JP2020503236A - オリゴシランおよびオリゴシラン化合物の純度を高める方法 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 無機オリゴシランおよび/またはハロゲン化オリゴシランおよび/または有機置換オリゴシランを含む少なくとも50%オリゴシラン化合物からなる液状混合物を調製し、前記液状混合物で、少なくとも1つの精製手順を実施する、オリゴシランおよび/またはオリゴシラン化合物の純度を高めるための方法であって、
第1のステップa)で、前記混合物をオリゴシラン化合物の少なくとも一部分が凝固する温度に調節し、
第2のステップb)で、前記液状混合物の少なくとも一部分を分離する
ことを特徴とする方法。 - ステップa)で形成された固体を、ステップb)の前記液状混合物から完全に分離する
請求項1に記載の方法。 - ステップb)の少なくとも1つの精製手順において、前記液状混合物の少なくとも15%、かつ最大で50%を分離する
請求項1または2に記載の方法。 - さらなる精製手順の少なくとも1つにおいて、前記液状混合物の少なくとも10%、かつ最大で80%、好ましくは15%から45%を分離する
請求項1ないし3のいずれかに記載の方法。 - 前記分離された液状混合物の少なくとも一部分を、さらなる精製手順でさらなる液状混合物に添加する
請求項1ないし4のいずれかに記載の方法。 - 前記液状混合物を事前蒸溜し、オリゴシラン化合物を濃縮する
請求項1ないし5のいずれかに記載の方法。 - ステップa)で形成された固体を、デカンテーション、ろ過、および/または遠心分離によって前記液状混合物から分離する
請求項1ないし6のいずれかに記載の方法。 - 温度調節時に、結晶化が始まるまで温度を下げ、次いでこの温度を所定の時間にわたって維持する
請求項1ないし7のいずれかに記載の方法。 - 温度調節時に前記液状混合物を、好ましく撹拌またはポンピングして揺り動かす
請求項1ないし8のいずれかに記載の方法。 - 少なくとも1つの精製手順を、閉鎖型反応器システムで実施する
請求項1ないし9のいずれかに記載の方法。 - 前記方法を、不活性ガス下で実施する
請求項1ないし10のいずれかに記載の方法。
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Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006169012A (ja) * | 2004-12-13 | 2006-06-29 | Sumitomo Titanium Corp | ヘキサクロロジシラン及びその製造方法 |
| JP2013212957A (ja) * | 2012-04-03 | 2013-10-17 | Toagosei Co Ltd | 高純度クロロシランの製造方法および製造装置 |
| DE102014007685A1 (de) * | 2014-05-21 | 2015-11-26 | Psc Polysilane Chemicals Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Hexachlordisilan |
| WO2016037601A1 (de) * | 2014-09-08 | 2016-03-17 | Psc Polysilane Chemicals Gmbh | Verfahren zur aufreinigung halogenierter oligosilane |
| US20160264426A1 (en) * | 2016-05-19 | 2016-09-15 | Air Liquide Advanced Materials, Inc. | Synthesis methods for halosilanes |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|---|
| JP2006169012A (ja) * | 2004-12-13 | 2006-06-29 | Sumitomo Titanium Corp | ヘキサクロロジシラン及びその製造方法 |
| JP2013212957A (ja) * | 2012-04-03 | 2013-10-17 | Toagosei Co Ltd | 高純度クロロシランの製造方法および製造装置 |
| DE102014007685A1 (de) * | 2014-05-21 | 2015-11-26 | Psc Polysilane Chemicals Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Hexachlordisilan |
| WO2016037601A1 (de) * | 2014-09-08 | 2016-03-17 | Psc Polysilane Chemicals Gmbh | Verfahren zur aufreinigung halogenierter oligosilane |
| US20160264426A1 (en) * | 2016-05-19 | 2016-09-15 | Air Liquide Advanced Materials, Inc. | Synthesis methods for halosilanes |
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