲気下で3時間攪拌した。触媒をセライトを用いて濾過し、メタノールで洗浄した。濾液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:1〜3:7)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(2.12g、46%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.92 (3H, s), 5.45 (1H, s), 6.39-6.44 (1H, m), 6.88 (1H, s), 7.08(1H, t, J=2.9 Hz), 7.14 (1H, s), 7.95 (1H, brs).
[製造例1−4]4−((6−メトキシ−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン
製造例1−3に記載の6−メトキシ−1H−インドール−5−オール(2.86g、17.6mmol)、製造例1−5に記載のN−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミド(8.98g、52.7mmol)、カリウム tert−ブトキシド(3.94g、35.1mmol)を窒素雰囲気下、ジメチルスルホキシド(45mL)に溶解させ、160℃にて12.5時間加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、水と酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで2回抽出し、合わせた有機層を水で2回、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を減圧濃縮し、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜9:1)で精製した。混合物画分を減圧濃縮後、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜9:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物(3.88g)を得た。
粗生成物(3.88g)をメタノール(75mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて28%ナトリウムメトキシド(14mL、68.6mmol)を加えて、次いで70℃にて5.5時間加熱攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、水と酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで1回抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を減圧濃縮し、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:3〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜19:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(1.97g、44%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.82 (3H, s), 4.29 (2H, brs), 5.89-5.92 (1H, m), 6.30 (1H, dd,J=5.9, 2.2 Hz), 6.49 (1H, ddd, J=3.2, 2.2, 0.9 Hz), 7.01 (1H, s), 7.17 (1H, dd,J=3.1, 2.4 Hz), 7.33 (1H, s), 7.89 (1H, d, J=6.0 Hz), 8.19 (1H, brs).
製造例1−3に記載の6−メトキシ−1H−インドール−5−オール(2.86g、17.6mmol)、製造例1−5に記載のN−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミド(8.98g、52.7mmol)、カリウム tert−ブトキシド(3.94g、35.1mmol)を窒素雰囲気下、ジメチルスルホキシド(45mL)に溶解させ、160℃にて12.5時間加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、水と酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで2回抽出し、合わせた有機層を水で2回、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を減圧濃縮し、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜9:1)で精製した。混合物画分を減圧濃縮後、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜9:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物(3.88g)を得た。
粗生成物(3.88g)をメタノール(75mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて28%ナトリウムメトキシド(14mL、68.6mmol)を加えて、次いで70℃にて5.5時間加熱攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、水と酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで1回抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を減圧濃縮し、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:3〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜19:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(1.97g、44%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.82 (3H, s), 4.29 (2H, brs), 5.89-5.92 (1H, m), 6.30 (1H, dd,J=5.9, 2.2 Hz), 6.49 (1H, ddd, J=3.2, 2.2, 0.9 Hz), 7.01 (1H, s), 7.17 (1H, dd,J=3.1, 2.4 Hz), 7.33 (1H, s), 7.89 (1H, d, J=6.0 Hz), 8.19 (1H, brs).
[製造例1−5]N−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミド
市販の2−アミノ−4−クロロピリジン(50g、389mmol)を無水酢酸(500mL)に溶解し、20℃にてトリエチルアミン(271mL、1.94mol)を加え、60℃で12時間攪拌した。25℃まで冷却した後に、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜1:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(66g、99%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.21 (3H, s), 7.05 (1H, dd, J=5.4, 1.9 Hz), 8.15 (1H, d, J=5.4Hz), 8.30 (2H, brs).
市販の2−アミノ−4−クロロピリジン(50g、389mmol)を無水酢酸(500mL)に溶解し、20℃にてトリエチルアミン(271mL、1.94mol)を加え、60℃で12時間攪拌した。25℃まで冷却した後に、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜1:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(66g、99%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.21 (3H, s), 7.05 (1H, dd, J=5.4, 1.9 Hz), 8.15 (1H, d, J=5.4Hz), 8.30 (2H, brs).
[製造例1−6]5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例1−4に記載の4−((6−メトキシ−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン(1.7g、6.66mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(25mL)に溶解し、窒素雰囲気下、0℃にて50−72%水素化ナトリウム 油状(424mg)を加えて室温で45分間攪拌した。再度0℃に冷却し、製造例1−7に記載のフェニル メチルカーバメート(1.64g、10.8mmol)を加え、室温で3時間攪拌した。反応混合物に、飽和塩化アンモニウム水溶液、水、酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで1回抽出し、合わせた有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を減圧濃縮し、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:3〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜19:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、酢酸エチルにて析出物を濾取洗浄し、標記化合物(1.37g、66%)を得た。混合物分画を減圧濃縮し、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:7〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜19:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、析出物を濾取、酢酸エチルで2回洗浄し標記化合物(387mg、19%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.07 (3H, d, J=4.6 Hz), 3.86 (3H, s), 4.31 (2H, brs),5.44-5.56 (1H, m), 5.89 (1H, d, J=2.2 Hz), 6.27 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 6.55 (1H,d, J=3.7 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.25-7.28 (1H, m), 7.89 (1H, d, J=5.9Hz), 8.01 (1H, brs).
製造例1−4に記載の4−((6−メトキシ−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン(1.7g、6.66mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(25mL)に溶解し、窒素雰囲気下、0℃にて50−72%水素化ナトリウム 油状(424mg)を加えて室温で45分間攪拌した。再度0℃に冷却し、製造例1−7に記載のフェニル メチルカーバメート(1.64g、10.8mmol)を加え、室温で3時間攪拌した。反応混合物に、飽和塩化アンモニウム水溶液、水、酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで1回抽出し、合わせた有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を減圧濃縮し、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:3〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜19:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、酢酸エチルにて析出物を濾取洗浄し、標記化合物(1.37g、66%)を得た。混合物分画を減圧濃縮し、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:7〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜19:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、析出物を濾取、酢酸エチルで2回洗浄し標記化合物(387mg、19%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.07 (3H, d, J=4.6 Hz), 3.86 (3H, s), 4.31 (2H, brs),5.44-5.56 (1H, m), 5.89 (1H, d, J=2.2 Hz), 6.27 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 6.55 (1H,d, J=3.7 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.25-7.28 (1H, m), 7.89 (1H, d, J=5.9Hz), 8.01 (1H, brs).
試薬のフェニル メチルカーバメートは以下の方法で合成した。
[製造例1−7]フェニル メチルカーバメート
市販のメチルアミン塩酸塩(50g、0.74mol)、ピリジン(124mL、1.53mol)およびN,N−ジメチルホルムアミド(500mL)の混合物を5℃にて攪拌し、市販のクロロ炭酸フェニル(94mL、0.75mol)を2時間かけて滴下し加えた。滴下後、窒素雰囲気下、室温にて16時間攪拌した。反応混合物を氷水(2L)に加え、酢酸エチル(1.5L)で2回抽出を行った。有機層を水(1L)および飽和食塩水(300mL)で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。濃縮残渣にn−ヘプタンおよび酢酸エチルを加え、沈殿物をn−ヘプタンおよびtert−ブチルメチルエーテルを用いて濾取洗浄し、標記化合物(74.2g、66%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.90 (3H, d, J=4.9 Hz), 4.95 (1H, brs), 7.08-7.16 (2H, m), 7.16-7.24(1H, m), 7.31-7.41 (2H, m)
市販のメチルアミン塩酸塩(50g、0.74mol)、ピリジン(124mL、1.53mol)およびN,N−ジメチルホルムアミド(500mL)の混合物を5℃にて攪拌し、市販のクロロ炭酸フェニル(94mL、0.75mol)を2時間かけて滴下し加えた。滴下後、窒素雰囲気下、室温にて16時間攪拌した。反応混合物を氷水(2L)に加え、酢酸エチル(1.5L)で2回抽出を行った。有機層を水(1L)および飽和食塩水(300mL)で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。濃縮残渣にn−ヘプタンおよび酢酸エチルを加え、沈殿物をn−ヘプタンおよびtert−ブチルメチルエーテルを用いて濾取洗浄し、標記化合物(74.2g、66%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.90 (3H, d, J=4.9 Hz), 4.95 (1H, brs), 7.08-7.16 (2H, m), 7.16-7.24(1H, m), 7.31-7.41 (2H, m)
[製造例1−8]tert−ブチル 4−(4−((4−((6−メトキシ−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレート
ベンゾトリアゾール(2.32g、19.5mmol)をジクロロメタン(100mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて塩化チオニル(1.4mL、19.2mmol)を加え5分間攪拌した。反応混合物に製造例1−12に記載の4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(5.4g、17.7mmol)を室温にて加え、25分間攪拌した。反応混合物を無水硫酸ナトリウムを敷き詰めたグラスフィルターで濾過後、ジクロロメタンで洗浄し、濾液を製造例1−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(2.5g、8.01mmol)、トリエチルアミン(11mL、79.4mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(101mg、0.827mmol)のテトラヒドロフラン(80mL)混合物に0℃にて加えた。室温で5時間攪拌後、反応混合物を減圧濃縮した。残渣に水と酢酸エチルを加えて分配し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過した。濾液を減圧濃縮し、残渣をテトラヒドロフランに溶解させ、過剰量の9.8Mメチルアミン メタノール溶液を室温にて加え、50分間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜1:3〜0:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、析出物をジエチルエーテルと酢酸エチルを用いて濾取洗浄し、標記化合物(3.15g、66%)を得た。濾液は混合物画分と合わせて減圧濃縮し、ジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜1:3〜0:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、析出物をジエチルエーテルと酢酸エチルにて濾取洗浄し、標記化合物(264mg、5.5%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.48 (9H, s), 1.55-1.69 (2H, m), 1.77-1.87 (2H, m), 2.64-2.89(3H, m), 3.02-3.07 (3H, m), 3.86 (3H, s), 4.26 (2H, brs), 5.62 (1H, brs),6.50-6.55 (1H, m), 6.61 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 7.22 (1H, d, J=3.7 Hz),7.27-7.33 (3H, m), 7.80 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.90 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.04 (1H, s),8.09 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.54 (1H, brs).
ベンゾトリアゾール(2.32g、19.5mmol)をジクロロメタン(100mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて塩化チオニル(1.4mL、19.2mmol)を加え5分間攪拌した。反応混合物に製造例1−12に記載の4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(5.4g、17.7mmol)を室温にて加え、25分間攪拌した。反応混合物を無水硫酸ナトリウムを敷き詰めたグラスフィルターで濾過後、ジクロロメタンで洗浄し、濾液を製造例1−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(2.5g、8.01mmol)、トリエチルアミン(11mL、79.4mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(101mg、0.827mmol)のテトラヒドロフラン(80mL)混合物に0℃にて加えた。室温で5時間攪拌後、反応混合物を減圧濃縮した。残渣に水と酢酸エチルを加えて分配し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過した。濾液を減圧濃縮し、残渣をテトラヒドロフランに溶解させ、過剰量の9.8Mメチルアミン メタノール溶液を室温にて加え、50分間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜1:3〜0:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、析出物をジエチルエーテルと酢酸エチルを用いて濾取洗浄し、標記化合物(3.15g、66%)を得た。濾液は混合物画分と合わせて減圧濃縮し、ジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜1:3〜0:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、析出物をジエチルエーテルと酢酸エチルにて濾取洗浄し、標記化合物(264mg、5.5%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.48 (9H, s), 1.55-1.69 (2H, m), 1.77-1.87 (2H, m), 2.64-2.89(3H, m), 3.02-3.07 (3H, m), 3.86 (3H, s), 4.26 (2H, brs), 5.62 (1H, brs),6.50-6.55 (1H, m), 6.61 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 7.22 (1H, d, J=3.7 Hz),7.27-7.33 (3H, m), 7.80 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.90 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.04 (1H, s),8.09 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.54 (1H, brs).
4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッドは、以下の方法で合成した。
[製造例1−9]1−(4−フェニルピペリジン−1−イル)エタノン
市販の4−フェニルピペリジン(10g、62mmol)、ピリジン(5.7mL、70.5mmol)およびテトラヒドロフラン(80mL)の混合物を0℃にて攪拌し、塩化アセチル(5mL、70.3mmol)およびテトラヒドロフラン(20mL)の混合物を10分間かけて滴下した。その混合物を窒素分囲気下、25℃にて14時間攪拌した。反応液に酢酸エチル(100mL)、水(100mL)を加え、分液した。水層を酢酸エチル(100mL)で抽出した後、有機層を合わせ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(100mL)、水(100mL)、続いて飽和食塩水(50mL)で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、標記化合物(12.3g、98%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.52-1.78 (2H, m), 1.81-1.99 (2H, m), 2.14 (3H, s), 2.63 (1H,td, J=12.9, 2.7 Hz), 2.74 (1H, tt, J=12.1, 3.7 Hz), 3.17 (1H, td, J=13.2, 2.6Hz), 3.84-4.02 (1H, m), 4.69-4.89 (1H, m), 7.08-7.43 (5H, m).
市販の4−フェニルピペリジン(10g、62mmol)、ピリジン(5.7mL、70.5mmol)およびテトラヒドロフラン(80mL)の混合物を0℃にて攪拌し、塩化アセチル(5mL、70.3mmol)およびテトラヒドロフラン(20mL)の混合物を10分間かけて滴下した。その混合物を窒素分囲気下、25℃にて14時間攪拌した。反応液に酢酸エチル(100mL)、水(100mL)を加え、分液した。水層を酢酸エチル(100mL)で抽出した後、有機層を合わせ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(100mL)、水(100mL)、続いて飽和食塩水(50mL)で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、標記化合物(12.3g、98%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.52-1.78 (2H, m), 1.81-1.99 (2H, m), 2.14 (3H, s), 2.63 (1H,td, J=12.9, 2.7 Hz), 2.74 (1H, tt, J=12.1, 3.7 Hz), 3.17 (1H, td, J=13.2, 2.6Hz), 3.84-4.02 (1H, m), 4.69-4.89 (1H, m), 7.08-7.43 (5H, m).
[製造例1−10]4−(1−アセチルピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド
塩化アルミニウム(III)(26g、195mmol)およびジクロロメタン(200mL)の混合物を0℃にて攪拌し、塩化オキサリル(20mL、228mmol)を10分間かけ滴下した。続いて、製造例1−9に記載の1−(4−フェニルピペリジン−1−イル)エタノン(12.3g、60.5mmol)およびジクロロメタン(50mL)の混合物を30分間かけ滴下した。その混合物を窒素分囲気下、25℃にて14時間攪拌した。反応液を氷にあけ、酢酸エチル(1L)、水(1L)を加え、分液した。水層を2回酢酸エチル(1L)で抽出した後、有機層を水(1L)で二回、続いて飽和食塩水(500mL)で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。濃縮残渣に酢酸エチルを加え、生成物を酢酸エチルを用いて濾取洗浄し、標記化合物(9.09g、61%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.49-1.82 (2H, m), 1.92 (2H, t, J=13.2 Hz), 2. 15 (3H, s), 2.65(1H, t, J=11.7 Hz), 2.75-2.94 (1H, m), 3.08-3.30 (1H, m), 3.97 (1H, d, J=13.2Hz), 4.82 (1H, d, J=12.8 Hz), 7.30 (2H, d, J=8.4 Hz), 8.05 (2H, d, J=8.1 Hz).
塩化アルミニウム(III)(26g、195mmol)およびジクロロメタン(200mL)の混合物を0℃にて攪拌し、塩化オキサリル(20mL、228mmol)を10分間かけ滴下した。続いて、製造例1−9に記載の1−(4−フェニルピペリジン−1−イル)エタノン(12.3g、60.5mmol)およびジクロロメタン(50mL)の混合物を30分間かけ滴下した。その混合物を窒素分囲気下、25℃にて14時間攪拌した。反応液を氷にあけ、酢酸エチル(1L)、水(1L)を加え、分液した。水層を2回酢酸エチル(1L)で抽出した後、有機層を水(1L)で二回、続いて飽和食塩水(500mL)で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。濃縮残渣に酢酸エチルを加え、生成物を酢酸エチルを用いて濾取洗浄し、標記化合物(9.09g、61%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.49-1.82 (2H, m), 1.92 (2H, t, J=13.2 Hz), 2. 15 (3H, s), 2.65(1H, t, J=11.7 Hz), 2.75-2.94 (1H, m), 3.08-3.30 (1H, m), 3.97 (1H, d, J=13.2Hz), 4.82 (1H, d, J=12.8 Hz), 7.30 (2H, d, J=8.4 Hz), 8.05 (2H, d, J=8.1 Hz).
[製造例1−11]4−(ピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド塩酸塩
製造例1−10に記載の4−(1−アセチルピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(4.50g、18.2mmol)および5M塩酸(50mL、250mmol)の混合物を窒素雰囲気下、140℃にて18時間攪拌した。室温に冷却後、生成物を濾取、水で洗浄し、標記化合物(3.77g、86%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 1.60-2.15 (4H, m), 2.76-3.16 (3H, m), 3.27-3.45 (2H, m), 7.36(2H, d, J=8.1 Hz), 7.92 (2H, d, J=8.1 Hz), 8.65-9.04 (2H, m), 12.89 (1H, brs).
製造例1−10に記載の4−(1−アセチルピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(4.50g、18.2mmol)および5M塩酸(50mL、250mmol)の混合物を窒素雰囲気下、140℃にて18時間攪拌した。室温に冷却後、生成物を濾取、水で洗浄し、標記化合物(3.77g、86%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 1.60-2.15 (4H, m), 2.76-3.16 (3H, m), 3.27-3.45 (2H, m), 7.36(2H, d, J=8.1 Hz), 7.92 (2H, d, J=8.1 Hz), 8.65-9.04 (2H, m), 12.89 (1H, brs).
[製造例1−12]4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド
製造例1−11に記載の4−(ピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド塩酸塩(2.00g、8.27mmol)、1M水酸化ナトリウム溶液(25mL、25mmol)およびアセトン(50mL)の混合物を25℃にて攪拌し、ジ−tert−ブチル ジカーボネート (1.9 g、8.71mmol)のアセトン(25mL)溶液を10分間かけ滴下し加えた。混合物を窒素雰囲気下、25℃にて18時間攪拌した。0℃にて冷却下、1M塩酸(17mL)を加えた。酢酸エチル(100mL)で2回抽出を行った。有機層を飽和食塩水(50mL)で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。濃縮残渣にn−ヘプタンおよびtert−ブチルメチルエーテルを加え、生成物をn−ヘプタンを用いて濾取洗浄し、標記化合物(2.30g、91%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.49 (9H, s), 1.57-1.76 (2H, m), 1.84 (2H, d, J=13.5 Hz), 2.62-2.97(3H, m), 4.27 (2H, brs), 7.28-7.36 (2H, m), 7.98-8.10 (2H, m).
製造例1−11に記載の4−(ピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド塩酸塩(2.00g、8.27mmol)、1M水酸化ナトリウム溶液(25mL、25mmol)およびアセトン(50mL)の混合物を25℃にて攪拌し、ジ−tert−ブチル ジカーボネート (1.9 g、8.71mmol)のアセトン(25mL)溶液を10分間かけ滴下し加えた。混合物を窒素雰囲気下、25℃にて18時間攪拌した。0℃にて冷却下、1M塩酸(17mL)を加えた。酢酸エチル(100mL)で2回抽出を行った。有機層を飽和食塩水(50mL)で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。濃縮残渣にn−ヘプタンおよびtert−ブチルメチルエーテルを加え、生成物をn−ヘプタンを用いて濾取洗浄し、標記化合物(2.30g、91%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.49 (9H, s), 1.57-1.76 (2H, m), 1.84 (2H, d, J=13.5 Hz), 2.62-2.97(3H, m), 4.27 (2H, brs), 7.28-7.36 (2H, m), 7.98-8.10 (2H, m).
[実施例2]5−((2−(4−(1−エチルピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
実施例1に記載の6−メトキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(3.03g、6.06mmol)とテトラヒドロフラン(80mL)の混合物に、アセトアルデヒド(0.677mL、12.1mmol)とトリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(2.57g、12.1mmol)を加え、室温にて3時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水を加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:4〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜9:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、残渣をn−ヘプタンとジエチルエーテルを用いて濾取洗浄し、標記化合物(2.61g、82%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.12 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.77-1.90 (4H, m), 1.98-2.07 (2H, m),2.45 (2H, q, J=7.1 Hz), 2.52-2.62 (1H, m), 3.05-3.12 (5H, m), 3.83 (3H, s), 5.50-5.58(1H, m), 6.55 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.9, 2.4 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7Hz), 7.30-7.35 (3H, m), 7.79 (2H, d, J=8.2 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.4 Hz), 8.03(1H, s), 8.10 (1H, d, J=5.7 Hz), 8.50 (1H, brs).
実施例1に記載の6−メトキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(3.03g、6.06mmol)とテトラヒドロフラン(80mL)の混合物に、アセトアルデヒド(0.677mL、12.1mmol)とトリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(2.57g、12.1mmol)を加え、室温にて3時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水を加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:4〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜9:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、残渣をn−ヘプタンとジエチルエーテルを用いて濾取洗浄し、標記化合物(2.61g、82%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.12 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.77-1.90 (4H, m), 1.98-2.07 (2H, m),2.45 (2H, q, J=7.1 Hz), 2.52-2.62 (1H, m), 3.05-3.12 (5H, m), 3.83 (3H, s), 5.50-5.58(1H, m), 6.55 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.9, 2.4 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7Hz), 7.30-7.35 (3H, m), 7.79 (2H, d, J=8.2 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.4 Hz), 8.03(1H, s), 8.10 (1H, d, J=5.7 Hz), 8.50 (1H, brs).
[実施例3]5−((2−(4−(1−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
実施例1に記載の6−メトキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(300mg、0.601mmol)とテトラヒドロフラン(15mL)の混合物に、窒素雰囲気下、市販の2−ヒドロキシアセトアルデヒド(110mg、1.83mmol)、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(382mg、1.80mmol)、酢酸(103μL、1.80mmol)を加え、室温にて15時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=99:1〜4:1)で精製した。目的物画分と混合物画分を減圧濃縮後、混合物画分の残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=97:3〜19:1〜23:2)で精製した。合わせた目的物画分を減圧濃縮し、析出物をジエチルエーテルと酢酸エチルを用いて濾取洗浄し、標記化合物(209mg、64%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.70-1.90 (4H, m), 2.14-2.25 (2H, m), 2.53-2.65 (3H, m),2.97-3.09 (2H, m), 3.06 (3H, d, J=4.4 Hz), 3.63 (2H, t, J=5.3 Hz), 3.86 (3H,s), 5.51-5.60 (1H, m), 6.54 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.7, 2.4 Hz), 7.23(1H, d, J=3.7 Hz), 7.29-7.35 (3H, m), 7.80 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.6Hz), 8.04 (1H, s), 8.10 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.51 (1H, brs).
実施例1に記載の6−メトキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(300mg、0.601mmol)とテトラヒドロフラン(15mL)の混合物に、窒素雰囲気下、市販の2−ヒドロキシアセトアルデヒド(110mg、1.83mmol)、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(382mg、1.80mmol)、酢酸(103μL、1.80mmol)を加え、室温にて15時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=99:1〜4:1)で精製した。目的物画分と混合物画分を減圧濃縮後、混合物画分の残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=97:3〜19:1〜23:2)で精製した。合わせた目的物画分を減圧濃縮し、析出物をジエチルエーテルと酢酸エチルを用いて濾取洗浄し、標記化合物(209mg、64%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.70-1.90 (4H, m), 2.14-2.25 (2H, m), 2.53-2.65 (3H, m),2.97-3.09 (2H, m), 3.06 (3H, d, J=4.4 Hz), 3.63 (2H, t, J=5.3 Hz), 3.86 (3H,s), 5.51-5.60 (1H, m), 6.54 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.7, 2.4 Hz), 7.23(1H, d, J=3.7 Hz), 7.29-7.35 (3H, m), 7.80 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.6Hz), 8.04 (1H, s), 8.10 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.51 (1H, brs).
[実施例4](S)−5−((2−(4−(1−(2−ヒドロキシプロピル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
実施例1に記載の6−メトキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(400mg、0.801mmol)とエタノール(10mL)の混合物に、市販の(S)−(−)−プロピレン オキシド(233mg、4.00mmol)を加え、シールドチューブを用いて60℃で1時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、テトラヒドロフラン(5.0mL)を加え、70℃で2時間加熱攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:4〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜19:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、析出物をジエチルエーテルと酢酸エチルを用いて濾取洗浄し、標記化合物(347mg、78%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.14 (3H, d, J=6.2 Hz), 1.66-1.89 (4H, m), 1.98-2.09 (1H, m),2.21-2.45 (3H, m), 2.52-2.64 (1H, m), 2.88-2.96 (1H, m), 3.06 (3H, d, J=4.8Hz), 3.10-3.17 (1H, m), 3.57 (1H, brs), 3.80-3.92 (1H, m), 3.86 (3H, s), 5.52-5.59(1H, m), 6.54 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.9, 2.6 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7Hz), 7.29-7.35 (3H, m), 7.78-7.83 (2H, m), 7.91 (1H, d, J=2.6 Hz), 8.03 (1H,s), 8.10 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.53 (1H, brs).
実施例1に記載の6−メトキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(400mg、0.801mmol)とエタノール(10mL)の混合物に、市販の(S)−(−)−プロピレン オキシド(233mg、4.00mmol)を加え、シールドチューブを用いて60℃で1時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、テトラヒドロフラン(5.0mL)を加え、70℃で2時間加熱攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:4〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜19:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、析出物をジエチルエーテルと酢酸エチルを用いて濾取洗浄し、標記化合物(347mg、78%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.14 (3H, d, J=6.2 Hz), 1.66-1.89 (4H, m), 1.98-2.09 (1H, m),2.21-2.45 (3H, m), 2.52-2.64 (1H, m), 2.88-2.96 (1H, m), 3.06 (3H, d, J=4.8Hz), 3.10-3.17 (1H, m), 3.57 (1H, brs), 3.80-3.92 (1H, m), 3.86 (3H, s), 5.52-5.59(1H, m), 6.54 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.9, 2.6 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7Hz), 7.29-7.35 (3H, m), 7.78-7.83 (2H, m), 7.91 (1H, d, J=2.6 Hz), 8.03 (1H,s), 8.10 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.53 (1H, brs).
[実施例5]5−((2−(4−(1−(3−フルオロプロピル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
実施例1に記載の6−メトキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(14.1mg、0.028mmol)とN,N−ジメチルホルムアミド(0.5mL)の混合物に、トリエチルアミン(11.8μL、0.085mmol)、製造例5−1に記載の3−フルオロプロピル 4−メチルベンゼンスルホネート(16.1mg、0.069mmol)を加え、50℃で1時間加熱攪拌後、室温で13時間攪拌した。反応混合物にトリエチルアミン(11.8μL、0.085mmol)、3−フルオロプロピル 4−メチルベンゼンスルホネート(16.1mg、0.069mmol)を加え、50℃で3時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、水と酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:3〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜19:1〜9:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、析出物をジエチルエーテルを用いて濾取洗浄し、標記化合物(10.2mg、65%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.72-2.00 (6H, m), 2.02-2.13 (2H, m), 2.47-2.62 (3H, m), 3.01-3.09(2H, m), 3.06 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.86 (3H, s), 4.47 (1H, t, J=6.0 Hz), 4.59(1H, t, J=6.0 Hz), 5.48-5.58 (1H, m), 6.55 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.7,2.4 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.30-7.34 (3H, m), 7.77-7.82 (2H, m), 7.91 (1H,d, J=2.6 Hz), 8.03 (1H, s), 8.10 (1H, d, J=6.2 Hz), 8.50 (1H, brs).
実施例1に記載の6−メトキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(14.1mg、0.028mmol)とN,N−ジメチルホルムアミド(0.5mL)の混合物に、トリエチルアミン(11.8μL、0.085mmol)、製造例5−1に記載の3−フルオロプロピル 4−メチルベンゼンスルホネート(16.1mg、0.069mmol)を加え、50℃で1時間加熱攪拌後、室温で13時間攪拌した。反応混合物にトリエチルアミン(11.8μL、0.085mmol)、3−フルオロプロピル 4−メチルベンゼンスルホネート(16.1mg、0.069mmol)を加え、50℃で3時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、水と酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:3〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜19:1〜9:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、析出物をジエチルエーテルを用いて濾取洗浄し、標記化合物(10.2mg、65%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.72-2.00 (6H, m), 2.02-2.13 (2H, m), 2.47-2.62 (3H, m), 3.01-3.09(2H, m), 3.06 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.86 (3H, s), 4.47 (1H, t, J=6.0 Hz), 4.59(1H, t, J=6.0 Hz), 5.48-5.58 (1H, m), 6.55 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.7,2.4 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.30-7.34 (3H, m), 7.77-7.82 (2H, m), 7.91 (1H,d, J=2.6 Hz), 8.03 (1H, s), 8.10 (1H, d, J=6.2 Hz), 8.50 (1H, brs).
試薬の3−フルオロプロピル 4−メチルベンゼンスルホネートは以下の方法で合成した。
[製造例5−1]3−フルオロプロピル 4−メチルベンゼンスルホネート
市販の3−フルオロプロパン−1−オール(5.0g、64mmol)とテトラヒドロフラン(120mL)の混合物に、窒素雰囲気下、0℃でトリエチルアミン(11mL、79.4mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(390mg、3.19mmol)、p−トルエンスルホニル クロリド(13.4g、70.4mmol)を加え、室温で90時間攪拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンとn−ヘプタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=10:1〜2:1)で精製し、標記化合物(12.7g、85%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.97-2.15 (2H, m), 2.46 (3H, s), 4.16 (2H, t, J=6.2 Hz), 4.49(2H, dt, J=46.8, 5.6 Hz), 7.36 (2H, dd, J=8.4, 0.6 Hz), 7.75-7.85 (2H, m).
市販の3−フルオロプロパン−1−オール(5.0g、64mmol)とテトラヒドロフラン(120mL)の混合物に、窒素雰囲気下、0℃でトリエチルアミン(11mL、79.4mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(390mg、3.19mmol)、p−トルエンスルホニル クロリド(13.4g、70.4mmol)を加え、室温で90時間攪拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンとn−ヘプタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=10:1〜2:1)で精製し、標記化合物(12.7g、85%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.97-2.15 (2H, m), 2.46 (3H, s), 4.16 (2H, t, J=6.2 Hz), 4.49(2H, dt, J=46.8, 5.6 Hz), 7.36 (2H, dd, J=8.4, 0.6 Hz), 7.75-7.85 (2H, m).
[実施例6]5−((2−(4−(3−フルオロピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例6−5に記載のtert−ブチル 3−フルオロ−4−(4−((4−((6−メトキシ−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレート(29.1mg、0.047mmol)をジクロロメタン(4mL)に溶解させ、室温でトリフルオロ酢酸(0.8mL、10.4mmol)を加えたのち30分間攪拌した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタン(4mL)に溶解させ、トリエチルアミンを加えて過剰なトリフルオロ酢酸を中和した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:4〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=97:3〜19:1)で精製し標記化合物(16.8mg、69%)を得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 1.71-1.80 (2H, m), 1.89-1.97 (1H, m), 2.63-2.70(1H, m), 2.70-2.76 (1H, m), 2.79-2.89 (1H, m), 3.05 (3H, d, J=4.9 Hz), 3.09 (1H,d, J=11.2 Hz), 3.48 (1H, dt, J=11.3, 4.1 Hz), 3.87 (3H, s), 4.58 (1H, dtd, J=50.0,9.9, 4.6 Hz), 5.58 (1H, q, J=4.7 Hz), 6.54 (1H, d, J=3.4 Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.6,2.2 Hz), 7.22 (1H, d, J=3.9 Hz), 7.32 (1H, s), 7.38 (2H, d, J=8.3 Hz), 7.84 (2H,d, J=8.3 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.4 Hz), 8.04 (1H, s), 8.10 (1H, d, J=5.9 Hz),8.57 (1H, s).
製造例6−5に記載のtert−ブチル 3−フルオロ−4−(4−((4−((6−メトキシ−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレート(29.1mg、0.047mmol)をジクロロメタン(4mL)に溶解させ、室温でトリフルオロ酢酸(0.8mL、10.4mmol)を加えたのち30分間攪拌した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタン(4mL)に溶解させ、トリエチルアミンを加えて過剰なトリフルオロ酢酸を中和した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:4〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=97:3〜19:1)で精製し標記化合物(16.8mg、69%)を得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 1.71-1.80 (2H, m), 1.89-1.97 (1H, m), 2.63-2.70(1H, m), 2.70-2.76 (1H, m), 2.79-2.89 (1H, m), 3.05 (3H, d, J=4.9 Hz), 3.09 (1H,d, J=11.2 Hz), 3.48 (1H, dt, J=11.3, 4.1 Hz), 3.87 (3H, s), 4.58 (1H, dtd, J=50.0,9.9, 4.6 Hz), 5.58 (1H, q, J=4.7 Hz), 6.54 (1H, d, J=3.4 Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.6,2.2 Hz), 7.22 (1H, d, J=3.9 Hz), 7.32 (1H, s), 7.38 (2H, d, J=8.3 Hz), 7.84 (2H,d, J=8.3 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.4 Hz), 8.04 (1H, s), 8.10 (1H, d, J=5.9 Hz),8.57 (1H, s).
出発物質のtert−ブチル 3−フルオロ−4−(4−((4−((6−メトキシ−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレートは以下の方法で合成した。
[製造例6−1]tert−ブチル 4−(4−(メトキシカルボニル)フェニル)−5,6−ジヒドロピリジン−1(2H)−カルボキシレート
市販の1−N−BOC−4−(4,4,5,5−テトラメチル−[1,3,2]ジオキサボロラン−2−イル)−3,6−ジヒドロ−2H−ピリジン(1.00g、3.23mmol)、メチル 4−ブロモベンゾエート(695mg、3.23mmol)、2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2’,6’−ジメトキシビフェニル(266mg、0.65mmol)、パラジウム(II)アセテート(73mg、0.32mmol)およびりん酸三カリウム(2.06g、9.70mmol)に、窒素雰囲気下、トルエン(20mL)、エタノール(6mL)、水(2mL)を加え、90℃で5時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。水層を3回酢酸エチルで抽出した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=19:1〜13:7)で精製し標記化合物(0.99g、96%)を得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 1.49 (9H, s), 2.55 (2H, brs), 3.65 (2H, t, J=5.9Hz), 3.92 (3H, s), 4.10 (2H, brs), 6.16 (1H, brs), 7.43 (2H, d, J=8.3 Hz), 8.00(2H, d, J=8.8 Hz).
市販の1−N−BOC−4−(4,4,5,5−テトラメチル−[1,3,2]ジオキサボロラン−2−イル)−3,6−ジヒドロ−2H−ピリジン(1.00g、3.23mmol)、メチル 4−ブロモベンゾエート(695mg、3.23mmol)、2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2’,6’−ジメトキシビフェニル(266mg、0.65mmol)、パラジウム(II)アセテート(73mg、0.32mmol)およびりん酸三カリウム(2.06g、9.70mmol)に、窒素雰囲気下、トルエン(20mL)、エタノール(6mL)、水(2mL)を加え、90℃で5時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。水層を3回酢酸エチルで抽出した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=19:1〜13:7)で精製し標記化合物(0.99g、96%)を得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 1.49 (9H, s), 2.55 (2H, brs), 3.65 (2H, t, J=5.9Hz), 3.92 (3H, s), 4.10 (2H, brs), 6.16 (1H, brs), 7.43 (2H, d, J=8.3 Hz), 8.00(2H, d, J=8.8 Hz).
[製造例6−2]tert−ブチル 3−ヒドロキシ−4−(4−(メトキシカルボニル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレート
製造例6−1に記載のtert−ブチル 4−(4−(メトキシカルボニル)フェニル)−5,6−ジヒドロピリジン−1(2H)−カルボキシレート(776mg、2.45mmol)をテトラヒドロフラン(10mL)に溶解させ、ボラン−メチルスルフィド錯体(0.269mL、2.69mmol)をテトラヒドロフラン(10mL)に溶解させたものを室温にて3分間かけて加えたのち13時間攪拌した。反応液を0℃に冷却した後、1M水酸化ナトリウム溶液(6.12mL、6.12mmol)を1分かけて加えた。30%過酸化水素水(0.625mL、6.12mmol)を加え、室温にて45分間攪拌した。反応混合物に飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液(20mL)、水、酢酸エチルを順次加えた。水層を3回酢酸エチルで抽出した後、有機層をあわせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜1:4)で精製し標記化合物(518mg、63%)を得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 1.49 (9H, s), 1.59 (1H, d, J=2.9 Hz), 1.69- 1.88(2H, m), 2.57-2.71 (2H, m), 2.77 (1H, brs), 3.67-3.82 (1H, m), 3.91 (3H, s),4.22 (1H, brs), 4.42 (1H, brs), 7.34 (2H, d, J=8.3 Hz), 8.02 (2H, d, J=8.3 Hz).
製造例6−1に記載のtert−ブチル 4−(4−(メトキシカルボニル)フェニル)−5,6−ジヒドロピリジン−1(2H)−カルボキシレート(776mg、2.45mmol)をテトラヒドロフラン(10mL)に溶解させ、ボラン−メチルスルフィド錯体(0.269mL、2.69mmol)をテトラヒドロフラン(10mL)に溶解させたものを室温にて3分間かけて加えたのち13時間攪拌した。反応液を0℃に冷却した後、1M水酸化ナトリウム溶液(6.12mL、6.12mmol)を1分かけて加えた。30%過酸化水素水(0.625mL、6.12mmol)を加え、室温にて45分間攪拌した。反応混合物に飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液(20mL)、水、酢酸エチルを順次加えた。水層を3回酢酸エチルで抽出した後、有機層をあわせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜1:4)で精製し標記化合物(518mg、63%)を得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 1.49 (9H, s), 1.59 (1H, d, J=2.9 Hz), 1.69- 1.88(2H, m), 2.57-2.71 (2H, m), 2.77 (1H, brs), 3.67-3.82 (1H, m), 3.91 (3H, s),4.22 (1H, brs), 4.42 (1H, brs), 7.34 (2H, d, J=8.3 Hz), 8.02 (2H, d, J=8.3 Hz).
[製造例6−3]tert−ブチル 3−フルオロ−4−(4−(メトキシカルボニル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレート
製造例6−2に記載のtert−ブチル 3−ヒドロキシ−4−(4−(メトキシカルボニル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレート(518mg、1.54mmol)をジクロロメタン(15mL)に溶解させ、−78℃にて[ビス−(2−メトキシエチル)アミノ]サルファー トリフルオリド(0.313mL、1.70mmol)を3分間かけて加えたのち1時間かけて室温まで昇温しながら攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを順次加えた。水層を3回酢酸エチルで抽出した後、有機層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=19:1〜3:2)で精製し標記化合物(402mg、77%)を得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 1.49 (9H, s), 1.64-1.81 (1H, m), 1.86-2.01 (1H,m), 2.72-2.94 (3H, m), 3.91 (3H, s), 4.19 (1H, brs), 4.44-4.66 (2H, m), 7.33 (2H,d, J=8.3 Hz), 8.02 (2H, d, J=8.3 Hz).
製造例6−2に記載のtert−ブチル 3−ヒドロキシ−4−(4−(メトキシカルボニル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレート(518mg、1.54mmol)をジクロロメタン(15mL)に溶解させ、−78℃にて[ビス−(2−メトキシエチル)アミノ]サルファー トリフルオリド(0.313mL、1.70mmol)を3分間かけて加えたのち1時間かけて室温まで昇温しながら攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを順次加えた。水層を3回酢酸エチルで抽出した後、有機層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=19:1〜3:2)で精製し標記化合物(402mg、77%)を得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 1.49 (9H, s), 1.64-1.81 (1H, m), 1.86-2.01 (1H,m), 2.72-2.94 (3H, m), 3.91 (3H, s), 4.19 (1H, brs), 4.44-4.66 (2H, m), 7.33 (2H,d, J=8.3 Hz), 8.02 (2H, d, J=8.3 Hz).
[製造例6−4]4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)−3−フルオロピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド
製造例6−3に記載のtert−ブチル 3−フルオロ−4−(4−(メトキシカルボニル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレート(402mg、1.19mmol)をテトラヒドロフラン(18mL)、メタノール(6mL)、水(4mL)に溶解させ、室温で2M水酸化リチウム水溶液(4.17mL、8.34mmol)を加えたのち3時間攪拌した。減圧下テトラヒドロフランとメタノールを留去し、残留溶液に1M塩酸を加え中和した。水層を4回酢酸エチルで抽出した後、有機層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜1:4)で精製し標記化合物(347mg、90%)を得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 1.50 (9H, s), 1.77 (1H, qd, J=13.0, 3.9 Hz),1.92 (1H, d, J=14.1 Hz), 2.72-2.95 (3H, m), 4.21 (1H, brs), 4.46-4.67 (2H, m),7.37 (2H, d, J=8.3 Hz), 8.09 (2H, d, J=8.3 Hz).
製造例6−3に記載のtert−ブチル 3−フルオロ−4−(4−(メトキシカルボニル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレート(402mg、1.19mmol)をテトラヒドロフラン(18mL)、メタノール(6mL)、水(4mL)に溶解させ、室温で2M水酸化リチウム水溶液(4.17mL、8.34mmol)を加えたのち3時間攪拌した。減圧下テトラヒドロフランとメタノールを留去し、残留溶液に1M塩酸を加え中和した。水層を4回酢酸エチルで抽出した後、有機層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜1:4)で精製し標記化合物(347mg、90%)を得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 1.50 (9H, s), 1.77 (1H, qd, J=13.0, 3.9 Hz),1.92 (1H, d, J=14.1 Hz), 2.72-2.95 (3H, m), 4.21 (1H, brs), 4.46-4.67 (2H, m),7.37 (2H, d, J=8.3 Hz), 8.09 (2H, d, J=8.3 Hz).
[製造例6−5]tert−ブチル 3−フルオロ−4−(4−((4−((6−メトキシ−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレート
ベンゾトリアゾール(49.3mg、0.414mmol)とジクロロメタン(4mL)の混合物に、窒素雰囲気下、塩化チオニル(30μL、0.319mmol)を加え、室温にて5分間攪拌した。製造例6−4に記載の4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)−3−フルオロピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(103mg、0.319mmol)を加え、室温にて30分間攪拌した。反応液を無水硫酸ナトリウムを通して濾過し、ジクロロメタン(4mL)で洗いこみ、粗生成物のジクロロメタン溶液を得た。
製造例1−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(25.0mg、0.080mmol)とトリエチルアミン(56μL、0.40mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(1.0mg、0.008mmol)、ジクロロメタン(1mL)の混合物に、上記粗生成物のジクロロメタン溶液(4mL、0.16mmol)を0℃で加え、0℃にて10分間、続いて室温で3時間攪拌した。40%メチルアミン水溶液(138μL、1.60mmol)を加え、室温でさらに2時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。水層を3回酢酸エチルで抽出した後、有機層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1)で精製し、標記化合物(29.1mg、59%)を得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 1.49 (9H, s), 1.65-1.82 (1H, m), 1.91 (1H, brs),2.69-2.93 (3H, m), 3.04 (3H, d, J=4.9 Hz), 3.86 (3H, s), 4.18 (1H, brs),4.42-4.66 (2H, m), 5.65 (1H, q, J=4.4 Hz), 6.53 (1H, d, J=3.4 Hz), 6.62 (1H, dd,J=5.9, 2.4 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.9 Hz), 7.31 (1H, s), 7.36 (2H, d, J=8.3 Hz),7.84 (2H, d, J=8.3 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.0 Hz), 8.05 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.9Hz), 8.63 (1H, s).
ベンゾトリアゾール(49.3mg、0.414mmol)とジクロロメタン(4mL)の混合物に、窒素雰囲気下、塩化チオニル(30μL、0.319mmol)を加え、室温にて5分間攪拌した。製造例6−4に記載の4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)−3−フルオロピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(103mg、0.319mmol)を加え、室温にて30分間攪拌した。反応液を無水硫酸ナトリウムを通して濾過し、ジクロロメタン(4mL)で洗いこみ、粗生成物のジクロロメタン溶液を得た。
製造例1−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(25.0mg、0.080mmol)とトリエチルアミン(56μL、0.40mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(1.0mg、0.008mmol)、ジクロロメタン(1mL)の混合物に、上記粗生成物のジクロロメタン溶液(4mL、0.16mmol)を0℃で加え、0℃にて10分間、続いて室温で3時間攪拌した。40%メチルアミン水溶液(138μL、1.60mmol)を加え、室温でさらに2時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。水層を3回酢酸エチルで抽出した後、有機層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1)で精製し、標記化合物(29.1mg、59%)を得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 1.49 (9H, s), 1.65-1.82 (1H, m), 1.91 (1H, brs),2.69-2.93 (3H, m), 3.04 (3H, d, J=4.9 Hz), 3.86 (3H, s), 4.18 (1H, brs),4.42-4.66 (2H, m), 5.65 (1H, q, J=4.4 Hz), 6.53 (1H, d, J=3.4 Hz), 6.62 (1H, dd,J=5.9, 2.4 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.9 Hz), 7.31 (1H, s), 7.36 (2H, d, J=8.3 Hz),7.84 (2H, d, J=8.3 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.0 Hz), 8.05 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.9Hz), 8.63 (1H, s).
[実施例7]5−((2−(4−(4−フルオロピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
窒素雰囲気下、ベンゾトリアゾール(33.2mg、0.278mmol)をジクロロメタン(10mL)に溶解させた後、塩化チオニル(20μL、0.278mmol)を加え、20℃にて5分間攪拌した。この反応混合物に、製造例7−4に記載の4−(1−tert−ブトキシカルボニル)−4−フルオロピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(60mg、0.186mmol)を加え、20℃にて2時間攪拌した。この反応混合物を濾過し、ジクロロメタンを5ml程度になるまで減圧下留去した。得られた反応混合物に、製造例1−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(25mg、0.08mmol)、トリエチルアミン(55μL、0.40mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(1.96mg、0.016mmol)を順次加え、室温にて2時間攪拌した。この反応混合物に2Mメチルアミン テトラヒドロフラン溶液(120μL、0.24mmol)を加え、室温にて1時間攪拌した後、酢酸エチル、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え分配した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を減圧下留去し得られた残渣をジクロロメタン(5mL)に溶解させた後、0℃にてトリフルオロ酢酸(1mL)を加え、室温にて1時間攪拌した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をトルエンを用いて共沸し、減圧下乾燥した。得られた残渣をジクロロメタンとトリエチルアミンの混合溶媒に溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜17:3)で精製した。目的物画分を減圧下濃縮し標記化合物(11.8mg、29%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.73-2.01 (4H, m), 2.91- 3.23 (7H, m), 3.86 (3H, s), 5.76-5.91(1H, m), 6.44-6.52 (1H, m), 6.64 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 7.22 (1H, d, J=3.7Hz), 7.31 (1H, s), 7.48 (2H, d, J=8.4 Hz) 7.81-7.97 (3H, m), 8.02-8.14 (2H, m),8.74 (1H, brs).
窒素雰囲気下、ベンゾトリアゾール(33.2mg、0.278mmol)をジクロロメタン(10mL)に溶解させた後、塩化チオニル(20μL、0.278mmol)を加え、20℃にて5分間攪拌した。この反応混合物に、製造例7−4に記載の4−(1−tert−ブトキシカルボニル)−4−フルオロピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(60mg、0.186mmol)を加え、20℃にて2時間攪拌した。この反応混合物を濾過し、ジクロロメタンを5ml程度になるまで減圧下留去した。得られた反応混合物に、製造例1−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(25mg、0.08mmol)、トリエチルアミン(55μL、0.40mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(1.96mg、0.016mmol)を順次加え、室温にて2時間攪拌した。この反応混合物に2Mメチルアミン テトラヒドロフラン溶液(120μL、0.24mmol)を加え、室温にて1時間攪拌した後、酢酸エチル、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え分配した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を減圧下留去し得られた残渣をジクロロメタン(5mL)に溶解させた後、0℃にてトリフルオロ酢酸(1mL)を加え、室温にて1時間攪拌した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をトルエンを用いて共沸し、減圧下乾燥した。得られた残渣をジクロロメタンとトリエチルアミンの混合溶媒に溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜17:3)で精製した。目的物画分を減圧下濃縮し標記化合物(11.8mg、29%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.73-2.01 (4H, m), 2.91- 3.23 (7H, m), 3.86 (3H, s), 5.76-5.91(1H, m), 6.44-6.52 (1H, m), 6.64 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 7.22 (1H, d, J=3.7Hz), 7.31 (1H, s), 7.48 (2H, d, J=8.4 Hz) 7.81-7.97 (3H, m), 8.02-8.14 (2H, m),8.74 (1H, brs).
出発物質の4−(1−tert−ブトキシカルボニル)−4−フルオロピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッドは以下の方法で合成した。
[製造例7−1]1−ベンジル−4−(4−(4,4−ジメチル−4,5−ジヒドロオキサゾール−2−イル)フェニル)ピペリジン−4−オール
テトラヒドロフラン(120mL)にマグネシウム(3.10g、127mmol)、ヨウ素(135mg、0.531mmol)、2−(4−ブロモフェニル)−4,5−ジヒドロ−4,4−ジメチルオキサゾール(27g、106mmol)を加え、1時間加熱還流した。この反応混合物を室温まで冷却した後、1−ベンジル−4−ピペリドン(21.7mL、117mmol)を加え、3時間加熱還流した。この反応混合物を室温まで冷却した後、飽和塩化アンモニウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出した後、有機層を合わせ、水、次いで飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:1〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧下濃縮し、標記化合物(13.4g、35%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.37 (6H, s), 1.67-1.76 (2H, m), 2.16 (2H, td, J=13.1, 4.5Hz), 2.47 (2H, td, J=12.0, 2.5 Hz), 2.79 (2H, d, J=11.4 Hz), 3.58 (2H, s), 4.09(2H, s), 7.23-7.40 (5H, m), 7.55 (2H, d, J=8.8 Hz), 7.91 (2H, d, J=8.6 Hz).
テトラヒドロフラン(120mL)にマグネシウム(3.10g、127mmol)、ヨウ素(135mg、0.531mmol)、2−(4−ブロモフェニル)−4,5−ジヒドロ−4,4−ジメチルオキサゾール(27g、106mmol)を加え、1時間加熱還流した。この反応混合物を室温まで冷却した後、1−ベンジル−4−ピペリドン(21.7mL、117mmol)を加え、3時間加熱還流した。この反応混合物を室温まで冷却した後、飽和塩化アンモニウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出した後、有機層を合わせ、水、次いで飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:1〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧下濃縮し、標記化合物(13.4g、35%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.37 (6H, s), 1.67-1.76 (2H, m), 2.16 (2H, td, J=13.1, 4.5Hz), 2.47 (2H, td, J=12.0, 2.5 Hz), 2.79 (2H, d, J=11.4 Hz), 3.58 (2H, s), 4.09(2H, s), 7.23-7.40 (5H, m), 7.55 (2H, d, J=8.8 Hz), 7.91 (2H, d, J=8.6 Hz).
[製造例7−2]エチル 4−(1−ベンジル−4−ヒドロキシピペリジン−4−イル)ベンゾエート
製造例7−1に記載の1−ベンジル−4−(4−(4,4−ジメチル−4,5−ジヒドロオキサゾール−2−イル)フェニル)ピペリジン−4−オール(13.4g、36.8mmol)をエタノール(300mL)に溶解させた後、硫酸を加え90℃にて12時間攪拌した。この反応混合物を室温まで冷却した後、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧下濃縮し、標記化合物(7.23g、58%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.39 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.59-1.85 (2H, m), 2.17 (2H, td, J=13.1,4.5 Hz), 2.47 (2H, td, J=12.0, 2.5 Hz), 2.72-2.93 (2H, m), 3.59 (2H, s), 4.37 (2H,q, J=7.0 Hz), 7.14-7.44 (5H, m), 7.59 (2H, d, J=8.4 Hz), 8.02 (2H, d, J=8.4 Hz).
製造例7−1に記載の1−ベンジル−4−(4−(4,4−ジメチル−4,5−ジヒドロオキサゾール−2−イル)フェニル)ピペリジン−4−オール(13.4g、36.8mmol)をエタノール(300mL)に溶解させた後、硫酸を加え90℃にて12時間攪拌した。この反応混合物を室温まで冷却した後、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧下濃縮し、標記化合物(7.23g、58%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.39 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.59-1.85 (2H, m), 2.17 (2H, td, J=13.1,4.5 Hz), 2.47 (2H, td, J=12.0, 2.5 Hz), 2.72-2.93 (2H, m), 3.59 (2H, s), 4.37 (2H,q, J=7.0 Hz), 7.14-7.44 (5H, m), 7.59 (2H, d, J=8.4 Hz), 8.02 (2H, d, J=8.4 Hz).
[製造例7−3]tert−ブチル 4−(4−(エトキシカルボニル)フェニル)−4−フルオロピペリジン−1−カルボキシレート
窒素雰囲気下、製造例7−2に記載のエチル 4−(1−ベンジル−4−ヒドロキシピペリジン−4−イル)ベンゾエート(6.23g、18.4mmol)をジクロロメタン(200mL)に溶解させた後、−78℃にて、ジエチルアミノサルファー トリフルオリド(2.89mL、22.0mmol)を加え、室温にて3時間攪拌した。この反応混合物にジクロロメタンを加え、水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を減圧下留去し、粗生成物A(6.13g)を得た。
窒素雰囲気下、粗生成物A(6.13g)をジクロロメタン(100mL)に溶解させた後、1−クロロエチル クロロホルメート(2.13mL、19.8mmol)を加え、20℃にて2時間攪拌した。この反応混合物を減圧下濃縮した後、得られた残渣をメタノール(100mL)に溶解させ、30分間加熱還流した。この反応混合物を減圧下濃縮した後、得られた残渣にジエチルエーテルを加え、析出物を濾取し、ジエチルエーテルで洗浄した後、粗生成物B(4.72g)を得た。
粗生成物B(4.72g)をジクロロメタン(50mL)に溶解させた後、トリエチルアミン(5.24mL、37.6mmol)、ジ−tert−ブチル ジカーボネート(4.92g、22.5mmol)を加え、室温にて1時間攪拌した。この反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。水層を再度酢酸エチルで抽出した後、有機層を合わせ、水、次いで飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧下濃縮し、標記化合物(3.74g、58%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.24-1.34 (1H, m), 1.40 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.50 (9H, s),1.86-2.14 (2H, m), 2.54 (1H, brs), 3.18 (1H, brs), 3.65 (1H, t, J=5.7 Hz), 4.00-4.26(2H, m), 4.38 (2H, qd, J=7.1, 3.1 Hz), 7.43 (2H, dd, J=8.6, 1.3 Hz), 8.03 (2H,dd, J=18.1, 8.6 Hz).
窒素雰囲気下、製造例7−2に記載のエチル 4−(1−ベンジル−4−ヒドロキシピペリジン−4−イル)ベンゾエート(6.23g、18.4mmol)をジクロロメタン(200mL)に溶解させた後、−78℃にて、ジエチルアミノサルファー トリフルオリド(2.89mL、22.0mmol)を加え、室温にて3時間攪拌した。この反応混合物にジクロロメタンを加え、水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を減圧下留去し、粗生成物A(6.13g)を得た。
窒素雰囲気下、粗生成物A(6.13g)をジクロロメタン(100mL)に溶解させた後、1−クロロエチル クロロホルメート(2.13mL、19.8mmol)を加え、20℃にて2時間攪拌した。この反応混合物を減圧下濃縮した後、得られた残渣をメタノール(100mL)に溶解させ、30分間加熱還流した。この反応混合物を減圧下濃縮した後、得られた残渣にジエチルエーテルを加え、析出物を濾取し、ジエチルエーテルで洗浄した後、粗生成物B(4.72g)を得た。
粗生成物B(4.72g)をジクロロメタン(50mL)に溶解させた後、トリエチルアミン(5.24mL、37.6mmol)、ジ−tert−ブチル ジカーボネート(4.92g、22.5mmol)を加え、室温にて1時間攪拌した。この反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。水層を再度酢酸エチルで抽出した後、有機層を合わせ、水、次いで飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧下濃縮し、標記化合物(3.74g、58%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.24-1.34 (1H, m), 1.40 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.50 (9H, s),1.86-2.14 (2H, m), 2.54 (1H, brs), 3.18 (1H, brs), 3.65 (1H, t, J=5.7 Hz), 4.00-4.26(2H, m), 4.38 (2H, qd, J=7.1, 3.1 Hz), 7.43 (2H, dd, J=8.6, 1.3 Hz), 8.03 (2H,dd, J=18.1, 8.6 Hz).
[製造例7−4]4−(1−tert−ブトキシカルボニル)−4−フルオロピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド
製造例7−3に記載のtert−ブチル 4−(4−(エトキシカルボニル)フェニル)−4−フルオロピペリジン−1−カルボキシレート(3.74g、10.6mmol)をテトラヒドロフラン(10mL)とメタノール(5mL)の混合溶媒に溶解させた後、1M水酸化ナトリウム溶液(42.6mL)を加え、50℃にて4時間攪拌した。この反応混合物に1M塩酸を加え、析出物を濾取し、水で洗浄した後、通気乾燥し標記化合物(1.33g、39%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 1.43 (9H, s), 1.83-2.15 (4H, m), 3.06 (2H, brs), 3.99 (2H, d,J=10.3 Hz), 7.50 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.92 (2H, d, J=8.4 Hz).
製造例7−3に記載のtert−ブチル 4−(4−(エトキシカルボニル)フェニル)−4−フルオロピペリジン−1−カルボキシレート(3.74g、10.6mmol)をテトラヒドロフラン(10mL)とメタノール(5mL)の混合溶媒に溶解させた後、1M水酸化ナトリウム溶液(42.6mL)を加え、50℃にて4時間攪拌した。この反応混合物に1M塩酸を加え、析出物を濾取し、水で洗浄した後、通気乾燥し標記化合物(1.33g、39%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 1.43 (9H, s), 1.83-2.15 (4H, m), 3.06 (2H, brs), 3.99 (2H, d,J=10.3 Hz), 7.50 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.92 (2H, d, J=8.4 Hz).
[実施例8]6−メトキシ−N−メチル−5−((2−(4−(4−(ピロリジン−1−イル)ピペリジン−1−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例8−2に記載の4−(4−(ピロリジン−1−イル)ピペリジン−1−イル)ベンゾイック アシッド(44mg、0.16mmol)のジクロロメタン(2mL)溶液に塩化オキサリル(27μL、0.321mmol)とN,N−ジメチルホルムアミド(1.24μL、0.016mmol)を室温で加えた。反応混合液を室温で1時間攪拌した。反応混合液を濃縮し、残渣のジクロロメタン(2mL)溶液に、室温でトリエチルアミン(112μL、0.80mmol)、製造例1−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(50mg、0.16mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(3.91mg、0.032mmol)を順次加えた。反応混合液を室温で攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を反応液に加えた後、酢酸エチルを加えて希釈した。水層を酢酸エチルで抽出した後、合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1)で精製することにより標記化合物(3.6mg、4.0%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.18-1.38 (2H, m), 1.84 (4H, brs), 1.95-2.11 (2H, m),2.24-2.38 (1H, m), 2.70 (4H, brs), 2.82-2.96 (2H, m), 3.06 (3H, d, J=4.8 Hz),3.80-3.91 (5H, m), 5.52-5.68 (1H, m), 6.54 (1H, d, J=3.3 Hz), 6.61 (1H, dd,J=5.9, 2.2 Hz), 6.89 (2H, d, J=8.8 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.32 (1H, s),7.75 (2H, d, J=8.8 Hz), 7.90 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.02 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.9Hz), 8.56 (1H, brs).
製造例8−2に記載の4−(4−(ピロリジン−1−イル)ピペリジン−1−イル)ベンゾイック アシッド(44mg、0.16mmol)のジクロロメタン(2mL)溶液に塩化オキサリル(27μL、0.321mmol)とN,N−ジメチルホルムアミド(1.24μL、0.016mmol)を室温で加えた。反応混合液を室温で1時間攪拌した。反応混合液を濃縮し、残渣のジクロロメタン(2mL)溶液に、室温でトリエチルアミン(112μL、0.80mmol)、製造例1−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(50mg、0.16mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(3.91mg、0.032mmol)を順次加えた。反応混合液を室温で攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を反応液に加えた後、酢酸エチルを加えて希釈した。水層を酢酸エチルで抽出した後、合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1)で精製することにより標記化合物(3.6mg、4.0%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.18-1.38 (2H, m), 1.84 (4H, brs), 1.95-2.11 (2H, m),2.24-2.38 (1H, m), 2.70 (4H, brs), 2.82-2.96 (2H, m), 3.06 (3H, d, J=4.8 Hz),3.80-3.91 (5H, m), 5.52-5.68 (1H, m), 6.54 (1H, d, J=3.3 Hz), 6.61 (1H, dd,J=5.9, 2.2 Hz), 6.89 (2H, d, J=8.8 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.32 (1H, s),7.75 (2H, d, J=8.8 Hz), 7.90 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.02 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.9Hz), 8.56 (1H, brs).
出発物質の4−(4−(ピロリジン−1−イル)ピペリジン−1−イル)ベンゾイック アシッドは以下の方法で合成した。
[製造例8−1]メチル 4−(4−(ピロリジン−1−イル)ピペリジン−1−イル)ベンゾエート
市販のメチル 4−フルオロベンゾエート(1.5g、9.73mmol)を市販の4−(1−ピロリジニル)ピペリジン(3.0g、19.5mmol)のジメチルスルホキシド(15mL)溶液に室温にて加えた後、窒素雰囲気下、マイクロウェーブを用いて150℃で4時間攪拌した。反応液を室温まで放冷後、水と酢酸エチルで希釈した。有機層を水で洗浄後、常法に従い乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1)で精製することにより標記化合物(2.06g、73%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.54-1.70 (2H, m), 1.74-1.88 (4H, m), 1.93-2.06 (2H, m),2.12-2.26 (1H, m), 2.53-2.65 (4H, m), 2.90 (2H, td, J=12.4, 2.6 Hz), 3.74-3.97 (5H,m), 6.86 (2H, d, J=9.2 Hz), 7.89 (2H, d, J=9.2 Hz).
市販のメチル 4−フルオロベンゾエート(1.5g、9.73mmol)を市販の4−(1−ピロリジニル)ピペリジン(3.0g、19.5mmol)のジメチルスルホキシド(15mL)溶液に室温にて加えた後、窒素雰囲気下、マイクロウェーブを用いて150℃で4時間攪拌した。反応液を室温まで放冷後、水と酢酸エチルで希釈した。有機層を水で洗浄後、常法に従い乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1)で精製することにより標記化合物(2.06g、73%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.54-1.70 (2H, m), 1.74-1.88 (4H, m), 1.93-2.06 (2H, m),2.12-2.26 (1H, m), 2.53-2.65 (4H, m), 2.90 (2H, td, J=12.4, 2.6 Hz), 3.74-3.97 (5H,m), 6.86 (2H, d, J=9.2 Hz), 7.89 (2H, d, J=9.2 Hz).
[製造例8−2]4−(4−(ピロリジン−1−イル)ピペリジン−1−イル)ベンゾイック アシッド
製造例8−1に記載のメチル 4−(4−(ピロリジン−1−イル)ピペリジン−1−イル)ベンゾエート(2.06g、7.14mmol)のテトラヒドロフラン(10mL)とメタノール(10mL)溶液に5M水酸化ナトリウム溶液(15mL、75.0mmol)を加えた。反応液を50℃で4時間攪拌した。反応液を0℃まで冷却した後、pH1になるまで5M塩酸を滴下した。混合液を酢酸エチルで希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮することにより標記化合物(1.61g、82%)を得た。
ESI−MS(m/z):297[M+H]+.
製造例8−1に記載のメチル 4−(4−(ピロリジン−1−イル)ピペリジン−1−イル)ベンゾエート(2.06g、7.14mmol)のテトラヒドロフラン(10mL)とメタノール(10mL)溶液に5M水酸化ナトリウム溶液(15mL、75.0mmol)を加えた。反応液を50℃で4時間攪拌した。反応液を0℃まで冷却した後、pH1になるまで5M塩酸を滴下した。混合液を酢酸エチルで希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮することにより標記化合物(1.61g、82%)を得た。
ESI−MS(m/z):297[M+H]+.
[実施例9]5−((2−(4−((4−ヒドロキシピペリジン−1−イル)メチル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例1−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(905mg、2.90mmol)とテトラヒドロフラン(28mL)の混合物に、窒素雰囲気下、0℃でトリエチルアミン(1.6mL、11.5mmol)と市販の4−(クロロメチル)ベンゾイル クロリド(1.37g、7.25mmol)を加えた。室温で100分間攪拌後、反応混合物に0℃でトリエチルアミン(1.6mL、11.5mmol)と4−(クロロメチル)ベンゾイル クロリド(0.90g、4.76mmol)を加え、室温で1.5時間攪拌した。反応混合物に水、テトラヒドロフラン、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。NHシリカゲル(酢酸エチル)を用いて濾過し、減圧濃縮して粗生成物を得た。
粗生成物をN,N−ジメチルホルムアミド(15mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温で市販の4−ヒドロキシピペリジン(1.48g、14.6mmol)を加え、16時間攪拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配し、水層を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜9:1〜17:3〜4:1)で精製した。目的物を酢酸エチルで濾取洗浄し、標記化合物(1.30g、84%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 1.32-1.44 (2H, m), 1.64-1.74 (2H, m), 1.97-2.09 (2H, m), 2.59-2.69(2H, m), 2.86 (3H, d, J=4.2 Hz), 3.39-3.50 (3H, m), 3.76 (3H, s), 4.54 (1H, d, J=4.2Hz), 6.63 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.65 (1H, dd, J=5.7, 2.2 Hz), 7.37 (2H, d, J=8.1Hz), 7.44 (1H, s), 7.66 (1H, d, J=2.4 Hz), 7.78 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.92 (2H, d,J=8.2 Hz), 8.10 (1H, s), 8.15-8.22 (2H, m), 10.68 (1H, s).
製造例1−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(905mg、2.90mmol)とテトラヒドロフラン(28mL)の混合物に、窒素雰囲気下、0℃でトリエチルアミン(1.6mL、11.5mmol)と市販の4−(クロロメチル)ベンゾイル クロリド(1.37g、7.25mmol)を加えた。室温で100分間攪拌後、反応混合物に0℃でトリエチルアミン(1.6mL、11.5mmol)と4−(クロロメチル)ベンゾイル クロリド(0.90g、4.76mmol)を加え、室温で1.5時間攪拌した。反応混合物に水、テトラヒドロフラン、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。NHシリカゲル(酢酸エチル)を用いて濾過し、減圧濃縮して粗生成物を得た。
粗生成物をN,N−ジメチルホルムアミド(15mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温で市販の4−ヒドロキシピペリジン(1.48g、14.6mmol)を加え、16時間攪拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配し、水層を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜9:1〜17:3〜4:1)で精製した。目的物を酢酸エチルで濾取洗浄し、標記化合物(1.30g、84%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 1.32-1.44 (2H, m), 1.64-1.74 (2H, m), 1.97-2.09 (2H, m), 2.59-2.69(2H, m), 2.86 (3H, d, J=4.2 Hz), 3.39-3.50 (3H, m), 3.76 (3H, s), 4.54 (1H, d, J=4.2Hz), 6.63 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.65 (1H, dd, J=5.7, 2.2 Hz), 7.37 (2H, d, J=8.1Hz), 7.44 (1H, s), 7.66 (1H, d, J=2.4 Hz), 7.78 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.92 (2H, d,J=8.2 Hz), 8.10 (1H, s), 8.15-8.22 (2H, m), 10.68 (1H, s).
[実施例10]5−((2−(4−(((3S,4S)−3−ヒドロキシ−4−メトキシピロリジン−1−イル)メチル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
実施例9に記載の粗生成物(20.2mg、0.033mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(0.5mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温で(3S,4S)−4−メトキシピロリジン−3−オール(55.9mg、0.477mmol)(EP1375465に記載)を加え、200分間攪拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜19:1〜9:1)で精製した。残渣をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(13.8mg、77%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.32 (1H, dd, J=10.1, 4.2 Hz), 2.61-2.68 (1H, m), 2.70-2.77(1H, m), 3.03-3.16 (4H, m), 3.36 (3H, s), 3.62-3.76 (4H, m), 3.87 (3H, s),4.12-4.19 (1H, m), 5.42-5.51 (1H, m), 6.56 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.59-6.62 (1H, m),7.23 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.32 (1H, s), 7.42 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.81 (2H, d, J=8.1Hz), 7.91 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.03 (1H, s), 8.11 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.48 (1H, brs).
実施例9に記載の粗生成物(20.2mg、0.033mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(0.5mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温で(3S,4S)−4−メトキシピロリジン−3−オール(55.9mg、0.477mmol)(EP1375465に記載)を加え、200分間攪拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜19:1〜9:1)で精製した。残渣をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(13.8mg、77%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.32 (1H, dd, J=10.1, 4.2 Hz), 2.61-2.68 (1H, m), 2.70-2.77(1H, m), 3.03-3.16 (4H, m), 3.36 (3H, s), 3.62-3.76 (4H, m), 3.87 (3H, s),4.12-4.19 (1H, m), 5.42-5.51 (1H, m), 6.56 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.59-6.62 (1H, m),7.23 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.32 (1H, s), 7.42 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.81 (2H, d, J=8.1Hz), 7.91 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.03 (1H, s), 8.11 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.48 (1H, brs).
[実施例11]5−((2−(4−(2−(4−エチルピペラジン−1−イル)エチル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
市販の4−(2−クロロエチル)ベンゾイック アシッド(88mg、0.479mmol)と1,2−ジクロロエタン(1.0mL)の混合物に、窒素雰囲気下、室温で塩化チオニル(0.116mL、1.60mmol)を加え、90℃で1.5時間加熱還流した。室温まで冷却後、溶媒を留去し、テトラヒドロフラン(1.0mL)に溶解させ酸クロリド溶液を調製した。製造例1−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(49.9mg、0.160mmol)とN,N−ジメチルホルムアミド(0.5mL)の混合物に、窒素雰囲気下、室温でトリエチルアミン(0.443mL、3.20mmol)を加え、0℃に冷却した。同温にて先に調製した酸クロリドのテトラヒドロフラン溶液を加え、室温にて2.5時間攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:1〜0:1)で精製し、目的物画分を減圧濃縮して粗生成物(48.9mg)を得た。
粗生成物(48.9mg)をN,N−ジメチルホルムアミド(0.25mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温で市販のN−エチルピペラジン(129μL、1.02mmol)、N,N−ジイソプロピルエチルアミン(26.6μL、0.153mmol)を加え、60℃で16時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜19:1)で精製した。混合物画分を減圧濃縮し、残渣をNHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製し、標記化合物(7.03mg、16%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.10 (3H, t, J=7.3 Hz), 2.44 (2H, q, J=7.0 Hz), 2.35-2.70(10H, m), 2.81-2.90 (2H, m), 3.07 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.86 (3H, s), 5.43-5.51(1H, m), 6.56 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.9, 2.6 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7Hz), 7.28-7.33 (3H, m), 7.78 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.03(1H, s), 8.10 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.46 (1H, brs).
市販の4−(2−クロロエチル)ベンゾイック アシッド(88mg、0.479mmol)と1,2−ジクロロエタン(1.0mL)の混合物に、窒素雰囲気下、室温で塩化チオニル(0.116mL、1.60mmol)を加え、90℃で1.5時間加熱還流した。室温まで冷却後、溶媒を留去し、テトラヒドロフラン(1.0mL)に溶解させ酸クロリド溶液を調製した。製造例1−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(49.9mg、0.160mmol)とN,N−ジメチルホルムアミド(0.5mL)の混合物に、窒素雰囲気下、室温でトリエチルアミン(0.443mL、3.20mmol)を加え、0℃に冷却した。同温にて先に調製した酸クロリドのテトラヒドロフラン溶液を加え、室温にて2.5時間攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:1〜0:1)で精製し、目的物画分を減圧濃縮して粗生成物(48.9mg)を得た。
粗生成物(48.9mg)をN,N−ジメチルホルムアミド(0.25mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温で市販のN−エチルピペラジン(129μL、1.02mmol)、N,N−ジイソプロピルエチルアミン(26.6μL、0.153mmol)を加え、60℃で16時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜19:1)で精製した。混合物画分を減圧濃縮し、残渣をNHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製し、標記化合物(7.03mg、16%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.10 (3H, t, J=7.3 Hz), 2.44 (2H, q, J=7.0 Hz), 2.35-2.70(10H, m), 2.81-2.90 (2H, m), 3.07 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.86 (3H, s), 5.43-5.51(1H, m), 6.56 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.9, 2.6 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7Hz), 7.28-7.33 (3H, m), 7.78 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.03(1H, s), 8.10 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.46 (1H, brs).
[実施例12]5−((2−(4−(2−(4−ヒドロキシピペリジン−1−イル)エトキシ)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例12−1に記載の4−(2−クロロエトキシ)ベンゾイック アシッド(51.2mg、0.255mmol)とジクロロメタン(2.0mL)の混合物に、窒素雰囲気下、室温で塩化オキサリル(44μL、0.513mmol)と触媒量のN,N−ジメチルホルムアミドを加え45分間攪拌した。反応混合物に室温で塩化オキサリル(44μL、0.513mmol)を加え30分間攪拌した。溶媒を留去し、テトラヒドロフラン(0.5mL)に溶解させ酸クロリド溶液を調製した。製造例1−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(40mg、0.128mmol)とN,N−ジメチルホルムアミド(0.5mL)の混合物に、窒素雰囲気下、室温でトリエチルアミン(89μL、0.64mmol)を加えた。同温にて先に調製した酸クロリドのテトラヒドロフラン溶液を加え、室温にて80分間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。NHシリカゲル(酢酸エチル)を用いて濾過し、減圧濃縮して粗生成物(80.6mg)を得た。
粗生成物(80.6mg)をN,N−ジメチルホルムアミド(0.7mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温で市販の4−ヒドロキシピペリジン(93mg、0.919mmol)を加え、80℃で12時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配し、水層を酢酸エチルで1回抽出した。合わせた有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルTLC(酢酸エチル:メタノール=9:1)にて精製した。得られた残渣をNHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製し、標記化合物(10.8mg、30%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.55-1.67 (2H, m), 1.86-1.97 (2H, m), 2.31 (2H, t, J=9.5 Hz),2.78-2.92 (4H, m), 3.06 (3H, d, J=4.4 Hz), 3.67-3.77 (1H, m), 3.86 (3H, s), 4.14(2H, t, J=5.7 Hz), 5.50-5.59 (1H, m), 6.54 (1H, d, J=3.3 Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.7,2.4 Hz), 6.95 (2H, d, J=8.8 Hz), 7.22 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.32 (1H, s), 7.81 (2H,d, J=8.8 Hz), 7.88 (1H, d, J=1.8 Hz), 8.03 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.47(1H, brs).
製造例12−1に記載の4−(2−クロロエトキシ)ベンゾイック アシッド(51.2mg、0.255mmol)とジクロロメタン(2.0mL)の混合物に、窒素雰囲気下、室温で塩化オキサリル(44μL、0.513mmol)と触媒量のN,N−ジメチルホルムアミドを加え45分間攪拌した。反応混合物に室温で塩化オキサリル(44μL、0.513mmol)を加え30分間攪拌した。溶媒を留去し、テトラヒドロフラン(0.5mL)に溶解させ酸クロリド溶液を調製した。製造例1−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(40mg、0.128mmol)とN,N−ジメチルホルムアミド(0.5mL)の混合物に、窒素雰囲気下、室温でトリエチルアミン(89μL、0.64mmol)を加えた。同温にて先に調製した酸クロリドのテトラヒドロフラン溶液を加え、室温にて80分間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。NHシリカゲル(酢酸エチル)を用いて濾過し、減圧濃縮して粗生成物(80.6mg)を得た。
粗生成物(80.6mg)をN,N−ジメチルホルムアミド(0.7mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温で市販の4−ヒドロキシピペリジン(93mg、0.919mmol)を加え、80℃で12時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配し、水層を酢酸エチルで1回抽出した。合わせた有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルTLC(酢酸エチル:メタノール=9:1)にて精製した。得られた残渣をNHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製し、標記化合物(10.8mg、30%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.55-1.67 (2H, m), 1.86-1.97 (2H, m), 2.31 (2H, t, J=9.5 Hz),2.78-2.92 (4H, m), 3.06 (3H, d, J=4.4 Hz), 3.67-3.77 (1H, m), 3.86 (3H, s), 4.14(2H, t, J=5.7 Hz), 5.50-5.59 (1H, m), 6.54 (1H, d, J=3.3 Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.7,2.4 Hz), 6.95 (2H, d, J=8.8 Hz), 7.22 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.32 (1H, s), 7.81 (2H,d, J=8.8 Hz), 7.88 (1H, d, J=1.8 Hz), 8.03 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.47(1H, brs).
試薬の4−(2−クロロエトキシ)ベンゾイック アシッドは以下の方法で合成した。
[製造例12−1]4−(2−クロロエトキシ)ベンゾイック アシッド
市販のメチル p−ヒドロキシベンゾエート(2.0g、13.1mmol)とN,N−ジメチルホルムアミド(50mL)の混合液に、窒素雰囲気下、室温で炭酸カリウム(7.27g、52.6mmol)、市販の1−クロロ−2−ヨードエタン(3.6mL、39.5mmol)を加え、60℃で12時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液、水、ジエチルエーテルを加え分配した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、減圧濃縮した。残渣にテトラヒドロフラン(25mL)、メタノール(10mL)、2M水酸化ナトリウム溶液(10mL)を室温で加え、80℃で4時間加熱攪拌した。反応混合物を0℃に冷却後、5M塩酸で酸性にし、酢酸エチルで希釈し分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、析出物を酢酸エチルとテトラヒドロフランの混合液で濾別、洗浄し、濾液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:1〜2:1〜1:1)で精製し、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(278mg、11%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 3.92-3.98 (2H, m), 4.26-4.35 (2H, m), 6.96-7.06 (2H, m),7.82-7.91 (2H, m), 12.68 (1H, brs).
市販のメチル p−ヒドロキシベンゾエート(2.0g、13.1mmol)とN,N−ジメチルホルムアミド(50mL)の混合液に、窒素雰囲気下、室温で炭酸カリウム(7.27g、52.6mmol)、市販の1−クロロ−2−ヨードエタン(3.6mL、39.5mmol)を加え、60℃で12時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液、水、ジエチルエーテルを加え分配した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、減圧濃縮した。残渣にテトラヒドロフラン(25mL)、メタノール(10mL)、2M水酸化ナトリウム溶液(10mL)を室温で加え、80℃で4時間加熱攪拌した。反応混合物を0℃に冷却後、5M塩酸で酸性にし、酢酸エチルで希釈し分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、析出物を酢酸エチルとテトラヒドロフランの混合液で濾別、洗浄し、濾液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:1〜2:1〜1:1)で精製し、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(278mg、11%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 3.92-3.98 (2H, m), 4.26-4.35 (2H, m), 6.96-7.06 (2H, m),7.82-7.91 (2H, m), 12.68 (1H, brs).
[実施例13]5−((2−(1−(1−エチルピペリジン−4−イル)−1H−ピラゾール−4−カルボキサミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例13−4に記載の6−メトキシ−N−メチル−5−((2−(1−(ピペリジン−4−イル)−1H−ピラゾール−4−カルボキサミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(20.3mg、0.041mmol)とテトラヒドロフラン(1.0mL)の混合物に、室温でアセトアルデヒド(8.9mg、0.202mmol)、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(43.9mg、0.207mmol)を加え2.5時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製した。生成物をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(9.3mg、43%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.11 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.94-2.24 (6H, m), 2.46 (2H, q, J=7.4Hz), 3.03-3.11 (5H, m), 3.86 (3H, s), 4.09-4.19 (1H, m), 5.49-5.56 (1H, m), 6.54(1H, d, J=2.9 Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.9, 2.4 Hz), 7.22 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.31 (1H,s), 7.81 (1H, d, J=2.0 Hz), 7.85 (1H, d, J=0.7 Hz), 7.96 (1H, s), 8.02 (1H, s),8.08 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.17 (1H, brs).
製造例13−4に記載の6−メトキシ−N−メチル−5−((2−(1−(ピペリジン−4−イル)−1H−ピラゾール−4−カルボキサミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(20.3mg、0.041mmol)とテトラヒドロフラン(1.0mL)の混合物に、室温でアセトアルデヒド(8.9mg、0.202mmol)、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(43.9mg、0.207mmol)を加え2.5時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製した。生成物をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(9.3mg、43%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.11 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.94-2.24 (6H, m), 2.46 (2H, q, J=7.4Hz), 3.03-3.11 (5H, m), 3.86 (3H, s), 4.09-4.19 (1H, m), 5.49-5.56 (1H, m), 6.54(1H, d, J=2.9 Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.9, 2.4 Hz), 7.22 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.31 (1H,s), 7.81 (1H, d, J=2.0 Hz), 7.85 (1H, d, J=0.7 Hz), 7.96 (1H, s), 8.02 (1H, s),8.08 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.17 (1H, brs).
出発物質の6−メトキシ−N−メチル−5−((2−(1−(ピペリジン−4−イル)−1H−ピラゾール−4−カルボキサミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミドは以下の方法で合成した。
[製造例13−1]tert−ブチル 4−((メチルスルホニル)オキシ)ピペリジン−1−カルボキシレート
市販のtert−ブチル 4−ヒドロキシ−1−ピペリジンカルボキシレート(15g、74.5mmol)とテトラヒドロフラン(200mL)の混合物に、0℃で市販のメタンスルホニル クロリド(6.35mL、82.0mmol)、トリエチルアミン(26.0mL、186mmol)を加え、30分間攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を常法に従い乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、残渣をn−ヘプタンで濾取、洗浄し、標記化合物(19.8g、95%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.46 (9H, s), 1.72-1.88 (2H, m), 1.90-2.04 (2H, m), 3.03 (3H,s), 3.24-3.36 (2H, m), 3.64-3.77 (2H, m), 4.80-4.94 (1H, m).
市販のtert−ブチル 4−ヒドロキシ−1−ピペリジンカルボキシレート(15g、74.5mmol)とテトラヒドロフラン(200mL)の混合物に、0℃で市販のメタンスルホニル クロリド(6.35mL、82.0mmol)、トリエチルアミン(26.0mL、186mmol)を加え、30分間攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を常法に従い乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、残渣をn−ヘプタンで濾取、洗浄し、標記化合物(19.8g、95%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.46 (9H, s), 1.72-1.88 (2H, m), 1.90-2.04 (2H, m), 3.03 (3H,s), 3.24-3.36 (2H, m), 3.64-3.77 (2H, m), 4.80-4.94 (1H, m).
[製造例13−2]tert−ブチル 4−(4−(エトキシカルボニル)−1H−ピラゾール−1−イル)ピペリジン−1−カルボキシレート
製造例13−1に記載のtert−ブチル 4−((メチルスルホニル)オキシ)ピペリジン−1−カルボキシレート(2.7g、9.67mmol)と市販のエチル 4−ピラゾールカルボキシレート(1.49g、10.6mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(30mL)に溶解させ、0℃で50−72%水素化ナトリウム 油状(570mg)を加え、60℃で11時間加熱攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を水で2回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜1:1〜1:3〜0:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(2.11g、68%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.34 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.47 (9H, s), 1.82-1.96 (2H, m), 2.10-2.18(2H, m), 2.82-2.96 (2H, m), 4.19-4.34 (3H, m), 4.29 (2H, q, J=7.1 Hz), 7.91 (1H,s), 7.92 (1H, s).
製造例13−1に記載のtert−ブチル 4−((メチルスルホニル)オキシ)ピペリジン−1−カルボキシレート(2.7g、9.67mmol)と市販のエチル 4−ピラゾールカルボキシレート(1.49g、10.6mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(30mL)に溶解させ、0℃で50−72%水素化ナトリウム 油状(570mg)を加え、60℃で11時間加熱攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を水で2回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜1:1〜1:3〜0:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(2.11g、68%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.34 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.47 (9H, s), 1.82-1.96 (2H, m), 2.10-2.18(2H, m), 2.82-2.96 (2H, m), 4.19-4.34 (3H, m), 4.29 (2H, q, J=7.1 Hz), 7.91 (1H,s), 7.92 (1H, s).
[製造例13−3]1−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)−1H−ピラゾール−4−カルボキシリック アシッド
製造例13−2に記載のtert−ブチル 4−(4−(エトキシカルボニル)−1H−ピラゾール−1−イル)ピペリジン−1−カルボキシレート(2.11g、6.53mmol)をメタノール(60mL)に溶解させ、水(16mL)に溶解させた水酸化カリウム(1.46g、26.1mmol)を加え、27時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、ジエチルエーテルを加え分配した。水層に酢酸エチルを加えて希釈後、5%硫酸水素カリウム水溶液を加えて酸性にし、酢酸エチルで2回抽出した。合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、標記化合物(1.58g、82%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.48 (9H, s), 1.84-1.98 (2H, m), 2.11-2.20 (2H, m), 2.81-2.97(2H, m), 4.18-4.36 (3H, m), 7.97 (1H, s), 7.98 (1H, s).
製造例13−2に記載のtert−ブチル 4−(4−(エトキシカルボニル)−1H−ピラゾール−1−イル)ピペリジン−1−カルボキシレート(2.11g、6.53mmol)をメタノール(60mL)に溶解させ、水(16mL)に溶解させた水酸化カリウム(1.46g、26.1mmol)を加え、27時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、ジエチルエーテルを加え分配した。水層に酢酸エチルを加えて希釈後、5%硫酸水素カリウム水溶液を加えて酸性にし、酢酸エチルで2回抽出した。合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、標記化合物(1.58g、82%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.48 (9H, s), 1.84-1.98 (2H, m), 2.11-2.20 (2H, m), 2.81-2.97(2H, m), 4.18-4.36 (3H, m), 7.97 (1H, s), 7.98 (1H, s).
[製造例13−4]6−メトキシ−N−メチル−5−((2−(1−(ピペリジン−4−イル)−1H−ピラゾール−4−カルボキサミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド
ベンゾトリアゾール(97mg、0.813mmol)をジクロロメタン(4.0mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて塩化チオニル(59μL、0.813mmol)を加え5分間攪拌した。反応混合物に製造例13−3に記載の1−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)−1H−ピラゾール−4−カルボキシリック アシッド(200mg、0.677mmol)を室温にて加え、25分間攪拌した。反応混合物を無水硫酸ナトリウムを敷き詰めたグラスフィルターで濾過し、ジクロロメタンで洗浄し、濾液を製造例1−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(102mg、0.327mmol)、トリエチルアミン(0.453mL、3.27mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(3.99mg、0.033mmol)のテトラヒドロフラン(5.0mL)混合物に0℃にて加えた。室温で2時間攪拌後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を減圧濃縮した。残渣をテトラヒドロフランに溶解させ、過剰量の9.8Mメチルアミン メタノール溶液を室温にて加え、4時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜1:9〜0:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物(170mg)を得た。
粗生成物(170mg)をジクロロメタン(1.8mL)に溶解させ、トリフルオロ酢酸(0.5mL)を0℃で加えた。室温にて80分間攪拌後、減圧濃縮し、残渣をジクロロメタン−トリエチルアミンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=49:1〜4:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(81.2mg、51%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.78-1.91 (2H, m), 2.11-2.19 (2H, m), 2.75 (2H, td, J=12.3,2.3 Hz), 3.05 (3H, d, J=4.6 Hz), 3.19-3.27 (2H, m), 3.85 (3H, s), 4.16-4.26(1H, m), 5.53-5.63 (1H, m), 6.53 (1H, d, J=3.5 Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.8, 2.5Hz), 7.22 (1H, d, J=3.8 Hz), 7.30 (1H, s), 7.81 (1H, d, J=2.4 Hz), 7.86 (1H,s), 7.96 (1H, s), 8.03 (1H, s), 8.08 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.22 (1H, brs).
ベンゾトリアゾール(97mg、0.813mmol)をジクロロメタン(4.0mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて塩化チオニル(59μL、0.813mmol)を加え5分間攪拌した。反応混合物に製造例13−3に記載の1−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)−1H−ピラゾール−4−カルボキシリック アシッド(200mg、0.677mmol)を室温にて加え、25分間攪拌した。反応混合物を無水硫酸ナトリウムを敷き詰めたグラスフィルターで濾過し、ジクロロメタンで洗浄し、濾液を製造例1−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(102mg、0.327mmol)、トリエチルアミン(0.453mL、3.27mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(3.99mg、0.033mmol)のテトラヒドロフラン(5.0mL)混合物に0℃にて加えた。室温で2時間攪拌後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を減圧濃縮した。残渣をテトラヒドロフランに溶解させ、過剰量の9.8Mメチルアミン メタノール溶液を室温にて加え、4時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜1:9〜0:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物(170mg)を得た。
粗生成物(170mg)をジクロロメタン(1.8mL)に溶解させ、トリフルオロ酢酸(0.5mL)を0℃で加えた。室温にて80分間攪拌後、減圧濃縮し、残渣をジクロロメタン−トリエチルアミンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=49:1〜4:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(81.2mg、51%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.78-1.91 (2H, m), 2.11-2.19 (2H, m), 2.75 (2H, td, J=12.3,2.3 Hz), 3.05 (3H, d, J=4.6 Hz), 3.19-3.27 (2H, m), 3.85 (3H, s), 4.16-4.26(1H, m), 5.53-5.63 (1H, m), 6.53 (1H, d, J=3.5 Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.8, 2.5Hz), 7.22 (1H, d, J=3.8 Hz), 7.30 (1H, s), 7.81 (1H, d, J=2.4 Hz), 7.86 (1H,s), 7.96 (1H, s), 8.03 (1H, s), 8.08 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.22 (1H, brs).
[実施例14]5−((2−(4−((1−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン−4−イル)オキシ)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
ベンゾトリアゾール(34.1mg、0.286mmol)をジクロロメタン(1.5mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて塩化チオニル(20μL、0.274mmol)を加え5分間攪拌した。反応混合物に製造例14−1に記載の4−((1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)オキシ)ベンゾイック アシッド(79.3mg、0.247mmol)を室温にて加え、25分間攪拌した。反応混合物を無水硫酸ナトリウムを敷き詰めたグラスフィルターで濾過し、ジクロロメタンで洗浄し、濾液を製造例1−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(35.6mg、0.114mmol)、トリエチルアミン(0.158mL、1.14mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(1.39mg、0.011mmol)のテトラヒドロフラン(1.1mL)混合物に0℃にて加えた。室温で1.5時間攪拌後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を減圧濃縮し、残渣をテトラヒドロフランに溶解させ、過剰量の9.8Mメチルアミン メタノール溶液を室温にて加え、2時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜1:3〜0:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物A(41.1mg)を得た。
粗生成物A(41.1mg)をジクロロメタン(0.6mL)に溶解させ、トリフルオロ酢酸(0.2mL)を0℃で加えた。室温にて75分間攪拌後、減圧濃縮し、残渣をジクロロメタン−トリエチルアミンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=49:1〜4:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物B(34mg)を得た。
粗生成物B(8.5mg、0.016mmol)とテトラヒドロフラン(0.5mL)の混合物に、室温でトリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(17.5mg、0.082mmol)、市販の2−ヒドロキシアセトアルデヒド(4.95mg、0.082mmol)を加え、2時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製した。残渣をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(6.4mg、40%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.78-1.90 (2H, m), 1.95-2.06 (2H, m), 2.35-2.47 (2H, m), 2.57(2H, t, J=5.6 Hz), 2.72-2.83 (2H, m), 3.07 (3H, d, J=4.4 Hz), 3.62 (2H, t, J=5.3Hz), 3.86 (3H, s), 4.38-4.48 (1H, m), 5.45-5.54 (1H, m), 6.55 (1H, d, J=3.7 Hz),6.59 (1H, dd, J=5.7, 2.4 Hz), 6.94 (2H, d, J=8.8 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.32(1H, s), 7.81 (2H, d, J=8.8 Hz), 7.89 (1H, d, J=2.6 Hz), 8.03 (1H, s), 8.09 (1H,d, J=5.5 Hz), 8.45 (1H, brs).
ベンゾトリアゾール(34.1mg、0.286mmol)をジクロロメタン(1.5mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて塩化チオニル(20μL、0.274mmol)を加え5分間攪拌した。反応混合物に製造例14−1に記載の4−((1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)オキシ)ベンゾイック アシッド(79.3mg、0.247mmol)を室温にて加え、25分間攪拌した。反応混合物を無水硫酸ナトリウムを敷き詰めたグラスフィルターで濾過し、ジクロロメタンで洗浄し、濾液を製造例1−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(35.6mg、0.114mmol)、トリエチルアミン(0.158mL、1.14mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(1.39mg、0.011mmol)のテトラヒドロフラン(1.1mL)混合物に0℃にて加えた。室温で1.5時間攪拌後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を減圧濃縮し、残渣をテトラヒドロフランに溶解させ、過剰量の9.8Mメチルアミン メタノール溶液を室温にて加え、2時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜1:3〜0:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物A(41.1mg)を得た。
粗生成物A(41.1mg)をジクロロメタン(0.6mL)に溶解させ、トリフルオロ酢酸(0.2mL)を0℃で加えた。室温にて75分間攪拌後、減圧濃縮し、残渣をジクロロメタン−トリエチルアミンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=49:1〜4:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物B(34mg)を得た。
粗生成物B(8.5mg、0.016mmol)とテトラヒドロフラン(0.5mL)の混合物に、室温でトリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(17.5mg、0.082mmol)、市販の2−ヒドロキシアセトアルデヒド(4.95mg、0.082mmol)を加え、2時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製した。残渣をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(6.4mg、40%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.78-1.90 (2H, m), 1.95-2.06 (2H, m), 2.35-2.47 (2H, m), 2.57(2H, t, J=5.6 Hz), 2.72-2.83 (2H, m), 3.07 (3H, d, J=4.4 Hz), 3.62 (2H, t, J=5.3Hz), 3.86 (3H, s), 4.38-4.48 (1H, m), 5.45-5.54 (1H, m), 6.55 (1H, d, J=3.7 Hz),6.59 (1H, dd, J=5.7, 2.4 Hz), 6.94 (2H, d, J=8.8 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.32(1H, s), 7.81 (2H, d, J=8.8 Hz), 7.89 (1H, d, J=2.6 Hz), 8.03 (1H, s), 8.09 (1H,d, J=5.5 Hz), 8.45 (1H, brs).
出発物質の4−((1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)オキシ)ベンゾイック アシッドは以下の方法で合成した。
[製造例14−1]4−((1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)オキシ)ベンゾイック アシッド
市販のベンジル 4−ヒドロキシベンゾエート(3g、13.1mmol)、市販のtert−ブチル 4−ヒドロキシピペリジン−1−カルボキシレート(2.77g、13.8mmol)、トリフェニルホスフィン(4.81g、18.3mmol)とテトラヒドロフラン(150mL)の混合物に、0℃でジイソプロピル アゾジカルボキシレート(9.65mL、1.9M、18.3mmol)を加え、室温で終夜攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物(3.8g)を得た。
粗生成物の一部(500mg、1.22mmol)をエタノール(5mL)に溶解させ、5M水酸化ナトリウム溶液(0.729mL、3.65mmol)を加え、50℃で7時間加熱攪拌した。反応混合物を室温まで冷却後、5M塩酸、酢酸エチルを加え分配した。有機層を常法に従い乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、n−ヘプタンで濾取洗浄し、標記化合物(343mg、62%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.47 (9H, s), 1.65-1.84 (2H, m), 1.87-2.07 (2H, m), 3.30-3.51(2H, m), 3.60-3.80 (2H, m), 4.50-4.66 (1H, m), 6.87-7.03 (2H, m), 7.98-8.14 (2H,m).
市販のベンジル 4−ヒドロキシベンゾエート(3g、13.1mmol)、市販のtert−ブチル 4−ヒドロキシピペリジン−1−カルボキシレート(2.77g、13.8mmol)、トリフェニルホスフィン(4.81g、18.3mmol)とテトラヒドロフラン(150mL)の混合物に、0℃でジイソプロピル アゾジカルボキシレート(9.65mL、1.9M、18.3mmol)を加え、室温で終夜攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物(3.8g)を得た。
粗生成物の一部(500mg、1.22mmol)をエタノール(5mL)に溶解させ、5M水酸化ナトリウム溶液(0.729mL、3.65mmol)を加え、50℃で7時間加熱攪拌した。反応混合物を室温まで冷却後、5M塩酸、酢酸エチルを加え分配した。有機層を常法に従い乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、n−ヘプタンで濾取洗浄し、標記化合物(343mg、62%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.47 (9H, s), 1.65-1.84 (2H, m), 1.87-2.07 (2H, m), 3.30-3.51(2H, m), 3.60-3.80 (2H, m), 4.50-4.66 (1H, m), 6.87-7.03 (2H, m), 7.98-8.14 (2H,m).
[実施例15]6−エトキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例15−8に記載のtert−ブチル 4−(4−((4−((6−エトキシ−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレート(3.35g、5.46mmol)をジクロロメタン(45mL)に溶解させ、0℃でトリフルオロ酢酸(15mL)を加えた。室温にて110分間攪拌後、減圧濃縮し、残渣をジクロロメタン−トリエチルアミンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=97:3〜4:1)で精製し、標記化合物(2.41g、86%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.25 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.50-1.70 (2H, m), 1.79-1.88 (2H, m),2.63-2.80 (3H, m), 3.06 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.16-3.24 (2H, m), 4.11 (2H, q, J=7.0Hz), 5.46-5.54 (1H, m), 6.55 (1H, d, J=3.3 Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.9, 2.6 Hz), 7.23(1H, d, J=3.7 Hz), 7.29-7.34 (3H, m), 7.78-7.83 (2H, m), 7.92 (1H, d, J=2.2Hz), 8.00 (1H, s), 8.08-8.11 (1H, m), 8.50 (1H, brs).
製造例15−8に記載のtert−ブチル 4−(4−((4−((6−エトキシ−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレート(3.35g、5.46mmol)をジクロロメタン(45mL)に溶解させ、0℃でトリフルオロ酢酸(15mL)を加えた。室温にて110分間攪拌後、減圧濃縮し、残渣をジクロロメタン−トリエチルアミンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=97:3〜4:1)で精製し、標記化合物(2.41g、86%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.25 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.50-1.70 (2H, m), 1.79-1.88 (2H, m),2.63-2.80 (3H, m), 3.06 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.16-3.24 (2H, m), 4.11 (2H, q, J=7.0Hz), 5.46-5.54 (1H, m), 6.55 (1H, d, J=3.3 Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.9, 2.6 Hz), 7.23(1H, d, J=3.7 Hz), 7.29-7.34 (3H, m), 7.78-7.83 (2H, m), 7.92 (1H, d, J=2.2Hz), 8.00 (1H, s), 8.08-8.11 (1H, m), 8.50 (1H, brs).
出発物質のtert−ブチル 4−(4−((4−((6−エトキシ−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレートは以下の方法で合成した。
[製造例15−1]4−エトキシ−3−ヒドロキシベンズアルデヒド
市販の3,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド(35.8g、259mmol)と炭酸カリウム(37.6g、272mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(150mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、0℃で市販のヨードエタン(22mL、275mmol)を加え、2日間攪拌した。溶媒を減圧留去し、0℃に冷却後、5M塩酸、酢酸エチル、水を加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を水で2回と飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過した。溶媒を留去し、ジクロロメタンを加えた後、析出物を濾取し、標記化合物(25.8g、60%)を得た。濾液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜4:1〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、残渣にジエチルエーテルとジクロロメタンを加え、析出物を濾取し、標記化合物(3.45g、8.0%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.50 (3H, t, J=7.1 Hz), 4.22 (2H, q, J=7.0 Hz), 5.75 (1H, s),6.95 (1H, d, J=8.1 Hz), 7.39-7.45 (2H, m), 9.84 (1H, s).
市販の3,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド(35.8g、259mmol)と炭酸カリウム(37.6g、272mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(150mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、0℃で市販のヨードエタン(22mL、275mmol)を加え、2日間攪拌した。溶媒を減圧留去し、0℃に冷却後、5M塩酸、酢酸エチル、水を加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を水で2回と飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過した。溶媒を留去し、ジクロロメタンを加えた後、析出物を濾取し、標記化合物(25.8g、60%)を得た。濾液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜4:1〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、残渣にジエチルエーテルとジクロロメタンを加え、析出物を濾取し、標記化合物(3.45g、8.0%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.50 (3H, t, J=7.1 Hz), 4.22 (2H, q, J=7.0 Hz), 5.75 (1H, s),6.95 (1H, d, J=8.1 Hz), 7.39-7.45 (2H, m), 9.84 (1H, s).
[製造例15−2]3−(ベンジルオキシ)−4−エトキシベンズアルデヒド
製造例15−1に記載の4−エトキシ−3−ヒドロキシベンズアルデヒド(20g、120mmol)のエタノール(200mL)懸濁液に、窒素雰囲気下、室温で炭酸カリウム(19.8g、143mmol)、塩化ベンジル(16.5mL、143mmol)を加え、90℃にて2.5時間加熱攪拌した。0℃に冷却後、2M塩酸、酢酸エチル、水を加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜4:1〜3:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(28.5g、92%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.51 (3H, t, J=7.0 Hz), 4.20 (2H, q, J=7.0 Hz), 5.19 (2H, s),6.98 (1H, d, J=8.8 Hz), 7.29-7.34 (1H, m), 7.35-7.41 (2H, m), 7.43-7.49 (4H, m),9.81 (1H, s).
製造例15−1に記載の4−エトキシ−3−ヒドロキシベンズアルデヒド(20g、120mmol)のエタノール(200mL)懸濁液に、窒素雰囲気下、室温で炭酸カリウム(19.8g、143mmol)、塩化ベンジル(16.5mL、143mmol)を加え、90℃にて2.5時間加熱攪拌した。0℃に冷却後、2M塩酸、酢酸エチル、水を加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜4:1〜3:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(28.5g、92%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.51 (3H, t, J=7.0 Hz), 4.20 (2H, q, J=7.0 Hz), 5.19 (2H, s),6.98 (1H, d, J=8.8 Hz), 7.29-7.34 (1H, m), 7.35-7.41 (2H, m), 7.43-7.49 (4H, m),9.81 (1H, s).
[製造例15−3](E)−2−(ベンジルオキシ)−1−エトキシ−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン
製造例15−2に記載の3−(ベンジルオキシ)−4−エトキシベンズアルデヒド(14.5g、56.4mmol)を酢酸(45mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温で酢酸アンモニウム(5.22g、67.7mmol)、ニトロメタン(7.5mL、138mmol)を加え、130℃にて2.5時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、析出物を濾取、エタノールにて洗浄し、標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.50 (3H, t, J=7.0 Hz), 4.17 (2H, q, J=7.2 Hz), 5.17 (2H, s),6.92 (1H, d, J=8.4 Hz), 7.04 (1H, d, J=2.2 Hz), 7.16 (1H, dd, J=8.6, 2.0 Hz), 7.29-7.51(6H, m), 7.90 (1H, d, J=13.5 Hz).
製造例15−2に記載の3−(ベンジルオキシ)−4−エトキシベンズアルデヒド(14.5g、56.4mmol)を酢酸(45mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温で酢酸アンモニウム(5.22g、67.7mmol)、ニトロメタン(7.5mL、138mmol)を加え、130℃にて2.5時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、析出物を濾取、エタノールにて洗浄し、標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.50 (3H, t, J=7.0 Hz), 4.17 (2H, q, J=7.2 Hz), 5.17 (2H, s),6.92 (1H, d, J=8.4 Hz), 7.04 (1H, d, J=2.2 Hz), 7.16 (1H, dd, J=8.6, 2.0 Hz), 7.29-7.51(6H, m), 7.90 (1H, d, J=13.5 Hz).
[製造例15−4]6−エトキシ−1H−インドール−5−オール
製造例15−3に記載の(E)−2−(ベンジルオキシ)−1−エトキシ−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン(16.9g、56.6mmol)、酢酸(160mL)の混合物に、室温にて発煙硝酸(13mL、289mmol)をゆっくり加え、6時間攪拌した。反応混合物を氷にあけ、沈殿物を濾取後、酢酸とエタノールの混合液で洗浄し、粗生成物(19.5g)を得た。
粗生成物(19.5g)をメタノール(500mL)に懸濁させた後、10%パラジウム−炭素(50%含水品)(6.85g)を加えて水素雰囲気下で17時間攪拌した。触媒をセライトを用いて濾過し、メタノールで洗浄した。濾液を減圧濃縮し、テトラヒドロフランに溶解させ、シリカゲルに吸着させた。吸着させたシリカゲルを減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜13:7)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、残渣をジエチルエーテルで濾取洗浄し、標記化合物(3.78g、38%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.48 (3H, t, J=6.9 Hz), 4.13 (2H, q, J=6.8Hz), 5.50 (1H, s), 6.39-6.43(1H, m), 6.87 (1H, s), 7.05-7.09 (1H, m), 7.13 (1H, s), 7.91 (1H, brs).
製造例15−3に記載の(E)−2−(ベンジルオキシ)−1−エトキシ−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン(16.9g、56.6mmol)、酢酸(160mL)の混合物に、室温にて発煙硝酸(13mL、289mmol)をゆっくり加え、6時間攪拌した。反応混合物を氷にあけ、沈殿物を濾取後、酢酸とエタノールの混合液で洗浄し、粗生成物(19.5g)を得た。
粗生成物(19.5g)をメタノール(500mL)に懸濁させた後、10%パラジウム−炭素(50%含水品)(6.85g)を加えて水素雰囲気下で17時間攪拌した。触媒をセライトを用いて濾過し、メタノールで洗浄した。濾液を減圧濃縮し、テトラヒドロフランに溶解させ、シリカゲルに吸着させた。吸着させたシリカゲルを減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜13:7)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、残渣をジエチルエーテルで濾取洗浄し、標記化合物(3.78g、38%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.48 (3H, t, J=6.9 Hz), 4.13 (2H, q, J=6.8Hz), 5.50 (1H, s), 6.39-6.43(1H, m), 6.87 (1H, s), 7.05-7.09 (1H, m), 7.13 (1H, s), 7.91 (1H, brs).
[製造例15−5]N−(4−((6−エトキシ−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)アセトアミド
窒素雰囲気下、製造例15−4に記載の6−エトキシ−1H−インドール−5−オール(7.0g、39.5mmol)をジメチルスルホキシド(40mL)に溶解させ、室温にて製造例1−5に記載のN−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミド(8.09g、47.4mmol)、カリウム tert−ブトキシド(4.88g、43.5mmol)を加えて160℃にて4時間加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、水と酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を水で2回と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、濾液を減圧濃縮した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:1〜2:1〜3:2〜1:3〜1:4〜0:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(7.16g、58%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.23 (3H, t, J=7.0 Hz), 2.14 (3H, s), 4.02 (2H, q, J=7.0 Hz),6.46-6.49 (1H, m), 6.54 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 7.01 (1H, s), 7.13-7.16 (1H, m),7.35 (1H, s), 7.74 (1H, brs), 7.87 (1H, brs), 8.02 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.10 (1H,brs).
窒素雰囲気下、製造例15−4に記載の6−エトキシ−1H−インドール−5−オール(7.0g、39.5mmol)をジメチルスルホキシド(40mL)に溶解させ、室温にて製造例1−5に記載のN−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミド(8.09g、47.4mmol)、カリウム tert−ブトキシド(4.88g、43.5mmol)を加えて160℃にて4時間加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、水と酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を水で2回と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、濾液を減圧濃縮した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:1〜2:1〜3:2〜1:3〜1:4〜0:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(7.16g、58%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.23 (3H, t, J=7.0 Hz), 2.14 (3H, s), 4.02 (2H, q, J=7.0 Hz),6.46-6.49 (1H, m), 6.54 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 7.01 (1H, s), 7.13-7.16 (1H, m),7.35 (1H, s), 7.74 (1H, brs), 7.87 (1H, brs), 8.02 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.10 (1H,brs).
[製造例15−6]4−((6−エトキシ−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン
製造例15−5に記載のN−(4−((6−エトキシ−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)アセトアミド(7.16g、23.0mmol)をメタノール(50mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて2M水酸化ナトリウム溶液(50mL)を加えて75℃にて2.5時間加熱攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、水と酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後濾過、減圧濃縮した。残渣にジエチルエーテルと酢酸エチルの混合液を加えて濾取洗浄し、標記化合物(5.35g、86%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.28 (3H, t, J=7.0 Hz), 4.02 (2H, q, J=7.0 Hz), 4.28 (2H, brs),5.91 (1H, d, J=2.2 Hz), 6.29 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 6.46-6.50 (1H, m), 7.00 (1H,s), 7.15-7.18 (1H, m), 7.33 (1H, s), 7.88 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.13 (1H, brs).
製造例15−5に記載のN−(4−((6−エトキシ−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)アセトアミド(7.16g、23.0mmol)をメタノール(50mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて2M水酸化ナトリウム溶液(50mL)を加えて75℃にて2.5時間加熱攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、水と酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後濾過、減圧濃縮した。残渣にジエチルエーテルと酢酸エチルの混合液を加えて濾取洗浄し、標記化合物(5.35g、86%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.28 (3H, t, J=7.0 Hz), 4.02 (2H, q, J=7.0 Hz), 4.28 (2H, brs),5.91 (1H, d, J=2.2 Hz), 6.29 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 6.46-6.50 (1H, m), 7.00 (1H,s), 7.15-7.18 (1H, m), 7.33 (1H, s), 7.88 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.13 (1H, brs).
[製造例15−7]5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−エトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例15−6に記載の4−((6−エトキシ−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン(6.44g、23.9mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(80mL)に溶解し、窒素雰囲気下、0℃にて50−72%水素化ナトリウム 油状(1.41g)を加えて室温で40分間攪拌した。再度0℃に冷却し製造例1−7に記載のフェニル メチルカーバメート(5.78g、38.3mmol)を加え室温で3時間攪拌した。反応混合物に、飽和塩化アンモニウム水溶液、水、酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を水で2回と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、濾液を減圧濃縮した。残渣にジエチルエーテルと酢酸エチルの混合液を加えた後、析出物を濾取し、再度酢酸エチルで洗浄し、標記化合物(4.24g、54%)を得た。濾液をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜9:1)で精製し、目的物画分を減圧濃縮後、残渣をジエチルエーテルと酢酸エチルの混合液で濾取洗浄し、標記化合物(1.58g、20%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.29 (3H, t, J=7.0 Hz), 3.07 (3H, d, J=4.8 Hz), 4.09 (2H, q,J=7.0 Hz), 4.29 (2H, brs), 5.42-5.51 (1H, m), 5.90 (1H, d, J=2.2 Hz), 6.27 (1H,dd, J=6.2, 2.2 Hz), 6.55 (1H, dd, J=3.7, 0.7 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.27 (1H,s), 7.89 (1H, d, J=5.9 Hz), 7.98 (1H, s).
製造例15−6に記載の4−((6−エトキシ−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン(6.44g、23.9mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(80mL)に溶解し、窒素雰囲気下、0℃にて50−72%水素化ナトリウム 油状(1.41g)を加えて室温で40分間攪拌した。再度0℃に冷却し製造例1−7に記載のフェニル メチルカーバメート(5.78g、38.3mmol)を加え室温で3時間攪拌した。反応混合物に、飽和塩化アンモニウム水溶液、水、酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を水で2回と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、濾液を減圧濃縮した。残渣にジエチルエーテルと酢酸エチルの混合液を加えた後、析出物を濾取し、再度酢酸エチルで洗浄し、標記化合物(4.24g、54%)を得た。濾液をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜9:1)で精製し、目的物画分を減圧濃縮後、残渣をジエチルエーテルと酢酸エチルの混合液で濾取洗浄し、標記化合物(1.58g、20%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.29 (3H, t, J=7.0 Hz), 3.07 (3H, d, J=4.8 Hz), 4.09 (2H, q,J=7.0 Hz), 4.29 (2H, brs), 5.42-5.51 (1H, m), 5.90 (1H, d, J=2.2 Hz), 6.27 (1H,dd, J=6.2, 2.2 Hz), 6.55 (1H, dd, J=3.7, 0.7 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.27 (1H,s), 7.89 (1H, d, J=5.9 Hz), 7.98 (1H, s).
[製造例15−8]tert−ブチル 4−(4−((4−((6−エトキシ−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレート
ベンゾトリアゾール(1.92g、16.1mmol)をジクロロメタン(80mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて塩化チオニル(1.15mL、15.8mmol)を加え5分間攪拌した。反応混合物に製造例1−12に記載の4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(4.1g、13.4mmol)を室温にて加え、25分間攪拌した。反応混合物を無水硫酸ナトリウムを敷き詰めたグラスフィルターで濾過し、ジクロロメタンで洗浄し、濾液を製造例15−7に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−エトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(2g、6.13mmol)、トリエチルアミン(8.5mL、61.3mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(75mg、0.613mmol)のテトラヒドロフラン(40mL)混合物に0℃にて加えた。室温で14時間攪拌後、反応混合物に、水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し濾過した。濾液を減圧濃縮し、残渣をテトラヒドロフランに溶解させ、過剰量の9.8Mメチルアミン メタノール溶液を室温にて加え、5時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣にジクロロメタンを加え、さらにジエチルエーテルと酢酸エチルを加えた後、生成物を濾取、洗浄し、標記化合物(3.08g、82%)を得た。濾液を減圧濃縮し、ジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜1:9)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(273mg、7.3%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.25 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.48 (9H, s), 1.50-1.70 (2H, m),1.78-1.87 (2H, m), 2.64-2.87 (3H, m), 3.07 (3H, d, J=4.8 Hz), 4.11 (2H, q,J=7.0 Hz), 4.16-4.33 (2H, m), 5.45-5.52 (1H, m), 6.55 (1H, d, J=3.6 Hz), 6.60 (1H,dd, J=5.9, 2.3 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.28-7.33 (3H, m), 7.79-7.83 (2H, m),7.92 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.00 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.51 (1H, brs).
ベンゾトリアゾール(1.92g、16.1mmol)をジクロロメタン(80mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて塩化チオニル(1.15mL、15.8mmol)を加え5分間攪拌した。反応混合物に製造例1−12に記載の4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(4.1g、13.4mmol)を室温にて加え、25分間攪拌した。反応混合物を無水硫酸ナトリウムを敷き詰めたグラスフィルターで濾過し、ジクロロメタンで洗浄し、濾液を製造例15−7に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−エトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(2g、6.13mmol)、トリエチルアミン(8.5mL、61.3mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(75mg、0.613mmol)のテトラヒドロフラン(40mL)混合物に0℃にて加えた。室温で14時間攪拌後、反応混合物に、水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し濾過した。濾液を減圧濃縮し、残渣をテトラヒドロフランに溶解させ、過剰量の9.8Mメチルアミン メタノール溶液を室温にて加え、5時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣にジクロロメタンを加え、さらにジエチルエーテルと酢酸エチルを加えた後、生成物を濾取、洗浄し、標記化合物(3.08g、82%)を得た。濾液を減圧濃縮し、ジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜1:9)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(273mg、7.3%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.25 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.48 (9H, s), 1.50-1.70 (2H, m),1.78-1.87 (2H, m), 2.64-2.87 (3H, m), 3.07 (3H, d, J=4.8 Hz), 4.11 (2H, q,J=7.0 Hz), 4.16-4.33 (2H, m), 5.45-5.52 (1H, m), 6.55 (1H, d, J=3.6 Hz), 6.60 (1H,dd, J=5.9, 2.3 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.28-7.33 (3H, m), 7.79-7.83 (2H, m),7.92 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.00 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.51 (1H, brs).
[実施例16]6−エトキシ−5−((2−(4−(1−エチルピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
実施例15に記載の6−エトキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(2.2g、4.28mmol)とテトラヒドロフラン(33mL)の混合物に、室温でトリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(1.36g、6.43mmol)を添加後、市販のアセトアルデヒド(283mg、6.43mmol)のテトラヒドロフラン溶液(11mL)を加え、室温にて1.5時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し得られた残渣と、同様の出発物質である6−エトキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(200mg、0.389mmol)から同様の方法で得られた残渣を合わせた。合わせた残渣に酢酸エチルを加え、生成物を濾取し標記化合物(2.20g、87%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.15 (3H, t, J=7.2 Hz), 1.25 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.82-1.92(4H, m), 2.01-2.13 (2H, m), 2.43-2.62 (3H, m), 3.04 (3H, d, J=4.6 Hz), 3.08-3.17(2H, m), 4.10 (2H, q, J=6.8 Hz), 5.55-5.62 (1H, m), 6.53 (1H, d, J=3.7 Hz),6.60 (1H, dd, J=5.7, 2.2 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.30-7.35 (3H, m), 7.79 (2H,d, J=8.2 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.00 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.7 Hz), 8.53(1H, brs).
実施例15に記載の6−エトキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(2.2g、4.28mmol)とテトラヒドロフラン(33mL)の混合物に、室温でトリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(1.36g、6.43mmol)を添加後、市販のアセトアルデヒド(283mg、6.43mmol)のテトラヒドロフラン溶液(11mL)を加え、室温にて1.5時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し得られた残渣と、同様の出発物質である6−エトキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(200mg、0.389mmol)から同様の方法で得られた残渣を合わせた。合わせた残渣に酢酸エチルを加え、生成物を濾取し標記化合物(2.20g、87%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.15 (3H, t, J=7.2 Hz), 1.25 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.82-1.92(4H, m), 2.01-2.13 (2H, m), 2.43-2.62 (3H, m), 3.04 (3H, d, J=4.6 Hz), 3.08-3.17(2H, m), 4.10 (2H, q, J=6.8 Hz), 5.55-5.62 (1H, m), 6.53 (1H, d, J=3.7 Hz),6.60 (1H, dd, J=5.7, 2.2 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.30-7.35 (3H, m), 7.79 (2H,d, J=8.2 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.00 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.7 Hz), 8.53(1H, brs).
[実施例17]6−イソプロポキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド
ベンゾトリアゾール(88.7mg、0.745mmol)をジクロロメタン(4.0mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて塩化チオニル(52μL、0.707mmol)を加え5分間攪拌した。反応混合物に製造例1−12に記載の4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(180mg、0.589mmol)を室温にて加え、55分間攪拌した。反応混合物を無水硫酸ナトリウムを敷き詰めたグラスフィルターで濾過し、ジクロロメタンで洗浄し、濾液を製造例17−7に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−イソプロポキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(77mg、0.226mmol)、トリエチルアミン(0.314mL、2.26mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(2.76mg、0.023mmol)のテトラヒドロフラン(2.0mL)、ジクロロメタン(5.0mL)、N,N−ジメチルホルムアミド(0.2mL)混合物に0℃にて加えた。室温で140分間攪拌後、反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し濾過した。濾液を減圧濃縮し、残渣をテトラヒドロフランに溶解させ、過剰量のメチルアミン テトラヒドロフラン溶液を室温にて加え、30分間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜1:3〜0:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物(111mg)を得た。
粗生成物(111mg)をジクロロメタン(1.8mL)に溶解させ、0℃でトリフルオロ酢酸(0.65mL)を加えた。室温にて90分間攪拌後減圧濃縮し、残渣をジクロロメタン−トリエチルアミンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜17:3〜4:1)で精製し、標記化合物(85.4mg、92%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.22 (6H, d, J=6.0 Hz), 1.55-1.71 (2H, m), 1.79-1.88 (2H, m),2.62-2.80 (3H, m), 3.05 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.15-3.25(2H, m), 4.52-4.64 (1H, m),5.49-5.57 (1H, m), 6.54 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.58 (1H, dd, J=5.7, 2.4 Hz), 7.24 (1H,d, J=3.8 Hz), 7.29-7.35 (3H, m), 7.80 (2H, d, J=8.2 Hz), 7.93 (1H, d, J=2.4Hz), 8.01 (1H, s), 8.08 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.51 (1H, brs).
ベンゾトリアゾール(88.7mg、0.745mmol)をジクロロメタン(4.0mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて塩化チオニル(52μL、0.707mmol)を加え5分間攪拌した。反応混合物に製造例1−12に記載の4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(180mg、0.589mmol)を室温にて加え、55分間攪拌した。反応混合物を無水硫酸ナトリウムを敷き詰めたグラスフィルターで濾過し、ジクロロメタンで洗浄し、濾液を製造例17−7に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−イソプロポキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(77mg、0.226mmol)、トリエチルアミン(0.314mL、2.26mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(2.76mg、0.023mmol)のテトラヒドロフラン(2.0mL)、ジクロロメタン(5.0mL)、N,N−ジメチルホルムアミド(0.2mL)混合物に0℃にて加えた。室温で140分間攪拌後、反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し濾過した。濾液を減圧濃縮し、残渣をテトラヒドロフランに溶解させ、過剰量のメチルアミン テトラヒドロフラン溶液を室温にて加え、30分間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜1:3〜0:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物(111mg)を得た。
粗生成物(111mg)をジクロロメタン(1.8mL)に溶解させ、0℃でトリフルオロ酢酸(0.65mL)を加えた。室温にて90分間攪拌後減圧濃縮し、残渣をジクロロメタン−トリエチルアミンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜17:3〜4:1)で精製し、標記化合物(85.4mg、92%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.22 (6H, d, J=6.0 Hz), 1.55-1.71 (2H, m), 1.79-1.88 (2H, m),2.62-2.80 (3H, m), 3.05 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.15-3.25(2H, m), 4.52-4.64 (1H, m),5.49-5.57 (1H, m), 6.54 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.58 (1H, dd, J=5.7, 2.4 Hz), 7.24 (1H,d, J=3.8 Hz), 7.29-7.35 (3H, m), 7.80 (2H, d, J=8.2 Hz), 7.93 (1H, d, J=2.4Hz), 8.01 (1H, s), 8.08 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.51 (1H, brs).
出発物質の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−イソプロポキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドは以下の方法で合成した。
[製造例17−1]3−ヒドロキシ−4−イソプロポキシベンズアルデヒド
市販の3,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド(5g、36.2mmol)と炭酸カリウム(5.15g、37.3mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(20mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温で2−ブロモプロパン(3.5mL、37.3mmol)を加え、40℃で2.5時間加熱攪拌した。反応混合物を0℃に冷却後、2M塩酸、酢酸エチル、水を加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を水と飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過した。溶媒を留去し、残渣にジクロロメタンを加えた後、析出物を濾別し、濾液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=19:1〜13:7)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(1.84g、28%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.42 (6H, d, J=5.9 Hz), 4.73 (1H, spt, J=6.1 Hz), 5.78 (1H, s),6.95 (1H, d, J=8.1 Hz), 7.41 (1H, dd, J=8.2, 2.0 Hz), 7.44 (1H, d, J=1.8 Hz),9.83 (1H, s).
市販の3,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド(5g、36.2mmol)と炭酸カリウム(5.15g、37.3mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(20mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温で2−ブロモプロパン(3.5mL、37.3mmol)を加え、40℃で2.5時間加熱攪拌した。反応混合物を0℃に冷却後、2M塩酸、酢酸エチル、水を加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を水と飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過した。溶媒を留去し、残渣にジクロロメタンを加えた後、析出物を濾別し、濾液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=19:1〜13:7)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(1.84g、28%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.42 (6H, d, J=5.9 Hz), 4.73 (1H, spt, J=6.1 Hz), 5.78 (1H, s),6.95 (1H, d, J=8.1 Hz), 7.41 (1H, dd, J=8.2, 2.0 Hz), 7.44 (1H, d, J=1.8 Hz),9.83 (1H, s).
[製造例17−2]3−(ベンジルオキシ)−4−イソプロポキシベンズアルデヒド
製造例17−1に記載の3−ヒドロキシ−4−イソプロポキシベンズアルデヒド(1.84g、10.2mmol)のエタノール(20mL)懸濁液に、窒素雰囲気下、室温で炭酸カリウム(1.83g、13.2mmol)、塩化ベンジル(1.55mL、13.5mmol)を加え、90℃にて2時間加熱攪拌した。0℃に冷却後、2M塩酸、酢酸エチル、水を加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=19:1〜3:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、標記化合物(2.59g、94%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.42 (6H, d, J=6.0 Hz), 4.69 (1H, spt, J=6.1 Hz), 5.18 (2H,s), 7.00 (1H, d, J=8.1 Hz), 7.29-7.41 (3H, m), 7.43-7.48 (4H, m), 9.81 (1H, s).
製造例17−1に記載の3−ヒドロキシ−4−イソプロポキシベンズアルデヒド(1.84g、10.2mmol)のエタノール(20mL)懸濁液に、窒素雰囲気下、室温で炭酸カリウム(1.83g、13.2mmol)、塩化ベンジル(1.55mL、13.5mmol)を加え、90℃にて2時間加熱攪拌した。0℃に冷却後、2M塩酸、酢酸エチル、水を加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=19:1〜3:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、標記化合物(2.59g、94%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.42 (6H, d, J=6.0 Hz), 4.69 (1H, spt, J=6.1 Hz), 5.18 (2H,s), 7.00 (1H, d, J=8.1 Hz), 7.29-7.41 (3H, m), 7.43-7.48 (4H, m), 9.81 (1H, s).
[製造例17−3](E)−2−(ベンジルオキシ)−1−イソプロポキシ−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン
製造例17−2に記載の3−(ベンジルオキシ)−4−イソプロポキシベンズアルデヒド(2.59g、9.59mmol)を酢酸(7.5mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温で酢酸アンモニウム(887mg、11.5mmol)、ニトロメタン(1.25mL、23.1mmol)を加え、130℃にて2時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、析出物を濾取、エタノールにて洗浄し、標記化合物(2.20g、73%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.41 (6H, d, J=6.2 Hz), 4.55-4.71 (1H, m), 5.15 (2H, s), 6.94(1H, d, J=8.4 Hz), 7.05 (1H, d, J=1.8 Hz), 7.15 (1H, dd, J=8.4, 1.8 Hz), 7.29-7.48(6H, m), 7.90 (1H, d, J=13.5 Hz).
製造例17−2に記載の3−(ベンジルオキシ)−4−イソプロポキシベンズアルデヒド(2.59g、9.59mmol)を酢酸(7.5mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温で酢酸アンモニウム(887mg、11.5mmol)、ニトロメタン(1.25mL、23.1mmol)を加え、130℃にて2時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、析出物を濾取、エタノールにて洗浄し、標記化合物(2.20g、73%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.41 (6H, d, J=6.2 Hz), 4.55-4.71 (1H, m), 5.15 (2H, s), 6.94(1H, d, J=8.4 Hz), 7.05 (1H, d, J=1.8 Hz), 7.15 (1H, dd, J=8.4, 1.8 Hz), 7.29-7.48(6H, m), 7.90 (1H, d, J=13.5 Hz).
[製造例17−4]6−イソプロポキシ−1H−インドール−5−オール
製造例17−3に記載の(E)−2−(ベンジルオキシ)−1−イソプロポキシ−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン(2.20g、7.02mmol)、酢酸(20mL)の混合物に、室温にて発煙硝酸(1.5mL、33.3mmol)をゆっくり加え、7.5時間攪拌した。反応混合物を氷にあけ、沈殿物を濾取後、酢酸とエタノールの混合液で洗浄し、粗生成物(2.28g)を得た。
粗生成物(2.28g)をメタノール(60mL)に懸濁させた後、10%パラジウム−炭素(50%含水品)(677mg)を加えて水素雰囲気下で14.5時間攪拌した。触媒をセライトを用いて濾過し、メタノールで洗浄した。濾液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜3:2)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、標記化合物(475mg、35%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.40 (6H, d, J=6.2 Hz), 4.57 (1H, spt, J=6.1 Hz), 5.55 (1H, s),6.38-6.44 (1H, m), 6.90 (1H, s), 7.08 (1H, t, J=2.7 Hz), 7.13 (1H, s), 7.90 (1H,brs).
製造例17−3に記載の(E)−2−(ベンジルオキシ)−1−イソプロポキシ−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン(2.20g、7.02mmol)、酢酸(20mL)の混合物に、室温にて発煙硝酸(1.5mL、33.3mmol)をゆっくり加え、7.5時間攪拌した。反応混合物を氷にあけ、沈殿物を濾取後、酢酸とエタノールの混合液で洗浄し、粗生成物(2.28g)を得た。
粗生成物(2.28g)をメタノール(60mL)に懸濁させた後、10%パラジウム−炭素(50%含水品)(677mg)を加えて水素雰囲気下で14.5時間攪拌した。触媒をセライトを用いて濾過し、メタノールで洗浄した。濾液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜3:2)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、標記化合物(475mg、35%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.40 (6H, d, J=6.2 Hz), 4.57 (1H, spt, J=6.1 Hz), 5.55 (1H, s),6.38-6.44 (1H, m), 6.90 (1H, s), 7.08 (1H, t, J=2.7 Hz), 7.13 (1H, s), 7.90 (1H,brs).
[製造例17−5]N−(4−((6−イソプロポキシ−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)アセトアミド
窒素雰囲気下、製造例17−4に記載の6−イソプロポキシ−1H−インドール−5−オール(165mg、0.863mmol)、製造例1−5に記載のN−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミド(442mg、2.59mmol)をジメチルスルホキシド(2.0mL)に溶解させ、室温にてカリウム tert−ブトキシド(194mg、1.73mmol)を加えて160℃にて3時間加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、水と酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を水と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、濾液を減圧濃縮した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:2〜1:3)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(116mg、41%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.21 (6H, d, J=6.2 Hz), 2.14 (3H, s), 4.34-4.48 (1H, m),6.45-6.53 (2H, m), 7.03 (1H, s), 7.16 (1H, t, J=2.7 Hz), 7.35 (1H, s), 7.77 (1H,brs), 7.85-8.05 (2H, m), 8.10 (1H, brs).
窒素雰囲気下、製造例17−4に記載の6−イソプロポキシ−1H−インドール−5−オール(165mg、0.863mmol)、製造例1−5に記載のN−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミド(442mg、2.59mmol)をジメチルスルホキシド(2.0mL)に溶解させ、室温にてカリウム tert−ブトキシド(194mg、1.73mmol)を加えて160℃にて3時間加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、水と酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を水と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、濾液を減圧濃縮した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:2〜1:3)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(116mg、41%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.21 (6H, d, J=6.2 Hz), 2.14 (3H, s), 4.34-4.48 (1H, m),6.45-6.53 (2H, m), 7.03 (1H, s), 7.16 (1H, t, J=2.7 Hz), 7.35 (1H, s), 7.77 (1H,brs), 7.85-8.05 (2H, m), 8.10 (1H, brs).
[製造例17−6]4−((6−イソプロポキシ−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン
製造例17−5に記載のN−(4−((6−イソプロポキシ−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)アセトアミド(116mg、0.357mmol)をメタノール(2.5mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて28%ナトリウムメトキシド(0.728mL)を加えて70℃にて3時間加熱攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、水と酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、減圧濃縮した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:7〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜9:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(66.3mg、66%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.22 (6H, d, J=5.9 Hz), 4.28 (2H, brs), 4.36-4.47 (1H, m),5.89 (1H, d, J=2.2 Hz), 6.29 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 6.46-6.51 (1H, m), 7.04 (1H,s), 7.18 (1H, t, J=2.9 Hz), 7.34 (1H, s), 7.88 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.12 (1H, brs).
製造例17−5に記載のN−(4−((6−イソプロポキシ−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)アセトアミド(116mg、0.357mmol)をメタノール(2.5mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて28%ナトリウムメトキシド(0.728mL)を加えて70℃にて3時間加熱攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、水と酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、減圧濃縮した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:7〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜9:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(66.3mg、66%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.22 (6H, d, J=5.9 Hz), 4.28 (2H, brs), 4.36-4.47 (1H, m),5.89 (1H, d, J=2.2 Hz), 6.29 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 6.46-6.51 (1H, m), 7.04 (1H,s), 7.18 (1H, t, J=2.9 Hz), 7.34 (1H, s), 7.88 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.12 (1H, brs).
[製造例17−7]5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−イソプロポキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例17−6に記載の4−((6−イソプロポキシ−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン(65.6mg、0.232mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(1.5mL)に溶解し、窒素雰囲気下、0℃にて50−72%水素化ナトリウム 油状(16.7mg)を加えて室温で50分間攪拌した。再度0℃に冷却し製造例1−7に記載のフェニル メチルカーバメート(69.2mg、0.458mmol)を加え室温で3時間攪拌した。反応混合物に、飽和塩化アンモニウム水溶液、水、酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を水と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、濾液を減圧濃縮した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:7〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜19:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(77.0mg、98%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.24 (6H, d, J=6.0 Hz), 3.06 (3H, d, J=4.8 Hz), 4.32 (2H,brs), 4.56 (1H, spt, J=6.1 Hz), 5.50-5.61 (1H, m), 5.89 (1H, d, J=2.2 Hz), 6.27(1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 6.55 (1H, dd, J=3.6, 0.6 Hz), 7.24-7.28 (2H, m), 7.88 (1H,d, J=5.9 Hz), 8.00 (1H, s).
製造例17−6に記載の4−((6−イソプロポキシ−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン(65.6mg、0.232mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(1.5mL)に溶解し、窒素雰囲気下、0℃にて50−72%水素化ナトリウム 油状(16.7mg)を加えて室温で50分間攪拌した。再度0℃に冷却し製造例1−7に記載のフェニル メチルカーバメート(69.2mg、0.458mmol)を加え室温で3時間攪拌した。反応混合物に、飽和塩化アンモニウム水溶液、水、酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を水と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、濾液を減圧濃縮した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:7〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜19:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(77.0mg、98%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.24 (6H, d, J=6.0 Hz), 3.06 (3H, d, J=4.8 Hz), 4.32 (2H,brs), 4.56 (1H, spt, J=6.1 Hz), 5.50-5.61 (1H, m), 5.89 (1H, d, J=2.2 Hz), 6.27(1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 6.55 (1H, dd, J=3.6, 0.6 Hz), 7.24-7.28 (2H, m), 7.88 (1H,d, J=5.9 Hz), 8.00 (1H, s).
[実施例18](R)−5−((2−(4−(1−(2−ヒドロキシプロピル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−イソプロポキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
実施例17に記載の6−イソプロポキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(12.7mg、0.024mmol)とエタノール(0.5mL)の混合物に、市販の(R)−(+)−プロピレンオキシド(20.5mg、0.353mmol)を加え、シールドチューブを用いて80℃で3時間40分加熱攪拌した。室温まで冷却後、反応混合物を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:4〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜19:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、析出物をジエチルエーテルを用いて濾取洗浄し、標記化合物(8.28mg、59%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.15 (3H, d, J=6.2 Hz), 1.22 (6H, d, J=6.2 Hz), 1.70-1.90(3H, m), 2.00-2.09 (1H, m), 2.21-2.46 (3H, m), 2.53-2.64 (1H, m), 2.92 (1H, d, J=11.0Hz), 3.07 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.14 (1H, d, J=11.3 Hz), 3.80-3.91 (1H, m), 4.53-4.64(1H, m), 5.44-5.52 (1H, m), 6.55 (1H, d, J=3.3 Hz), 6.58 (1H, dd, J=5.7, 2.4Hz), 7.25 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.30-7.36 (3H, m), 7.81 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.93 (1H,d, J=2.2 Hz), 8.01 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.49 (1H, s).
実施例17に記載の6−イソプロポキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(12.7mg、0.024mmol)とエタノール(0.5mL)の混合物に、市販の(R)−(+)−プロピレンオキシド(20.5mg、0.353mmol)を加え、シールドチューブを用いて80℃で3時間40分加熱攪拌した。室温まで冷却後、反応混合物を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:4〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜19:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、析出物をジエチルエーテルを用いて濾取洗浄し、標記化合物(8.28mg、59%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.15 (3H, d, J=6.2 Hz), 1.22 (6H, d, J=6.2 Hz), 1.70-1.90(3H, m), 2.00-2.09 (1H, m), 2.21-2.46 (3H, m), 2.53-2.64 (1H, m), 2.92 (1H, d, J=11.0Hz), 3.07 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.14 (1H, d, J=11.3 Hz), 3.80-3.91 (1H, m), 4.53-4.64(1H, m), 5.44-5.52 (1H, m), 6.55 (1H, d, J=3.3 Hz), 6.58 (1H, dd, J=5.7, 2.4Hz), 7.25 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.30-7.36 (3H, m), 7.81 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.93 (1H,d, J=2.2 Hz), 8.01 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.49 (1H, s).
[実施例19]6−(ジフルオロメトキシ)−5−((2−(4−((4−ヒドロキシピペリジン−1−イル)メチル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例19−7に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(ジフルオロメトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(4.3mg、0.012mmol)とテトラヒドロフラン(0.5mL)の混合物に、窒素雰囲気下、室温でトリエチルアミン(17μL、0.123mmol)と市販の4−(クロロメチル)ベンゾイル クロリド(11.5mg、0.061mmol)を加えた。室温で2.5時間攪拌後、反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、NHシリカゲル(酢酸エチル)を用いて濾過し、減圧濃縮して粗生成物(6.18mg)を得た。
粗生成物(6.18mg)をN,N−ジメチルホルムアミド(0.5mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温で市販の4−ヒドロキシピペリジン(17.7mg、0.175mmol)を加え、14時間攪拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製し、標記化合物(6.0mg、86%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.50-1.66 (2H, m), 1.83-1.94 (2H, m), 2.16 (2H, t, J=9.7 Hz),2.67-2.78 (2H, m), 3.08 (3H, d, J=4.4 Hz), 3.54 (2H, s), 3.62-3.77 (2H, m),5.46-5.57 (1H, m), 6.53 (1H, t, J=73.9 Hz), 6.61 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.64 (1H, dd,J=5.7, 2.4 Hz), 7.38-7.46 (4H, m), 7.80 (2H, d, J=8.1 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.2Hz), 8.15 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.24 (1H, s), 8.53 (1H, brs).
製造例19−7に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(ジフルオロメトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(4.3mg、0.012mmol)とテトラヒドロフラン(0.5mL)の混合物に、窒素雰囲気下、室温でトリエチルアミン(17μL、0.123mmol)と市販の4−(クロロメチル)ベンゾイル クロリド(11.5mg、0.061mmol)を加えた。室温で2.5時間攪拌後、反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、NHシリカゲル(酢酸エチル)を用いて濾過し、減圧濃縮して粗生成物(6.18mg)を得た。
粗生成物(6.18mg)をN,N−ジメチルホルムアミド(0.5mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温で市販の4−ヒドロキシピペリジン(17.7mg、0.175mmol)を加え、14時間攪拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製し、標記化合物(6.0mg、86%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.50-1.66 (2H, m), 1.83-1.94 (2H, m), 2.16 (2H, t, J=9.7 Hz),2.67-2.78 (2H, m), 3.08 (3H, d, J=4.4 Hz), 3.54 (2H, s), 3.62-3.77 (2H, m),5.46-5.57 (1H, m), 6.53 (1H, t, J=73.9 Hz), 6.61 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.64 (1H, dd,J=5.7, 2.4 Hz), 7.38-7.46 (4H, m), 7.80 (2H, d, J=8.1 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.2Hz), 8.15 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.24 (1H, s), 8.53 (1H, brs).
出発物質の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(ジフルオロメトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドは以下の方法で合成した。
[製造例19−1]4−(ジフルオロメトキシ)−3−ヒドロキシベンズアルデヒド
市販の3,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド(5g、36.2mmol)と市販のクロロジフルオロ酢酸ナトリウム(5.57g、36.5mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(45mL)と水(905μL)に溶解させた後、室温で水酸化ナトリウム(1.48g、37.0mmol)を加え、120℃で2時間加熱攪拌した。溶媒を減圧留去し、残渣を0℃に冷却後、5M塩酸、ジエチルエーテルを加え分配した。有機層を水と飽和食塩水で洗浄した後に、溶媒を留去した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜7:3)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(2.66g、39%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 5.69-5.74 (1H, m), 6.65 (1H, t, J=72.5 Hz), 7.23-7.31 (1H,m), 7.46 (1H, dd, J=8.4, 1.8 Hz), 7.54 (1H, d, J=1.8 Hz), 9.92 (1H, s).
市販の3,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド(5g、36.2mmol)と市販のクロロジフルオロ酢酸ナトリウム(5.57g、36.5mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(45mL)と水(905μL)に溶解させた後、室温で水酸化ナトリウム(1.48g、37.0mmol)を加え、120℃で2時間加熱攪拌した。溶媒を減圧留去し、残渣を0℃に冷却後、5M塩酸、ジエチルエーテルを加え分配した。有機層を水と飽和食塩水で洗浄した後に、溶媒を留去した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜7:3)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(2.66g、39%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 5.69-5.74 (1H, m), 6.65 (1H, t, J=72.5 Hz), 7.23-7.31 (1H,m), 7.46 (1H, dd, J=8.4, 1.8 Hz), 7.54 (1H, d, J=1.8 Hz), 9.92 (1H, s).
[製造例19−2]3−(ベンジルオキシ)−4−(ジフルオロメトキシ)ベンズアルデヒド
製造例19−1に記載の4−(ジフルオロメトキシ)−3−ヒドロキシベンズアルデヒド(2.66g、14.2mmol)のアセトニトリル(50mL)溶液に、室温で炭酸カリウム(3.91g、28.3mmol)、臭化ベンジル(2.5mL、21.1mmol)を加え、室温にて3時間攪拌した。反応混合物を濾過後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜3:2)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 5.21 (2H, s), 6.68 (1H, t, J=74.3 Hz), 7.31-7.51 (7H, m), 7.57(1H, d, J=1.8 Hz), 9.92 (1H, s).
製造例19−1に記載の4−(ジフルオロメトキシ)−3−ヒドロキシベンズアルデヒド(2.66g、14.2mmol)のアセトニトリル(50mL)溶液に、室温で炭酸カリウム(3.91g、28.3mmol)、臭化ベンジル(2.5mL、21.1mmol)を加え、室温にて3時間攪拌した。反応混合物を濾過後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜3:2)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 5.21 (2H, s), 6.68 (1H, t, J=74.3 Hz), 7.31-7.51 (7H, m), 7.57(1H, d, J=1.8 Hz), 9.92 (1H, s).
[製造例19−3](E)−2−(ベンジルオキシ)−1−(ジフルオロメトキシ)−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン
製造例19−2に記載の3−(ベンジルオキシ)−4−(ジフルオロメトキシ)ベンズアルデヒド(3.94g、14.2mmol)を酢酸(11mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温で酢酸アンモニウム(1.27g、16.4mmol)、ニトロメタン(1.9mL、35.1mmol)を加え、130℃にて2時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、再度130℃にて1時間加熱攪拌した。析出物を濾取、酢酸とエタノールの混合液にて洗浄し、標記化合物(2.36g、52%)を得た。濾液をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=19:1〜4:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮した。析出物をエタノールで洗浄し、標記化合物(406mg、8.9%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 5.18 (2H, s), 6.65 (1H, t, J=74.3 Hz), 7.12-7.19 (2H, m), 7.21-7.29(1H, m), 7.32-7.45 (5H, m), 7.48 (1H, d, J=13.9 Hz), 7.92 (1H, d, J=13.9 Hz).
製造例19−2に記載の3−(ベンジルオキシ)−4−(ジフルオロメトキシ)ベンズアルデヒド(3.94g、14.2mmol)を酢酸(11mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温で酢酸アンモニウム(1.27g、16.4mmol)、ニトロメタン(1.9mL、35.1mmol)を加え、130℃にて2時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、再度130℃にて1時間加熱攪拌した。析出物を濾取、酢酸とエタノールの混合液にて洗浄し、標記化合物(2.36g、52%)を得た。濾液をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=19:1〜4:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮した。析出物をエタノールで洗浄し、標記化合物(406mg、8.9%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 5.18 (2H, s), 6.65 (1H, t, J=74.3 Hz), 7.12-7.19 (2H, m), 7.21-7.29(1H, m), 7.32-7.45 (5H, m), 7.48 (1H, d, J=13.9 Hz), 7.92 (1H, d, J=13.9 Hz).
[製造例19−4]5−(ベンジルオキシ)−6−(ジフルオロメトキシ)−1H−インドール
製造例19−3に記載の(E)−2−(ベンジルオキシ)−1−(ジフルオロメトキシ)−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン(2.77g、8.61mmol)、酢酸(36mL)の混合物に、氷浴下で発煙硝酸(6.0mL、133mmol)をゆっくり加え、7.5時間攪拌した。反応混合物の一部を50℃にて30分間、70℃にて40分間、75℃にて165分間加熱攪拌した。反応混合物の一部を氷にあけ、酢酸エチルで希釈し分配した。有機層を水と飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=17:3〜3:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、残渣をジエチルエーテルで濾取洗浄し、粗生成物A(23.6mg)を得た。残った反応混合物を65℃にて3時間加熱攪拌後に氷にあけ、沈殿物を濾取し、酢酸とエタノールの混合液にて洗浄することにより、粗生成物B(603mg)を得た。濾液に酢酸エチルを加え分配した。有機層を水と飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過した後に、溶媒を留去した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜3:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、残渣にジエチルエーテルを加え、沈殿物を濾取し、粗生成物C(73.3mg)を得た。
粗生成物A、B、C(550mg)をエタノール(5.5mL)、酢酸(5.5mL)、水(676μL)に懸濁させた後、窒素雰囲気下、鉄粉(419mg、7.51mmol)を加えて、70℃にて1時間加熱攪拌した。反応混合物を室温まで冷却後、酢酸エチルと二亜硫酸ナトリウム水溶液を加え分配した。有機層を水と飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過後、溶媒を留去した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜3:2)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(245mg、13%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 5.15 (2H, s), 6.45-6.49 (1H, m), 6.58 (1H, t, J=76.0 Hz),7.19-7.22 (1H, m), 7.23 (1H, s), 7.24-7.27(1H, m), 7.29-7.43 (3H, m), 7.44-7.50(2H, m), 8.12 (1H, brs).
製造例19−3に記載の(E)−2−(ベンジルオキシ)−1−(ジフルオロメトキシ)−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン(2.77g、8.61mmol)、酢酸(36mL)の混合物に、氷浴下で発煙硝酸(6.0mL、133mmol)をゆっくり加え、7.5時間攪拌した。反応混合物の一部を50℃にて30分間、70℃にて40分間、75℃にて165分間加熱攪拌した。反応混合物の一部を氷にあけ、酢酸エチルで希釈し分配した。有機層を水と飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=17:3〜3:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、残渣をジエチルエーテルで濾取洗浄し、粗生成物A(23.6mg)を得た。残った反応混合物を65℃にて3時間加熱攪拌後に氷にあけ、沈殿物を濾取し、酢酸とエタノールの混合液にて洗浄することにより、粗生成物B(603mg)を得た。濾液に酢酸エチルを加え分配した。有機層を水と飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過した後に、溶媒を留去した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜3:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、残渣にジエチルエーテルを加え、沈殿物を濾取し、粗生成物C(73.3mg)を得た。
粗生成物A、B、C(550mg)をエタノール(5.5mL)、酢酸(5.5mL)、水(676μL)に懸濁させた後、窒素雰囲気下、鉄粉(419mg、7.51mmol)を加えて、70℃にて1時間加熱攪拌した。反応混合物を室温まで冷却後、酢酸エチルと二亜硫酸ナトリウム水溶液を加え分配した。有機層を水と飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過後、溶媒を留去した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜3:2)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(245mg、13%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 5.15 (2H, s), 6.45-6.49 (1H, m), 6.58 (1H, t, J=76.0 Hz),7.19-7.22 (1H, m), 7.23 (1H, s), 7.24-7.27(1H, m), 7.29-7.43 (3H, m), 7.44-7.50(2H, m), 8.12 (1H, brs).
[製造例19−5]6−(ジフルオロメトキシ)−1H−インドール−5−オール
製造例19−4に記載の5−(ベンジルオキシ)−6−(ジフルオロメトキシ)−1H−インドール(245mg、0.847mmol)をエタノール(8.0mL)に溶解させた後、室温にて10%パラジウム−炭素(50%含水品)(90mg)を加え、水素雰囲気下で75分間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、触媒をセライトを用いて濾過した。濾液を減圧濃縮し、シリカゲル(酢酸エチル)を用いて濾過した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 5.15 (1H, s), 6.41-6.49 (1H, m), 6.53 (1H, t, J=74.1 Hz),7.15-7.24 (3H, m), 8.06 (1H, brs).
製造例19−4に記載の5−(ベンジルオキシ)−6−(ジフルオロメトキシ)−1H−インドール(245mg、0.847mmol)をエタノール(8.0mL)に溶解させた後、室温にて10%パラジウム−炭素(50%含水品)(90mg)を加え、水素雰囲気下で75分間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、触媒をセライトを用いて濾過した。濾液を減圧濃縮し、シリカゲル(酢酸エチル)を用いて濾過した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 5.15 (1H, s), 6.41-6.49 (1H, m), 6.53 (1H, t, J=74.1 Hz),7.15-7.24 (3H, m), 8.06 (1H, brs).
[製造例19−6]4−((6−(ジフルオロメトキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン
窒素雰囲気下、製造例19−5に記載の6−(ジフルオロメトキシ)−1H−インドール−5−オール(35.1mg、0.176mmol)、製造例1−5に記載のN−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミド(89.0mg、0.522mmol)、カリウム tert−ブトキシド(44.0mg、0.392mmol)をジメチルスルホキシド(500μL)に溶解させ、160℃にて80分間加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、水と酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後濾過し、濾液を減圧濃縮した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜9:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物(12.5mg)を得た。
粗生成物(12.5mg)をメタノール(500μL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて28%ナトリウムメトキシド(39μL、0.382mmol)を加えて65℃にて1時間加熱攪拌した。室温まで冷却し、28%ナトリウムメトキシド(39μL、0.382mmol)を加えて65℃にて2.5時間加熱攪拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、減圧濃縮した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=97:3〜9:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(4.4mg、8.6%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 4.48 (2H, brs), 5.91 (1H, d, J=1.8 Hz), 6.28 (1H, dd, J=5.9,1.8 Hz), 6.45 (1H, t, J=74.5 Hz), 6.52-6.58 (1H, m), 7.30 (1H, t, J=2.9 Hz), 7.36(1H, s), 7.41 (1H, s), 7.90 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.35 (1H, brs).
窒素雰囲気下、製造例19−5に記載の6−(ジフルオロメトキシ)−1H−インドール−5−オール(35.1mg、0.176mmol)、製造例1−5に記載のN−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミド(89.0mg、0.522mmol)、カリウム tert−ブトキシド(44.0mg、0.392mmol)をジメチルスルホキシド(500μL)に溶解させ、160℃にて80分間加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、水と酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後濾過し、濾液を減圧濃縮した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜9:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物(12.5mg)を得た。
粗生成物(12.5mg)をメタノール(500μL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて28%ナトリウムメトキシド(39μL、0.382mmol)を加えて65℃にて1時間加熱攪拌した。室温まで冷却し、28%ナトリウムメトキシド(39μL、0.382mmol)を加えて65℃にて2.5時間加熱攪拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、減圧濃縮した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=97:3〜9:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(4.4mg、8.6%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 4.48 (2H, brs), 5.91 (1H, d, J=1.8 Hz), 6.28 (1H, dd, J=5.9,1.8 Hz), 6.45 (1H, t, J=74.5 Hz), 6.52-6.58 (1H, m), 7.30 (1H, t, J=2.9 Hz), 7.36(1H, s), 7.41 (1H, s), 7.90 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.35 (1H, brs).
[製造例19−7]5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(ジフルオロメトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例19−6に記載の4−((6−(ジフルオロメトキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン(4.4mg、0.015mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(500μL)に溶解し、窒素雰囲気下、0℃にて50−72%水素化ナトリウム 油状(4.1mg)を加えて室温で30分間攪拌した。再度0℃に冷却し製造例1−7に記載のフェニル メチルカーバメート(16.4mg、0.108mmol)を加え室温で50分間攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濾過し、濾液を減圧濃縮した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜9:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(4.3mg、82%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.08 (3H, d, J=4.8 Hz), 4.44 (2H, brs), 5.49 (1H, brs), 5.91(1H, d, J=1.8 Hz), 6.26 (1H, dd, J=6.2, 2.2 Hz), 6.50 (1H, t, J=74.0 Hz), 6.61(1H, d, J=3.7 Hz), 7.35 (1H, s), 7.41 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.92 (1H, d, J=5.9Hz), 8.23 (1H, s).
製造例19−6に記載の4−((6−(ジフルオロメトキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン(4.4mg、0.015mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(500μL)に溶解し、窒素雰囲気下、0℃にて50−72%水素化ナトリウム 油状(4.1mg)を加えて室温で30分間攪拌した。再度0℃に冷却し製造例1−7に記載のフェニル メチルカーバメート(16.4mg、0.108mmol)を加え室温で50分間攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濾過し、濾液を減圧濃縮した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜9:1)で精製後、目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(4.3mg、82%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.08 (3H, d, J=4.8 Hz), 4.44 (2H, brs), 5.49 (1H, brs), 5.91(1H, d, J=1.8 Hz), 6.26 (1H, dd, J=6.2, 2.2 Hz), 6.50 (1H, t, J=74.0 Hz), 6.61(1H, d, J=3.7 Hz), 7.35 (1H, s), 7.41 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.92 (1H, d, J=5.9Hz), 8.23 (1H, s).
[実施例20]6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド
ベンゾトリアゾール(609mg、5.11mmol)をジクロロメタン(25mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて塩化チオニル(373μL、5.11mmol)を加え5分間攪拌した。反応混合物に製造例1−12に記載の4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(1.3g、4.26mmol)を室温にて加え、30分間攪拌した。反応混合物を無水硫酸ナトリウムを敷き詰めたグラスフィルターで濾過し、ジクロロメタンで洗浄し、濾液を製造例20−7に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(0.95g、2.67mmol)、トリエチルアミン(1.86mL、13.3mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(16mg、0.133mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(3mL)とジクロロメタン(20mL)の混合物に0℃にて5分かけて加え、ジクロロメタン(10mL)で洗い込み同温で5分間攪拌した。室温で2時間攪拌後、40%メチルアミン水溶液(2.3mL、26.7mmol)を加え室温で1.5時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え分配し、水層を酢酸エチルで3回抽出した。合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=49:1〜23:2)で精製し、粗生成物(1.11g)を得た。
粗生成物(1.11g)をジクロロメタン(50mL)に溶解させ、室温でトリフルオロ酢酸(5.0mL)を加えた。室温にて30分間攪拌後、減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンとトリエチルアミンに溶解させ、減圧濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜22:3)で精製し、標記化合物(829mg、57%)を得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 1.59-1.69 (2H, m), 1.83 (2H, d, J=14.1 Hz),2.68 (1H, tt, J=12.0, 3.6 Hz), 2.75 (2H, td, J=12.2, 2.4 Hz), 3.04 (3H, d, J=4.9Hz), 3.17-3.23 (2H, m), 3.26 (3H, s), 3.55-3.61 (2H, m), 4.15-4.21 (2H, m),5.57-5.65 (1H, m), 6.53 (1H, d, J=3.4 Hz), 6.62 (1H, dd, J=5.8, 2.4 Hz), 7.25 (1H,d, J=3.9 Hz), 7.30-7.34 (3H, m), 7.77-7.82 (2H, m), 7.91 (1H, d, J=2.4 Hz),8.02 (1H, s), 8.10 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.50 (1H, brs).
ベンゾトリアゾール(609mg、5.11mmol)をジクロロメタン(25mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて塩化チオニル(373μL、5.11mmol)を加え5分間攪拌した。反応混合物に製造例1−12に記載の4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(1.3g、4.26mmol)を室温にて加え、30分間攪拌した。反応混合物を無水硫酸ナトリウムを敷き詰めたグラスフィルターで濾過し、ジクロロメタンで洗浄し、濾液を製造例20−7に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(0.95g、2.67mmol)、トリエチルアミン(1.86mL、13.3mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(16mg、0.133mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(3mL)とジクロロメタン(20mL)の混合物に0℃にて5分かけて加え、ジクロロメタン(10mL)で洗い込み同温で5分間攪拌した。室温で2時間攪拌後、40%メチルアミン水溶液(2.3mL、26.7mmol)を加え室温で1.5時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え分配し、水層を酢酸エチルで3回抽出した。合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=49:1〜23:2)で精製し、粗生成物(1.11g)を得た。
粗生成物(1.11g)をジクロロメタン(50mL)に溶解させ、室温でトリフルオロ酢酸(5.0mL)を加えた。室温にて30分間攪拌後、減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンとトリエチルアミンに溶解させ、減圧濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜22:3)で精製し、標記化合物(829mg、57%)を得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 1.59-1.69 (2H, m), 1.83 (2H, d, J=14.1 Hz),2.68 (1H, tt, J=12.0, 3.6 Hz), 2.75 (2H, td, J=12.2, 2.4 Hz), 3.04 (3H, d, J=4.9Hz), 3.17-3.23 (2H, m), 3.26 (3H, s), 3.55-3.61 (2H, m), 4.15-4.21 (2H, m),5.57-5.65 (1H, m), 6.53 (1H, d, J=3.4 Hz), 6.62 (1H, dd, J=5.8, 2.4 Hz), 7.25 (1H,d, J=3.9 Hz), 7.30-7.34 (3H, m), 7.77-7.82 (2H, m), 7.91 (1H, d, J=2.4 Hz),8.02 (1H, s), 8.10 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.50 (1H, brs).
出発物質の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドは以下の方法で合成した。
[製造例20−1]3−ヒドロキシ−4−(2−メトキシエトキシ)ベンズアルデヒド
市販の3,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド(39.3g、285mmol)と炭酸ナトリウム(45.2g、427mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(400mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温で市販の2−ブロモエチル メチル エーテル(26.7mL、285mmol)を加え、5日間攪拌した。0℃に冷却後、2M塩酸、酢酸エチル、水を加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過した。溶媒を留去し、ジクロロメタンを加えた後、析出物を濾別し、得られた濾液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=17:3〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(12.9g、23%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.47 (3H, s), 3.76-3.80 (2H, m), 4.25-4.29 (2H, m), 6.40 (1H,brs), 7.01 (1H, d, J=8.4 Hz), 7.41 (1H, dd, J=8.2, 2.0 Hz), 7.45 (1H, d, J=1.8Hz), 9.85 (1H, s).
市販の3,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド(39.3g、285mmol)と炭酸ナトリウム(45.2g、427mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(400mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温で市販の2−ブロモエチル メチル エーテル(26.7mL、285mmol)を加え、5日間攪拌した。0℃に冷却後、2M塩酸、酢酸エチル、水を加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過した。溶媒を留去し、ジクロロメタンを加えた後、析出物を濾別し、得られた濾液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=17:3〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(12.9g、23%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.47 (3H, s), 3.76-3.80 (2H, m), 4.25-4.29 (2H, m), 6.40 (1H,brs), 7.01 (1H, d, J=8.4 Hz), 7.41 (1H, dd, J=8.2, 2.0 Hz), 7.45 (1H, d, J=1.8Hz), 9.85 (1H, s).
[製造例20−2]3−(ベンジルオキシ)−4−(2−メトキシエトキシ)ベンズアルデヒド
製造例20−1に記載の3−ヒドロキシ−4−(2−メトキシエトキシ)ベンズアルデヒド(12.9g、65.9mmol)のエタノール(130mL)混合液に、窒素雰囲気下、室温で炭酸カリウム(11.8g、85.7mmol)、塩化ベンジル(10mL、86.9mmol)を加え、90℃にて2時間加熱還流した。0℃に冷却後、2M塩酸、酢酸エチル、水を加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(17.6g、93%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.46 (3H, s), 3.79-3.85 (2H, m), 4.24-4.30 (2H, m), 5.18 (2H,s), 7.03 (1H, d, J=8.1 Hz), 7.29-7.35 (1H, m), 7.35-7.41 (2H, m), 7.43-7.50 (4H,m), 9.82 (1H, s).
製造例20−1に記載の3−ヒドロキシ−4−(2−メトキシエトキシ)ベンズアルデヒド(12.9g、65.9mmol)のエタノール(130mL)混合液に、窒素雰囲気下、室温で炭酸カリウム(11.8g、85.7mmol)、塩化ベンジル(10mL、86.9mmol)を加え、90℃にて2時間加熱還流した。0℃に冷却後、2M塩酸、酢酸エチル、水を加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(17.6g、93%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.46 (3H, s), 3.79-3.85 (2H, m), 4.24-4.30 (2H, m), 5.18 (2H,s), 7.03 (1H, d, J=8.1 Hz), 7.29-7.35 (1H, m), 7.35-7.41 (2H, m), 7.43-7.50 (4H,m), 9.82 (1H, s).
[製造例20−3](E)−2−(ベンジルオキシ)−1−(2−メトキシエトキシ)−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン
製造例20−2に記載の3−(ベンジルオキシ)−4−(2−メトキシエトキシ)ベンズアルデヒド(17.6g、61.5mmol)を酢酸(49.3mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温で酢酸アンモニウム(5.69g、73.8mmol)、ニトロメタン(8.32mL、154mmol)を加え、130℃にて2時間加熱還流した。室温まで冷却後、析出物を濾取、エタノールにて洗浄し、標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.46 (3H, s), 3.78-3.84 (2H, m), 4.21-4.27 (2H, m), 5.16 (2H,s), 6.97 (1H, d, J=8.4 Hz), 7.06 (1H, d, J=1.8 Hz), 7.16 (1H, dd, J=8.4, 2.2Hz), 7.30-7.48 (6H, m), 7.91 (1H, d, J=13.5 Hz).
製造例20−2に記載の3−(ベンジルオキシ)−4−(2−メトキシエトキシ)ベンズアルデヒド(17.6g、61.5mmol)を酢酸(49.3mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温で酢酸アンモニウム(5.69g、73.8mmol)、ニトロメタン(8.32mL、154mmol)を加え、130℃にて2時間加熱還流した。室温まで冷却後、析出物を濾取、エタノールにて洗浄し、標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.46 (3H, s), 3.78-3.84 (2H, m), 4.21-4.27 (2H, m), 5.16 (2H,s), 6.97 (1H, d, J=8.4 Hz), 7.06 (1H, d, J=1.8 Hz), 7.16 (1H, dd, J=8.4, 2.2Hz), 7.30-7.48 (6H, m), 7.91 (1H, d, J=13.5 Hz).
[製造例20−4]6−(2−メトキシエトキシ)−1H−インドール−5−オール
製造例20−3に記載の(E)−2−(ベンジルオキシ)−1−(2−メトキシエトキシ)−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン(20.2g、61.5mmol)、酢酸(120mL)の混合物に、25℃にて69%硝酸(15mL、233mmol)を加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を氷にあけ、沈殿物を濾取後、水で洗浄し、粗生成物(23.0g)を得た。
粗生成物(23.0g)をメタノール(500mL)に懸濁させた後、室温で10%パラジウム−炭素(50%含水品)(8g)を加えて水素雰囲気下で6時間攪拌した。触媒をセライトを用いて濾過後、濾液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:1〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(3.94g、31%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.48 (3H, s), 3.69-3.78 (2H, m), 4.16-4.23 (2H, m), 6.24 (1H,s), 6.41 (1H, ddd, J=3.1, 2.1, 0.8 Hz), 6.97 (1H, s), 7.10 (1H, dd, J=3.2, 2.5Hz), 7.15 (1H, s), 7.94 (1H, brs).
製造例20−3に記載の(E)−2−(ベンジルオキシ)−1−(2−メトキシエトキシ)−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン(20.2g、61.5mmol)、酢酸(120mL)の混合物に、25℃にて69%硝酸(15mL、233mmol)を加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を氷にあけ、沈殿物を濾取後、水で洗浄し、粗生成物(23.0g)を得た。
粗生成物(23.0g)をメタノール(500mL)に懸濁させた後、室温で10%パラジウム−炭素(50%含水品)(8g)を加えて水素雰囲気下で6時間攪拌した。触媒をセライトを用いて濾過後、濾液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:1〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(3.94g、31%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.48 (3H, s), 3.69-3.78 (2H, m), 4.16-4.23 (2H, m), 6.24 (1H,s), 6.41 (1H, ddd, J=3.1, 2.1, 0.8 Hz), 6.97 (1H, s), 7.10 (1H, dd, J=3.2, 2.5Hz), 7.15 (1H, s), 7.94 (1H, brs).
[製造例20−5]N−(4−((6−(2−メトキシエトキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)アセトアミド
製造例20−4に記載の6−(2−メトキシエトキシ)−1H−インドール−5−オール(3.94g、19.0mmol)、製造例1−5に記載のN−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミド(3.25g、19.0mmol)をジメチルスルホキシド(25mL)に溶解させ、室温にて97%カリウム tert−ブトキシド(2.20g、19.0mmol)を加え、150℃にて13時間加熱攪拌した。反応液に室温で水と酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで3回抽出し、合わせた有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過し、濾液を減圧濃縮後、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:3〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=49:1〜9:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(3.45g、53%)を得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 2.13 (3H, s), 3.27 (3H, s), 3.54-3.58 (2H, m),4.07-4.11 (2H, m), 6.46-6.50 (1H, m), 6.54 (1H, dd, J=5.8, 1.9 Hz), 7.05 (1H, s),7.14-7.17 (1H, m), 7.36 (1H, s), 7.75 (1H, brs), 8.02 (1H, d, J=5.8 Hz), 8.10 (1H,brs), 8.19 (1H, brs).
製造例20−4に記載の6−(2−メトキシエトキシ)−1H−インドール−5−オール(3.94g、19.0mmol)、製造例1−5に記載のN−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミド(3.25g、19.0mmol)をジメチルスルホキシド(25mL)に溶解させ、室温にて97%カリウム tert−ブトキシド(2.20g、19.0mmol)を加え、150℃にて13時間加熱攪拌した。反応液に室温で水と酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで3回抽出し、合わせた有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過し、濾液を減圧濃縮後、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:3〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=49:1〜9:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(3.45g、53%)を得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 2.13 (3H, s), 3.27 (3H, s), 3.54-3.58 (2H, m),4.07-4.11 (2H, m), 6.46-6.50 (1H, m), 6.54 (1H, dd, J=5.8, 1.9 Hz), 7.05 (1H, s),7.14-7.17 (1H, m), 7.36 (1H, s), 7.75 (1H, brs), 8.02 (1H, d, J=5.8 Hz), 8.10 (1H,brs), 8.19 (1H, brs).
[製造例20−6]4−((6−(2−メトキシエトキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン
製造例20−5に記載のN−(4−((6−(2−メトキシエトキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)アセトアミド(3.45g、10.1mmol)をメタノール(50mL)に溶解させ、室温にて2M水酸化ナトリウム溶液(50mL)を加えて70℃にて3時間加熱攪拌した。反応混合物に、水と酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで3回抽出し、合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過し、濾液を減圧濃縮し、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:7〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=49:1〜24:1)で精製した。目的物画分、混合物画分を別々に減圧濃縮し、混合物画分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜9:1)で再度精製し、先の目的物画分と合わせて標記化合物(2.60g、86%)を得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 3.31 (3H, s), 3.58-3.63 (2H, m), 4.08-4.11 (2H,m), 4.28 (2H, brs), 5.90 (1H, d, J=2.4 Hz), 6.29 (1H, dd, J=6.1, 2.2 Hz), 6.44-6.52(1H, m), 7.06 (1H, s), 7.15-7.20 (1H, m), 7.34 (1H, s), 7.88 (1H, d, J=5.8 Hz),8.22 (1H, brs).
製造例20−5に記載のN−(4−((6−(2−メトキシエトキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)アセトアミド(3.45g、10.1mmol)をメタノール(50mL)に溶解させ、室温にて2M水酸化ナトリウム溶液(50mL)を加えて70℃にて3時間加熱攪拌した。反応混合物に、水と酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで3回抽出し、合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過し、濾液を減圧濃縮し、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:7〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=49:1〜24:1)で精製した。目的物画分、混合物画分を別々に減圧濃縮し、混合物画分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜9:1)で再度精製し、先の目的物画分と合わせて標記化合物(2.60g、86%)を得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 3.31 (3H, s), 3.58-3.63 (2H, m), 4.08-4.11 (2H,m), 4.28 (2H, brs), 5.90 (1H, d, J=2.4 Hz), 6.29 (1H, dd, J=6.1, 2.2 Hz), 6.44-6.52(1H, m), 7.06 (1H, s), 7.15-7.20 (1H, m), 7.34 (1H, s), 7.88 (1H, d, J=5.8 Hz),8.22 (1H, brs).
[製造例20−7]5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例20−6に記載の4−((6−(2−メトキシエトキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン(2.60g、8.67mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(50mL)に溶解し、窒素雰囲気下、室温にて50−72%水素化ナトリウム 油状(499mg)を加えた。製造例1−7に記載のフェニル メチルカーバメート(1.97g、13.0mmol)を加え室温で1時間攪拌した。反応混合物を0℃に冷却し、酢酸エチル、水を加え分配した。水層を酢酸エチルで2回抽出し、水層に塩化ナトリウムを加えて酢酸エチルで3回抽出した。合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過し、濾液を減圧濃縮し、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:4〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=49:1〜24:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、酢酸エチルを加えて析出物を濾取、洗浄し、標記化合物(2.23g、72%)を得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 3.06 (3H, d, J=4.9 Hz), 3.29 (3H, s), 3.59-3.63(2H, m), 4.14-4.17 (2H, m), 4.30 (2H, brs), 5.52-5.59 (1H, m), 5.89 (1H, d, J=2.4Hz), 6.27 (1H, dd, J=5.8, 1.9 Hz), 6.55 (1H, d, J=3.9 Hz), 7.27-7.29 (2H, m),7.89 (1H, d, J=5.9 Hz), 7.99 (1H, s).
製造例20−6に記載の4−((6−(2−メトキシエトキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン(2.60g、8.67mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(50mL)に溶解し、窒素雰囲気下、室温にて50−72%水素化ナトリウム 油状(499mg)を加えた。製造例1−7に記載のフェニル メチルカーバメート(1.97g、13.0mmol)を加え室温で1時間攪拌した。反応混合物を0℃に冷却し、酢酸エチル、水を加え分配した。水層を酢酸エチルで2回抽出し、水層に塩化ナトリウムを加えて酢酸エチルで3回抽出した。合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過し、濾液を減圧濃縮し、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:4〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=49:1〜24:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、酢酸エチルを加えて析出物を濾取、洗浄し、標記化合物(2.23g、72%)を得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 3.06 (3H, d, J=4.9 Hz), 3.29 (3H, s), 3.59-3.63(2H, m), 4.14-4.17 (2H, m), 4.30 (2H, brs), 5.52-5.59 (1H, m), 5.89 (1H, d, J=2.4Hz), 6.27 (1H, dd, J=5.8, 1.9 Hz), 6.55 (1H, d, J=3.9 Hz), 7.27-7.29 (2H, m),7.89 (1H, d, J=5.9 Hz), 7.99 (1H, s).
[実施例21]6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−5−((2−(4−(1−メチルピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド
実施例20に記載の6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(257mg、0.473mmol)とテトラヒドロフラン(30mL)の混合物に、室温にて35%ホルムアルデヒド水溶液(186μL、2.36mmol)とトリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(200mg、0.946mmol)を加え、室温にて3分間攪拌した。反応混合物に酢酸(54μL、0.946mmol)を加え、室温にて3時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで3回抽出し、合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜23:2)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 1.75-1.88 (4H, m), 2.02-2.11 (2H, m), 2.33 (3H,s), 2.49-2.59 (1H, m), 2.99 (2H, d, J=11.2 Hz), 3.05 (3H, d, J=4.9 Hz), 3.26 (3H,s), 3.56-3.60 (2H, m), 4.15-4.21 (2H, m), 5.52-5.58 (1H, m), 6.54 (1H, d, J=3.9Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.8, 2.4 Hz), 7.25-7.27 (1H, m), 7.30-7.34 (3H, m), 7.79 (2H,d, J=8.3 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.4 Hz), 8.01 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.8 Hz), 8.48(1H, brs).
実施例20に記載の6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(257mg、0.473mmol)とテトラヒドロフラン(30mL)の混合物に、室温にて35%ホルムアルデヒド水溶液(186μL、2.36mmol)とトリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(200mg、0.946mmol)を加え、室温にて3分間攪拌した。反応混合物に酢酸(54μL、0.946mmol)を加え、室温にて3時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで3回抽出し、合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜23:2)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (500MHz, CDCl3)δ(ppm): 1.75-1.88 (4H, m), 2.02-2.11 (2H, m), 2.33 (3H,s), 2.49-2.59 (1H, m), 2.99 (2H, d, J=11.2 Hz), 3.05 (3H, d, J=4.9 Hz), 3.26 (3H,s), 3.56-3.60 (2H, m), 4.15-4.21 (2H, m), 5.52-5.58 (1H, m), 6.54 (1H, d, J=3.9Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.8, 2.4 Hz), 7.25-7.27 (1H, m), 7.30-7.34 (3H, m), 7.79 (2H,d, J=8.3 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.4 Hz), 8.01 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.8 Hz), 8.48(1H, brs).
[実施例22]5−((2−(4−(1−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
実施例20に記載の6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(250mg、0.46mmol)とテトラヒドロフラン(10mL)の混合物に、室温にてトリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(286mg、1.35mmol)と市販の2−ヒドロキシアセトアルデヒド(86.1mg、1.43mmol)を加え、室温にて3時間45分攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜97:3〜9:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、析出物をジエチルエーテルとn−ヘキサンの混合液で濾取、洗浄し、標記化合物(236mg、87%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.70-1.92 (4H, m), 2.14-2.25 (2H, m), 2.53-2.64 (3H, m),3.01-3.08 (5H, m), 3.26 (3H, s), 3.56-3.60 (2H, m), 3.63 (2H, t, J=5.4 Hz),4.15-4.20 (2H, m), 5.50-5.59 (1H, m), 6.54 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.7,2.4 Hz), 7.24-7.28 (1H, m), 7.30-7.35 (3H, m), 7.80 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.91 (1H,d, J=2.2 Hz), 8.01 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.50 (1H, brs).
実施例20に記載の6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(250mg、0.46mmol)とテトラヒドロフラン(10mL)の混合物に、室温にてトリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(286mg、1.35mmol)と市販の2−ヒドロキシアセトアルデヒド(86.1mg、1.43mmol)を加え、室温にて3時間45分攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜97:3〜9:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、析出物をジエチルエーテルとn−ヘキサンの混合液で濾取、洗浄し、標記化合物(236mg、87%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.70-1.92 (4H, m), 2.14-2.25 (2H, m), 2.53-2.64 (3H, m),3.01-3.08 (5H, m), 3.26 (3H, s), 3.56-3.60 (2H, m), 3.63 (2H, t, J=5.4 Hz),4.15-4.20 (2H, m), 5.50-5.59 (1H, m), 6.54 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.7,2.4 Hz), 7.24-7.28 (1H, m), 7.30-7.35 (3H, m), 7.80 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.91 (1H,d, J=2.2 Hz), 8.01 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.50 (1H, brs).
[実施例23]5−((2−(4−(1−イソプロピルピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
実施例20に記載の6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(20mg、0.037mmol)のテトラヒドロフラン(3mL)溶液にアセトン(54μL、0.736mmol)、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(62.4mg、0.294mmol)、酢酸(17μL、0.294mmol)を室温にて加えた。反応液を同温で終夜攪拌した。室温にて反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、減圧下で濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル)で精製することにより標記化合物(6.6mg、31%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 0.99 (6H, d, J=6.6 Hz), 1.54-1.68 (2H, m), 1.70-1.81 (2H, m),2.16-2.26 (2H, m), 2.44-2.57 (1H, m), 2.66-2.76 (1H, m), 2.82-2.91 (5H, m), 3.12(3H, s), 3.45-3.52 (2H, m), 4.05-4.13 (2H, m), 6.63 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.67 (1H,dd, J=5.7, 2.4 Hz), 7.33 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.45 (1H, s), 7.69 (1H, d, J=2.6Hz), 7.78 (1H, d, J=4.0 Hz), 7.89 (2H, d, J=8.4 Hz), 8.08 (1H, s), 8.14-8.21 (2H,m), 10.64 (1H, s).
実施例20に記載の6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(20mg、0.037mmol)のテトラヒドロフラン(3mL)溶液にアセトン(54μL、0.736mmol)、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(62.4mg、0.294mmol)、酢酸(17μL、0.294mmol)を室温にて加えた。反応液を同温で終夜攪拌した。室温にて反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、減圧下で濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル)で精製することにより標記化合物(6.6mg、31%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 0.99 (6H, d, J=6.6 Hz), 1.54-1.68 (2H, m), 1.70-1.81 (2H, m),2.16-2.26 (2H, m), 2.44-2.57 (1H, m), 2.66-2.76 (1H, m), 2.82-2.91 (5H, m), 3.12(3H, s), 3.45-3.52 (2H, m), 4.05-4.13 (2H, m), 6.63 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.67 (1H,dd, J=5.7, 2.4 Hz), 7.33 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.45 (1H, s), 7.69 (1H, d, J=2.6Hz), 7.78 (1H, d, J=4.0 Hz), 7.89 (2H, d, J=8.4 Hz), 8.08 (1H, s), 8.14-8.21 (2H,m), 10.64 (1H, s).
[実施例24]6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例24−9に記載のtert−ブチル 4−(4−((4−((6−(2−エトキシエトキシ)−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレート(382mg、0.581mmol)のジクロロメタン(10mL)溶液に室温にてトリフルオロ酢酸(1.79mL、23.2mmol)を加えた。反応液を同温で1時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮しトリフルオロ酢酸を除去した。残渣をジクロロメタンで希釈した後、トリエチルアミンを加えてトリフルオロ酢酸を中和した。溶液を減圧下で濃縮した後、残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=49:1〜17:3)で精製することにより標記化合物(276mg、85%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 0.94 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.44-1.57 (2H, m), 1.63-1.72 (2H, m),2.47-2.69 (3H, m), 2.85 (3H, d, J=4.4 Hz), 2.97-3.05 (2H, m), 3.29 (2H, q, J=7.0Hz), 3.47-3.58 (2H, m), 4.04-4.13 (2H, m), 6.57-6.73 (2H, m), 7.31 (2H, d, J=8.1Hz), 7.45 (1H, s), 7.70 (1H, d, J=2.2 Hz), 7.78 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.90 (2H, d,J=8.8 Hz), 8.08 (1H, s), 8.13-8.24 (2H, m), 10.64(1H, s).
製造例24−9に記載のtert−ブチル 4−(4−((4−((6−(2−エトキシエトキシ)−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレート(382mg、0.581mmol)のジクロロメタン(10mL)溶液に室温にてトリフルオロ酢酸(1.79mL、23.2mmol)を加えた。反応液を同温で1時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮しトリフルオロ酢酸を除去した。残渣をジクロロメタンで希釈した後、トリエチルアミンを加えてトリフルオロ酢酸を中和した。溶液を減圧下で濃縮した後、残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=49:1〜17:3)で精製することにより標記化合物(276mg、85%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 0.94 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.44-1.57 (2H, m), 1.63-1.72 (2H, m),2.47-2.69 (3H, m), 2.85 (3H, d, J=4.4 Hz), 2.97-3.05 (2H, m), 3.29 (2H, q, J=7.0Hz), 3.47-3.58 (2H, m), 4.04-4.13 (2H, m), 6.57-6.73 (2H, m), 7.31 (2H, d, J=8.1Hz), 7.45 (1H, s), 7.70 (1H, d, J=2.2 Hz), 7.78 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.90 (2H, d,J=8.8 Hz), 8.08 (1H, s), 8.13-8.24 (2H, m), 10.64(1H, s).
出発物質のtert−ブチル 4−(4−((4−((6−(2−エトキシエトキシ)−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレートは以下の方法で合成した。
[製造例24−1]4−(2−エトキシエトキシ)−3−ヒドロキシベンズアルデヒド
市販の3,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド(30.5g、221mmol)と炭酸ナトリウム(35.1g、331mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(310mL)溶液に市販の2−ブロモエチル エチル エーテル(33.8g、221mmol)を窒素雰囲気下、室温にて加えた。混合液を室温にて5日間攪拌した。反応液を0℃に冷却し、2M塩酸、酢酸エチルおよび水で希釈した。水層を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。不溶物をジクロロメタンを用いて濾別し、原料を除去した。濾液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=17:3〜1:1)で精製することにより標記化合物(13.2g、28%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.27 (3H, t, J=7.0 Hz), 3.63 (2H, q, J=7.0 Hz), 3.80-3.85 (2H,m), 4.24-4.30 (2H, m), 6.65 (1H, s), 7.02 (1H, d, J=8.4 Hz), 7.38-7.42 (1H, m),7.45 (1H, d, J=2.2 Hz), 9.85 (1H, s).
市販の3,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド(30.5g、221mmol)と炭酸ナトリウム(35.1g、331mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(310mL)溶液に市販の2−ブロモエチル エチル エーテル(33.8g、221mmol)を窒素雰囲気下、室温にて加えた。混合液を室温にて5日間攪拌した。反応液を0℃に冷却し、2M塩酸、酢酸エチルおよび水で希釈した。水層を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。不溶物をジクロロメタンを用いて濾別し、原料を除去した。濾液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=17:3〜1:1)で精製することにより標記化合物(13.2g、28%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.27 (3H, t, J=7.0 Hz), 3.63 (2H, q, J=7.0 Hz), 3.80-3.85 (2H,m), 4.24-4.30 (2H, m), 6.65 (1H, s), 7.02 (1H, d, J=8.4 Hz), 7.38-7.42 (1H, m),7.45 (1H, d, J=2.2 Hz), 9.85 (1H, s).
[製造例24−2]3−(ベンジルオキシ)−4−(2−エトキシエトキシ)ベンズアルデヒド
製造例24−1に記載の4−(2−エトキシエトキシ)−3−ヒドロキシベンズアルデヒド(13.2g、62.7mmol)のエタノール(130mL)溶液に炭酸カリウム(11.3g、81.5mmol)と塩化ベンジル(9.5mL、82.6mmol)を窒素雰囲気下、室温にて加えた。混合液を90℃加熱条件下で2時間攪拌した。反応液を0℃まで冷却した後、2M塩酸、酢酸エチルと水で希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾別後、濾液を減圧下で濃縮した。得られた残渣をジクロロメタンに溶解し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜1:1)にて精製することにより標記化合物(13.5g、72%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.22 (3H, t, J=7.0 Hz), 3.63 (2H, q, J=7.0 Hz), 3.82-3.90 (2H,m), 4.23-4.30 (2H, m), 5.18 (2H, s), 7.03 (1H, d, J=7.7 Hz), 7.28-7.34 (1H, m),7.35-7.42 (2H, m), 7.43-7.50 (4H, m), 9.82 (1H, s).
製造例24−1に記載の4−(2−エトキシエトキシ)−3−ヒドロキシベンズアルデヒド(13.2g、62.7mmol)のエタノール(130mL)溶液に炭酸カリウム(11.3g、81.5mmol)と塩化ベンジル(9.5mL、82.6mmol)を窒素雰囲気下、室温にて加えた。混合液を90℃加熱条件下で2時間攪拌した。反応液を0℃まで冷却した後、2M塩酸、酢酸エチルと水で希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾別後、濾液を減圧下で濃縮した。得られた残渣をジクロロメタンに溶解し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜1:1)にて精製することにより標記化合物(13.5g、72%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.22 (3H, t, J=7.0 Hz), 3.63 (2H, q, J=7.0 Hz), 3.82-3.90 (2H,m), 4.23-4.30 (2H, m), 5.18 (2H, s), 7.03 (1H, d, J=7.7 Hz), 7.28-7.34 (1H, m),7.35-7.42 (2H, m), 7.43-7.50 (4H, m), 9.82 (1H, s).
[製造例24−3](E)−2−(ベンジルオキシ)−1−(2−エトキシエトキシ)−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン
製造例24−2に記載の3−(ベンジルオキシ)−4−(2−エトキシエトキシ)ベンズアルデヒド(13.5g、45.0mmol)の酢酸(36mL)溶液に酢酸アンモニウム(4.16g、53.9mmol)とニトロメタン(6.1mL、113mmol)を窒素雰囲気下、室温で加えた。混合液を130℃加熱還流下で2時間攪拌した。反応液を室温まで放冷した。析出物を濾取し、エタノールで洗浄することにより標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.22 (3H, t, J=7.1 Hz), 3.62 (2H, q, J=7.0 Hz), 3.82-3.88 (2H,m), 4.21-4.26 (2H, m), 5.16 (2H, s), 6.97 (1H, d, J=8.3 Hz), 7.06 (1H, d, J=2.2Hz), 7.16 (1H, dd, J=8.3, 2.1 Hz), 7.29-7.50 (6H, m), 7.91 (1H, d, J=13.6 Hz).
製造例24−2に記載の3−(ベンジルオキシ)−4−(2−エトキシエトキシ)ベンズアルデヒド(13.5g、45.0mmol)の酢酸(36mL)溶液に酢酸アンモニウム(4.16g、53.9mmol)とニトロメタン(6.1mL、113mmol)を窒素雰囲気下、室温で加えた。混合液を130℃加熱還流下で2時間攪拌した。反応液を室温まで放冷した。析出物を濾取し、エタノールで洗浄することにより標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.22 (3H, t, J=7.1 Hz), 3.62 (2H, q, J=7.0 Hz), 3.82-3.88 (2H,m), 4.21-4.26 (2H, m), 5.16 (2H, s), 6.97 (1H, d, J=8.3 Hz), 7.06 (1H, d, J=2.2Hz), 7.16 (1H, dd, J=8.3, 2.1 Hz), 7.29-7.50 (6H, m), 7.91 (1H, d, J=13.6 Hz).
[製造例24−4](E)−1−(ベンジルオキシ)−2−(2−エトキシエトキシ)−4−ニトロ−5−(2−ニトロビニル)ベンゼン
製造例24−3に記載の(E)−2−(ベンジルオキシ)−1−(2−エトキシエトキシ)−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン(15.4g、44.9mmol)と酢酸(100mL)溶液に25℃で69%硝酸(11mL、171mmol)を加え、6時間攪拌した。反応液を氷に注いだ。懸濁液を吸引濾過し、生成物を水で洗浄することにより標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.23 (3H, t, J=7.0 Hz), 3.62 (2H, q, J=6.9 Hz), 3.84-3.90 (2H,m), 4.29-4.34 (2H, m), 5.27 (2H, s), 6.93 (1H, s), 7.23 (1H, d, J=13.6 Hz),7.35-7.50 (5H, m), 7.84 (1H, s), 8.57 (1H, d, J=13.5 Hz).
製造例24−3に記載の(E)−2−(ベンジルオキシ)−1−(2−エトキシエトキシ)−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン(15.4g、44.9mmol)と酢酸(100mL)溶液に25℃で69%硝酸(11mL、171mmol)を加え、6時間攪拌した。反応液を氷に注いだ。懸濁液を吸引濾過し、生成物を水で洗浄することにより標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.23 (3H, t, J=7.0 Hz), 3.62 (2H, q, J=6.9 Hz), 3.84-3.90 (2H,m), 4.29-4.34 (2H, m), 5.27 (2H, s), 6.93 (1H, s), 7.23 (1H, d, J=13.6 Hz),7.35-7.50 (5H, m), 7.84 (1H, s), 8.57 (1H, d, J=13.5 Hz).
[製造例24−5]6−(2−エトキシエトキシ)−1H−インドール−5−オール
製造例24−4に記載の(E)−1−(ベンジルオキシ)−2−(2−エトキシエトキシ)−4−ニトロ−5−(2−ニトロビニル)ベンゼン(17.5g、44.9mmol)のメタノール(180mL)溶液に10%パラジウム−炭素(50%含水品)(6g)を室温にて加えた。反応液を水素雰囲気下、室温で攪拌した。6時間後、触媒をセライトを用いて濾過した。濾液を減圧下で濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:1〜1:1)で精製することにより標記化合物(3.28g、33%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.29 (3H, t, J=7.0 Hz), 3.63 (2H, q, J=7.0 Hz), 3.73-3.80 (2H,m), 4.16-4.24 (2H, m), 6.41 (1H, td, J=2.1, 1.1 Hz), 6.46 (1H, s), 6.99 (1H, s),7.10 (1H, dd, J=3.1, 2.4 Hz), 7.15 (1H, s), 7.93 (1H, brs).
製造例24−4に記載の(E)−1−(ベンジルオキシ)−2−(2−エトキシエトキシ)−4−ニトロ−5−(2−ニトロビニル)ベンゼン(17.5g、44.9mmol)のメタノール(180mL)溶液に10%パラジウム−炭素(50%含水品)(6g)を室温にて加えた。反応液を水素雰囲気下、室温で攪拌した。6時間後、触媒をセライトを用いて濾過した。濾液を減圧下で濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:1〜1:1)で精製することにより標記化合物(3.28g、33%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.29 (3H, t, J=7.0 Hz), 3.63 (2H, q, J=7.0 Hz), 3.73-3.80 (2H,m), 4.16-4.24 (2H, m), 6.41 (1H, td, J=2.1, 1.1 Hz), 6.46 (1H, s), 6.99 (1H, s),7.10 (1H, dd, J=3.1, 2.4 Hz), 7.15 (1H, s), 7.93 (1H, brs).
[製造例24−6]N−(4−((6−(2−エトキシエトキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)アセトアミド
製造例24−5に記載の6−(2−エトキシエトキシ)−1H−インドール−5−オール(3.28g、14.8mmol)、製造例1−5に記載のN−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミド(2.78g、16.3mmol)、カリウム tert−ブトキシド(1.83g、16.3mmol)の混合物にジメチルスルホキシド(20mL)を窒素雰囲気下、室温にて加えた。混合液を150℃で終夜攪拌した。反応液を室温まで放冷した後、水と酢酸エチルで希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜19:1)で精製することにより標記化合物(2.5g、48%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.09 (3H, t, J=7.0 Hz), 2.14 (3H, s), 3.41 (2H, q, J=7.0 Hz),3.56-3.66 (2H, m), 4.05-4.13 (2H, m), 6.44-6.50 (1H, m), 6.53 (1H, dd, J=5.9,2.6 Hz), 7.05 (1H, d, J=0.7 Hz), 7.16 (1H, dd, J=3.3, 2.6 Hz), 7.36 (1H, s),7.75 (1H, brs), 8.01 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.11 (1H, brs), 8.19 (1H, brs).
製造例24−5に記載の6−(2−エトキシエトキシ)−1H−インドール−5−オール(3.28g、14.8mmol)、製造例1−5に記載のN−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミド(2.78g、16.3mmol)、カリウム tert−ブトキシド(1.83g、16.3mmol)の混合物にジメチルスルホキシド(20mL)を窒素雰囲気下、室温にて加えた。混合液を150℃で終夜攪拌した。反応液を室温まで放冷した後、水と酢酸エチルで希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜19:1)で精製することにより標記化合物(2.5g、48%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.09 (3H, t, J=7.0 Hz), 2.14 (3H, s), 3.41 (2H, q, J=7.0 Hz),3.56-3.66 (2H, m), 4.05-4.13 (2H, m), 6.44-6.50 (1H, m), 6.53 (1H, dd, J=5.9,2.6 Hz), 7.05 (1H, d, J=0.7 Hz), 7.16 (1H, dd, J=3.3, 2.6 Hz), 7.36 (1H, s),7.75 (1H, brs), 8.01 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.11 (1H, brs), 8.19 (1H, brs).
[製造例24−7]4−((6−(2−エトキシエトキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン
製造例24−6に記載のN−(4−((6−(2−エトキシエトキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)アセトアミド(2.5g、7.04mmol)のメタノール(20mL)溶液に2M水酸化ナトリウム溶液(20mL)を窒素雰囲気下、室温にて加え、75℃加熱還流下で2時間攪拌した。反応液を室温まで放冷した後、酢酸エチルと水で希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:9〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=49:1〜24:1)で精製することにより標記化合物(1.92g、87%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.12 (3H, t, J=7.0 Hz), 3.45 (2H, q, J=7.2 Hz), 3.60-3.72 (2H,m), 4.03-4.13 (2H, m), 4.29 (2H, s), 5.89 (1H, d, J=1.8 Hz), 6.29 (1H, dd,J=6.2, 2.2 Hz), 6.44-6.54 (1H, m), 7.05 (1H, s), 7.18 (1H, dd, J=3.1, 2.4 Hz),7.34 (1H, s), 7.88 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.25 (1H, brs).
製造例24−6に記載のN−(4−((6−(2−エトキシエトキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)アセトアミド(2.5g、7.04mmol)のメタノール(20mL)溶液に2M水酸化ナトリウム溶液(20mL)を窒素雰囲気下、室温にて加え、75℃加熱還流下で2時間攪拌した。反応液を室温まで放冷した後、酢酸エチルと水で希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:9〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=49:1〜24:1)で精製することにより標記化合物(1.92g、87%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.12 (3H, t, J=7.0 Hz), 3.45 (2H, q, J=7.2 Hz), 3.60-3.72 (2H,m), 4.03-4.13 (2H, m), 4.29 (2H, s), 5.89 (1H, d, J=1.8 Hz), 6.29 (1H, dd,J=6.2, 2.2 Hz), 6.44-6.54 (1H, m), 7.05 (1H, s), 7.18 (1H, dd, J=3.1, 2.4 Hz),7.34 (1H, s), 7.88 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.25 (1H, brs).
[製造例24−8]5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例24−7に記載の4−((6−(2−エトキシエトキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン(1.92g、6.13mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(20mL)溶液に50−72%水素化ナトリウム 油状(265mg)を窒素雰囲気下、0℃で加えた。反応液を同温で10分間攪拌した。反応液に製造例1−7に記載のフェニル メチルカーバメート(1.20g、7.97mmol)を加えた後、室温まで昇温させ1時間攪拌した。反応液に水と酢酸エチルを加えた。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶液:n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜0:1)で精製することにより標記化合物(1.97g、87%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 1.01 (3H, t, J=7.0 Hz), 2.84 (3H, d, J=4.4 Hz), 3.37 (2H, q,J=7.1 Hz), 3.54-3.59 (2H, m), 4.02-4.10 (2H, m), 5.69 (1H, d, J=2.2 Hz), 5.77 (2H,s), 6.09 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 6.60 (1H, d, J=3.3 Hz), 7.35 (1H, s),7.71-7.77 (2H, m), 8.04 (1H, s), 8.09-8.17 (1H, m).
製造例24−7に記載の4−((6−(2−エトキシエトキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン(1.92g、6.13mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(20mL)溶液に50−72%水素化ナトリウム 油状(265mg)を窒素雰囲気下、0℃で加えた。反応液を同温で10分間攪拌した。反応液に製造例1−7に記載のフェニル メチルカーバメート(1.20g、7.97mmol)を加えた後、室温まで昇温させ1時間攪拌した。反応液に水と酢酸エチルを加えた。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶液:n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜0:1)で精製することにより標記化合物(1.97g、87%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 1.01 (3H, t, J=7.0 Hz), 2.84 (3H, d, J=4.4 Hz), 3.37 (2H, q,J=7.1 Hz), 3.54-3.59 (2H, m), 4.02-4.10 (2H, m), 5.69 (1H, d, J=2.2 Hz), 5.77 (2H,s), 6.09 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 6.60 (1H, d, J=3.3 Hz), 7.35 (1H, s),7.71-7.77 (2H, m), 8.04 (1H, s), 8.09-8.17 (1H, m).
[製造例24−9]tert−ブチル 4−(4−((4−((6−(2−エトキシエトキシ)−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレート
ベンゾトリアゾール(603mg、5.06mmol)のジクロロメタン(20mL)溶液に窒素雰囲気下、室温で塩化チオニル(370μL、5.06mmol)を加えた。室温で5分間攪拌した後、製造例1−12に記載の4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(1.03g、3.38mmol)を加え、1時間攪拌した。反応液をグラスフィルター上の無水硫酸ナトリウムを通して濾過し、ジクロロメタンで洗浄した。得られた濾液に、窒素雰囲気下、0℃でトリエチルアミン(1.87mL、13.5mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(16.5mg、0.135mmol)、製造例24−8に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(500mg、1.35mmol)のテトラヒドロフラン(5mL)溶液を順次加えた後、室温で4時間攪拌した。反応液に過剰量のメチルアミンを加えた後、酢酸エチルと水で希釈し、分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下で濃縮した。得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:3〜0:1)で精製することにより標記化合物(383mg、43%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 0.94 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.42 (9H, s), 1.43-1.60 (2H, m), 1.69-1.84(2H, m), 2.75 (3H, brs), 2.85 (3H, d, J=4.4 Hz), 3.29 (2H, q, J=7.0 Hz),3.47-3.58 (2H, m), 3.98-4.16 (4H, m), 6.56-6.71 (2H, m), 7.34 (2H, d, J=8.4 Hz),7.45 (1H, s), 7.70 (1H, d, J=2.6 Hz), 7.78 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.90 (2H, d,J=8.4 Hz), 8.08 (1H, s), 8.12-8.24 (2H, m), 10.66 (1H, s).
ベンゾトリアゾール(603mg、5.06mmol)のジクロロメタン(20mL)溶液に窒素雰囲気下、室温で塩化チオニル(370μL、5.06mmol)を加えた。室温で5分間攪拌した後、製造例1−12に記載の4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(1.03g、3.38mmol)を加え、1時間攪拌した。反応液をグラスフィルター上の無水硫酸ナトリウムを通して濾過し、ジクロロメタンで洗浄した。得られた濾液に、窒素雰囲気下、0℃でトリエチルアミン(1.87mL、13.5mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(16.5mg、0.135mmol)、製造例24−8に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(500mg、1.35mmol)のテトラヒドロフラン(5mL)溶液を順次加えた後、室温で4時間攪拌した。反応液に過剰量のメチルアミンを加えた後、酢酸エチルと水で希釈し、分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下で濃縮した。得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:3〜0:1)で精製することにより標記化合物(383mg、43%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 0.94 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.42 (9H, s), 1.43-1.60 (2H, m), 1.69-1.84(2H, m), 2.75 (3H, brs), 2.85 (3H, d, J=4.4 Hz), 3.29 (2H, q, J=7.0 Hz),3.47-3.58 (2H, m), 3.98-4.16 (4H, m), 6.56-6.71 (2H, m), 7.34 (2H, d, J=8.4 Hz),7.45 (1H, s), 7.70 (1H, d, J=2.6 Hz), 7.78 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.90 (2H, d,J=8.4 Hz), 8.08 (1H, s), 8.12-8.24 (2H, m), 10.66 (1H, s).
[実施例25]6−(2−エトキシエトキシ)−5−((2−(4−(1−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
実施例24に記載の6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(30mg、0.054mmol)のテトラヒドロフラン(3mL)懸濁液に室温にて市販の2−ヒドロキシアセトアルデヒド(48.5mg、0.807mmol)、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(91mg、0.43mmol)、酢酸(25μL、0.43mmol)を加えた。反応液を室温にて2時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を室温にて加え、酢酸エチルで希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を濃縮した。得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル)にて精製することにより標記化合物(20.1mg、62%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.07 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.67-1.99 (4H, m), 2.20 (2H, td,J=11.7, 2.6 Hz), 2.53-2.66 (3H, m), 2.98-3.11 (5H, m), 3.40 (2H, q, J=7.0 Hz),3.59-3.69 (4H, m), 4.16-4.20 (2H, m), 5.02 (1H, s), 5.69-5.80 (1H, m), 6.51 (1H,d, J=3.7 Hz), 6.62 (1H, dd, J=5.7, 2.4 Hz), 7.25 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.28-7.36 (3H,m), 7.76-7.83 (2H, m), 7.91 (1H, d, J=2.6 Hz), 8.02 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.9Hz), 8.62 (1H, s).
実施例24に記載の6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(30mg、0.054mmol)のテトラヒドロフラン(3mL)懸濁液に室温にて市販の2−ヒドロキシアセトアルデヒド(48.5mg、0.807mmol)、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(91mg、0.43mmol)、酢酸(25μL、0.43mmol)を加えた。反応液を室温にて2時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を室温にて加え、酢酸エチルで希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を濃縮した。得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル)にて精製することにより標記化合物(20.1mg、62%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.07 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.67-1.99 (4H, m), 2.20 (2H, td,J=11.7, 2.6 Hz), 2.53-2.66 (3H, m), 2.98-3.11 (5H, m), 3.40 (2H, q, J=7.0 Hz),3.59-3.69 (4H, m), 4.16-4.20 (2H, m), 5.02 (1H, s), 5.69-5.80 (1H, m), 6.51 (1H,d, J=3.7 Hz), 6.62 (1H, dd, J=5.7, 2.4 Hz), 7.25 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.28-7.36 (3H,m), 7.76-7.83 (2H, m), 7.91 (1H, d, J=2.6 Hz), 8.02 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.9Hz), 8.62 (1H, s).
[実施例26]6−(2−エトキシエトキシ)−5−((2−(4−(1−エチルアゼチジン−3−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例26−6に記載の5−((2−(4−(アゼチジン−3−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(215mg、0.406mmol)とテトラヒドロフラン(4.0mL)の混合物に、室温にてトリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(172mg、0.812mmol)とアセトアルデヒド(51.2mg、1.16mmol)を加え、室温にて1.5時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:3〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜19:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、残渣をジエチルエーテルで濾取洗浄し、標記化合物(180mg、79%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.00 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.07 (3H, t, J=7.0 Hz), 2.51 (2H, q, J=7.1Hz), 3.06 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.09-3.16 (2H, m), 3.40 (2H, q, J=7.1 Hz),3.60-3.65 (2H, m), 3.71-3.80 (3H, m), 4.15-4.20 (2H, m), 5.47-5.57 (1H, m), 6.54(1H, d, J=3.7 Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.7, 2.4 Hz), 7.24-7.27 (1H, m), 7.34 (1H,s), 7.36-7.40 (2H, m), 7.77-7.83 (2H, m), 7.91 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.01 (1H, s),8.10 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.47 (1H, brs).
製造例26−6に記載の5−((2−(4−(アゼチジン−3−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(215mg、0.406mmol)とテトラヒドロフラン(4.0mL)の混合物に、室温にてトリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(172mg、0.812mmol)とアセトアルデヒド(51.2mg、1.16mmol)を加え、室温にて1.5時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:3〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜19:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、残渣をジエチルエーテルで濾取洗浄し、標記化合物(180mg、79%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.00 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.07 (3H, t, J=7.0 Hz), 2.51 (2H, q, J=7.1Hz), 3.06 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.09-3.16 (2H, m), 3.40 (2H, q, J=7.1 Hz),3.60-3.65 (2H, m), 3.71-3.80 (3H, m), 4.15-4.20 (2H, m), 5.47-5.57 (1H, m), 6.54(1H, d, J=3.7 Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.7, 2.4 Hz), 7.24-7.27 (1H, m), 7.34 (1H,s), 7.36-7.40 (2H, m), 7.77-7.83 (2H, m), 7.91 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.01 (1H, s),8.10 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.47 (1H, brs).
出発物質の5−((2−(4−(アゼチジン−3−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドは以下の方法で合成した。
[製造例26−1]tert−ブチル 3−(4−((4−((6−(2−エトキシエトキシ)−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)アゼチジン−1−カルボキシレート
ベンゾトリアゾール(335mg、2.81mmol)をジクロロメタン(20mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて塩化チオニル(200μL、2.74mmol)を加え5分間攪拌した。反応混合物に製造例26−5に記載の4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)アゼチジン−3−イル)ベンゾイック アシッド(650mg、2.34mmol)を室温にて加え、25分間攪拌した。反応混合物を無水硫酸ナトリウムを敷き詰めたグラスフィルターで濾過し、ジクロロメタンで洗浄し、濾液を製造例24−8に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(300mg、0.810mmol)、トリエチルアミン(1.3mL、9.38mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(9.9mg、0.081mmol)のテトラヒドロフラン(16mL)の混合物に0℃にて加えた。室温で3時間攪拌後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を減圧濃縮し、残渣をテトラヒドロフランに溶解させ、過剰量の9.8Mメチルアミン メタノール溶液を室温にて加え、75分間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜1:3〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=9:1)で精製した。混合物分画を減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:3〜1:3〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=9:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(279mg、76%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.07 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.47 (9H, s), 2.81 (3H, d, J=4.8 Hz),3.40 (2H, q, J=6.8 Hz), 3.60-3.65 (2H, m), 3.73-3.83 (1H, m), 3.93-4.01 (2H,m), 4.15-4.20 (2H, m), 4.35 (2H, t, J=8.6 Hz), 5.44-5.54 (1H, m), 6.56 (1H, d,J=3.7 Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.9, 1.8 Hz), 7.23-7.29 (1H, m), 7.34 (1H, s), 7.42 (2H,d, J=8.4 Hz), 7.85 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.01 (1H, s),8.09 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.55 (1H, brs).
ベンゾトリアゾール(335mg、2.81mmol)をジクロロメタン(20mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて塩化チオニル(200μL、2.74mmol)を加え5分間攪拌した。反応混合物に製造例26−5に記載の4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)アゼチジン−3−イル)ベンゾイック アシッド(650mg、2.34mmol)を室温にて加え、25分間攪拌した。反応混合物を無水硫酸ナトリウムを敷き詰めたグラスフィルターで濾過し、ジクロロメタンで洗浄し、濾液を製造例24−8に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(300mg、0.810mmol)、トリエチルアミン(1.3mL、9.38mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(9.9mg、0.081mmol)のテトラヒドロフラン(16mL)の混合物に0℃にて加えた。室温で3時間攪拌後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を減圧濃縮し、残渣をテトラヒドロフランに溶解させ、過剰量の9.8Mメチルアミン メタノール溶液を室温にて加え、75分間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜1:3〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=9:1)で精製した。混合物分画を減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:3〜1:3〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=9:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(279mg、76%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.07 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.47 (9H, s), 2.81 (3H, d, J=4.8 Hz),3.40 (2H, q, J=6.8 Hz), 3.60-3.65 (2H, m), 3.73-3.83 (1H, m), 3.93-4.01 (2H,m), 4.15-4.20 (2H, m), 4.35 (2H, t, J=8.6 Hz), 5.44-5.54 (1H, m), 6.56 (1H, d,J=3.7 Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.9, 1.8 Hz), 7.23-7.29 (1H, m), 7.34 (1H, s), 7.42 (2H,d, J=8.4 Hz), 7.85 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.01 (1H, s),8.09 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.55 (1H, brs).
[製造例26−2]tert−ブチル 3−((メチルスルホニル)オキシ)アゼチジン−1−カルボキシレート
市販のN−BOC−3−ヒドロキシアゼチジン(4.8g、27.7mmol)のテトラヒドロフラン(100mL)溶液にメタンスルホニル クロリド(2.57mL、33.3mmol)とトリエチルアミン(11.6mL、83.1mmol)を窒素雰囲気下、室温で加えた。反応液を室温で2時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を室温で加えた後、酢酸エチルで希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜1:1)で精製することにより標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.45 (9H, s), 3.07 (3H, s), 4.03-4.18 (2H, m), 4.22-4.36 (2H,m), 5.12-5.27 (1H, m).
市販のN−BOC−3−ヒドロキシアゼチジン(4.8g、27.7mmol)のテトラヒドロフラン(100mL)溶液にメタンスルホニル クロリド(2.57mL、33.3mmol)とトリエチルアミン(11.6mL、83.1mmol)を窒素雰囲気下、室温で加えた。反応液を室温で2時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を室温で加えた後、酢酸エチルで希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜1:1)で精製することにより標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.45 (9H, s), 3.07 (3H, s), 4.03-4.18 (2H, m), 4.22-4.36 (2H,m), 5.12-5.27 (1H, m).
[製造例26−3]tert−ブチル 3−ヨードアゼチジン−1−カルボキシレート
製造例26−2に記載のtert−ブチル 3−((メチルスルホニル)オキシ)アゼチジン−1−カルボキシレート(7.72g、30.7mmol)のジメチルスルホキシド(80mL)溶液にヨウ化カリウム(51.0g、307mmol)を窒素雰囲気下、室温で加え、140℃で2時間攪拌した。反応液をジエチルエーテルと水で希釈した。水層をジエチルエーテルで抽出した。合わせた有機層をピロ亜硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜1:1)で精製することにより標記化合物(5.91g、68%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.44 (9H, s), 4.25-4.33 (2H, m), 4.42-4.51 (1H, m), 4.61-4.69(2H, m).
製造例26−2に記載のtert−ブチル 3−((メチルスルホニル)オキシ)アゼチジン−1−カルボキシレート(7.72g、30.7mmol)のジメチルスルホキシド(80mL)溶液にヨウ化カリウム(51.0g、307mmol)を窒素雰囲気下、室温で加え、140℃で2時間攪拌した。反応液をジエチルエーテルと水で希釈した。水層をジエチルエーテルで抽出した。合わせた有機層をピロ亜硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜1:1)で精製することにより標記化合物(5.91g、68%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.44 (9H, s), 4.25-4.33 (2H, m), 4.42-4.51 (1H, m), 4.61-4.69(2H, m).
[製造例26−4]tert−ブチル 3−(4−(エトキシカルボニル)フェニル)アゼチジン−1−カルボキシレート
亜鉛粉末(2.12g、32.4mmol)のテトラヒドロフラン(10mL)懸濁液に窒素雰囲気下、室温で1,2−ジブロモエタン(0.286mL、3.32mmol)を加えた。混合液を65℃で10分間攪拌した。反応液を室温まで放冷した後、クロロトリメチルシラン(0.400mL、3.13mmol)を加え、室温で30分間攪拌した。反応液に製造例26−3に記載のtert−ブチル 3−ヨードアゼチジン−1−カルボキシレート(5.91g、20.9mmol)のテトラヒドロフラン(10mL)溶液を5分間かけて加え、室温で40分間攪拌した(溶液A)。トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(382mg、0.418mmol)とトリ−2−フリルホスフィン(402mg、1.73mmol)のテトラヒドロフラン(10mL)溶液を窒素雰囲気下、室温にて15分間攪拌した後、先に調製した溶液Aを室温にて加えた。続いてエチル 4−ヨードベンゾエート(6.92g、25.1mmol)のテトラヒドロフラン(18.5mL)を窒素雰囲気下、室温で加えた。反応液を65℃で終夜攪拌した。反応液を室温まで放冷した後、セライトを用いて濾過し、酢酸エチルで洗浄した。濾液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をジクロロメタンに溶解させた後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜4:1)で精製することにより標記化合物(4.35g、68%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.40 (3H, t, J=8.0 Hz), 1.47 (9H, s), 3.71-3.84 (1H, m),3.95-4.02 (2H, m), 4.32-4.44 (4H, m), 7.34-7.42 (2H, m), 7.98-8.07 (2H, m).
亜鉛粉末(2.12g、32.4mmol)のテトラヒドロフラン(10mL)懸濁液に窒素雰囲気下、室温で1,2−ジブロモエタン(0.286mL、3.32mmol)を加えた。混合液を65℃で10分間攪拌した。反応液を室温まで放冷した後、クロロトリメチルシラン(0.400mL、3.13mmol)を加え、室温で30分間攪拌した。反応液に製造例26−3に記載のtert−ブチル 3−ヨードアゼチジン−1−カルボキシレート(5.91g、20.9mmol)のテトラヒドロフラン(10mL)溶液を5分間かけて加え、室温で40分間攪拌した(溶液A)。トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(382mg、0.418mmol)とトリ−2−フリルホスフィン(402mg、1.73mmol)のテトラヒドロフラン(10mL)溶液を窒素雰囲気下、室温にて15分間攪拌した後、先に調製した溶液Aを室温にて加えた。続いてエチル 4−ヨードベンゾエート(6.92g、25.1mmol)のテトラヒドロフラン(18.5mL)を窒素雰囲気下、室温で加えた。反応液を65℃で終夜攪拌した。反応液を室温まで放冷した後、セライトを用いて濾過し、酢酸エチルで洗浄した。濾液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をジクロロメタンに溶解させた後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜4:1)で精製することにより標記化合物(4.35g、68%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.40 (3H, t, J=8.0 Hz), 1.47 (9H, s), 3.71-3.84 (1H, m),3.95-4.02 (2H, m), 4.32-4.44 (4H, m), 7.34-7.42 (2H, m), 7.98-8.07 (2H, m).
[製造例26−5]4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)アゼチジン−3−イル)ベンゾイック アシッド
製造例26−4に記載のtert−ブチル 3−(4−(エトキシカルボニル)フェニル)アゼチジン−1−カルボキシレート(4.35g、14.2mmol)のテトラヒドロフラン(32mL)とメタノール(7mL)の溶液に25℃にて2M水酸化ナトリウム溶液(28.5mL、57.0mmol)を加えた。反応液を60℃で1時間攪拌した。反応液に2M塩酸(28.5mL)を加え、酢酸エチルで希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜1:1)で精製することにより標記化合物(3.4g、86%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.48 (9H, s), 3.71-3.88 (1H, m), 3.96-4.04 (2H, m), 4.37 (2H,t, J=8.6 Hz), 7.42 (2H, d, J=8.4 Hz), 8.09 (2H, d, J=8.3 Hz).
製造例26−4に記載のtert−ブチル 3−(4−(エトキシカルボニル)フェニル)アゼチジン−1−カルボキシレート(4.35g、14.2mmol)のテトラヒドロフラン(32mL)とメタノール(7mL)の溶液に25℃にて2M水酸化ナトリウム溶液(28.5mL、57.0mmol)を加えた。反応液を60℃で1時間攪拌した。反応液に2M塩酸(28.5mL)を加え、酢酸エチルで希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜1:1)で精製することにより標記化合物(3.4g、86%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.48 (9H, s), 3.71-3.88 (1H, m), 3.96-4.04 (2H, m), 4.37 (2H,t, J=8.6 Hz), 7.42 (2H, d, J=8.4 Hz), 8.09 (2H, d, J=8.3 Hz).
[製造例26−6]5−((2−(4−(アゼチジン−3−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例26−1に記載のtert−ブチル 3−(4−((4−((6−(2−エトキシエトキシ)−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)アゼチジン−1−カルボキシレート(279mg、0.443mmol)をジクロロメタン(8.0mL)に溶解させ、0℃でトリフルオロ酢酸(1.6mL)を加えた。室温にて40分間攪拌後、減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンとトリエチルアミンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=97:3〜4:1)で精製し、標記化合物(215mg、92%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.07 (3H, t, J=7.0 Hz), 3.05 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.40 (2H, q, J=7.0Hz), 3.61-3.65 (2H, m), 3.81 (2H, t, J=7.0 Hz), 3.93-4.09 (3H, m), 4.15-4.20(2H, m), 5.51-5.63 (1H, m), 6.53 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.9, 2.2Hz), 7.24-7.28 (1H, m), 7.33 (1H, s), 7.40 (2H, d, J=8.1 Hz), 7.82 (2H, d, J=8.1Hz), 7.91 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.01 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.5 Hz), 8.52 (1H, brs).
製造例26−1に記載のtert−ブチル 3−(4−((4−((6−(2−エトキシエトキシ)−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)アゼチジン−1−カルボキシレート(279mg、0.443mmol)をジクロロメタン(8.0mL)に溶解させ、0℃でトリフルオロ酢酸(1.6mL)を加えた。室温にて40分間攪拌後、減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンとトリエチルアミンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=97:3〜4:1)で精製し、標記化合物(215mg、92%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.07 (3H, t, J=7.0 Hz), 3.05 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.40 (2H, q, J=7.0Hz), 3.61-3.65 (2H, m), 3.81 (2H, t, J=7.0 Hz), 3.93-4.09 (3H, m), 4.15-4.20(2H, m), 5.51-5.63 (1H, m), 6.53 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.9, 2.2Hz), 7.24-7.28 (1H, m), 7.33 (1H, s), 7.40 (2H, d, J=8.1 Hz), 7.82 (2H, d, J=8.1Hz), 7.91 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.01 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.5 Hz), 8.52 (1H, brs).
[実施例27]6−(2−エトキシエトキシ)−5−((2−(4−(1−(2−ヒドロキシエチル)アゼチジン−3−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例26−6に記載の5−((2−(4−(アゼチジン−3−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(27mg、0.051mmol)のテトラヒドロフラン(2mL)溶液に室温にて市販の2−ヒドロキシアセトアルデヒド(45.9mg、0.765mmol)、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(86mg、0.408mmol)、酢酸(23μL、0.408mmol)を加え、同温で2時間攪拌した。反応液に室温にて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル)で精製することにより標記化合物(20.0mg、68%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.08 (3H, t, J=7.0 Hz), 2.68-2.76 (2H, m), 3.06 (3H, d, J=4.8Hz), 3.27-3.34 (2H, m), 3.40 (2H, q, J=7.0 Hz), 3.55-3.67 (4H, m), 3.71-3.94 (3H,m), 4.15-4.22 (2H, m), 5.53-5.65 (1H, m), 6.55 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.62 (1H, dd,J=5.9, 2.2 Hz), 7.23-7.29 (1H, m), 7.34 (1H, s), 7.38 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.83 (2H,d, J=8.1 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.6 Hz), 8.01 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.9 Hz),8.63 (1H, brs).
製造例26−6に記載の5−((2−(4−(アゼチジン−3−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(27mg、0.051mmol)のテトラヒドロフラン(2mL)溶液に室温にて市販の2−ヒドロキシアセトアルデヒド(45.9mg、0.765mmol)、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(86mg、0.408mmol)、酢酸(23μL、0.408mmol)を加え、同温で2時間攪拌した。反応液に室温にて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル)で精製することにより標記化合物(20.0mg、68%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.08 (3H, t, J=7.0 Hz), 2.68-2.76 (2H, m), 3.06 (3H, d, J=4.8Hz), 3.27-3.34 (2H, m), 3.40 (2H, q, J=7.0 Hz), 3.55-3.67 (4H, m), 3.71-3.94 (3H,m), 4.15-4.22 (2H, m), 5.53-5.65 (1H, m), 6.55 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.62 (1H, dd,J=5.9, 2.2 Hz), 7.23-7.29 (1H, m), 7.34 (1H, s), 7.38 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.83 (2H,d, J=8.1 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.6 Hz), 8.01 (1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.9 Hz),8.63 (1H, brs).
[実施例28]6−(2−エトキシエトキシ)−5−((2−(6−(1−エチルピペリジン−4−イル)ニコチンアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例28−5に記載の6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−5−((2−(6−(ピペリジン−4−イル)ニコチンアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(25mg、0.045mmol)のテトラヒドロフラン(3mL)溶液に室温にてアセトアルデヒド(38μL、0.671mmol)、酢酸(20μL、0.358mmol)、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(76mg、0.358mmol)を加え、1時間攪拌した。反応液に室温にて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル)で精製することにより標記化合物(13.6mg、52%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.07 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.13 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.78-1.93 (2H,m), 1.94-2.15 (4H, m), 2.46 (2H, q, J=7.3 Hz), 2.74-2.86 (1H, m), 3.00-3.17(5H,m), 3.40 (2H, q, J=7.1 Hz), 3.63 (2H, t, J=4.8 Hz), 4.18 (2H, t, J=4.8 Hz), 5.45-5.57(1H, m), 6.56 (1H, d, J=3.3 Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.9, 1.5 Hz), 7.20-7.39 (3H, m),7.84-7.92 (1H, m), 8.02 (1H, s), 8.05-8.15 (2H, m), 8.49 (1H, s), 8.93-9.07 (1H,m).
製造例28−5に記載の6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−5−((2−(6−(ピペリジン−4−イル)ニコチンアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(25mg、0.045mmol)のテトラヒドロフラン(3mL)溶液に室温にてアセトアルデヒド(38μL、0.671mmol)、酢酸(20μL、0.358mmol)、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(76mg、0.358mmol)を加え、1時間攪拌した。反応液に室温にて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル)で精製することにより標記化合物(13.6mg、52%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.07 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.13 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.78-1.93 (2H,m), 1.94-2.15 (4H, m), 2.46 (2H, q, J=7.3 Hz), 2.74-2.86 (1H, m), 3.00-3.17(5H,m), 3.40 (2H, q, J=7.1 Hz), 3.63 (2H, t, J=4.8 Hz), 4.18 (2H, t, J=4.8 Hz), 5.45-5.57(1H, m), 6.56 (1H, d, J=3.3 Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.9, 1.5 Hz), 7.20-7.39 (3H, m),7.84-7.92 (1H, m), 8.02 (1H, s), 8.05-8.15 (2H, m), 8.49 (1H, s), 8.93-9.07 (1H,m).
出発物質の6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−5−((2−(6−(ピペリジン−4−イル)ニコチンアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミドは以下の方法で合成した。
[製造例28−1]1’−tert−ブチル 5−メチル 5’,6’−ジヒドロ−[2,4’−ビピリジン]−1’,5(2’H)−ジカルボキシレート
市販の1−N−BOC−4−(4,4,5,5−テトラメチル−[1,3,2]ジオキサボロラン−2−イル)−3,6−ジヒドロ−2H−ピリジン(4.68g、15.1mmol)、市販のメチル 6−クロロニコチネート(2.81g、16.4mmol)、1,1’ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセンジクロロパラジウム(II)(1.17g、1.60mmol)、炭酸カリウム(7.02g、50.8mmol)にN,N−ジメチルホルムアミド(100mL)を加えた。反応液を窒素雰囲気下、100℃で2時間攪拌した。反応液を室温まで放冷した後、酢酸エチルと水で希釈した。水層を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機層を希アンモニア水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜1:1)で精製することにより標記化合物(1.07g、22%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.49 (9H, s), 2.59-2.73 (2H, m), 3.66 (2H, t, J=5.5 Hz), 3.95(3H, s), 4.17 (2H, d, J=2.9 Hz), 6.79 (1H, dt, J=3.4, 1.8 Hz), 7.44 (1H, d,J=8.4 Hz), 8.25 (1H, dd, J=8.4, 2.2 Hz), 9.15 (1H, dd, J=2.2, 0.7 Hz).
市販の1−N−BOC−4−(4,4,5,5−テトラメチル−[1,3,2]ジオキサボロラン−2−イル)−3,6−ジヒドロ−2H−ピリジン(4.68g、15.1mmol)、市販のメチル 6−クロロニコチネート(2.81g、16.4mmol)、1,1’ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセンジクロロパラジウム(II)(1.17g、1.60mmol)、炭酸カリウム(7.02g、50.8mmol)にN,N−ジメチルホルムアミド(100mL)を加えた。反応液を窒素雰囲気下、100℃で2時間攪拌した。反応液を室温まで放冷した後、酢酸エチルと水で希釈した。水層を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機層を希アンモニア水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜1:1)で精製することにより標記化合物(1.07g、22%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.49 (9H, s), 2.59-2.73 (2H, m), 3.66 (2H, t, J=5.5 Hz), 3.95(3H, s), 4.17 (2H, d, J=2.9 Hz), 6.79 (1H, dt, J=3.4, 1.8 Hz), 7.44 (1H, d,J=8.4 Hz), 8.25 (1H, dd, J=8.4, 2.2 Hz), 9.15 (1H, dd, J=2.2, 0.7 Hz).
[製造例28−2]メチル 6−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ニコチネート
製造例28−1に記載の1’−tert−ブチル 5−メチル 5’,6’−ジヒドロ−[2,4’−ビピリジン]−1’,5(2’H)−ジカルボキシレート(1.06g、3.33mmol)のエタノール(71mL)とテトラヒドロフラン(12mL)溶液に10%パラジウム−炭素(50%含水品)(213mg)を加え、水素雰囲気下、室温にて2時間攪拌した。濾過後、濾液を減圧下で濃縮し、残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜1:1)で精製することにより標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.48 (9H, s), 1.73 (2H, qd, J=12.6, 4.4 Hz), 1.88-1.97 (2H, m),2.76-2.98 (3H, m), 3.94 (3H, s), 4.27 (2H, brs), 7.22-7.26 (1H, m), 8.23 (1H, dd,J=8.4, 2.2 Hz), 9.09-9.18 (1H, m).
製造例28−1に記載の1’−tert−ブチル 5−メチル 5’,6’−ジヒドロ−[2,4’−ビピリジン]−1’,5(2’H)−ジカルボキシレート(1.06g、3.33mmol)のエタノール(71mL)とテトラヒドロフラン(12mL)溶液に10%パラジウム−炭素(50%含水品)(213mg)を加え、水素雰囲気下、室温にて2時間攪拌した。濾過後、濾液を減圧下で濃縮し、残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜1:1)で精製することにより標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.48 (9H, s), 1.73 (2H, qd, J=12.6, 4.4 Hz), 1.88-1.97 (2H, m),2.76-2.98 (3H, m), 3.94 (3H, s), 4.27 (2H, brs), 7.22-7.26 (1H, m), 8.23 (1H, dd,J=8.4, 2.2 Hz), 9.09-9.18 (1H, m).
[製造例28−3]6−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ニコチニック アシッド
製造例28−2に記載のメチル 6−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ニコチネート(1.07g、3.32mmol)のエタノール(5mL)溶液に2M水酸化ナトリウム溶液(20mL)を加え、1時間攪拌した。反応液に0℃で2M塩酸を加えた。水層を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮することにより標記化合物(534mg、52%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 1.42 (9H, s), 1.58 (2H, qd, J=12.6, 4.4 Hz), 1.77-1.89 (2H, m),2.67-3.04 (3H, m), 3.95-4.17 (2H, m), 7.40 (1H, d, J=7.7 Hz), 8.16 (1H, dd,J=8.1, 2.2 Hz), 8.97 (1H, dd, J=2.2, 0.7 Hz).
製造例28−2に記載のメチル 6−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ニコチネート(1.07g、3.32mmol)のエタノール(5mL)溶液に2M水酸化ナトリウム溶液(20mL)を加え、1時間攪拌した。反応液に0℃で2M塩酸を加えた。水層を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮することにより標記化合物(534mg、52%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 1.42 (9H, s), 1.58 (2H, qd, J=12.6, 4.4 Hz), 1.77-1.89 (2H, m),2.67-3.04 (3H, m), 3.95-4.17 (2H, m), 7.40 (1H, d, J=7.7 Hz), 8.16 (1H, dd,J=8.1, 2.2 Hz), 8.97 (1H, dd, J=2.2, 0.7 Hz).
[製造例28−4]tert−ブチル 4−(5−((4−((6−(2−エトキシエトキシ)−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)ピリジン−2−イル)ピペリジン−1−カルボキシレート
製造例28−3に記載の6−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ニコチニック アシッド(80mg、0.216mmol)のジクロロメタン(2mL)溶液に、0℃で塩化オキサリル(74μL、0.864mmol)と1滴のN,N−ジメチルホルムアミドを加え30分間攪拌した。反応液を減圧下濃縮した。残渣をテトラヒドロフラン(2mL)に溶解させた後、トリエチルアミン(301μL、2.16mmol)と製造例24−8に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(80mg、0.216mmol)を加え、5時間攪拌した。反応液に過剰量のメチルアミンを加えた後、水と酢酸エチルで希釈し分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1)で精製することにより標記化合物(80mg、56%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.04 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.45 (9H, s), 1.68 (2H, qd, J=12.6,4.4 Hz), 1.83-1.93 (2H, m), 2.69-2.92 (3H, m), 2.96 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.37 (2H,q, J=7.0 Hz), 3.56-3.63 (2H, m), 4.11-4.15 (2H, m), 4.21 (2H, brs), 6.10-6.20 (1H,m), 6.44 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.58 (1H, dd, J=5.7, 2.4 Hz), 7.21 (1H, d, J=7.7Hz), 7.24-7.31 (2H, m), 7.86 (1H, d, J=2.2 Hz), 7.95 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.02 (1H,s), 8.07 (1H, dd, J=8.2, 2.4 Hz), 8.96-9.02 (1H, m), 9.20 (1H, brs).
製造例28−3に記載の6−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ニコチニック アシッド(80mg、0.216mmol)のジクロロメタン(2mL)溶液に、0℃で塩化オキサリル(74μL、0.864mmol)と1滴のN,N−ジメチルホルムアミドを加え30分間攪拌した。反応液を減圧下濃縮した。残渣をテトラヒドロフラン(2mL)に溶解させた後、トリエチルアミン(301μL、2.16mmol)と製造例24−8に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(80mg、0.216mmol)を加え、5時間攪拌した。反応液に過剰量のメチルアミンを加えた後、水と酢酸エチルで希釈し分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1)で精製することにより標記化合物(80mg、56%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.04 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.45 (9H, s), 1.68 (2H, qd, J=12.6,4.4 Hz), 1.83-1.93 (2H, m), 2.69-2.92 (3H, m), 2.96 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.37 (2H,q, J=7.0 Hz), 3.56-3.63 (2H, m), 4.11-4.15 (2H, m), 4.21 (2H, brs), 6.10-6.20 (1H,m), 6.44 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.58 (1H, dd, J=5.7, 2.4 Hz), 7.21 (1H, d, J=7.7Hz), 7.24-7.31 (2H, m), 7.86 (1H, d, J=2.2 Hz), 7.95 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.02 (1H,s), 8.07 (1H, dd, J=8.2, 2.4 Hz), 8.96-9.02 (1H, m), 9.20 (1H, brs).
[製造例28−5]6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチルー5−((2−(6−(ピペリジン−4−イル)ニコチンアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例28−4に記載のtert−ブチル 4−(5−((4−((6−(2−エトキシエトキシ)−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)ピリジン−2−イル)ピペリジン−1−カルボキシレート(80mg、0.121mmol)のジクロロメタン(3mL)溶液に室温でトリフルオロ酢酸(374μL、4.86mmol)を加え、1.5時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮した。残渣をジクロロメタンに溶解させた後、トリエチルアミンを加えることによりトリフルオロ酢酸を中和した。溶液を減圧下で濃縮した後、残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=49:1〜17:3)で精製することにより標記化合物(51.3mg、76%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.07 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.72 (2H, qd, J=12.4, 4.0 Hz),1.87-1.97 (2H, m), 2.76 (2H, td, J=12.3, 2.6 Hz), 2.84-2.95 (1H, m), 2.99 (3H, d,J=4.4 Hz), 3.16-3.28 (2H, m), 3.40 (2H, q, J=7.1 Hz), 3.59-3.68 (2H, m),4.14-4.20 (2H, m), 6.04-6.17 (1H, m), 6.48 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.62 (1H, dd,J=5.7, 2.4 Hz), 7.23-7.29 (2H, m), 7.31 (1H, s), 7.88 (1H, d, J=2.2 Hz),7.98-8.05 (2H, m), 8.10 (1H, dd, J=8.2, 2.4 Hz), 9.02 (1H, dd, J=2.6, 0.7 Hz).
製造例28−4に記載のtert−ブチル 4−(5−((4−((6−(2−エトキシエトキシ)−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)ピリジン−2−イル)ピペリジン−1−カルボキシレート(80mg、0.121mmol)のジクロロメタン(3mL)溶液に室温でトリフルオロ酢酸(374μL、4.86mmol)を加え、1.5時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮した。残渣をジクロロメタンに溶解させた後、トリエチルアミンを加えることによりトリフルオロ酢酸を中和した。溶液を減圧下で濃縮した後、残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=49:1〜17:3)で精製することにより標記化合物(51.3mg、76%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.07 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.72 (2H, qd, J=12.4, 4.0 Hz),1.87-1.97 (2H, m), 2.76 (2H, td, J=12.3, 2.6 Hz), 2.84-2.95 (1H, m), 2.99 (3H, d,J=4.4 Hz), 3.16-3.28 (2H, m), 3.40 (2H, q, J=7.1 Hz), 3.59-3.68 (2H, m),4.14-4.20 (2H, m), 6.04-6.17 (1H, m), 6.48 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.62 (1H, dd,J=5.7, 2.4 Hz), 7.23-7.29 (2H, m), 7.31 (1H, s), 7.88 (1H, d, J=2.2 Hz),7.98-8.05 (2H, m), 8.10 (1H, dd, J=8.2, 2.4 Hz), 9.02 (1H, dd, J=2.6, 0.7 Hz).
[実施例29](S)−6−(2−エトキシエトキシ)−5−((2−(4−((2−ヒドロキシメチル)ピロリジン−1−イル)メチル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例29−1に記載の5−((2−(4−(クロロメチル)−N−(4−(クロロメチル)ベンゾイル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(19.6mg、0.029mmol)とN,N−ジメチルホルムアミド(500μL)の混合物に、室温にて市販のL−プロリノール(31.3mg、0.309mmol)を加え、窒素雰囲気下、17.5時間攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製し、生成物をジエチルエーテルで濾取洗浄し、標記化合物(13.3mg、78%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.08 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.65-1.99 (5H, m), 2.23-2.32 (1H, m),2.71-2.79 (1H, m), 2.92-2.99 (1H, m), 3.06 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.37-3.48 (4H,m), 3.61-3.69 (3H, m), 4.03 (1H, d, J=13.5 Hz), 4.16-4.20 (2H, m), 5.48-5.56 (1H,m), 6.55 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.9, 2.6 Hz), 7.24-7.28 (1H, m), 7.34(1H, s), 7.41 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.79-7.84 (2H, m), 7.91 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.01(1H, s), 8.10 (1H, d, J=5.5 Hz), 8.50 (1H, brs).
製造例29−1に記載の5−((2−(4−(クロロメチル)−N−(4−(クロロメチル)ベンゾイル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(19.6mg、0.029mmol)とN,N−ジメチルホルムアミド(500μL)の混合物に、室温にて市販のL−プロリノール(31.3mg、0.309mmol)を加え、窒素雰囲気下、17.5時間攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製し、生成物をジエチルエーテルで濾取洗浄し、標記化合物(13.3mg、78%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.08 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.65-1.99 (5H, m), 2.23-2.32 (1H, m),2.71-2.79 (1H, m), 2.92-2.99 (1H, m), 3.06 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.37-3.48 (4H,m), 3.61-3.69 (3H, m), 4.03 (1H, d, J=13.5 Hz), 4.16-4.20 (2H, m), 5.48-5.56 (1H,m), 6.55 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.9, 2.6 Hz), 7.24-7.28 (1H, m), 7.34(1H, s), 7.41 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.79-7.84 (2H, m), 7.91 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.01(1H, s), 8.10 (1H, d, J=5.5 Hz), 8.50 (1H, brs).
出発物質の5−((2−(4−(クロロメチル)−N−(4−(クロロメチル)ベンゾイル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドは以下の方法で合成した。
[製造例29−1]5−((2−(4−(クロロメチル)−N−(4−(クロロメチル)ベンゾイル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例24−8に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(107mg、0.289mmol)とテトラヒドロフラン(8.0mL)の混合物に、窒素雰囲気下、0℃でトリエチルアミン(300μL、2.16mmol)と市販の4−(クロロメチル)ベンゾイル クロリド(221mg、1.17mmol)を加えた。室温で1時間攪拌後、反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、NHシリカゲルを用いて濾過した。濾液を減圧濃縮して標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.11 (3H, t, J=7.0 Hz), 3.06 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.43 (2H, q, J=7.0Hz), 3.56-3.60 (2H, m), 4.08-4.12 (2H, m), 4.56 (4H, s), 5.41-5.49 (1H, m), 6.55(1H, d, J=3.7 Hz), 6.67 (1H, d, J=2.2 Hz), 6.71 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 7.24(1H, s), 7.25-7.28 (1H, m), 7.34-7.39 (4H, m), 7.69-7.75 (4H, m), 7.98 (1H, s),8.17 (1H, d, J=5.9 Hz).
製造例24−8に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(107mg、0.289mmol)とテトラヒドロフラン(8.0mL)の混合物に、窒素雰囲気下、0℃でトリエチルアミン(300μL、2.16mmol)と市販の4−(クロロメチル)ベンゾイル クロリド(221mg、1.17mmol)を加えた。室温で1時間攪拌後、反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、NHシリカゲルを用いて濾過した。濾液を減圧濃縮して標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.11 (3H, t, J=7.0 Hz), 3.06 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.43 (2H, q, J=7.0Hz), 3.56-3.60 (2H, m), 4.08-4.12 (2H, m), 4.56 (4H, s), 5.41-5.49 (1H, m), 6.55(1H, d, J=3.7 Hz), 6.67 (1H, d, J=2.2 Hz), 6.71 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 7.24(1H, s), 7.25-7.28 (1H, m), 7.34-7.39 (4H, m), 7.69-7.75 (4H, m), 7.98 (1H, s),8.17 (1H, d, J=5.9 Hz).
[実施例30]5−((2−(4−(((3S,5R)−3,5−ジメチルピペラジン−1−イル)メチル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例29−1に記載の5−((2−(4−(クロロメチル)−N−(4−(クロロメチル)ベンゾイル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(21.1mg、0.031mmol)とN,N−ジメチルホルムアミド(500μL)の混合物に、室温にて市販のcis−2,6−ジメチルピペラジン(32.5mg、0.285mmol)を加え、窒素雰囲気下、13時間20分攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製し、生成物をジエチルエーテルで濾取洗浄し、標記化合物(14.4mg、77%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.02 (6H, d, J=6.2 Hz), 1.07 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.63 (2H, t, J=10.6Hz), 2.69-2.76 (2H, m), 2.89-2.99 (2H, m), 3.07 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.40 (2H, q,J=7.0 Hz), 3.52 (2H, s), 3.61-3.65 (2H, m), 4.16-4.20 (2H, m), 5.45-5.52 (1H, m),6.55 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 7.25-7.27 (1H, m), 7.34(1H, s), 7.43 (2H, d, J=8.1 Hz), 7.79-7.83 (2H, m), 7.92 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.01(1H, s), 8.10 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.47 (1H, brs).
製造例29−1に記載の5−((2−(4−(クロロメチル)−N−(4−(クロロメチル)ベンゾイル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(21.1mg、0.031mmol)とN,N−ジメチルホルムアミド(500μL)の混合物に、室温にて市販のcis−2,6−ジメチルピペラジン(32.5mg、0.285mmol)を加え、窒素雰囲気下、13時間20分攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製し、生成物をジエチルエーテルで濾取洗浄し、標記化合物(14.4mg、77%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.02 (6H, d, J=6.2 Hz), 1.07 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.63 (2H, t, J=10.6Hz), 2.69-2.76 (2H, m), 2.89-2.99 (2H, m), 3.07 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.40 (2H, q,J=7.0 Hz), 3.52 (2H, s), 3.61-3.65 (2H, m), 4.16-4.20 (2H, m), 5.45-5.52 (1H, m),6.55 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 7.25-7.27 (1H, m), 7.34(1H, s), 7.43 (2H, d, J=8.1 Hz), 7.79-7.83 (2H, m), 7.92 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.01(1H, s), 8.10 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.47 (1H, brs).
[実施例31](R)−6−(2−エトキシエトキシ)−5−((2−(5−((3−ヒドロキシピロリジン−1−イル)メチル)チオフェン−2−カルボキサミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例31−1に記載の5−(ヒドロキシメチル)チオフェン−2−カルボキシリック アシッド(120mg、0.759mmol)に塩化チオニル(2.8mL、38.4mmol)とN,N−ジメチルホルムアミド(5.87μL、0.076mmol)を加え、90℃で2時間加熱攪拌した。反応混合物を減圧留去し、粗生成物A(148mg)を得た。
製造例24−8に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(51.1mg、0.138mmol)とテトラヒドロフラン(1.4mL)の混合物に、窒素雰囲気下、0℃でトリエチルアミン(191μL、1.38mmol)と粗生成物Aの一部(74.0mg、0.379mmol)のテトラヒドロフラン溶液(1.0mL)を加えた。室温で170分間攪拌後、反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、NHシリカゲルを用いて濾過し、減圧濃縮して粗生成物B(86.7mg)を得た。
粗生成物Bの一部(17.3mg)をN,N−ジメチルホルムアミド(1.0mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温で市販の(R)−3−ヒドロキシピロリジン(24.4mg、0.28mmol)を加え、17時間攪拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製し、生成物をn−ヘキサンで濾取洗浄し、標記化合物(9.0mg、56%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.07 (3H, t, J=6.8 Hz), 1.71-1.81 (1H, m), 2.13-2.24 (1H, m),2.34-2.43 (1H, m), 2.57-2.64 (1H, m), 2.69-2.76 (1H, m), 2.87-2.97 (1H, m),3.06 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.39 (2H, q, J=7.3 Hz), 3.59-3.64 (2H, m), 3.84 (2H,s), 4.14-4.19 (2H, m), 4.31-4.37 (1H, m), 5.48-5.55 (1H, m), 6.54 (1H, d, J=3.7Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.9, 2.4 Hz), 6.91 (1H, d, J=3.5 Hz), 7.24-7.28 (1H, m), 7.32(1H, s), 7.47 (1H, d, J=3.9 Hz), 7.78-7.82 (1H, m), 7.99 (1H, s), 8.08 (1H, d, J=5.7Hz), 8.34 (1H, brs).
製造例31−1に記載の5−(ヒドロキシメチル)チオフェン−2−カルボキシリック アシッド(120mg、0.759mmol)に塩化チオニル(2.8mL、38.4mmol)とN,N−ジメチルホルムアミド(5.87μL、0.076mmol)を加え、90℃で2時間加熱攪拌した。反応混合物を減圧留去し、粗生成物A(148mg)を得た。
製造例24−8に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(51.1mg、0.138mmol)とテトラヒドロフラン(1.4mL)の混合物に、窒素雰囲気下、0℃でトリエチルアミン(191μL、1.38mmol)と粗生成物Aの一部(74.0mg、0.379mmol)のテトラヒドロフラン溶液(1.0mL)を加えた。室温で170分間攪拌後、反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、NHシリカゲルを用いて濾過し、減圧濃縮して粗生成物B(86.7mg)を得た。
粗生成物Bの一部(17.3mg)をN,N−ジメチルホルムアミド(1.0mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温で市販の(R)−3−ヒドロキシピロリジン(24.4mg、0.28mmol)を加え、17時間攪拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加え分配し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製し、生成物をn−ヘキサンで濾取洗浄し、標記化合物(9.0mg、56%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.07 (3H, t, J=6.8 Hz), 1.71-1.81 (1H, m), 2.13-2.24 (1H, m),2.34-2.43 (1H, m), 2.57-2.64 (1H, m), 2.69-2.76 (1H, m), 2.87-2.97 (1H, m),3.06 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.39 (2H, q, J=7.3 Hz), 3.59-3.64 (2H, m), 3.84 (2H,s), 4.14-4.19 (2H, m), 4.31-4.37 (1H, m), 5.48-5.55 (1H, m), 6.54 (1H, d, J=3.7Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.9, 2.4 Hz), 6.91 (1H, d, J=3.5 Hz), 7.24-7.28 (1H, m), 7.32(1H, s), 7.47 (1H, d, J=3.9 Hz), 7.78-7.82 (1H, m), 7.99 (1H, s), 8.08 (1H, d, J=5.7Hz), 8.34 (1H, brs).
[製造例31−1]5−(ヒドロキシメチル)チオフェン−2−カルボキシリック アシッド
市販の5−ホルミル−2−チオフェンカルボキシリック アシッド(599mg、3.84mmol)のメタノール(19mL)溶液に水素化ほう素ナトリウム(218mg、5.76mmol)を加え、窒素雰囲気下、室温にて4時間30分攪拌した。反応混合物にアセトンを加え減圧濃縮した。残渣に2M塩酸と酢酸エチルを加え分配し、水層を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機層を水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、析出物をジエチルエーテルとn−ヘキサンで洗浄することにより標記化合物(529mg、87%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 4.61-4.74 (2H, m), 5.65-72 (1H, m), 6.97-7.7.03 (1H, m), 7.55-7.62(1H, m), 12.92 (1H, brs).
市販の5−ホルミル−2−チオフェンカルボキシリック アシッド(599mg、3.84mmol)のメタノール(19mL)溶液に水素化ほう素ナトリウム(218mg、5.76mmol)を加え、窒素雰囲気下、室温にて4時間30分攪拌した。反応混合物にアセトンを加え減圧濃縮した。残渣に2M塩酸と酢酸エチルを加え分配し、水層を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機層を水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、析出物をジエチルエーテルとn−ヘキサンで洗浄することにより標記化合物(529mg、87%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 4.61-4.74 (2H, m), 5.65-72 (1H, m), 6.97-7.7.03 (1H, m), 7.55-7.62(1H, m), 12.92 (1H, brs).
[実施例32]6−(3−メトキシプロポキシ)−N−メチル−5−((2−(4−(1−メチルアゼチジン−3−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例32−10に記載の5−((2−(4−(アゼチジン−3−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(3−メトキシプロポキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(15mg、0.028mmol)のテトラヒドロフラン(2mL)溶液に、室温にてホルムアルデヒド(12μL、0.425mmol)、酢酸(13μL、0.227mmol)、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(48.0mg、0.227mmol)を加えた。反応液を室温で1時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを室温にて加えた。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル)で精製することにより標記化合物(8.8mg、57%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 1.76 (2H, t, J=6.4 Hz), 2.25 (3H, s), 2.85 (3H, d, J=4.4 Hz),3.02-3.13 (7H, m), 3.54-3.65 (3H, m), 3.99 (2H, t, J=6.2 Hz), 6.64 (1H, d, J=3.3Hz), 6.69 (1H, dd, J=5.9, 2.6 Hz), 7.42 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.46 (1H, s), 7.69 (1H,d, J=2.6 Hz), 7.77 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.92 (2H, d, J=8.4 Hz), 8.06 (1H, s), 8.14-8.19(1H, m), 8.21 (1H, d, J=5.9 Hz), 10.70 (1H, s).
製造例32−10に記載の5−((2−(4−(アゼチジン−3−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(3−メトキシプロポキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(15mg、0.028mmol)のテトラヒドロフラン(2mL)溶液に、室温にてホルムアルデヒド(12μL、0.425mmol)、酢酸(13μL、0.227mmol)、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(48.0mg、0.227mmol)を加えた。反応液を室温で1時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを室温にて加えた。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル)で精製することにより標記化合物(8.8mg、57%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 1.76 (2H, t, J=6.4 Hz), 2.25 (3H, s), 2.85 (3H, d, J=4.4 Hz),3.02-3.13 (7H, m), 3.54-3.65 (3H, m), 3.99 (2H, t, J=6.2 Hz), 6.64 (1H, d, J=3.3Hz), 6.69 (1H, dd, J=5.9, 2.6 Hz), 7.42 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.46 (1H, s), 7.69 (1H,d, J=2.6 Hz), 7.77 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.92 (2H, d, J=8.4 Hz), 8.06 (1H, s), 8.14-8.19(1H, m), 8.21 (1H, d, J=5.9 Hz), 10.70 (1H, s).
出発物質の5−((2−(4−(アゼチジン−3−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(3−メトキシプロポキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドは以下の方法で合成した。
[製造例32−1]3−ヒドロキシ−4−(3−メトキシプロポキシ)ベンズアルデヒド
市販の3,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド(21.7g、157mmol)と炭酸ナトリウム(25.0g、236mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(50mL)溶液に市販の1−ブロモ−3−メトキシプロパン(24.0g、157mmol)を窒素雰囲気下、室温にて加えた。反応液を室温で3日と4時間攪拌した。反応液に0℃で2M塩酸、酢酸エチル、水を加えた。水層を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別後、濾液を減圧下で濃縮した。不溶物をジクロロメタンを用いて濾別し、濾液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=17:3〜1:1)で精製することにより標記化合物(17.2g、52%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.07-2.18 (2H, m), 3.38 (3H, s), 3.59 (2H, t, J=5.9 Hz), 4.26(2H, t, J=6.2 Hz), 6.21 (1H, s), 7.00 (1H, d, J=8.1 Hz), 7.35-7.48 (2H, m),9.85 (1H, s).
市販の3,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド(21.7g、157mmol)と炭酸ナトリウム(25.0g、236mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(50mL)溶液に市販の1−ブロモ−3−メトキシプロパン(24.0g、157mmol)を窒素雰囲気下、室温にて加えた。反応液を室温で3日と4時間攪拌した。反応液に0℃で2M塩酸、酢酸エチル、水を加えた。水層を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別後、濾液を減圧下で濃縮した。不溶物をジクロロメタンを用いて濾別し、濾液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=17:3〜1:1)で精製することにより標記化合物(17.2g、52%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.07-2.18 (2H, m), 3.38 (3H, s), 3.59 (2H, t, J=5.9 Hz), 4.26(2H, t, J=6.2 Hz), 6.21 (1H, s), 7.00 (1H, d, J=8.1 Hz), 7.35-7.48 (2H, m),9.85 (1H, s).
[製造例32−2]3−(ベンジルオキシ)−4−(3−メトキシプロポキシ)ベンズアルデヒド
製造例32−1に記載の3−ヒドロキシ−4−(3−メトキシプロポキシ)ベンズアルデヒド(17.2g、81.7mmol)のエタノール(200mL)溶液に炭酸カリウム(14.7g、106mmol)と塩化ベンジル(12.2mL、106mmol)を窒素雰囲気下、室温にて加え、90℃の加熱条件下で2時間攪拌した。反応液を0℃に冷却し、2M塩酸、酢酸エチル、水で希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜3:7)で精製することにより標記化合物(19.8g、81%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.10-2.20 (2H, m), 3.35 (3H, d, J=0.7 Hz), 3.59 (2H, t, J=6.0Hz), 4.21 (2H, t, J=6.4 Hz), 5.18 (2H, s), 6.95-7.09 (1H, m), 7.28-7.50 (7H, m),9.76-9.87 (1H, m).
製造例32−1に記載の3−ヒドロキシ−4−(3−メトキシプロポキシ)ベンズアルデヒド(17.2g、81.7mmol)のエタノール(200mL)溶液に炭酸カリウム(14.7g、106mmol)と塩化ベンジル(12.2mL、106mmol)を窒素雰囲気下、室温にて加え、90℃の加熱条件下で2時間攪拌した。反応液を0℃に冷却し、2M塩酸、酢酸エチル、水で希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜3:7)で精製することにより標記化合物(19.8g、81%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.10-2.20 (2H, m), 3.35 (3H, d, J=0.7 Hz), 3.59 (2H, t, J=6.0Hz), 4.21 (2H, t, J=6.4 Hz), 5.18 (2H, s), 6.95-7.09 (1H, m), 7.28-7.50 (7H, m),9.76-9.87 (1H, m).
[製造例32−3](E)−2−(ベンジルオキシ)−1−(3−メトキシプロポキシ)−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン
製造例32−2に記載の3−(ベンジルオキシ)−4−(3−メトキシプロポキシ)ベンズアルデヒド(19.8g、65.9mmol)の酢酸(52.8mL)溶液に酢酸アンモニウム(6.10g、79.1mmol)およびニトロメタン(8.93mL、165mmol)を窒素雰囲気下、室温で加えた。混合液を130℃で加熱条件下で2時間攪拌した。反応液を室温まで放冷した後、析出物を濾取し、エタノールで洗浄することにより標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.07-2.17 (2H, m), 3.35 (3H, s), 3.59 (2H, t, J=6.0 Hz), 4.19(2H, t, J=6.4 Hz), 5.16 (2H, s), 6.96 (1H, d, J=8.4 Hz), 7.05 (1H, d, J=1.8 Hz),7.16 (1H, dd, J=8.4, 1.8 Hz), 7.29-7.47 (6H, m), 7.91 (1H, d, J=13.5 Hz).
製造例32−2に記載の3−(ベンジルオキシ)−4−(3−メトキシプロポキシ)ベンズアルデヒド(19.8g、65.9mmol)の酢酸(52.8mL)溶液に酢酸アンモニウム(6.10g、79.1mmol)およびニトロメタン(8.93mL、165mmol)を窒素雰囲気下、室温で加えた。混合液を130℃で加熱条件下で2時間攪拌した。反応液を室温まで放冷した後、析出物を濾取し、エタノールで洗浄することにより標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.07-2.17 (2H, m), 3.35 (3H, s), 3.59 (2H, t, J=6.0 Hz), 4.19(2H, t, J=6.4 Hz), 5.16 (2H, s), 6.96 (1H, d, J=8.4 Hz), 7.05 (1H, d, J=1.8 Hz),7.16 (1H, dd, J=8.4, 1.8 Hz), 7.29-7.47 (6H, m), 7.91 (1H, d, J=13.5 Hz).
[製造例32−4](E)−1−(ベンジルオキシ)−2−(3−メトキシプロポキシ)−4−ニトロ−5−(2−ニトロビニル)ベンゼン
製造例32−3に記載の(E)−2−(ベンジルオキシ)−1−(3−メトキシプロポキシ)−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン(22.6g、65.9mmol)の酢酸(150mL)混合液に室温にて69%硝酸(16mL、249mmol)を加えた。混合液を室温にて6時間攪拌した。反応液を氷浴に加えた後、析出物を濾取し、水で洗浄することにより標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.10-2.13 (2H, m), 3.36 (3H, s), 3.59 (2H,t, J=5.9 Hz), 4.25 (2H,t, J=6.4 Hz), 5.27 (2H, s), 6.93 (1H, s), 7.24 (1H, d, J=13.6 Hz), 7.34-7.46 (5H,m), 7.78 (1H, s), 8.52-8.62 (1H, m).
製造例32−3に記載の(E)−2−(ベンジルオキシ)−1−(3−メトキシプロポキシ)−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン(22.6g、65.9mmol)の酢酸(150mL)混合液に室温にて69%硝酸(16mL、249mmol)を加えた。混合液を室温にて6時間攪拌した。反応液を氷浴に加えた後、析出物を濾取し、水で洗浄することにより標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.10-2.13 (2H, m), 3.36 (3H, s), 3.59 (2H,t, J=5.9 Hz), 4.25 (2H,t, J=6.4 Hz), 5.27 (2H, s), 6.93 (1H, s), 7.24 (1H, d, J=13.6 Hz), 7.34-7.46 (5H,m), 7.78 (1H, s), 8.52-8.62 (1H, m).
[製造例32−5]6−(3−メトキシプロポキシ)−1H−インドール−5−オール
製造例32−4に記載の(E)−1−(ベンジルオキシ)−2−(3−メトキシプロポキシ)−4−ニトロ−5−(2−ニトロビニル)ベンゼン(19.6g、50.5mmol)のメタノール(300mL)溶液に室温にて10%パラジウム−炭素(50%含水品)(8g)を加えた。混合液を水素雰囲気下、室温にて6時間攪拌した。反応液をセライト濾過した後、濾液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:1〜1:1)で精製することにより標記化合物(3.81g、34%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.05-2.13 (2H, m), 3.40 (3H, s), 3.61 (2H, t, J=6.0 Hz), 4.16(2H, t, J=6.0 Hz), 5.97-6.05 (1H, m), 6.36-6.46 (1H, m), 6.92 (1H, s), 7.08 (1H,t, J=2.8 Hz), 7.14 (1H, s), 7.26 (1H, s), 7.82-8.06 (1H, m).
製造例32−4に記載の(E)−1−(ベンジルオキシ)−2−(3−メトキシプロポキシ)−4−ニトロ−5−(2−ニトロビニル)ベンゼン(19.6g、50.5mmol)のメタノール(300mL)溶液に室温にて10%パラジウム−炭素(50%含水品)(8g)を加えた。混合液を水素雰囲気下、室温にて6時間攪拌した。反応液をセライト濾過した後、濾液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:1〜1:1)で精製することにより標記化合物(3.81g、34%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.05-2.13 (2H, m), 3.40 (3H, s), 3.61 (2H, t, J=6.0 Hz), 4.16(2H, t, J=6.0 Hz), 5.97-6.05 (1H, m), 6.36-6.46 (1H, m), 6.92 (1H, s), 7.08 (1H,t, J=2.8 Hz), 7.14 (1H, s), 7.26 (1H, s), 7.82-8.06 (1H, m).
[製造例32−6]N−(4−((6−(3−メトキシプロポキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)アセトアミド
製造例32−5に記載の6−(3−メトキシプロポキシ)−1H−インドール−5−オール(3.81g、17.2mmol)、製造例1−5に記載のN−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミド(3.23g、18.9mmol)、カリウム tert−ブトキシド(2.12g、18.9mmol)の混合物にジメチルスルホキシド(25mL)を窒素雰囲気下、室温で加えた。混合液を150℃で14時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、酢酸エチルと水を加えた。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=49:1)で精製することにより標記化合物を(2.83g、46%)得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.85-1.91 (2H, m), 2.13 (3H, s), 3.20 (3H, s), 3.24 (2H, t,J=6.2 Hz), 4.02 (2H, t, J=6.2 Hz), 6.44-6.49 (1H, m), 6.51-6.56 (1H, m), 6.95-7.02(1H, m), 7.10-7.18 (1H, m), 7.31-7.38 (1H, m), 7.71-7.82 (1H, m), 7.97-8.06 (1H,m), 8.20-8.30 (1H, m), 8.36-8.52 (1H, m).
製造例32−5に記載の6−(3−メトキシプロポキシ)−1H−インドール−5−オール(3.81g、17.2mmol)、製造例1−5に記載のN−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミド(3.23g、18.9mmol)、カリウム tert−ブトキシド(2.12g、18.9mmol)の混合物にジメチルスルホキシド(25mL)を窒素雰囲気下、室温で加えた。混合液を150℃で14時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、酢酸エチルと水を加えた。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=49:1)で精製することにより標記化合物を(2.83g、46%)得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.85-1.91 (2H, m), 2.13 (3H, s), 3.20 (3H, s), 3.24 (2H, t,J=6.2 Hz), 4.02 (2H, t, J=6.2 Hz), 6.44-6.49 (1H, m), 6.51-6.56 (1H, m), 6.95-7.02(1H, m), 7.10-7.18 (1H, m), 7.31-7.38 (1H, m), 7.71-7.82 (1H, m), 7.97-8.06 (1H,m), 8.20-8.30 (1H, m), 8.36-8.52 (1H, m).
[製造例32−7]4−((6−(3−メトキシプロポキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン
製造例32−6に記載のN−(4−((6−(3−メトキシプロポキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)アセトアミド(2.8g、7.88mmol)のメタノール(30mL)溶液に窒素雰囲気下、室温にて2M水酸化ナトリウム溶液(30mL)を加えた。混合液を75℃加熱還流条件下で2時間攪拌した。反応液を室温まで放冷した後、酢酸エチルと水を加えた。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:9〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=49:1)で精製することにより標記化合物(2.24g、91%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.75-1.92 (2H, m), 3.23 (3H, s), 3.28 (2H, t, J=6.0 Hz), 4.03(2H, t, J=6.0 Hz), 4.30 (2H, s), 5.89 (1H, d, J=2.2 Hz), 6.29 (1H, dd, J=5.9,2.2 Hz), 6.46-6.53 (1H, m), 7.01 (1H, s), 7.16 (1H, dd, J=3.3, 2.6 Hz), 7.35 (1H,s), 7.88 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.14-8.26 (1H, m).
製造例32−6に記載のN−(4−((6−(3−メトキシプロポキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)アセトアミド(2.8g、7.88mmol)のメタノール(30mL)溶液に窒素雰囲気下、室温にて2M水酸化ナトリウム溶液(30mL)を加えた。混合液を75℃加熱還流条件下で2時間攪拌した。反応液を室温まで放冷した後、酢酸エチルと水を加えた。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:9〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=49:1)で精製することにより標記化合物(2.24g、91%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.75-1.92 (2H, m), 3.23 (3H, s), 3.28 (2H, t, J=6.0 Hz), 4.03(2H, t, J=6.0 Hz), 4.30 (2H, s), 5.89 (1H, d, J=2.2 Hz), 6.29 (1H, dd, J=5.9,2.2 Hz), 6.46-6.53 (1H, m), 7.01 (1H, s), 7.16 (1H, dd, J=3.3, 2.6 Hz), 7.35 (1H,s), 7.88 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.14-8.26 (1H, m).
[製造例32−8]5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(3−メトキシプロポキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例32−7に記載の4−((6−(3−メトキシプロポキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン(2.23g、7.12mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(30mL)溶液に窒素雰囲気下、0℃で50−72%水素化ナトリウム 油状(308mg)を加えた。反応液を10分間攪拌した後、製造例1−7に記載のフェニル メチルカーバメート(1.40g、9.25mmol)を加え、同温でさらに30分間攪拌した。反応液に水と酢酸エチルを加えた。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜0:1)で精製することにより標記化合物(2.44g、93%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 1.73-1.86 (2H, m), 2.81-2.87 (3H, m), 3.12 (3H, d, J=1.8 Hz),3.16-3.24 (2H, m), 3.98 (2H, t, J=5.7 Hz), 5.62-5.71 (1H, m), 5.78 (2H, s),6.06-6.15 (1H, m), 6.61 (1H, dd, J=3.5, 1.7 Hz), 7.36 (1H, d, J=1.8 Hz),7.71-7.78 (2H, m), 7.98-8.04 (1H, m), 8.10-8.22 (1H, m).
製造例32−7に記載の4−((6−(3−メトキシプロポキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン(2.23g、7.12mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(30mL)溶液に窒素雰囲気下、0℃で50−72%水素化ナトリウム 油状(308mg)を加えた。反応液を10分間攪拌した後、製造例1−7に記載のフェニル メチルカーバメート(1.40g、9.25mmol)を加え、同温でさらに30分間攪拌した。反応液に水と酢酸エチルを加えた。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜0:1)で精製することにより標記化合物(2.44g、93%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 1.73-1.86 (2H, m), 2.81-2.87 (3H, m), 3.12 (3H, d, J=1.8 Hz),3.16-3.24 (2H, m), 3.98 (2H, t, J=5.7 Hz), 5.62-5.71 (1H, m), 5.78 (2H, s),6.06-6.15 (1H, m), 6.61 (1H, dd, J=3.5, 1.7 Hz), 7.36 (1H, d, J=1.8 Hz),7.71-7.78 (2H, m), 7.98-8.04 (1H, m), 8.10-8.22 (1H, m).
[製造例32−9]tert−ブチル 3−(4−((4−((6−(3−メトキシプロポキシ)−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)アゼチジン−1−カルボキシレート
ベンゾトリアゾール(193mg、1.62mmol)のジクロロメタン(5mL)溶液に窒素雰囲気下、室温で塩化チオニル(118μL、1.62mmol)を加え、5分間攪拌した。反応液に製造例26−5に記載の4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)アゼチジン−3−イル)ベンゾイック アシッド(300mg、1.08mmol)を加え、さらに1時間攪拌した。反応液をグラスフィルター上の無水硫酸ナトリウムを通して濾過し、ジクロロメタンで洗浄した。得られたジクロロメタン溶液に窒素雰囲気下、0℃でトリエチルアミン(748μL、5.40mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(6.60mg、0.054mmol)、製造例32−8に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(3−メトキシプロポキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(200mg、0.54mmol)のテトラヒドロフラン(10mL)溶液を加えて、4時間20分攪拌した。反応液を酢酸エチルと水で希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣にテトラヒドロフランと過剰量のメチルアミン テトラヒドロフラン溶液を加え、室温で攪拌した。混合液を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:3〜0:1)で精製することにより標記化合物(146mg、43%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.43-1.51 (9H, m), 1.80-1.95 (2H, m), 2.95 (3H, d, J=4.8 Hz),3.17 (3H, s), 3.20-3.27 (2H, m), 3.69-3.82 (1H, m), 3.95 (2H, dd, J=8.6, 6.0Hz), 4.05-4.17 (2H, m), 4.33 (2H, t, J=8.6 Hz), 6.13-6.25 (1H, m), 6.44 (1H, d,J=3.7 Hz), 6.63 (1H, dd, J=5.7, 2.4 Hz), 6.97 (1H, s), 7.24 (2H, d, J=3.7 Hz),7.38 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.83 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.88 (1H, d, J=2.6 Hz),8.01-8.09 (2H, m), 8.79-9.00 (1H, m).
ベンゾトリアゾール(193mg、1.62mmol)のジクロロメタン(5mL)溶液に窒素雰囲気下、室温で塩化チオニル(118μL、1.62mmol)を加え、5分間攪拌した。反応液に製造例26−5に記載の4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)アゼチジン−3−イル)ベンゾイック アシッド(300mg、1.08mmol)を加え、さらに1時間攪拌した。反応液をグラスフィルター上の無水硫酸ナトリウムを通して濾過し、ジクロロメタンで洗浄した。得られたジクロロメタン溶液に窒素雰囲気下、0℃でトリエチルアミン(748μL、5.40mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(6.60mg、0.054mmol)、製造例32−8に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(3−メトキシプロポキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(200mg、0.54mmol)のテトラヒドロフラン(10mL)溶液を加えて、4時間20分攪拌した。反応液を酢酸エチルと水で希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮した。残渣にテトラヒドロフランと過剰量のメチルアミン テトラヒドロフラン溶液を加え、室温で攪拌した。混合液を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:3〜0:1)で精製することにより標記化合物(146mg、43%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.43-1.51 (9H, m), 1.80-1.95 (2H, m), 2.95 (3H, d, J=4.8 Hz),3.17 (3H, s), 3.20-3.27 (2H, m), 3.69-3.82 (1H, m), 3.95 (2H, dd, J=8.6, 6.0Hz), 4.05-4.17 (2H, m), 4.33 (2H, t, J=8.6 Hz), 6.13-6.25 (1H, m), 6.44 (1H, d,J=3.7 Hz), 6.63 (1H, dd, J=5.7, 2.4 Hz), 6.97 (1H, s), 7.24 (2H, d, J=3.7 Hz),7.38 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.83 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.88 (1H, d, J=2.6 Hz),8.01-8.09 (2H, m), 8.79-9.00 (1H, m).
[製造例32−10]5−((2−(4−(アゼチジン−3−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(3−メトキシプロポキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例32−9に記載のtert−ブチル 3−(4−((4−((6−(3−メトキシプロポキシ)−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)アゼチジン−1−カルボキシレート(146mg、0.231mmol)のジクロロメタン(5mL)溶液に室温にてトリフルオロ酢酸(713μL、9.25mmol)を加えた。反応液を1.5時間攪拌した後、減圧下で濃縮した。残渣をジクロロメタンとトリエチルアミンで溶解させてトリフルオロ酢酸を中和した後、減圧下で濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=49:1〜17:3)で精製することにより標記化合物(96.2mg、79%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.82-1.95 (2H, m), 3.06 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.19 (3H, s), 3.24(2H, t, J=6.4 Hz), 3.79-4.00 (5H, m), 4.11 (2H, t, J=6.0 Hz), 5.56-5.64 (1H, m),6.55 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 7.21-7.29 (1H, m), 7.34 (1H,s), 7.41 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.84 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.92 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.00(1H, s), 8.10 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.56-8.68 (1H, m).
製造例32−9に記載のtert−ブチル 3−(4−((4−((6−(3−メトキシプロポキシ)−1−(メチルカルバモイル)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−イル)カルバモイル)フェニル)アゼチジン−1−カルボキシレート(146mg、0.231mmol)のジクロロメタン(5mL)溶液に室温にてトリフルオロ酢酸(713μL、9.25mmol)を加えた。反応液を1.5時間攪拌した後、減圧下で濃縮した。残渣をジクロロメタンとトリエチルアミンで溶解させてトリフルオロ酢酸を中和した後、減圧下で濃縮した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=49:1〜17:3)で精製することにより標記化合物(96.2mg、79%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.82-1.95 (2H, m), 3.06 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.19 (3H, s), 3.24(2H, t, J=6.4 Hz), 3.79-4.00 (5H, m), 4.11 (2H, t, J=6.0 Hz), 5.56-5.64 (1H, m),6.55 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.61 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 7.21-7.29 (1H, m), 7.34 (1H,s), 7.41 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.84 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.92 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.00(1H, s), 8.10 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.56-8.68 (1H, m).
[実施例33]5−((2−(4−(1−エチルピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(3−フルオロプロポキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
ベンゾトリアゾール(37.8mg、0.317mmol)をジクロロメタン(2.0mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて塩化チオニル(24μL、0.322mmol)を加え5分間攪拌した。反応混合物に製造例1−12に記載の4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(82mg、0.269mmol)を室温にて加え、20分間攪拌した。反応混合物を無水硫酸ナトリウムを敷き詰めたグラスフィルターで濾過し、ジクロロメタンで洗浄し、濾液を製造例33−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(3−フルオロプロポキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(34.4mg、0.096mmol)、トリエチルアミン(133μL、0.960mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(1.17mg、0.0096mmol)のテトラヒドロフラン(1.5mL)混合物に0℃にて加え、室温で320分間攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配後、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。NHシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、濾液を減圧濃縮した。残渣をテトラヒドロフランに溶解させ、過剰量の9.8Mメチルアミン メタノール溶液を室温にて加え、50分間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜3:7〜0:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物A(46.3mg)を得た。
粗生成物A(46.3mg)をジクロロメタン(1.25mL)に溶解させ、0℃でトリフルオロ酢酸(250μL)を加えた。室温にて20分間攪拌後減圧濃縮し、残渣をジクロロメタン−トリエチルアミンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=97:3〜4:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物B(35.8mg)を得た。
粗生成物Bの一部(9.0mg、0.016mmol)とテトラヒドロフラン(500μL)の混合物に、室温にてトリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(10.4mg、0.049mmol)、アセトアルデヒド(2.17mg、0.049mmol)を加え、室温にて140分間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製した。得られた固体をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(6.7mg、49%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.14 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.76-1.91 (4H, m), 1.93-2.12 (4H, m),2.41-2.64 (3H, m), 3.03-3.17 (5H, m), 4.16 (2H, t, J=6.0 Hz), 4.24 (1H, t,J=5.9 Hz), 4.36 (1H, t, J=5.7 Hz), 5.46-5.57 (1H, m), 6.55 (1H, d, J=3.3 Hz),6.58 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 7.24 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.31-7.36 (3H, m), 7.80 (2H,d, J=8.1 Hz), 7.90 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.02 (1H, s), 8.10 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.49(1H, brs).
ベンゾトリアゾール(37.8mg、0.317mmol)をジクロロメタン(2.0mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて塩化チオニル(24μL、0.322mmol)を加え5分間攪拌した。反応混合物に製造例1−12に記載の4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(82mg、0.269mmol)を室温にて加え、20分間攪拌した。反応混合物を無水硫酸ナトリウムを敷き詰めたグラスフィルターで濾過し、ジクロロメタンで洗浄し、濾液を製造例33−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(3−フルオロプロポキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(34.4mg、0.096mmol)、トリエチルアミン(133μL、0.960mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(1.17mg、0.0096mmol)のテトラヒドロフラン(1.5mL)混合物に0℃にて加え、室温で320分間攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配後、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。NHシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、濾液を減圧濃縮した。残渣をテトラヒドロフランに溶解させ、過剰量の9.8Mメチルアミン メタノール溶液を室温にて加え、50分間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜3:7〜0:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物A(46.3mg)を得た。
粗生成物A(46.3mg)をジクロロメタン(1.25mL)に溶解させ、0℃でトリフルオロ酢酸(250μL)を加えた。室温にて20分間攪拌後減圧濃縮し、残渣をジクロロメタン−トリエチルアミンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=97:3〜4:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物B(35.8mg)を得た。
粗生成物Bの一部(9.0mg、0.016mmol)とテトラヒドロフラン(500μL)の混合物に、室温にてトリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(10.4mg、0.049mmol)、アセトアルデヒド(2.17mg、0.049mmol)を加え、室温にて140分間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製した。得られた固体をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(6.7mg、49%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.14 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.76-1.91 (4H, m), 1.93-2.12 (4H, m),2.41-2.64 (3H, m), 3.03-3.17 (5H, m), 4.16 (2H, t, J=6.0 Hz), 4.24 (1H, t,J=5.9 Hz), 4.36 (1H, t, J=5.7 Hz), 5.46-5.57 (1H, m), 6.55 (1H, d, J=3.3 Hz),6.58 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 7.24 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.31-7.36 (3H, m), 7.80 (2H,d, J=8.1 Hz), 7.90 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.02 (1H, s), 8.10 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.49(1H, brs).
出発物質の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(3−フルオロプロポキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドは以下の方法で合成した。
[製造例33−1]4−(3−フルオロプロポキシ)−3−ヒドロキシベンズアルデヒド
市販の3,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド(6.5g、47.1mmol)と炭酸カリウム(6.83g、49.4mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(30mL)に懸濁させた後、窒素雰囲気下、室温で製造例5−1に記載の3−フルオロプロピル 4−メチルベンゼンスルホネート(11.3g、48.4mmol)を加え、37時間攪拌した。0℃に冷却後、2M塩酸、酢酸エチル、水を加え分配した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜2:1〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(4.62g、50%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.23 (1H, quin, J=5.9 Hz), 2.30 (1H, quin, J=5.8 Hz), 4.31 (2H,t, J=6.2 Hz), 4.60 (1H, t, J=5.6 Hz), 4.72 (1H, t, J=5.6 Hz), 5.70 (1H, s), 6.99(1H, d, J=8.2 Hz), 7.41-7.47 (2H, m), 9.85 (1H, s).
市販の3,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド(6.5g、47.1mmol)と炭酸カリウム(6.83g、49.4mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(30mL)に懸濁させた後、窒素雰囲気下、室温で製造例5−1に記載の3−フルオロプロピル 4−メチルベンゼンスルホネート(11.3g、48.4mmol)を加え、37時間攪拌した。0℃に冷却後、2M塩酸、酢酸エチル、水を加え分配した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜2:1〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(4.62g、50%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.23 (1H, quin, J=5.9 Hz), 2.30 (1H, quin, J=5.8 Hz), 4.31 (2H,t, J=6.2 Hz), 4.60 (1H, t, J=5.6 Hz), 4.72 (1H, t, J=5.6 Hz), 5.70 (1H, s), 6.99(1H, d, J=8.2 Hz), 7.41-7.47 (2H, m), 9.85 (1H, s).
[製造例33−2]3−(ベンジルオキシ)−4−(3−フルオロプロポキシ)ベンズアルデヒド
製造例33−1に記載の4−(3−フルオロプロポキシ)−3−ヒドロキシベンズアルデヒド(4.62g、23.3mmol)のエタノール(46mL)懸濁液に、窒素雰囲気下、室温にて炭酸カリウム(3.87g、28.0mmol)、塩化ベンジル(3.2mL、27.8mmol)を加え、90℃にて1.5時間攪拌した。反応混合物を0℃に冷却後、2M塩酸、酢酸エチル、水を加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜3:2〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、標記化合物(6.14g、91%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.22 (1H, quin, J=5.9 Hz), 2.29 (1H, quin, J=5.9 Hz), 4.25 (2H,t, J=6.2 Hz), 4.62 (1H, t, J=5.7 Hz), 4.74 (1H, t, J=5.7 Hz), 5.18 (2H, s),7.02 (1H, d, J=8.1 Hz), 7.29-7.50 (7H, m), 9.83 (1H, s).
製造例33−1に記載の4−(3−フルオロプロポキシ)−3−ヒドロキシベンズアルデヒド(4.62g、23.3mmol)のエタノール(46mL)懸濁液に、窒素雰囲気下、室温にて炭酸カリウム(3.87g、28.0mmol)、塩化ベンジル(3.2mL、27.8mmol)を加え、90℃にて1.5時間攪拌した。反応混合物を0℃に冷却後、2M塩酸、酢酸エチル、水を加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜3:2〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、標記化合物(6.14g、91%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.22 (1H, quin, J=5.9 Hz), 2.29 (1H, quin, J=5.9 Hz), 4.25 (2H,t, J=6.2 Hz), 4.62 (1H, t, J=5.7 Hz), 4.74 (1H, t, J=5.7 Hz), 5.18 (2H, s),7.02 (1H, d, J=8.1 Hz), 7.29-7.50 (7H, m), 9.83 (1H, s).
[製造例33−3](E)−2−(ベンジルオキシ)−1−(3−フルオロプロポキシ)−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン
製造例33−2に記載の3−(ベンジルオキシ)−4−(3−フルオロプロポキシ)ベンズアルデヒド(6.14g、21.3mmol)を酢酸(17.0mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温で酢酸アンモニウム(1.97g、25.6mmol)、ニトロメタン(2.8mL、51.7mmol)を加え、130℃にて2時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、析出物を濾取、少量のエタノールにて洗浄し、標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.21 (1H, quin, J=6.0 Hz), 2.28 (1H, quin, J=5.9 Hz), 4.22 (2H,t, J=6.0 Hz), 4.62 (1H, t, J=5.7 Hz), 4.73 (1H, t, J=5.7 Hz), 5.15 (2H, s),6.95 (1H, d, J=8.4 Hz), 7.06 (1H, d, J=1.8 Hz), 7.17 (1H, dd, J=8.2, 2.0 Hz),7.29-7.49 (6H, m), 7.91 (1H, d, J=13.5 Hz).
製造例33−2に記載の3−(ベンジルオキシ)−4−(3−フルオロプロポキシ)ベンズアルデヒド(6.14g、21.3mmol)を酢酸(17.0mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温で酢酸アンモニウム(1.97g、25.6mmol)、ニトロメタン(2.8mL、51.7mmol)を加え、130℃にて2時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、析出物を濾取、少量のエタノールにて洗浄し、標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.21 (1H, quin, J=6.0 Hz), 2.28 (1H, quin, J=5.9 Hz), 4.22 (2H,t, J=6.0 Hz), 4.62 (1H, t, J=5.7 Hz), 4.73 (1H, t, J=5.7 Hz), 5.15 (2H, s),6.95 (1H, d, J=8.4 Hz), 7.06 (1H, d, J=1.8 Hz), 7.17 (1H, dd, J=8.2, 2.0 Hz),7.29-7.49 (6H, m), 7.91 (1H, d, J=13.5 Hz).
[製造例33−4]6−(3−フルオロプロポキシ)−1H−インドール−5−オール
製造例33−3に記載の(E)−2−(ベンジルオキシ)−1−(3−フルオロプロポキシ)−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン(7.06g、21.3mmol)、酢酸(61mL)の混合物に、氷浴下発煙硝酸(4.80mL、107mmol)を加え、室温で2.5時間攪拌した。反応混合物を氷にあけ、沈殿物を濾取後、少量の酢酸とエタノールの混合液で洗浄し、粗生成物(8.02g)を得た。
粗生成物(8.02g)をメタノール(150mL)に懸濁させた後、10%パラジウム−炭素(50%含水品)(2.27g)を加えて水素雰囲気下で6時間攪拌した。反応系内を窒素で置換した後、メタノールで希釈した。触媒をセライトを用いて濾過後、濾液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、標記化合物(1.47g、33%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.22 (1H, quin, J=5.9 Hz), 2.29 (1H, quin, J=5.9 Hz), 4.23 (2H,t, J=6.0 Hz), 4.62 (1H, t, J=5.7 Hz), 4.74 (1H, t, J=5.7 Hz), 5.42 (1H, s),6.42 (1H, ddd, J=3.1, 2.2, 0.9 Hz), 6.91 (1H, s), 7.09 (1H, dd, J=3.1, 2.4 Hz),7.15 (1H, s), 7.94 (1H, brs).
製造例33−3に記載の(E)−2−(ベンジルオキシ)−1−(3−フルオロプロポキシ)−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン(7.06g、21.3mmol)、酢酸(61mL)の混合物に、氷浴下発煙硝酸(4.80mL、107mmol)を加え、室温で2.5時間攪拌した。反応混合物を氷にあけ、沈殿物を濾取後、少量の酢酸とエタノールの混合液で洗浄し、粗生成物(8.02g)を得た。
粗生成物(8.02g)をメタノール(150mL)に懸濁させた後、10%パラジウム−炭素(50%含水品)(2.27g)を加えて水素雰囲気下で6時間攪拌した。反応系内を窒素で置換した後、メタノールで希釈した。触媒をセライトを用いて濾過後、濾液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、標記化合物(1.47g、33%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.22 (1H, quin, J=5.9 Hz), 2.29 (1H, quin, J=5.9 Hz), 4.23 (2H,t, J=6.0 Hz), 4.62 (1H, t, J=5.7 Hz), 4.74 (1H, t, J=5.7 Hz), 5.42 (1H, s),6.42 (1H, ddd, J=3.1, 2.2, 0.9 Hz), 6.91 (1H, s), 7.09 (1H, dd, J=3.1, 2.4 Hz),7.15 (1H, s), 7.94 (1H, brs).
[製造例33−5]4−((6−(3−フルオロプロポキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン
製造例33−4に記載の6−(3−フルオロプロポキシ)−1H−インドール−5−オール(1.47g、7.04mmol)、製造例1−5に記載のN−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミド(1.32g、7.74mmol)、カリウム tert−ブトキシド(864mg、7.70mmol)をジメチルスルホキシド(7.0mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、160℃にて4.5時間加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、水と酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルでもう一度抽出し、合わせた有機層を水と飽和食塩水で洗浄し後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を減圧濃縮し、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜9:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物(177mg)を得た。
得られた粗生成物(177mg)をメタノール(2.5mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて2M水酸化ナトリウム溶液(2.5mL)を加えて70℃にて2時間加熱攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、水と酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:3〜1:4〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=19:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(49.4mg、2.3%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.95-2.11 (2H, m), 4.07 (2H, t, J=5.9 Hz), 4.28-4.47 (4H, m),5.88 (1H, d, J=2.2 Hz), 6.28 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 6.48-6.52 (1H, m), 7.02 (1H,s), 7.16-7.20 (1H, m), 7.35 (1H, s), 7.88 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.25 (1H, brs).
製造例33−4に記載の6−(3−フルオロプロポキシ)−1H−インドール−5−オール(1.47g、7.04mmol)、製造例1−5に記載のN−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミド(1.32g、7.74mmol)、カリウム tert−ブトキシド(864mg、7.70mmol)をジメチルスルホキシド(7.0mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、160℃にて4.5時間加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、水と酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルでもう一度抽出し、合わせた有機層を水と飽和食塩水で洗浄し後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を減圧濃縮し、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜9:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物(177mg)を得た。
得られた粗生成物(177mg)をメタノール(2.5mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて2M水酸化ナトリウム溶液(2.5mL)を加えて70℃にて2時間加熱攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、水と酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:3〜1:4〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=19:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(49.4mg、2.3%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.95-2.11 (2H, m), 4.07 (2H, t, J=5.9 Hz), 4.28-4.47 (4H, m),5.88 (1H, d, J=2.2 Hz), 6.28 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 6.48-6.52 (1H, m), 7.02 (1H,s), 7.16-7.20 (1H, m), 7.35 (1H, s), 7.88 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.25 (1H, brs).
[製造例33−6]5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(3−フルオロプロポキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例33−5に記載の4−((6−(3−フルオロプロポキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン(49.4mg、0.164mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(1.6mL)に溶解し、窒素雰囲気下、0℃にて50−72%水素化ナトリウム 油状(14.9mg)を加え、室温で15分間攪拌した。再び0℃に冷却し、製造例1−7に記載のフェニル メチルカーバメート(62.0mg、0.41mmol)を加え室温で3.5時間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液、水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を減圧濃縮し、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:4〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜9:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(34.4mg、59%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.95-2.11 (2H, m), 3.07 (3H, dd, J=4.7, 1.2), 4.12-4.17 (2H,m), 4.29 (1H, t, J=5.8 Hz), 4.38-4.52 (3H, m), 5.50 (1H, brs), 5.87 (1H, d,J=2.0 Hz), 6.26 (1H, dd, J=6.0, 2.1 Hz), 6.56 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.23-7.27 (1H,m), 7.29 (1H, s), 7.87 (1H, d, J=6.0 Hz), 8.00 (1H, s).
製造例33−5に記載の4−((6−(3−フルオロプロポキシ)−1H−インドール−5−イル)オキシ)ピリジン−2−アミン(49.4mg、0.164mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(1.6mL)に溶解し、窒素雰囲気下、0℃にて50−72%水素化ナトリウム 油状(14.9mg)を加え、室温で15分間攪拌した。再び0℃に冷却し、製造例1−7に記載のフェニル メチルカーバメート(62.0mg、0.41mmol)を加え室温で3.5時間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液、水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を減圧濃縮し、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:4〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=99:1〜9:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(34.4mg、59%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.95-2.11 (2H, m), 3.07 (3H, dd, J=4.7, 1.2), 4.12-4.17 (2H,m), 4.29 (1H, t, J=5.8 Hz), 4.38-4.52 (3H, m), 5.50 (1H, brs), 5.87 (1H, d,J=2.0 Hz), 6.26 (1H, dd, J=6.0, 2.1 Hz), 6.56 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.23-7.27 (1H,m), 7.29 (1H, s), 7.87 (1H, d, J=6.0 Hz), 8.00 (1H, s).
製造例1−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドから、実施例1〜実施例33に準じて表1および表2の実施例化合物を合成した。
製造例15−7に記載された5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−エトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドから、実施例1〜実施例33に準じて表3の実施例化合物を合成した。
製造例17−7記載された5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−イソプロポキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドから、実施例1〜実施例33に準じて表4の実施例化合物を合成した。
製造例33−6に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(3−フルオロプロポキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドから、実施例1〜実施例33に準じて表5の実施例化合物を合成した。
製造例20−7に記載された5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドから、実施例1〜実施例33に準じて表6の実施例化合物を合成した。
製造例24−8に記載された5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドから、実施例1〜実施例33に準じて表7および表8の実施例化合物を合成した。
製造例32−8に記載された5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(3−メトキシプロポキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドから、実施例1〜実施例33に準じて表9の実施例化合物を合成した。
[実施例131]6−メトキシ−5−((2−(4−(1−(2−メトキシアセチル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
実施例1に記載の6−メトキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(13.4mg、0.027mmol)とテトラヒドロフラン(1.0mL)の混合物に、トリエチルアミン(33μL,0.237mmol)とメトキシアセチル クロリド(12.5mg、0.115mmol)を加え、室温にて3.5時間攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜9:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、固体をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(10.2mg、67%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.50-1.73 (2H, m), 1.87-1.98 (2H, m), 2.62-2.75 (1H, m),2.76-2.89 (1H, m), 3.02-3.19 (4H, m), 3.45 (3H, s), 3.86 (3H, s), 3.97-4.03 (1H,m), 4.06-4.21 (2H, m), 4.71-4.81 (1H, m), 5.47-5.55 (1H, m), 6.55 (1H, d, J=3.7Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.8, 2.3 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.8 Hz), 7.27-7.34 (3H, m),7.81 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.4 Hz), 8.03 (1H, s), 8.10 (1H, d,J=5.7 Hz), 8.49 (1H, brs).
実施例1に記載の6−メトキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(13.4mg、0.027mmol)とテトラヒドロフラン(1.0mL)の混合物に、トリエチルアミン(33μL,0.237mmol)とメトキシアセチル クロリド(12.5mg、0.115mmol)を加え、室温にて3.5時間攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜9:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、固体をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(10.2mg、67%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.50-1.73 (2H, m), 1.87-1.98 (2H, m), 2.62-2.75 (1H, m),2.76-2.89 (1H, m), 3.02-3.19 (4H, m), 3.45 (3H, s), 3.86 (3H, s), 3.97-4.03 (1H,m), 4.06-4.21 (2H, m), 4.71-4.81 (1H, m), 5.47-5.55 (1H, m), 6.55 (1H, d, J=3.7Hz), 6.60 (1H, dd, J=5.8, 2.3 Hz), 7.23 (1H, d, J=3.8 Hz), 7.27-7.34 (3H, m),7.81 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.4 Hz), 8.03 (1H, s), 8.10 (1H, d,J=5.7 Hz), 8.49 (1H, brs).
実施例1に記載の6−メトキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミドから、実施例131に準じて表10の実施例化合物を合成した。
[実施例133]5−((2−(4−(1−(2−(ジメチルアミノ)アセチル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−メトキシ−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
実施例1に記載の6−メトキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(13.7mg、0.027mmol)、O−(7−アザベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロりん酸塩(16.3mg、0.043mmol)およびN,N−ジメチルグリシン(5.5mg、0.053mmol)の混合物にN,N−ジメチルホルムアミド(0.5mL)とN,N−ジイソプロピルエチルアミン(24μL、0.137mmol)を加え、室温にて2時間攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜9:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、固体をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(13.7mg、85%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.49-1.74 (2H, m), 1.85-1.97 (2H, m), 2.32 (6H, s), 2.60-2.71(1H, m), 2.76-2.87 (1H, m), 3.04-3.26 (6H, m), 3.87 (3H, s), 4.20-4.32 (1H, m),4.71-4.83 (1H, m), 5.45-5.54 (1H, m), 6.54-6.57 (1H, m), 6.60 (1H, dd, J=5.8,2.3 Hz), 7.24 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.28-7.34 (3H, m), 7.82 (2H, d, J=8.6 Hz), 7.92(1H, d, J=2.4 Hz), 8.04 (1H, s), 8.10 (1H, d, J=5.7 Hz), 8.49 (1H, brs).
実施例1に記載の6−メトキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(13.7mg、0.027mmol)、O−(7−アザベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロりん酸塩(16.3mg、0.043mmol)およびN,N−ジメチルグリシン(5.5mg、0.053mmol)の混合物にN,N−ジメチルホルムアミド(0.5mL)とN,N−ジイソプロピルエチルアミン(24μL、0.137mmol)を加え、室温にて2時間攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜9:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、固体をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(13.7mg、85%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.49-1.74 (2H, m), 1.85-1.97 (2H, m), 2.32 (6H, s), 2.60-2.71(1H, m), 2.76-2.87 (1H, m), 3.04-3.26 (6H, m), 3.87 (3H, s), 4.20-4.32 (1H, m),4.71-4.83 (1H, m), 5.45-5.54 (1H, m), 6.54-6.57 (1H, m), 6.60 (1H, dd, J=5.8,2.3 Hz), 7.24 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.28-7.34 (3H, m), 7.82 (2H, d, J=8.6 Hz), 7.92(1H, d, J=2.4 Hz), 8.04 (1H, s), 8.10 (1H, d, J=5.7 Hz), 8.49 (1H, brs).
実施例1に記載の6−メトキシ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミドから、実施例133に準じて表11の実施例化合物を合成した。
[実施例135]6−エチル−5−((2−(4−(1−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
6−エチル−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(15.6mg、0.031mmol)とテトラヒドロフラン(1.0mL)の混合物に、2−ヒドロキシアセトアルデヒド(9.41mg、0.157mmol)、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(33.2mg、0.157mmol)および酢酸(8.97μL、0.157mmol)を加え、室温にて15時間50分攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜9:1〜17:3)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(13.2mg、78%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.24 (3H, t, J=7.5 Hz), 1.71-1.92 (5H, m), 2.16-2.26 (2H, m),2.55-2.72 (5H, m), 3.01-3.13 (5H, m), 3.64 (2H, t, J=5.3 Hz), 5.46-5.53 (1H, m),6.52 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 6.56 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.24-7.29 (1H, m), 7.34 (2H,d, J=8.4 Hz), 7.37 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.82 (2H, d, J=8.1 Hz), 7.98 (1H, d, J=2.2Hz), 8.10 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.12 (1H, s), 8.49 (1H, brs).
6−エチル−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(15.6mg、0.031mmol)とテトラヒドロフラン(1.0mL)の混合物に、2−ヒドロキシアセトアルデヒド(9.41mg、0.157mmol)、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(33.2mg、0.157mmol)および酢酸(8.97μL、0.157mmol)を加え、室温にて15時間50分攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜9:1〜17:3)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(13.2mg、78%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.24 (3H, t, J=7.5 Hz), 1.71-1.92 (5H, m), 2.16-2.26 (2H, m),2.55-2.72 (5H, m), 3.01-3.13 (5H, m), 3.64 (2H, t, J=5.3 Hz), 5.46-5.53 (1H, m),6.52 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 6.56 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.24-7.29 (1H, m), 7.34 (2H,d, J=8.4 Hz), 7.37 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.82 (2H, d, J=8.1 Hz), 7.98 (1H, d, J=2.2Hz), 8.10 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.12 (1H, s), 8.49 (1H, brs).
出発物質の6−エチル−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミドは以下の方法で合成した。
[製造例135−1]6−エチルインドリン
市販の3−エチルアニリン(10.1g、83.3mmol)をエタノール(40mL)に溶解させた後、炭酸水素ナトリウム(7.00g、83.3mmol)、ブロモアセトアルデヒド ジエチルアセタール(8.44mL、54.8mmol)を加え、80℃にて80時間加熱攪拌した。反応混合物に水を加え分配した。水層を酢酸エチルで3回抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物A(11g)を得た。
得られた粗生成物Aの一部(10g)をトリフルオロ酢酸(45mL)に溶解し、4℃にて無水トリフルオロ酢酸(45mL)を加え30分間攪拌した。反応混合物にトリフルオロ酢酸(60mL)を加え、75℃にて2.5時間攪拌した。減圧濃縮後、酢酸エチルで3回抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧濃縮した。得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物B(3g)を得た。
得られた粗生成物Bの一部(1.5g)を酢酸(50mL)に溶解させ、0℃にてシアノ水素化ほう素ナトリウム(1.30g、20.7mmol)を加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え分配した。水層を酢酸エチルで3回抽出後、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(560mg、15%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.20 (3H, t, J=7.6 Hz), 2.55 (2H, q, J=7.7 Hz), 2.99 (2H, t, J=8.4Hz), 3.54 (2H, t, J=8.3 Hz), 3.72 (1H, brs), 6.43-6.61 (2H, m), 6.93-7.07 (1H, m).
市販の3−エチルアニリン(10.1g、83.3mmol)をエタノール(40mL)に溶解させた後、炭酸水素ナトリウム(7.00g、83.3mmol)、ブロモアセトアルデヒド ジエチルアセタール(8.44mL、54.8mmol)を加え、80℃にて80時間加熱攪拌した。反応混合物に水を加え分配した。水層を酢酸エチルで3回抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物A(11g)を得た。
得られた粗生成物Aの一部(10g)をトリフルオロ酢酸(45mL)に溶解し、4℃にて無水トリフルオロ酢酸(45mL)を加え30分間攪拌した。反応混合物にトリフルオロ酢酸(60mL)を加え、75℃にて2.5時間攪拌した。減圧濃縮後、酢酸エチルで3回抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧濃縮した。得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物B(3g)を得た。
得られた粗生成物Bの一部(1.5g)を酢酸(50mL)に溶解させ、0℃にてシアノ水素化ほう素ナトリウム(1.30g、20.7mmol)を加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え分配した。水層を酢酸エチルで3回抽出後、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(560mg、15%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.20 (3H, t, J=7.6 Hz), 2.55 (2H, q, J=7.7 Hz), 2.99 (2H, t, J=8.4Hz), 3.54 (2H, t, J=8.3 Hz), 3.72 (1H, brs), 6.43-6.61 (2H, m), 6.93-7.07 (1H, m).
[製造例135−2]6−エチル−1H−インドール−5−オール
カリウム ニトロソジスルホネート(6.82g、25.4mmol)を0.1Mりん酸カリウムバッファー(450mL)に溶解させた後、アセトン(150mL)に溶解させた製造例135−1に記載の6−エチルインドリン(1.7g、11.5mmol)を加え、室温にて12時間攪拌した。反応混合物に2M水酸化ナトリウムを加え、分配した。水層を酢酸エチルで3回抽出後、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(560mg、30%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.29 (3H, t, J=7.5 Hz), 2.74 (2H, q, J=7.5 Hz), 4.50 (1H, s),6.34-6.43 (1H, m), 6.99 (1H, s), 7.07-7.18 (2H, m), 7.95 (1H, brs).
カリウム ニトロソジスルホネート(6.82g、25.4mmol)を0.1Mりん酸カリウムバッファー(450mL)に溶解させた後、アセトン(150mL)に溶解させた製造例135−1に記載の6−エチルインドリン(1.7g、11.5mmol)を加え、室温にて12時間攪拌した。反応混合物に2M水酸化ナトリウムを加え、分配した。水層を酢酸エチルで3回抽出後、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(560mg、30%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.29 (3H, t, J=7.5 Hz), 2.74 (2H, q, J=7.5 Hz), 4.50 (1H, s),6.34-6.43 (1H, m), 6.99 (1H, s), 7.07-7.18 (2H, m), 7.95 (1H, brs).
製造例135−2に記載の6−エチル−1H−インドール−5−オールと製造例1−5に記載のN−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミドから、実施例1〜実施例33に準じて実施例135の出発物質である6−エチル−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミドを含む表12の実施例化合物を合成した。
[実施例140]5−((2−(4−((4−ヒドロキシピペリジン−1−イル)メチル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(メトキシメチル)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(メトキシメチル)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(5.5mg、0.017mmol)とテトラヒドロフラン(450μL)の混合物に、窒素雰囲気下、室温でトリエチルアミン(20μL、0.144mmol)と市販の4−(クロロメチル)ベンゾイル クロリド(16.6mg、0.088mmol)を加え、70分間攪拌した。反応混合物にテトラヒドロフラン、水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、NHシリカゲルを用いて濾過後、減圧濃縮して粗生成物を得た。
得られた粗生成物をN,N−ジメチルホルムアミド(500μL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて4−ヒドロキシピペリジン(16.5mg、0.163mmol)を加え12時間50分攪拌した。反応混合物に酢酸エチル、水を加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過後、減圧濃縮した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製し、標記化合物(7.6mg、83%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.38-1.67 (2H, m), 1.83-1.95 (2H, m), 2.10-2.25 (2H, m),2.68-2.79 (2H, m), 3.10 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.37 (3H, s), 3.56 (2H, brs), 3.62-3.77(2H, m), 4.52 (2H, s), 5.60-5.69 (1H, m), 6.55 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 6.58 (1H,dd, J=3.7, 0.7 Hz), 7.30 (1H, s), 7.44 (2H, d, J=8.1 Hz), 7.50 (1H, d, J=3.7Hz), 7.82 (2H, d, J=8.1 Hz), 7.97 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.09 (1H, d, J=5.5 Hz), 8.21(1H, s), 8.60 (1H, brs).
5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(メトキシメチル)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(5.5mg、0.017mmol)とテトラヒドロフラン(450μL)の混合物に、窒素雰囲気下、室温でトリエチルアミン(20μL、0.144mmol)と市販の4−(クロロメチル)ベンゾイル クロリド(16.6mg、0.088mmol)を加え、70分間攪拌した。反応混合物にテトラヒドロフラン、水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、NHシリカゲルを用いて濾過後、減圧濃縮して粗生成物を得た。
得られた粗生成物をN,N−ジメチルホルムアミド(500μL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて4−ヒドロキシピペリジン(16.5mg、0.163mmol)を加え12時間50分攪拌した。反応混合物に酢酸エチル、水を加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過後、減圧濃縮した。残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製し、標記化合物(7.6mg、83%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.38-1.67 (2H, m), 1.83-1.95 (2H, m), 2.10-2.25 (2H, m),2.68-2.79 (2H, m), 3.10 (3H, d, J=4.8 Hz), 3.37 (3H, s), 3.56 (2H, brs), 3.62-3.77(2H, m), 4.52 (2H, s), 5.60-5.69 (1H, m), 6.55 (1H, dd, J=5.9, 2.2 Hz), 6.58 (1H,dd, J=3.7, 0.7 Hz), 7.30 (1H, s), 7.44 (2H, d, J=8.1 Hz), 7.50 (1H, d, J=3.7Hz), 7.82 (2H, d, J=8.1 Hz), 7.97 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.09 (1H, d, J=5.5 Hz), 8.21(1H, s), 8.60 (1H, brs).
出発物質の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(メトキシメチル)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドは以下の方法で合成した。
[製造例140−1]ベンジル 5−アミノ−2−(ベンジルオキシ)−4−ブロモベンゾエート
市販の5−アミノサリチル酸を、常法により、ベンジル化、還元して得られるベンジル 5−アミノ−2−(ベンジルオキシ)ベンゾエート(5g、15.0mmol)をジクロロメタン(100mL)とメタノール(50mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温にてテトラ−N−ブチルアンモニウム トリブロミド(7.25g、15.0mmol)を加え4時間攪拌した。反応混合物に亜硫酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜4:1〜3:2)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(3.58g、58%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.88 (2H, s), 5.04 (2H, s), 5.31 (2H, s), 7.15 (1H, s), 7.27-7.43(11H, m).
市販の5−アミノサリチル酸を、常法により、ベンジル化、還元して得られるベンジル 5−アミノ−2−(ベンジルオキシ)ベンゾエート(5g、15.0mmol)をジクロロメタン(100mL)とメタノール(50mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温にてテトラ−N−ブチルアンモニウム トリブロミド(7.25g、15.0mmol)を加え4時間攪拌した。反応混合物に亜硫酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜4:1〜3:2)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(3.58g、58%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.88 (2H, s), 5.04 (2H, s), 5.31 (2H, s), 7.15 (1H, s), 7.27-7.43(11H, m).
[製造例140−2]ベンジル 5−アミノ−2−(ベンジルオキシ)−4−((トリメチルシリル)エチニル)ベンゾエート
製造例140−1に記載のベンジル 5−アミノ−2−(ベンジルオキシ)−4−ブロモベンゾエート(3.58g、8.68mmol)をテトラヒドロフラン(20mL)とトリエチルアミン(40mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温にてトリメチルシリルアセチレン(2.5mL、17.7mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II) クロリド(304mg、0.434mmol)、ヨウ化銅(I)(165mg、0.868mmol)を加え、70℃で6時間攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=19:1〜4:1〜7:3)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(2.75g、74%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 0.25-0.35 (9H, m), 4.03 (2H, s), 5.03 (2H, s), 5.31 (2H, s), 7.00(1H, s), 7.20 (1H, s), 7.28-7.47 (10H, m).
製造例140−1に記載のベンジル 5−アミノ−2−(ベンジルオキシ)−4−ブロモベンゾエート(3.58g、8.68mmol)をテトラヒドロフラン(20mL)とトリエチルアミン(40mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温にてトリメチルシリルアセチレン(2.5mL、17.7mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II) クロリド(304mg、0.434mmol)、ヨウ化銅(I)(165mg、0.868mmol)を加え、70℃で6時間攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=19:1〜4:1〜7:3)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(2.75g、74%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 0.25-0.35 (9H, m), 4.03 (2H, s), 5.03 (2H, s), 5.31 (2H, s), 7.00(1H, s), 7.20 (1H, s), 7.28-7.47 (10H, m).
[製造例140−3]ベンジル 5−(ベンジルオキシ)−1H−インドール−6−カルボキシレート
製造例140−2に記載のベンジル 5−アミノ−2−(ベンジルオキシ)−4−((トリメチルシリル)エチニル)ベンゾエート(2.75g、6.40mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(30mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温にてヨウ化銅(I)(610mg、3.20mmol)を加え、100℃で3時間加熱攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、セライトを用いて濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=17:3〜3:2)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(1.83g、80%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 5.18 (2H, s), 5.37 (2H, s), 6.44-6.50 (1H, m), 7.22 (1H, s), 7.27-7.38(7H, m), 7.40-7.46 (2H, m), 7.47-7.53 (2H, m), 7.99 (1H, d, J=0.7 Hz), 8.25(1H, brs).
製造例140−2に記載のベンジル 5−アミノ−2−(ベンジルオキシ)−4−((トリメチルシリル)エチニル)ベンゾエート(2.75g、6.40mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(30mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温にてヨウ化銅(I)(610mg、3.20mmol)を加え、100℃で3時間加熱攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、セライトを用いて濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=17:3〜3:2)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(1.83g、80%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 5.18 (2H, s), 5.37 (2H, s), 6.44-6.50 (1H, m), 7.22 (1H, s), 7.27-7.38(7H, m), 7.40-7.46 (2H, m), 7.47-7.53 (2H, m), 7.99 (1H, d, J=0.7 Hz), 8.25(1H, brs).
[製造例140−4](5−(ベンジルオキシ)−1H−インドール−6−イル)メタノール
水素化リチウムアルミニウム(239mg、6.30mmol)をテトラヒドロフラン(22mL)に懸濁させ、窒素雰囲気下、0℃にて製造例140−3に記載のベンジル 5−(ベンジルオキシ)−1H−インドール−6−カルボキシレート(1.5g、4.20mmol)をテトラヒドロフラン(11mL)に溶かした溶液を加え、室温で3時間攪拌した。反応混合物に水(0.24mL)、5M水酸化ナトリウム溶液(0.24mL)、水(0.72mL)を加え、室温にて30分間攪拌した。懸濁液をセライトを用いて濾過し、テトラヒドロフランで洗浄した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜1:1〜1:3)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.95 (1H, t, J=6.4 Hz), 4.81 (2H, d, J=6.6 Hz), 5.17 (2H, s),6.46-6.50 (1H, m), 7.16-7.21 (2H, m), 7.30-7.43 (4H, m), 7.44-7.50 (2H, m),8.11 (1H, brs).
水素化リチウムアルミニウム(239mg、6.30mmol)をテトラヒドロフラン(22mL)に懸濁させ、窒素雰囲気下、0℃にて製造例140−3に記載のベンジル 5−(ベンジルオキシ)−1H−インドール−6−カルボキシレート(1.5g、4.20mmol)をテトラヒドロフラン(11mL)に溶かした溶液を加え、室温で3時間攪拌した。反応混合物に水(0.24mL)、5M水酸化ナトリウム溶液(0.24mL)、水(0.72mL)を加え、室温にて30分間攪拌した。懸濁液をセライトを用いて濾過し、テトラヒドロフランで洗浄した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜1:1〜1:3)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.95 (1H, t, J=6.4 Hz), 4.81 (2H, d, J=6.6 Hz), 5.17 (2H, s),6.46-6.50 (1H, m), 7.16-7.21 (2H, m), 7.30-7.43 (4H, m), 7.44-7.50 (2H, m),8.11 (1H, brs).
[製造例140−5]tert−ブチル 5−(ベンジルオキシ)−6−(ヒドロキシメチル)−1H−インドール−1−カルボキシレート
製造例140−4に記載の(5−(ベンジルオキシ)−1H−インドール−6−イル)メタノール(392mg、1.55mmol)、イミダゾール(158mg、2.32mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(3.8mL)溶液に、窒素雰囲気下、室温にてtert−ブチルジメチルクロロシラン(280mg、1.86mmol)を加え70分間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルと水を加え分配した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、粗生成物Aを得た。
得られた粗生成物Aをジクロロメタン(6.0mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にてジ−tert−ブチル ジカルボネート(538mg、2.47mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(18.9mg、0.155mmol)を加え1.5時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルと水を加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、粗生成物Bを得た。
得られた粗生成物Bをテトラヒドロフラン(6.0mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて1Mテトラブチルアンモニウム フルオリド(3.0mL、3.00mmol)を加え6時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルと水を加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.66 (9H, s), 2.42 (1H, t, J=6.6 Hz), 4.82 (2H, d, J=6.6 Hz),5.17 (2H, s), 6.49 (1H, dd, J=3.7, 0.7 Hz), 7.09 (1H, s), 7.30-7.49 (5H, m),7.56 (1H, d, J=3.7 Hz), 8.09 (1H, brs).
製造例140−4に記載の(5−(ベンジルオキシ)−1H−インドール−6−イル)メタノール(392mg、1.55mmol)、イミダゾール(158mg、2.32mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(3.8mL)溶液に、窒素雰囲気下、室温にてtert−ブチルジメチルクロロシラン(280mg、1.86mmol)を加え70分間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルと水を加え分配した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、粗生成物Aを得た。
得られた粗生成物Aをジクロロメタン(6.0mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にてジ−tert−ブチル ジカルボネート(538mg、2.47mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(18.9mg、0.155mmol)を加え1.5時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルと水を加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、粗生成物Bを得た。
得られた粗生成物Bをテトラヒドロフラン(6.0mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて1Mテトラブチルアンモニウム フルオリド(3.0mL、3.00mmol)を加え6時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルと水を加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜1:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.66 (9H, s), 2.42 (1H, t, J=6.6 Hz), 4.82 (2H, d, J=6.6 Hz),5.17 (2H, s), 6.49 (1H, dd, J=3.7, 0.7 Hz), 7.09 (1H, s), 7.30-7.49 (5H, m),7.56 (1H, d, J=3.7 Hz), 8.09 (1H, brs).
[製造例140−6]tert−ブチル 5−(ベンジルオキシ)−6−(メトキシメチル)−1H−インドール−1−カルボキシレート
製造例140−5に記載のtert−ブチル 5−(ベンジルオキシ)−6−(ヒドロキシメチル)−1H−インドール−1−カルボキシレート(547mg、1.55mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(10mL)溶液に、窒素雰囲気下、室温にてヨウ化メチル(290μL、4.66mmol)と50−72%水素化ナトリウム 油状(122mg)を加え、3時間15分攪拌した。反応混合物を水でクエンチ後、酢酸エチルで希釈し分配した。有機層を水で2回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=19:1〜4:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(487mg、86%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.67(9H, s), 3.45 (3H, s), 4.65 (2H, s), 5.14 (2H, s), 6.47 (1H,d, J=3.7 Hz), 7.06 (1H, s), 7.29-7.50 (5H, m), 7.55 (1H, d, J=3.7 Hz), 8.17(1H, brs).
製造例140−5に記載のtert−ブチル 5−(ベンジルオキシ)−6−(ヒドロキシメチル)−1H−インドール−1−カルボキシレート(547mg、1.55mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(10mL)溶液に、窒素雰囲気下、室温にてヨウ化メチル(290μL、4.66mmol)と50−72%水素化ナトリウム 油状(122mg)を加え、3時間15分攪拌した。反応混合物を水でクエンチ後、酢酸エチルで希釈し分配した。有機層を水で2回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=19:1〜4:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(487mg、86%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.67(9H, s), 3.45 (3H, s), 4.65 (2H, s), 5.14 (2H, s), 6.47 (1H,d, J=3.7 Hz), 7.06 (1H, s), 7.29-7.50 (5H, m), 7.55 (1H, d, J=3.7 Hz), 8.17(1H, brs).
[製造例140−7]6−(メトキシメチル)−1H−インドール−5−オール
製造例140−6に記載のtert−ブチル 5−(ベンジルオキシ)−6−(メトキシメチル)−1H−インドール−1−カルボキシレート(427mg、1.16mmol)のメタノール(4.0mL)溶液に、窒素雰囲気下、室温にて28%ナトリウムメトキシド(4.0mL、19.6mmol)を加え、2.5時間攪拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加え、分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、粗生成物(301mg)を得た。
得られた粗生成物(301mg)をメタノール(11mL)に溶解させ、室温にて10%パラジウム−炭素(50%含水品)(12.0mg)を加えて、水素雰囲気下、3時間攪拌した。メタノールで希釈し、触媒をセライトを用いて濾過した。濾液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜2:3)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(156mg、76%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.43 (3H, s), 4.73 (2H, s), 6.43-6.47 (1H, m), 6.91 (1H, s), 7.10(1H, s), 7.13 (1H, s), 7.17 (1H, t, J=2.7 Hz), 8.00 (1H, brs).
製造例140−6に記載のtert−ブチル 5−(ベンジルオキシ)−6−(メトキシメチル)−1H−インドール−1−カルボキシレート(427mg、1.16mmol)のメタノール(4.0mL)溶液に、窒素雰囲気下、室温にて28%ナトリウムメトキシド(4.0mL、19.6mmol)を加え、2.5時間攪拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加え、分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、粗生成物(301mg)を得た。
得られた粗生成物(301mg)をメタノール(11mL)に溶解させ、室温にて10%パラジウム−炭素(50%含水品)(12.0mg)を加えて、水素雰囲気下、3時間攪拌した。メタノールで希釈し、触媒をセライトを用いて濾過した。濾液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜2:3)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(156mg、76%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.43 (3H, s), 4.73 (2H, s), 6.43-6.47 (1H, m), 6.91 (1H, s), 7.10(1H, s), 7.13 (1H, s), 7.17 (1H, t, J=2.7 Hz), 8.00 (1H, brs).
製造例140−7に記載の6−(メトキシメチル)−1H−インドール−5−オールと製造例1−5に記載のN−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミドから、実施例1〜実施例33に準じて実施例140の出発物質である5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(メトキシメチル)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドを含む表13の実施例化合物を合成した。
[実施例143]6−シアノ−5−((2−(4−(1−エチルピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
6−シアノ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(3.9mg、7.89μmol)とテトラヒドロフラン(1.0mL)の混合物に、窒素雰囲気下、室温でトリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(10.7mg、0.05mmol)、アセトアルデヒド(5.6mg、0.127mmol)を加え、1時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルTLC(クロロホルム:メタノール=49:1)にて精製し、標記化合物(2.54mg、62%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.16 (3H, t, J=7.3 Hz), 1.81-1.96 (4H, m), 2.06-2.20 (2H, m),2.47-2.65 (3H, m), 3.01-3.08 (3H, m), 3.16 (2H, d, J=11.7 Hz), 5.82 (1H, brs), 6.59-6.65(1H, m), 6.76 (1H, dd, J=5.7, 2.4 Hz), 7.33 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.41 (1H, s), 7.57(1H, d, J=3.7 Hz), 7.78 (2H, d, J=8.1 Hz), 7.93 (1H, s), 8.20 (1H, d, J=5.5Hz), 8.60-8.68 (2H, m).
6−シアノ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(3.9mg、7.89μmol)とテトラヒドロフラン(1.0mL)の混合物に、窒素雰囲気下、室温でトリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(10.7mg、0.05mmol)、アセトアルデヒド(5.6mg、0.127mmol)を加え、1時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルTLC(クロロホルム:メタノール=49:1)にて精製し、標記化合物(2.54mg、62%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.16 (3H, t, J=7.3 Hz), 1.81-1.96 (4H, m), 2.06-2.20 (2H, m),2.47-2.65 (3H, m), 3.01-3.08 (3H, m), 3.16 (2H, d, J=11.7 Hz), 5.82 (1H, brs), 6.59-6.65(1H, m), 6.76 (1H, dd, J=5.7, 2.4 Hz), 7.33 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.41 (1H, s), 7.57(1H, d, J=3.7 Hz), 7.78 (2H, d, J=8.1 Hz), 7.93 (1H, s), 8.20 (1H, d, J=5.5Hz), 8.60-8.68 (2H, m).
出発物質の6−シアノ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミドは以下の方法で合成した。
[製造例143−1]1−(ベンジルオキシ)−2−クロロ−4−ニトロベンゼン
市販の2−クロロ−4−ニトロフェノール(10g、57.6mmol)、臭化ベンジル(7.6mL、63.9mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(100mL)に溶解し、炭酸カリウム(9.56g、69.1mmol)を加えて、室温にて3.5時間攪拌した。反応混合物に水を加え、室温で10分間攪拌した。析出した固体を濾取し、tert−ブチルメチルエーテルで洗浄、通気乾燥し、標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 5.28 (2H, s), 7.03 (1H, d, J=9.2 Hz), 7.33-7.48 (5H, m), 8.12(1H, dd, J=9.2, 2.9 Hz), 8.32 (1H, d, J=2.6 Hz).
市販の2−クロロ−4−ニトロフェノール(10g、57.6mmol)、臭化ベンジル(7.6mL、63.9mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(100mL)に溶解し、炭酸カリウム(9.56g、69.1mmol)を加えて、室温にて3.5時間攪拌した。反応混合物に水を加え、室温で10分間攪拌した。析出した固体を濾取し、tert−ブチルメチルエーテルで洗浄、通気乾燥し、標記化合物を定量的に得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 5.28 (2H, s), 7.03 (1H, d, J=9.2 Hz), 7.33-7.48 (5H, m), 8.12(1H, dd, J=9.2, 2.9 Hz), 8.32 (1H, d, J=2.6 Hz).
[製造例143−2]2−(5−(ベンジルオキシ)−4−クロロ−2−ニトロフェニル)アセトニトリル
製造例143−1に記載の1−(ベンジルオキシ)−2−クロロ−4−ニトロベンゼン(5g、19.0mmol)と4−クロロフェノキシアセトニトリル(3.50g、20.9mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(35mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、−30〜−40℃にてカリウム tert−ブトキシド(2g、17.8mmol)を加えた。同温にてカリウム tert−ブトキシド(2.32g、20.7mmol)を加えた。同温にて45分間攪拌後、1M塩酸を加えた。酢酸エチルで抽出後、水で2回、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜3:1〜1:1)で精製した。混合物画分を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜4:1〜13:7)で精製した。得られた固体をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(1.04g、18%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 4.24 (2H, s), 5.33 (2H, s), 7.29 (1H, s), 7.34-7.52 (5H, m),8.34 (1H, s).
製造例143−1に記載の1−(ベンジルオキシ)−2−クロロ−4−ニトロベンゼン(5g、19.0mmol)と4−クロロフェノキシアセトニトリル(3.50g、20.9mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(35mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、−30〜−40℃にてカリウム tert−ブトキシド(2g、17.8mmol)を加えた。同温にてカリウム tert−ブトキシド(2.32g、20.7mmol)を加えた。同温にて45分間攪拌後、1M塩酸を加えた。酢酸エチルで抽出後、水で2回、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜3:1〜1:1)で精製した。混合物画分を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜4:1〜13:7)で精製した。得られた固体をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(1.04g、18%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 4.24 (2H, s), 5.33 (2H, s), 7.29 (1H, s), 7.34-7.52 (5H, m),8.34 (1H, s).
[製造例143−3]6−クロロ−1H−インドール−5−オール
製造例143−2に記載の2−(5−(ベンジルオキシ)−4−クロロ−2−ニトロフェニル)アセトニトリル(1.04g、3.45mmol)をエタノール(40mL)に懸濁させ、室温にて5%ロジウム−炭素(355mg)を加え、水素雰囲気下、39時間20分攪拌した。反応混合物にメタノールを加え、セライトを用いて濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた固体を濾別し酢酸エチルで洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜3:2)で精製し、目的物画分を減圧濃縮して粗生成物を得た。
得られた粗生成物をエタノール(20mL)に溶解させ、室温にて10%パラジウム−炭素(50%含水品)(367mg)を加え、水素雰囲気下、50分間攪拌した。反応混合物にメタノールを加え、セライトを用いて濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた固体を濾別しジクロロメタンで洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:1〜3:2)で精製し、目的物画分を減圧濃縮して、標記化合物(193mg、33%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 5.25 (1H, s), 6.41-6.47 (1H, m), 7.19 (1H, t, J=2.7 Hz), 7.24(1H, s), 7.37 (1H, s), 8.02 (1H, brs).
製造例143−2に記載の2−(5−(ベンジルオキシ)−4−クロロ−2−ニトロフェニル)アセトニトリル(1.04g、3.45mmol)をエタノール(40mL)に懸濁させ、室温にて5%ロジウム−炭素(355mg)を加え、水素雰囲気下、39時間20分攪拌した。反応混合物にメタノールを加え、セライトを用いて濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた固体を濾別し酢酸エチルで洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜3:2)で精製し、目的物画分を減圧濃縮して粗生成物を得た。
得られた粗生成物をエタノール(20mL)に溶解させ、室温にて10%パラジウム−炭素(50%含水品)(367mg)を加え、水素雰囲気下、50分間攪拌した。反応混合物にメタノールを加え、セライトを用いて濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた固体を濾別しジクロロメタンで洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=3:1〜3:2)で精製し、目的物画分を減圧濃縮して、標記化合物(193mg、33%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 5.25 (1H, s), 6.41-6.47 (1H, m), 7.19 (1H, t, J=2.7 Hz), 7.24(1H, s), 7.37 (1H, s), 8.02 (1H, brs).
[製造例143−4]5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−6−カルボニトリル
製造例143−3に記載の6−クロロ−1H−インドール−5−オール(137mg、0.817mmol)をジメチルスルホキシド(1.0mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて製造例1−5に記載のN−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミド(181mg、1.06mmol)とカリウム tert−ブトキシド(110mg、0.981mmol)を加え、150℃で6.5時間加熱攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜1:3〜0:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物A(96.6mg)を得た。
得られた粗生成物Aの一部(57.4mg)をメタノール(2mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて2M水酸化ナトリウム溶液(2mL)を加え、65℃で2時間加熱攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物B(34.7mg)を得た。
得られた粗生成物Bの一部(10.4mg)、ビス(トリ−t−ブチルホスフィン)パラジウム(0)(8.19mg、0.016mmol)、シアン化亜鉛(9.4mg、0.08mmol)をN,N−ジメチルアセトアミド(500μL)に溶解させ、窒素雰囲気下、マイクロウェーブを用いて150℃で1時間加熱攪拌した。反応混合物に酢酸エチル、水を加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルTLC(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:3)で精製し、標記化合物(5.0mg、14%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 4.57 (2H, brs), 5.97 (1H, d, J=2.2 Hz), 6.31 (1H, dd, J=6.2,2.2 Hz), 6.56-6.63 (1H, m), 7.41 (1H, s), 7.48 (1H, t, J=3.0 Hz), 7.77 (1H, s),7.92 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.98 (1H, brs).
製造例143−3に記載の6−クロロ−1H−インドール−5−オール(137mg、0.817mmol)をジメチルスルホキシド(1.0mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて製造例1−5に記載のN−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミド(181mg、1.06mmol)とカリウム tert−ブトキシド(110mg、0.981mmol)を加え、150℃で6.5時間加熱攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜1:3〜0:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物A(96.6mg)を得た。
得られた粗生成物Aの一部(57.4mg)をメタノール(2mL)に溶解させ、窒素雰囲気下、室温にて2M水酸化ナトリウム溶液(2mL)を加え、65℃で2時間加熱攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、粗生成物B(34.7mg)を得た。
得られた粗生成物Bの一部(10.4mg)、ビス(トリ−t−ブチルホスフィン)パラジウム(0)(8.19mg、0.016mmol)、シアン化亜鉛(9.4mg、0.08mmol)をN,N−ジメチルアセトアミド(500μL)に溶解させ、窒素雰囲気下、マイクロウェーブを用いて150℃で1時間加熱攪拌した。反応混合物に酢酸エチル、水を加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルTLC(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:3)で精製し、標記化合物(5.0mg、14%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 4.57 (2H, brs), 5.97 (1H, d, J=2.2 Hz), 6.31 (1H, dd, J=6.2,2.2 Hz), 6.56-6.63 (1H, m), 7.41 (1H, s), 7.48 (1H, t, J=3.0 Hz), 7.77 (1H, s),7.92 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.98 (1H, brs).
製造例143−5に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−6−カルボニトリルから、実施例1〜実施例33に準じて実施例143の出発物質である6−シアノ−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミドを含む表14の実施例化合物を合成した。
[実施例145]6−(ジメチルアミノ)−N−メチル−5−((2−(4−(1−メチルピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド
6−(ジメチルアミノ)−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(5.4mg、10.5μmol)とテトラヒドロフラン(300μL)の混合物に、室温で36.5%ホルムアルデヒド水溶液(7.95μL、0.105mmol)、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(14mg、0.066mmol)、酢酸(3.02μL、0.053mmol)を加え、2時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をクロロホルムに溶解させ、NHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製した。得られた固体をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(3.31mg、60%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.77-1.88 (4H, m), 2.01-2.11 (2H, m), 2.33 (3H, s), 2.48-2.60(1H, m), 2.79 (6H, s), 2.95-3.03 (2H, m), 3.07 (3H, d, J=4.8 Hz), 5.48 (1H, brs),6.47 (1H, dd, J=5.9, 2.6 Hz), 6.52 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.22-7.25 (2H, m), 7.33 (2H,d, J=8.4 Hz), 7.78-7.84 (2H, m), 7.96 (1H, s), 7.99 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.06 (1H,d, J=5.9 Hz), 8.49 (1H, brs).
6−(ジメチルアミノ)−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミド(5.4mg、10.5μmol)とテトラヒドロフラン(300μL)の混合物に、室温で36.5%ホルムアルデヒド水溶液(7.95μL、0.105mmol)、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(14mg、0.066mmol)、酢酸(3.02μL、0.053mmol)を加え、2時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をクロロホルムに溶解させ、NHシリカゲルTLC(酢酸エチル)にて精製した。得られた固体をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(3.31mg、60%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.77-1.88 (4H, m), 2.01-2.11 (2H, m), 2.33 (3H, s), 2.48-2.60(1H, m), 2.79 (6H, s), 2.95-3.03 (2H, m), 3.07 (3H, d, J=4.8 Hz), 5.48 (1H, brs),6.47 (1H, dd, J=5.9, 2.6 Hz), 6.52 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.22-7.25 (2H, m), 7.33 (2H,d, J=8.4 Hz), 7.78-7.84 (2H, m), 7.96 (1H, s), 7.99 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.06 (1H,d, J=5.9 Hz), 8.49 (1H, brs).
出発物質の6−(ジメチルアミノ)−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミドは以下の方法で合成した。
[製造例145−1]4−(ベンジルオキシ)−3−ニトロアニリン
市販の4−アミノ−2−ニトロフェノール(5g、32.4mmol)、トリフェニルホスフィン(10.2g、38.9mmol)をジクロロメタン(200mL)に溶解し、0℃にてベンジルアルコール(4.0mL、38.7mmol)を添加後、ジイソプロピル アゾジカルボキシレート(7.87g、38.9mmol)のジクロロメタン(50mL)溶液を加え、室温にて21.5時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜2:3)で精製し、目的物画分を減圧濃縮して、標記化合物(7.26g、92%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 5.09 (2H, s), 5.25 (2H, s), 6.81 (1H, dd, J=9.0, 2.7 Hz), 7.01(1H, d, J=2.9 Hz), 7.13 (1H, d, J=9.2 Hz), 7.25-7.44 (5H, m).
市販の4−アミノ−2−ニトロフェノール(5g、32.4mmol)、トリフェニルホスフィン(10.2g、38.9mmol)をジクロロメタン(200mL)に溶解し、0℃にてベンジルアルコール(4.0mL、38.7mmol)を添加後、ジイソプロピル アゾジカルボキシレート(7.87g、38.9mmol)のジクロロメタン(50mL)溶液を加え、室温にて21.5時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜2:3)で精製し、目的物画分を減圧濃縮して、標記化合物(7.26g、92%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 5.09 (2H, s), 5.25 (2H, s), 6.81 (1H, dd, J=9.0, 2.7 Hz), 7.01(1H, d, J=2.9 Hz), 7.13 (1H, d, J=9.2 Hz), 7.25-7.44 (5H, m).
[製造例145−2]4−(ベンジルオキシ)−2−ブロモ−5−ニトロアニリン
製造例145−1に記載の4−(ベンジルオキシ)−3−ニトロアニリン(2.9g、11.9mmol)をジクロロメタン(80mL)とメタノール(40mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温にてテトラ−N−ブチルアンモニウム トリブロミド(5.73g、11.9mmol)を加え、50分間攪拌した。反応混合物に亜硫酸水素ナトリウム水溶液とジクロロメタンで希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜3:2)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(2.59g、67%)を84%の純度で得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 4.06 (2H, brs), 5.12 (2H, s), 7.25 (1H, s), 7.31 (1H, s),7.32-7.47 (5H, m).
製造例145−1に記載の4−(ベンジルオキシ)−3−ニトロアニリン(2.9g、11.9mmol)をジクロロメタン(80mL)とメタノール(40mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温にてテトラ−N−ブチルアンモニウム トリブロミド(5.73g、11.9mmol)を加え、50分間攪拌した。反応混合物に亜硫酸水素ナトリウム水溶液とジクロロメタンで希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜3:2)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(2.59g、67%)を84%の純度で得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 4.06 (2H, brs), 5.12 (2H, s), 7.25 (1H, s), 7.31 (1H, s),7.32-7.47 (5H, m).
[製造例145−3]4−(ベンジルオキシ)−5−ニトロ−2−((トリメチルシリル)エチニル)アニリン
製造例145−2に記載の4−(ベンジルオキシ)−2−ブロモ−5−ニトロアニリン(2.59g、8.01mmol)をテトラヒドロフラン(20mL)とトリエチルアミン(40mL)に溶解させ、室温にてトリメチルシリルアセチレン(2.26mL、16.0mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II) クロリド(291mg、0.415mmol)およびヨウ化銅(I)(164mg、0.861mmol)を加え、窒素雰囲気下、60℃にて加熱攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜3:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(2.19g、80%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 0.28 (9H, s), 4.19 (2H, brs), 5.11 (2H, s), 7.09 (1H, s), 7.21(1H, s), 7.29-7.48 (5H, m).
製造例145−2に記載の4−(ベンジルオキシ)−2−ブロモ−5−ニトロアニリン(2.59g、8.01mmol)をテトラヒドロフラン(20mL)とトリエチルアミン(40mL)に溶解させ、室温にてトリメチルシリルアセチレン(2.26mL、16.0mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II) クロリド(291mg、0.415mmol)およびヨウ化銅(I)(164mg、0.861mmol)を加え、窒素雰囲気下、60℃にて加熱攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=9:1〜3:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(2.19g、80%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 0.28 (9H, s), 4.19 (2H, brs), 5.11 (2H, s), 7.09 (1H, s), 7.21(1H, s), 7.29-7.48 (5H, m).
[製造例145−4]5−(ベンジルオキシ)−6−ニトロ−1H−インドール
製造例145−3に記載の4−(ベンジルオキシ)−5−ニトロ−2−((トリメチルシリル)エチニル)アニリン(2.19g、6.44mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(20mL)に溶解させ、室温にてヨウ化銅(I)(1.23g、6.44mmol)を加え、100℃にて加熱攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜7:3〜3:2)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(1.23g、71%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 5.24 (2H, s), 6.49-6.56 (1H, m), 7.27-7.46 (5H, m), 7.49-7.57(2H, m), 8.06 (1H, d, J=1.1 Hz), 8.39 (1H, brs).
製造例145−3に記載の4−(ベンジルオキシ)−5−ニトロ−2−((トリメチルシリル)エチニル)アニリン(2.19g、6.44mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(20mL)に溶解させ、室温にてヨウ化銅(I)(1.23g、6.44mmol)を加え、100℃にて加熱攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=4:1〜7:3〜3:2)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(1.23g、71%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 5.24 (2H, s), 6.49-6.56 (1H, m), 7.27-7.46 (5H, m), 7.49-7.57(2H, m), 8.06 (1H, d, J=1.1 Hz), 8.39 (1H, brs).
[製造例145−5]6−アミノ−1H−インドール−5−オール
製造例145−4に記載の5−(ベンジルオキシ)−6−ニトロ−1H−インドール(400mg、1.49mmol)をメタノール(10mL)とテトラヒドロフラン(5mL)に懸濁させ、室温にて10%パラジウム−炭素(50%含水品)(159mg)を加え、水素雰囲気下、50分間攪拌した。反応混合物にメタノールを加え、セライトを用いて濾過した。濾液を減圧濃縮後、得られた固体をジエチルエーテルと酢酸エチルで洗浄し、標記化合物(168mg、76%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 4.31 (2H, brs), 6.05 (1H, t, J=2.0 Hz), 6.59 (1H, s), 6.74(1H, s), 6.88 (1H, t, J=2.8 Hz), 8.48 (1H, brs), 10.25 (1H, brs).
製造例145−4に記載の5−(ベンジルオキシ)−6−ニトロ−1H−インドール(400mg、1.49mmol)をメタノール(10mL)とテトラヒドロフラン(5mL)に懸濁させ、室温にて10%パラジウム−炭素(50%含水品)(159mg)を加え、水素雰囲気下、50分間攪拌した。反応混合物にメタノールを加え、セライトを用いて濾過した。濾液を減圧濃縮後、得られた固体をジエチルエーテルと酢酸エチルで洗浄し、標記化合物(168mg、76%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 4.31 (2H, brs), 6.05 (1H, t, J=2.0 Hz), 6.59 (1H, s), 6.74(1H, s), 6.88 (1H, t, J=2.8 Hz), 8.48 (1H, brs), 10.25 (1H, brs).
[製造例145−6]6−(ジメチルアミノ)−1H−インドール−5−オール
製造例145−5に記載の6−アミノ−1H−インドール−5−オール(80mg、0.54mmol)をテトラヒドロフラン(5.4mL)に溶解させ、室温で36.5%ホルムアルデヒド水溶液(122μL、1.62mmol)、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(343mg、1.62mmol)、酢酸(93μL、1.62mmol)を加え、2時間攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=7:3〜1:4)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(62.0mg、65%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.70 (6H, s), 6.42 (1H, ddd, J=3.0, 2.1, 1.1 Hz), 7.11-7.15 (2H,m), 7.21 (1H, s), 7.94 (1H, brs).
製造例145−5に記載の6−アミノ−1H−インドール−5−オール(80mg、0.54mmol)をテトラヒドロフラン(5.4mL)に溶解させ、室温で36.5%ホルムアルデヒド水溶液(122μL、1.62mmol)、トリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム(343mg、1.62mmol)、酢酸(93μL、1.62mmol)を加え、2時間攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=7:3〜1:4)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(62.0mg、65%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.70 (6H, s), 6.42 (1H, ddd, J=3.0, 2.1, 1.1 Hz), 7.11-7.15 (2H,m), 7.21 (1H, s), 7.94 (1H, brs).
製造例145−6に記載の6−(ジメチルアミノ)−1H−インドール−5−オールと製造例1−5に記載のN−(4−クロロピリジン−2−イル)アセトアミドから、実施例1〜実施例33に準じて実施例145の出発物質である6−(ジメチルアミノ)−N−メチル−5−((2−(4−(ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−1H−インドール−1−カルボキサミドを含む表15の実施例化合物を合成した。
[実施例148]5−((2−(4−(1−(2−ヒドロキシエチル)−2−オキソピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
製造例20−7に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(460mg、1.29mmol)、製造例148−4に記載の4−(1−(2−((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)エチル)−2−オキソピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(585mg、1.55mmol)と4−ジメチルアミノピリジン(315mg、2.58mmol)を1,2−ジメトキシエタン(6mL)に溶解させ、、トリエチルアミン(360μL、2.58mmol)と1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(495mg、2.58mmol)を加え、室温にて1時間攪拌後、55℃にて2時間攪拌した。反応混合物に2M塩酸(5mL、10.0mmol)を加え3時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、2M水酸化ナトリウム溶液で中和後、酢酸エチルにて抽出を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=24:1〜9:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、ジクロロメタンとtert−ブチルメチルエーテルを用いて固体を析出させ、その固体を濾取し標記化合物(632mg、81%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.98-2.10 (1H, m), 2.11-2.22 (1H, m), 2.54 (1H, dd, J=17.6,11.0 Hz), 2.71-2.81 (1H, m), 3.06 (3H, d, J=4.4 Hz), 3.15-3.23 (2H, m), 3.26 (3H,s), 3.39-3.48 (1H, m), 3.49-3.61 (4H, m), 3.63-3.71 (1H, m), 3.84 (2H, d, J=4.8Hz), 4.08-4.26 (2H, m), 5.60 (1H, brs), 6.55 (1H, d, J=3.3 Hz), 6.62 (1H, dd, J=5.7,2.4 Hz), 7.26-7.35 (4H, m), 7.85 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.02(1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.56 (1H, brs).
製造例20−7に記載の5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(460mg、1.29mmol)、製造例148−4に記載の4−(1−(2−((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)エチル)−2−オキソピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(585mg、1.55mmol)と4−ジメチルアミノピリジン(315mg、2.58mmol)を1,2−ジメトキシエタン(6mL)に溶解させ、、トリエチルアミン(360μL、2.58mmol)と1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(495mg、2.58mmol)を加え、室温にて1時間攪拌後、55℃にて2時間攪拌した。反応混合物に2M塩酸(5mL、10.0mmol)を加え3時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、2M水酸化ナトリウム溶液で中和後、酢酸エチルにて抽出を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=1:1〜0:1〜酢酸エチル:メタノール=24:1〜9:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、ジクロロメタンとtert−ブチルメチルエーテルを用いて固体を析出させ、その固体を濾取し標記化合物(632mg、81%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.98-2.10 (1H, m), 2.11-2.22 (1H, m), 2.54 (1H, dd, J=17.6,11.0 Hz), 2.71-2.81 (1H, m), 3.06 (3H, d, J=4.4 Hz), 3.15-3.23 (2H, m), 3.26 (3H,s), 3.39-3.48 (1H, m), 3.49-3.61 (4H, m), 3.63-3.71 (1H, m), 3.84 (2H, d, J=4.8Hz), 4.08-4.26 (2H, m), 5.60 (1H, brs), 6.55 (1H, d, J=3.3 Hz), 6.62 (1H, dd, J=5.7,2.4 Hz), 7.26-7.35 (4H, m), 7.85 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.91 (1H, d, J=2.2 Hz), 8.02(1H, s), 8.09 (1H, d, J=5.9 Hz), 8.56 (1H, brs).
出発物質の4−(1−(2−((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)エチル)−2−オキソピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッドは以下の方法で合成した。
[製造例148−1]tert−ブチル 4−(4−((ベンジルオキシ)カルボニル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレート
製造例1−12に記載の4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(3.0g、9.82mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(15mL)に溶解させた後、炭酸カリウム(1.63g、11.8mmol)、臭化ベンジル(1.29mL、10.8mmol)を加え、室温にて24時間攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(3.83g、99%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.48 (9H, s), 1.58-1.70 (2H, m), 1.82 (2H, d, J=12.4 Hz), 2.56-2.96(3H, m), 4.17-4.39 (2H, m), 5.36 (2H, s), 7.25-7.29 (3H, m), 7.31-7.50 (4H, m),8.02 (2H, d, J=8.4 Hz).
製造例1−12に記載の4−(1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド(3.0g、9.82mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(15mL)に溶解させた後、炭酸カリウム(1.63g、11.8mmol)、臭化ベンジル(1.29mL、10.8mmol)を加え、室温にて24時間攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(3.83g、99%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.48 (9H, s), 1.58-1.70 (2H, m), 1.82 (2H, d, J=12.4 Hz), 2.56-2.96(3H, m), 4.17-4.39 (2H, m), 5.36 (2H, s), 7.25-7.29 (3H, m), 7.31-7.50 (4H, m),8.02 (2H, d, J=8.4 Hz).
[製造例148−2]ベンジル 4−(2−オキソピペリジン−4−イル)ベンゾエート
製造例148−1に記載のtert−ブチル 4−(4−((ベンジルオキシ)カルボニル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレート(3.83g、9.68mmol)を酢酸エチル(90mL)に溶解させた後、室温で水(270mL)に溶解させた酸化ルテニウム(IV)水和物(44.0mg、0.29mmol)、過ヨウ素酸ナトリウム(8.29g、38.7mmol)を加え、室温にて18時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え分配した後、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタン(30mL)に溶解させた後、トリフルオロ酢酸(15mL、202mmol)を加え室温にて1時間攪拌した。減圧濃縮し、残渣に飽和炭酸ナトリウム水溶液を加えた。酢酸エチルを加え分配した後、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、残渣をジエチルエーテルで洗浄することで、標記化合物(2.03g、68%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.88-2.05 (1H, m), 2.06-2.17 (1H, m), 2.41-2.58 (1H, m), 2.64-2.78(1H, m), 3.10-3.26 (1H, m), 3.33-3.52 (2H, m), 5.37 (2H, s), 5.71-5.83 (1H, m),7.27-7.50 (7H, m), 8.01-8.10 (2H, m).
製造例148−1に記載のtert−ブチル 4−(4−((ベンジルオキシ)カルボニル)フェニル)ピペリジン−1−カルボキシレート(3.83g、9.68mmol)を酢酸エチル(90mL)に溶解させた後、室温で水(270mL)に溶解させた酸化ルテニウム(IV)水和物(44.0mg、0.29mmol)、過ヨウ素酸ナトリウム(8.29g、38.7mmol)を加え、室温にて18時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え分配した後、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をジクロロメタン(30mL)に溶解させた後、トリフルオロ酢酸(15mL、202mmol)を加え室温にて1時間攪拌した。減圧濃縮し、残渣に飽和炭酸ナトリウム水溶液を加えた。酢酸エチルを加え分配した後、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、残渣をジエチルエーテルで洗浄することで、標記化合物(2.03g、68%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.88-2.05 (1H, m), 2.06-2.17 (1H, m), 2.41-2.58 (1H, m), 2.64-2.78(1H, m), 3.10-3.26 (1H, m), 3.33-3.52 (2H, m), 5.37 (2H, s), 5.71-5.83 (1H, m),7.27-7.50 (7H, m), 8.01-8.10 (2H, m).
[製造例148−3]ベンジル 4−(1−(2−((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)エチル)−2−オキソピペリジン−4−イル)ベンゾエート
製造例148−2に記載のベンジル 4−(2−オキソピペリジン−4−イル)ベンゾエート(1.3g、4.20mmol)をジメチルスルホキシド(20mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温で50−72%水素化ナトリウム 油状(218mg)を加えて室温にて1時間攪拌した。続いてジメチルスルホキシド(10mL)に溶解したtert−ブチル(2−ヨードエトキシ)ジメチルシラン(1.92g、6.72mmol)を加えて室温にて20時間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液、酢酸エチルを0℃で加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=10:1〜1:2)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(920mg、47%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 0.06 (6H, d, J=1.8 Hz), 0.89 (9H, s), 1.87-2.03 (1H, m),2.07-2.18 (1H, m), 2.50 (1H, dd, J=17.4, 11.2 Hz), 2.63-2.81 (1H, m), 3.09-3.20(1H, m), 3.46-3.59 (4H, m), 3.82 (2H, t, J=5.3 Hz), 5.36 (2H, s), 7.27-7.50 (7H,m), 8.01-8.08 (2H, m).
製造例148−2に記載のベンジル 4−(2−オキソピペリジン−4−イル)ベンゾエート(1.3g、4.20mmol)をジメチルスルホキシド(20mL)に溶解させた後、窒素雰囲気下、室温で50−72%水素化ナトリウム 油状(218mg)を加えて室温にて1時間攪拌した。続いてジメチルスルホキシド(10mL)に溶解したtert−ブチル(2−ヨードエトキシ)ジメチルシラン(1.92g、6.72mmol)を加えて室温にて20時間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液、酢酸エチルを0℃で加え分配した。水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=10:1〜1:2)で精製した。目的物画分を減圧濃縮し、標記化合物(920mg、47%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 0.06 (6H, d, J=1.8 Hz), 0.89 (9H, s), 1.87-2.03 (1H, m),2.07-2.18 (1H, m), 2.50 (1H, dd, J=17.4, 11.2 Hz), 2.63-2.81 (1H, m), 3.09-3.20(1H, m), 3.46-3.59 (4H, m), 3.82 (2H, t, J=5.3 Hz), 5.36 (2H, s), 7.27-7.50 (7H,m), 8.01-8.08 (2H, m).
[製造例148−4]4−(1−(2−((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)エチル)−2−オキソピペリジン−4−イル)ベンゾイック アシッド
製造例148−3に記載のベンジル 4−(1−(2−((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)エチル)−2−オキソピペリジン−4−イル)ベンゾエート(920mg、1.97mmol)をメタノール(20mL)に溶解させた後、10%パラジウム−炭素(50%含水品)(209mg)を加えて、水素雰囲気下で3時間攪拌した。反応系内を窒素で置換した後、触媒をセライトを用いて濾過し、メタノールで洗浄した。濾液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:1〜0:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、標記化合物(592mg、80%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 0.07 (6H, d, J=1.5 Hz), 0.90 (9H, s), 1.96-2.02 (1H, m),2.10-2.16 (1H, m), 2.52 (1H, dd, J=17.6, 11.0 Hz), 2.72-2.80 (1H, m), 3.10-3.24(1H, m), 3.47-3.60 (4H, m), 3.83 (2H, t, J=5.5 Hz), 7.31 (2H, d, J=8.1 Hz), 8.06(2H, d, J=8.4 Hz).
製造例148−3に記載のベンジル 4−(1−(2−((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)エチル)−2−オキソピペリジン−4−イル)ベンゾエート(920mg、1.97mmol)をメタノール(20mL)に溶解させた後、10%パラジウム−炭素(50%含水品)(209mg)を加えて、水素雰囲気下で3時間攪拌した。反応系内を窒素で置換した後、触媒をセライトを用いて濾過し、メタノールで洗浄した。濾液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:酢酸エチル=2:1〜0:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、標記化合物(592mg、80%)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 0.07 (6H, d, J=1.5 Hz), 0.90 (9H, s), 1.96-2.02 (1H, m),2.10-2.16 (1H, m), 2.52 (1H, dd, J=17.6, 11.0 Hz), 2.72-2.80 (1H, m), 3.10-3.24(1H, m), 3.47-3.60 (4H, m), 3.83 (2H, t, J=5.5 Hz), 7.31 (2H, d, J=8.1 Hz), 8.06(2H, d, J=8.4 Hz).
製造例24−8に記載された5−((2−アミノピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−エトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミドから、実施例1〜実施例33に準じて表16の実施例化合物を合成した。
[実施例150]5−((2−(((4−(cis−1−(2−ヒドロキシエチル)−1−オキシドピペリジン−4−イル)フェニル)カルボニル)アミノ)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
実施例22に記載の5−((2−(4−(1−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(508mg、0.864mmol)とジクロロメタン(25mL)の混合物に、窒素雰囲気下、3−クロロパーオキシベンゾイック アシッド(229mg、0.864mmol)(純度65%)を加え、室温にて30分間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル、10%亜硫酸ナトリウム水溶液を加え分配した。水層を塩化ナトリウムで飽和させ、酢酸エチルとテトラヒドロフランとメタノールの混合溶媒を用いて抽出した。合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をメタノールとジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=49:1〜4:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、析出した固体を酢酸エチルとテトラヒドロフランとメタノールに溶解させた。析出した固体を濾取、酢酸エチルで洗浄し、濾液を得た。濾液を減圧濃縮後(168mg)、テトラヒドロフランと酢酸エチルとイソプロパノールに懸濁させ、60℃にて20分間攪拌した。室温まで冷却し、析出した固体を濾取、酢酸エチルで洗浄し、濾液を得た。濾液を減圧濃縮後(62.4mg)、一部(10.4mg)をODSカラムクロマトグラフィー(0.5%トリフルオロ酢酸/水:アセトニトリル=37:13)にて精製し、cis体(保持時間=73−75min)とtrans体(保持時間=65−67min)に分離した。それぞれバッファーを加えてブタノールで抽出後、溶媒を減圧濃縮し、ODSカラムクロマトグラフィー(メタノール:水=1:9、アセトニトリル:水=1:9、アセトニトリル、メタノールで順次流出)にて精製し、高極性成分として標記化合物cis体(1.1mg)と実施例151の低極性成分を得た。
cis体
1H-NMR Spectrum (600MHz, DMSO-d6)δ(ppm): 1.68 (2H, d, J=13.0 Hz), 2.32-2.63 (2H, m), 2.72-2.81(1H, m), 2.85 (3H, d, J=4.2 Hz), 3.06-3.56 (11H, m), 3.86-3.97 (2H, m), 4.03-4.14(2H, m), 6.63 (1H, d, J=3.5 Hz), 6.67 (1H, dd, J=5.7, 2.4 Hz), 7.37 (2H, d, J=8.2Hz), 7.45 (1H, s), 7.64-7.72 (1H, m), 7.75-7.82 (1H, m), 7.93 (2H, d, J=8.2Hz), 8.08 (1H, s), 8.11-8.24 (2H, m), 10.65 (1H, s).
実施例22に記載の5−((2−(4−(1−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(508mg、0.864mmol)とジクロロメタン(25mL)の混合物に、窒素雰囲気下、3−クロロパーオキシベンゾイック アシッド(229mg、0.864mmol)(純度65%)を加え、室温にて30分間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル、10%亜硫酸ナトリウム水溶液を加え分配した。水層を塩化ナトリウムで飽和させ、酢酸エチルとテトラヒドロフランとメタノールの混合溶媒を用いて抽出した。合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を留去し、得られた残渣をメタノールとジクロロメタンに溶解させ、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=49:1〜4:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、析出した固体を酢酸エチルとテトラヒドロフランとメタノールに溶解させた。析出した固体を濾取、酢酸エチルで洗浄し、濾液を得た。濾液を減圧濃縮後(168mg)、テトラヒドロフランと酢酸エチルとイソプロパノールに懸濁させ、60℃にて20分間攪拌した。室温まで冷却し、析出した固体を濾取、酢酸エチルで洗浄し、濾液を得た。濾液を減圧濃縮後(62.4mg)、一部(10.4mg)をODSカラムクロマトグラフィー(0.5%トリフルオロ酢酸/水:アセトニトリル=37:13)にて精製し、cis体(保持時間=73−75min)とtrans体(保持時間=65−67min)に分離した。それぞれバッファーを加えてブタノールで抽出後、溶媒を減圧濃縮し、ODSカラムクロマトグラフィー(メタノール:水=1:9、アセトニトリル:水=1:9、アセトニトリル、メタノールで順次流出)にて精製し、高極性成分として標記化合物cis体(1.1mg)と実施例151の低極性成分を得た。
cis体
1H-NMR Spectrum (600MHz, DMSO-d6)δ(ppm): 1.68 (2H, d, J=13.0 Hz), 2.32-2.63 (2H, m), 2.72-2.81(1H, m), 2.85 (3H, d, J=4.2 Hz), 3.06-3.56 (11H, m), 3.86-3.97 (2H, m), 4.03-4.14(2H, m), 6.63 (1H, d, J=3.5 Hz), 6.67 (1H, dd, J=5.7, 2.4 Hz), 7.37 (2H, d, J=8.2Hz), 7.45 (1H, s), 7.64-7.72 (1H, m), 7.75-7.82 (1H, m), 7.93 (2H, d, J=8.2Hz), 8.08 (1H, s), 8.11-8.24 (2H, m), 10.65 (1H, s).
[実施例151]5−((2−(((4−(trans−1−(2−ヒドロキシエチル)−1−オキシドピペリジン−4−イル)フェニル)カルボニル)アミノ)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
実施例150の低極性成分としてtrans体(1.3mg)を得た。
trans体
1H-NMR Spectrum (600MHz, DMSO-d6)δ(ppm): 1.85-2.03 (4H, m), 2.85 (3H, d, J=4.2 Hz),2.90-3.02 (1H, m), 3.05-3.63 (11H, m), 3.72-3.91 (2H, m), 3.99-4.18 (2H, m), 6.63(1H, d, J=3.5 Hz), 6.68 (1H, dd, J=5.8, 2.1 Hz), 7.34-7.53 (3H, m), 7.68 (1H,d, J=2.1 Hz), 7.78 (1H, d, J=3.5 Hz), 7.92 (2H, d, J=8.2 Hz), 8.08 (1H, s),8.12-8.25 (2H, m), 10.65 (1H, s).
実施例150の低極性成分としてtrans体(1.3mg)を得た。
trans体
1H-NMR Spectrum (600MHz, DMSO-d6)δ(ppm): 1.85-2.03 (4H, m), 2.85 (3H, d, J=4.2 Hz),2.90-3.02 (1H, m), 3.05-3.63 (11H, m), 3.72-3.91 (2H, m), 3.99-4.18 (2H, m), 6.63(1H, d, J=3.5 Hz), 6.68 (1H, dd, J=5.8, 2.1 Hz), 7.34-7.53 (3H, m), 7.68 (1H,d, J=2.1 Hz), 7.78 (1H, d, J=3.5 Hz), 7.92 (2H, d, J=8.2 Hz), 8.08 (1H, s),8.12-8.25 (2H, m), 10.65 (1H, s).
[実施例152]6−(2−ヒドロキシエトキシ)−5−((2−(4−(1−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド
実施例22に記載の5−((2−(4−(1−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(500mg、0.851mmol)とジクロロメタン(5mL)の混合物に、窒素雰囲気下、0℃にて三臭化ほう素(2.55mL、2.55mmol)を加え、室温にて4時間攪拌した。反応混合物を0℃に冷却した後、メタノール、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え分配した。水層をジクロロメタンで抽出した後、有機層を合わせ飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜5:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、得られた固体をジクロロメタンを用いて洗浄し、標記化合物(97mg、20%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 1.58-1.79 (4H, m), 2.00-2.11 (2H, m), 2.41 (2H, t, J=6.4 Hz),2.52-2.59 (1H, m), 2.85 (3H, d, J=4.4 Hz), 2.97 (2H, d, J=11.7 Hz), 3.46-3.58 (4H,m), 3.96-4.01 (2H, m), 4.37 (1H, t, J=5.3 Hz), 4.72 (1H, t, J=5.5 Hz), 6.63 (1H,d, J=3.5 Hz), 6.66 (1H, m), 7.33 (2H, m), 7.43 (1H, s), 7.70 (1H, d, J=2.2 Hz),7.78 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.85-7.96 (2H, m), 8.10 (1H, s), 8.13-8.26 (2H, m), 10.65(1H, brs).
実施例22に記載の5−((2−(4−(1−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン−4−イル)ベンズアミド)ピリジン−4−イル)オキシ)−6−(2−メトキシエトキシ)−N−メチル−1H−インドール−1−カルボキサミド(500mg、0.851mmol)とジクロロメタン(5mL)の混合物に、窒素雰囲気下、0℃にて三臭化ほう素(2.55mL、2.55mmol)を加え、室温にて4時間攪拌した。反応混合物を0℃に冷却した後、メタノール、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え分配した。水層をジクロロメタンで抽出した後、有機層を合わせ飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過した。溶媒を留去し、得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜5:1)で精製した。目的物画分を減圧濃縮後、得られた固体をジクロロメタンを用いて洗浄し、標記化合物(97mg、20%)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 1.58-1.79 (4H, m), 2.00-2.11 (2H, m), 2.41 (2H, t, J=6.4 Hz),2.52-2.59 (1H, m), 2.85 (3H, d, J=4.4 Hz), 2.97 (2H, d, J=11.7 Hz), 3.46-3.58 (4H,m), 3.96-4.01 (2H, m), 4.37 (1H, t, J=5.3 Hz), 4.72 (1H, t, J=5.5 Hz), 6.63 (1H,d, J=3.5 Hz), 6.66 (1H, m), 7.33 (2H, m), 7.43 (1H, s), 7.70 (1H, d, J=2.2 Hz),7.78 (1H, d, J=3.7 Hz), 7.85-7.96 (2H, m), 8.10 (1H, s), 8.13-8.26 (2H, m), 10.65(1H, brs).
実施例34〜実施例130、実施例132、実施例134、実施例136−実施例139、実施例141、実施例142、実施例144、実施例146、実施例147および実施例149の化合物のマススペクトル(ESI−MS(m/z))を表17および表18に示した。
[薬理試験例]
1.FGFR1キナーゼアッセイ
このアッセイは、FGFR1蛋白のチロシンキナーゼ活性に対する被験物質の阻害活性を測定する。
1.FGFR1キナーゼアッセイ
このアッセイは、FGFR1蛋白のチロシンキナーゼ活性に対する被験物質の阻害活性を測定する。
平底96ウェル白プレート(住友ベークライト MS−8496W)に、アッセイバッファー(20mM HEPES−NaOH、0.01% TritonX−100、2mM DTT、5mM MgCl2)にて1μg/mLに希釈したFGFR1蛋白(カルナバイオサイエンス社 08−133)溶液10μl、最終濃度1000nMのCSK−tide substrate(AnaSpec Inc 63843)および最終濃度58.3μMのATP(promega V9102)を含むアッセイバッファー溶液10μL、アッセイバッファーにて希釈した被験物質5μlを加え、室温で1時間反応させた。キナーゼ活性測定にはADP−GloTM Kinase Assay(promega V9102)を用いた。反応後のプレートにADP−Glo reagentを各ウェル25μL添加し、室温で40分間反応させキナーゼ反応を停止し、残存ATPを枯渇させた。さらにKinase detection reagentを加え、室温で40分間反応させADPからATPへの変換とルシフェラーゼ/ルシフェリンカップリング反応とATPによる発光反応をおこなった。EnvisionTM(パーキンエルマー株式会社)にて各ウェルの発光量を測定し酵素活性を評価した。被験物質を添加せずにキナーゼタンパク質を添加した場合の発光量を100%、被験物質およびキナーゼタンパク質を添加していない場合の発光量を0%として、被験物質存在下での発光量率を求めた。この発光量率によりキナーゼ活性を50%阻害するのに必要な被験物質の濃度(IC50値)を算出し、表19、表20および表21に示した。
2.FGFR2キナーゼアッセイ
このアッセイは、FGFR2蛋白のチロシンキナーゼ活性に対する被験物質の阻害活性を測定する。
このアッセイは、FGFR2蛋白のチロシンキナーゼ活性に対する被験物質の阻害活性を測定する。
平底96ウェル白プレート(住友ベークライト MS−8496W)に、アッセイバッファー(20mM HEPES−NaOH、0.01% TritonX−100、2mM DTT、5mM MgCl2)にて1μg/mLに希釈したFGFR2蛋白(カルナバイオサイエンス社 08−134)溶液10μl、最終濃度1000nMのCSK−tide substrate(AnaSpec Inc 63843)および最終濃度35μMのATP(promega V9102)を含むアッセイバッファー溶液10μL、アッセイバッファーにて希釈した被験物質5μlを加え、室温で1時間反応させた。キナーゼ活性測定にはADP−GloTM Kinase Assay(promega V9102)を用いた。反応後のプレートにADP−Glo reagentを各ウェル25μL添加し、室温で40分間反応させキナーゼ反応を停止し、残存ATPを枯渇させた。さらにKinase detection reagentを加え、室温で40分間反応させADPからATPへの変換とルシフェラーゼ/ルシフェリンカップリング反応とATPによる発光反応をおこなった。EnvisionTM(パーキンエルマー株式会社)にて各ウェルの発光量を測定し酵素活性を評価した。被験物質を添加せずにキナーゼタンパク質を添加した場合の発光量を100%、被験物質およびキナーゼタンパク質を添加していない場合の発光量を0%として、被験物質存在下での発光量率を求めた。この発光量率によりキナーゼ活性を50%阻害するのに必要な被験物質の濃度(IC50値)を算出し、表22に示した。
3.FGFR3キナーゼアッセイ
このアッセイは、FGFR3蛋白のチロシンキナーゼ活性に対する被験物質の阻害活性を測定する。
このアッセイは、FGFR3蛋白のチロシンキナーゼ活性に対する被験物質の阻害活性を測定する。
平底96ウェル白プレート(住友ベークライト MS−8496W)に、アッセイバッファー(20mM HEPES−NaOH、0.01% TritonX−100、2mM DTT、5mM MgCl2)にて1μg/mLに希釈したFGFR3蛋白(カルナバイオサイエンス社 08−135)溶液10μl、最終濃度1000nMのCSK−tide substrate(AnaSpec Inc 63843)および最終濃度16.7μMのATP(promega V9102)を含むアッセイバッファー溶液10μL、アッセイバッファーにて希釈した被験物質5μlを加え、室温で2時間反応させた。キナーゼ活性測定にはADP−GloTM Kinase Assay(promega V9102)を用いた。反応後のプレートにADP−Glo reagentを各ウェル25μL添加し、室温で40分間反応させキナーゼ反応を停止し、残存ATPを枯渇させた。さらにKinase detection reagentを加え、室温で40分間反応させADPからATPへの変換とルシフェラーゼ/ルシフェリンカップリング反応とATPによる発光反応をおこなった。EnvisionTM(パーキンエルマー株式会社)にて各ウェルの発光量を測定し酵素活性を評価した。被験物質を添加せずにキナーゼタンパク質を添加した場合の発光量を100%、被験物質およびキナーゼタンパク質を添加していない場合の発光量を0%として、被験物質存在下での発光量率を求めた。この発光量率によりキナーゼ活性を50%阻害するのに必要な被験物質の濃度(IC50値)を算出し、表23に示した。
4.FGFR4キナーゼアッセイ
このアッセイは、FGFR4蛋白のチロシンキナーゼ活性に対する被験物質の阻害活性を測定する。
このアッセイは、FGFR4蛋白のチロシンキナーゼ活性に対する被験物質の阻害活性を測定する。
平底96ウェル白プレート(住友ベークライト MS−8496W)に、アッセイバッファー(20mM HEPES−NaOH、0.01% TritonX−100、2mM DTT、5mM MgCl2、2mM MnCl2)にて1μg/mLに希釈したFGFR4蛋白(カルナバイオサイエンス社 08−136)溶液10μl、最終濃度1000nMのCSK−tide substrate(AnaSpec,Inc 63843)および最終濃度75μMのATP(promega V9102)を含むアッセイバッファー溶液10μL、アッセイバッファーにて希釈した被験物質5μlを加え、室温で2時間反応させた。キナーゼ活性測定にはADP−GloTM Kinase Assay(promega V9102)を用いた。反応後のプレートにADP−Glo reagentを各ウェル25μL添加し、室温で40分間反応させキナーゼ反応を停止し、残存ATPを枯渇させた。さらにKinase detection reagentを加え、室温で40分間反応させADPからATPへの変換とルシフェラーゼ/ルシフェリンカップリング反応とATPによる発光反応をおこなった。EnvisionTM(パーキンエルマー株式会社)にて各ウェルの発光量を測定し酵素活性を評価した。被験物質を添加せずにキナーゼタンパク質を添加した場合の発光量を100%、被験物質およびキナーゼタンパク質を添加していない場合の発光量を0%として、被験物質存在下での発光量率を求めた。この発光量率によりキナーゼ活性を50%阻害するのに必要な被験物質の濃度(IC50値)を算出し、表24に示した。
5.SNU−16増殖阻害アッセイ
このアッセイは、FGFR2遺伝子増幅を有するヒト胃がん細胞株における被験物質の増殖阻害活性を測定する。
このアッセイは、FGFR2遺伝子増幅を有するヒト胃がん細胞株における被験物質の増殖阻害活性を測定する。
ヒト胃がん細胞株SNU−16(ATCC Number CRL−5974)はFGFR2遺伝子増幅を有することが報告されている(Cancer Res.2008.68:2340−2348)。SNU−16細胞は10% FBS、ペニシリン/ストレプトマイシン(WAKO 168−23191)を含むRPMI−1640(WAKO 187−02021)培地を用い、5%CO2インキュベーター中(37℃)で培養維持をおこなった。96ウェルプレート(ベクトンディッキンソン 35−3075)の各ウェルに、10%FBSを含むRPMI−1640培地を用いて1×104 cells/mLに調製したSNU−16の細胞懸濁液を150μLずつ加え、5%CO2インキュベーター中(37℃)で一晩培養した。翌日、10%FBSを含むRPMI−1640培地にて希釈した被験物質を50μLずつ添加し、5%CO2インキュベーター中(37℃)で3日間培養した。Cell Counting Kit−8(同仁化学研究所 CK04)10μLを各ウェルに添加し、5%CO2インキュベーター中(37℃)で1−2時間培養し発色させた。ENVISIONTM(パーキンエルマー社)により450nmの吸光度を測定した。被験物質を添加していない場合の吸光度を100%、細胞が存在していないウェルの吸光度を0%として、被験物質存在下での吸光度率を求めた。細胞増殖を50%阻害するのに必要な被験物質の濃度(IC50値)を求め、表25、表26および表27に示した。
6.HUVEC増殖阻害アッセイ
このアッセイは、VEGFで誘導される血管内皮細胞の増殖に対する被験物質の阻害活性を測定する。
このアッセイは、VEGFで誘導される血管内皮細胞の増殖に対する被験物質の阻害活性を測定する。
正常ヒト臍帯静脈内皮細胞(Human Umbilical Vein Endothelial Cells:HUVEC)は報告されている方法(新生化学実験講座“細胞培養技術”、p.197−202)に従って単離した。5%CO2インキュベーター中(37℃)においてEGM−2培地(LONZA Inc CC−3162)を用いてconfluentになるまで培養した。96ウェルプレート(ベクトンディッキンソン 35−3075)の各ウェルに2% Fetal bovine serum(FBS:Cell Culture Technologies CC3008−504)を含むEGM−2培地にて1.5×104cells/mLに調製したHUVECの細胞懸濁液を100μlずつ加え、5%CO2インキュベーター中(37℃)で一晩培養した。翌日、2%FBSを含むEGM−2培地にて希釈した被験物質および最終濃度10ng/mLになるように2%FBSを含むEGM−2培地にて調製したVEGF(R&D systems 293−VE−010)を各50μLずつ添加し、5%CO2インキュベーター中(37℃)で3日間培養した。Cell Counting Kit−8(同仁化学研究所 CK04)20μLを各ウェルに添加し、5%CO2インキュベーター中(37℃)で3−4時間培養し発色させた。ENVISIONTM(パーキンエルマー社)により450nmの吸光度を測定した。被験物質を添加せずにVEGFを添加した場合の吸光度を100%、被験物質およびVEGFを添加していない場合の吸光度を0%として、被験物質存在下での吸光度率を求めた。この吸光度率によりVEGF存在下でのHUVEC増殖を50%阻害するのに必要な被験物質の濃度(IC50)を算出し、表28、表29および表30に示した。
7.NCI−H1581増殖阻害アッセイ
このアッセイは、FGFR1遺伝子増幅を有するヒト肺がん細胞株における被験物質の増殖阻害活性を測定する。
このアッセイは、FGFR1遺伝子増幅を有するヒト肺がん細胞株における被験物質の増殖阻害活性を測定する。
ヒト肺がん細胞株NCI−H1581(ATCC number CRL−5878)はFGFR1遺伝子増幅を有することが報告されている(PLoS One 2011;6:e20351、Sci Transl Med 2010;2:62ra93)。NCI−H1581細胞は10% FBS、ペニシリン/ストレプトマイシンを含むRPMI−1640培地を用い、5%CO2インキュベーター中(37℃)で培養維持をおこなった。96ウェルプレート(ベクトンディッキンソン 35−3075)の各ウェルに、10%FBSを含むRPMI−1640培地を用いて1.3×104 cells/mLに調製したNCI−H1581の細胞懸濁液を150μLずつ加え、5%CO2インキュベーター中(37℃)で一晩培養した。翌日、10%FBSを含むRPMI−1640培地にて希釈した被験物質を50μlずつ添加し、5%CO2インキュベーター中(37℃)で3日間培養した。Cell Counting Kit−8(同仁化学研究所 CK04)10μLを各ウェルに添加し、5%CO2インキュベーター中(37℃)で2−3時間培養し発色させた。ENVISIONTM(パーキンエルマー社)により450nmの吸光度を測定した。被験物質を添加していない場合の吸光度を100%、細胞が存在していないウェルの吸光度を0%として、被験物質存在下での吸光度率を求めた。細胞増殖を50%阻害するのに必要な被験物質の濃度(IC50値)を求め、表31に示した。
8.マウスSNU−16皮下移植モデルにおける抗腫瘍効果
10%FBS、ペニシリン/ストレプトマイシンを含むRPMI−1640培養液で培養したヒト胃がん細胞株SNU−16をHanks’ Balanced Salt Solution(GIBCO #24020)にて1×108 cells/mL濃度に調製し、MATRIGEL(BDバイオサイエンス Cat# 354234)と1:1で混合し5×107 cells/mlの細胞懸濁液を調製した。6〜7週齢のヌードマウス(BALB/cAJcl−nu/nu、雌、日本クレア株式会社)の右脇腹皮下部に100μLの容量で移植した。移植から7日後に電子デジタルノギス(デジマチックTMキャリパ、株式会社ミツトヨ)を用いて腫瘍の短径、長径を計測し、以下の計算式で腫瘍体積を算出した。
腫瘍体積(mm3)=長径(mm)×短径(mm)×短径(mm)/2
投与初日の腫瘍体積をもとに腫瘍体積の平均値がほぼ等しくなるように群分けを行った。被験物質はDMSOに溶解し、Tween80を加え、10倍濃度の溶液を調製し冷凍保存した。投与直前に5%グルコース溶液を添加し、最終投与溶液とした(DMSO:Tween80:5% glucose溶液=3.5%:6.5%:90%)。評価検体は20mL/kgの投与容量で1日1回11日間連続経口投与し、コントロール群には投与溶媒を同条件で経口投与した。なお、実験は1群5匹で行った。
コントロール群、被験物質投与群それぞれに対し、初日の体重に対する最終日の体重比(relative body weight: RBW)を算出する。被験物質投与群のRBW/コントロール群のRBWが0.9の以上の被験物質投与群を安全に投与可能な群と判定した。これに該当する被験物質投与群について、最終日におけるコントロールの腫瘍体積に対する被験物質投与後の腫瘍体積の割合(T/C)(%)を算出し、表32に示した。
10%FBS、ペニシリン/ストレプトマイシンを含むRPMI−1640培養液で培養したヒト胃がん細胞株SNU−16をHanks’ Balanced Salt Solution(GIBCO #24020)にて1×108 cells/mL濃度に調製し、MATRIGEL(BDバイオサイエンス Cat# 354234)と1:1で混合し5×107 cells/mlの細胞懸濁液を調製した。6〜7週齢のヌードマウス(BALB/cAJcl−nu/nu、雌、日本クレア株式会社)の右脇腹皮下部に100μLの容量で移植した。移植から7日後に電子デジタルノギス(デジマチックTMキャリパ、株式会社ミツトヨ)を用いて腫瘍の短径、長径を計測し、以下の計算式で腫瘍体積を算出した。
腫瘍体積(mm3)=長径(mm)×短径(mm)×短径(mm)/2
投与初日の腫瘍体積をもとに腫瘍体積の平均値がほぼ等しくなるように群分けを行った。被験物質はDMSOに溶解し、Tween80を加え、10倍濃度の溶液を調製し冷凍保存した。投与直前に5%グルコース溶液を添加し、最終投与溶液とした(DMSO:Tween80:5% glucose溶液=3.5%:6.5%:90%)。評価検体は20mL/kgの投与容量で1日1回11日間連続経口投与し、コントロール群には投与溶媒を同条件で経口投与した。なお、実験は1群5匹で行った。
コントロール群、被験物質投与群それぞれに対し、初日の体重に対する最終日の体重比(relative body weight: RBW)を算出する。被験物質投与群のRBW/コントロール群のRBWが0.9の以上の被験物質投与群を安全に投与可能な群と判定した。これに該当する被験物質投与群について、最終日におけるコントロールの腫瘍体積に対する被験物質投与後の腫瘍体積の割合(T/C)(%)を算出し、表32に示した。
9.マウスNCI−H1581皮下移植モデルにおける抗腫瘍効果
10%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培養液で培養したヒト肺がん細胞株NCI−H1581(ATCC number CRL−5878)を、Hanks’ Balanced Salt Solution(GIBCO #24020)にて1×108 cells/mL濃度の細胞懸濁液に調製した。さらにその懸濁液をMATRIGELと1:1で混合し5×107 cells/mLの細胞懸濁液を調製した。6〜7週齢のヌードマウス(BALB/cAJcl−nu/nu、雌、日本クレア株式会社)の右脇腹皮下部に100μLの細胞懸濁液を移植した。移植から10−11日後に、電子デジタルノギス(デジマチックTMキャリパ、株式会社ミツトヨ)を用いて腫瘍の短径、長径を計測し、以下の計算式で腫瘍体積を算出した。
腫瘍体積(mm3)=長径(mm)×短径(mm)×短径(mm)/2
投与初日の腫瘍体積をもとに腫瘍体積の平均値がほぼ等しくなるようにヌードマウスを群分けした。被験物質はDMSOに溶解し、Tween80を加え、評価検体に対して10倍濃度の保存溶液を調製し、使用前まで冷凍保存した。投与直前に保存溶液を5%グルコース溶液で希釈し、評価検体を得た(DMSO:Tween80:5% glucose溶液=3.5%:6.5%:90%)。被験物質投与群には、評価検体を体重20gあたり0.4mLの投与容量で1日1回11日間連続経口投与し、コントロール群には投与溶媒を同条件で経口投与した。なお、実験は1群5匹で行った。
コントロール群、被験物質投与群それぞれについて、初日の体重に対する最終日の体重比(relative body weight:RBW)を算出した。被験物質投与群のRBW/コントロール群のRBWが0.9以上である被験物質投与群を安全に投与可能な群と判定した。これに該当する被験物質投与群について、最終日におけるコントロールの腫瘍体積に対する被験物質投与後の腫瘍体積の割合(T/C)(%)を算出し、表33に示した。
10%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培養液で培養したヒト肺がん細胞株NCI−H1581(ATCC number CRL−5878)を、Hanks’ Balanced Salt Solution(GIBCO #24020)にて1×108 cells/mL濃度の細胞懸濁液に調製した。さらにその懸濁液をMATRIGELと1:1で混合し5×107 cells/mLの細胞懸濁液を調製した。6〜7週齢のヌードマウス(BALB/cAJcl−nu/nu、雌、日本クレア株式会社)の右脇腹皮下部に100μLの細胞懸濁液を移植した。移植から10−11日後に、電子デジタルノギス(デジマチックTMキャリパ、株式会社ミツトヨ)を用いて腫瘍の短径、長径を計測し、以下の計算式で腫瘍体積を算出した。
腫瘍体積(mm3)=長径(mm)×短径(mm)×短径(mm)/2
投与初日の腫瘍体積をもとに腫瘍体積の平均値がほぼ等しくなるようにヌードマウスを群分けした。被験物質はDMSOに溶解し、Tween80を加え、評価検体に対して10倍濃度の保存溶液を調製し、使用前まで冷凍保存した。投与直前に保存溶液を5%グルコース溶液で希釈し、評価検体を得た(DMSO:Tween80:5% glucose溶液=3.5%:6.5%:90%)。被験物質投与群には、評価検体を体重20gあたり0.4mLの投与容量で1日1回11日間連続経口投与し、コントロール群には投与溶媒を同条件で経口投与した。なお、実験は1群5匹で行った。
コントロール群、被験物質投与群それぞれについて、初日の体重に対する最終日の体重比(relative body weight:RBW)を算出した。被験物質投与群のRBW/コントロール群のRBWが0.9以上である被験物質投与群を安全に投与可能な群と判定した。これに該当する被験物質投与群について、最終日におけるコントロールの腫瘍体積に対する被験物質投与後の腫瘍体積の割合(T/C)(%)を算出し、表33に示した。
10.AN3CA増殖阻害アッセイ
このアッセイは、N549K変異型FGFR2を発現するヒト子宮内膜がん細胞株における被験物質の増殖阻害活性を測定する。
このアッセイは、N549K変異型FGFR2を発現するヒト子宮内膜がん細胞株における被験物質の増殖阻害活性を測定する。
ヒト子宮内膜がん細胞株AN3CA(ATCC Number HTB−111)はN549K変異型FGFR2を発現することが報告されている(ProcNatl Acad Sci U S A.2008.105:8713−8717)。10% FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシン(WAKO 168−23191)を含むRPMI−1640(WAKO 187−02021)培地を用い、5%CO2インキュベーター中(37℃)でAN3CA細胞を培養維持した。96ウェルプレート(ベクトンディッキンソン 35−3075)の各ウェルに、10%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培地を用いて1.3×104cells/mLに調製したAN3CAの細胞懸濁液を150μLずつ加え、5%CO2インキュベーター中(37℃)で細胞を一晩培養した。翌日、10%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培地にて希釈した被験物質を各ウェルに50μLずつ添加し、5%CO2インキュベーター中(37℃)で3日間培養した。CellCounting Kit−8(同仁化学研究所 CK04)10μLを各ウェルに添加し、5%CO2インキュベーター中(37℃)で1−2時間培養し発色させた。ENVISIONTM(パーキンエルマー社)により450nmの吸光度を測定した。細胞を含み被験物質を添加していないウェルの吸光度を100%、細胞が存在していないウェルの吸光度を0%として、被験物質存在下での吸光度率を求めた。細胞増殖を50%阻害するのに必要な被験物質の濃度(IC50値)を求め、表34に示した。
11.MFE296増殖阻害アッセイ
このアッセイは、N549K変異型FGFR2を発現するヒト子宮内膜がん細胞株における被験物質の増殖阻害活性を測定する。
このアッセイは、N549K変異型FGFR2を発現するヒト子宮内膜がん細胞株における被験物質の増殖阻害活性を測定する。
ヒト子宮内膜がん細胞株MFE296(DSMZ Number ACC−419)はN549K変異型FGFR2を発現することが報告されている(Proc Natl Acad Sci U S A.2008.105:8713−8717)。10% FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシン(WAKO 168−23191)を含むRPMI−1640(WAKO 187−02021)培地を用い、5%CO2インキュベーター中(37℃)でMFE296細胞を培養維持した。96ウェルプレート(ベクトンディッキンソン 35−3075)の各ウェルに、10%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培地を用いて1.3×104 cells/mLに調製したMFE296の細胞懸濁液を150μLずつ加え、5%CO2インキュベーター中(37℃)で細胞を一晩培養した。翌日、10%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培地にて希釈した被験物質を各ウェルに50μLずつ添加し、5%CO2インキュベーター中(37℃)で3日間培養した。Cell Counting Kit−8(同仁化学研究所 CK04)10μLを各ウェルに添加し、5%CO2インキュベーター中(37℃)で1−2時間培養し発色させた。ENVISIONTM(パーキンエルマー社)により450nmの吸光度を測定した。細胞を含み被験物質を添加していないウェルの吸光度を100%、細胞が存在していないウェルの吸光度を0%として、被験物質存在下での吸光度率を求めた。細胞増殖を50%阻害するのに必要な被験物質の濃度(IC50値)を求め、表35に示した。
12.MFE280増殖阻害アッセイ
このアッセイは、S252W変異型FGFR2を発現するヒト子宮内膜がん細胞株における被験物質の増殖阻害活性を測定する。
このアッセイは、S252W変異型FGFR2を発現するヒト子宮内膜がん細胞株における被験物質の増殖阻害活性を測定する。
ヒト子宮内膜がん細胞株MFE280(DMSZ Number ACC−410)はS252W変異型FGFR2を発現することが報告されている(Proc Natl Acad Sci U S A.2008.105:8713−8717)。10% FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシン(WAKO 168−23191)を含むRPMI−1640(WAKO 187−02021)培地を用い、5%CO2インキュベーター中(37℃)でSW780細胞を培養維持した。96ウェルプレート(ベクトンディッキンソン 35−3075)の各ウェルに、10%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培地を用いて3.3×104 cells/mLに調製したMFE280の細胞懸濁液を150μLずつ加え、5%CO2インキュベーター中(37℃)で細胞を一晩培養した。翌日、10%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培地にて希釈した被験物質を各ウェルに50μLずつ添加し、5%CO2インキュベーター中(37℃)で3日間培養した。Cell Counting Kit−8(同仁化学研究所 CK04)10μLを各ウェルに添加し、5%CO2インキュベーター中(37℃)で1−2時間培養し発色させた。ENVISIONTM(パーキンエルマー社)により450nmの吸光度を測定した。細胞を含み被験物質を添加していないウェルの吸光度を100%、細胞が存在していないウェルの吸光度を0%として、被験物質存在下での吸光度率を求めた。細胞増殖を50%阻害するのに必要な被験物質の濃度(IC50値)を求め、表36に示した。
13.マウスAN3CA皮下移植モデルにおける抗腫瘍効果
10%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培養液で培養したヒト子宮内膜がん細胞株AN3CA(ATCC Number HTB−111)を、Hanks’ Balanced Salt Solution (GIBCO #24020)にて1×108 cells/mL濃度の細胞懸濁液を調製した。さらにその懸濁液をMATRIGEL(BDバイオサイエンス Cat# 354234)と1:1で混合し5×107 cells/mlの細胞懸濁液を調製した。7週齢のヌードマウス(BALB/cAJcl−nu/nu、雌、日本クレア株式会社)の右脇腹皮下部に100μLの細胞懸濁液を移植した。移植から11日後に電子デジタルノギス(デジマチックTMキャリパ、株式会社ミツトヨ)を用いて腫瘍の短径、長径を計測し、以下の計算式で腫瘍体積を算出した。
腫瘍体積(mm3)=長径(mm)×短径(mm)×短径(mm)/2
投与初日の腫瘍体積をもとに腫瘍体積の平均値がほぼ等しくなるようにヌードマウスを群分けした。被験物質はDMSOに溶解し、Tween80を加え、評価検体に対して10倍濃度の保存溶液を調製し、使用前まで冷凍保存した。投与直前に保存溶液を5%グルコース溶液で希釈し、評価検体を得た(DMSO:Tween80:5% glucose溶液=3.5%:6.5%:90%)。被験物資投与群には、評価検体を体重20gあたり0.4mLの投与容量で1日1回14日間連続経口投与し、コントロール群には投与溶媒を同条件で経口投与した。なお、実験は1群5匹で行った。
コントロール群、被験物質投与群それぞれについて、初日の体重に対する最終日の体重比(relative body weight:RBW)を算出した。被験物質投与群のRBW/コントロール群のRBWが0.9以上である被験物質投与群を安全に投与可能な群と判定した。これに該当する被験物質投与群について、最終日におけるコントロールの腫瘍体積に対する被験物質投与後の腫瘍体積の割合(T/C)(%)を算出し、表37に示した。
10%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培養液で培養したヒト子宮内膜がん細胞株AN3CA(ATCC Number HTB−111)を、Hanks’ Balanced Salt Solution (GIBCO #24020)にて1×108 cells/mL濃度の細胞懸濁液を調製した。さらにその懸濁液をMATRIGEL(BDバイオサイエンス Cat# 354234)と1:1で混合し5×107 cells/mlの細胞懸濁液を調製した。7週齢のヌードマウス(BALB/cAJcl−nu/nu、雌、日本クレア株式会社)の右脇腹皮下部に100μLの細胞懸濁液を移植した。移植から11日後に電子デジタルノギス(デジマチックTMキャリパ、株式会社ミツトヨ)を用いて腫瘍の短径、長径を計測し、以下の計算式で腫瘍体積を算出した。
腫瘍体積(mm3)=長径(mm)×短径(mm)×短径(mm)/2
投与初日の腫瘍体積をもとに腫瘍体積の平均値がほぼ等しくなるようにヌードマウスを群分けした。被験物質はDMSOに溶解し、Tween80を加え、評価検体に対して10倍濃度の保存溶液を調製し、使用前まで冷凍保存した。投与直前に保存溶液を5%グルコース溶液で希釈し、評価検体を得た(DMSO:Tween80:5% glucose溶液=3.5%:6.5%:90%)。被験物資投与群には、評価検体を体重20gあたり0.4mLの投与容量で1日1回14日間連続経口投与し、コントロール群には投与溶媒を同条件で経口投与した。なお、実験は1群5匹で行った。
コントロール群、被験物質投与群それぞれについて、初日の体重に対する最終日の体重比(relative body weight:RBW)を算出した。被験物質投与群のRBW/コントロール群のRBWが0.9以上である被験物質投与群を安全に投与可能な群と判定した。これに該当する被験物質投与群について、最終日におけるコントロールの腫瘍体積に対する被験物質投与後の腫瘍体積の割合(T/C)(%)を算出し、表37に示した。
14.マウスMFE296皮下移植モデルにおける抗腫瘍効果
10%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培養液で培養したヒト子宮内膜がん細胞株MFE296(DSMZ Number ACC−419)をHanks’ Balanced Salt Solution(GIBCO #24020)にて1×108 cells/mL濃度の細胞懸濁液を調製した。さらにその懸濁液をMATRIGEL(BDバイオサイエンス Cat# 354234)と1:1で混合し5×107 cells/mlの細胞懸濁液を調製した。7週齢のヌードマウス(BALB/cAJcl−nu/nu、雌、日本クレア株式会社)の右脇腹皮下部に100μLの細胞懸濁液を移植した。移植から12日後に電子デジタルノギス(デジマチックTMキャリパ、株式会社ミツトヨ)を用いて腫瘍の短径、長径を計測し、以下の計算式で腫瘍体積を算出した。
腫瘍体積(mm3)=長径(mm)×短径(mm)×短径(mm)/2
投与初日の腫瘍体積をもとに腫瘍体積の平均値がほぼ等しくなるようにヌードマウスを群分けした。被験物質はDMSOに溶解し、Tween80を加え、評価検体に対して10倍濃度の保存溶液を調製し、使用前まで冷凍保存した。投与直前に保存溶液を5%グルコース溶液で希釈し、評価検体を得た(DMSO:Tween80:5% glucose溶液=3.5%:6.5%:90%)。被験物質投与群には、評価検体を体重20gあたり0.4mLの投与容量で1日1回14日間連続経口投与し、コントロール群には投与溶媒を同条件で経口投与した。なお、実験は1群5匹で行った。
コントロール群、被験物質投与群それぞれについて、初日の体重に対する最終日の体重比(relative body weight: RBW)を算出する。被験物質投与群のRBW/コントロール群のRBWが0.9以上である被験物質投与群を安全に投与可能な群と判定した。これに該当する被験物質投与群について、最終日におけるコントロールの腫瘍体積に対する被験物質投与後の腫瘍体積の割合(T/C)(%)を算出し、表38に示した。
10%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培養液で培養したヒト子宮内膜がん細胞株MFE296(DSMZ Number ACC−419)をHanks’ Balanced Salt Solution(GIBCO #24020)にて1×108 cells/mL濃度の細胞懸濁液を調製した。さらにその懸濁液をMATRIGEL(BDバイオサイエンス Cat# 354234)と1:1で混合し5×107 cells/mlの細胞懸濁液を調製した。7週齢のヌードマウス(BALB/cAJcl−nu/nu、雌、日本クレア株式会社)の右脇腹皮下部に100μLの細胞懸濁液を移植した。移植から12日後に電子デジタルノギス(デジマチックTMキャリパ、株式会社ミツトヨ)を用いて腫瘍の短径、長径を計測し、以下の計算式で腫瘍体積を算出した。
腫瘍体積(mm3)=長径(mm)×短径(mm)×短径(mm)/2
投与初日の腫瘍体積をもとに腫瘍体積の平均値がほぼ等しくなるようにヌードマウスを群分けした。被験物質はDMSOに溶解し、Tween80を加え、評価検体に対して10倍濃度の保存溶液を調製し、使用前まで冷凍保存した。投与直前に保存溶液を5%グルコース溶液で希釈し、評価検体を得た(DMSO:Tween80:5% glucose溶液=3.5%:6.5%:90%)。被験物質投与群には、評価検体を体重20gあたり0.4mLの投与容量で1日1回14日間連続経口投与し、コントロール群には投与溶媒を同条件で経口投与した。なお、実験は1群5匹で行った。
コントロール群、被験物質投与群それぞれについて、初日の体重に対する最終日の体重比(relative body weight: RBW)を算出する。被験物質投与群のRBW/コントロール群のRBWが0.9以上である被験物質投与群を安全に投与可能な群と判定した。これに該当する被験物質投与群について、最終日におけるコントロールの腫瘍体積に対する被験物質投与後の腫瘍体積の割合(T/C)(%)を算出し、表38に示した。
15.マウスMFE280皮下移植モデルにおける抗腫瘍効果
10%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培養液で培養したヒト子宮内膜がん細胞株MFE280(DMSZ Number ACC−410)を、Hanks’ Balanced Salt Solution(GIBCO #24020)にて4.7×107 cells/mL濃度の細胞懸濁液に調製した。さらにその懸濁液を、MATRIGEL(BDバイオサイエンス Cat# 354234)と1:1で混合し2.4×107 cells/mlの細胞懸濁液を調製した。7週齢のヌードマウス(BALB/cAJcl−nu/nu、雌、日本クレア株式会社)の右脇腹皮下部に100μLの細胞懸濁液を移植した。移植から35日後に電子デジタルノギス(デジマチックTMキャリパ、株式会社ミツトヨ)を用いて腫瘍の短径、長径を計測し、以下の計算式で腫瘍体積を算出した。
腫瘍体積(mm3)=長径(mm)×短径(mm)×短径(mm)/2
投与初日の腫瘍体積をもとに腫瘍体積の平均値がほぼ等しくなるようにヌードマウスを群分けした。被験物質はDMSOに溶解し、Tween80を加え、評価検体に対して10倍濃度の保存溶液を調製し、使用前まで冷凍保存した。投与直前に保存溶液を5%グルコース溶液で希釈し、評価検体を得た(DMSO:Tween80:5% glucose溶液=3.5%:6.5%:90%)。被験物質投与群には、評価検体を体重20gあたり0.4mLの投与容量で1日1回14日間連続経口投与し、コントロール群には投与溶媒を同条件で経口投与した。なお、実験は1群5匹で行った。
コントロール群、被験物質投与群それぞれについて、初日の体重に対する最終日の体重比(relative body weight:RBW)を算出した。被験物質投与群のRBW/コントロール群のRBWが0.9以上である被験物質投与群を安全に投与可能な群と判定した。これに該当する被験物質投与群について、最終日におけるコントロールの腫瘍体積に対する被験物質投与後の腫瘍体積の割合(T/C)(%)を算出し、表39に示した。
10%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培養液で培養したヒト子宮内膜がん細胞株MFE280(DMSZ Number ACC−410)を、Hanks’ Balanced Salt Solution(GIBCO #24020)にて4.7×107 cells/mL濃度の細胞懸濁液に調製した。さらにその懸濁液を、MATRIGEL(BDバイオサイエンス Cat# 354234)と1:1で混合し2.4×107 cells/mlの細胞懸濁液を調製した。7週齢のヌードマウス(BALB/cAJcl−nu/nu、雌、日本クレア株式会社)の右脇腹皮下部に100μLの細胞懸濁液を移植した。移植から35日後に電子デジタルノギス(デジマチックTMキャリパ、株式会社ミツトヨ)を用いて腫瘍の短径、長径を計測し、以下の計算式で腫瘍体積を算出した。
腫瘍体積(mm3)=長径(mm)×短径(mm)×短径(mm)/2
投与初日の腫瘍体積をもとに腫瘍体積の平均値がほぼ等しくなるようにヌードマウスを群分けした。被験物質はDMSOに溶解し、Tween80を加え、評価検体に対して10倍濃度の保存溶液を調製し、使用前まで冷凍保存した。投与直前に保存溶液を5%グルコース溶液で希釈し、評価検体を得た(DMSO:Tween80:5% glucose溶液=3.5%:6.5%:90%)。被験物質投与群には、評価検体を体重20gあたり0.4mLの投与容量で1日1回14日間連続経口投与し、コントロール群には投与溶媒を同条件で経口投与した。なお、実験は1群5匹で行った。
コントロール群、被験物質投与群それぞれについて、初日の体重に対する最終日の体重比(relative body weight:RBW)を算出した。被験物質投与群のRBW/コントロール群のRBWが0.9以上である被験物質投与群を安全に投与可能な群と判定した。これに該当する被験物質投与群について、最終日におけるコントロールの腫瘍体積に対する被験物質投与後の腫瘍体積の割合(T/C)(%)を算出し、表39に示した。
16.RT112/84増殖阻害アッセイ
このアッセイは、FGFR3−TACC3融合タンパク質を発現するヒト膀胱がん細胞株における被験物質の増殖阻害活性を測定する。
このアッセイは、FGFR3−TACC3融合タンパク質を発現するヒト膀胱がん細胞株における被験物質の増殖阻害活性を測定する。
10% FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシン(WAKO 168−23191)を含むRPMI−1640(WAKO 187−02021)培地を用い、5%CO2インキュベーター中(37℃)でヒト膀胱がん細胞株RT112/84(ECACC Number EC85061106−F0)を培養維持した。96ウェルプレート(ベクトンディッキンソン 35−3075)の各ウェルに、10%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培地を用いて1.3×104 cells/mLに調製したRT112/84の細胞懸濁液を150μLずつ加え、5%CO2インキュベーター中(37℃)で細胞を一晩培養した。翌日、各ウェルに、10%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培地にて希釈した被験物質溶液を各ウェルに50μLずつ添加し、5%CO2インキュベーター中(37℃)で3日間培養した。その後、Cell Counting Kit−8(同仁化学研究所 CK04)10μLを各ウェルに添加し、5%CO2インキュベーター中(37℃)で1−2時間培養し発色させた。ENVISIONTM(パーキンエルマー社)により450nmの吸光度を測定した。細胞を含み被験物質を添加していない細胞懸濁液のウェルの吸光度を100%、細胞が存在していないウェルの吸光度を0%として、被験物質存在下での吸光度率を求めた。細胞増殖を50%阻害するのに必要な被験物質の濃度(IC50値)を求め、表40に示した。
17.SW780増殖阻害アッセイ
このアッセイは、FGFR3−BAIAP2L1融合タンパク質を発現するヒト膀胱がん細胞株における被験物質の増殖阻害活性を測定する。
このアッセイは、FGFR3−BAIAP2L1融合タンパク質を発現するヒト膀胱がん細胞株における被験物質の増殖阻害活性を測定する。
ヒト膀胱がん細胞株SW780(ATCC Number CRL−2169)はFGFR3−BAIAP2L1融合タンパク質を発現することが報告されている(Hum Mol Genet.2013.22:795−803)。10% FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシン(WAKO 168−23191)を含むRPMI−1640(WAKO 187−02021)培地を用い、5%CO2インキュベーター中(37℃)でSW780細胞を培養維持した。96ウェルプレート(ベクトンディッキンソン 35−3075)の各ウェルに、1%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培地を用いて2.6×104 cells/mLに調製したSW780の細胞懸濁液を150μLずつ加え、5%CO2インキュベーター中(37℃)で細胞を一晩培養した。翌日、1%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培地にて希釈した被験物質を各ウェルに50μLずつ添加し、5%CO2インキュベーター中(37℃)で3日間培養した。Cell Counting Kit−8(同仁化学研究所 CK04)10μLを各ウェルに添加し、5%CO2インキュベーター中(37℃)で1−2時間培養し発色させた。ENVISIONTM(パーキンエルマー社)により450nmの吸光度を測定した。細胞を含み被験物質を添加していないウェルの吸光度を100%、細胞が存在していないウェルの吸光度を0%として、被験物質存在下での吸光度率を求めた。細胞増殖を50%阻害するのに必要な被験物質の濃度(IC50値)を求め、表41に示した。
18.RT4増殖阻害アッセイ
このアッセイは、FGFR3−TACC3融合タンパク質を発現するヒト膀胱がん細胞株における被験物質の増殖阻害活性を測定する。
このアッセイは、FGFR3−TACC3融合タンパク質を発現するヒト膀胱がん細胞株における被験物質の増殖阻害活性を測定する。
ヒト膀胱がん細胞株RT4(ATCC Number HTB−2)はFGFR3−TACC3融合タンパク質を発現することが報告されている(Hum Mol Genet.2013.22:795−803)。10% FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシン(WAKO 168−23191)を含むRPMI−1640(WAKO 187−02021)培地を用い、5%CO2インキュベーター中(37℃)でRT4細胞を培養維持した。96ウェルプレート(ベクトンディッキンソン 35−3075)の各ウェルに、10%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培地を用いて2.6×104 cells/mLに調製したRT4の細胞懸濁液を150μLずつ加え、5%CO2インキュベーター中(37℃)で細胞を一晩培養した。翌日、10%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培地にて希釈した被験物質を各ウェルに50μLずつ添加し、5%CO2インキュベーター中(37℃)で3日間培養した。Cell Counting Kit−8(同仁化学研究所 CK04)10μLを各ウェルに添加し、5%CO2インキュベーター中(37℃)で1−2時間培養し発色させた。ENVISIONTM(パーキンエルマー社)により450nmの吸光度を測定した。細胞を含み被験物質を添加していないウェルの吸光度を100%、細胞が存在していないウェルの吸光度を0%として、被験物質存在下での吸光度率を求めた。細胞増殖を50%阻害するのに必要な被験物質の濃度(IC50値)を求め、表42に示した。
19.マウスRT112/84皮下移植モデルにおける抗腫瘍効果
10%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培養液で培養したヒトがん細胞株RT112/84(ECACC Number EC85061106−F0)を、Hanks’ Balanced Salt Solution(GIBCO #24020)にて1×108 cells/mL濃度の細胞培養液に調製した。さらにその懸濁液をMATRIGEL(BDバイオサイエンス Cat# 354234)と1:1で混合し5×107 cells/mlの細胞懸濁液を調製した。7週齢のヌードマウス(BALB/cAJcl−nu/nu、雌、日本クレア株式会社)の右脇腹皮下部に100μLの細胞懸濁液を移植した。移植から10日後に電子デジタルノギス(デジマチックTMキャリパ、株式会社ミツトヨ)を用いて腫瘍の短径、長径を計測し、以下の計算式で腫瘍体積を算出した。
腫瘍体積(mm3)=長径(mm)×短径(mm)×短径(mm)/2
投与初日の腫瘍体積をもとに腫瘍体積の平均値がほぼ等しくなるようにヌードマウスを群分けした。被験物質はDMSOに溶解し、Tween80を加え、評価検体に対して10倍濃度の保存溶液を調製し、使用前まで冷凍保存した。投与直前に保存溶液を5%グルコース溶液で希釈し、評価検体を得た(DMSO:Tween80:5% glucose溶液=3.5%:6.5%:90%)。被験物質投与群には、評価検体を体重20gあたり0.4mLの投与容量で1日1回14日間連続経口投与し、コントロール群には投与溶媒を同条件で経口投与した。なお、実験は1群5匹で行った。
コントロール群、被験物質投与群それぞれについて、初日の体重に対する最終日の体重比(relative body weight:RBW)を算出した。被験物質投与群のRBW/コントロール群のRBWが0.9以上である被験物質投与群を安全に投与可能な群と判定した。これに該当する被験物質投与群について、最終日におけるコントロールの腫瘍体積に対する被験物質投与後の腫瘍体積の割合(T/C)(%)を算出し、表43に示した。
10%FBS、ペニシリンおよびストレプトマイシンを含むRPMI−1640培養液で培養したヒトがん細胞株RT112/84(ECACC Number EC85061106−F0)を、Hanks’ Balanced Salt Solution(GIBCO #24020)にて1×108 cells/mL濃度の細胞培養液に調製した。さらにその懸濁液をMATRIGEL(BDバイオサイエンス Cat# 354234)と1:1で混合し5×107 cells/mlの細胞懸濁液を調製した。7週齢のヌードマウス(BALB/cAJcl−nu/nu、雌、日本クレア株式会社)の右脇腹皮下部に100μLの細胞懸濁液を移植した。移植から10日後に電子デジタルノギス(デジマチックTMキャリパ、株式会社ミツトヨ)を用いて腫瘍の短径、長径を計測し、以下の計算式で腫瘍体積を算出した。
腫瘍体積(mm3)=長径(mm)×短径(mm)×短径(mm)/2
投与初日の腫瘍体積をもとに腫瘍体積の平均値がほぼ等しくなるようにヌードマウスを群分けした。被験物質はDMSOに溶解し、Tween80を加え、評価検体に対して10倍濃度の保存溶液を調製し、使用前まで冷凍保存した。投与直前に保存溶液を5%グルコース溶液で希釈し、評価検体を得た(DMSO:Tween80:5% glucose溶液=3.5%:6.5%:90%)。被験物質投与群には、評価検体を体重20gあたり0.4mLの投与容量で1日1回14日間連続経口投与し、コントロール群には投与溶媒を同条件で経口投与した。なお、実験は1群5匹で行った。
コントロール群、被験物質投与群それぞれについて、初日の体重に対する最終日の体重比(relative body weight:RBW)を算出した。被験物質投与群のRBW/コントロール群のRBWが0.9以上である被験物質投与群を安全に投与可能な群と判定した。これに該当する被験物質投与群について、最終日におけるコントロールの腫瘍体積に対する被験物質投与後の腫瘍体積の割合(T/C)(%)を算出し、表43に示した。
Claims (1)
- 式(IA)で表される化合物またはその薬剤学的に許容される塩。
式中、
nは、0〜2を表し;
Aは、C6−10アリーレン基またはC3−5ヘテロアリーレン基を表し;
Gは、単結合、酸素原子または−CH2−を表し;
Eは、C3−5含窒素非芳香族へテロ環式基を表し;
R1は、シアノ基、モノ−C1−6アルキルアミノ基、ジ−C1−6アルキルアミノ基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC2−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子もしくは1個の水酸基で置換されてもよいC1−6アルコキシ基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシC1−6アルキル基または1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシC1−6アルコキシ基を表し;
R2は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、下記S群から選ばれる1個の置換基で置換されていてもよいC2−6アシル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいヒドロキシC1−6アルキル基またはC3−5含窒素非芳香族へテロ環式基を表し;
R3は、水素原子、オキソ基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキル基、1〜3個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルコキシ基を表し;
R4は、C1−6アルキル基を表す。ただし、Eがアゼチジン環であり、かつアゼチジン環の窒素原子上にR2またはR3が存在する場合には、当該R2またはR3は水素原子でない。
S群は、水酸基、モノ−C1−6アルキルアミノ基、ジ−C1−6アルキルアミノ基、C1−6アルコキシ基およびC3−5含窒素非芳香族へテロ環式基からなる群を表す。
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