JP2017120448A - 光学フィルム - Google Patents
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Abstract
Description
しかし、従来の位相差板には、位相差板を通過して出力される偏光が、有色の偏光に変換されてしまうという問題があった。この問題を解決するため、広い波長域の光に対して均一な位相差を与え得る広帯域位相差板、いわゆる逆波長分散性を有する位相差板が種々検討されている(特許文献1〜6)。
本発明は、特願2011−99525号に開示した重合性化合物の製造中間体となりうる新規化合物、及びその製造方法を提供することを目的とする。
かくして本発明によれば、(1)〜(4)の化合物、(5)〜(7)の製造方法が提供される。
(1)下記式(I)
(3)Qが水素原子である(1)又は(2)に記載の化合物。
(4)Ayが、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基である(1)〜(3)のいずれかに記載の化合物。
(5)下記式(II)
(6)前記溶媒が、アルコール系溶媒である(5)に記載のヒドラゾン化合物の製造方法。
(7)前記アルコール系溶媒が、炭素数1〜4のアルコール系溶媒である(6)に記載のヒドラゾン化合物の製造方法。
本発明の製造方法によれば、本発明の化合物を工業的に有利に製造することができる。
本発明の化合物(以下、「化合物(I)」ということがある。)は、前記式(I)で表される新規化合物である。
式(I)中、Axは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基を表す。
本発明において、「芳香環」は、Huckel則に従う広義の芳香族性を有する環状構造、すなわち、π電子を(4n+2)個有する環状共役構造、及び、チオフェン、フラン、ピロール等に代表される、硫黄、酸素、窒素等のヘテロ原子の孤立電子対がπ電子系に関与して芳香族性を示すものを意味する。
なお、Axの炭素数2〜30の有機基の「炭素数」は、置換基の炭素原子を含まない、芳香環を含む有機基全体の総炭素数を意味する(後述するAyにて同じである。)。
これらの中でも、Axとしては、芳香族基(芳香族炭化水素環基又は芳香族複素環基)が好ましい。
また、Ayが有する芳香環は、任意の位置に置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、前記Axが有する芳香環の置換基として列記したものと同様のものが挙げられる。
また、AxとAyは一緒になって、環を形成していてもよい。かかる環としては、置換基を有していてもよい炭素数4〜30の不飽和複素環や、炭素数6〜30の不飽和炭素環が挙げられる。
前記炭素数4〜30の不飽和複素環、炭素数6〜30の不飽和炭素環は、芳香族性を有していても有していなくてもよい。例えば、下記に示す環が挙げられる。なお、下記に示す環は、式(I)中の
また、これらの環は置換基を有していてもよい。
置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、ニトロ基、−C(=O)−OR基、−SO2R基等が挙げられる。ここで、Rは前記と同じ意味を表す。
置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、前記Ayで例示したのと同様のものが挙げられる。
これらの中でも、Qは、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
このような重合性化合物は、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを得ることができ、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、しかも低コストで製造することができる。
本発明の製造方法は、前記式(I)で表されるヒドラゾン化合物(化合物(I))の製造方法であって、前記式(II)で表されるカルボニル化合物(以下、「カルボニル化合物(II)」ということがある。)と、前記式(III)で表されるヒドラジン化合物(以下、「ヒドラジン化合物(III)」ということがある。)とを、溶媒中で反応させることを特徴とする。
式(I)、(II)、(III)中、Ax、Ay、Qは、前記と同じ意味を表す。
エーテル系溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類等が挙げられる。
また、アルコール系溶媒は、他の溶媒と組み合わせて用いることもできる。他の溶媒としては、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒等が挙げられる。
この反応に用いる溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に限定されない。例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、イソブチルルコール、sec−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール、n−ペンチルアルコール、アミルアルコール等のアルコール類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素類;N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド類;ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;及びこれらの2種以上からなる混合溶媒;等が挙げられる。
これらの中でも、アルコール類、エーテル類、及びアルコール類とエーテル類の混合溶媒が好ましい。
反応は、−10℃から用いる溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。各反応の反応時間は、反応規模にもよるが、通常、数分から数時間である。
金属塩還元剤とは一般に低原子価金属を含む化合物、もしくは金属イオンとヒドリド源からなる化合物である(「有機合成実験法ハンドブック」1990年社団法人有機合成化学協会編 丸善株式会社発行810ページを参照)。
金属塩還元剤としては、例えば、NaAlH4、NaAlHp(Or)q(pは1〜3の整数を表し、qはp+q=4を満たす整数である。rはアルキル基を表す。)、LiAlH4、iBu2AlH、LiBH4、NaBH4、SnCl2、CrCl2、TiCl3等が挙げられる。
また、ジアゾニウム塩(4)は、アニリン等の化合物から常法により製造することができる。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
実施例1aにおいて、反応及び後処理において用いる溶媒をメタノールから1−プロパノールに代えた以外は、実施例1aと同様にして、化合物(I−1)を製造した。淡黄色固体として、化合物(I−1)を10.7g得た(収率92.5%)。
実施例1aにおいて、反応溶媒をメタノールからテトラヒドロフラン(THF)に代えた以外は、実施例1aと同様の操作を行った。反応後、固体が析出しなかったので、ロータリーエバポレーターにてTHFを減圧留去させて黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=85:15(体積比))により精製し、淡黄色固体として化合物(I−1)を8.78g得た(収率:75.9%)。
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド5.4g(39.1mmol)、原料A 5.83g(39.1mmol)及びエタノール150mlを入れ、全容を25℃にて4時間撹拌した。反応終了後、析出した固体をろ取した。ろ取した固体をエタノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、白色固体として化合物(I−2)を10.1g得た(収率:95.9%)。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
実施例2aのステップ2において、反応溶媒をエタノールからTHFに代えた以外は、実施例2aと同様の操作により合成を行った。反応後、固体が析出しなかったので、ロータリーエバポレーターにてTHFを減圧留去させて淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=85:15(体積比))により精製し、白色固体として化合物(I−2)を8.69g得た(収率:82.5%)。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
実施例5aにおいて、反応溶媒をエタノールからTHFに代えた以外は、実施例5aと同様の操作により合成を行った。反応後、固体が析出しなかったので、ロータリーエバポレーターにてTHFを減圧留去させて黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=85:15(体積比))により精製し、黄色固体として化合物(I−5)を7.70g得た(収率:70.5%)。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド380mg(2.75mmol)、原料B 493mg(2.75mmol)及び1−プロパノール10mlを入れ、全容を80℃で1時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を1−プロパノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、淡黄色固体として化合物(I−6)を599mg得た(収率:72.7%)。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド 763mg(5.52mmol)、原料C 1.34g(6.07mmol)及び1−プロパノール15mlを入れ、全容を80℃で1.5時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を1−プロパノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、淡黄色固体として化合物(I−7)を1.76g得た(収率:84.9%)。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド 504mg(3.65mmol)、原料D 1.00g(4.01mmol)及び1−プロパノール10mlを入れ、全容を80℃で3時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を1−プロパノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、淡黄色固体として化合物(I−8)を1.20g得た(収率:88.8%)。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド 197mg(1.43mmol)、原料E 511mg(1.71mmol)、(±)−10−カンファースルホン酸 32.5mg(0.14mmol)及び1−プロパノール 10mlを入れ、全容を80℃で2.5時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を1−プロパノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、淡黄色固体として化合物(I−9)を401mg得た(収率:66.9%)。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド 1.62g(11.7mmol)、先のステップ1で合成した原料F 2.89g(11.7mmol)及び1−プロパノール30mlを入れ、全容を80℃で7時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を1−プロパノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、白色固体として化合物(I−11)を2.92g得た(収率:68.2%)。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド 372mg(2.69mmol)、先のステップ1で合成した原料G 740mg(2.69mmol)及び1−プロパノール10mlを入れ、全容を80℃で6時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を1−プロパノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、白色固体として化合物(I−12)を916mg得た(収率:86.1%)。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド 630mg(4.56mmol)、及び、先のステップ1で合成した原料H 1.00g(4.56mmol)及び1−プロパノール15mlを入れ、全容を80℃で6時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を1−プロパノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、白色固体として化合物(I−13)を760mg得た(収率:49.1%)。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
温度計を備えた4つ口反応器に窒素気流下中、2−ヒドラジノベンゾチアゾール 3.00g(18.2mmol)及びTHF20mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、ヘキサメチルジシラザンリチウム(26%THF溶液)11.4ml(18.2mmol)を0℃でゆっくり滴下し、滴下終了後、0℃で30分さらに撹拌した。得られた反応混合物に、1−ヨード−3−メチルブタン 2.9ml(21.8mmol)を加え、全容を室温で6時間撹拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、酢酸エチル150mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色個体を得た。この黄色個体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=75:25(体積比))により精製し、白色個体として原料Iを2.07g得た(収率:48.2%)。構造は1H−NMRで同定した。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流下中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド 1.21g(8.78mmol)、先のステップ1で合成した原料I 2.07g(8.78mmol)及び2−プロパノール15mlを入れ、全容を80℃で1.5時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を2−プロパノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、白色固体として化合物(I−14)を1.36g得た(収率:43.6%)。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド 1.06g(7.65mmol)、先のステップ1で合成した原料J 2.00g(7.65mmol)及び1−プロパノール20mlを入れ、全容を80℃で5時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を1−プロパノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、白色固体として化合物(I−15)を2.00g得た(収率:70.8%)。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流下中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド 510mg(3.69mmol)、先のステップ1で合成した原料K 1.02g(3.69mmol)及び2−プロパノール10mlを入れ、全容を80℃で3時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を2−プロパノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、白色固体として化合物(I−16)を685mg得た(収率:46.9%)。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
また、アルコール系溶媒を用いる場合(実施例1a、1b、実施例2a、実施例5a)の方が、エーテル系溶媒(THF)を用いる場合(実施例1c、実施例2b、実施例5b)に比して、目的物をより高純度で、かつ、収率よく得ることができることがわかる。
なお、エーテル系溶媒(THF)を用いた場合には、反応終了後、結晶の析出がみられなかった。溶媒の減圧留去後得られる固体は、濃く着色されており、カラム精製が必要だった。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMR、マススペクトルで同定した。
1H−NMRスペクトルデータ及びマススペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMR、マススペクトルで同定した。
1H−NMRスペクトルデータ及びマススペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMR、マススペクトルで同定した。
1H−NMRスペクトルデータ及びマススペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
14(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.83(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.194(t,2H,J=6.5Hz)、4.192(t,2H,J=6.5Hz)、4.08(t,4H,J=6.5Hz)、3.63(s,3H)、1.84−1.89(m,4H)、1.71−1.77(m,4H)、1.46−1.59(m,8H)
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
1H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
重合性化合物1〜18をそれぞれ10mg計量し、固体状態のままで、ラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板2枚に挟んだ。この基板をホットプレート上に載せ、50℃から200℃まで昇温した後、再び50℃まで降温した。昇温、降温する際の組織構造の変化を偏向光学顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE LV100POL型)で観察した。
測定した相転移温度を下記表2に示す。
表2中、「C」はCrystal、「N」はNematic、「I」はIsotropicをそれぞれ表す。ここで、Crystalとは、試験化合物が固相にあることを、Nematicとは、試験化合物がネマチック液晶相にあることを、Isotropicとは、試験化合物が等方性液体相にあることを、それぞれ示す。
(1)重合性組成物の調製
製造例1〜18で得られた重合性化合物1〜18のそれぞれを1g、光重合開始剤として、アデカオプトマーN−1919(ADEKA社製)を30mg、界面活性剤として、KH−40(AGCセイミケミカル社製)の1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物1〜18をそれぞれ得た。
(i)配向膜を有する透明樹脂基材の作製
厚み100μmの、脂環式オレフィンポリマーからなるフィルム(日本ゼオン社製、ゼオノアフィルムZF16−100)の両面をコロナ放電処理した。5%のポリビニルアルコールの水溶液を当該フィルムの片面に♯2のワイヤーバーを使用して塗布し、塗膜を乾燥し、膜厚0.1μmの配向膜を形成した。次いで当該配向膜をラビング処理し、配向膜を有する透明樹脂基材を作製した。
得られた配向膜を有する透明樹脂基材の、配向膜を有する面に、重合性組成物1〜18を、♯4のワイヤーバーを使用して塗布した。塗膜を下記表3に示す乾燥温度で30秒間乾燥した後、表3に示す配向処理温度で1分間配向処理して、液晶層を形成した。その後、液晶層の塗布面側から2000mJ/cm2の紫外線を照射して重合させ、波長分散測定用の試料とした。
得られた試料につき、400nmから800nm間の位相差を、エリプソメーター(J.A.Woollam社製、XLS−100型)を用いて測定した。
測定した位相差を用いて以下のように算出されるα、β値から波長分散を評価した。
塗膜の乾燥温度、配向処理温度、重合性組成物1〜18を重合して得られた液晶性高分子膜の膜厚(μm)、波長548.5nmにおける位相差(Re)、α、βの値を、下記表3にまとめて示す。
Claims (5)
- 分子内に、下記式で示される部分構造を有する重合性化合物から得られる光学フィルム。
(上記部分構造を表す式中、Axは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基を表し、Ayは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜18のアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2〜18のアルケニル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基を表す。前記Ax及び前記Ayが有する芳香環は置換基を有していてもよい。また、前記Axと前記Ayは一緒になって、環を形成していてもよい。Qは、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。) - 前記Axが、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数1〜6のハロゲン化アルキル基、置換アミノ基、炭素数1〜6のアルコキシ基、ニトロ基、アリール基、−C(=O)−OR、又は、−SO2Rで置換されていてもよい、芳香族炭化水素環基又は芳香族複素環基を表し、
前記Ayは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜18のアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2〜18のアルケニル基、又は、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数1〜6のハロゲン化アルキル基、置換アミノ基、炭素数1〜6のアルコキシ基、ニトロ基、アリール基、−C(=O)−OR、若しくは、−SO2Rで置換されていてもよい、芳香族炭化水素環基若しくは芳香族複素環基を表し、
ここで、前記Ax及び前記Ayが有する芳香環は置換基を有していてもよく、また、前記Axと前記Ayは一緒になって、環を形成していてもよく、前記Rは、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜14のアリール基を表す、請求項1に記載の光学フィルム。 - 前記Axが、ナフタレン環基、アントラセン環基、フルオレン環基、ピロール環基、フラン環基、チオフェン環基、ピラゾール環基、イミダゾール環基、オキサゾール環基、チアゾール環基、ピリジン環基、ピリダジン環基、ピリミジン環基、ピラジン環基、ベンズイミダゾール環基、ベンゾチオフェン環基、ベンゾフラン環基、ベンゾチアゾール環基、ベンゾオキサゾール環基、キノリン環基、フタラジン環基、若しくはカルバゾール環基を表すか、又は、
ナフタレン環、アントラセン環、フルオレン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ベンズイミダゾール環、ベンゾチオフェン環、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、フタラジン環、カルバゾール環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数3〜30のアルキル基、
ナフタレン環、アントラセン環、フルオレン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ベンズイミダゾール環、ベンゾチオフェン環、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、フタラジン環、カルバゾール環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数4〜30のアルケニル基、若しくは、
ナフタレン環、アントラセン環、フルオレン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ベンズイミダゾール環、ベンゾチオフェン環、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、フタラジン環、カルバゾール環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数4〜30のアルキニル基を表し、
前記Ayは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜18のアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、若しくは置換基を有していてもよい炭素数2〜18のアルケニル基を表すか、
ナフタレン環基、アントラセン環基、フルオレン環基、ピロール環基、フラン環基、チオフェン環基、ピラゾール環基、イミダゾール環基、オキサゾール環基、チアゾール環基、ピリジン環基、ピリダジン環基、ピリミジン環基、ピラジン環基、ベンズイミダゾール環基、ベンゾチオフェン環基、ベンゾフラン環基、ベンゾチアゾール環基、ベンゾオキサゾール環基、キノリン環基、フタラジン環基、若しくはカルバゾール環基を表すか、又は、
ナフタレン環、アントラセン環、フルオレン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ベンズイミダゾール環、ベンゾチオフェン環、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、フタラジン環、カルバゾール環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数4〜30のアルキニル基を表し、
前記Ax及び前記Ayが有する芳香環は、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数1〜6のハロゲン化アルキル基、置換アミノ基、炭素数1〜6のアルコキシ基、ニトロ基、アリール基、−C(=O)−OR基、及び−SO2R基からなる群から選ばれる置換基を有していてもよく、前記Rは、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数6〜14のアリール基を表し、
前記Qは水素原子を表す、
請求項1または2に記載の光学フィルム。 - AxとAyに含まれる芳香環π電子の総数が24以下である請求項1〜3のいずれかに記載の光学フィルム。
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019032548A (ja) * | 2011-09-27 | 2019-02-28 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物を製造する製造方法 |
| JP2020086397A (ja) * | 2018-11-30 | 2020-06-04 | 大日本印刷株式会社 | 位相差フィルム及びその製造方法、転写用積層体、光学部材及びその製造方法、並びに表示装置 |
| JP2020086209A (ja) * | 2018-11-28 | 2020-06-04 | 大日本印刷株式会社 | 重合性組成物、重合体、位相差フィルム、位相差フィルムの製造方法、転写用積層体、光学部材、光学部材の製造方法及び表示装置 |
| JP2020118709A (ja) * | 2019-01-18 | 2020-08-06 | 大日本印刷株式会社 | 重合性組成物、位相差フィルム及びその製造方法、転写用積層体、光学部材及びその製造方法、並びに表示装置 |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103459438B (zh) * | 2011-04-15 | 2015-09-23 | 日本瑞翁株式会社 | 可聚合性化合物、可聚合性组合物、高分子及光学各向异性体 |
| JP6128115B2 (ja) * | 2012-03-30 | 2017-05-17 | 日本ゼオン株式会社 | 位相差フィルム積層体およびその製造方法、ならびに液晶表示装置 |
| JP5880226B2 (ja) * | 2012-04-03 | 2016-03-08 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物の製造方法 |
| JP5962760B2 (ja) * | 2012-07-09 | 2016-08-03 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、光学異方体、及び重合性化合物の製造方法 |
| EP2910579B1 (en) * | 2012-10-19 | 2018-03-21 | Zeon Corporation | Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, and optically anisotropic substance |
| JP6206414B2 (ja) | 2012-10-23 | 2017-10-04 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 |
| CN108774293B (zh) * | 2013-10-31 | 2021-06-04 | 日本瑞翁株式会社 | 化合物、聚合性化合物的制造方法以及肼化合物 |
| JP6618699B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2019-12-11 | 日本ゼオン株式会社 | 1,1−ジ置換ヒドラジン化合物の製造方法 |
| JP2016190828A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-10 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物の製造方法 |
| CN108290850A (zh) | 2015-12-07 | 2018-07-17 | Dic株式会社 | 聚合性化合物的制造方法 |
| JP6369656B2 (ja) * | 2016-03-30 | 2018-08-08 | Dic株式会社 | 2−ヒドラジノベンゾチアゾール誘導体の製造方法 |
| KR20190078591A (ko) * | 2016-11-22 | 2019-07-04 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | 중합성 화합물, 중합성 조성물, 고분자, 광학 필름, 광학 이방체, 편광판, 플랫 패널 표시 장치, 유기 일렉트로루미네센스 표시 장치, 반사 방지 필름, 및 화합물 |
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| US20200262801A1 (en) * | 2017-03-23 | 2020-08-20 | Zeon Corporation | Polymerizable compound and a production method for same, polymerizable composition, polymer, optical film, opticailly anisotropic body, polarizing plate, display device, antireflection film, and compound and use for same |
| WO2019151263A1 (ja) * | 2018-02-05 | 2019-08-08 | 日本ゼオン株式会社 | 1,1-ジ置換ヒドラジン化合物の製造方法および重合性化合物の製造方法 |
| KR102279138B1 (ko) * | 2020-11-02 | 2021-07-20 | 주식회사 에이드림 | 현무암 분말을 포함하는 콘크리트 구조물의 보수재 조성물 및 콘크리트 구조물의 보수공법 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6248639A (ja) * | 1984-11-28 | 1987-03-03 | リリ− インダストリ−ズ リミテツド | 薬剤化合物 |
| JPH06263707A (ja) * | 1993-03-12 | 1994-09-20 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ヒドラゾン誘導体及びこれを用いた電子写真感光体 |
| JPH06263862A (ja) * | 1993-03-12 | 1994-09-20 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカーボネート系重合体とその製造法及びこれを用いた電子写真感光体 |
| US5706131A (en) * | 1993-09-10 | 1998-01-06 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Polarizing element, polarizing plate, and process for production thereof |
| JP2001234154A (ja) * | 1999-12-14 | 2001-08-28 | Hayashibara Biochem Lab Inc | 光吸収材とその用途 |
| JP2004004944A (ja) * | 1993-09-10 | 2004-01-08 | Nippon Kayaku Co Ltd | 偏光素子、偏光板およびその製造方法 |
| WO2008102838A1 (ja) * | 2007-02-23 | 2008-08-28 | Zeon Corporation | 液晶性化合物、液晶性組成物、光学フィルムおよび光学積層体 |
Family Cites Families (43)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE561091A (ja) * | ||||
| US5208299A (en) * | 1992-04-10 | 1993-05-04 | The Dow Chemical Company | Nonlinear optical arylhydrazones and nonlinear optical polymers thereof |
| DE69326414T2 (de) * | 1992-05-01 | 2000-05-11 | Idemitsu Kosan Co. Ltd., Tokio/Tokyo | Ester-polymer, seine herstellung, und daraus hergestellter elektrophotographischer photorezeptor |
| DE4230262A1 (de) * | 1992-09-10 | 1994-03-17 | Behringwerke Ag | Substituierte Phenole, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung zur Behandlung von zellproliferationsbedingten Erkrankungen |
| US5567349A (en) | 1994-03-30 | 1996-10-22 | Hoffmann-La Roche Inc. | Photo cross-linkable liquid crystals |
| US6139771A (en) | 1997-04-04 | 2000-10-31 | Displaytech, Inc. | Mesogenic materials with anomalous birefringence dispersion and high second order susceptibility (X.sup.(2)). |
| JPH1090521A (ja) | 1996-07-24 | 1998-04-10 | Sumitomo Chem Co Ltd | 偏光軸回転積層位相差板およびこれを用いた投射型液晶表示装置 |
| JPH1068816A (ja) | 1996-08-29 | 1998-03-10 | Sharp Corp | 位相差板及び円偏光板 |
| JPH1152131A (ja) | 1997-08-01 | 1999-02-26 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 位相差板及びそれを用いた偏光素子 |
| TW424154B (en) | 1998-10-30 | 2001-03-01 | Teijin Ltd | Phase film and optical device using same |
| JP3734211B2 (ja) | 1999-01-27 | 2006-01-11 | 富士写真フイルム株式会社 | 位相差板、円偏光板および反射型液晶表示装置 |
| US6400433B1 (en) | 1998-11-06 | 2002-06-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Circularly polarizing plate comprising linearly polarizing membrane and quarter wave plate |
| DE19855757A1 (de) | 1998-12-03 | 2000-06-21 | Merck Patent Gmbh | Querverbrückte Cyclohexan-Derivate und flüssigkristallines Medium |
| JP2001004837A (ja) | 1999-06-22 | 2001-01-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 位相差板および円偏光板 |
| FI20000577A0 (fi) * | 2000-03-13 | 2000-03-13 | Orion Yhtymae Oy | Pyridatsinyylifenyylihydratsoneja |
| JP4320125B2 (ja) | 2001-03-06 | 2009-08-26 | 富士フイルム株式会社 | 位相差膜 |
| JP4929546B2 (ja) * | 2001-08-20 | 2012-05-09 | Dic株式会社 | 重合性液晶組成物及びこれを用いた光学異方体 |
| JP4074155B2 (ja) | 2001-09-17 | 2008-04-09 | 富士フイルム株式会社 | 四員環化合物、それを用いた複屈折媒体および光学部材 |
| JP2005208415A (ja) | 2004-01-23 | 2005-08-04 | Nitto Denko Corp | 逆波長分散位相差フィルム、それを用いた偏光板及びディスプレイ装置 |
| JP2005208414A (ja) | 2004-01-23 | 2005-08-04 | Nitto Denko Corp | 逆波長分散位相差フィルム、それを用いた偏光板及びディスプレイ装置 |
| JP2005208416A (ja) | 2004-01-23 | 2005-08-04 | Nitto Denko Corp | 逆波長分散位相差フィルム、それを用いた偏光板及びディスプレイ装置 |
| JP4606195B2 (ja) | 2004-03-08 | 2011-01-05 | 富士フイルム株式会社 | 液晶化合物、液晶組成物、重合体、位相差板、及び楕円偏光板 |
| JP2005336103A (ja) | 2004-05-27 | 2005-12-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | フェニルヒドラジン類の製造方法 |
| CN101056903B (zh) | 2004-11-11 | 2012-02-08 | 住友化学株式会社 | 光学膜 |
| US8496848B2 (en) | 2005-04-28 | 2013-07-30 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Films and processes for producing the same |
| JP5088769B2 (ja) | 2005-04-28 | 2012-12-05 | 住友化学株式会社 | フィルム及びその製造方法 |
| CN101687778B (zh) * | 2007-04-24 | 2013-09-25 | 日本瑞翁株式会社 | 聚合性液晶化合物、聚合性液晶组合物、液晶高分子及光学各向异性体 |
| JP5401822B2 (ja) * | 2007-04-24 | 2014-01-29 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、液晶性高分子および光学異方体 |
| CN101796163B (zh) | 2007-09-03 | 2014-06-18 | 默克专利股份有限公司 | 棒状介晶化合物 |
| KR101489541B1 (ko) | 2007-09-03 | 2015-02-03 | 메르크 파텐트 게엠베하 | 플루오렌 유도체 |
| JP5463666B2 (ja) | 2007-12-28 | 2014-04-09 | 住友化学株式会社 | 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 |
| CN101470212B (zh) * | 2007-12-28 | 2014-10-22 | 住友化学株式会社 | 光学膜 |
| JP5373293B2 (ja) | 2008-01-29 | 2013-12-18 | 富士フイルム株式会社 | 化合物、液晶組成物及び異方性材料 |
| JP5564773B2 (ja) | 2008-09-19 | 2014-08-06 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、液晶性高分子及び光学異方体 |
| JP2010194518A (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-09 | Hitachi Zosen Corp | アンモニア分解触媒 |
| EP2402081A4 (en) | 2009-02-27 | 2012-11-14 | Hitachi Shipbuilding Eng Co | CATALYST FOR AMMONIA DECOMPOSITION |
| JP5453956B2 (ja) | 2009-06-26 | 2014-03-26 | 住友化学株式会社 | 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 |
| JP2011006360A (ja) | 2009-06-26 | 2011-01-13 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 |
| EP2287149A1 (en) | 2009-08-20 | 2011-02-23 | Max-Delbrück-Centrum Für Molekulare Medizin | Enhancers of protein degradation |
| JP2011042606A (ja) | 2009-08-20 | 2011-03-03 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 |
| JP2011099525A (ja) | 2009-11-06 | 2011-05-19 | Toyota Motor Corp | 変速機のパーキング装置 |
| KR20110020883A (ko) | 2011-01-18 | 2011-03-03 | 원광밸브주식회사 | 밸브의 부식 방지 방법 |
| EP2762465B1 (en) * | 2011-09-27 | 2018-01-10 | Zeon Corporation | Intermediate for manufacture of polymerizable compound and process for manufacture thereof |
-
2012
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- 2012-04-27 CN CN201280047147.5A patent/CN103842334B/zh active Active
-
2017
- 2017-04-06 JP JP2017076306A patent/JP6414266B2/ja active Active
-
2018
- 2018-10-03 JP JP2018188308A patent/JP6844597B2/ja active Active
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6248639A (ja) * | 1984-11-28 | 1987-03-03 | リリ− インダストリ−ズ リミテツド | 薬剤化合物 |
| US4801735A (en) * | 1984-11-28 | 1989-01-31 | Lilly Industries Limited | Pharmaceutical compounds |
| JPH06263707A (ja) * | 1993-03-12 | 1994-09-20 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ヒドラゾン誘導体及びこれを用いた電子写真感光体 |
| JPH06263862A (ja) * | 1993-03-12 | 1994-09-20 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカーボネート系重合体とその製造法及びこれを用いた電子写真感光体 |
| US5706131A (en) * | 1993-09-10 | 1998-01-06 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Polarizing element, polarizing plate, and process for production thereof |
| JP2004004944A (ja) * | 1993-09-10 | 2004-01-08 | Nippon Kayaku Co Ltd | 偏光素子、偏光板およびその製造方法 |
| JP2001234154A (ja) * | 1999-12-14 | 2001-08-28 | Hayashibara Biochem Lab Inc | 光吸収材とその用途 |
| WO2008102838A1 (ja) * | 2007-02-23 | 2008-08-28 | Zeon Corporation | 液晶性化合物、液晶性組成物、光学フィルムおよび光学積層体 |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019032548A (ja) * | 2011-09-27 | 2019-02-28 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物を製造する製造方法 |
| JP2020086209A (ja) * | 2018-11-28 | 2020-06-04 | 大日本印刷株式会社 | 重合性組成物、重合体、位相差フィルム、位相差フィルムの製造方法、転写用積層体、光学部材、光学部材の製造方法及び表示装置 |
| JP7172504B2 (ja) | 2018-11-28 | 2022-11-16 | 大日本印刷株式会社 | 重合性組成物、重合体、位相差フィルム、位相差フィルムの製造方法、転写用積層体、光学部材、光学部材の製造方法及び表示装置 |
| JP2020086397A (ja) * | 2018-11-30 | 2020-06-04 | 大日本印刷株式会社 | 位相差フィルム及びその製造方法、転写用積層体、光学部材及びその製造方法、並びに表示装置 |
| JP7155957B2 (ja) | 2018-11-30 | 2022-10-19 | 大日本印刷株式会社 | 位相差フィルム及びその製造方法、転写用積層体、光学部材及びその製造方法、並びに表示装置 |
| JP2020118709A (ja) * | 2019-01-18 | 2020-08-06 | 大日本印刷株式会社 | 重合性組成物、位相差フィルム及びその製造方法、転写用積層体、光学部材及びその製造方法、並びに表示装置 |
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