JP2017512199A - フッ素化界面活性剤 - Google Patents
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Abstract
Description
ZnCcDdspacermXx (I)
式中
Z=Rf−Oo1−A1 a1−Oo2−A2 a2−Oo3−Bb−であり、
n=1、2、3、4、5または6、好ましくは2〜4、特に2〜3であり、
Rf=フッ素化アルキル、直鎖状または分枝状の好ましくはフッ素化されたC1〜C6アルキル、特に好ましくはパーフルオロ化C1〜C4アルキル、特にパーフルオロ化C1〜C3アルキルであり、
a1およびa2=互いに独立して0〜4であり、
B=−CHF−CF2−CR1R2−O−であり、
b=1であり、
R1=Hまたはアルキル、好ましくはC1〜C4、特に−CH3または−CH2−CH3であり、
R2=Hまたはアルキル、好ましくはC1〜C4、特に−CH3であり、
c=0または1〜100の範囲からの整数であり、
R’およびR’’=互いに独立してHまたはアルキル、特にHまたは−CH3または−CH2−CH3であり、
D=−CO−であり、
d=0または1であり、
m=0または1であり、
Xは親水性基であり、
x=1、2、3または4、好ましくは1であり、
o1、o2およびo3=互いに独立して0または1であり、
ならびに以下の化合物は除外される:
(ZCcDd)nspacermXx (I’)
式中、すべての変数は式(I)について示した意味を有し、前記化合物は除外される。
本発明の変形において、mは好ましくは1である。
CF3−またはCF3−CF2−またはCF3−CF2−CF2−
に等しい化合物である。
好ましくは、C=−CH2−CHR’’−O−または−CHR’−CH2−O−であり、ここでc=0または1〜100の範囲からの整数、好ましくは=1〜100であり、R’およびR’’=Hまたはアルキル、特にHまたは−CH3または−CH2−CH3である。
本発明による化合物において、Xは、親水性基、好ましくはアニオン性、カチオン性、非イオン性または両性の基である。
から選択することができる。
アニオン性基Xについての好ましい対イオンは、1価のカチオン、特にH+、アルカリ金属カチオンまたはNR4 +であり、ここでR=HまたはC1〜C6アルキルであり、すべてのRは、同一であっても異なっていてもよい。特に好ましいのは、Na+、K+、Li+およびNH4 +、特に好ましくはNa+である。
Z−は、Cl−、Br−、I−、CH3SO3 −、CF3SO3 −、CH3PhSO3 −、PhSO3 −を表し、
R1、R2およびR3は、各々、互いに独立して、H、C1〜30アルキル、Arまたは−CH2Arを表し、ならびに
Arは、6〜18個のC原子を有する非置換の、または単置換もしくは多置換の芳香環または縮合環系を表し、ここでさらに1つまたは2つのCH基は、Nによって置き換えられていてもよい。
ここでこれらの基自体の各々が、好ましい場合がある。
o’は、1〜10の範囲からの整数を表し、
p’は、1または2を表し、
Arは、6〜18個のC原子を有し、ここでさらに1つまたは2つのCH基がC=Oによって置き換えられていてもよい、非置換、単置換または多置換の芳香環または縮合環系を表し、ならびに
glycosideは、エーテル化炭水化物、好ましくはモノ、ジ、トリまたはオリゴグルコシドを表す。
式中、Y=−(OCR’’2−CR’2)0/1−Zであり、
X=Na+、K+、Li+、NH4+、N(CH3)4+であり、
Q=Cl、Br、Iであり、
R’およびR’’=互いに独立してHまたはC1〜C4アルキルであり、
好ましくはY=−(OCH2−CHR’2)0/1−Zであり、式中R’=HまたはC1〜C2アルキルである
化合物である。
本発明による式(II)で表される化合物を、好ましくは、式(XII)で表され、式中Yが上に記載した意味、特に好ましい意味を有する1種以上のアルコール
Y−H(XII)
を使用したマレイン酸およびアコニット酸もしくはそれらの無水物または酸塩化物のエステル化
および基Xを導入するための二重結合上へのその後の添加によって製造することができる。
本発明による化合物をまた、好ましくは、式(XII)で表される1種以上のアルコールを使用したヒドロキシコハク酸およびクエン酸のエステル化および基Xを導入するためのその後の水酸基の官能化によって製造することができる。
− 効率性および/または有効性に関して慣用の炭化水素界面活性剤のものに等しいかまたはより優れている表面活性、
− 難分解性のパーフルオロ化分解生成物、例えばPFOA(パーフルオロオクタン酸)またはPFOS(パーフルオロオクタンスルホネート)の生成を伴わない、物質の生物学的および/または非生物分解性、
− 単純なプロセスによって製造することができる、
− 弱い発泡作用および/または低い泡安定化、
− 配合物における良好な加工性ならびに/あるいは
− 貯蔵安定性。
a)十分に高い蒸気圧を有する、好ましくは無毒のフッ素含有化合物の生成を伴う、フッ素含有化合物の炭素骨格の生物学的および/または非生物分解、
b)ステップa)において生成した高い蒸気圧を有するフッ素含有化合物のガス相への変換、
d)ステップc)において生成した低分子量化合物の、ガス相から液相および/または固相への変換、
e)ステップc)において生成した液相および/または固相の低分子量化合物の鉱化
を含む、前記方法に関する。
特に、パーフルオロ化化合物は、ステップa)において生成しない。
フッ素含有界面活性剤、特に部分的にフッ素化された、および/またはα−アルキル化されたアルコールに基づく界面活性剤を、好ましくは、記載される分解プロセスにさらす。
分解プロセスにおいて、式(XV)で表される、および/または式(XVI)で表される化合物を、好ましくは、ステップa)において生成することができる:
略語
MTBE tert−ブチルメチルエーテル
b.p. 沸点
DM 脱塩
2−スルホコハク酸ビス−[2−(2,2,3−トリフルオロ−3−ヘプタフルオロプロピルオキシプロポキシ)エチル]エステルナトリウム
21.75g
GC−MSおよびNMR研究によって、構造が確認される。
高度の真空中での蒸留によって、8.22gの対応するエステルが96%純度において得られる(b.p.180°/6.7*10−2mbar)。
40mlのDM水を反応混合物に加え、相を分離する。
蒸留による溶媒の除去によって、3.90gの収量が得られる。
静的表面張力γstat。を、示した方法によって決定し、0.1重量%の化合物を含む溶液について17.69mN/mおよび1重量%の化合物を含む溶液について16.78mN/mである。
様々な濃度c(1リットル当たりグラム)を有する界面活性剤水溶液の静的表面張力γを、決定する。
機器:Dataphysics張力計(モデルDCAT 11)
測定溶液の温度:20°±0.2℃
使用される測定法:DIN EN 14370に従ってWilhelmyプレート法を使用する表面張力の測定。
プレート:白金、長さ=19.9mm
プレート法において、界面活性剤溶液の表面または界面張力を、プレートの湿潤させた長さに対して作用する力から、以下の式に従って計算する。
調査するべき化合物の0.1%(重量パーセント)水溶液の動的表面張力γを、決定する。
使用される測定法:気泡圧力法を使用した表面張力の測定
機器:SITA張力計(モデルt 60)
測定溶液の温度:20℃±0.2℃
動的表面張力の測定中に、気泡が、異なる速度で毛細管を介して界面活性剤溶液中に押し込まれる。表面張力を、得られた圧力変化から、泡存続期間の関数として、以下の方程式を使用して決定することができる:
Claims (14)
- 式(I)
ZnCcDdspacermXx (I)
式中
Z=Rf−Oo1−A1 a1−Oo2−A2 a2−Oo3−Bb−であり、
n=1、2、3、4、5または6であり、
Rf=フッ素化アルキル、直鎖状または分枝状であり、
A1およびA2=互いに独立して−(CF2)−または−(CF(CF3)−CF2)−または−(CF2−O)−または−(CF2−CF2)−O−であり、
a1およびa2=互いに独立して0〜4であり、
B=−CHF−CF2−CR1R2−O−であり、
b=1であり、
R1=Hまたはアルキル、好ましくはC1〜C4、特に−CH3または−CH2−CH3であり、
R2=Hまたはアルキル、好ましくはC1〜C4、特に−CH3であり、
C=−CR’2−CR’’2−O−であり、
c=0または1〜100の範囲からの整数であり、
R’およびR’’=互いに独立してHまたはアルキルであり、
D=−CO−であり、
d=0または1であり、
spacer=任意にヘテロ原子を含む飽和のまたは不飽和の、分枝状または非分枝状炭化水素単位であり、
m=0または1であり、
Xは親水性基であり、
x=1、2、3または4であり、
o1、o2およびo3=互いに独立して0または1であり、
ここですべての指数は、−O−O−結合が存在しないように選択され、
ならびに以下の化合物は除外される:
で表される化合物。 - 式(I’):
(ZCcDd)nspacermXx (I’)
式中、変数は、式(I)について示した意味を有する、
に適合することを特徴とする、請求項1に記載の化合物。 - nが2〜3に等しいことを特徴とする、請求項1または2に記載の化合物。
- Rf=フッ素化C1〜C6アルキル、特にフッ素化C1〜C3アルキルであることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の化合物。
- x=1であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の化合物。
- Zが:
に等しいことを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の化合物。 - Rf=CF3−またはCF3−CF2−またはCF3−CF2−CF2−であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の化合物。
- 式(II)〜(XI)に適合し、式中
Y=−(OCR’’2−CR’2)0/1−Zであり、
X=Na+、K+、Li+、NH4+、N(CH3)4+であり、
Q=Cl、Br、Iであり、ならびに
R’およびR’’=互いに独立してHまたはC1〜C4アルキルである
ことを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載の化合物。
- Y=−(OCH2−CHR’2)0/1−Zであり、式中R’=HまたはC1〜C2アルキルであることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載の化合物。
- 式(II−a)、(II−b)、(II−c)または(II−d):
に適合することを特徴とする、請求項1〜9のいずれか一項に記載の化合物。 - Rf=CF3−、CF3−CF2−またはCF3−CF2−CF2−であり、Z=Rf−O−CHF−CF2−CR1R2−O−またはRf−O−(CF2)1〜4−CHF−CF2−CR1R2−O−であり、ここでR1およびR2は互いに独立して=H、−CH3または−CH2−CH3であり、Xは基−SO3 −、−OSO3 −、−PO3 2−またはOPO3 2−、ポリエチレングリコールまたはポリプロピレングリコール、−CH(OH)−CH2−NH−Sach、−Y−(CH2−CH2−O)v−R4、ベタインまたはスルホベタインの1つであることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか一項に記載の化合物。
- 請求項1〜11のいずれか一項に記載の化合物の使用であって、塗料、コーティング、印刷インク、保護コーティング、電子的または光学的適用における特別のコーティング、フォトレジスト、上部反射防止コーティングまたは底部反射防止コーティング、現像剤溶液および洗浄溶液ならびにフォトリソグラフィープロセスのためのフォトレジスト、化粧品製品、農薬、床磨き剤、写真コーティングまたは光学素子のコーティングにおける添加剤としての前記使用。
- 請求項1〜11のいずれか一項に記載の化合物およびそれぞれの適用に適している媒介物および任意にさらなる特定の活性物質を含む、組成物。
- 組成物が塗料およびコーティング製造物、消火組成物、潤滑剤、洗浄および清浄組成物、解氷剤、現像剤溶液および洗浄溶液ならびにフォトリソグラフィープロセスのためのフォトレジスト、化粧品製品、農薬、床磨き剤または織物仕上げもしくはガラス処理のための疎水化組成物であることを特徴とする、請求項13に記載の組成物。
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