JP2015519084A - 核酸ライブラリーの動力学排除増幅 - Google Patents
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Abstract
Description
フローセル上でのクラスターアレイのスーパーポアソン形成
本実施例は、Illumina (San Diego, CA)シークエンシングプラットフォームのためのフローセルでのクラスターアレイのスーパーポアソン形成を達成する方法を記載する。本明細書に記載される方法は、フィーチャにライブラリーエレメント(例えば、ゲノム断片)を捕捉し、ライブラリーエレメントを同時にクローン的に増幅するプロセスである。この実施例では、プロセスの重要なフィーチャは、捕捉速度対増幅速度を制御することおよび同種のプロセスにおいてそのようにすることである。Illuminaフローセルの高密度シーディングのために開発された多数の前処理は、ライブラリーエレメントの捕捉を、クローナル増幅プロセスから分離する。この例では、フィーチャでの捕捉事象が、クローナル増殖事象を開始する。
動力学排除条件下で作製されたパターン化されたクラスターアレイの特性決定
この実施例は、動力学排除条件を使用するパターン化されたフィーチャでのモノクローナルクラスターのスーパーポアソンローディングを実証する。
生体分子の活性電気的脱離およびパターン形成
この実施例は、電場を使用して生体分子を空間的にパターン化する方法を実証する。この実施例に記載される方法は、標的部位のDNAを迅速にシーディングし、介在領域から生体分子を電気化学的に反発させ、DNAクラスターの高度にパターン化されたアドレス可能なアレイをもたらす。ここで示される結果は、モノクローナル核酸クラスターのパターンを有するフローセルの形成を実証する。
生体分子の電気化学的脱離のための上記の2種の構造が、図4aおよび4bに例示されている。詳しくは、酸化インジウムスズ(ITO)を導電性透明電極物質として使用した。ITOを、高周波スパッタリングによってD263表面に蒸着させた。図4aは、導電性ITO層および電解質にわたって印加された電位を示す。図4bは、液体培地によって分離された2つの平行な導電性ITOプレートにわたって印加された電位を示す。両構造とも種をITOの表面から電気的に脱離するために使用され得る。金(Au)ナノパターン化部位は、チオール化された生体分子(例えば、チオール化アビジン)の標的化捕捉にとって有用である。Au部位は、Auに対する電気化学を防ぐために、誘電性部位スペーサー(例えば、SiO2、SiN、ダイアモンド様炭素)を使用して下層のITOから分離されている。
能動的な脱離実験の実験ワークフローは、図5に概説されている。本方法は、フローセルの表面にアビジンをコーティングすることと、続いて、シラン不含アクリルアミド(SFA)でコーティングすることおよびプライマーをSFAにグラフトすることを含む。SFAコーティングおよびP5およびP7プライマーのグラフティングは、WO2008/093098(本明細書に組み込まれる)に記載されるように実施される。しかし、本方法では、アビジンは、SFAコーティングの前に電気的脱離ステップを使用して、フローセル表面上に存在するAuまたは誘電性部位上(ITO介在領域によって分離されている)で電気化学的にパターン化される。また、P5およびP7プライマーグラフティング後に、Auまたは誘電性部位にDNAを迅速にシーディングするため、また生体分子(DNA、アビジン、プライマー)をITO介在物から電気化学的に脱離するために、電場が印加される。通常、分子を有効に脱離するために2Vが印加される。わずか5分の場の期間で、介在領域中の分子の大部分を効率的に脱離できる。さらに、この結果は、電場ステップ後に介在領域中のプライマー濃度も低下することを示唆する。クラスター増幅が、次いで、Bentleyら、Nature 456:53〜59頁(2008年)に記載されるように実施され、続いて、dsDNA 挿入色を使用するクラスター染色、次いで、顕微鏡イメージングが実施される。次いで、HiSeq 2000 DNAシークエンサー(Illumina, Inc. San Diego)を使用して、フローセルを配列決定して、クラスタークローン性を決定する。場支援シーディングおよび電気化学的脱離の効果を示す模式図が、図5に示されている。
図6は、図3bからのフローセル構造を使用して、電場を用いて(図6A)および電場を用いずに(図6B)達成された結果を例示する。電場の存在下では、クラスターは2μmのAu部位に高度に限局されており、介在区域において観察される蛍光はほとんどない。2μm部位では、クラスターは、Auパッドの大きな大きさのために高度にポリクローナルである。ポリクローン性の程度は、パッドの大きさを小さくし、立体排除によって複数の鋳型がシーディングすることを阻害することによって低下させてもよく、またはポリクローン性は、動力学排除条件を使用して低下させてもよい。介在領域中のピクセル強度は、0に近い(図6Aのラインプロファイル)ということも留意されたい。対照的に、電場の不在下では、クラスターはAuおよび介在ITO表面の両方に存在する。図6Aのラインプロファイルにおいて観察される周期的パターンは、図6Bのラインプロファイルでは観察されず、クラスター限局が電場の結果であることが確認される。
データは、クラスターの空間スパッタリングは、電場の存在下で促進されるということを示唆する。これは、介在領域における生体分子(例えば、DNA、タンパク質およびプライマー)の電気化学的除去によるものである可能性が高い。テキサスレッド(TR)で標識されたプローブを用いるハイブリダイゼーションアッセイを使用して見られるように、電場が印加される場合には、グラフトされたプライマー強度は、低下すると思われる。図9は、電場の印加前および印加後にフローセルにおいて実施されたハイブリダイゼーションアッセイのTR蛍光強度を示すTyphoonスキャンを例示する。蛍光強度は、電場の印加後に2倍超低下し、SFAからのプライマーの除去が確認される。クラスター強度を高めるために、フローセルをSFAで再コーティングし、P5、P7プライマーを再グラフトした。これは、TR強度のはっきりと認識できる増大をもたらした。したがって、DNAをシーディングし、介在領域に非特異的に結合している分子を電気化学的に除去し、SFAを再コーティングし、プライマーを再グラフトして、高強度の空間的にパターン化されたクラスターを得ることが可能である可能性が高い。
phiX ssDNAのP5、P7プライマーローン(lawn)との直接ハイブリダイゼーションを含む実験において、クラスターの空間スパッタリングも観察された。このプロセスの模式図が図10Aに示されている。これらの実験は、ITO上の2μm SiO2部位で実施した。同一プロセスを、種々の誘電性物質形成部位を用いてナノスパッタリングされた部位に適用してもよい。これらの実験では、ビオチン化DNAも、アビジンも必要ではなく、わずかな化学ステップとなるが、一方で部位にクラスター特異性を維持する。特異性は、介在領域におけるプライマーの電気化学的脱離の結果である可能性が高い。図10Bは、直接ハイブリダイゼーションアプローチを使用して電場(2V、0.1Hz)の存在下で2μm SiO2部位で形成されたクラスターを示す。十分にパターン化されたクラスターが見られ、介在領域にはほとんどない。図10Cは、電場の不在下での同一実験であり、SFAおよびITO介在領域の両方でクラスターが無作為に開始されていることを示し、電場の不在下では個別の秩序は存在しない。これらの結果から、電場を使用して、核酸クラスター形成の空間パターン化を支援できることが確認される。
Claims (109)
- (a)(i)増幅部位のアレイと、
(ii)複数の異なる標的核酸を含む溶液と
を含む増幅試薬を準備するステップであって、
溶液中の異なる標的核酸の数は、アレイ中の増幅部位の数を超え、
異なる標的核酸は、複数の増幅部位への流動性アクセスを有し、
各増幅部位は、複数の異なる核酸中のいくつかの核酸に対するキャパシティーを含む、ステップと
(b)増幅試薬を反応させて、各々、溶液に由来する個々の標的核酸から得られたアンプリコンのクローナル集団を含む複数の増幅部位を製造するステップであって、
反応させることは、同時に、(i)異なる標的核酸を、平均輸送速度で増幅部位に輸送することと、(ii)増幅部位にある標的核酸を、平均増幅速度で増幅することとを含み、平均増幅速度は、平均輸送速度を超える、ステップとを含む、
核酸を増幅する方法。 - 各増幅部位が、溶液中の異なる標的核酸と結合できる複数の捕捉剤を含む、請求項1に記載の方法。
- 増幅部位のアレイが、表面上のフィーチャのアレイを含む、請求項1または2に記載の方法。
- 各フィーチャの区域が、増幅部位に輸送される標的核酸の排除体積の直径よりも大きい、請求項3に記載の方法。
- フィーチャが、不連続であり、捕捉剤を欠く表面の介在領域によって分離している、請求項4に記載の方法。
- 各フィーチャが、ビーズ、ウェル、チャネル、リッジ、突起またはそれらの組合せを含む、請求項3に記載の方法。
- 増幅部位のアレイが、溶液中のビーズまたは表面上のビーズを含む、請求項1または2に記載の方法。
- 捕捉剤が、異なる標的核酸と相補的である捕捉核酸を含む、請求項2に記載の方法。
- 異なる標的核酸が、捕捉核酸と相補的であるユニバーサル配列を含む、請求項8に記載の方法。
- 捕捉剤が、異なる標的核酸に付着されたリガンドと結合する受容体を含む、請求項2に記載の方法。
- 各増幅部位が、(b)においてアンプリコンを製造するために使用される複数のプライマーを含む、請求項1または2に記載の方法。
- 増幅部位のアレイが、表面上のフィーチャのアレイを含む、請求項11に記載の方法。
- フィーチャが、不連続であり、(b)においてアンプリコンを製造するために使用されるプライマーを欠く表面の介在領域によって分離される、請求項12に記載の方法。
- 増幅試薬が、ポリメラーゼおよびdNTPをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 増幅試薬が、リコンビナーゼおよび一本鎖結合タンパク質をさらに含む、請求項14に記載の方法。
- 増幅試薬が、分子密集剤をさらに含む、請求項15に記載の方法。
- 増幅部位に輸送される標的核酸の増幅が、等温的に起こる、請求項1に記載の方法。
- 増幅部位に輸送される標的核酸の増幅が、変性サイクルを含まない、請求項1に記載の方法。
- 増幅部位に輸送される標的核酸の増幅が、増幅の間に、溶液を、標的核酸およびアンプリコンを変性する化学試薬で置換することを含まない、請求項1に記載の方法。
- 増幅部位に輸送される標的核酸の増幅が、増幅の間に、標的核酸およびアンプリコンを変性する温度に溶液を加熱することを含まない、請求項1に記載の方法。
- 異なる標的核酸が、二本鎖DNA分子である、請求項1に記載の方法。
- 異なる標的核酸が、1,000ヌクレオチド未満である平均鎖長を有する、請求項1または21に記載の方法。
- アンプリコンのクローナル集団を含む複数の増幅部位が、(b)の間に、異なる標的核酸が、流動性アクセスを有する増幅部位の40%を超える、請求項1に記載の方法。
- (b)の間に、個々の増幅部位での個々の標的核酸それぞれから、それぞれの増幅部位のキャパシティーを満たすのに十分な数のアンプリコンが生成される、請求項1に記載の方法。
- それぞれの増幅部位のキャパシティーを満たすようアンプリコンが生成される速度が、個々の標的核酸が、個々の増幅部位にそれぞれ輸送される速度を超える、請求項24に記載の方法。
- 異なる標的核酸が、電場の印加によって支援されて、増幅部位に能動的に輸送される、請求項1に記載の方法。
- 反応が経時的に進行するにつれて、電場が増大する、請求項26に記載の方法。
- 増幅部位のアレイが、表面上の不連続フィーチャのアレイを含み、フィーチャが表面の介在領域によって分離されている、請求項26に記載の方法。
- 各フィーチャの区域が、増幅部位に輸送される標的核酸の排除体積の直径を超える、請求項28に記載の方法。
- 異なる標的核酸が、第2の電場の印加によって介在領域から能動的に反発される、請求項28または29に記載の方法。
- 電場および第2の電場が、アレイに同時に印加される、請求項30に記載の方法。
- 電場および第2の電場が、交互に繰り返してアレイに印加される、請求項30に記載の方法。
- 第2の電場が、介在領域および電解質にわたって印加される、請求項30に記載の方法。
- 第2の電場が、介在領域および第2の表面にわたって印加される、請求項30に記載の方法。
- 第2の電場が、介在領域への交流電流または直流電流の印加によって形成される、請求項30に記載の方法。
- 増幅部位のアレイが、表面上の不連続フィーチャのアレイを含み、フィーチャが、表面の介在領域によって分離している、請求項1に記載の方法。
- 各フィーチャの区域が、増幅部位に輸送される標的核酸の排除体積の直径よりも大きい、請求項36に記載の方法。
- 異なる標的核酸が、電場の印加によって介在領域から能動的に反発される、請求項36または37に記載の方法。
- 輸送が、受動拡散である、請求項1に記載の方法。
- (a)(i)増幅部位のアレイと、
(ii)複数の異なる標的核酸を含む溶液と
を含む増幅試薬を準備するステップであって、
溶液中の異なる標的核酸の数は、アレイ中の増幅部位の数を超え、
異なる標的核酸は、複数の増幅部位への流動性アクセスを有し、
各増幅部位は、複数の異なる核酸中のいくつかの核酸に対するキャパシティーを含む、ステップと、
(b)増幅試薬を反応させて、各々、溶液に由来する個々の標的核酸から得られたアンプリコンのクローナル集団を含む複数の増幅部位を製造するステップであって、
反応させることは、(i)各増幅部位に輸送する個々の標的核酸から第1のアンプリコンを製造することと、(ii)各増幅部位に輸送する個々の標的核酸から、または第1アンプリコンから、その次のアンプリコンを製造することとを含み、増幅部位でその次のアンプリコンが生成される平均速度が、増幅部位で第1のアンプリコンが生成される平均速度を超える、ステップとを含む、
核酸を増幅する方法。 - 各増幅部位が、(b)においてアンプリコンを製造するために使用される複数のプライマーを含む、請求項40に記載の方法。
- 第1のアンプリコンの製造が、少なくとも1種のプライマーを、非伸長可能状態から伸長可能状態へ変換することを含む、請求項41に記載の方法。
- 非伸長可能状態が、プライマーの3’末端での伸長ブロッキング部分の存在による、請求項42に記載の方法。
- 伸長ブロッキング部分が、ジデオキシヌクレオチドを含み、変換することが、少なくとも1種のプライマーからジデオキシヌクレオチドを除去するための加ピロリン酸分解を含む、請求項43に記載の方法。
- 増幅部位のアレイが、表面上のフィーチャのアレイを含む、請求項41に記載の方法。
- フィーチャが不連続であり、(b)においてアンプリコンを製造するために使用されるプライマーを欠く表面の介在領域によって分離されている、請求項45に記載の方法。
- 反応させることが、(i)第1のアンプリコンの製造および(ii)その次のアンプリコンの製造と同時に、溶液から増幅部位へ標的核酸を輸送することを含む、請求項40に記載の方法。
- 増幅部位でその次のアンプリコンが生成される平均速度が、標的核酸が、溶液から増幅部位へ輸送される平均速度を超える、請求項47に記載の方法。
- (b)の間に、それぞれの増幅部位のキャパシティーを満たすのに十分な数のアンプリコンが、個々の増幅部位で個々の標的核酸からそれぞれ生成される、請求項47に記載の方法。
- それぞれの増幅部位のキャパシティーを満たすようアンプリコンが生成される速度が、個々の標的核酸が、溶液から増幅部位へ輸送される速度を超える、請求項49に記載の方法。
- 標的核酸が、(i)第1のアンプリコンの製造および(ii)その次のアンプリコンの製造前に、溶液から増幅部位へ輸送される、請求項に40記載の方法。
- 各増幅部位が、溶液中の異なる標的核酸と結合できる複数の捕捉剤を含む、請求項40に記載の方法。
- 増幅部位のアレイが、表面上のフィーチャのアレイを含む、請求項40または52に記載の方法。
- 各フィーチャの区域が、各増幅部位に輸送される個々の標的核酸の排除体積の平均直径よりも大きい、請求項53に記載の方法。
- フィーチャが、不連続であり、捕捉剤を欠く表面の介在領域によって分離している、請求項54に記載の方法。
- 各フィーチャが、ビーズ、ウェル、チャネル、リッジ、突起またはそれらの組合せを含む、請求項53に記載の方法。
- 増幅部位のアレイが、溶液中のビーズまたは表面上のビーズを含む、請求項40または52に記載の方法。
- 捕捉剤が、異なる標的核酸と相補的である捕捉核酸を含む、請求項52に記載の方法。
- 異なる標的核酸が、捕捉核酸と相補的であるユニバーサル配列を含む、請求項58に記載の方法。
- 捕捉剤が、異なる標的核酸に付着されたリガンドと結合する受容体を含む、請求項52に記載の方法。
- 増幅試薬が、ポリメラーゼおよびdNTPをさらに含む、請求項40に記載の方法。
- 増幅試薬が、リコンビナーゼおよび一本鎖結合タンパク質をさらに含む、請求項61に記載の方法。
- 増幅試薬が、分子密集剤をさらに含む、請求項62に記載の方法。
- 反応が、等温的に起こる、請求項40に記載の方法。
- 反応させることが、変性サイクルを含まない、請求項40に記載の方法。
- 反応させることが、反応の間に、溶液を、標的核酸およびアンプリコンを変性する化学試薬で置換することを含まない、請求項40に記載の方法。
- 反応させることが、反応の間に、標的核酸およびアンプリコンを変性する温度に溶液を加熱することを含まない、請求項40に記載の方法
- 異なる標的核酸が、二本鎖DNA分子である、請求項40に記載の方法。
- 異なる標的核酸が、1,000ヌクレオチド未満である平均鎖長を有する、請求項40または68に記載の方法。
- アンプリコンのクローナル集団を含む複数の増幅部位が、アレイ中の増幅部位の40%を超える、請求項40に記載の方法。
- (b)の間に、個々の増幅部位での個々の標的核酸それぞれから、それぞれの増幅部位のキャパシティーを満たすのに十分な数のアンプリコンが生成される、請求項40に記載の方法。
- 標的核酸が、電場の印加によって支援されて、増幅部位に能動的に輸送される、請求項40に記載の方法。
- 反応が経時的に進行するにつれて、電場が増大する、請求項72に記載の方法。
- 増幅部位のアレイが、表面上の不連続フィーチャのアレイを含み、フィーチャが表面の介在領域によって分離されている、請求項72に記載の方法。
- 各フィーチャの区域が、増幅部位に輸送される標的核酸の排除体積の直径より大きい、請求項74に記載の方法。
- 異なる標的核酸が、第2の電場の印加によって介在領域から能動的に反発される、請求項74または75に記載の方法。
- 電場および第2の電場が、アレイに同時に印加される、請求項76に記載の方法。
- 電場および第2の電場が、交互に繰り返してアレイに印加される、請求項76に記載の方法。
- 第2の電場が、介在領域および電解質にわたって印加される、請求項76に記載の方法。
- 第2の電場が、介在領域および第2の表面にわたって印加される、請求項76に記載の方法。
- 第2の電場が、介在領域への交流電流または直流電流の印加によって形成される、請求項76に記載の方法。
- 増幅部位のアレイが、表面上の不連続フィーチャのアレイを含み、フィーチャが、表面の介在領域によって分離している、請求項40に記載の方法。
- 各フィーチャの区域が、増幅部位に輸送される標的核酸の排除体積の直径よりも大きい、請求項82に記載の方法。
- 異なる標的核酸が、電場の印加によって介在領域から能動的に反発される、請求項82または83に記載の方法。
- 輸送が、受動拡散である、請求項40に記載の方法。
- (a)(i)表面上に不連続フィーチャを含むアレイであって、前記フィーチャは、表面の介在領域によって分離されている、アレイと、
(ii)複数の異なる標的生体分子を含む溶液と
を含む試薬を準備するステップと、
(b)試薬を反応させて、生体分子をフィーチャに輸送し、個々の生体分子を、各フィーチャに付着させるステップであって、反応の間に、介在領域から生体分子を反発するよう、電場が介在領域に印加されるステップとを含む、
生体分子のパターン化された表面を作製する方法。 - 反応の間に、生体分子をフィーチャに能動的に輸送するために、フィーチャに第2の電場が印加される、請求項86に記載の方法。
- 複数の異なる標的生体分子が、複数の異なる標的核酸を含む、請求項86または87に記載の方法。
- 溶液中の異なる標的核酸の数が、アレイ中のフィーチャの数を超え、異なる標的核酸が、複数のフィーチャへの流動性アクセスを有し、各フィーチャが、複数の異なる核酸中のいくつかの核酸に対するキャパシティーを含む、請求項88に記載の方法。
- 反応の間に、標的核酸がフィーチャに輸送されて、各々、溶液に由来する個々の標的核酸から得られたアンプリコンのクローナル集団を含む複数のフィーチャを製造し、ここで、反応させることが、(i)各フィーチャに輸送する個々の標的核酸から第1のアンプリコンを製造することおよび(ii)各フィーチャに輸送する個々の標的核酸から、または第1のアンプリコンからその次のアンプリコンを製造することを含み、フィーチャでその次のアンプリコンが生成される平均速度が、フィーチャで第1のアンプリコンが生成される平均速度を超える、請求項89に記載の方法。
- 反応の間に、標的核酸がフィーチャに輸送されて、各々、溶液に由来する個々の標的核酸から得られたアンプリコンのクローナル集団を含む複数のフィーチャを製造し、ここで、反応させることが、同時に(i)異なる標的核酸を、平均輸送速度でフィーチャに輸送することおよび(ii)フィーチャにある標的核酸を、平均増幅速度で増幅することを含み、平均増幅速度が、平均輸送速度を超える、請求項89に記載の方法。
- 各フィーチャが、アンプリコンを製造するために使用される複数のプライマーを含む、請求項90または91に記載の方法。
- 試薬が、ポリメラーゼおよびdNTPをさらに含む、請求項90または91に記載の方法。
- 増幅試薬が、リコンビナーゼおよび一本鎖結合タンパク質をさらに含む、請求項93に記載の方法。
- フィーチャに輸送される標的核酸の増幅が、等温的に起こる、請求項90または91に記載の方法。
- フィーチャに輸送される標的核酸の増幅が、変性サイクルを含まない、請求項90または91に記載の方法。
- アンプリコンのクローナル集団を含む複数の増幅部位が、アレイのフィーチャの40%を超える、請求項90または91に記載の方法。
- 各フィーチャが、溶液中の異なる標的核酸と結合できる複数の捕捉剤または溶液中の異なる標的核酸に付着されたリガンドと結合する受容体を含む、請求項88に記載の方法。
- 捕捉剤が、異なる標的核酸と相補的である捕捉核酸を含む、請求項98に記載の方法。
- 異なる標的核酸が、捕捉核酸と相補的であるユニバーサル配列を含む、請求項99に記載の方法。
- 各フィーチャの区域が、増幅部位に輸送される標的核酸の排除体積の直径より大きい、請求項88に記載の方法。
- 電場および第2の電場が、アレイに同時に印加される、請求項87に記載の方法。
- 電場および第2の電場が、交互に繰り返してアレイに印加される、請求項87に記載の方法。
- 各フィーチャが、ビーズ、ウェル、チャネル、リッジ、突起またはそれらの組合せを含む、請求項86または87に記載の方法。
- 電場が、介在領域および電解質にわたって印加される、請求項86に記載の方法。
- 電場が、介在領域および第2の表面にわたって印加される、請求項86に記載の方法。
- 電場が、介在領域への交流電流または直流電流の印加によって形成される、請求項86に記載の方法。
- 電場が、電荷反発によって介在領域から生体分子を反発し、生体分子の介在領域との結合を阻害する、請求項86に記載の方法。
- 電場が、介在領域での生体分子の電気化学的損傷によって介在領域から生体分子を反発する、請求項86に記載の方法。
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